JPH05198002A - 光記録媒体 - Google Patents
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- JPH05198002A JPH05198002A JP4009309A JP930992A JPH05198002A JP H05198002 A JPH05198002 A JP H05198002A JP 4009309 A JP4009309 A JP 4009309A JP 930992 A JP930992 A JP 930992A JP H05198002 A JPH05198002 A JP H05198002A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 カー効果エンハンスメントが最大で優れたS
/Nを示すと共にトラッキング用案内層の反射率低下を
防ぎ安定したトラッキング特性を得ることが可能で、カ
ー効果の増大と安定したトラッキング特性を共に得るた
めの干渉層膜厚の設定範囲が広く、膜厚のばらつき精度
が緩和され高品質の光記録媒体を提供すること。 【構成】 本発明の光記録媒体は、基板上に干渉層と、
トラッキング用の案内層と、記録層を備え、記録層が所
定のパターンに加工されるとともに、記録層の隙間に露
出した干渉層が基板よりも屈折率の高い透光性の材料で
形成され、且つ所定量エッチングされていることを特徴
とする光記録媒体。
/Nを示すと共にトラッキング用案内層の反射率低下を
防ぎ安定したトラッキング特性を得ることが可能で、カ
ー効果の増大と安定したトラッキング特性を共に得るた
めの干渉層膜厚の設定範囲が広く、膜厚のばらつき精度
が緩和され高品質の光記録媒体を提供すること。 【構成】 本発明の光記録媒体は、基板上に干渉層と、
トラッキング用の案内層と、記録層を備え、記録層が所
定のパターンに加工されるとともに、記録層の隙間に露
出した干渉層が基板よりも屈折率の高い透光性の材料で
形成され、且つ所定量エッチングされていることを特徴
とする光記録媒体。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光により情報の
記録・再生を行う光ディスクメモリ、光カード等の光記
録媒体に関するものである。
記録・再生を行う光ディスクメモリ、光カード等の光記
録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の光記録媒体30は図3に
示すように、トラッキング用案内溝31の設けられたア
クリル、ポリカーボネイト、ガラス等の透明基板32上
にSiAlON、AlN等の干渉層34と、GdTbF
e、TbFeCo等の光磁気記録層37と、SiAlO
N、AlN等の保護層38と、Al等の反射層40とが
順次積層されていた。そして、このような光磁気記録媒
体30に於いて、情報の記録は、光磁気記録層37にレ
ーザ光を照射し、キュリー温度或は補償温度以上に加熱
すると同時に外部から磁界を印加し、磁化を反転させる
ことにより行われていた。また、記録の再生は光磁気デ
ィスクに直線偏光のレーザ光を照射したとき、反射光の
偏光面の回転が磁化の方向により反転するというカー効
果を利用して行われていた。更に、良好な信号特性を得
るため、カー効果エンハンスメントにより見かけ上のカ
ー回転角を増大させ、信号とのノイズ比率(S/N)を
向上させる必要があり、そのため基板よりも屈折率の高
い干渉層34を、基板32と光磁気記録層37の間に設
け、多重反射による干渉効果を利用していた。
示すように、トラッキング用案内溝31の設けられたア
クリル、ポリカーボネイト、ガラス等の透明基板32上
にSiAlON、AlN等の干渉層34と、GdTbF
e、TbFeCo等の光磁気記録層37と、SiAlO
N、AlN等の保護層38と、Al等の反射層40とが
順次積層されていた。そして、このような光磁気記録媒
体30に於いて、情報の記録は、光磁気記録層37にレ
ーザ光を照射し、キュリー温度或は補償温度以上に加熱
すると同時に外部から磁界を印加し、磁化を反転させる
ことにより行われていた。また、記録の再生は光磁気デ
ィスクに直線偏光のレーザ光を照射したとき、反射光の
偏光面の回転が磁化の方向により反転するというカー効
果を利用して行われていた。更に、良好な信号特性を得
るため、カー効果エンハンスメントにより見かけ上のカ
ー回転角を増大させ、信号とのノイズ比率(S/N)を
