JPH05173005A - アルミニウム表面反射鏡 - Google Patents
アルミニウム表面反射鏡Info
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- JPH05173005A JPH05173005A JP36111891A JP36111891A JPH05173005A JP H05173005 A JPH05173005 A JP H05173005A JP 36111891 A JP36111891 A JP 36111891A JP 36111891 A JP36111891 A JP 36111891A JP H05173005 A JPH05173005 A JP H05173005A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 反射面としてアルミニウム表面３Ａを用いた
表面反射鏡１において、アルミニウム表面３Ａ上に、屈
折率が１．７０以下の光学材料からなる光学的膜厚１／
４λ（λ＝４００〜７００ｎｍ）の第一低屈折率層５
と、屈折率が１．９５以上の光学材料からなる光学的膜
厚１／４λ（λ＝４００〜７００ｎｍ）の高屈折率層７
と、屈折率が１．７０以下の光学材料からなる光学的膜
厚１／４λ（λ＝４００〜７００ｎｍ）の第二低屈折率
層９とをこの順番で積層した。 【効果】 ４００〜１０００ｎｍの広い波長域で反射率
差が少なく、分光光度計、分光測色計等の反射測定用標
準試料として最適なアルミニウム表面反射鏡を提供する
ことができる。
表面反射鏡１において、アルミニウム表面３Ａ上に、屈
折率が１．７０以下の光学材料からなる光学的膜厚１／
４λ（λ＝４００〜７００ｎｍ）の第一低屈折率層５
と、屈折率が１．９５以上の光学材料からなる光学的膜
厚１／４λ（λ＝４００〜７００ｎｍ）の高屈折率層７
と、屈折率が１．７０以下の光学材料からなる光学的膜
厚１／４λ（λ＝４００〜７００ｎｍ）の第二低屈折率
層９とをこの順番で積層した。 【効果】 ４００〜１０００ｎｍの広い波長域で反射率
差が少なく、分光光度計、分光測色計等の反射測定用標
準試料として最適なアルミニウム表面反射鏡を提供する
ことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、分光光度計、分光測色
計等の反射測定用標準試料として用いられ、波長による
反射率差が少ないアルミニウム表面反射鏡に関する。
計等の反射測定用標準試料として用いられ、波長による
反射率差が少ないアルミニウム表面反射鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】分光光度計や分光測色計では、反射率あ
るいは反射色を決定する際に、通常相対反射測定が行な
われる。相対反射測定では、反射測定用標準試料を用い
て測定した反射強度標準値と、測定試料を用いて測定し
た反射強度測定値とから反射率や反射色が算出される。
このような相対反射測定で用いられる標準試料として
は、従来より、比較的物性が安定しており、かつ図４の
実線ａに示すように、４５°入射光の波長に対する分光
反射率が平坦なカーブを示し、反射率差が小さいアルミ
ニウム表面反射鏡が用いられていた。しかしながら、こ
のアルミニウム表面反射鏡では、反射面であるアルミニ
ウム表面が対擦傷性に劣るため、シルボン紙などで表面
をこすると傷付くことがあり、また耐酸化性、耐腐食性
に劣るので、５０℃、９０％ＲＨの条件下で１００時間
放置する耐湿テストでさえ表面が曇ってしまう。そこで
従来では、アルミニウム表面上に保護層を形成し、アル
ミニウム表面に耐擦傷性および耐湿性を付与していた。
このような保護層が形成されたアルミニウム表面反射鏡
としては、従来より、アルミニウム表面上に、ＳｉＯ２
（屈折率：１．４３１）からなる光学的膜厚１／２λ
（λ＝５５０ｎｍ）の保護層を形成した表面反射鏡や、
アルミニウム表面上に、ＭｇＦ２（屈折率：１．３８
