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JPH047891A - Apparatus and method for drawing - Google Patents

Apparatus and method for drawing

Info

Publication number
JPH047891A
JPH047891A JP2107558A JP10755890A JPH047891A JP H047891 A JPH047891 A JP H047891A JP 2107558 A JP2107558 A JP 2107558A JP 10755890 A JP10755890 A JP 10755890A JP H047891 A JPH047891 A JP H047891A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
drawn
fluid
constant
holding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2107558A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tasaku Kiyono
太作 清野
Michihiro Watanabe
渡邊 道弘
Kazuyasu Satou
和恭 佐藤
Kohei Yabuno
藪野 光平
Kenichi Takahashi
健一 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Techno Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Techno Engineering Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Techno Engineering Co Ltd
Priority to JP2107558A priority Critical patent/JPH047891A/en
Publication of JPH047891A publication Critical patent/JPH047891A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ハイブリッドIC等に用いられる厚膜抵抗体
、及びその他ペースト状の流体を、精密に基板上に印刷
するための製造装置に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a manufacturing apparatus for precisely printing thick film resistors used in hybrid ICs and other paste-like fluids on substrates. It is.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来の吐出方式の印刷装置は、実開平1−63170号
公報に記載のようにノズルと基板との間隔を保持するた
めのストッパ、乃至は間隔測定用のセンサがノズルと分
離した位置に装着されており、かつ吐出量の制御は一定
圧の空気圧を負荷することによりなされていた。
As described in Japanese Utility Model Application Publication No. 1-63170, a conventional jet printing device has a stopper for maintaining the distance between the nozzle and the substrate, or a sensor for measuring the distance installed in a position separate from the nozzle. In addition, the discharge amount was controlled by applying a constant air pressure.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記従来技術では、変位センサとノズルの位置が離れて
いるために基板上に周期の短い凹凸があると変位センサ
で検知した基板の高さとノズルの直下の基板の高さが異
なるため、ノズルと基板の間の間隔を一定に保つことが
できない。このためノズルから単位時間内に吐出される
ペーストの量、基板上の印刷幅が不安定となる問題があ
った。
In the above conventional technology, the position of the displacement sensor and the nozzle are far apart, so if there are irregularities with a short period on the substrate, the height of the substrate detected by the displacement sensor and the height of the substrate directly under the nozzle will be different. Unable to maintain constant spacing between substrates. Therefore, there was a problem that the amount of paste discharged from the nozzle within a unit time and the printing width on the substrate became unstable.

本発明は基板とノズルの間隔を一定に保ち、ノズルから
吐出されるペーストの量、基板上に印刷(描画)された
ペーストの断面形状を一定にすることを目的とする。
An object of the present invention is to maintain a constant distance between the substrate and the nozzle, and to make the amount of paste discharged from the nozzle and the cross-sectional shape of the paste printed (drawn) on the substrate constant.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記目的を達成するために、本願第1番目の発明は、変
位センサにより測定した被描画体の凹凸に関する情報を
一時記憶装置に保持し、これを被描画体固定用保持台(
及び/またはノズル及びセンサ保持体)の移動に伴って
順次読み出し、任意の点に対して変位センサの走査の一
定時間後にその点の直上に達するノズル及び/または被
描画体の位置を上下方向に制御し、被描画体とノズルと
の間隔を一定に保つようにしたものである。
In order to achieve the above object, the first invention of the present application stores information regarding the unevenness of the object to be drawn measured by a displacement sensor in a temporary storage device, and stores this information on a holding table for fixing the object to be drawn (
and/or the nozzle and/or sensor holder), and the position of the nozzle and/or object to be drawn is read out in the vertical direction, and the position of the nozzle and/or object to be drawn reaches directly above the arbitrary point after a certain period of time of scanning with the displacement sensor. The distance between the object to be drawn and the nozzle is kept constant.

本願第2番目の発明は、ノズルと導体膜を形成した被描
画体の間の静電容量、或いは電気抵抗値の計測を行い、
ノズル直下の被描画体の凹凸を直接行うことにより被描
画体とノズルの間隔を一定に保つようにしたものである
The second invention of the present application measures the capacitance or electrical resistance between the nozzle and the object to be drawn on which a conductive film is formed,
The distance between the object to be drawn and the nozzle can be maintained constant by directly making the unevenness of the object to be drawn directly under the nozzle.

また本願第3番目の発明は、ノズルと被描画体の間隔を
両者の間を通過する光の量を検知することにより判定し
、被描画体とノズルの間隔を一定に保つようにしたもの
である。
Further, the third invention of the present application is such that the distance between the nozzle and the object to be drawn is determined by detecting the amount of light passing between the two, and the distance between the object to be drawn and the nozzle is kept constant. be.

本願第4番目の発明は、ノズルが被描画体との接触位置
で平衡になるように配置し、流体の吐出圧とノズルの位
置復元力のつり合いによって、吐出圧を一定にすること
によりノズルと被描画体の間隔を一定に保つようにした
ものである。
The fourth invention of the present application is such that the nozzle is arranged so as to be in equilibrium at the position of contact with the object to be drawn, and the discharge pressure is kept constant by balancing the discharge pressure of the fluid and the positional restoring force of the nozzle. The distance between objects to be drawn is kept constant.

また、本願第5番目の発明は、流体の保持容器の重量減
少率から単位時間当たりの流体吐出量を判定することに
より、吐出量を制御して一定に保つようにしたものであ
る。
Further, the fifth invention of the present application is such that the discharge amount is controlled and kept constant by determining the fluid discharge amount per unit time from the weight reduction rate of the fluid holding container.

本願第6番目の発明は、圧電素子の伸縮により、これに
装着したピストンを駆動することで、流体の吐出量を制
御して一定に保つようにしたものである。
The sixth invention of the present application is such that the amount of fluid discharged is controlled and kept constant by driving a piston attached to the piezoelectric element through expansion and contraction of the piezoelectric element.

本願第7番目の発明はノズルの吐出口側面にガイドを設
けることにより、印刷時の流体の断面形状を一定にする
ようにしたものである。
According to the seventh aspect of the present invention, a guide is provided on the side surface of the discharge port of the nozzle, so that the cross-sectional shape of the fluid during printing is made constant.

更に本願第8番目の発明は、抵抗体を高精度、かつ−完
断面形状で形成することにより、発熱量のばらつきの小
さい高画質の感熱ヘッドを製造し得るようにしたもので
ある。
Furthermore, the eighth invention of the present application is to form a resistor with high precision and a perfect cross-sectional shape, thereby making it possible to manufacture a high-quality thermal head with small variations in heat generation amount.

尚、記憶装置はシフトレジスタと周期可変の同期装置を
備え、かつノズルに駆動制御系と接続したものが望まし
い。
It is preferable that the storage device is equipped with a shift register and a synchronizer with a variable period, and is connected to a drive control system to the nozzle.

また、被描画体固定保持台を移動させるだけでなく、或
いは被描画体固定保持台の移動に代えて、ノズル及びセ
ンサを移動させることも本願発明の範囲であり、要する
に被描画体とノズル及びセンサとが相対的に移動するも
のであれば良い。
Furthermore, it is within the scope of the present invention to move the nozzle and the sensor in addition to moving the drawing object fixing and holding table, or instead of moving the drawing object fixing and holding table. Any device that moves relatively to the sensor may be used.

〔作用〕 ノズルと変位センサは被描画体の移動方向に直列に、か
つ被描画体表面の任意の印刷(描画)点に先に変位セン
サが接触した後にノズルがその上を通過するように並べ
られている。変位センサにより検出された被描画体の凹
凸のデータは一時記憶装置に格納され、変位センサの通
過した後、ノズルがその点の直上に到達した時点で読み
出され、そのデータに従ってノズル及び/または被描画
体が上下動する。それにより被描画体とノズルの間隔は
一定に保たれ、安定したパターンで流体を被印刷物上に
印刷することが可能となる。
[Operation] The nozzle and the displacement sensor are arranged in series in the moving direction of the object to be drawn, and in such a way that the displacement sensor first comes into contact with an arbitrary printing (drawing) point on the surface of the object to be drawn, and then the nozzle passes over it. It is being Data on the unevenness of the object to be drawn detected by the displacement sensor is stored in a temporary storage device, and is read out when the nozzle reaches directly above the point after passing the displacement sensor, and the nozzle and/or The object to be drawn moves up and down. As a result, the distance between the object to be printed and the nozzle is kept constant, and it becomes possible to print the fluid on the object in a stable pattern.

