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JPH05102056A - ウエハー支持具 - Google Patents

ウエハー支持具

Info

Publication number
JPH05102056A
JPH05102056A JP26391491A JP26391491A JPH05102056A JP H05102056 A JPH05102056 A JP H05102056A JP 26391491 A JP26391491 A JP 26391491A JP 26391491 A JP26391491 A JP 26391491A JP H05102056 A JPH05102056 A JP H05102056A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
support
supported
board
support board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26391491A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomohito Nakamura
智史 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP26391491A priority Critical patent/JPH05102056A/ja
Priority to US07/873,383 priority patent/US5219079A/en
Publication of JPH05102056A publication Critical patent/JPH05102056A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • H10P72/127—
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47F—SPECIAL FURNITURE, FITTINGS, OR ACCESSORIES FOR SHOPS, STOREHOUSES, BARS, RESTAURANTS OR THE LIKE; PAYING COUNTERS
    • A47F5/00—Show stands, hangers, or shelves characterised by their constructional features
    • A47F5/04—Stands with a central pillar, e.g. tree type
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S206/00—Special receptacle or package
    • Y10S206/832—Semiconductor wafer boat
    • Y10S206/833—Apertured side walls

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウェハーに対する加工精度の低下を回避する
ことができるウェハー支持具の提供を目的とする。 【構成】 加工対象となるウェハー３０は、支持盤６上
に置かれた状態で加熱炉内に収められる。従って、ウェ
ハー３０に、その自重によるそりが生じることはない。
又、ウェハー３０の背面に付着したパーティクル（塵
埃）が、下方のウェハー３０の加工表面上に落下するこ
ともない。更に、支柱４から周囲幅Ｌ２離れた状態で位
置するので、支柱４近傍のガス気流の乱れの影響によっ
て加工精度が低下することがない。尚、支持盤６にスリ
ット７が形成されている為、ウェハー３０の搬送を容易
に行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はウェハーを支持する支持
具の構造に関し、特にウェハーに対する加工精度の低下
を回避することができる構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＩＣの製造工程においては、シリコン等
のウェハーの表面にイオン等の不純物を付着させ、この
不純物をシリコン内に拡散させる。この拡散層によっ
て、ウェハーには集積回路用のＩＣ構成部品が形成され
る。こうした拡散作業を行う場合、不純物を付着させた
ウェハーをまず加熱炉内に収め、その後ガス等を充満さ
せて高温で加熱する。
【０００３】加熱炉には多数のウェハーが収納されて同
時に加熱される。この場合、これらのウェハーはウェハ
ー支持具によって支持され加熱炉内に置かれる。この従
来のウェハー支持具の全体斜視図を図２Ａに示す。この
ウェハー支持具４０は縦型加熱炉等において用いられる