８）からなる光学的膜厚１／４λ（λ＝５２０ｎｍ）の
第一保護層と、ＴｉＯ２（屈折率：２．２７０）からな
る光学的膜厚１／４λ（λ＝５２０ｎｍ）の第二保護層
とを形成した表面反射鏡等が知られている。
るいは反射色を決定する際に、通常相対反射測定が行な
われる。相対反射測定では、反射測定用標準試料を用い
て測定した反射強度標準値と、測定試料を用いて測定し
た反射強度測定値とから反射率や反射色が算出される。
このような相対反射測定で用いられる標準試料として
は、従来より、比較的物性が安定しており、かつ図４の
実線ａに示すように、４５°入射光の波長に対する分光
反射率が平坦なカーブを示し、反射率差が小さいアルミ
ニウム表面反射鏡が用いられていた。しかしながら、こ
のアルミニウム表面反射鏡では、反射面であるアルミニ
ウム表面が対擦傷性に劣るため、シルボン紙などで表面
をこすると傷付くことがあり、また耐酸化性、耐腐食性
に劣るので、５０℃、９０％ＲＨの条件下で１００時間
放置する耐湿テストでさえ表面が曇ってしまう。そこで
従来では、アルミニウム表面上に保護層を形成し、アル
ミニウム表面に耐擦傷性および耐湿性を付与していた。
このような保護層が形成されたアルミニウム表面反射鏡
としては、従来より、アルミニウム表面上に、ＳｉＯ２
（屈折率：１．４３１）からなる光学的膜厚１／２λ
（λ＝５５０ｎｍ）の保護層を形成した表面反射鏡や、
アルミニウム表面上に、ＭｇＦ２（屈折率：１．３８
８）からなる光学的膜厚１／４λ（λ＝５２０ｎｍ）の
第一保護層と、ＴｉＯ２（屈折率：２．２７０）からな
る光学的膜厚１／４λ（λ＝５２０ｎｍ）の第二保護層
とを形成した表面反射鏡等が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＳｉＯ
２からなる保護層を有するアルミニウム表面反射鏡で
は、図４の点線ｂで示すように、４５°入射光の分光反
射率が、波長４００〜１０００ｎｍの範囲で大きく変化
し、したがってこの範囲での反射率差が１３％と大きい
ため、入射光の波長に対する分光反射率が平坦なカーブ
を示さないという問題があった。また、ＭｇＦ２からな
る第一保護層およびＴｉＯ２からなる第二保護層を有す
るアルミニウム表面反射鏡にあっても、図４の破線Ｃで
示すように、４５°入射光の分光反射率が、波長４００
〜１０００ｎｍの範囲で大きく変化し、この範囲での反
射率差が１１％と大きくなり、やはり入射光の波長に対
する分光反射率が平坦なカーブを示さないという問題が
あった。本発明は、このような従来技術に伴なう問題点
を解決しようとするものであり、耐擦傷性および耐湿性
に優れるとともに、波長による反射率差が少ないアルミ
ニウム表面反射鏡を提供することを目的としている。
２からなる保護層を有するアルミニウム表面反射鏡で
は、図４の点線ｂで示すように、４５°入射光の分光反
射率が、波長４００〜１０００ｎｍの範囲で大きく変化
し、したがってこの範囲での反射率差が１３％と大きい
ため、入射光の波長に対する分光反射率が平坦なカーブ
を示さないという問題があった。また、ＭｇＦ２からな
る第一保護層およびＴｉＯ２からなる第二保護層を有す
るアルミニウム表面反射鏡にあっても、図４の破線Ｃで
示すように、４５°入射光の分光反射率が、波長４００
〜１０００ｎｍの範囲で大きく変化し、この範囲での反
射率差が１１％と大きくなり、やはり入射光の波長に対
する分光反射率が平坦なカーブを示さないという問題が
あった。本発明は、このような従来技術に伴なう問題点
を解決しようとするものであり、耐擦傷性および耐湿性
に優れるとともに、波長による反射率差が少ないアルミ
ニウム表面反射鏡を提供することを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明に係るアルミニウ
ム表面反射鏡は、反射面としてのアルミニウム表面上
に、屈折率が１．７０以下、好ましくは１．６５〜１．
３０の光学材料からなる光学的膜厚１／４λ（λ＝４０
０〜７００ｎｍ）の第一低屈折率層と、屈折率が１．９