尚、被描画体を上下させる場合にはセンサル被描画体間
隔が凹凸以外の変動(つまり被描画体の上下動)にも支
配されることになり得るので、このような場合には被描
画体上下動の影響を削除する補正を制御装置内で処理す
るか、或いはセンサも被描画体の上下動と同時に同方向
・同距離上下動させるかすれば簡便に対処可能である。
In addition, when moving the object to be drawn up and down, the sensor distance between objects to be drawn may be affected by fluctuations other than unevenness (that is, vertical movement of the object to be drawn). This can be easily handled by processing a correction to eliminate the influence of vertical movement within the control device, or by moving the sensor vertically in the same direction and distance at the same time as the vertical movement of the object to be drawn.

また、ノズルと導体膜を形成した被描画物との間の静電
容量、或いは電気抵抗を測定し、これを一定にするよう
にノズル、或いは基板(被描画物)を上下動させること
により被描画物とノズルの間隔は一定に保たれ、安定し
たパターンで流体を被描画物上に印加することが可能と
なる。
In addition, the capacitance or electrical resistance between the nozzle and the object to be drawn on which a conductive film is formed is measured, and the nozzle or the substrate (the object to be drawn) is moved up and down to keep it constant. The distance between the object to be drawn and the nozzle is kept constant, making it possible to apply the fluid onto the object in a stable pattern.

また、ノズルと被描画物との間隔を、通過する光の量を
検知することにより判定し、これを一定にするようにノ
ズル、或いは基板(被描画物)を上下動させることによ
りノズルと被描画物の間隔を一定に保ち、安定したパタ
ーンで流体を被描画物上に印刷することが可能となる。
In addition, the distance between the nozzle and the object to be drawn is determined by detecting the amount of light passing through it, and by moving the nozzle or the substrate (the object to be drawn) up and down to keep the distance constant, the distance between the nozzle and the object to be drawn is determined. It becomes possible to keep the interval between the objects to be drawn constant and print the fluid in a stable pattern on the object to be drawn.

また、ノズルが被描画物との接触位置で平衡になるよう
に配置し、流体の吐出圧とノズルの位置復元力のつり合
いによって、吐出圧を一定にすることでノズルと被描画
物の間隔を一定に保ち、安定したパターンで流体を被描
画物上に印刷することが可能となる。
In addition, the nozzle is arranged so that it is in equilibrium at the contact position with the object to be drawn, and the distance between the nozzle and the object to be drawn is maintained by keeping the discharge pressure constant by balancing the discharge pressure of the fluid and the positional restoring force of the nozzle. It becomes possible to keep the fluid constant and print a stable pattern on the object.

また、流体の保持容器の重量減少率から単位時間当たり
の流体吐出量を判定し、これを一定にするよう吐出量を
調整することで、安定したパターンで流体を被描画物上
に印刷することが可能となる。
In addition, by determining the amount of fluid discharged per unit time from the weight reduction rate of the fluid holding container and adjusting the amount of fluid discharged to keep it constant, the fluid can be printed on the object in a stable pattern. becomes possible.

また、圧電素子の伸縮によりこれに装着したピストンを
駆動することで、流体の吐出量を調整し、安定したパタ
ーンで流体を被描画物上に印刷することが可能となる。
Furthermore, by driving a piston attached to the piezoelectric element by expanding and contracting it, it is possible to adjust the amount of fluid discharged and print the fluid on the object in a stable pattern.

また、ノズルの吐出口側面に設けたガイドにより印刷時
の流体の断面形状を一定にし、安定したパターンで被描
画物上に印刷することが可能となる。
In addition, the guide provided on the side of the nozzle's discharge port makes it possible to keep the cross-sectional shape of the fluid constant during printing, thereby making it possible to print a stable pattern on the object to be drawn.

また、抵抗体を高精度、かつ−置所面形状で形成するこ
とにより、発熱量のばらつきの小さい高画質の感熱ヘッ
ドを製造することが可能となる。
In addition, by forming the resistor with high precision and a uniform surface shape, it is possible to manufacture a high-quality thermal head with small variations in heat generation amount.

〔実施例〕〔Example〕

以下1本発明の実施例を図面に従って説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本実施例の第1実施例の説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of a first embodiment of this embodiment.

符号1はノズル、符号2はペースト保持容器であり、ペ
ースト3はペースト保持容器2内を加圧することにより
ノズル1先端開口より吐出され。
Reference numeral 1 is a nozzle, and reference numeral 2 is a paste holding container. Paste 3 is discharged from the opening at the tip of the nozzle 1 by pressurizing the inside of the paste holding container 2.

被描画体たる基板10上に印刷される。基板表面10の
凹凸は接触子5の上下方向の変位により検知され、差動
変圧器6において電位差に変化された変位データはA/
Dコンパ−タフにおいてディジタルデータとなり、CP
U8によりディジタルメモリ9の所定の番地に格納され
る。
It is printed on a substrate 10 which is an object to be drawn. The unevenness of the substrate surface 10 is detected by the vertical displacement of the contactor 5, and the displacement data converted into a potential difference in the differential transformer 6 is A/
It becomes digital data in D converter and becomes CP
The data is stored at a predetermined address in the digital memory 9 by U8.

基板固定用保持台11に固定された基板10は図面左方
向に速さVで移動するが、CP U’8は接触子5.差
動変圧器6により検出されたデータを順次ディジタルメ
モリ9に格納し、■に応じてノズルの直上の基板の凹凸
データをディジタルメモリ9から読み出してステップモ
ータ4に対してノズル1の変位量を出力し、基板10と
ノズル1の間隔が常時一定になるよう制御する。こうし
て接触子5で検知した凹凸箇所にノズル1先端が到達す
るとノズル1が上下に該凹凸に追従するようになる。
The substrate 10 fixed to the substrate fixing holder 11 moves to the left in the drawing at a speed V, but the CPU'8 is moved by the contactor 5. The data detected by the differential transformer 6 is sequentially stored in the digital memory 9, and in accordance with (2), the unevenness data of the board directly above the nozzle is read out from the digital memory 9, and the amount of displacement of the nozzle 1 is calculated with respect to the step motor 4. The distance between the substrate 10 and the nozzle 1 is controlled to be constant at all times. When the tip of the nozzle 1 reaches the uneven portion detected by the contactor 5, the nozzle 1 follows the unevenness up and down.

ディジタルメモリ9から読み出されたデータはそのの時
点で廃棄され、その記憶領域は新しく接触子5.差動変
圧器6で検出されたデータが格納される。
The data read from the digital memory 9 is discarded at that point, and its storage area is replaced by a new contact 5. Data detected by the differential transformer 6 is stored.

本実施例によれば、CPU8により基板凹凸データの記
憶装置へ格納、読み出し、ノズルの変位制御が行われる
ため、基板移動速度V、ペースト印刷パターン等の印刷
パラメータの変更に対して柔軟に対応し得るという効果
がある。
According to this embodiment, the CPU 8 stores and reads the substrate unevenness data in the storage device and controls the nozzle displacement, so it can flexibly respond to changes in printing parameters such as the substrate movement speed V and the paste printing pattern. It has the effect of gaining.

第2図は本発明の第2の実施例の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a second embodiment of the present invention.

本実施例は、実施例1のCPU8とディジタルモリ9を
シフトレジスタ12と周波数可変のクロック13に置き
替えたもので、ビット数nのA/Dコンバータ12から
の出力はシフトレジスタ12の最初のnビット部分に格
納され、次にクロックのカウントごとに図中左方向にデ
ータがシフトし、最後のnビット部分のデータがデータ
変換器(D/Aコンバータ)14によりノズル1の変位
量が適切な値になるよう変換され、ステップモータ4に
対して出力される。
In this embodiment, the CPU 8 and digital memory 9 of the first embodiment are replaced with a shift register 12 and a variable frequency clock 13. The data is stored in the n-bit part, and then the data is shifted to the left in the figure at every clock count, and the data in the last n-bit part is used by the data converter (D/A converter) 14 to determine the appropriate displacement amount of the nozzle 1. This value is converted to a value that is output to the step motor 4.

クロック13の周波数は、接触子5.差動変圧器6によ
り基板の凹凸を検出した、ちょうどその位置の直上にノ
ズル1が到達したときに接触子5゜差動変圧器6で検出
したデータがシフトレジスタ12から読み出されるよう
に設定されており、基板の移動速度Vを変化させたとき
には、クロック13の周波数を変えることにより、これ
に対応する。
The frequency of the clock 13 is determined by the frequency of the contact 5. It is set so that the data detected by the contact 5° differential transformer 6 is read out from the shift register 12 when the nozzle 1 reaches just above the position where the unevenness of the board is detected by the differential transformer 6. Therefore, when the moving speed V of the substrate is changed, this is handled by changing the frequency of the clock 13.