向上させる必要があり、そのため基板よりも屈折率の高
い干渉層34を、基板32と光磁気記録層37の間に設
け、多重反射による干渉効果を利用していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光磁気ディスクでは、基板、干渉層、光磁気記録層、反
射層に於ける干渉効果によるカー効果エンハンスメント
を大きくするため、干渉層34の膜厚を略λ/4n2と
しているが、図5に示すように、このときカー効果の増
加とは反対トラッキングに必要な溝31に於ける反射率
が非常に小さくなり、加えて光磁気記録層の膜厚も反射
率が略最小となるようにしてあるため、プッシュプル信
号がほぼ0になり、トラッキングサーボが不安定にな
り、安定した再生出力が得られなかった。従ってカー効
果エンハンスメントを最大にすることは不可能であり、
またトラッキングを安定させるための干渉層の膜厚設定
範囲が狭く、膜厚のばらつき精度も厳しく要求されると
いう問題があった。本発明は、上述した問題点を解決す
るためになされたものであり、その目的とするところ
は、カー効果エンハンスメントを大きくし、且つ安定し
たトラッキング特性を得ることが可能な高品質の光記録
媒体を提供することにある。
光磁気ディスクでは、基板、干渉層、光磁気記録層、反
射層に於ける干渉効果によるカー効果エンハンスメント
を大きくするため、干渉層34の膜厚を略λ/4n2と
しているが、図5に示すように、このときカー効果の増
加とは反対トラッキングに必要な溝31に於ける反射率
が非常に小さくなり、加えて光磁気記録層の膜厚も反射
率が略最小となるようにしてあるため、プッシュプル信
号がほぼ0になり、トラッキングサーボが不安定にな
り、安定した再生出力が得られなかった。従ってカー効
果エンハンスメントを最大にすることは不可能であり、
またトラッキングを安定させるための干渉層の膜厚設定
範囲が狭く、膜厚のばらつき精度も厳しく要求されると
いう問題があった。本発明は、上述した問題点を解決す
るためになされたものであり、その目的とするところ
は、カー効果エンハンスメントを大きくし、且つ安定し
たトラッキング特性を得ることが可能な高品質の光記録
媒体を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の光記録媒体は、基板上にカー回転角を増大さ
せ信号特性を良好にするための干渉層と、記録層と、ト
ラッキング用案内層を備え、前記記録層が所定のパター
ンに加工されるとともに、前記記録層の隙間に露出した
前記干渉層が基板よりも屈折率の高い透光性の材料で形
成され、且つ所定量エッチングされている。
に本発明の光記録媒体は、基板上にカー回転角を増大さ
せ信号特性を良好にするための干渉層と、記録層と、ト
ラッキング用案内層を備え、前記記録層が所定のパター
ンに加工されるとともに、前記記録層の隙間に露出した
前記干渉層が基板よりも屈折率の高い透光性の材料で形
成され、且つ所定量エッチングされている。
【0005】
【作用】上記構成によれば、本発明の光記録媒体は、記
録層が所定のパターン形状に加工されるとともに、前記
記録層の隙間に露出した干渉層が基板よりも屈折率の高
い透光性の材料で形成され、且つ所定量エッチングされ
ている。
録層が所定のパターン形状に加工されるとともに、前記
記録層の隙間に露出した干渉層が基板よりも屈折率の高
い透光性の材料で形成され、且つ所定量エッチングされ
ている。
【0006】干渉層の一部がエッチングされることによ
り、記録層のある部分とない部分でレーザ光の光路差が
生じる。これを利用して、プッシュプル法でトラッキン
グが可能となるため、干渉層をカー効果エンハンスメン
トが最大となる膜厚に設定したときでもプッシユプル信
号の減少を防ぐことが可能となる。カー効果エンハンス
メントを最大にしたときのプッシュプル信号と干渉層、
エッチング量との関係を図4に示す。
り、記録層のある部分とない部分でレーザ光の光路差が
生じる。これを利用して、プッシュプル法でトラッキン
グが可能となるため、干渉層をカー効果エンハンスメン
トが最大となる膜厚に設定したときでもプッシユプル信
号の減少を防ぐことが可能となる。カー効果エンハンス
メントを最大にしたときのプッシュプル信号と干渉層、
エッチング量との関係を図4に示す。
【0007】従って、カー効果エンハンスメントが最大
で優れたS/Nを示すと共に、安定したトラッキング特
性を得ることが可能で、カー効果の増大と安定したトラ