５以上、好ましくは２．５０〜２．０の光学材料からな
る光学的膜厚１／４λ（λ＝４００〜７００ｎｍ）の高
屈折率層と、屈折率が１．７０以下、好ましくは１．６
５〜１．３０の光学材料からなる光学的膜厚１／４λ
（λ＝４００〜７００ｎｍ）の第二低屈折率層とをこの
順番で積層したことを特徴としている。本発明に係るア
ルミニウム表面反射鏡では、反射面としてのアルミニウ
ム表面を、従来公知の基板上に、公知方法例えば、真空
蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等
によってアルミニウム層を形成することで構成できる。
この際用いられる基板としては、ポリカーボネート板、
ポリスチレン板、ポリアセタール板、ポリエチレンテレ
フタレート板、ポリアミド板、ポリイミド板、等の樹脂
板、Ｂｋ７ガラス板、Ｋ２ガラス板、ＢａＦ６ガラス板
等のガラス基板等を挙げることができる。また、アルミ
ニウム層は、基板上に下地層を形成し、この下地層上に
積層してもよく、このような下地層としては、Ｓｉ
Ｏ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＭｏＯ２、ＣｏＯ、Ｎｂ２Ｏ５、Ｃ
ｅＯ２、ＴｉＯ２、Ｔｏ２Ｏ５、ＺｒＯ２を例示するこ
とができる。本発明では、上記第一および第二低屈折率
層の光学材料は、上記屈折率を有すれば特に限定しない
が、具体的には、ＭｇＦ２（屈折率：１．３８８）、Ｓ
ｉＯ２（屈折率：１．４３１）およびＡｌ２Ｏ３（屈折
率：１．６４７）を例示することができる。このような
光学材料は単独あるいは２種以上を組合せて用いること
ができる。
ム表面反射鏡は、反射面としてのアルミニウム表面上
に、屈折率が１．７０以下、好ましくは１．６５〜１．
３０の光学材料からなる光学的膜厚１／４λ（λ＝４０
０〜７００ｎｍ）の第一低屈折率層と、屈折率が１．９
５以上、好ましくは２．５０〜２．０の光学材料からな
る光学的膜厚１／４λ（λ＝４００〜７００ｎｍ）の高
屈折率層と、屈折率が１．７０以下、好ましくは１．６
５〜１．３０の光学材料からなる光学的膜厚１／４λ
（λ＝４００〜７００ｎｍ）の第二低屈折率層とをこの
順番で積層したことを特徴としている。本発明に係るア
ルミニウム表面反射鏡では、反射面としてのアルミニウ
ム表面を、従来公知の基板上に、公知方法例えば、真空
蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等
によってアルミニウム層を形成することで構成できる。
この際用いられる基板としては、ポリカーボネート板、
ポリスチレン板、ポリアセタール板、ポリエチレンテレ
フタレート板、ポリアミド板、ポリイミド板、等の樹脂
板、Ｂｋ７ガラス板、Ｋ２ガラス板、ＢａＦ６ガラス板
等のガラス基板等を挙げることができる。また、アルミ
ニウム層は、基板上に下地層を形成し、この下地層上に
積層してもよく、このような下地層としては、Ｓｉ
Ｏ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＭｏＯ２、ＣｏＯ、Ｎｂ２Ｏ５、Ｃ
ｅＯ２、ＴｉＯ２、Ｔｏ２Ｏ５、ＺｒＯ２を例示するこ
とができる。本発明では、上記第一および第二低屈折率
層の光学材料は、上記屈折率を有すれば特に限定しない
が、具体的には、ＭｇＦ２（屈折率：１．３８８）、Ｓ
ｉＯ２（屈折率：１．４３１）およびＡｌ２Ｏ３（屈折
率：１．６４７）を例示することができる。このような
光学材料は単独あるいは２種以上を組合せて用いること
ができる。
【０００５】また、上記高屈折率層の光学材料にあって
も、上記屈折率を有すれば特に限定されない。このよう
な高屈折率層の光学材料としては、具体的には、ＴｉＯ
２（屈折率：２．２７０）、Ｔａ２Ｏ５（屈折率：２．
１００）およびＺｒＯ２（屈折率：２．０００）を例示
することができ、これらは単独あるいは２種以上を組合
せて用いることができる。このような、第一低屈折率
