JPH04200892A - レーザ加工装置におけるレーザビーム伝送装置 - Google Patents
レーザ加工装置におけるレーザビーム伝送装置Info
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- JPH04200892A JPH04200892A JP2334259A JP33425990A JPH04200892A JP H04200892 A JPH04200892 A JP H04200892A JP 2334259 A JP2334259 A JP 2334259A JP 33425990 A JP33425990 A JP 33425990A JP H04200892 A JPH04200892 A JP H04200892A
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- laser beam
- axis
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、レーザ加工装置における、光軸価−I
−?AP 正機正合能するレーザビーム伝送装置に関する。
−?AP 正機正合能するレーザビーム伝送装置に関する。
[従来の方法]
通常、レーザ加工装置は、レーザ発振器から出射したレ
ーザビームを数枚のミラーで反射させ、ワーク加工部ま
で導いている。ワーク加工部でのレーザビームのズレは
、レーザ発振器本体とミラーのレーザ加工装置への取(
寸J差に大きく影響される。ワーク加工部のレーザビー
ムのズレの許容範囲は非常に狭く、許容範囲をはずれる
と、加工が困難になってしまう。ワーク加工部のレーザ
ビームのズレを許容範囲内にする為に、レーザビーム伝
送系に目的の光軸にレーザビームを正確に導く為の光軸
調整機能が必要になる。光軸調整として、ミラーの取付
位置調整と取付角度調整が有効である。ミラーの取付位
置調整と取1寸角度調整の為に、通常は各ミラー取付1
部に、回転軸2軸、直動軸1)2軸の調整機構を設けて
いる。従来は、この調整機構の調整により、レーザビー
ムを次に入射するミラーのセンターに導くという方法で
レーザビームを目的の1光軸に導いていた。
ーザビームを数枚のミラーで反射させ、ワーク加工部ま
で導いている。ワーク加工部でのレーザビームのズレは
、レーザ発振器本体とミラーのレーザ加工装置への取(
寸J差に大きく影響される。ワーク加工部のレーザビー
ムのズレの許容範囲は非常に狭く、許容範囲をはずれる
と、加工が困難になってしまう。ワーク加工部のレーザ
ビームのズレを許容範囲内にする為に、レーザビーム伝
送系に目的の光軸にレーザビームを正確に導く為の光軸
調整機能が必要になる。光軸調整として、ミラーの取付
位置調整と取付角度調整が有効である。ミラーの取付位
置調整と取1寸角度調整の為に、通常は各ミラー取付1
部に、回転軸2軸、直動軸1)2軸の調整機構を設けて
いる。従来は、この調整機構の調整により、レーザビー
ムを次に入射するミラーのセンターに導くという方法で
レーザビームを目的の1光軸に導いていた。
[発明が解決しようとする課題]
従来の方法によると、作業者は、伝送系に配置されたミ
ラー゛すべてについて、ミラー1枚あたり3〜4軸の自
由度を持つ調整軸の調整を行わなければならない。
ラー゛すべてについて、ミラー1枚あたり3〜4軸の自
由度を持つ調整軸の調整を行わなければならない。
ミラーの各調整軸の調整にともなうレーザビームの挙動
が複雑な為、調整作業は非常に難しい。
が複雑な為、調整作業は非常に難しい。
特に、発振器に近い側のミラーの調整により、複数のミ
ラーで反射した先のレーザビームの光軸を合わせること
は困難である。この為、通常は発振器に近いミラーより
ワーク加工部に近いミラーへ順番に調整を行うという自
由度の低い作業を行っている。
ラーで反射した先のレーザビームの光軸を合わせること
は困難である。この為、通常は発振器に近いミラーより
ワーク加工部に近いミラーへ順番に調整を行うという自
由度の低い作業を行っている。
以上の理由より、光軸調整はたいへん時間のがかる作業
となっていた。また、この作業には熟練作業者が必要で
、初心者の調整技術の修得に時間がかかる。
となっていた。また、この作業には熟練作業者が必要で
、初心者の調整技術の修得に時間がかかる。
[課題を解決するための手段]
本発明は、1本のレーザビームを、2枚のミラーで方向
を変えて、目的の光軸に正確に導くレーザビーム伝送装
置である。
を変えて、目的の光軸に正確に導くレーザビーム伝送装
置である。
前記ミラーへの入射レーザビームの入射角度が、目的の
光軸に対してほぼ直角で、且つ入射レーザビームと目的
の光軸が交わらない位置に入射させる。
