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JPH05189813A - Manufacture of master plate for optical disk - Google Patents

Manufacture of master plate for optical disk

Info

Publication number
JPH05189813A
JPH05189813A JP482692A JP482692A JPH05189813A JP H05189813 A JPH05189813 A JP H05189813A JP 482692 A JP482692 A JP 482692A JP 482692 A JP482692 A JP 482692A JP H05189813 A JPH05189813 A JP H05189813A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resist film
laser beams
laser
master
guide groove
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP482692A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Omori
健 大森
Toshihiro Kobayashi
俊裕 小林
Yuji Aoyama
裕司 青山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Mitsubishi Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp, Mitsubishi Chemical Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Priority to JP482692A priority Critical patent/JPH05189813A/en
Publication of JPH05189813A publication Critical patent/JPH05189813A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板上に形成したレジスト膜にレーザービー
ムを照射して露光することにより、該レジスト膜に案内
溝、或いは案内溝と共にピットを形成する工程を有する
光ディスク用マスター原盤の製造方法において、幅の広
い案内溝や幅の狭いピットを良好なコントラストのもと
に容易に形成する。 【構成】 2本以上のレーザービーム19、20を基板
21の半径方向にその一部が重なるように配置し、2本
以上のレーザービーム19、20をレジスト膜22に照
射してレジスト膜22に案内溝24、25を形成する。
1本のレーザービーム19のみでピットを形成する。 【効果】 2本以上のレーザービームにより幅の広い案
内溝を形成できる。1本のレーザービームのみで、幅の
狭いピットを形成できる。
(57) [Abstract] [Purpose] A master master for an optical disc having a step of forming a guide groove or a pit together with the guide groove in the resist film by exposing a resist film formed on a substrate to a laser beam for exposure. In the manufacturing method of (1), wide guide grooves and narrow pits are easily formed with good contrast. [Structure] Two or more laser beams 19 and 20 are arranged so as to partially overlap each other in the radial direction of a substrate 21, and the resist film 22 is irradiated with the two or more laser beams 19 and 20 to form a resist film 22. The guide grooves 24 and 25 are formed.
A pit is formed with only one laser beam 19. [Effect] A wide guide groove can be formed by two or more laser beams. It is possible to form narrow pits with only one laser beam.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光ディスク用マスター原
盤の製造方法に関する。詳しくは、光ディスク成形用マ
スター原盤の製造方法における、ガラス基板上に塗布形
成されたレジスト膜のレーザー露光工程の改良に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a master master for an optical disc. Specifically, it relates to improvement of a laser exposure process of a resist film applied and formed on a glass substrate in a method of manufacturing a master master for optical disc molding.

【0002】[0002]

【従来の技術】光磁気ディスクやCDなどの光ディスク
のプラスチック基板上には、読み取り用レーザーを誘導
するための案内溝、或いは更に、情報やアドレス信号を
記録したピットが設けられている。これらの案内溝やピ
ットはマスター原盤により光ディスク基板に成形転写さ
れる。ここで使用されるマスター原盤を製造するには、
まず、ガラス基板上に塗布したレジスト膜を、細く絞ら
れたレーザーにより露光し、これを現像することにより
レジスト膜に凹凸のパターンを設ける。次いで、このパ
ターンをスパッタリング及び鍍金の工程により金属に転
写してマスター原盤とする。なお、以下において、マス
ター原盤の製造にあたり、ガラス基板上のレジスト膜の
レーザー露光により、該レジスト膜に形成される案内溝
転写用のパターン及びピット転写用のパターンをそれぞ
れ単に「案内溝」及び「ピット」と称す。
2. Description of the Related Art On a plastic substrate of an optical disk such as a magneto-optical disk or a CD, a guide groove for guiding a reading laser or a pit for recording information or an address signal is provided. These guide grooves and pits are molded and transferred onto the optical disk substrate by the master master. To manufacture the master master used here,
First, a resist film applied on a glass substrate is exposed by a laser that is narrowed down and developed to form an uneven pattern on the resist film. Next, this pattern is transferred to a metal by the steps of sputtering and plating to form a master master. In the following, in the production of the master master, the guide groove transfer pattern and the pit transfer pattern formed on the resist film by laser exposure of the resist film on the glass substrate are simply referred to as "guide groove" and " It is called "pit".

