JPH0481125B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、人体、物体などの立体の表面の各
点位置を非接触計測する立体計測方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、人体、物体などの立体の形状などを測定
する手法としては、センシングプローブを被測定
体に接触させて測定する接触法と、ステレオ写真
法、モアレトポグラフイ法、光切断法などの非接
触法とがあり、これらの手法が産業用ロボツト、
各種の検査装置などの物体認識技術として広く応
用されている。

そして接触法の場合は、接触可能な被測定体し
か測定できず、測定可能な被測定体に制限があ
り、また、被測定体表面の各点の位置を接触計測
するため測定に著しく長時間を要する。

したがつて、被測定体の形状などの測定は、前
述の非接触法のように、被測定体に接触すること
なく行なうことが望まれる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで前記従来の非接触法の場合は、被測定
体の形状認識にもとづいて、計測する立体表面の
各点の位置を算出する手法を採つているため、立
体表面の各点の位置を測定するには、得られた形
状情報から対象とすべき測定点を求めるととも
に、求めた測定点の二次元あるいは三次元の位置
を算出しなければならず、この場合関数演算など
の複雑な算出処理を行なう必要があるとともに算
出に時間のかかる問題点がある。

また、前述の両手法を実現する測定装置は分解
能が非常に低く、被測定体そのものが小さい場
合、あるいは被測定体表面に凹凸がある場合に
は、測定誤差の増大あるいは測定不能の事態が生
じ、信頼性に欠ける問題点がある。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明は、基台上の水平な支持台に被計測用
の立体を載置し、前記基台の周囲に複数の支柱を
立設し、前記各支柱それぞれに前記立体より長い
垂直方向の線状のスリツト光を左右方向に可変自
在に前記立体に照射する投光手段および前記立体
のスリツト光の照射部分を前記投光手段の左、右
の２方向から撮像する１対の撮像手段を有する非
接触測定器を固定し、前記各測定器それぞれの前
記投光手段の照射位置を可変して前記両撮像手段
の重複視野内で前記光照射部分を左右方向に移動
するとともに、前記各測定器それぞれの１対の撮
像出力中のスリツト光の位置情報にもとづき、垂
直方向、左右方向をＺ軸方向、Ｘ軸方向とする３
次元座標での照射部分の点Ｇ（ｘ、ｙ、ｚ）の位
置を、 ｘ＝（ｄ−Kx）・｛Ｌ／Ｌ＋（ｄ−ｅ）−１｝＋ｄ ｙ＝Ky・Ｌ／Ｌ＋（ｄ−ｅ） ｚ＝Kz・ｒ ｄ、ｅは１対の撮像出力それぞれでの点ＧのＸ
軸方向の距離データ Ｌは１対の撮像手段のＸ軸方向の間隔 Kx、Kyは１対の撮像手段のレンズ倍率、 置
などに基づいて設定されるＸ軸方向、Ｙ軸方向の
係数 ｒは１対の撮像出力中での点Ｇの走査線番号 Kzは走査線の本数、幅およびレンズ倍率によ
り定まる係数 の四則演算から求め、前記立体の表面の各位置を
算出して測定することを特徴とする立体計測方法
である。

〔作用〕

そして、各測定器の投光手段により立体を囲む
ようにして立体の周面に垂直方向の十分な長さの
スリツト光が照射されるとともに、各測定器を移
動することなく各スリツト光の照射位置が左右方
向に移動する。

さらに、各測定器の１対の撮像手段により各ス
リツト光の照射部分が投光手段の左、右の２方向
からそれぞれ撮像され、この撮像により得られた
各１対の撮像出力中のスリツト光の位置情報にも
とづく簡単な四則演算により、各スリツト光の照
射部分の位置が算出されて立体の表面の各位置が
算出して測定される。