本実施例によればCPUを必要としないため。According to this embodiment, a CPU is not required.

装置の制御系を簡単できる効果がある。This has the effect of simplifying the control system of the device.

第3図は本発明の第3実施例の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a third embodiment of the present invention.

本実施例ではくし歯状の電極15を形成した基板10上
に、絶縁性のペースト3aを印刷する場合を示す。
In this embodiment, a case is shown in which an insulating paste 3a is printed on a substrate 10 on which comb-shaped electrodes 15 are formed.

電極15の各々はスキャナ16に接続するように配線さ
れている。
Each of the electrodes 15 is wired to be connected to a scanner 16.

導電性を有するノズル1の直下にある電極15をスキャ
ナ16により選択して、この電極15とノズル1との静
電容量をLCRメータ17で計測したとき、ノズル1と
電極15との間隔dが一定の場合LCRメータ17の計
測値も一定の値を示すが、dが変化するとLCRメータ
17での静電容量の計測値も変化する。ゆえにノズル1
の移動に伴いスキャナ16の接続を切り換えて常にノズ
ル1と直下の電極15との静電容量を計測して測定値が
一定になるようにノズルlを上下動させれば、ノズル1
と基板10との間隔dを一定に保ったままでペースト3
aの印刷を行うことができる。
When the electrode 15 directly below the conductive nozzle 1 is selected by the scanner 16 and the capacitance between the electrode 15 and the nozzle 1 is measured by the LCR meter 17, the distance d between the nozzle 1 and the electrode 15 is When d is constant, the value measured by the LCR meter 17 also shows a constant value, but when d changes, the value measured by the LCR meter 17 also changes. Therefore nozzle 1
As the scanner 16 moves, the capacitance between the nozzle 1 and the electrode 15 immediately below it is constantly measured, and the nozzle l is moved up and down so that the measured value remains constant.
paste 3 while keeping the distance d between and the substrate 10 constant.
A can be printed.

なお電極15がくし歯状でなく、基板表面全体に形成さ
れている場合には、電極15と一箇所とノズル1間の静
電容量を計測することでノズル−基板間隔dの測定が可
能であり、スキャナ16は必要としない。
Note that if the electrode 15 is not comb-shaped but is formed on the entire substrate surface, the nozzle-substrate distance d can be measured by measuring the capacitance between the electrode 15, one location, and the nozzle 1. , the scanner 16 is not required.

本実施例によれば記憶装置を用いずにノズル直下の基板
10とノズル1との間隔を測定することが可能なため、
装置の構成を簡単にできる利点がある。
According to this embodiment, it is possible to measure the distance between the substrate 10 directly under the nozzle and the nozzle 1 without using a storage device.
This has the advantage of simplifying the configuration of the device.

第4図は本発明の第4実施例の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a fourth embodiment of the present invention.

本実施例では第3実施例においてノズルルミ極間の静電
容量を計測することによりノズル1と基板10の間隔の
変化を検出するのに対して、導通ペースト印刷時のノズ
ル1〜電極15間の電気抵抗を計測することによりノズ
ル1と基板10の間隔を検出する。
In this embodiment, the change in the distance between the nozzle 1 and the substrate 10 is detected by measuring the capacitance between the nozzle luminaires in the third embodiment, whereas the change in the distance between the nozzle 1 and the substrate 10 during printing of conductive paste is The distance between the nozzle 1 and the substrate 10 is detected by measuring electrical resistance.

本実施例では、基板の移動に伴いノズル1直下の電極1
5をスキャナ16により選択し、ノズル1と電極15と
の間の電気抵抗値を抵抗測定器18で測定する。測定値
が一定になるようにノズルを上下動させることにより、
ノズル1と基板10との間隔を一定に保ったままでペー
スト3bの印刷を行うことができる。電極15が基板表
面全体に形成されている場合には、電極15の一箇所と
ノズル1間の電気抵抗を計測することによりノズル−基
板間隔dの測定が可能であり、スキャナ16は必要とし
ない。
In this embodiment, as the substrate moves, the electrode 1 directly below the nozzle 1
5 is selected by the scanner 16, and the electrical resistance value between the nozzle 1 and the electrode 15 is measured by the resistance measuring device 18. By moving the nozzle up and down to keep the measured value constant,
The paste 3b can be printed while keeping the distance between the nozzle 1 and the substrate 10 constant. When the electrode 15 is formed on the entire substrate surface, the nozzle-substrate distance d can be measured by measuring the electrical resistance between one location of the electrode 15 and the nozzle 1, and the scanner 16 is not required. .

本実施例によれば記憶装置を用いずにノズル直下の基板
10とノズル1との間隔を測定することが可能なため、
装置の構成を簡単にできる利点がある。
According to this embodiment, it is possible to measure the distance between the substrate 10 directly under the nozzle and the nozzle 1 without using a storage device.
This has the advantage of simplifying the configuration of the device.

第5図、第6図は本発明の第5実施例の説明図である。5 and 6 are explanatory diagrams of a fifth embodiment of the present invention.

本実施例では、ノズル1とノズル1とは別に上下動する
発光部分と受光部分を備えており、ノズル1に取り付け
た遮光部22と基板10の間を通過する光量の変化から
ノズル1と基板10の間隔の変化を検知する方式を採っ
ている。
In this embodiment, the nozzle 1 is provided with a light-emitting part and a light-receiving part that move up and down separately from the nozzle 1. A method is used to detect changes in intervals of 10.

発光部分は光源部19と反射[21aとから成り、光源
としてはLED、若しくはレーザダイオード等を使用す
る。反射鏡21aは光源部19より出射した光を図中斜
線で示した光通過部23に導くように配置され、このう
ち遮光部22で遮られなかった光が反射鏡21bを経由
して受光部20に入射する。受光部20としてはフォト
トランジスタ、あるいはフォトダイオード等を用いこの
受光量を一定にするようにノズルを上下することにより
、基板10とノズル1の間隔を一定にする。
The light emitting part consists of a light source part 19 and a reflection part 21a, and an LED, a laser diode, or the like is used as the light source. The reflecting mirror 21a is arranged so as to guide the light emitted from the light source section 19 to the light passing section 23 indicated by diagonal lines in the figure, and the light that is not blocked by the light shielding section 22 passes through the reflecting mirror 21b and reaches the light receiving section. 20. The distance between the substrate 10 and the nozzle 1 is made constant by moving the nozzle up and down so that the amount of light received is constant using a phototransistor or a photodiode as the light receiving section 20.

本実施例によれば、印刷するペーストの種類に関係なく
、更に簡単な構成で装置を構成し得る利点を有する。
This embodiment has the advantage that the apparatus can be configured with a simpler configuration regardless of the type of paste to be printed.

第7図、第8図は本発明の第6実施例の説明図である。FIGS. 7 and 8 are explanatory diagrams of a sixth embodiment of the present invention.

本実施例では、ノズル1、及びペースト保持用器2は、
ノズル1が基板表面に接触する位置で平衡になるよう設
定された、アーム24.支点25゜カウンタウェイト2
6.支持棒27がら成る天びん装着されている。
In this embodiment, the nozzle 1 and the paste holding container 2 are as follows:
Arm 24 .set to balance at the position where the nozzle 1 contacts the substrate surface. Fulcrum 25° Counterweight 2
6. A balance consisting of a support rod 27 is mounted.

ペースト印刷時にはノズル1がらのペーストの吐出圧に
よりノズルが基板から浮き上がり、吐出圧を一定にする
ことによりノズルと基板の間隔を一定にする。間隔を任
意の値にするためには、吐出圧の調整により対応する。
During paste printing, the nozzle is lifted off the substrate due to the paste discharge pressure from the nozzle 1, and by keeping the discharge pressure constant, the distance between the nozzle and the substrate is kept constant. In order to set the interval to an arbitrary value, the discharge pressure is adjusted.

ノズルの荷重バランスをとるためには、天びんの替わり
にバネによりノズルを支持することも有効である。
In order to balance the load on the nozzle, it is also effective to support the nozzle with a spring instead of a balance.

本実施例によれば、ノズル1と基板10の間隔を一定に
するために駆動装置を要しないという利点がある。
This embodiment has the advantage that no driving device is required to maintain a constant distance between the nozzle 1 and the substrate 10.

第9図は本発明の第7実施例の説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram of a seventh embodiment of the present invention.