光軸に対してほぼ直角で、且つ入射レーザビームと目的
の光軸が交わらない位置に入射させる。
前記ミラー1枚あたり、ミラーのレーザ反射面に含まれ
る軸を中心にして回転可能な回転調整軸と、その回転調
整軸に対して直角方向に直動可能な直動調整軸の、2つ
の調整軸を設ける。
る軸を中心にして回転可能な回転調整軸と、その回転調
整軸に対して直角方向に直動可能な直動調整軸の、2つ
の調整軸を設ける。
2枚のミラーは、入射レーザビーム軸と、目的の光軸の
両方に交わり、かつ両軸と直角になる軸上の、両軸との
交点に1枚ずつ配置する。
両方に交わり、かつ両軸と直角になる軸上の、両軸との
交点に1枚ずつ配置する。
入射レーザビーム上に配置されたミラーのレーザ反射面
は、入射レーザビーム軸とほぼ45度の角度をなし、目
的の光軸上に配置されたミラ一方向にレーザビームを反
射する向きにする。同ミラーの回転調整軸は、目的の光
軸とほぼ平行な向きにする。同ミラーの直動調整軸は、
レーザ反射面と平行以外の角度を持てばどの方向でも光
軸調整の機能を持つが、入射レーザビーム軸にほぼ平行
の向きにするのが良い。
は、入射レーザビーム軸とほぼ45度の角度をなし、目
的の光軸上に配置されたミラ一方向にレーザビームを反
射する向きにする。同ミラーの回転調整軸は、目的の光
軸とほぼ平行な向きにする。同ミラーの直動調整軸は、
レーザ反射面と平行以外の角度を持てばどの方向でも光
軸調整の機能を持つが、入射レーザビーム軸にほぼ平行
の向きにするのが良い。
目的の光軸上に配置されたミラーのレーザ反射面は、入
射レーザビーム上に配置されたミラーから出射されたレ
ーザビームとほぼ45度の角度をなし、目的の光軸方向
にレーザビームを反射する向きにする。同ミラーの回転
調整軸は、入射レーザビーム軸とほぼ平行な向きにする
。同ミラーの直動調整軸は、レーザ反射面と平行以外の
角度を持てばどの方向でも光軸調整の機能を持つが、目
的の光軸にほぼ直角の向きにするのが良い。
射レーザビーム上に配置されたミラーから出射されたレ
ーザビームとほぼ45度の角度をなし、目的の光軸方向
にレーザビームを反射する向きにする。同ミラーの回転
調整軸は、入射レーザビーム軸とほぼ平行な向きにする
。同ミラーの直動調整軸は、レーザ反射面と平行以外の
角度を持てばどの方向でも光軸調整の機能を持つが、目
的の光軸にほぼ直角の向きにするのが良い。
2枚のミラーの回転調整軸は、正確に直角になるように
配置する。
配置する。
[作用]
前記のように入射レーザビームと2枚のミラーを配置す
ることにより、入射レーザビームは、入射レーザビーム
上に配置されたミラーと目的の光軸上に配置されたミラ
ーで約90度づつ曲げられ、目的の光軸付近に導かれる
。
ることにより、入射レーザビームは、入射レーザビーム
上に配置されたミラーと目的の光軸上に配置されたミラ
ーで約90度づつ曲げられ、目的の光軸付近に導かれる
。
目的の光軸上に配置されたミラーから出射されるレーザ
ビームと、目的の光軸とのズレは、次に述べる4軸の調
整軸の調整により完全に取り除くことができる。入射レ
ーザビーム上に配置されたミラーの回転調整軸は、目的
の光軸上に配置されたミラーの回転調整軸に平行な方向
の角度ズレ成分を補正する。入射レーザビーム上に配置
されたミラーの直動調整軸は、目的の光軸上に配置され
たミラーの回転調整軸に平行な方向の位置ズレ成分を補
正する。目的の光軸上に配置されたミラーの回転調整軸
は、同軸に垂直な方向の角度ズレ成分を補正する。目的
の光軸上に配置されたミラーの直動調整軸は、同ミラー
の回転調整軸に垂直な方向の位置誤差成分を補正する。
ビームと、目的の光軸とのズレは、次に述べる4軸の調
整軸の調整により完全に取り除くことができる。入射レ
ーザビーム上に配置されたミラーの回転調整軸は、目的
の光軸上に配置されたミラーの回転調整軸に平行な方向
の角度ズレ成分を補正する。入射レーザビーム上に配置
されたミラーの直動調整軸は、目的の光軸上に配置され
たミラーの回転調整軸に平行な方向の位置ズレ成分を補
正する。目的の光軸上に配置されたミラーの回転調整軸
は、同軸に垂直な方向の角度ズレ成分を補正する。目的
の光軸上に配置されたミラーの直動調整軸は、同ミラー
の回転調整軸に垂直な方向の位置誤差成分を補正する。
各調整軸の調整によりミラーの動く方向と、それに伴い
レーザビームの動く方向は一致する。
レーザビームの動く方向は一致する。
2枚のミラーの回転調整軸は正確に直角なので、各調整
軸の調整による目的の光軸とレーザビームとのズレ修正
方向は、互いのミラーの調整軸に対しては直角となり干
渉しない。
軸の調整による目的の光軸とレーザビームとのズレ修正
方向は、互いのミラーの調整軸に対しては直角となり干
渉しない。
実際の作業では、一方のミラーの回転調整軸と直動調整