〔実施例〕

つぎに、この発明を、その１実施例を示した図
面とともに詳細に説明する。

まず、計測装置を示した第１図において、１は
基台、２は基台１に載置された水平な支持台、３
は支持台２に載置された被測定用の立体、４ａ，
４ｂ，４ｃ，４ｄは基台１の四隅にそれぞれ立設
された４本の支柱であり、支柱４ａ，４ｃの内側
面が立体３を介して対向するとともに、支柱４
ｂ，４ｄの内側面が立体３を介して対向してい
る。

５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄは固定部材６ａ，６
ｂ，６ｃ，６ｄを介して支柱４ａ〜４ｄそれぞれ
の上端部に取付けられて固定された４個の非接触
測定器、７は各測定器５ａ〜５ｄにそれぞれ設け
られた投光手段、８α，８βは投光手段７の左、
右側にそれぞれ設けられた１対の撮像手段であ
り、CCD型エリアイメージセンサなどの２次元
センサ装置からなる。

そして各測定器５ａ〜５ｄの投光手段７および
両撮像手段８α，８βは第２図に示すように構成
され、同図において、１０ａは線状のスリツト付
きキセノンランプなどからなり線状のスリツト光
を出力する光源、１０ｂは光源１０ａからのスリ
ツト光の長さを長くする凸面筒レンズなどからな
る拡張レンズ、１０ｃは回転自在の反射鏡であ
り、支持台２に直角方向の線状のスリツト光を左
右方向に移動自在に立体３の表面に照射する。

１１αa，１１βaはそれぞれ受光素子である
CCDを縦Ｍ行、横Ｎ列の２次元マトリツクス状
に配列して形成された撮像センサ、１１αb，１
１βbは立体３の表面の反射光を両撮像センサ１
１αa，１１βaにそれぞれ結像する集光レンズで
あり、撮像センサ１１αa、レンズ１１αbにより
一方の撮像手段８αが形成され、撮像センサー１
１βa、レンズ１１βbにより他方の撮像手段８β
が形成されている。

ところで計測位置をXYZの三次元座標系で説
明するため、第２図に示すように、レンズ１１
αb，１１βbの中心点を結ぶ第１図の左右方向を
Ｘ軸方向にとるとともに、投光手段７から立体３
へのスリツト光の照射方向、照射されたスリツト
光に並行な第１図の上下方向をＹ、Ｚ軸方向それ
ぞれにとるとる。

そしてスリツト光の長さが立体３の高さより十
分長く設定されるとともに、両撮像手段８α，８
βは、立体３のスリツト光の照射部分を重複して
撮像するように撮像視野が固定設定されている。

また、反射鏡１０ｃは図外の回転制御手段によ
り回転制御され、反射鏡１０ｃが回転することに
より、投光手段７のスリツト光の照射位置が、両
撮像手段８α，８βの重複視野内で、計測方向に
直角方向すなわちＸ軸方向に可変し、このとき立
体３のスリツト光照射部分もＸ軸方向に移動す
る。

すなわち、第２図のスリツト光Ｓが両撮像手段
８α，８βの重複視野内で、Ｘ軸方向に順次に変
化する。

そして両撮像手段８α，８βの撮像センサ１１
αa，１１βaにより、立体３の測定器５ａ〜５ｄ
毎のスリツト光の照射部分がそれぞる撮像され、
このとき両撮像センサ１１αa，１１βaの撮像面
Fα，Fβには、たとえば第３図ａ，ｂそれぞれに
示すように、縦方向にスリツト光像Sα，Sβが結
像し、両撮像面Fα，Fβはスリツト光像Sα，Sβの
部分のみが明るくなる。

さらに、両撮像センサ１１αa，１１βaの各１
列の受光素子の受光出力により、両撮像センサ１
１αa，１１βaの各１走査線の撮像出力が形成さ
れるとともに、前記各走査線の撮像出力が両撮像
手段８α，８βから順次に出力される。