【0003】ところで、光ディスクに施される案内溝及
びピットの形状は、各々のメディアの種類によって規定
されている。例えば、CDフォーマットでデータを光磁
気で記録する書換可能CD(以下「CD/MO」とい
う。)、及び、同じくCDフォーマットでデータを光磁
気で記録するミニディスクにおいては、ピットは幅0.
45〜0.7μm、案内溝は幅1.0〜1.2μm、深
さλ/9n〜λ/7n(ただし、nは光ディスクの媒体
の屈折率、λは読み出し時のレーザーの波長)のU字形
断面の溝と規定されている。
By the way, the shape of the guide groove and the pit formed on the optical disk is defined by the type of each medium. For example, in a rewritable CD (hereinafter referred to as “CD / MO”) in which data is magneto-optically recorded in the CD format, and in a mini disk in which data is also magneto-optically recorded in the CD format, pits have a width of 0.
U of 45 to 0.7 μm, the width of the guide groove is 1.0 to 1.2 μm, and the depth of λ / 9n to λ / 7n (where n is the refractive index of the medium of the optical disc and λ is the wavelength of the laser at the time of reading). It is defined as a groove with a V-shaped cross section.

【0004】現在、ディスク用プラスチックとしてもっ
とも汎用されているポリカーボネートの場合を例にする
と、その屈折率nは1.58、λは780nmであるの
で、案内溝の深さは54.8nm〜70.5nmとな
る。従って、深さに比べて幅が非常に広い案内溝をマス
ター原盤製造のためのレジスト膜に形成することが要求
される。また、同じレジスト膜上に案内溝に比べて幅が
半分以下のピットを形成することも併せて要求される場
合もある。
Taking the case of polycarbonate, which is the most widely used plastic for disks at present, as an example, since the refractive index n is 1.58 and λ is 780 nm, the depth of the guide groove is 54.8 nm to 70. It becomes 5 nm. Therefore, it is required to form a guide groove having a width much wider than the depth in the resist film for manufacturing the master master. In some cases, it is also required to form pits on the same resist film whose width is less than half the width of the guide groove.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来のマスター原盤の
製造方法において、ガラス基板上のレジスト膜のレーザ
ー露光により案内溝やピットを形成するにあたり、レー
ザービームで露光される案内溝やピットの露光幅は、露
光に使用する対物レンズの開口数やレーザーパワーの強
度によって制御されるが、上述の如く、深さに比べて幅
が非常に広い案内溝を、1本のレーザービームでコント
ラスト良く形成することは容易ではない。即ち、溝幅を
広げるために、レーザーパワーの強度を上げると、溝と
溝との間の未露光部が近接効果により露光され露光部と
未露光部との良好なコントラストが得られないという問
題が生じる。また、開口数の低い対物レンズを使用する
と、基板上のレーザービームがぼやけるため、やはり良
好なコントラストが得られなくなる。
In the conventional method for manufacturing a master master, when the guide grooves or pits are formed by laser exposure of the resist film on the glass substrate, the exposure width of the guide grooves or pits exposed by the laser beam. Is controlled by the numerical aperture of the objective lens used for exposure and the intensity of the laser power, but as described above, a guide groove having a width much wider than the depth is formed with good contrast by one laser beam. It's not easy. That is, when the intensity of the laser power is increased to widen the groove width, the unexposed portion between the grooves is exposed due to the proximity effect, and a good contrast between the exposed portion and the unexposed portion cannot be obtained. Occurs. In addition, when an objective lens having a low numerical aperture is used, the laser beam on the substrate is blurred, and good contrast cannot be obtained.

【0006】また、同様な理由から、単一の対物レンズ
を通して、案内溝と共に、案内溝と幅の大きく異なるピ
ットを、1本のレーザービームでコントラスト良く形成
することも容易ではない。
For the same reason, it is not easy to form a guide groove and a pit having a width greatly different from that of the guide groove through a single objective lens with a single laser beam with good contrast.

【0007】本発明は上記従来の問題点を解決し、レジ
スト膜のレーザー露光により、幅1.0〜1.2μm、
深さλ/9n〜λ/7n(ただし、nは光ディスクの媒
体の屈折率、λは読み出し時のレーザーの波長)のU字
形断面の案内溝、或いはこの案内溝と共に、幅0.45
〜0.7μmのU字形断面のピットを、露光部と未露光
部との良好なコントラストを確保して、容易かつ効率的
に形成することができる光ディスク用マスター原盤の製
造方法を提供することを目的とする。
The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, and by exposing the resist film to laser, a width of 1.0 to 1.2 μm,
A guide groove having a U-shaped cross section with a depth of λ / 9n to λ / 7n (where n is the refractive index of the medium of the optical disk and λ is the wavelength of the laser at the time of reading), or a width of 0.45 with this guide groove.
To provide a method for manufacturing a master disc for an optical disc, which can easily and efficiently form a pit having a U-shaped cross section of about 0.7 μm while ensuring a good contrast between an exposed portion and an unexposed portion. To aim.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1の光ディスク用
マスター原盤の製造方法は、基板上に形成したレジスト
膜にレーザービームを照射して露光することにより、該
レジスト膜に、幅1.0〜1.2μm、深さλ/9n〜
λ/7nのU字形断面の案内溝を形成する工程を有する
光ディスク用マスター原盤の製造方法において、前記レ
ジスト膜の露光にあたり、2本のレーザービームを、前
記基板の半径方向にその一部が重なるように配置し、該
2本のレーザービームを該レジスト膜に照射することを
特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a master disc for an optical disk, wherein a resist film formed on a substrate is irradiated with a laser beam to expose the resist film to a width of 1.0. ~ 1.2 μm, depth λ / 9n ~
In a method for manufacturing a master disc for an optical disc, which includes a step of forming a guide groove having a U-shaped cross section of λ / 7n, two laser beams are partially overlapped in a radial direction of the substrate when exposing the resist film. And irradiating the resist film with the two laser beams.