層、高屈折率層および第二低屈折率層は、従来公知の薄
膜形成方法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、
イオンプレーティング法等によって形成することができ
る。
も、上記屈折率を有すれば特に限定されない。このよう
な高屈折率層の光学材料としては、具体的には、ＴｉＯ
２（屈折率：２．２７０）、Ｔａ２Ｏ５（屈折率：２．
１００）およびＺｒＯ２（屈折率：２．０００）を例示
することができ、これらは単独あるいは２種以上を組合
せて用いることができる。このような、第一低屈折率
層、高屈折率層および第二低屈折率層は、従来公知の薄
膜形成方法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、
イオンプレーティング法等によって形成することができ
る。
【０００６】
【作用】本発明に係るアルミニウム表面反射鏡によれ
ば、上記屈折率および光学的膜厚を有する第一低屈折率
層、高屈折率層および第二低屈折率層を、アルミニウム
表面に積層しているため、４００〜１０００ｎｍの広い
波長域で反射率差が少ないアルミニウム表面反射鏡を提
供することができる。また、第一低屈折率層および第二
低屈折率層の光学材料を、ＭｇＦ２、ＳｉＯ２およびＡ
ｌ２Ｏ３から選択し、あるいは高屈折率層の光学材料
を、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５およびＺｒＯ２から選択する
ことにより、耐擦傷性および耐湿性に優れたアルミニウ
ム表面反射鏡を提供することができる。以下本発明に係
るアルミニウム表面反射鏡を、実施例に基づきさらに具
体的に説明する。
ば、上記屈折率および光学的膜厚を有する第一低屈折率
層、高屈折率層および第二低屈折率層を、アルミニウム
表面に積層しているため、４００〜１０００ｎｍの広い
波長域で反射率差が少ないアルミニウム表面反射鏡を提
供することができる。また、第一低屈折率層および第二
低屈折率層の光学材料を、ＭｇＦ２、ＳｉＯ２およびＡ
ｌ２Ｏ３から選択し、あるいは高屈折率層の光学材料
を、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５およびＺｒＯ２から選択する
ことにより、耐擦傷性および耐湿性に優れたアルミニウ
ム表面反射鏡を提供することができる。以下本発明に係
るアルミニウム表面反射鏡を、実施例に基づきさらに具
体的に説明する。
【０００７】
【実施例１】以下の手順により図１に示される構造のア
ルミニウム表面反射鏡１を製造した。真空蒸着法により
常温で、厚さ１．５ｍｍのポリカーボネート基板１１上
に、下地層１３として、光学的膜厚２７５ｎｍのＳｉＯ
２層、反射面をなすアルミニウム表面３Ａとして膜厚１
５０ｎｍのアルミニウム層３、第一低屈折率層５として
光学的膜厚１３７．５ｎｍのＳｉＯ２層、高屈折率層７
として光学的膜厚１３７．５ｎｍのＴｉＯ２層および第
二低屈折率層９として光学的膜厚１３７．５ｎｍのＡｌ
２Ｏ３層を順次積層した。得られたアルミニウム表面反
射鏡１の耐擦傷性テストおよび耐湿性テストを行なっ
た。耐擦傷性テストでは、反射鏡表面即ち第二低屈折率
層９の表面をシルボン紙で３０往復こすり、傷の有無を
観察した。耐湿性テストでは、５０℃、９０％ＲＨの条
件下、１００時間放置し、反射鏡表面を観察した。得ら
れた結果を表１に示す。また、４５°入射光の波長に対
する分光反射率を測定し、図３の実線ａで示した。
ルミニウム表面反射鏡１を製造した。真空蒸着法により
常温で、厚さ１．５ｍｍのポリカーボネート基板１１上
に、下地層１３として、光学的膜厚２７５ｎｍのＳｉＯ
２層、反射面をなすアルミニウム表面３Ａとして膜厚１
５０ｎｍのアルミニウム層３、第一低屈折率層５として
光学的膜厚１３７．５ｎｍのＳｉＯ２層、高屈折率層７
として光学的膜厚１３７．５ｎｍのＴｉＯ２層および第
二低屈折率層９として光学的膜厚１３７．５ｎｍのＡｌ
２Ｏ３層を順次積層した。得られたアルミニウム表面反