ッキング特性を共に得るための干渉層膜厚の設定範囲が
広く、膜厚のばらつき精度が緩和される。
で優れたS/Nを示すと共に、安定したトラッキング特
性を得ることが可能で、カー効果の増大と安定したトラ
ッキング特性を共に得るための干渉層膜厚の設定範囲が
広く、膜厚のばらつき精度が緩和される。
【0008】
【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図面を
参照して説明する。
参照して説明する。
【0009】図1は、本発明の一実施例である光記録媒
体10の要部断面図であり、この光記録媒体10は、ガ
ラス等の透明な基板12上に干渉層14、記録層16、
トラッキング用案内層18、保護層20が順次積層する
ことにより構成されている。
体10の要部断面図であり、この光記録媒体10は、ガ
ラス等の透明な基板12上に干渉層14、記録層16、
トラッキング用案内層18、保護層20が順次積層する
ことにより構成されている。
【0010】基板上の干渉層14はスパッタリング法、
回転塗布・焼成によるゾルゲル成膜法等により形成した
SiAlON、TiO2膜等であり、その膜厚Dは略
(λ/4n)+M(λ/2n)(λ=再生光波長、n=
干渉層屈折率、M=整数)とする。屈折率はSiAlO
Nを用いた時は2.2、TiO2を用いた時は2.7とな
りいずれも基板であるガラスの屈折率略1.5よりも大
きくなる。
回転塗布・焼成によるゾルゲル成膜法等により形成した
SiAlON、TiO2膜等であり、その膜厚Dは略
(λ/4n)+M(λ/2n)(λ=再生光波長、n=
干渉層屈折率、M=整数)とする。屈折率はSiAlO
Nを用いた時は2.2、TiO2を用いた時は2.7とな
りいずれも基板であるガラスの屈折率略1.5よりも大
きくなる。
【0011】記録層16は、例えば希土類と遷移金属と
を主成分とするアモルファス合金である光磁気材料、即
ちTbFeCo(テルビ鉄コバルト合金)等を用いて、
スパッタリングや真空蒸着等により形成されており、干
渉層14上にスパイラル等の形状で、連続または不連続
に固着されている。この記録層パターン16は、よく知
られているフォトリソグラフィーにより作製される。即
ち、干渉層14上にTbFeCo等の記録膜を真空蒸
着、或るいはスパッタリング等の手段で形成し、その上
にレジストをスピンコート法等で塗布する。次に、レー
ザ露光法等によりレジストを連続または不連続にスパイ
ラル状等の所定形状に取り除く。さらに、酸、アルカリ
水溶液等を用いたエッチング、或るいは、プラズマエッ
チング等によりレジストが取り除かれた露出記録膜部分
をエッチングする。
を主成分とするアモルファス合金である光磁気材料、即
ちTbFeCo(テルビ鉄コバルト合金)等を用いて、
スパッタリングや真空蒸着等により形成されており、干
渉層14上にスパイラル等の形状で、連続または不連続
に固着されている。この記録層パターン16は、よく知
られているフォトリソグラフィーにより作製される。即
ち、干渉層14上にTbFeCo等の記録膜を真空蒸
着、或るいはスパッタリング等の手段で形成し、その上
にレジストをスピンコート法等で塗布する。次に、レー
ザ露光法等によりレジストを連続または不連続にスパイ
ラル状等の所定形状に取り除く。さらに、酸、アルカリ
水溶液等を用いたエッチング、或るいは、プラズマエッ
チング等によりレジストが取り除かれた露出記録膜部分
をエッチングする。
【0012】ひき続いて、干渉層14をHF溶液等を用
いたエッチング、或るいは、プラズマエッチング等によ
り、略(λ/8n)+L(λ/4n)(λ=再生光波
長、n=干渉層屈折率、L=整数)エッチングする。最
後に、レジストを有機溶剤等で除去することにより、エ
ッチング加工された記録層16と、同様にエッチング加
工された干渉層14が積層された形態となる。干渉層1
4のエッチングは、レジストを除去し記録層パターンを
マスクとして行なってもよい。
いたエッチング、或るいは、プラズマエッチング等によ
り、略(λ/8n)+L(λ/4n)(λ=再生光波
長、n=干渉層屈折率、L=整数)エッチングする。最
後に、レジストを有機溶剤等で除去することにより、エ
ッチング加工された記録層16と、同様にエッチング加
工された干渉層14が積層された形態となる。干渉層1
4のエッチングは、レジストを除去し記録層パターンを
マスクとして行なってもよい。
【0013】トラッキング用案内層18は、Al、T
a、TiN等の金属、窒化物等で作製されており、真空