本実施例においてはノズル1及びペースト保持容器2は
重量計28に接続され、ペースト印刷時の吐出量をペー
スト保持容器2の重量減少量として重量計28で検出し
、制御部30はペースト保持容器の重量減少率が一定に
なるように、つまり単位時間当たりのペースト吐出量が
一定になるように電磁弁31を制御し、ペースト保持容
器にかかるガス圧を調整する。またステップモータ29
はノズルと基板の間隔が一定になるようしこ、ノズル直
下の基板の凹凸の状態に合わせてノズル、ペースト保持
容器の上下動を行う。基板10表面の凹凸の検出は第1
〜第6実施例に記載の手段で行う。
In this embodiment, the nozzle 1 and the paste holding container 2 are connected to a weight scale 28, and the weight scale 28 detects the discharge amount during paste printing as the amount of weight reduction of the paste holding container 2, and the control unit 30 controls the paste holding container 2. The solenoid valve 31 is controlled to adjust the gas pressure applied to the paste holding container so that the weight reduction rate of the paste holding container becomes constant, that is, the amount of paste discharged per unit time becomes constant. Also, the step motor 29
To maintain a constant distance between the nozzle and the substrate, the nozzle and paste holding container are moved up and down according to the unevenness of the substrate directly under the nozzle. Detection of irregularities on the surface of the substrate 10 is performed in the first step.
- carried out by the means described in the sixth embodiment.

本実施例によれば、単位時間当たりのペースト吐出量を
制御するため、より高精度の印刷が可能となる利点を有
する。
According to this embodiment, since the amount of paste ejected per unit time is controlled, there is an advantage that printing can be performed with higher precision.

第10図は本発明の第8実施例の説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram of an eighth embodiment of the present invention.

本実施例ではノズル1に装着された内側が円筒状のペー
スト保持容器2において、内部のペースト3はピストン
32の下面に接しており、このピストンはシリンダ36
に保持されたPZTアクチュエータ33の伸びにより下
方に押し込まれ、ペースト3は加圧された結果ノズル1
より吐出される。PZTアクチュエータ33の変位量は
電源35から電極34に印加される電圧により決まる。
In this embodiment, in a paste holding container 2 with a cylindrical inner side attached to a nozzle 1, the paste 3 inside is in contact with the lower surface of a piston 32, and this piston is connected to a cylinder 36.
The paste 3 is pushed downward by the extension of the PZT actuator 33 held in the nozzle 1 as a result of being pressurized.
more discharged. The amount of displacement of the PZT actuator 33 is determined by the voltage applied to the electrode 34 from the power source 35.

本実施例においては、単位時間当たりのPZTアクチュ
エータ33の伸び量が一定、つまりノズルより吐出され
るペースト3の流量が一定となるような波形の電圧が電
極34に印加される。ノズル1は第1〜第6実施例に記
載の手段により検出された基板の凹凸に合わせて上下に
駆動される。
In this embodiment, a voltage waveform is applied to the electrode 34 such that the amount of elongation of the PZT actuator 33 per unit time is constant, that is, the flow rate of the paste 3 discharged from the nozzle is constant. The nozzle 1 is driven up and down in accordance with the irregularities of the substrate detected by the means described in the first to sixth embodiments.

本実施例によれば、ピストンの上下動によりペーストの
吐出量を調整するため、基板の短周期の凹凸に合わせた
。高速の制御が可能である利点を有する。
According to this embodiment, in order to adjust the amount of paste discharged by vertical movement of the piston, it is adjusted to match the short-period irregularities of the substrate. It has the advantage of being capable of high-speed control.

第11図、第12図、第13図は本発明の第9実施例の
説明図である。
FIGS. 11, 12, and 13 are explanatory diagrams of a ninth embodiment of the present invention.

本実施例では印刷されたペースト3の断面形状を一定に
保持するために、ノズル先端の端が側壁となるようノズ
ルの吐出口にくぼみを形成してガイド付きノズル37と
している。37a (第12図)と37b (第13図
)はこのノズル1を下・方から見たもので矢印は基板の
移動方向を示している。ノズルは第1〜第6実施例に記
載の手段により、基板10と接触ギリギリの間隔を保持
する。
In this embodiment, in order to maintain a constant cross-sectional shape of the printed paste 3, a guide nozzle 37 is formed by forming a recess at the discharge port of the nozzle so that the end of the nozzle tip becomes a side wall. 37a (FIG. 12) and 37b (FIG. 13) are views of this nozzle 1 from below, and the arrows indicate the direction of movement of the substrate. The nozzle is maintained at a spacing just short of contact with the substrate 10 by the means described in the first to sixth embodiments.

本実施例によれば、ノズルの断面形状を変えることで、
任意の、かつ一定の断面形状でのペースト印刷が可能で
ある。
According to this embodiment, by changing the cross-sectional shape of the nozzle,
Paste printing with arbitrary and constant cross-sectional shapes is possible.

第14図は本発明の第10実施例の説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram of a tenth embodiment of the present invention.

本実施例では、電極形成を行ったアルミナ基板39に対
して、ガラスと酸化ルテニウムの混合物から成る抵抗体
ペースト38を封入したペースト保持容器2にガス圧を
負荷し、これをノズル1から吐出アルミナ基板39上に
抵抗体を描画印刷する。基板固定用保持台11は描画中
は矢印方向に一定速度で移動し、第1〜第6実施例に記
載の手段でノズルとアルミナ基板39の間隔を保持する
ことにより、−電断面形状の抵抗体ペーストの印刷を行
う。印刷後の基板を熱処理を施すことにより、感熱ヘッ
ド用の発熱抵抗体の形成を行う。
In this embodiment, gas pressure is applied to the paste holding container 2 in which the resistor paste 38 made of a mixture of glass and ruthenium oxide is sealed, and the alumina substrate 39 on which the electrodes are formed is discharged from the nozzle 1. A resistor is drawn and printed on the substrate 39. The substrate fixing holder 11 moves at a constant speed in the direction of the arrow during drawing, and maintains the distance between the nozzle and the alumina substrate 39 by the means described in the first to sixth embodiments, thereby creating a resistor with a -electrical cross-sectional shape. Print body paste. By subjecting the printed substrate to heat treatment, a heating resistor for a thermal head is formed.

本実施例によれば一定入力に対して発熱量分布のばらつ
きの小さい、高画質の感熱ヘッドを製造可能である。
According to this embodiment, it is possible to manufacture a high-quality thermal head with small variations in heat generation distribution for a constant input.

第15図は本発明の第11実施例のシステムブロック図
であり、本例は第10実施例同様感熱ヘッドへの抵抗体
層形成への適用例を示したものである。本例は位置決め
用ステージと描画用テーブルを分離した場合を示しであ
る。
FIG. 15 is a system block diagram of an eleventh embodiment of the present invention, and like the tenth embodiment, this embodiment shows an example of application to forming a resistor layer on a thermal head. This example shows a case where the positioning stage and the drawing table are separated.

本装置は、予め電極パターンの形成された感熱プリンタ
ヘッド基板を自動認識位置決め後、抵抗ペーストが充填
された描画ヘッドを一定のクリアランスを保ちながら、
抵抗ペーストを吐出して、抵抗体を形成するものである
This device automatically recognizes and positions the thermal printer head substrate on which an electrode pattern has been formed in advance, and then moves the drawing head filled with resistive paste while maintaining a certain clearance.
A resistor is formed by discharging a resistor paste.

図中符号40はθ軸パルスステージであり、符号41は
Y軸パルスステージであり、符号42はX軸パルスステ
ージであり、符号43X軸ステージである。
In the figure, 40 is a θ-axis pulse stage, 41 is a Y-axis pulse stage, 42 is an X-axis pulse stage, and 43 is an X-axis stage.

先ず基板39を手作業にて基板ガイドに搭載し、真空吸
引でθ軸パルスステージ40上に基板39を固定し、画
像処理装置46で自動認識にて基板を位置決めした後、
抵抗線描画、テーブル移送を自動で行い、ペースト描画
後は次工程に送るべく基板39を取り出すことにしてい
る。本例では基板材質はアルミナであり、最大寸法30
0(mm)X 25 (nn) X 1 (mm)の大
きさである。
First, the substrate 39 is manually mounted on the substrate guide, the substrate 39 is fixed on the θ-axis pulse stage 40 by vacuum suction, and the substrate is positioned by automatic recognition by the image processing device 46.
The resistance line drawing and table transfer are performed automatically, and after the paste drawing, the substrate 39 is taken out to be sent to the next process. In this example, the substrate material is alumina, and the maximum dimension is 30
The size is 0 (mm) x 25 (nn) x 1 (mm).

描画開始位置決定は、コンピュータ44より起動操作指
令を与えるとパルスコントローラ47によりX、Y、θ
テーブルが移動し、画像処理装置46によって位置の認
識が行われ、自動的に描画開始位置が決定される。
The drawing start position is determined by the pulse controller 47 when a start operation command is given from the computer 44.
The table moves, the position is recognized by the image processing device 46, and the drawing start position is automatically determined.