【0009】請求項2の光ディスク用マスター原盤の製
造方法は、基板上に形成したレジスト膜にレーザービー
ムを照射して露光することにより、該レジスト膜に、幅
0.45〜0.7μmのU字形断面のピットと幅1.0
〜1.2μm、深さλ/9n〜λ/7nのU字形断面の
案内溝とを形成する工程を有する光ディスク用マスター
原盤の製造方法において、前記レジスト膜の露光にあた
り、2本のレーザービームを、前記基板の半径方向にそ
の一部が重なるように配置し、ピット形成時には該2本
のレーザービームのうちの1本のレーザービームのみを
該レジスト膜に照射し、案内溝形成時には該2本のレー
ザービームを共に該レジスト膜に照射することを特徴と
する。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a master disc for an optical disk, wherein a resist film formed on a substrate is irradiated with a laser beam to expose the resist film so that the U film having a width of 0.45 to 0.7 μm. Pit with a cross section and width 1.0
In the method of manufacturing a master disc for an optical disc, which comprises a step of forming a guide groove having a U-shaped cross section of ˜1.2 μm and a depth of λ / 9n to λ / 7n, two laser beams are used for exposing the resist film. , The substrates are arranged so as to partially overlap each other in the radial direction, and only one laser beam of the two laser beams is applied to the resist film when forming a pit, and the two laser beams are irradiated when forming a guide groove. And irradiating the resist film with the laser beam.

【0010】請求項3の光ディスク用マスター原盤の製
造方法は、基板上に形成したレジスト膜にレーザービー
ムを照射して露光することにより、該レジスト膜に、幅
0.45〜0.7μmのU字形断面のピットと幅1.0
〜1.2μm、深さλ/9n〜λ/7nのU字形断面の
案内溝とを形成する工程を有する光ディスク用マスター
原盤の製造方法において、前記レジスト膜の露光にあた
り、複数本のレーザービームを前記基板の半径方向に隣
接するレーザービーム同士が一部重なりあうように一直
線上に配置し、ピット形成時には該複数本のレーザービ
ームのうちの1本のレーザービームのみを該レジスト膜
に照射し、案内溝形成時には該複数本のレーザービーム
のうちの隣接する2本以上のレーザービームを該レジス
ト膜に照射することを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a master disc for an optical disk, wherein a resist film formed on a substrate is irradiated with a laser beam to expose the resist film so that the U film having a width of 0.45 to 0.7 μm. Pit with a cross section and width 1.0
In the method of manufacturing a master disc for an optical disc, which comprises a step of forming a guide groove having a U-shaped cross section of ˜1.2 μm and a depth of λ / 9n to λ / 7n, a plurality of laser beams are used for exposing the resist film. Arranged on a straight line so that laser beams adjacent to each other in the radial direction of the substrate partially overlap each other, and at the time of pit formation, only one laser beam of the plurality of laser beams is applied to the resist film, When the guide groove is formed, the resist film is irradiated with two or more adjacent laser beams of the plurality of laser beams.

【0011】請求項4の光ディスク用マスター原盤の製
造方法は、請求項3の方法において、3本のレーザービ
ームを配置し、ピット形成時には、該3本のレーザービ
ームのうち中央の1本のレーザービームのみを該レジス
ト膜に照射し、案内溝形成時には該3本のレーザービー
ムを該レジスト膜に照射することを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a master disc for an optical disk according to the third aspect, in which three laser beams are arranged, and at the time of forming a pit, one laser beam in the center of the three laser beams is arranged. The resist film is irradiated with only the beam, and the resist film is irradiated with the three laser beams when the guide groove is formed.

【0012】[0012]

【作用】請求項1の光ディスク用マスター原盤の製造方
法においては、2本のレーザービームが基板の半径方向
にその一部が重なるように配置されているため、案内溝
の形成にあたり、この2本のレーザービームを照射する
ことにより、幅の広い露光部をコントラスト良く形成す
ることができる。
In the method of manufacturing a master disc for an optical disk according to claim 1, since the two laser beams are arranged so as to partially overlap each other in the radial direction of the substrate, the two laser beams are formed when the guide groove is formed. By irradiating the laser beam of, the wide exposed portion can be formed with good contrast.