なお、第３図ａ，ｂの横方向がＸ軸方向に対応
するとともに、縦方向がＺ軸方向に対応し、同図
ａの横方向の線A₁，…，Am，Am₊₁，Am₊₂，
Am₊₃，…，Anが撮像センサ１１αaの第１ない
し第Ｎ走査線を示すとともに、同図ｂの横方向の
線B₁，…，Bm，Bm₊₁，Bm₊₂，Bm₊₃，…，Bn
が撮像センサ１１βaの第１ないし第Ｎ走査線を
示し、両センサ１１αa，１１βaは各走査線の撮
像出力が同一タイミングで順次に読出される。

そして各測定器５ａ〜５ｄそれぞれの両撮像セ
ンサ１１αa，１１βaから読出されたアナログの
１対の撮像出力は、第４図に示す電子計算機１２
に設けられた測定器５ａ〜５ｄ毎の画像処理手段
にそれぞれ入力される。

この、各画像処理手段は第５図に示すように構
成され、同図において、１３はクロツク信号を発
生するクロツク回路、１４α，１４βは１対の信
号処理回路であり、両撮像手段８α，８βの撮像
センサ１１αa，１１βaから順次に出力される各
走査線のアナログ撮像出力を前記クロツク信号の
タイミングでそれぞれ取り込むとともに、所定の
スライスレベルでスライスし、スリツト光像Sα，
Sβの部分のみハイレベルになるデジタル画像信
号を形成する。

１５α，１５βは１対のアドレスカウンタであ
り、クロツク信号のタイミングで両撮像センサ１
１αa，１１βaの各走査線左端部の基準点の位置
からスリツト光像Sα，Sβによつて両処理回路１
４α，１４βのデジタル画像信号がハイレベルパ
ルスになる点までの両撮像センサ１１αa，１１
βaの１対の撮像出力中での距離をそれぞれカウ
ントし、１対の撮像出力それぞれにおける照射部
分の各点のＸ軸方向の距離データをそれぞれ出力
する。

１６は演算回路であり、両カウンタ１５α，１
５βから同時に入力されたＸ軸方向の１対の距離
データ、クロツク信号のカウントにより得られる
走査線の番号と予め設定された走査線の幅とから
なるスリツト光照射部分の各点のＺ軸方向のデー
タなどのスリツト光の位置情報にもとづく後述の
四則演算から、スリツト光照射部分の各点の三次
元座標系での位置を算出する。

１７は演算回路１６により算出された照射部分
の各点の座標位置を記憶する記憶部、１９は処理
回路１４α，１４β、カウンタ１５α，１５β、
演算回路１６、記憶部１７からなる画像処理手
段、２０は表示条件設定部、２１は認識回路であ
り、設定部２０に設定された条件にもとづき、記
憶部１７に記憶された各点の座標位置から立体３
の寸法、表面状態、形状などを識別するととも
に、記憶部１７に記憶された各点の座標位置およ
び識別した寸法、表面状態、形状などの表示信号
を第４図の表示手段２２に出力する。

そして第２図に示すように投光手段７から線状
のスリツト光が照射されるとともに、該スリツト
光の照射部分が投光手段７の左、右側の撮像手段
８α，８βにより２方向から撮像され、両撮像手
段８α，８βにたとえば第３図ａ，ｂのスリツト
光像Sα，Sβがそれぞれ結像する。

さらに、撮像手段８αの撮像センサ１１αaか
ら処理回路１４αに、第１走査線A₁ないし第Ｎ
走査線Anの撮像出力が順次に出力され、たとえ
ば第６図ａに示すように、撮像センサ１１αaか
ら処理回路１４αに第NMいし第Ｍ＋３走査線
Am，Am₊₁，Am₊₂，Am₊₃の撮像出力が順次に
出力されると、このとき同一タイミングで撮像手
段８βの撮像センサ１１βaから処理回路１４β
に、第７図ａに示すように第Ｍないし第Ｍ＋３走
査線Bm，Bm₊₁，Bm₊₂，Bm₊₃の撮像出力が順
次に出力される。

