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JPH0463525A - 植物栽培方法および植物栽培装置 - Google Patents

植物栽培方法および植物栽培装置

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Publication number
JPH0463525A
JPH0463525A JP2172598A JP17259890A JPH0463525A JP H0463525 A JPH0463525 A JP H0463525A JP 2172598 A JP2172598 A JP 2172598A JP 17259890 A JP17259890 A JP 17259890A JP H0463525 A JPH0463525 A JP H0463525A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nutrient solution
cultivation
carbon dioxide
plants
air
Prior art date
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Application number
JP2172598A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0661190B2 (ja
Inventor
Shigeo Takayanagi
高柳 栄夫
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Individual
Original Assignee
Individual
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Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to JP2172598A priority Critical patent/JPH0661190B2/ja
Publication of JPH0463525A publication Critical patent/JPH0463525A/ja
Publication of JPH0661190B2 publication Critical patent/JPH0661190B2/ja
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • Y02P60/216

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  • Hydroponics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、野菜類、花や草等を水耕栽培する場合に養液
を腐敗させることなく、しかも養液のPI(値調整を必
要としないで、きわめて効果的に植物を生育させること
ができるようにした植物栽培方法および栽培装置に関す
るものである。
〈従来の技術〉 土壌と太陽光線を利用しないで植物を生育させる水耕栽
培としては、例えば本出願人が開発した特開昭63−2
40731号公報に記載の構成のものが知られている。
上記した従来の発明は、水耕栽培の光源として蛍光灯を
使用し、しかも蛍光灯の位!を植物の生育に伴って移動
させ、植物の上端部と蛍光灯の間隔を所定の範囲内に保
つようにしたことを特徴とし、また、必要に応じて栽培
室内の炭酸ガスの1度を500ppm以上、好ましくは
1 、000−5.000ppmに維持するようにした
ものである。
〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、上記した従来の栽培方法、栽培装置では、栽培
槽内の養液に植物の根、落ちた葉の屑、その他の微細な
有機物が多量に含み、特に養液が20℃以上程度になる
と、これらの有機物が腐敗し易くなるし、またPH値が
大きく変動するので植物の生育に著しい悪影響が発生す
る。
そして、水耕栽培では植物が根から養液の養分を吸収し
て生育するので、腐敗した養液を使用したり、PH値の
範囲が適正でない養液を使用すると植物が全(生育しな
いし枯れることになり、しかも栽培室内の雰囲気も悪化
させるので、養液の腐敗防止、養液のPH調整不要等に
よる安定性など、養液管理が著しく容易な栽培方法、装
置が嘱望されていた。
〈課題を解決するための手段〉 本発明は上記に鑑み提案されたもので、特に肥料成分を
含有する養液に植物の根を浸し、光りを植物に照射して
上記植物を生育させるようにした植物栽培方法乃至装置
において、上記養液には炭酸ガス濃度の高い空気を吹き
込むようにしたことを特徴とするものである。
〈作用〉 養液に500ppm以上、好ましくは1,000〜5.
 oooppm程度の炭酸ガス濃度の空気を吹き込むと
、養液のPH値が安定することになり、植物の生育を阻
害するPH値の変動がきわめて少ない。また、養液に炭
酸ガス濃度の高い空気を吹き込むと、養液中に存在する
有機物の腐敗、および養液の腐敗が確実に防止され、植
物の生育に全(影響されない。したがって、養液の維持
管理がきわめて簡単で、植物を確実に生育させる栽培方
法乃至栽培装置を提供するものである。
(実施例〉 以下に本発明を図面の実施例に基づいて詳細に説明する
第1図は本発明の植物栽培装置1の一実施例を示すもの
で、この植物栽培装置1は上部2、下部3および側部4
を有する口字状のフレーム枠5の内部にガラス枠6で囲
んだ栽培空間7を形成し、上記栽培空間7の内部に上下
2段の棚材8を設けて上下に3つの栽培室9・・・を構
成し、各栽培室9の底部に栽培槽10を設置した構成で
ある。
上記した栽培槽10は漫い皿枠状で多数の小孔を穿設し
た空気吹き込み用チューブ11が内部に位置し、また内
部に養液が供給されて植物な水耕栽培すること゛ができ
る。そして、上記した各空気吹き込み用チューブ11の
一端部は、例えば上部2の内部に設けた炭酸ガス発生装
置12に臨ませたポンプ13から延在する空気供給チュ
ーブ14に接続され、炭酸ガス発生装[12で発生する
炭酸ガスを多量に含む空気が空気供給チューブ14から