【0013】請求項2の光ディスク用マスター原盤の製
造方法においては、案内溝形成時には、上記請求項1の
方法と同様に、2本のレーザービームによって幅の広い
露光部をコントラスト良く形成することができ、また、
ピット形成時には、1本のレーザービームのみを照射す
ることにより、幅の狭い露光部をコントラスト良く形成
することができる。
In the method of manufacturing a master disc for an optical disk according to a second aspect of the present invention, when the guide groove is formed, a wide exposed portion can be formed with good contrast by the two laser beams as in the method of the first aspect. Yes, again
At the time of forming the pits, by irradiating only one laser beam, it is possible to form a narrow exposed portion with good contrast.

【0014】請求項3の光ディスク用マスター原盤の製
造方法においては、複数本のレーザービームが基板の半
径方向にその一部が重なるように一直線上に配置されて
いるため、複数本のレーザービームによって露光される
場合には幅の広い露光部が、また、これらのうちの1本
のレーザービームのみにより露光される場合には幅の狭
い露光部が、それぞれコントラスト良く形成される。
In the method of manufacturing a master disc for an optical disk according to a third aspect of the present invention, since the plurality of laser beams are arranged in a straight line so that a part thereof overlaps in the radial direction of the substrate, the plurality of laser beams are used. A wide exposure portion is formed when exposed, and a narrow exposure portion is formed when exposed by only one of these laser beams with good contrast.

【0015】この場合、特に、3本のレーザービームを
用いることにより、幅の広い案内溝をコントラスト良く
形成することが可能であると同時に、ピットを形成する
ときにはこれらのうちの真中に位置する1本のレーザー
ビームのみを用いることによって、幅の広い案内溝と幅
の狭いピットとの中心を自動的に一致させることがで
き、極めて有利である。
In this case, in particular, by using three laser beams, a wide guide groove can be formed with good contrast, and at the same time, when a pit is formed, it is positioned in the middle of these. By using only the laser beam of the book, the center of the wide guide groove and the center of the narrow pit can be automatically aligned, which is extremely advantageous.

【0016】本発明の光ディスク用マスター原盤の製造
方法は、CD/MO或いはミニディスク用の溝、更には
溝及びピットの形成に特に適している。
The method for producing a master master for an optical disk according to the present invention is particularly suitable for forming grooves for CD / MO or mini disks, and further for forming grooves and pits.

【0017】[0017]

【実施例】以下に図面を参照して本発明の実施例につい
て詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0018】まず、図1,図2を参照して本発明の請求
項1の光ディスク用マスター原盤の製造方法について説
明する。図1は本発明の実施に好適なレーザー光学系の
一例の概略を示す構成図、図2は案内溝形成時のレーザ
ー露光工程を説明する模式図であって、(a)は断面
図、(b)は平面図である。
First, a method of manufacturing a master disc for an optical disc according to claim 1 of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a configuration diagram showing an outline of an example of a laser optical system suitable for carrying out the present invention, FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a laser exposure process at the time of forming a guide groove, (a) is a sectional view, b) is a plan view.

【0019】図1において、11はレーザー発生装置、
12、16はビームスプリッター、13、17は反射
鏡、14、15は光変調器、18は対物レンズである。
レーザー発生装置11から出射されたレーザービームは
ビームスプリッター12により2本のレーザービーム1
9、20に分割される。このレーザービーム19及び2
0はそれぞれ光変調器14、15によって強度変調を受
ける。その後、2本のレーザービーム19、20は反射
鏡17及びビームスプリッター16によって、図2
(a)に示す如くガラス基板21上でその一部が重なる
ように配置され、対物レンズ18に入射する。
In FIG. 1, 11 is a laser generator,
Reference numerals 12 and 16 are beam splitters, 13 and 17 are reflecting mirrors, 14 and 15 are optical modulators, and 18 is an objective lens.
The laser beam emitted from the laser generator 11 is converted into two laser beams 1 by the beam splitter 12.
It is divided into 9 and 20. This laser beam 19 and 2
0 undergoes intensity modulation by the optical modulators 14 and 15, respectively. After that, the two laser beams 19 and 20 are reflected by the reflecting mirror 17 and the beam splitter 16 as shown in FIG.
As shown in (a), they are arranged on the glass substrate 21 so as to partially overlap with each other and enter the objective lens 18.

【0020】ガラス基板21上に塗布されたフォトレジ
スト膜22に、対物レンズ18を出射したレーザービー
ム19、20が図2(a)に示す如く照射されると、こ
のフォトレジスト膜22が露光されて、図2(b)に示
すような露光部24、25が形成される。
When the laser beams 19 and 20 emitted from the objective lens 18 are applied to the photoresist film 22 coated on the glass substrate 21 as shown in FIG. 2A, the photoresist film 22 is exposed. As a result, exposed portions 24 and 25 as shown in FIG. 2B are formed.