そして両処理回路１４α，１４βにより、両撮
像センサ１１αa，１１βaからの走査線毎のアナ
ログの撮像出力がスライスレベルｌで順次スライ
スされ、このときレベルｌがスリツト光像Sα，
Sβの部分のみを抽出するレベルに設定されてい
るため、第６図ｂ、第７図ｂに示すように、各走
査線出力中のスリツト光像Sα，Sβの部分のみが
抽出されて両撮像手段８α，８βの撮像出力がデ
ジタル変換される。

そして両処理回路１４α，１４βのデジタル信
号が両カウンタ１５α，１５βにそれぞれ入力さ
れ、カウンタ１５α，１５βは第６図ｃ、第７図
ｃに示すように、各走査線の左端の基準点d₀のタ
イミングで基準点パルスをそれぞれ形成するとと
もに、各基準点パルスにもとづき、基準点d₀から
各走査線出力中でのスリツト光のＸ軸方向の位置
am、am₊₁、am₊₂、am₊₃および、bm、bm₊₁、
bm₊₂、bm₊₃それぞれまでの距離Dam、Dam₊₁、
Dam₊₂、Dam₊₃および、Dbm、Dbm₊₁、
Dbm₊₂、Dbm₊₃をカウントし、スリツト光像Sα
のＸ軸方向の距離データおよびスリツト光像Sβ
のＸ軸方向の距離データを演算回路１６に出力す
る。

つぎに、演算回路１６の演算について説明す
る。

いま、説明を簡単にするため、両撮像手段８
α，８βの撮像視野が完全に等しく、かつ撮像視
野の左端がＺ軸に一致するように設定され、第８
図に示すように、ある時点のスリツト光Ｓの照射
部分の点Ｇ（ｘ、ｙ、ｚ）の光が、両撮像手段８
α，８βのレンズ１１αb，１１βbの中心点Ｐ
（ａ、ｏ、ｚ）、Ｑ（ｂ、ｏ、ｚ）をそれぞれ介し
て結像したとすると、その結像点と中心点Ｐ（ａ、
ｏ、ｚ）、Ｑ（ｂ、ｏ、ｚ）を結ぶ線分それぞれが
Ｙ軸の立体（被測定体）側の任意の点ｃを通る
XZ平面と交差する点Ｕ（ｄ、ｃ、ｚ）、Ｖ（ｅ、
ｃ、ｚ）を設定することにより、点Ｇ（ｘ、ｙ、
ｚ）は、点Ｐ（ａ、ｏ、ｚ）、Ｕ（ｄ、ｃ、ｚ）を
通る線分と、点Ｑ（ｂ、ｏ、ｚ）、Ｖ（ｅ、ｃ、ｚ）
を通る線分との交点として求まる。

そして点Ｐ（ａ、ｏ、ｚ）、Ｑ（ｂ、ｏ、ｚ）、Ｕ
（ｄ、ｃ、ｚ）、Ｖ（ｅ、ｃ、ｚ）の値にもとづぎ、
点Ｇ（ｘ、ｙ、ｚ）のＸ、Ｙ軸成分ｘ、ｙは、つ
ぎの(1)、(2)式から求まる。

ｘ＝ａ・ｅ−ｂ・ｄ／ａ−ｂ−ｄ＋ｅ＝ｂ・ｄ−ａ・ｅ
／ｂ−ａ＋ｄ−ｅ ＝（ｄ−ａ）｛ｂ−ａ／ｂ−ａ＋ｄ−ｅ−１｝＋ｄ ……(1)式 ｙ＝ｃ・（ａ−ｂ）／ａ−ｂ−ｄ＋ｅ＝ｃ・（ｂ−
ａ）／ｂ−ａ＋ｄ−ｅ ……(3) ところで(1)、(2)式中のｂ−ａは両撮像センサ１
１αa，１１βaの間隔Ｌであり、ｄ、ｅはレンズ
１１αb，１１βbの倍率および撮像手段８α，８
βの取付位置により決まる撮像面Fα，Fβ上での
点Ｇ（ｘ、ｙ、ｚ）のＸ軸方向の位置である。