軸でレーザビームが目的とする光軸と同−平面上になる
ように調整した後に、もう一方のミラーの回転調整軸と
直動調整軸を調整する。この時、調整の順序は問わない
。
軸でレーザビームが目的とする光軸と同−平面上になる
ように調整した後に、もう一方のミラーの回転調整軸と
直動調整軸を調整する。この時、調整の順序は問わない
。
入射レーザビーム」二に配置されたミラーへの、入射レ
ーザビームの許容入射範囲は、2枚のミラーニット間の
距離とミラーの反射面の反射可能範囲の面積に左右され
るが、レーザビームが2枚のミラーの反射面の反射可能
範囲からはずれない限り問題ない。
ーザビームの許容入射範囲は、2枚のミラーニット間の
距離とミラーの反射面の反射可能範囲の面積に左右され
るが、レーザビームが2枚のミラーの反射面の反射可能
範囲からはずれない限り問題ない。
[実施例]
本発明による実施例を図面を参照して説明する。
レーザ発振器19は、レーザ加工装置本体18に固定さ
れている。中間ブロック3は、レーザ加工装置本体18
に固定されている。ミラーブロックA1は、直動ガイド
レールA16により中間ブロック3に付いている。ミラ
ーブロックA1は直動微調整ネジAIOを回すことによ
り直動ガイドレールA16に沿って直動可能である。ミ
ラー白人6は回転軸A12でミラーブロックA1に1寸
いている。ミラー白人6は、回転微調整ネジA8を回す
ことにより回転軸A12を中心にして回転可能である。
れている。中間ブロック3は、レーザ加工装置本体18
に固定されている。ミラーブロックA1は、直動ガイド
レールA16により中間ブロック3に付いている。ミラ
ーブロックA1は直動微調整ネジAIOを回すことによ
り直動ガイドレールA16に沿って直動可能である。ミ
ラー白人6は回転軸A12でミラーブロックA1に1寸
いている。ミラー白人6は、回転微調整ネジA8を回す
ことにより回転軸A12を中心にして回転可能である。
ミラーA4は反射面が回転軸AI2を含む位置でミラー
台A6に固定されている。ミラーブロックB2は、直動
ガイドレールB17により中間ブロック3に1寸いてい
る。ミラープロ・ンクB2は直動微調整ネジBllを回
すことにより直動ガイドレールB17に沿って直動可能
である。
台A6に固定されている。ミラーブロックB2は、直動
ガイドレールB17により中間ブロック3に1寸いてい
る。ミラープロ・ンクB2は直動微調整ネジBllを回
すことにより直動ガイドレールB17に沿って直動可能
である。
ミラー台B7は回転軸B ]、 3でミラーブロックB
2に1寸いている。ミラー台B7は、回転微調整ネジB
9を回すことにより回転軸813を中心にして回転可能
である。ミラーB5は反射面が回転軸813に含まれる
位置でミラー台B7に固定されている。回転軸A17と
回転軸813は正確に直角になっている。
2に1寸いている。ミラー台B7は、回転微調整ネジB
9を回すことにより回転軸813を中心にして回転可能
である。ミラーB5は反射面が回転軸813に含まれる
位置でミラー台B7に固定されている。回転軸A17と
回転軸813は正確に直角になっている。
入射レーザビーム14は、ミラーA4とミラーB5で反
射して、目的の光軸】5に導かれる。
射して、目的の光軸】5に導かれる。
各微調整ネジの調整による、ミラーブロックB2から出
射されるレーザビームの挙動をり下に記す。回転微調整
ネジA8を動かすと、回転軸B13に平行な方向にビー
ム角度が変わる。直動微調整ネジA10を動かすと、回
転軸813に平行な方向にビームが平行移動する。回転
微調整ネジB9を動かすと、回転軸813に垂直な方向
にビーム角度が変わる。直動微調整ネジ81.1を動か
すと、回転軸81.3に垂直な方向にビームが平行移動
する。
射されるレーザビームの挙動をり下に記す。回転微調整
ネジA8を動かすと、回転軸B13に平行な方向にビー
ム角度が変わる。直動微調整ネジA10を動かすと、回
転軸813に平行な方向にビームが平行移動する。回転
微調整ネジB9を動かすと、回転軸813に垂直な方向
にビーム角度が変わる。直動微調整ネジ81.1を動か
すと、回転軸81.3に垂直な方向にビームが平行移動
する。
[発明の効果コ
本発明は、以上説明したように構成されているので、以
下に記載されるような効果を奏する。
下に記載されるような効果を奏する。
入射レーザビームを、2枚のミラーで4軸の調整により
正確に目的の光軸に導くことができる。
正確に目的の光軸に導くことができる。
前記ミラーに入射する前のレーザビームの光軸調整は必
要がなくなった。従来のミラー1枚あたり3〜4軸に比
べ調整軸数が減少した。以上の理由により、光軸調整作
業時間の短縮が可能となった。
要がなくなった。従来のミラー1枚あたり3〜4軸に比
べ調整軸数が減少した。以上の理由により、光軸調整作