支持具であり、その上下に位置する天盤４１及び底盤４
２が四本の支柱４３によって固定され構成されている。
そして、この天盤４１と底盤４２との間にウェハー３０
が所定間隔をもって挿入され、支持される。
【０００４】ウェハー３０の支持は次のようにして行わ
れる。各支柱４３には図２Ｂに示すように、複数の支持
凹部４９が形成されている。そして、これらの支持凹部
４９に各ウェハー３０が填め込まれ、支持されるように
なっている。尚、図２Ｃに、ウェハー３０が支柱４３に
よって支持された状態を示す平面図を掲げる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来のウェハー支持具
には以下のような問題があった。まず、ＩＣの製造作業
の効率を高める為、ウェハー３０には径の大きなものが
用いられることがある。このように大きなウェハー３０
を支柱４３で支持すると、その自重によってウェハー３
０が撓み、そりが生じてしまうという問題がある。
【０００６】又、ＩＣ製品の加工には微細な精度が要求
され、特にウェハー３０の加工表面にパーティクル（塵
埃）等が付着すると製品の信頼性が低下する。図２に示
す従来のウェハー支持具４０では、支持される各々のウ
ェハー３０が互いに近接した状態で支持される。この
為、例えばウェハー３０の背面にパーティクルが付着し
ている場合、下方に位置する他のウェハー３０の加工表
面にこのパーティクルが落下してしまう。加工表面にパ
ーティクルが付着すると加工精度が損われ、上述のよう
に製品の信頼性の低下を招くという問題がある。
【０００７】更に、ウェハー３０は支柱４３に直接、支
持されている為、支柱４３近傍においてガス気流に乱れ
が生じる。つまり、支柱４３の支持凹部４９に挿入さ
れ、支柱４３に接しているウェハー３０の接触部分近辺
４８においては、ガスが均一的に当らない。この為に、
所望する加工が行われず、加工精度が低下してしまうと
いう問題もある。
【０００８】そこで本発明は、ウェハーに対する加工精
度の低下を回避することができるウェハー支持具を提供
することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１に係るウェハー
支持具は、ウェハーを置く為の複数の支持盤、前記複数
の支持盤の間に挿入空間が形成されるように各支持盤を
保持する保持部材、を備えたことを特徴としている。
【００１０】請求項２に係るウェハー支持具は、請求項
１のウェハー支持具において、支持盤には、支持盤に接
するウェハーの接触背面の一部が露出するよう切り欠き
部が形成されている、ことを特徴としている。
【００１１】
【作用】請求項１に係るウェハー支持具においては、ウ
ェハーを置く為の複数の支持盤が、挿入空間が形成され
るよう保持部材によって保持される。この為、各ウェハ
ーは、支持盤に置かれた状態で支持される。つまり、そ
の自重によってウェハーにそり等が生じることがない。
又、ウェハーの背面に付着した塵埃等が、他のウェハー
の加工表面に落下することもない。更に、ウェハーは保
持部材によって直接、支持されるものではなく、支持盤
を介して支持されている。従って、支柱等の近辺におい
て生じるガス気流の乱れが、ウェハーに直接影響を与え
ることがない。
【００１２】請求項２に係るウェハー支持具において
は、支持盤に切り欠き部が形成されており、この切り欠
き部からはウェハーの接触背面の一部が露出する。この
為、支持盤にウェハーを置き、又は取り除く作業が容易
になる。
【００１３】
【実施例】本発明に係るウェハー支持具の一実施例を図
面に基づいて説明する。図１Ａにこの支持具２の全体斜
視図を示す。支持具２の上下両端部には天盤２１と底盤
２２とが位置しており、これらの間には複数の支持盤６
が挿入空間６Ｋをもって配置されている。そして、天盤
２１、底盤２２及び各支持盤６は、保持部材としての支
柱４によって固定されている。
【００１４】支持盤６の平面図を図１Ｂに掲げる。図に
示すように支持盤６には、切り欠き部としてのスリット
７が形成されており、このスリット７は切り込み長さＬ
１をもって切り欠かれている。このようなスリット７が
形成されている各支持盤６には、加工対象となるウェハ
ー３０が置かれる。すなわち、各挿入空間６Ｋにウェハ
ー３０が一枚づつ挿入され、支持盤６に乗せられる。
【００１５】支持盤６上にウェハー３０が置かれた状態
を示すものが図１Ｃの平面図である。この場合、図に示
すようにウェハー３０の接触背面の一部がスリット７か
ら露出するようになっている。つまりスリット７の切り
込み長さＬ１は、支持盤６上に置かれたウェハー３０に
達するように形成されている。この為、支持盤６上に他
の工程から搬送されたウェハー３０を置く場合、スリッ
ト７を介してウェハー３０を所定位置に容易に置くこと
ができる。
【００１６】以上のようにして各支持盤６にウェハー３
０が置かれ、この状態で縦型加熱炉（図示せず）に収め