そしてｄ、ｅは撮像面Fα，Fβそれぞれの左端
の基準点d₀からの距離データとして求められる。

またａ、ｂ、ｃは撮像手段８α，８βの取付位
置、レンズ１１αb，１１βbの倍率などにより設
定される定数である。

そこで、レンズ１１αb，１１βbの倍率、撮像
手段８α，８βの位置などにもとづいて設定され
るＸ、Ｙ軸方向の定数ａ、ｃをKx、Kyとするこ
とにより、点Ｇ（ｘ、ｙ、ｚ）のＸ、Ｙ軸成分ｘ、
ｙはつぎの(3)、(4)式の演算から求まる。

ｘ＝（ｄ−Kx）・｛Ｌ／Ｌ＋（ｄ−ｅ）−１｝＋ｄ ……(3)式 ｙ＝Ky・Ｌ／Ｌ＋（ｄ−ｅ） ……(4)式 一方、点Ｇ（ｘ、ｙ、ｚ）のＺ軸成分ｚは、点
Ｇ（ｘ、ｙ、ｚ）の走査線番号ｒと、走査線の本
数、幅およびレンズ１１αb，１１βbの倍率によ
り定まる係数Kzとにもとづき、つぎの(5)式の演
算から求まる。

ｚ＝Kz・ｒ ……(5)式 そして(3)、(4)式中のKx、Ky、Ｌおよび(5)式中
のKzが定数になり、ｄ、ｅがカウンタ１５α，
１５βから入力されたＸ軸方向の１対の距離デー
タとして得られ、かつ、ｒがクロツク信号のカウ
ントにより得られるため、演算回路１６は、予め
設定されたKx、Ky、Kz、Ｌのデータからなる
設定位置情報と、カウンタ１５α，１５βから入
力された１対の距離データおよびクロツク信号の
カウントデータにより形成される検出位置情報と
からなるスリツト光の位置情報にもとづき、(3)な
いし(5)式の四則演算を行なつて点Ｇ（ｘ、ｙ、ｚ）
の位置を算出し、該算出をスリツト光照射部分の
各点に対して施すことにより、スリツト光照射部
分の各点の第２図のXYZ座標系での三次元求位
置を算出する。

なお、両撮像手段８α，８βの視野が完全に重
複しないときおよび、撮像面Fα，Fβの縦、横と
Ｚ、Ｘ軸とがずれている場合などには、各式の値
に、ずれ量に相当する補正係数を掛けてスリツト
光照射部分の各点の三次元位置を算出する。

そして各測定器５ａ〜５ｄの投光手段７に設け
られた反射鏡１０ｃが同一タイミングで同一量だ
け回転し、測定器５ａ〜５ｄのスリツト光照射位
置がそれぞれ可変すると、測定器５ａ〜５ｄそれ
ぞれのスリツト光照射部分が、測定器５ａ〜５ｄ
それぞれの両撮像手段８α，８βの重複視野内で
Ｘ軸方向に移動し、このとき前述の四則演算にも
とづき、測定器５ａ〜５ｄそれぞれの各スリツト
光照射部分の各点の三次元位置が算出され、これ
により立体３の表面の各点の位置が算出されて測
定される。

ところで第２図のXYZ座標系の原点が測定器
５ａ〜５ｄ毎に異なる点になるため、前述の演算
により算出された各点の位置の値が、測定器５ａ
〜５ｄ毎に異なる基準点からの値になる。