各空気吹き込み用チューブ11に導かれて各栽培槽10
の養液に吹き込まれるのである。
上記した炭酸ガス発生装置12は、例えば白金を燃焼触
媒としてベンジン、その他の燃料を燃焼させる接触駿化
方式の燃焼装置で、燃料を常に一定状態で燃焼すること
ができ、燃焼により炭酸ガスが発生するのである。そし
て、ポンプ13は上記炭酸ガス発生装置12の稼動によ
る炭酸ガス濃度の高い空気を空気供給チューブ14に圧
送し、この空気は各空気吹き込み用チューブ11に供給
されて小孔から噴き出させ、気泡となって栽培槽10の
養液に吹き込まれるのである。
しかし、炭酸ガス発生装置12を栽培空間7内に設置し
、栽培空間7内の空気の炭酸ガス濃度を高くし、この空
気をポンプ13が吸引して空気供給チューブ14に供給
し、各空気吹き込み用チューブ14により栽培槽10の
養液に吹き込んでもよい。
フレーム枠5の下部3の内部には水循環ポンプ15が設
置され、上記水循環ポンプ15の出口側から延在する養
液供給パイプ16は最上段の栽培槽10の内部に臨み、
最上段の栽培槽10と下から2番目の栽培槽10、及び
下から2番目の栽培槽10と最下段の栽培槽10とはそ
れぞれ連絡バイブ17で接続され、最下段の栽培槽10
と水循環ポンプ]5の入口側とは還流パイプ18で接続
されている。したがって、水循環ポンプ15の駆動によ
り最下段の栽培槽10内の養液は還流パイプ18に吸引
されて養液供給パイプ16に圧送され、最上段の栽培槽
10に供給されて上方の連絡バイブ17から中央の栽培
槽10に供給され、更に中央の栽培槽10から下方の連
絡バイブ17により最下段の栽培槽10に導かれる循環
流となる。なお、各連絡バイブ17や還流パイプ18の
養液吸引口にはフィルター等を設けて養液に混合する有
機質、無機質の微細成分が各パイプに詰まったり水循環
ポンプ15に流入しない様にするとよい。
各栽培室9の内部には、例えばチェーンで吊り下げて高
さの調節が可能な蛍光灯19を設けて栽培する植物の光
源とし、またフレーム枠5の下部3の内部には空調用機
構部20を設!して側部4に配管した空調バイブ21に
より上部2内に設けた空気吹出し部22に接続し、栽培
空間7の内部を一定の範囲の温度を維持させる。
本発明の植物栽培装置1は上記した構成で、植物の栽培
に際しては各栽培槽lOに肥料成分を混合した養液を供
給し、野菜、花や草等の植物の根を栽培槽10内に浸し
、空調用機構部20を作動させて栽培空間7の内部を一
定の温度に維持するとともに、水循環ポンプ15を駆動
して各栽培槽10内の養液を前記したように循環流させ
、炭酸ガス発生装置12で炭酸ガスを発生させてポンプ
13の駆動で各空気吹き込み用チューブ11から各栽培
槽10の養液に炭酸ガス濃度の高い空気を吹き込む。
この場合、栽培槽10の内部の養液に吹き込む空気の炭
酸ガス濃度は500ppm以上で、好ましくは1.00
0〜5. OOOppm程度がよい。
なお、栽培空間7の内部は温度、炭酸ガス濃度および蛍
光灯19による光の照射状態が制御されている。
上記の様にして炭酸ガス濃度の高い空気を養液に吹き込
むと、養液は内部に含有する有機物が著しく腐敗し難く
なり、養液自体も腐敗することがないから植物の生育に
悪影響を与えないので、植物が活発に生育する。しかも
、植物の酸素同化作用が活発になって生育に大きく寄与
するのである。
なお、栽培槽10の養液に吹き込む空気の炭酸ガス濃度
が500ppm以下では養液の腐敗防止効果がほとんど
期待できないし、また5、 000ppm以上では炭酸
ガス濃度が高過ぎてP)l値が低くなり、養液に含まれ
る無機の肥料成分が析出する場合があるので、1,00
0〜5.0OOppL11程度が好ましい。
以上本発明を実施例に基づいて説明したが、本発明は上
記した実施例に限定されず、特許請求の範囲に記載の構
成を変更しない限りどのようにでも実施することができ
る。
例えば、炭酸ガス発生装置をベンジンなどの燃料の燃焼
を利用しない炭酸ガスボンベでもよいし、また、炭酸ガ
ス濃度の高い空気を養液に吹き込む場合には多孔チュー
ブを使用しないでノズル、その他の構成を採用してもよ
い。また、栽培空間7内はどのような構成でもよい。
〈発明の効果〉 以上要するに本発明によれば、肥料成分を含有する養液
に植物の根を浸し、光りを植物に照射して上記植物を生
育させるようにした植物栽培方法乃至栽培装置において
、上記養液には炭酸ガス濃度の高い空気を吹き込むよう
にしたことを特徴とするので、養液内に微細な有機物が
存在していても腐敗することがなく、植物の生育に影響
を与えないし、養液を長期間使用することができるので
安定性があって維持管理が極めて簡単である。また、養
液のPH調整をしなくても一定の範囲のPI(値を維持
して植物を生育させることができるので、特に一般家庭
での水耕栽培装置として利用することができ、実用的価
値の高いものとなる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す一部を欠截した概略正
面図である。 1は植物栽培装置、5はフレーム枠、6はガラス枠、7
は栽培空間、9は栽培室、10は栽培槽、11は空気吹
き込み用チューブ、12は炭酸ガス発生装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、肥料成分を含有する養液に植物の根を浸し、光りを
    植物に照射して上記植物を生育させるようにした植物栽
    培方法において、上記養液には炭酸ガス濃度の高い空気
    を吹き込むようにしたことを特徴とする植物栽培方法。 2、栽培室の内部に植物の根が浸っている栽培槽を有し
    、上記栽培槽には炭酸ガス濃度の高い空気が吹き込まれ
    た養液が供給されていることを特徴とする植物栽培装置
JP2172598A 1990-07-02 1990-07-02 植物栽培方法および植物栽培装置 Expired - Lifetime JPH0661190B2 (ja)

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JPH0661190B2 JPH0661190B2 (ja) 1994-08-17

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