射鏡１の耐擦傷性テストおよび耐湿性テストを行なっ
た。耐擦傷性テストでは、反射鏡表面即ち第二低屈折率
層９の表面をシルボン紙で３０往復こすり、傷の有無を
観察した。耐湿性テストでは、５０℃、９０％ＲＨの条
件下、１００時間放置し、反射鏡表面を観察した。得ら
れた結果を表１に示す。また、４５°入射光の波長に対
する分光反射率を測定し、図３の実線ａで示した。
【０００８】
【実施例２】以下の手順により図２に示される構造のア
ルミニウム表面反射鏡１を製造した。真空蒸着法により
常温で、厚さ１ｍｍのＢｋ７ガラス基板１１上に、反射
面をなすアルミニウム表面３Ａとして膜厚１５０ｎｍの
アルミニウム層３、第一低屈折率層５として光学的膜厚
１３７．５ｎｍのＳｉＯ２層、高屈折率層７として光学
的膜厚１３７．５ｎｍのＺｒＯ２層および第二低屈折率
層９として光学的膜厚１３７．５ｎｍのＳｉＯ２層を順
次積層した。得られたアルミニウム表面反射鏡１の耐擦
傷性テストおよび耐湿性テストを行ない、得られた結果
を表１に示す。また、４５°入射光の波長に対する分光
反射率を測定し、図３の点線ｂで示した。
ルミニウム表面反射鏡１を製造した。真空蒸着法により
常温で、厚さ１ｍｍのＢｋ７ガラス基板１１上に、反射
面をなすアルミニウム表面３Ａとして膜厚１５０ｎｍの
アルミニウム層３、第一低屈折率層５として光学的膜厚
１３７．５ｎｍのＳｉＯ２層、高屈折率層７として光学
的膜厚１３７．５ｎｍのＺｒＯ２層および第二低屈折率
層９として光学的膜厚１３７．５ｎｍのＳｉＯ２層を順
次積層した。得られたアルミニウム表面反射鏡１の耐擦
傷性テストおよび耐湿性テストを行ない、得られた結果
を表１に示す。また、４５°入射光の波長に対する分光
反射率を測定し、図３の点線ｂで示した。
【０００９】
【実施例３】以下の手順により図２に示される構造のア
ルミニウム表面反射鏡１を製造した。真空蒸着法により
常温で、厚さ１ｍｍのＢｋ７ガラス基板１１上に、反射
面をなすアルミニウム表面３Ａとして、膜厚１５０ｎｍ
のアルミニウム層３を形成し、次いで真空状態を保持し
たままで基板１１を２５０℃に加熱した後、第一低屈折
率層５として光学的膜厚１３７．５ｎｍのＭｇＦ２層、
高屈折率層７として光学的膜厚１３７．５ｎｍのＴａ２
Ｏ５層および第二低屈折率層９として光学的膜厚１３
７．５ｎｍのＭｇＦ２層を順次積層した。得られたアル
ミニウム表面反射鏡１の耐擦傷性テストおよび耐湿性テ
ストを行ない、結果を表１に示す。また、４５°入射光
の波長に対する分光反射率を測定し、図３の破線ｃで示
した。
ルミニウム表面反射鏡１を製造した。真空蒸着法により
常温で、厚さ１ｍｍのＢｋ７ガラス基板１１上に、反射
面をなすアルミニウム表面３Ａとして、膜厚１５０ｎｍ
のアルミニウム層３を形成し、次いで真空状態を保持し
たままで基板１１を２５０℃に加熱した後、第一低屈折
率層５として光学的膜厚１３７．５ｎｍのＭｇＦ２層、
高屈折率層７として光学的膜厚１３７．５ｎｍのＴａ２
Ｏ５層および第二低屈折率層９として光学的膜厚１３
７．５ｎｍのＭｇＦ２層を順次積層した。得られたアル
ミニウム表面反射鏡１の耐擦傷性テストおよび耐湿性テ
ストを行ない、結果を表１に示す。また、４５°入射光
の波長に対する分光反射率を測定し、図３の破線ｃで示
した。
【００１０】
【表１】
【００１１】
【比較例１】真空蒸着法により常温で、厚さ１ｍｍのＢ
ｋ７ガラス基板上に、アルミニウム反射面として、膜厚
１５０ｎｍのアルミニウム層を形成した。得られたアル
ミニウム表面反射鏡の耐擦傷性テストおよび耐湿性テス
トを行ない、得られた結果を表１に示す。また、４５°
入射光の波長に対する分光反射率を測定し、図４の実線
ａで示した。
ｋ７ガラス基板上に、アルミニウム反射面として、膜厚
１５０ｎｍのアルミニウム層を形成した。得られたアル
ミニウム表面反射鏡の耐擦傷性テストおよび耐湿性テス
トを行ない、得られた結果を表１に示す。また、４５°
入射光の波長に対する分光反射率を測定し、図４の実線
ａで示した。