蒸着、スパッタリング等の手段で形成されている。
a、TiN等の金属、窒化物等で作製されており、真空
蒸着、スパッタリング等の手段で形成されている。
【0014】保護層20は記録層16および案内層18
を化学変化から保護するためのもので、SiAlON、
TiO2膜等であり、真空蒸着、スパッタリング等の手
段で形成されている。
を化学変化から保護するためのもので、SiAlON、
TiO2膜等であり、真空蒸着、スパッタリング等の手
段で形成されている。
【0015】そしてかかる光記録媒体10は、その基板
12を通してレーザ光が記録層16に照射されると、磁
気光学効果により記録層16における局部磁化方向に関
連して反射光のカー回転角が変化させられ、この反射光
のカー回転角に基いて、情報が読み出される。また、情
報の書き込みに際しては、レーザ光の照射により記録層
16をキュリー点あるいは補償温度まで局部加熱し、こ
の局部の冷却時に外部磁界の方向を所望する方向へ制御
することにより磁化方向に対応した情報を記録する。
12を通してレーザ光が記録層16に照射されると、磁
気光学効果により記録層16における局部磁化方向に関
連して反射光のカー回転角が変化させられ、この反射光
のカー回転角に基いて、情報が読み出される。また、情
報の書き込みに際しては、レーザ光の照射により記録層
16をキュリー点あるいは補償温度まで局部加熱し、こ
の局部の冷却時に外部磁界の方向を所望する方向へ制御
することにより磁化方向に対応した情報を記録する。
【0016】上記の構成を有する光記録媒体10では、
干渉層14は屈折率の高い透光性材料であり、基板12
と記録層16との間で多重反射が生じる。干渉層14の
膜厚に相当する再生光の位相変化量Aは、干渉層14の
膜厚をDとすると1式が成り立ち、カー効果エンハンス
メントはA=π+2Mπ(Mは整数)のとき最大とな
る。1式よりD=(λ/4n)+M(λ/2n)のと
き、A=π+2Mπ(Mは整数)となるため記録層16
におけるカー効果エンハンスメントが最大になりS/N
が向上する。
干渉層14は屈折率の高い透光性材料であり、基板12
と記録層16との間で多重反射が生じる。干渉層14の
膜厚に相当する再生光の位相変化量Aは、干渉層14の
膜厚をDとすると1式が成り立ち、カー効果エンハンス
メントはA=π+2Mπ(Mは整数)のとき最大とな
る。1式よりD=(λ/4n)+M(λ/2n)のと
き、A=π+2Mπ(Mは整数)となるため記録層16
におけるカー効果エンハンスメントが最大になりS/N
が向上する。
【0017】一方、トラッキングのためのプッシュプル
信号は案内層18のある部分とない部分のレーザ光の位
相差Bが(π/2)+Lπ(Lは整数)であるときに最
大となり、π+Lπのときにゼロとなる。前記位相差B
は2式で表わされる。ここでカー効果エンハンスメント
が最大となるA=π+2Mπであり、且つトラッキング
信号が最大となるB=(π/2)+Lπであるとき、d
=(λ/8n)+L(λ/4n)となる。またカー効果
エンハンスメントが最大であり、且つトラッキング信号
がゼロ、即ちB=π+Lπとなるのは、d=(λ/4
n)+L(λ/4n)となる。プッシュプル信号とエッ
チング量dの関係を図4に示す。
信号は案内層18のある部分とない部分のレーザ光の位
相差Bが(π/2)+Lπ(Lは整数)であるときに最
大となり、π+Lπのときにゼロとなる。前記位相差B
は2式で表わされる。ここでカー効果エンハンスメント
が最大となるA=π+2Mπであり、且つトラッキング
信号が最大となるB=(π/2)+Lπであるとき、d
=(λ/8n)+L(λ/4n)となる。またカー効果
エンハンスメントが最大であり、且つトラッキング信号
がゼロ、即ちB=π+Lπとなるのは、d=(λ/4
n)+L(λ/4n)となる。プッシュプル信号とエッ
チング量dの関係を図4に示す。
【0018】従って、本発明の光記録媒体ではエッチン
グの量dを(λ/8n)+L(λ/4n)に近づけるこ
とで、カー効果エンハンスメントを最大にすると共にト
ラッキング用のプッシュプル信号の低下を防ぎ安定した
トラッキングサーボが可能となり、dが(λ/4n)+
L(λ/4n)に近づくと次第にプッシュプル信号が低
下し、トラッキングサーボは次第に不可能となる。d=
(λ/4n)+L(λ/4n)のときついにプッシュプ
ル信号はゼロとなり、トラッキングサーボは完全に不可
能である。しかしd=(λ/6n)+L(λ/4n)の
ときのプッシュプル信号の低下は少なくトラッキングサ