られる。ウェハー３０の加工表面には、予めイオン等の
不純物を注入させておき、加熱炉内でガス等と伴に高温
で加熱する。そして、この拡散工程によって不純物はウ
ェハー３０内に拡散し、拡散層により集積回路用のＩＣ
構成部品が形成される。
【００１７】所定の拡散加工の後、支持具２は加熱炉か
ら取り出され、各ウェハー３０は次の作業工程へと移送
される。支持盤６上に置かれたウェハー３０を取り除く
場合においても、支持盤６にスリット７が形成されてい
る為、ウェハー３０を持上げ易いという利点がある。特
に、搬送ロボットのアームによって持上げ、搬送する場
合等に有効である。
【００１８】図１Ｃに示すように、ウェハー３０は支持
盤６によって面上に置かれた状態で支持される。従っ
て、支柱の支持凹部４９（図２）に填め込んで支持する
従来の支持具に比べ、安定した状態でウェハー３０を支
持することができる。すなわち、例えばその自重により
ウェハー３０が湾曲してしまうことはなく、ウェハー３
０にそりが生じるのを回避することができる。
【００１９】又、ウェハー３０の背面には、パーティク
ル（塵埃）が付着してしまうことがある。しかし、ウェ
ハー３０は支持盤６上に乗せられて位置している為、下
方のウェハー３０の加工表面に、このパーティクルが落
下することはない。この為、パーティクル付着に伴う加
工精度の低下を防止することができる。
【００２０】更に、支持盤６上のウェハー３０は、支柱
４から周囲幅Ｌ２の長さ離れた状態で置かれる（図１Ｃ
参照）。従って、加熱炉内での加熱時に、支柱４近傍に
おいて生じるガス気流の乱れの影響を直接受けることが
ない。つまり、ウェハー３０の加工表面にはガスが均一
的に接し、適正な加工を得ることができる。
【００２１】
【発明の効果】請求項１に係るウェハー支持具において
は、その自重によってウェハーにそり等が生じることが
ない。又、ウェハーの背面に付着した塵埃等が、他のウ
ェハーの加工表面に落下することもない。更に、ウェハ
ーは保持部材によって直接、支持されるものではなく、
支持盤を介して支持されている。すなわち、支柱等の近
辺において生じるガス気流の乱れが、ウェハーに直接影
響を与えることがない。従って、ウェハーに対する加工
精度の低下を回避することができる。
【００２２】請求項２に係るウェハー支持具において
は、支持盤に切り欠き部が形成されている為、支持盤に
ウェハーを置き、又は取り除く作業が容易になる。従っ
て、ウェハーの加工作業の効率を向上させることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るウェハー支持具の一実施例を示す
図であり、Ａは全体斜視図、Ｂは支持盤の平面図、Ｃは
支持盤にウェハーが置かれた状態を示す平面図である。
【図２】従来のウェハー支持具を示す図であり、Ａは全
体斜視図、Ｂは支柱の側面図、Ｃは支柱によって支持さ
れたウェハーの平面図である。
【符号の説明】
２・・・・・支持具 ４・・・・・支柱 ６・・・・・支持盤 ７・・・・・スリット ３０・・・・ウェハー

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】ウェハーを置く為の複数の支持盤、 前記複数の支持盤の間に挿入空間が形成されるように各
    支持盤を保持する保持部材、 を備えたことを特徴とするウェハー支持具。
  2. 【請求項２】請求項１のウェハー支持具において、 支持盤には、支持盤に接するウェハーの接触背面の一部
    が露出するよう切り欠き部が形成されている、 ことを特徴とするウェハー支持具。
JP26391491A 1991-10-11 1991-10-11 ウエハー支持具 Pending JPH05102056A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26391491A JPH05102056A (ja) 1991-10-11 1991-10-11 ウエハー支持具
US07/873,383 US5219079A (en) 1991-10-11 1992-04-24 Wafer jig

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JP26391491A JPH05102056A (ja) 1991-10-11 1991-10-11 ウエハー支持具

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JPH05102056A true JPH05102056A (ja) 1993-04-23

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ID=17396021

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