【００１２】
【比較例２】真空蒸着法により常温で、厚さ１ｍｍのＢ
ｋ７ガラス基板上に、アルミニウム反射面として、膜厚
１５０ｎｍのアルミニウム層と、その上に保護層として
光学的膜厚２７５ｎｍのＳｉＯ２層を積層した。得られ
たアルミニウム表面反射鏡１の４５°入射光の波長に対
する分光反射率を測定し、図４の点線ｂで示した。
ｋ７ガラス基板上に、アルミニウム反射面として、膜厚
１５０ｎｍのアルミニウム層と、その上に保護層として
光学的膜厚２７５ｎｍのＳｉＯ２層を積層した。得られ
たアルミニウム表面反射鏡１の４５°入射光の波長に対
する分光反射率を測定し、図４の点線ｂで示した。
【００１３】
【比較例３】真空蒸着法により常温で、厚さ１ｍｍのＢ
ｋ７ガラス基板上に、アルミニウム反射面として、膜厚
１５０ｎｍのアルミニウム層を形成し、次いで真空状態
を保持したままで基板を２５０℃に加熱した後、第一保
護層として光学的膜厚１３０ｎｍのＭｇＦ２層と、第二
保護層として光学的膜厚１３０ｎｍのＴｉＯ２層を順次
積層した。得られたアルミニウム表面反射鏡の４５°入
射光の波長に対する分光反射率を測定し、図４の破線ｃ
で示した。
ｋ７ガラス基板上に、アルミニウム反射面として、膜厚
１５０ｎｍのアルミニウム層を形成し、次いで真空状態
を保持したままで基板を２５０℃に加熱した後、第一保
護層として光学的膜厚１３０ｎｍのＭｇＦ２層と、第二
保護層として光学的膜厚１３０ｎｍのＴｉＯ２層を順次
積層した。得られたアルミニウム表面反射鏡の４５°入
射光の波長に対する分光反射率を測定し、図４の破線ｃ
で示した。
【００１４】表１にも示されるように、本実施例１〜３
のアルミニウム表面反射鏡１は、比較例１の従来のアル
ミニウム表面反射鏡と比較して、耐擦傷性テストおよび
耐湿性テストのいずれにおいても勝っており、優れた耐
久性を有することが解る。また、図３および図４の比較
により、比較例１〜３のアルミニウム表面反射鏡が、４
５°入射光の波長に対する分光反射率の変動が大きく、
したがって反射率差が大きいのに対して、本実施例１〜
３のアルミニウム表面反射鏡１は、４５°入射光の波長
に対する分光反射率の変動および反射率差が少なく、反
射測定用標準試料として最適であることが解る。
のアルミニウム表面反射鏡１は、比較例１の従来のアル
ミニウム表面反射鏡と比較して、耐擦傷性テストおよび
耐湿性テストのいずれにおいても勝っており、優れた耐
久性を有することが解る。また、図３および図４の比較
により、比較例１〜３のアルミニウム表面反射鏡が、４
５°入射光の波長に対する分光反射率の変動が大きく、
したがって反射率差が大きいのに対して、本実施例１〜
３のアルミニウム表面反射鏡１は、４５°入射光の波長
に対する分光反射率の変動および反射率差が少なく、反
射測定用標準試料として最適であることが解る。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るアル
ミニウム表面反射鏡によれば、上記屈折率および光学的
膜厚を有する第一低屈折率層、高屈折率層および第二低
屈折率層を、アルミニウム表面に積層しているため、４
００〜１０００ｎｍの広い波長域で反射率差が少なく、
分光光度計、分光測色計との反射測定用標準試料として
最適なアルミニウム表面反射鏡を提供することができ
る。また、本発明に係るアルミニウム表面反射鏡によれ
ば、第一低屈折率層および第二低屈折率層の光学材料
を、ＭｇＦ２、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３から選択し、
あるいは高屈折率層の光学材料を、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ
５およびＺｒＯ２から選択することにより、耐擦傷性お
よび耐湿性に優れたアルミニウム表面反射鏡を提供する
ことができる。
ミニウム表面反射鏡によれば、上記屈折率および光学的
膜厚を有する第一低屈折率層、高屈折率層および第二低