ーボは可能であった。
グの量dを(λ/8n)+L(λ/4n)に近づけるこ
とで、カー効果エンハンスメントを最大にすると共にト
ラッキング用のプッシュプル信号の低下を防ぎ安定した
トラッキングサーボが可能となり、dが(λ/4n)+
L(λ/4n)に近づくと次第にプッシュプル信号が低
下し、トラッキングサーボは次第に不可能となる。d=
(λ/4n)+L(λ/4n)のときついにプッシュプ
ル信号はゼロとなり、トラッキングサーボは完全に不可
能である。しかしd=(λ/6n)+L(λ/4n)の
ときのプッシュプル信号の低下は少なくトラッキングサ
ーボは可能であった。
【0019】以上説明したように、本発明の光記録媒体
ではカー効果エンハンスメントを最大にしてS/Nを向
上させると共にトラッキング信号の低下を防ぎ安定した
トラッキング特性を得ることが可能となり高品位な製品
が得られる。またカー効果増大と共に安定したトラッキ
ングを共に得るための干渉層膜厚の設定範囲も広がり、
膜厚要求精度が緩和される。
ではカー効果エンハンスメントを最大にしてS/Nを向
上させると共にトラッキング信号の低下を防ぎ安定した
トラッキング特性を得ることが可能となり高品位な製品
が得られる。またカー効果増大と共に安定したトラッキ
ングを共に得るための干渉層膜厚の設定範囲も広がり、
膜厚要求精度が緩和される。
【0020】A=(2π/λ)*n*D*2 ・・・1式 B=(2π/λ)*n*d*2 ・・・2式 (λ:真空中の再生光波長、n:干渉層屈折率、D:干
渉層膜厚、d:干渉層のエッチング量)尚、本発明は以
上に詳述した実施例に限定されるものではなく、その趣
旨を逸脱しない範囲において、種々の変更を加えること
が可能である。
渉層膜厚、d:干渉層のエッチング量)尚、本発明は以
上に詳述した実施例に限定されるものではなく、その趣
旨を逸脱しない範囲において、種々の変更を加えること
が可能である。
【0021】例えば、図2に示すように記録層16およ
び案内層18を薄くし、保護層20の上に反射層22を
設けてもよい。即ち、基板12側から入射した光は、記
録膜16と案内層18を透過した後、反射層22によっ
て反射され、再び記録膜16を透過する。これにより、
カー効果だけでなく、ファラデー効果も加わるため、さ
らに大きなカー効果エンハンスメントが生じる。この場
合もトラッキング用案内層18の反射率低下を防ぎ、安
定したトラッキング特性が得られる。
び案内層18を薄くし、保護層20の上に反射層22を
設けてもよい。即ち、基板12側から入射した光は、記
録膜16と案内層18を透過した後、反射層22によっ
て反射され、再び記録膜16を透過する。これにより、
カー効果だけでなく、ファラデー効果も加わるため、さ
らに大きなカー効果エンハンスメントが生じる。この場
合もトラッキング用案内層18の反射率低下を防ぎ、安
定したトラッキング特性が得られる。
【0022】基板材料としてガラスの代わりに、アクリ
ル樹脂、ポリカーボネイト樹脂、アモルファスポリオレ
フィン樹脂等を用いることも可能である。
ル樹脂、ポリカーボネイト樹脂、アモルファスポリオレ
フィン樹脂等を用いることも可能である。
【0023】また、記録層も光磁気材料だけでなく、T
e、Bi等の穴開け型や、TeOx等の相変化形材料等
を用いることができる。
e、Bi等の穴開け型や、TeOx等の相変化形材料等
を用いることができる。
【0024】更に、トラッキング法はプシュプル法に限
定されず、3ビーム法によっても同様に良好に行なうこ
とができる。
定されず、3ビーム法によっても同様に良好に行なうこ
とができる。
【0025】
【発明の効果】以上説明したことから明かなように、本
発明の光記録媒体では、記録層が所定のパターンに加工
されるとともに、干渉層が基板よりも屈折率の高い透光
性の材料で形成され、その一部がエッチング加工されて
いるため、カー効果エンハンスメントが最大で優れたS
/Nを示すと共に、トラッキング用案内層の反射信号の
減少を防ぎ、安定したトラッキング特性を得ることが可
能であり、カー効果の増大と安定したトラッキングを共
に得るための干渉層の膜厚設定範囲が広く、膜厚のばら
つき精度が緩和され高品質の光記録媒体が作製できる。
発明の光記録媒体では、記録層が所定のパターンに加工
されるとともに、干渉層が基板よりも屈折率の高い透光
性の材料で形成され、その一部がエッチング加工されて
いるため、カー効果エンハンスメントが最大で優れたS