【0021】即ち、一部が重なり合う2本のレーザービ
ーム19、20により露光されるため、レーザービーム
19による露光部24とレーザービーム20による露光
部25とで、幅の広い案内溝が容易に形成される。
That is, since the exposure is performed by the two laser beams 19 and 20 which partially overlap each other, a wide guide groove is easily formed by the exposure portion 24 by the laser beam 19 and the exposure portion 25 by the laser beam 20. To be done.

【0022】次に、さらに図3を参照して本発明の請求
項2の光ディスク用マスター原盤の製造方法について説
明する。図3はピット形成時のレーザー露光工程を説明
する模式図であって、(a)は断面図、(b)は平面図
である。図3において、図2と同一機能を奏する部材に
は同一符号を付す。
Next, with reference to FIG. 3, a method for manufacturing the master disc for an optical disc according to claim 2 of the present invention will be described. 3A and 3B are schematic diagrams for explaining a laser exposure process at the time of forming pits, where FIG. 3A is a sectional view and FIG. 3B is a plan view. 3, members having the same functions as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals.

【0023】請求項2の方法において、案内溝の形成方
法は、前記請求項1における方法と同様であり、幅の広
い案内溝を容易に形成することができる。一方、ピット
の形成にあたっては、2本のレーザービームのうちの一
方(本実施例ではレーザービーム20)を光変調器15
により遮蔽し、図3(a)に示す如く、他方のレーザー
ビーム19のみを照射する。これにより、図3(b)に
示す如く、幅の狭い露光部(ピット)26を容易に形成
することができる。なお、図3(b)において、27
は、後述の比較例において、レーザービーム19のみで
形成した幅の狭い案内溝用露光部である。
In the method of claim 2, the method of forming the guide groove is the same as that of the method of claim 1, and it is possible to easily form a wide guide groove. On the other hand, in forming the pit, one of the two laser beams (the laser beam 20 in this embodiment) is used for the optical modulator 15.
Then, only the other laser beam 19 is irradiated as shown in FIG. As a result, as shown in FIG. 3B, a narrow exposed portion (pit) 26 can be easily formed. Note that in FIG. 3B, 27
In a comparative example described later, is a narrow guide groove exposure portion formed only by the laser beam 19.

【0024】次に図4,図5,図6を参照して本発明の
請求項3の光ディスク用マスター原盤の製造方法、特に
請求項4の光ディスク用マスター原盤の製造方法につい
て説明する。
Next, with reference to FIGS. 4, 5 and 6, a method for manufacturing a master master for optical discs according to a third aspect of the present invention, particularly a method for manufacturing a master master for optical discs according to the fourth aspect, will be described.

【0025】図4は、本発明の実施に好適なレーザー光
学系の一例の概略を示す構成図、図5は案内溝形成時の
レーザー露光工程を説明する模式図であって、(a)は
断面図、(b)は平面図である。図6はピット形成時の
レーザー露光工程を説明する構成図であって、(a)は
断面図、(b)は平面図である。
FIG. 4 is a schematic view showing an example of a laser optical system suitable for carrying out the present invention, and FIG. 5 is a schematic view for explaining a laser exposure process at the time of forming a guide groove. Sectional drawing, (b) is a top view. 6A and 6B are configuration diagrams for explaining a laser exposure process at the time of forming pits. FIG. 6A is a sectional view and FIG. 6B is a plan view.

【0026】図4において、11はレーザー発生装置、
18は対物レンズ、31、32、37、38はビームス
プリッター、33、39は反射鏡、34、35、36は
光変調器である。レーザー発生装置11から出射された
レーザービームはビームスプリッター31により2本の
レーザービーム40、41に分割され、レーザービーム
40は更にビームスプリッター32によってレーザービ
ーム42、43に分割される。レーザービーム41、4
2、43はそれぞれ光変調器34、35、36によって
強度変調を受ける。その後、3本のレーザービーム4
1、42、43は反射鏡39及びビームスプリッター3
7、38によって、図5(a)に示す如く、ガラス基板
21上で、基板21の半径方向に一直線上に並び、かつ
隣合うレーザービームの一部が互いに重なりあうように
配置され、対物レンズ18に入射する。
In FIG. 4, 11 is a laser generator,
Reference numeral 18 is an objective lens, 31, 32, 37 and 38 are beam splitters, 33 and 39 are reflecting mirrors, and 34, 35 and 36 are optical modulators. The laser beam emitted from the laser generator 11 is split into two laser beams 40 and 41 by the beam splitter 31, and the laser beam 40 is further split into laser beams 42 and 43 by the beam splitter 32. Laser beam 41, 4
2, 43 are intensity-modulated by the optical modulators 34, 35, 36, respectively. After that, 3 laser beams 4
Reference numerals 1, 42 and 43 denote a reflecting mirror 39 and a beam splitter 3
As shown in FIG. 5A, the objective lenses 7 and 38 are arranged on the glass substrate 21 in a straight line in the radial direction of the substrate 21 so that adjacent laser beams partially overlap with each other. It is incident on 18.