屈折率層を、アルミニウム表面に積層しているため、４
００〜１０００ｎｍの広い波長域で反射率差が少なく、
分光光度計、分光測色計との反射測定用標準試料として
最適なアルミニウム表面反射鏡を提供することができ
る。また、本発明に係るアルミニウム表面反射鏡によれ
ば、第一低屈折率層および第二低屈折率層の光学材料
を、ＭｇＦ２、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３から選択し、
あるいは高屈折率層の光学材料を、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ
５およびＺｒＯ２から選択することにより、耐擦傷性お
よび耐湿性に優れたアルミニウム表面反射鏡を提供する
ことができる。
【図１】実施例に係るアルミニウム表面反射鏡の模式的
断面図である。
断面図である。
【図２】実施例に係るアルミニウム表面反射鏡の模式的
断面図である。
断面図である。
【図３】実施例１〜３のアルミニウム表面反射鏡におけ
る、４５°入射光の波長（３００〜１０００ｎｍ）に対
する分光反射率を示す図である。
る、４５°入射光の波長（３００〜１０００ｎｍ）に対
する分光反射率を示す図である。
【図４】比較例１〜３のアルミニウム表面反射鏡におけ
る、４５°入射光の波長（３００〜１０００ｎｍ）に対
する分光反射率を示す図である。
る、４５°入射光の波長（３００〜１０００ｎｍ）に対
する分光反射率を示す図である。
１ アルミニウム表面反射鏡 ３ アルミニウム層 ３Ａ アルミニウム表面 ５ 第一低屈折率層 ７ 高屈折率層 ９ 第二低屈折率層 １１ 基板 １３ 下地層
Claims (3)
- 【請求項１】 反射面としてアルミニウム表面を用いた
表面反射鏡において、アルミニウム表面上に、 屈折率が１．７０以下の光学材料からなる光学的膜厚１
／４λ（λ＝４００〜７００ｎｍ）の第一低屈折率層
と、 屈折率が１．９５以上の光学材料からなる光学的膜厚１
／４λ（λ＝４００〜７００ｎｍ）の高屈折率層と、 屈折率が１．７０以下の光学材料からなる光学的膜厚１
／４λ（λ＝４００〜７００ｎｍ）の第二低屈折率層
と、 をこの順序で積層したことを特徴とするアルミニウム表
面反射鏡。 - 【請求項２】 前記第一および第二低屈折率層が、Ｍｇ
Ｆ２、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３からなる群から選択さ
れる少なくとも一種の光学材料で形成されることを特徴
とする請求項１記載のアルミニウム表面反射鏡。 - 【請求項３】 前記高屈折率層が、ＴｉＯ２、Ｔａ２
Ｏ５およびＺｒＯ２からなる群から選択される少なくと
も一種の光学材料で形成されることを特徴とする請求項
１または２記載のアルミニウム表面反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36111891A JPH05173005A (ja) | 1991-12-19 | 1991-12-19 | アルミニウム表面反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36111891A JPH05173005A (ja) | 1991-12-19 | 1991-12-19 | アルミニウム表面反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05173005A true JPH05173005A (ja) | 1993-07-13 |
Family
ID=18472280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36111891A Pending JPH05173005A (ja) | 1991-12-19 | 1991-12-19 | アルミニウム表面反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05173005A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100323440B1 (ko) * | 1995-09-12 | 2002-06-20 | 부르크하르트 한스, 게르네트 자무엘 | 복합반사율증진표면층을가진알루미늄반사기 |