業時間の短縮が可能となった。
ミラー1枚あたり2軸の調整軸だけでよいので、ミラー
取付部の構造を単純化できる。2枚のミラーを一体化し
て、光軸修正ユニットとして部品化できるため、レーザ
加工装置の設計の自由度が上がる。
取付部の構造を単純化できる。2枚のミラーを一体化し
て、光軸修正ユニットとして部品化できるため、レーザ
加工装置の設計の自由度が上がる。
4軸の調整軸の調整によるミラーの動く方向と、それに
伴うレーザビームの動きの方向が一致しているので、初
心名でも容易に調整作業ができる。
伴うレーザビームの動きの方向が一致しているので、初
心名でも容易に調整作業ができる。
2枚のミラーの調整軸の調整による目的の光軸とレーザ
ビームとのズレ修正方向は、互いのミラーの調整軸に対
して独立して干渉し合わないため、調整の順番はどちら
のミラーから行ってもよい。
ビームとのズレ修正方向は、互いのミラーの調整軸に対
して独立して干渉し合わないため、調整の順番はどちら
のミラーから行ってもよい。
このため、調整作業の自由度が上がり、作業性が向上す
る。
る。
・第1図はレーザビーム伝送装置を有するレーザ加工装
置の斜視図、第2図はレーザビーム伝送装置の斜視図、
第3図はレーザビーム伝送装置の正面図、第4図はレー
ザビーム伝送装置の側面図である。 ゛ 1・・ミラーブロックA 2・・・ミラーブロックB 3・・・中間ブロック 4・・・ミラーA 5・・ミラーB 6・・ミラー台A 7・・・ミラー台B 8・・・回転微調整ネジA 9・・・回転微調整ネジB 10・・・直動微調整ネジA 11・直動微調整ネジB 12・・・回転軸A 13・・回転軸B 14・・入射レーザビーム軸 15・・・目的の光軸 16・・直動ガイドレールA 17・・・直動ガイドレールB 18・・・レーザ加工装置本体 1つ・・レーザ発振器
置の斜視図、第2図はレーザビーム伝送装置の斜視図、
第3図はレーザビーム伝送装置の正面図、第4図はレー
ザビーム伝送装置の側面図である。 ゛ 1・・ミラーブロックA 2・・・ミラーブロックB 3・・・中間ブロック 4・・・ミラーA 5・・ミラーB 6・・ミラー台A 7・・・ミラー台B 8・・・回転微調整ネジA 9・・・回転微調整ネジB 10・・・直動微調整ネジA 11・直動微調整ネジB 12・・・回転軸A 13・・回転軸B 14・・入射レーザビーム軸 15・・・目的の光軸 16・・直動ガイドレールA 17・・・直動ガイドレールB 18・・・レーザ加工装置本体 1つ・・レーザ発振器
Claims (1)
- レーザ発振器と、該レーザ発振器から出射されたレーザ
ビームを複数のミラーによりワーク加工部まで導くレー
ザビーム伝送装置とから構成されたレーザ加工装置にお
いて、第一のミラーがミラーのレーザ反射面に含まれる
軸を中心に回転可能な回転調整軸と、該回転調整軸に対
して直角方向に直動可能な直動調整軸とを具備し、第二
のミラーにも前記回転調整軸と前記直動調整軸とを具備
し、第一のミラーの前記回転調整軸と第二のミラーの前
記回転調整軸が直角の位置関係を持ち、第一のミラーか
ら出射されたレーザビームが直接第二のミラーに入射す
るように構成されたレーザビーム伝送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2334259A JPH04200892A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | レーザ加工装置におけるレーザビーム伝送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2334259A JPH04200892A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | レーザ加工装置におけるレーザビーム伝送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04200892A true JPH04200892A (ja) | 1992-07-21 |
Family
ID=18275342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2334259A Pending JPH04200892A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | レーザ加工装置におけるレーザビーム伝送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04200892A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005332847A (ja) * | 2004-05-18 | 2005-12-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光装置 |