したがつて、測定器５ａ〜５ｄ毎の算出された
各点の位置の値を、測定器５ａ〜５ｄによらず一
定の基準の三次元座標系での値に変換する必要が
ある。

そして各点の位置の値を基準の三次元座標系で
の値に変換するために、実際は、支持台２上の各
測定器５ａ〜５ｄにより撮像される位置に、計測
基準用ゲージを立設し、該ゲージを用いたつぎの
手法により測定が行なわれる。

すなわち、測定前に、撮像された計測基準用ゲ
ージの目盛の位置などから、測定器５ａ〜５ｄそ
れぞれの三次元座標源の原点の位置を測定し、各
測定器５ａ〜５ｄの三次元座標系の原点の位置
を、たとえば立体３の内部などに予め設定した基
準の三次元座標系の位置に変換するための座標変
換用のＸ、Ｙ、Ｚ軸成分をそれぞれ算出する。

そして測定器５ａ〜５ｄそれぞれの三次元座標
系で算出された各点の位置のＸ、Ｙ、Ｚ軸成分の
値に、前述の座標変換用の各軸成分を加算または
乗算し、各点の位置の値を、基準の三次元座標系
での値に変換する。

以上により、立体３の表面の各点の３次元位置
が算出して測定される。

そして測定された立体３の表面の各点の座標位
置にもとづき、認識回路２１により、立体３の寸
法、表面状態、形状などが識別されるとともに、
設定部２０の設定条件にもとづき、測定された各
点の座標位置および、識別された立体３の寸法、
表面状態、形状などが表示手段２２に表示され
る。

したがつて、前記実施例によると、測定器５ａ
〜５ｄ毎のスリツト光照射部分が測定器５ａ〜５
ｄそれぞれの両撮像手段８α，８βの重複視野内
で左右方向に移動するとともに、各スリツト光照
射部分が測定器５ａ〜５ｄそれぞれの両撮像手段
８α，８βにより２方向から撮像される。

さらに、各測定器５ａ〜５ｄの１対の撮像出力
が入力される計算機１２により、スリツト光照射
部分毎の各１対の撮像出力中でのスリツト光の位
置情報にもとづく簡単な四則演算から、各スリツ
ト光の照射部分の各点、すなわち立体３の各点の
位置が算出して測定される。

そして、各測定器５ａ〜５ｄを動かさずにそれ
ぞれのスリツト光の照射位置を左右方向に移動し
て測定位置が変えられ、しかも、立体３の表面の
各点が簡単な四測演算により算出して測定される
ため、機械的な移動なく測定位置を迅速に変えな
がら従来の非接触法より短時間で算出して立体３
の表面の各位置が測定される。

また、各スリツト光の照射部分を各１対の撮像
手段８α，８βによりそれぞれ左、右の２方向か
ら撮像して１対の撮像出力を得るため、たとえ
ば、各測定器５ａ〜５ｄを１個の投光手段と１台
のテレビカメラなどにより形成し、各スリツト光
の照射部分に対して１つの撮像出力を得る方法に
比して、投光手段７の照射光軸と両撮像手段８
α，８βそれぞれとのなす角を小さくし、立体３
が小さい場合および立体３の表面に凸凹がある場
合にも精度よく測定が行なえる。