描画面は、金電極が形成されたピンポイントグレーズ層
の稜線上であり、ビンポイントグレーズ層断面形状並び
に描画パターン(■パターン幅、■パターン厚さ(ウェ
ット状態)、■描画速度、■パターン断面積、■側端・
終端各列線)を適宜に設定した。
The drawing surface is on the ridgeline of the pinpoint glaze layer on which the gold electrode is formed, and the cross-sectional shape of the pinpoint glaze layer and the drawing pattern (■ pattern width, ■ pattern thickness (wet state), ■ drawing speed, ■ pattern cutting) Area, ■Side edge・
The terminal line (each column line) was set appropriately.

本装置は、100〜200μmφのノズルより、ペース
トを吐出してセラミック基板上に形成された感熱ヘッド
電極上に厚膜抵抗パターンを描画するものであり、電極
間の抵抗値精度を高くするために、一定の膜厚をもった
抵抗パターンを形成する必要がある。従って描画開始点
の自動位置決め。
This device dispenses paste from a nozzle with a diameter of 100 to 200 μm to draw a thick film resistance pattern on a thermal head electrode formed on a ceramic substrate. , it is necessary to form a resistor pattern with a constant thickness. Therefore automatic positioning of the drawing starting point.

描画中の膜厚一定制御が行われる。本装置は方向。Film thickness constant control is performed during drawing. This device has no direction.

ペースト吐出圧力、基板〜ノズル間の初期クリアンス、
テープ、ル移動速度等を変えることによって、自由なパ
ターン描画が可能である。
Paste discharge pressure, initial clearance between substrate and nozzle,
Free patterns can be drawn by changing the tape, tape movement speed, etc.

ソコテ、パターン描画の評価はパーソナルコンピュータ
44により描画条件を設定し、描画中描画後の各種デー
タを処理することによって、設定値と実測値との比較を
行うことができるようにしである。
For evaluation of pattern drawing, drawing conditions are set by the personal computer 44, and various data during and after drawing are processed so that set values and actual values can be compared.

以下に本装置を要素に分けて説明する。This device will be explained below by dividing it into elements.

(1)自動位置決め装置 基板39を搭載して1位置移動を行うX、Y。(1) Automatic positioning device X, Y where the board 39 is mounted and moves one position.

θテーブル49及び画像処理を行うカメラ45゜画像処
理装置46.コントローラ47.48などから構成され
る。
A θ table 49, a camera 45 for image processing, and an image processing device 46. It is composed of controllers 47, 48, etc.

X軸テーブル上に搭載された自動位置決め用テーブル4
9上に感熱ヘッド基板39を設置し、カメラ45を通し
て認識マークを画像処理装置46によって認識する。
Automatic positioning table 4 mounted on the X-axis table
A thermal head substrate 39 is installed on the heat sensitive head 9 , and a recognition mark is recognized by an image processing device 46 through a camera 45 .

必要な位置に対してのずれは、自動的に画像処理装置4
6によって補正を行った。
The deviation from the required position is automatically detected by the image processing device 4.
Correction was made using 6.

画像処理認識装置により予め学習させ、X o Y o
θテーブルを移動させることによりTVカメラ45の中
心位置に基板39の認識マークの位置合わせを行った。
It is trained in advance by an image processing recognition device, and X o Y o
By moving the θ table, the recognition mark on the board 39 was aligned with the center position of the TV camera 45.

XYθテーブル装置は側面ガイド、真空吸着方式とし、
駆動アクチュエータは多軸について夫夫分解箱2111
11のDCサーボモータ方式とした。
The XYθ table device uses side guides and vacuum suction.
The drive actuator is a multi-axis Fufu disassembly box 2111
11 DC servo motor system.

符号51は真空吸着用に用意された真空ポンプ(エジェ
クタ)であり、符号52はその前段に配置した電磁弁で
あって、DPPSコントローラ48に接続されている。
Reference numeral 51 is a vacuum pump (ejector) prepared for vacuum suction, and reference numeral 52 is an electromagnetic valve disposed in the preceding stage, which is connected to the DPPS controller 48.

(2)パターン描画装置 位置決め用テーブル49を搭載したX軸テーブル43.
ノズル1を駆動するZ軸テーブル50゜ペーストを吐出
する圧縮空気制御装置、ペーストの粘度を一定に保持す
る温度制御装置などから構成される。
(2) X-axis table 43 equipped with pattern drawing device positioning table 49.
It consists of a 50° Z-axis table that drives the nozzle 1, a compressed air control device that discharges the paste, a temperature control device that keeps the viscosity of the paste constant, and so on.

例のノズルヘッドは、基板39のうねり(凹凸)を接触
式変位形で測定し、変位量に合せヘッドを上下させノズ
ル1と基板39の間隙を一定にする機構を備える。
The nozzle head in this example is equipped with a mechanism that measures the undulations (irregularities) of the substrate 39 using a contact displacement type and moves the head up and down according to the amount of displacement to keep the gap between the nozzle 1 and the substrate 39 constant.

本例のペースト吐出方法は、エア圧力を使用し、吐出タ
イミング設定、真空吸引によるペースト吸引を行うこと
で、描画パターンの始端、終端での死線領域を縮小でき
るようにしである。
The paste discharging method of this example uses air pressure, sets the discharge timing, and suctions the paste by vacuum suction, thereby making it possible to reduce the dead line area at the beginning and end of the drawing pattern.

符号53はそのための圧力計であり、DCアンプ54に
接続されている。Z軸テーブル50はX軸テーブル43
と共にDDPSX、Z軸ドライバ84に接続されると共
にロードセル55を介してDCアンプ56に接続され、
また、リニアスケール57を介してDDPSコントロー
ラ48にも接続される。
A pressure gauge 53 is connected to a DC amplifier 54. The Z-axis table 50 is the X-axis table 43
It is connected to the DDPSX and the Z-axis driver 84 as well as to the DC amplifier 56 via the load cell 55.
It is also connected to the DDPS controller 48 via the linear scale 57.

符号58は温度制御装置を構成する恒温水供給ユニット
であって、ノズル1及びペースト保持容器2のユニット
に接続されており、またこのノズルユニットに付設され
たハイデンハインメトロ59はDDPSコントローラ4
8に接続されている。
Reference numeral 58 denotes a constant temperature water supply unit constituting the temperature control device, which is connected to the nozzle 1 and paste holding container 2 units, and a HEIDENHAIN METRO 59 attached to this nozzle unit is connected to the DDPS controller 4.
8 is connected.

DDPSコントローラ48には上記の接続関係の他、C
PU44.DPPSX、Z軸ドライバ85、レーザ式判
別センサ60.DCアンプ56と接続され、また、圧力
計調整機構側の各電磁弁61.62.63とも接続され
ている。尚、レーザ式判別センサ60はノズル1におけ
る基板凹凸を識別するものである。
In addition to the above-mentioned connections, the DDPS controller 48 has C
PU44. DPPSX, Z-axis driver 85, laser type discrimination sensor 60. It is connected to the DC amplifier 56 and also to each electromagnetic valve 61, 62, 63 on the pressure gauge adjustment mechanism side. Incidentally, the laser type discrimination sensor 60 is for identifying the irregularities of the substrate in the nozzle 1.

更に符号64は圧力計、符号65は電空レギュレータ、
符号66.67は夫々ACC1符号68は真空ポンプで
ある。圧力計64はDCアンプ69に接続され、電空レ
ギュレータ65はDAインターフェアスポート70を介
してCPU44に接続される。DCアンプ54.56も
夫々ADインターフェースポード71を介してCPU4
4に接続される。
Furthermore, numeral 64 is a pressure gauge, numeral 65 is an electropneumatic regulator,
Reference numerals 66 and 67 are respectively ACC1 and 68 are vacuum pumps. The pressure gauge 64 is connected to a DC amplifier 69, and the electropneumatic regulator 65 is connected to the CPU 44 via a DA interface port 70. The DC amplifiers 54 and 56 are also connected to the CPU 4 via the AD interface port 71.
Connected to 4.

(3)ノズル、ペースト供給装置、吐出方式本例に用い
たノズル1の概略断面図を第16図に示す。ノズル断面
形状は円筒形であり、ノズル内径はφ0.1  mm、
外径はφ0.4 mmとした。また材質は5US304
とした。ノズルチップ1にはルビー、窒化チタン等の硬
質材料を適用した。
(3) Nozzle, paste supply device, and discharge method A schematic cross-sectional view of the nozzle 1 used in this example is shown in FIG. 16. The cross-sectional shape of the nozzle is cylindrical, and the nozzle inner diameter is φ0.1 mm.
The outer diameter was φ0.4 mm. Also, the material is 5US304
And so. A hard material such as ruby or titanium nitride was used for the nozzle tip 1.