【0027】ガラス基板21上に塗布されたフォトレジ
スト膜22に、対物レンズ18を出射したレーザービー
ム41、42、43が図5(a)に示す如く照射される
と、このフォトレジスト膜22が露光されて、図5
(b)に示すような露光部44、45、46が形成され
る。
When the laser beam 41, 42, 43 emitted from the objective lens 18 is irradiated on the photoresist film 22 applied on the glass substrate 21 as shown in FIG. 5A, the photoresist film 22 is formed. Exposed, Figure 5
The exposed portions 44, 45, 46 are formed as shown in (b).

【0028】即ち、隣り合うレーザービームが一部重な
り合う3本のレーザービーム41、42、43により露
光されるため、レーザービーム41による露光部44
と、レーザービーム42による露光部45と、レーザー
ビーム43による露光部46とで、幅の広い案内溝を容
易に形成することができる。
That is, since the adjacent laser beams are exposed by the three laser beams 41, 42 and 43 which partially overlap each other, the exposure section 44 by the laser beam 41 is exposed.
The guide groove having a wide width can be easily formed by the exposure part 45 exposed by the laser beam 42 and the exposure part 46 exposed by the laser beam 43.

【0029】一方、ピット形成にあたっては、3本のレ
ーザービーム41、42、43のうち、2本(本実施例
では両端のレーザービーム41、43)を、光変調器3
4、36により遮蔽し、図6(a)に示す如く、真中の
1本のレーザービーム42のみを照射する。
On the other hand, in forming the pit, two of the three laser beams 41, 42 and 43 (in this embodiment, the laser beams 41 and 43 at both ends) are used to form the optical modulator 3.
It is shielded by Nos. 4 and 36, and as shown in FIG. 6A, only one laser beam 42 in the middle is irradiated.

【0030】これにより、図6(b)に示す如く、幅の
狭い露光部47(ピット)を容易に形成することができ
る。しかも、この際、このピットと前記図5(a)、
(b)で形成した案内溝との中心を自動的に一致させる
ことができる。なお、図6(b)において、48はこの
レーザービーム42のみで形成した幅の狭い露光部であ
る。
As a result, as shown in FIG. 6B, it is possible to easily form the exposed portion 47 (pit) having a narrow width. Moreover, at this time, this pit and the above-mentioned FIG.
The center of the guide groove formed in (b) can be automatically matched. In FIG. 6B, reference numeral 48 denotes an exposed portion having a narrow width formed only by the laser beam 42.

【0031】以下に具体的な実施例を挙げる。Specific examples will be described below.

【0032】実施例1 図1,2に示す方法により、2本のレーザービームを用
いて露光を行ない案内溝を形成した場合の、形成された
案内溝の幅及び深さを表1に示す。
Example 1 Table 1 shows the width and depth of the formed guide groove when the guide groove is formed by exposure using two laser beams by the method shown in FIGS.

【0033】比較例1 比較のため、1本のレーザービームを用いて形成した案
内溝の幅及び深さを表1に示す。
Comparative Example 1 For comparison, Table 1 shows the width and depth of the guide groove formed by using one laser beam.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】実施例2 図1,2,3に示す方法により、2本のレーザービーム
を用いて露光を行ない案内溝を形成すると共に、1本の
レーザービームのみを用いて露光を行ないピットを形成
した場合の、形成された案内溝とピットの幅及び深さを
表2に示す。
Example 2 By the method shown in FIGS. 1, 2 and 3, two laser beams are used for exposure to form a guide groove, and only one laser beam is used for exposure to form pits. Table 2 shows the widths and depths of the formed guide grooves and pits in the case.

【0036】[0036]

【表2】 [Table 2]

【0037】表1,2より、本発明の光ディスク用マス
ター原盤の製造方法によれば、深さに比べて幅が非常に
大きい案内溝及びこの案内溝と共にその半分以下の幅の
ピットを良好なコントラストで形成できることが明らか
である。
From Tables 1 and 2, according to the method of manufacturing a master disc for an optical disk of the present invention, a guide groove having a width much larger than the depth and a pit having a width equal to or less than half the width of the guide groove are excellent. It is clear that the contrast can be formed.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上詳述した通り、請求項1の光ディス
ク用マスター原盤の製造方法によれば、幅1.0〜1.
2μm、深さλ/9n〜λ/7nのU字形断面形状を有
する、深さに対して幅の非常に広い案内溝を良好なコン
トラストのもとに容易に形成することができる。
As described in detail above, according to the method of manufacturing the master master for an optical disc of the first aspect, the width of 1.0 to 1.
A guide groove having a width of 2 μm and a U-shaped cross section having a depth of λ / 9n to λ / 7n and having a very wide width with respect to the depth can be easily formed with good contrast.