さらに、非接触で測定を行なうため、立体３が
ゴム等の柔軟で変形し易いものであつても、容易
に計測することができる。

そして、線状のスリツト光を使用しているた
め、エネルギー密度が低く、弱い光でもよく、照
明を使用したときの照明熱により、立体３に歪が
生じたりすることもない。

なお、各測定器５ａ〜５ｄの両撮像手段８α，
８βは、MOS型イメージセンサや撮像管等によ
り構成してもよい。

また、投光手段７から照射するスリツト光の照
射位置は、反射鏡１０ｃを回転することなく、た
とえば磁気的な作用により可変することも可能で
ある。

さらに、基台１の周部に設ける支柱および測定
器の個数は２個以上であればよいのは勿論であ
る。

〔発明の効果〕 以上のように、この発明の立体計測方法による
と、基台１上の支持台２に載置された被測定用の
立体３を囲むように支柱４ａ〜４ｄに取付けた複
数の非接触測定器５ａ〜５ｄを設け、各測定器５
ａ〜５ｄの投光手段７から立体３にその高さによ
り長い垂直方向の線状のスリツト光を左右方向に
移動自在に照射し、各スリツト光の照射部分を各
測定器５ａ〜５ｄの１対の撮像手段８α，８βに
より撮像し、この撮像により得られた各１対の撮
像出力中でのスリツト光の位置情報にもとづき、
垂直方向、左右方向をＺ軸方向、Ｘ軸方向とする
３次元座標での照射部分の点Ｇ（ｘ、ｙ、ｚ）の
位置を、 ｘ＝（ｄ−Kx）・｛Ｌ／Ｌ＋（ｄ−ｅ）−１｝＋ｄ ｙ＝Ky・Ｌ／Ｌ＋（ｄ−ｅ） ｚ＝Kz・ｒ ｄ、ｅは１対の撮像出力それぞれでの点ＧのＸ
軸方向の距離データ Ｌは１対の撮像手段のＸ軸方向の間隔 Kx、Kyは１対の撮像手段のレンズ倍率、位置
などに基づいて設定されるＸ軸方向、Ｙ軸方向の
係数 ｒは１対の撮像出力中での点Ｇの走査線番号 Kzは走査線の本数、幅およびレンズ倍率によ
り定まる係数 の簡単な四則演算から求め、精度よく非接触測定
することができるものである。

【図面の簡単な説明】

図面はこの発明の立体計測方法の１実施例を示
し、第１図は計測装置の斜視図、第２図は第１図
の非接触測定器の分解斜視図、第３図ａ，ｂは第
２図の両撮像センサの撮像画面の正面図、第４図
は回路ブロツク図、第５図は第４図の電子計算機
内の画像処理手段のブロツク図、第６図ａ〜ｃ、
第７図ａ〜ｃは第５図の動作説明用タイミングチ
ヤート、第８図は第５図の演算回路の演算説明用
の模式図である。 ３……立体、５ａ〜５ｄ……非接触測定器、７
……投光手段、８α，８β……撮像手段。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 基台上の水平な支持台に被計測用の立体を載
   置し、前記基台の周囲に複数の支柱を立設し、前
   記各支柱それぞれに前記立体より長い垂直方向の
   線状のスリツト光を左右方向に可変自在に前記立
   体に照射する投光手段および前記立体のスリツト
   光の照射部分を前記投光手段の左、右の２方向か
   ら撮像する１対の撮像手段を有する非接触測定器
   を固定し、前記各測定器それぞれの前記投光手段
   の照射位置を可変して前記両撮像手段の重複視野
   内で前記照射部分を左右方向に移動するととも
   に、前記各測定器それぞれの１対の撮像出力中の
   スリツト光の位置情報にもとづき、前記垂直方
   向、前記左右方向をＺ軸方向、Ｘ軸方向とする３
   次元座標での前記照射部分の点Ｇ（ｘ、ｙ、ｚ）
   の位置を、 ｘ＝（ｄ−Kx）・｛Ｌ／Ｌ＋（ｄ−ｅ）−１｝＋ｄ ｙ＝Ky・Ｌ／Ｌ＋（ｄ−ｅ） ｚ＝Kz・ｒ ｄ、ｅは１対の撮像出力それぞれでの点ＧのＸ
   軸方向の距離データ Ｌは１対の撮像手段のＸ軸方向の間隔 Kx、Kyは１対の撮像手段のレンズ倍率、位置
   などに基づいて設定されるＸ軸方向、Ｙ軸方向の
   係数 ｒは１対の撮像出力中での点Ｇの走査線番号 Kzは走査線の本数、幅およびレンズ倍率によ
   り定まる係数 の四則演算から求め、 前記立体の表面の各点の位置を算出して測定す
   ることを特徴とする立体計測方法。