本例に用いてペースト供給装置(シリンジユニット)の
概略断面図を第17図に示す。符号72はシリンジでペ
ースト容器2に相当し、符号73はプランジャを示す。
FIG. 17 shows a schematic cross-sectional view of the paste supply device (syringe unit) used in this example. Reference numeral 72 indicates a syringe, which corresponds to the paste container 2, and reference numeral 73 indicates a plunger.

ペースト3の供給方式はシリンジユニット交換により、
容積は3dとした。材質はポリエチレンである。
Paste 3 can be supplied by replacing the syringe unit.
The volume was 3d. The material is polyethylene.

吐出は空気圧によりプランジャ73を用いた。The discharge was performed using a plunger 73 using air pressure.

電空レギュレータ65(第15図参照)により自動圧力
設定を行い、1次側圧力、2次側圧力を夫夫適当に設定
した。次いでマイクロエジェクタ68(第15図参照)
によりペースト3を吸引し、電磁弁61〜63の開閉タ
イミングを微調できるようにした。
Automatic pressure setting was performed using an electropneumatic regulator 65 (see FIG. 15), and the primary pressure and secondary pressure were set appropriately. Next, the micro ejector 68 (see Fig. 15)
The paste 3 is suctioned by the pump, and the opening/closing timing of the solenoid valves 61 to 63 can be finely adjusted.

(4)温度管理用恒温水供給装置 第18図に本例に用いた温度管理用恒温水供給装置の要
部断面図を示す。本装置は第17図に示したペースト供
給装置のシリンジ72を中央に嵌口する概略円管の構造
である。
(4) Constant-temperature water supply device for temperature control FIG. 18 shows a sectional view of essential parts of the constant-temperature water supply device for temperature control used in this example. This device has a generally circular tube structure into which the syringe 72 of the paste supply device shown in FIG. 17 is fitted into the center.

恒温水75はマグネットポンプによる強制循環方式とし
、ヒータ(図示せず)が付設され、所定の温度範囲に保
持できる機構になっている。恒温水75はウォータージ
ャケット74内を流過することになる。
The constant temperature water 75 is forced to circulate using a magnetic pump, and is equipped with a heater (not shown) to maintain the temperature within a predetermined range. The constant temperature water 75 flows through the water jacket 74.

(5)ノズル1の駆動 駆動アクチュエータにはDCサーボモータを使用した。(5) Driving nozzle 1 A DC servo motor was used as the drive actuator.

ノズル位置の検出はハイデンハイン接触式変位センサ5
9とリニアスケール57を併用した。
The nozzle position is detected using HEIDENHAIN contact displacement sensor 5.
9 and linear scale 57 were used together.

ノズルセンシングユニットを第19図に示す。The nozzle sensing unit is shown in FIG.

第19図のユニットには自重支持ユニットと基板うねり
(凹凸)検出用センシングユニットとを併わせで示しで
ある。センサ接触子76の材質はポリエチレン樹脂とし
た。符号77はセンサアーム支点であり、符号78はZ
軸変位センサである。
The unit shown in FIG. 19 includes a self-weight supporting unit and a sensing unit for detecting substrate waviness (unevenness). The material of the sensor contactor 76 was polyethylene resin. Reference numeral 77 is the sensor arm fulcrum, and reference numeral 78 is the Z
It is an axial displacement sensor.

本例はノズルソフトタッチ方式を採用した。本例による
ノズルソフトタッチ制御用センサ構成図を第20図に示
す。この図は接続センサ76による荷重変化検出システ
ムとレーザ式判別センサ60(第15図参照)によるソ
フトランディング制御とを併せて説明しである。
This example adopted the nozzle soft touch method. FIG. 20 shows a configuration diagram of a sensor for nozzle soft touch control according to this example. This figure explains both the load change detection system using the connection sensor 76 and the soft landing control using the laser type discrimination sensor 60 (see FIG. 15).

符号79はレーザビーム幅を示し、これを計測する。符
号60はレーザ式判別センサであり、符号80はレーザ
光であり、符号55はロードセルで荷重変化を計測する
。符号82はコイル圧縮バネを示しシリンジユニットの
荷重支援を行う。符号81はネジ込みストロークで、バ
ネ支持力を調整する。符号80はレーザ光である。符号
83はガラスグレーズド基板で基板39に相当する。こ
の図はノズル−基板接触時を示しである。
Reference numeral 79 indicates the laser beam width, which is measured. Reference numeral 60 is a laser type discrimination sensor, reference numeral 80 is a laser beam, and reference numeral 55 is a load cell that measures changes in load. Reference numeral 82 indicates a coil compression spring, which supports the load of the syringe unit. Reference numeral 81 is a screw stroke for adjusting the spring support force. Reference numeral 80 is a laser beam. Reference numeral 83 is a glass glazed substrate and corresponds to the substrate 39. This figure shows the nozzle in contact with the substrate.

(6)システム制御装置 自動位置決めの実施、X、Z軸テーブルの制御によって
、一定の膜厚のパターン描画をするシステムの制御装置
より構成される。
(6) System control device Consists of a system control device that performs automatic positioning and controls the X and Z axis tables to draw a pattern with a constant film thickness.

パーソナルコンピュータ(CPU)8で装置の駆動条件
、描画条件を設定し、設定された条件は、CPU8のデ
イスプレィ上に表示する。
A personal computer (CPU) 8 sets driving conditions and drawing conditions for the apparatus, and the set conditions are displayed on the display of the CPU 8.

CPU8によって設定された条件は、コントローラに伝
送され制御データとして格納される。また、コントロ・
−ラの前面パネルにあるスイッチの動作によってパター
ン描画を開始し、また停止させる。
The conditions set by the CPU 8 are transmitted to the controller and stored as control data. Also, control
- Start and stop pattern drawing by operating a switch on the front panel of the machine.

描画中の各種データは、コントローラ中のμmC0Nの
RAMに格納され、動作終了後、再びPCへ伝送され、
上記デイスプレィ上にその結果を表示する。
Various data during drawing are stored in the RAM of μmC0N in the controller, and after the operation is completed, they are transmitted to the PC again.
The results are displayed on the above display.

初期値パラメータは、動作開始前にCPU5から設定し
、設定内容は次5項目とした。
The initial value parameters were set from the CPU 5 before the start of operation, and the setting contents were the following five items.

(a)初期間隙 2軸テーブルの制御用センサがアナログスイッチによっ
てハンデンハイン測長器に切換った後の基板〜ノズル間
距離を設定できるようにした。
(a) The distance between the substrate and the nozzle can be set after the sensor for controlling the initial gap two-axis table is switched to the Handenhain length measuring device using an analog switch.

(b) x軸テーブル速度 定常状態での一定速度を設定できる様にした。(b) x-axis table speed It is now possible to set a constant speed in steady state.

立上げ時の速度ゲインの調整は、5段に調整できるよう
デイツプスイッチをドライバに設は切換える様にした。
To adjust the speed gain at startup, a dip switch was installed on the driver so that it could be adjusted in five steps.

(c)描画距離 最大300mまで描画できるようにした。(c) Drawing distance It is now possible to draw up to 300m.

(d)吐出圧力設定 CPUa上で、吐出圧力の設定値波形を設定できる様に
した。動作開始と同時に、この設定値にそって、吐出圧
力を制御するようにした。
(d) Discharge pressure setting The set value waveform of the discharge pressure can be set on the CPUa. At the same time as the operation starts, the discharge pressure is controlled according to this set value.

(e)吐出タイミング 吐出開始のタイミングは接触センサ76による基板39
への接触開始信号を基準として、設定するようにした(
第19図参照)。
(e) Discharge timing The timing of discharge start is determined by the contact sensor 76 on the substrate 39.
The setting is now based on the contact start signal for (
(See Figure 19).

以上詳述した実施例は本発明の第1実施例を応用したも
のである。本例により感熱ヘッドの凹凸に追従した良好
な抵抗層が形成できた。
The embodiment described in detail above is an application of the first embodiment of the present invention. In this example, a good resistance layer that followed the unevenness of the thermal head could be formed.