| JP2010078860A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Toshiba Corp | 光学部材、表示装置および移動体 |
| JP2011221208A (ja) * | 2010-04-08 | 2011-11-04 | Konica Minolta Opto Inc | アルミニウム表面反射鏡 |
| JP2014086579A (ja) * | 2012-10-19 | 2014-05-12 | Applied Materials Inc | 真空チャンバ用反射部材 |
| WO2016006691A1 (ja) * | 2014-07-10 | 2016-01-14 | イビデン株式会社 | ミラー |
| KR20230019854A (ko) | 2020-06-12 | 2023-02-09 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 필름 미러 적층체 및 미러 부재 |
| CN120143328A (zh) * | 2025-02-26 | 2025-06-13 | 北京创思镀膜有限公司 | 光学相位延迟反射膜及其镀制方法、卡具 |
| KR20250179656A (ko) | 2024-06-21 | 2025-12-30 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 필름 미러 적층체 및 미러 부재 |
-
1991
- 1991-12-19 JP JP36111891A patent/JPH05173005A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100323440B1 (ko) * | 1995-09-12 | 2002-06-20 | 부르크하르트 한스, 게르네트 자무엘 | 복합반사율증진표면층을가진알루미늄반사기 |
| JP2010078860A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Toshiba Corp | 光学部材、表示装置および移動体 |
| JP2011221208A (ja) * | 2010-04-08 | 2011-11-04 | Konica Minolta Opto Inc | アルミニウム表面反射鏡 |
| JP2014086579A (ja) * | 2012-10-19 | 2014-05-12 | Applied Materials Inc | 真空チャンバ用反射部材 |
| WO2016006691A1 (ja) * | 2014-07-10 | 2016-01-14 | イビデン株式会社 | ミラー |
| KR20230019854A (ko) | 2020-06-12 | 2023-02-09 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 필름 미러 적층체 및 미러 부재 |
| KR20250179656A (ko) | 2024-06-21 | 2025-12-30 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 필름 미러 적층체 및 미러 부재 |
| CN120143328A (zh) * | 2025-02-26 | 2025-06-13 | 北京创思镀膜有限公司 | 光学相位延迟反射膜及其镀制方法、卡具 |
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