【0039】このように、請求項1の方法によれば、C
D/MO或いはミニディスクに要求される幅の広い案内
溝をコントラスト良く形成することができる。しかも、
幅の広い案内溝を形成する際、レーザーパワーを特別に
高くする必要がないので、ランドの部分も均一に残る。
Thus, according to the method of claim 1, C
The wide guide groove required for the D / MO or the mini disk can be formed with good contrast. Moreover,
When forming the wide guide groove, it is not necessary to particularly increase the laser power, so that the land portion also remains uniform.

【0040】請求項2の光ディスク用マスター原盤の製
造方法によれば、上記案内溝と共に、幅0.45〜0.
7μmのU字形断面形状を有する、案内溝の幅の半分以
下の幅を有するピットを良好なコントラストのもとに容
易に形成することができる。
According to the method of manufacturing a master disc for an optical disk of claim 2, the width of 0.45 to 0.
It is possible to easily form a pit having a U-shaped cross-sectional shape of 7 μm and having a width equal to or less than half the width of the guide groove with good contrast.

【0041】請求項3の光ディスク用マスター原盤の製
造方法によれば、より一層幅の広い案内溝と幅の狭いピ
ットとを良好なコントラストのもとに容易に形成するこ
とができる。
According to the method of manufacturing a master disc for an optical disk of claim 3, a guide groove having a wider width and a pit having a narrower width can be easily formed with good contrast.

【0042】このように、請求項2,3の方法によって
も、CD/MO或いはミニディスクに要求される幅の広
い案内溝と幅の狭いピットとをコントラスト良く形成す
ることができる。しかも、幅の広い案内溝を形成すると
きにもレーザーパワーを特別に高くする必要がないの
で、ランドの部分も均一に残る。
As described above, also by the methods of claims 2 and 3, it is possible to form the wide guide groove and the narrow pit required for the CD / MO or the mini-disc with good contrast. Moreover, since it is not necessary to increase the laser power particularly when forming the wide guide groove, the land portion remains uniformly.

【0043】請求項4の光ディスク用マスター原盤の製
造方法によれば、幅の広い案内溝と、幅の狭いピットと
を、各々の中心を自動的に一致させて、容易に形成する
ことができる。
According to the method of manufacturing a master disc for an optical disk of claim 4, a wide guide groove and a narrow pit can be easily formed by automatically matching their centers. ..

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施に好適なレーザー光学系の一例の
概略を示す構成図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a laser optical system suitable for carrying out the present invention.

【図2】案内溝形成時のレーザー露光工程を説明する模
式図であって、(a)は断面図、(b)は平面図であ
る。
2A and 2B are schematic diagrams illustrating a laser exposure process when forming a guide groove, in which FIG. 2A is a sectional view and FIG. 2B is a plan view.

【図3】ピット形成時のレーザー露光工程を説明する模
式図であって、(a)は断面図、(b)は平面図であ
る。
3A and 3B are schematic diagrams illustrating a laser exposure process at the time of forming pits, in which FIG. 3A is a sectional view and FIG. 3B is a plan view.

【図4】本発明の実施に好適なレーザー光学系の一例の
概略を示す構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram showing an outline of an example of a laser optical system suitable for implementing the present invention.

【図5】案内溝形成時のレーザー露光工程を説明する模
式図であって、(a)は断面図、(b)は平面図であ
る。
5A and 5B are schematic diagrams for explaining a laser exposure process when forming a guide groove, in which FIG. 5A is a sectional view and FIG. 5B is a plan view.

【図6】ピット形成時のレーザー露光工程を説明する模
式図であって、(a)は断面図、(b)は平面図であ
る。
6A and 6B are schematic diagrams illustrating a laser exposure process at the time of forming pits, in which FIG. 6A is a sectional view and FIG. 6B is a plan view.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 レーザー発生装置 12,16,31,32,37,38 ビームスプリッ
ター 13,17,33,39 反射鏡 14,15,34,35,36 光変調器 18 対物レンズ 19,20,41,42,43 レーザービーム 21 ガラス基板 22 フォトレジスト膜 24,25,26,44,45,46,47 露光部
11 Laser generator 12, 16, 31, 32, 37, 38 Beam splitter 13, 17, 33, 39 Reflector 14, 15, 34, 35, 36 Optical modulator 18 Objective lens 19, 20, 41, 42, 43 Laser beam 21 Glass substrate 22 Photoresist film 24, 25, 26, 44, 45, 46, 47 Exposure unit