尚、本例を用いたノズル等の各ユニット前記第1〜第6
の各実施例にも流用可能である。
In addition, each unit such as a nozzle using this example
It can also be applied to each of the embodiments.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、ノズル直下の基板の凹凸のデータを基
にノズルの上下の位置を制御できるために、常・に基板
とノズルの間隔を一定に保つことができ、また単位時間
当たりの吐出量を一定にすることができるため、印刷時
の断面形状がどの部分でも同じ、つまり一定パターンで
印刷する効果を有する。
According to the present invention, since the vertical position of the nozzle can be controlled based on the data of the unevenness of the substrate directly under the nozzle, the distance between the substrate and the nozzle can always be kept constant, and the discharge per unit time can be controlled. Since the amount can be made constant, the cross-sectional shape at the time of printing is the same in all parts, that is, it has the effect of printing in a constant pattern.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1実施例になる装置のシステムブロ
ック図、第2図は本発明の第2実施例に係る装置のシス
テムブロック図、第3図は本発明の第3実施例に係る装
置のシステムブロック図、第4図は本発明の第4実施例
に係る装置のシステムブロック図、第5図は本発明の第
5実施例に係る装置のノズルに近傍の部品配置図、第6
図は第5図の実施例装置のノズル先端の拡大側面図、第
7図は本発明の第6実施例のノズル先端近傍の拡大断面
図、第8図は第7図の実施例装置の動作原理を示す部品
配置図、第9図は本発明の第7実施例に係る装置のシス
テムブロック図、第1o図は本発明の第8実施例に用い
るノズル及びシリンジユニットの断面図、第11図は本
発明の第9実施例に用いるノズル先端の拡大断面図、第
12図は第11図の実施例装置のノズル先端部の底面図
、第13図は第12図の代案に係るノズル先端部の底面
部、第14図は本発明の第10実施例に係る感熱ヘッド
製造装置の斜視図、第15図は本発明の第11実施例に
係る感熱ヘッド製造用のシステムブロック図、第16図
は第15図の実施例装置に適用したノズルの断面図、第
17図は同じくペースト保持容器の断面図、第18図は
同じくウォータージャケットの断面図、第19図、第2
0図はいずれも同実施例のセンシングユニットの部品配
置図である。 1・・・ノズル、3・・・ペースト、4・・・ステップ
モータ、5・・・接触子、6・・・差動変圧器、7・・
・A/Dコンバータ、8・・・CPU、9・・・ディジ
タルメモリ、10・・・基板、11・・・基板固定用保
持台、12・・・シフトレジスタ、13・・・クロック
、14・・・D/Aコンバータ、15・・・電極、16
・・・スキャナ、17・・・LCRメータ、18・・・
抵抗測定器、19・・・光源部、20・・・受光部、2
1a、21b・・・反射鏡、22・・・遮光部、23・
・・光通過部、24・・・アーム、25・・・支点。 26・・・カウンタウェイト、27・・・支持棒、28
・・・重量計、29・・・ステップモータ、30・・・
制御部。 31・・・電磁弁、32・・・ピストン、33・・・P
ZTアクチュエータ、34・・・電極、35・・・電源
、36・・・シリンダ、37・・・ガイド付ノズル、3
8・・・抵抗体ベースト、39・・・アルミナ基板、4
0・・・θ軸パルスステージ、41・・・Y軸パルスス
テージ、42・・・X軸パルスステージ、43・・・X
軸ステージ、44・・・コンピュータ、45・・・カメ
ラ、46・・・画像処理装置、47・・・パルスコント
ローラ、48・・・コントローラ、49・・・自動位置
決め用テーブル、50・・2軸テーブル、51.68・
・・真空ポンプ、52゜6]、、62.63・・・電磁
弁、53.64・・・圧力計。 54.56.69・・・DCアンプ、55・・・ロード
セル、57・・・リニアスケール、58・・・恒温水供
給ユニット、6o・・・レーザ式判別センサ、65・・
・電空レギュレータ、70・・・DAインターフェース
ポード、71・・・ADインターフェースポード、72
・・・シリンジ、73・・・プランジャ、74・・・ウ
ォータージャケット、75・・・恒温水、76・・・セ
ンサ接触子、77・・・センサアーム支点、78・・・
Z軸変位センサ、黛 因 /Δ Xhす め 図 黛 図 −し11 葉 遁 図 箔 /2 区 箔 図 第 71! 図
FIG. 1 is a system block diagram of an apparatus according to a first embodiment of the invention, FIG. 2 is a system block diagram of an apparatus according to a second embodiment of the invention, and FIG. 3 is a system block diagram of an apparatus according to a third embodiment of the invention. FIG. 4 is a system block diagram of the device according to the fourth embodiment of the present invention. FIG. 5 is a diagram of the arrangement of parts near the nozzle of the device according to the fifth embodiment of the present invention. 6
The figure is an enlarged side view of the nozzle tip of the embodiment device of FIG. 5, FIG. 7 is an enlarged sectional view of the vicinity of the nozzle tip of the sixth embodiment of the present invention, and FIG. 8 is the operation of the embodiment device of FIG. 7. FIG. 9 is a system block diagram of the device according to the seventh embodiment of the present invention, FIG. 1o is a cross-sectional view of the nozzle and syringe unit used in the eighth embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a parts layout diagram showing the principle. 12 is an enlarged sectional view of the nozzle tip used in the ninth embodiment of the present invention, FIG. 12 is a bottom view of the nozzle tip of the embodiment device of FIG. 11, and FIG. 14 is a perspective view of a thermal head manufacturing apparatus according to a tenth embodiment of the present invention, FIG. 15 is a block diagram of a system for manufacturing a thermal head according to an eleventh embodiment of the present invention, and FIG. 16 15 is a cross-sectional view of the nozzle applied to the embodiment device of FIG. 15, FIG. 17 is a cross-sectional view of the paste holding container, FIG. 18 is a cross-sectional view of the water jacket, FIG.
0 is a component layout diagram of the sensing unit of the same embodiment. 1... Nozzle, 3... Paste, 4... Step motor, 5... Contact, 6... Differential transformer, 7...
・A/D converter, 8...CPU, 9...digital memory, 10...board, 11...holding stand for fixing the board, 12...shift register, 13...clock, 14... ...D/A converter, 15...electrode, 16
...Scanner, 17...LCR meter, 18...
Resistance measuring device, 19... Light source section, 20... Light receiving section, 2
1a, 21b...reflecting mirror, 22...light shielding part, 23.
...Light passage part, 24... Arm, 25... Fulcrum. 26... Counterweight, 27... Support rod, 28
... Weight scale, 29 ... Step motor, 30 ...
control section. 31...Solenoid valve, 32...Piston, 33...P
ZT actuator, 34... Electrode, 35... Power supply, 36... Cylinder, 37... Nozzle with guide, 3
8...Resistor base, 39...Alumina substrate, 4
0...θ-axis pulse stage, 41...Y-axis pulse stage, 42...X-axis pulse stage, 43...X
Axis stage, 44... Computer, 45... Camera, 46... Image processing device, 47... Pulse controller, 48... Controller, 49... Automatic positioning table, 50... 2 axes Table, 51.68・
...Vacuum pump, 52゜6],,62.63...Solenoid valve, 53.64...Pressure gauge. 54.56.69... DC amplifier, 55... Load cell, 57... Linear scale, 58... Constant temperature water supply unit, 6o... Laser type discrimination sensor, 65...
・Electro-pneumatic regulator, 70...DA interface port, 71...AD interface port, 72
... Syringe, 73... Plunger, 74... Water jacket, 75... Constant temperature water, 76... Sensor contact, 77... Sensor arm fulcrum, 78...
Z-axis displacement sensor, yuzume factor/Δ figure