/Nを示すと共に、トラッキング用案内層の反射信号の
減少を防ぎ、安定したトラッキング特性を得ることが可
能であり、カー効果の増大と安定したトラッキングを共
に得るための干渉層の膜厚設定範囲が広く、膜厚のばら
つき精度が緩和され高品質の光記録媒体が作製できる。
【図1】本発明の一実施例である光記録媒体の要部断面
図である。
図である。
【図2】本発明の他の実施例である光記録媒体の要部断
面図である。
面図である。
【図3】従来の光磁気記録媒体の一例を示す要部断面図
である。
である。
【図4】トラッキング用プッシュプル信号と干渉層エッ
チング量dの関係を示したグラフである。
チング量dの関係を示したグラフである。
【図5】カー効果エンハンスメント量およびプッシュプ
ル信号と、干渉層膜厚Dの関係を示したグラフである。
ル信号と、干渉層膜厚Dの関係を示したグラフである。
12 ガラス基板 14 干渉層 16 記録層 18 案内層
Claims (1)
- 【請求項1】 基板上に、カー回転角を増大させ信号特
性を良好にするための干渉層と、記録層と、トラッキン
グ用案内層を備えた光記録媒体に於いて、前記記録層が
所定のパターンに加工されるとともに、前記記録層の隙
間に露出した前記干渉層が基板よりも屈折率の高い透光
性の材料で形成され、且つ所定量エッチングされている
ことを特徴とする光記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4009309A JPH05198002A (ja) | 1992-01-22 | 1992-01-22 | 光記録媒体 |
| US08/008,577 US5455818A (en) | 1992-01-22 | 1993-01-22 | Optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4009309A JPH05198002A (ja) | 1992-01-22 | 1992-01-22 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05198002A true JPH05198002A (ja) | 1993-08-06 |
Family
ID=11716879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4009309A Pending JPH05198002A (ja) | 1992-01-22 | 1992-01-22 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05198002A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5878022A (en) * | 1996-09-13 | 1999-03-02 | Nec Corporation | High density optical information recording medium using high refractive index layer |
| WO2012035977A1 (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-22 | 富士フイルム株式会社 | 光情報記録媒体 |
-
1992
- 1992-01-22 JP JP4009309A patent/JPH05198002A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5878022A (en) * | 1996-09-13 | 1999-03-02 | Nec Corporation | High density optical information recording medium using high refractive index layer |
| WO2012035977A1 (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-22 | 富士フイルム株式会社 | 光情報記録媒体 |
| JP2012064285A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Fujifilm Corp | 光情報記録媒体 |
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