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に形成したレジスト膜にレーザー
ビームを照射して露光することにより、該レジスト膜
に、幅1.0〜1.2μm、深さλ/9n〜λ/7n
(ただし、nは光ディスクの媒体の屈折率、λは読み出
し時のレーザーの波長)のU字形断面の案内溝を形成す
る工程を有する光ディスク用マスター原盤の製造方法に
おいて、 前記レジスト膜の露光にあたり、2本のレーザービーム
を、前記基板の半径方向にその一部が重なるように配置
し、該2本のレーザービームを該レジスト膜に照射する
ことを特徴とする光ディスク用マスター原盤の製造方
法。
1. A resist film formed on a substrate is irradiated with a laser beam for exposure to expose the resist film to a width of 1.0 to 1.2 μm and a depth of λ / 9n to λ / 7n.
(Where n is the refractive index of the medium of the optical disc, λ is the wavelength of the laser at the time of reading), in the method for producing a master disc for an optical disc having a step of forming a guide groove having a U-shaped cross section, in exposing the resist film, A method for manufacturing a master disc for an optical disk, comprising arranging two laser beams so that a part of the laser beams overlap each other in a radial direction of the substrate, and irradiating the resist film with the two laser beams.
【請求項2】 基板上に形成したレジスト膜にレーザー
ビームを照射して露光することにより、該レジスト膜
に、幅0.45〜0.7μmのU字形断面のピットと幅
1.0〜1.2μm、深さλ/9n〜λ/7n(ただ
し、nは光ディスクの媒体の屈折率、λは読み出し時の
レーザーの波長)のU字形断面の案内溝とを形成する工
程を有する光ディスク用マスター原盤の製造方法におい
て、 前記レジスト膜の露光にあたり、2本のレーザービーム
を、前記基板の半径方向にその一部が重なるように配置
し、ピット形成時には該2本のレーザービームのうちの
1本のレーザービームのみを該レジスト膜に照射し、案
内溝形成時には該2本のレーザービームを共に該レジス
ト膜に照射することを特徴とする光ディスク用マスター
原盤の製造方法。
2. A resist film formed on a substrate is irradiated with a laser beam for exposure to expose a pit having a U-shaped cross section having a width of 0.45 to 0.7 μm and a width of 1.0 to 1 on the resist film. Master for optical disk having a step of forming a guide groove having a U-shaped cross section of 0.2 μm and a depth of λ / 9n to λ / 7n (where n is the refractive index of the medium of the optical disk and λ is the laser wavelength at the time of reading) In the method of manufacturing a master, in exposing the resist film, two laser beams are arranged so that a part thereof overlaps in the radial direction of the substrate, and one of the two laser beams is formed at the time of pit formation. 2. The method for producing a master disc for an optical disc, wherein the resist film is irradiated with only the laser beam of 1) and the resist film is irradiated with the two laser beams when the guide groove is formed.
【請求項3】 基板上に形成したレジスト膜にレーザー
ビームを照射して露光することにより、該レジスト膜
に、幅0.45〜0.7μmのU字形断面のピットと幅
1.0〜1.2μm、深さλ/9n〜λ/7n(ただ
し、nは光ディスクの媒体の屈折率、λは読み出し時の
レーザーの波長)のU字形断面の案内溝とを形成する工
程を有する光ディスク用マスター原盤の製造方法におい
て、 前記レジスト膜の露光にあたり、複数本のレーザービー
ムを前記基板の半径方向に、隣接するレーザービーム同
士が一部重なりあうように一直線上に配置し、ピット形
成時には該複数本のレーザービームのうちの1本のレー
ザービームのみを該レジスト膜に照射し、案内溝形成時
には該複数本のレーザービームのうちの隣接する2本以
上のレーザービームを該レジスト膜に照射することを特
徴とする光ディスク用マスター原盤の製造方法。
3. A pit having a U-shaped cross section having a width of 0.45 to 0.7 μm and a width of 1.0 to 1 are formed on the resist film formed by irradiating a laser beam on the substrate to expose the resist film. Master for optical disk having a step of forming a guide groove having a U-shaped cross section of 0.2 μm and a depth of λ / 9n to λ / 7n (where n is the refractive index of the medium of the optical disk and λ is the laser wavelength at the time of reading) In the method of manufacturing a master, in exposing the resist film, a plurality of laser beams are arranged in a straight line in a radial direction of the substrate so that adjacent laser beams partially overlap each other, and when the pits are formed, the plurality of laser beams are arranged. Of the laser beams, the resist film is irradiated with only one laser beam, and two or more adjacent laser beams among the plurality of laser beams are formed at the time of forming the guide groove. Method for producing a master template for the optical disk, which comprises irradiating the resist film.
【請求項4】 請求項3の方法において、3本のレーザ
ービームを配置し、ピット形成時には、該3本のレーザ
ービームのうち中央の1本のレーザービームのみを該レ
ジスト膜に照射し、案内溝形成時には該3本のレーザー
ビームを該レジスト膜に照射することを特徴とする光デ
ィスク用マスター原盤の製造方法。
4. The method according to claim 3, wherein three laser beams are arranged, and at the time of forming a pit, only one central laser beam of the three laser beams is irradiated to the resist film for guiding. A method for producing a master master for an optical disc, wherein the resist film is irradiated with the three laser beams when forming a groove.
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