| JP2005331541A (ja) * | 2004-05-18 | 2005-12-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 光軸調節装置および光軸自動調節システム |
| US7839488B2 (en) | 2004-05-18 | 2010-11-23 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical axis adjustment device and exposure apparatus using the same |
| WO2018101276A1 (ja) * | 2016-11-29 | 2018-06-07 | セイコーエプソン株式会社 | 電子部品搬送装置及び電子部品検査装置 |
| JP2018091837A (ja) * | 2016-11-29 | 2018-06-14 | セイコーエプソン株式会社 | 電子部品搬送装置および電子部品検査装置 |
| CN109997049A (zh) * | 2016-11-29 | 2019-07-09 | 精工爱普生株式会社 | 电子元件输送装置以及电子元件检查装置 |
| JP2021100766A (ja) * | 2016-01-28 | 2021-07-08 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ出力装置 |
| US12202070B2 (en) | 2016-01-28 | 2025-01-21 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser machining device and laser output device |
-
1990
- 1990-11-29 JP JP2334259A patent/JPH04200892A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005332847A (ja) * | 2004-05-18 | 2005-12-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光装置 |
| JP2005331541A (ja) * | 2004-05-18 | 2005-12-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 光軸調節装置および光軸自動調節システム |
| US7839488B2 (en) | 2004-05-18 | 2010-11-23 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical axis adjustment device and exposure apparatus using the same |
| JP2021100766A (ja) * | 2016-01-28 | 2021-07-08 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ出力装置 |
| US12202070B2 (en) | 2016-01-28 | 2025-01-21 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser machining device and laser output device |
| WO2018101276A1 (ja) * | 2016-11-29 | 2018-06-07 | セイコーエプソン株式会社 | 電子部品搬送装置及び電子部品検査装置 |
| JP2018091837A (ja) * | 2016-11-29 | 2018-06-14 | セイコーエプソン株式会社 | 電子部品搬送装置および電子部品検査装置 |
| CN109997049A (zh) * | 2016-11-29 | 2019-07-09 | 精工爱普生株式会社 | 电子元件输送装置以及电子元件检查装置 |
| US11079430B2 (en) | 2016-11-29 | 2021-08-03 | Ns Technologies, Inc. | Electronic component handler and electronic component tester |
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