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.水平面内方向に移動可能な被描画体固定用保持台と
、該被描画体上に描画用の流体を吐出して描画するノズ
ルと、該流体の保持用容器と、該ノズルの前方に取り付
けられ前記被描画体の凹凸を検出する変位センサとを備
えて成る描画装置において、前記変位センサにより検出
した前記被描画体の凹凸情報を一時保存する記憶装置と
、前記被描画固定用保持台の移動に伴い前記センサによ
る前記被描画体凹凸情報検出点に前記ノズルが至るとき
前記ノズル及び/または前記被描画体を上下動させ得る
間隔制御機構とを備えたことを特徴とする描画装置。
1. A holder for fixing an object to be drawn that is movable in a horizontal plane, a nozzle for discharging a drawing fluid onto the object to draw, a container for holding the fluid, and a holder mounted in front of the nozzle. A drawing apparatus comprising a displacement sensor for detecting unevenness of the object to be drawn, comprising: a storage device for temporarily storing unevenness information of the object to be drawn detected by the displacement sensor; and movement of the holding base for fixing the object to be drawn. A drawing apparatus comprising: an interval control mechanism capable of vertically moving the nozzle and/or the object to be drawn when the nozzle reaches a point where unevenness information of the object to be drawn is detected by the sensor.
2.請求項1において、前記記憶装置はシフトレジスタ
と周期可変の同期装置を備え、かつノズル駆動制御系と
接続されることを特徴とする描画装置。
2. 2. The drawing apparatus according to claim 1, wherein the storage device includes a shift register and a synchronization device with a variable period, and is connected to a nozzle drive control system.
3.水平面内方向に移動可能な被描画体固定用保持台と
、導電膜を部分面乃至は全面に形成した前記被描画体上
に電気絶縁性流体を吐出・描画するノズルと、該流体の
保持用容器とを備えて成る描画装置において、前記ノズ
ル先端を電極とし、該ノズル直下の前記導体膜と該ノズ
ル間の静電容量の計測回路を備え、該静電容量を一定に
するようにノズル及び/または前記被描画体を上下動さ
せることにより該ノズルと前記被描画体の間隔を一定に
保つ機構を備えたことを特徴とする描画装置。
3. A holding table for fixing an object to be drawn that is movable in a horizontal plane, a nozzle for discharging and drawing an electrically insulating fluid onto the object to be drawn having a conductive film partially or entirely formed thereon, and a nozzle for holding the fluid. A drawing apparatus comprising a container, the nozzle tip being an electrode, a capacitance measurement circuit between the conductor film directly under the nozzle and the nozzle, and a drawing device configured to keep the capacitance constant. A drawing apparatus characterized by comprising:/or a mechanism that maintains a constant distance between the nozzle and the object to be drawn by moving the object to be drawn up and down.
4.水平面内方向に移動可能な被描画体固定用保持台と
、導電膜を部分面乃至は全面に形成した前記被描画体上
に導電性流体を吐出,描画するためのノズル及び該流体
の保持用容器を備えて成る描画装置において、ノズル先
端を電極とし、ノズル直下の導体膜とノズル間の電気抵
抗測定回路を備え、前記の電気抵抗値が一定になるよう
に前記ノズル及び前記被描画体を上下動させることによ
り該ノズルと被描画体の間隔を一定に保つ機構を備えて
成ることを特徴とする描画装置。
4. A holding table for fixing a drawing object movable in a horizontal plane, a nozzle for discharging and drawing a conductive fluid onto the drawing object having a conductive film formed on a partial surface or the entire surface, and a nozzle for holding the fluid. A drawing device comprising a container, with a nozzle tip as an electrode, an electrical resistance measuring circuit between a conductive film directly under the nozzle and the nozzle, and the nozzle and the object to be drawn so that the electrical resistance value is constant. A drawing device comprising a mechanism that maintains a constant distance between the nozzle and the object to be drawn by moving the nozzle up and down.
5.水平面内方向に移動可能な前記被描画体固定用保持
台と、流体を吐出して前記被描画体上に描画するための
ノズル及び前記流体の保持用容器から成る描画装置にお
いて、ノズル前部に遮光部を設け、ノズルとは別に上下
動する光源と光量検出子を前記被描画体上に前記ノズル
遮断部を挾む形に配置し、前記ノズルと前記被描画体の
間隔の変化を前記遮断部により遮られずに光源から光量
検出子に達する光量の変化から検知する手段を備え、該
光量検出子の受光量を一定にするようノズル及び/また
は前記被描画体を上下動せ得る機構を備えたことを特徴
とする描画装置。
5. In a drawing device comprising a holding table for fixing the object to be drawn that is movable in a horizontal plane, a nozzle for discharging fluid to draw on the object to be drawn, and a container for holding the fluid, the front part of the nozzle is A light shielding section is provided, and a light source and a light amount detector that move up and down separately from the nozzle are arranged on the object to be drawn so as to sandwich the nozzle blocking section, and the change in the distance between the nozzle and the object to be drawn is blocked. The method includes means for detecting changes in the amount of light reaching the light amount detector from the light source without being obstructed by the light source, and a mechanism that can move the nozzle and/or the object to be drawn up and down so as to keep the amount of light received by the light amount detector constant. A drawing device characterized by comprising:
6.水平面内方向に移動可能な前記描画体固定用保持台
と、流体を吐出して前記被描画体上に描画するためのノ
ズル及び前記流体の保持用容器とを備えてなる描画装置
において、前記ノズル部分が前記被描画体と接触する位
置において平衡状態となるよう設定され、描画時に一定
圧力で前記流体を吐出させることにより前記ノズルが浮
き上がる機構を備えて、前記被描画体と一定の間隔を保
つようにしたことを特徴とする描画装置。
6. In a drawing device comprising: a holding table for fixing the drawing object movable in a horizontal plane; a nozzle for discharging a fluid to draw on the drawing object; and a container for holding the fluid. The part is set to be in an equilibrium state at a position where it contacts the object to be drawn, and the nozzle is provided with a mechanism that lifts the nozzle by discharging the fluid at a constant pressure during drawing to maintain a constant distance from the object to be drawn. A drawing device characterized by:
7.請求項1乃至6のいずれかに記載の描画装置におい
て、流体保持容器に重量計測器を備え、流体印刷時に容
器の重量減少率を測定し、これが一定となるように流体
の吐出量を制御することを特徴とする描画装置。
7. 7. The drawing apparatus according to claim 1, wherein the fluid holding container is equipped with a weight measuring device, the weight reduction rate of the container is measured during fluid printing, and the discharge amount of the fluid is controlled so as to keep this constant. A drawing device characterized by:
8.請求項1乃至6のいずれかに記載の描画装置におい
て、流体保持容器に圧電素子を装着し、該圧電素子の伸
縮により該容器の容積が変化することにより前記流体の
吐出速度を制御することを特徴とする描画装置。
8. 7. The drawing apparatus according to claim 1, wherein a piezoelectric element is attached to the fluid holding container, and the volume of the container is changed by expansion and contraction of the piezoelectric element to control the ejection speed of the fluid. Characteristic drawing device.
9.請求項1乃至8のいずれかに記載の描画装置におい
て、前記ノズルの吐出口の進行方向に対して側面部分に
ガイドを設けることにより、描画時の流体の断面形状を
一定にすることを特徴とする描画装置。
9. 9. The drawing apparatus according to claim 1, wherein a guide is provided on a side surface of the nozzle in a direction in which the discharge port of the nozzle moves, thereby making the cross-sectional shape of the fluid constant during drawing. drawing device.
10.請求項1乃至9のいずれかに記載の描画装置にお
いて、前記被描画体は感熱ヘツドであり、前記流体は抵
抗体ペーストであつて、抵抗体形成を行うものであるこ
とを特徴とする描画装置。
10. 10. The drawing apparatus according to claim 1, wherein the object to be drawn is a heat-sensitive head, and the fluid is a resistor paste for forming a resistor. .
11.請求項1乃至10のいずれかに記載の描画装置に
おいて、前記被描画体固定用保持台に代え。 て前記ノズル及び前記センサの両者を固定する保持台を
移動可能としたことを特徴とする描画装置。
11. The drawing apparatus according to any one of claims 1 to 10, in place of the holding table for fixing the object to be drawn. A drawing apparatus characterized in that a holding table for fixing both the nozzle and the sensor is movable.
12.請求項1乃至10のいずれかに記載の描画装置に
おいて、前記被描画体固定用保持台に加えて前記ノズル
及び前記センサの両者を固定する保持台を移動可能とし
たことを特徴とする描画装置。
12. 11. The drawing apparatus according to claim 1, wherein in addition to the holding stand for fixing the object to be drawn, a holding stand for fixing both the nozzle and the sensor is movable. .
13.請求項2において、前記記憶装置としてシフトレ
ジスタと周期可変の同期装置を備え、前記の変位センサ
により検出した凹凸情報を時系列で該シフトレジスタに
格納し、前記ノズルが先に変位センサにより検出を行つ
た位置の直上に移動した時点で、対応する情報がノズル
駆動制御系に伝達されるようにしたことを特徴とする描
画方法。
13. In claim 2, the storage device includes a shift register and a variable period synchronization device, the unevenness information detected by the displacement sensor is stored in the shift register in time series, and the nozzle is first detected by the displacement sensor. A drawing method characterized by transmitting corresponding information to a nozzle drive control system when the nozzle moves directly above the previous position.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002346455A (en) * 2001-05-22 2002-12-03 Dainippon Printing Co Ltd Coating nozzle and coating device using the same
JP2006167991A (en) * 2004-12-13 2006-06-29 Denso Corp Screen printing device and its printing method
JP2012016881A (en) * 2010-07-08 2012-01-26 Panasonic Corp Screen printer and method for detecting foreign matter in the screen printer

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