以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
図1は、一実施形態による、撮像装置の一例であるカメラ10の模式断面図である。カメラ10は、一例として、デジタルコンパクトカメラである。カメラ10は、レンズユニット20およびカメラボディ30を備える。
レンズユニット20は、その鏡筒内に光学系を備え、当該光学系により光軸22が規定されている。レンズユニット20は、カメラボディ30に取付けられている。レンズユニット20は、カメラボディ30内に収容されて、使用時に図のように外方へ進出するものであってもよい。
レンズユニット20は、入射する被写体光束をカメラボディ30の筐体31内へ導く。なお、図1に示すレンズユニット20は、単に説明を明確にするために、2枚のレンズと絞りとを含んでいるが、何ら当該構成に限定するものではない。
カメラボディ30は、撮像ユニット40と、表示部88とを有する。レンズユニット20に入射する被写体光束は、レンズユニット20によって撮像ユニット40に導かれる。
撮像ユニット40は、被写体を撮像する撮像素子100と、第1主面111および第2主面112を有する実装基板120と、実装基板120の第2主面112上に実装されるコネクタ180と、第1フレキシブル基板250および第2フレキシブル基板260と、第1フレキシブル基板250および第2フレキシブル基板260によって実装基板120に接続される基板62を含む基板ユニット60とを備える。本実施形態における撮像ユニット40は更に、フレーム140と、カバーガラス160とを備える。なお、撮像ユニット40は、コネクタ180、フレーム140およびカバーガラス160を備えなくてもよい。なお、基板62は、電源基板の一例である。以降の説明において、基板62を電源基板と称する場合がある。
撮像素子100は、例えばCMOSイメージセンサやCCDイメージセンサであり、主たる平面の形状が長方形である。撮像素子100は、実装基板120の第1主面111上に実装される。なお、撮像素子100は撮像素子の一例である。
ここで、本実施形態において、光軸22に沿う方向をz軸方向と定める。すなわち、撮像素子100の撮像面へ被写体光束が入射する方向をz軸方向と定める。具体的には、被写体光束が入射する方向をz軸マイナス方向と定め、その反対方向をz軸プラス方向と定める。撮像素子100の長手方向をx軸方向と定める。撮像素子100の短手方向をy軸方向と定める。具体的には、x軸方向及びy軸方向は、図1に図示した方向に定められる。x軸、y軸、z軸は右手系の直交座標系である。
このように規定した場合、本実施形態における実装基板120、基板62および表示部88は、z軸マイナス方向に順に配置されている。なお、説明の都合上、z軸プラス方向を前方、前側等と呼ぶ場合がある。また、z軸マイナス方向を後方、後側、等と呼ぶ場合がある。z軸マイナス方向の側を背面側等と呼ぶ場合がある。
基板ユニット60の基板62は、撮像ユニット40のz軸マイナス方向の位置に配置される。基板ユニット60の基板62上には、コネクタ182、コネクタ184、MPU51、ASIC52および電源ユニット53が実装される。なお、基板62上には、追加的に又は代替的に、他の電子回路が実装されてもよい。なお、基板ユニット60は、電源ユニット53等の構成が実装される単一の基板62に代えて、各構成が1つずつ個別に実装される複数の基板を含んでもよく、幾つかの構成がまとめて実装される複数の基板を含んでもよく、これらを組み合わせた複数の基板を含んでもよい。
MPU51は、カメラ10の全体の制御を担う。ASIC52は、撮像素子100から出力された画像信号を処理する。本実施形態におけるASIC52は、実装基板120、コネクタ180、第1フレキシブル基板250およびコネクタ184を介して、撮像素子100からの画像信号を受信する。このように、第1フレキシブル基板250は、一端が実装基板120のコネクタ180に接続され、他端が基板62のコネクタ184に接続される。
電源ユニット53は、カメラ10に取付けられた電池と、電池に蓄積された電力をカメラ10の各部に供給する電源回路とを含む。本実施形態における電源ユニット53は、コネクタ182、第2フレキシブル基板260、コネクタ180および実装基板120を介して、撮像素子100に電流を供給する。このように、第2フレキシブル基板260は、一端が実装基板120のコネクタ180に接続され、他端が基板62のコネクタ182に接続される。
ASIC52は、撮像素子100からの画像信号に基づいて、表示用の画像データを生成する。ASIC52は、撮像素子100の画像信号に対して例えば画像処理や圧縮処理を施すことで表示用の画像データを生成する。
ASIC52が生成した表示用の画像データは、表示部88に出力される。当該画像データは、カメラボディ30に装着された記録媒体に記録されてもよい。当該記録媒体は、カメラボディ30に着脱可能に構成されていてもよい。
表示部88は、基板ユニット60の基板62のz軸マイナス方向の位置に配置される。表示部88としては、例えば液晶パネル等を適用できる。表示部88の表示面は、カメラボディ30の背面に現れる。表示部88は、ASIC52が生成した表示用の画像データに基づいて画像を表示する。
なお、撮像ユニット40は2つ以上のコネクタを備えてもよい。換言すると、実装基板120の第2主面112上には2つ以上のコネクタが実装されてもよい。また、2つ以上のコネクタのそれぞれには、個別のフレキシブル基板が接続されてもよい。それぞれのコネクタ及びフレキシブル基板の組は、特定の用途に特化してもよい。また、複数の当該組の用途が互いに部分的に又は全て共通していてもよい。
図2は、一実施形態による、撮像ユニット40の一部を模式的に示す上面図である。図3は、図2のA-A断面を模式的に示す断面図である。ただし、図3においては、実線で示す撮像ユニット40の一部に追加して、ブラケット150、第1フレキシブル基板250および第2フレキシブル基板260を破線で示す。
撮像素子100は、撮像領域101と周辺領域102とを含んで構成される。図2に示す通り、撮像領域101および周辺領域102は共に、平面視において長方形である。
撮像領域101は、撮像素子100の中央部分に形成される。撮像領域101には、被写体光を光電変換する複数の光電変換素子が2次元に配置され、これにより、撮像素子100の撮像面が形成されている。各画素は、1つまたは複数の光電変換素子を含んで構成されている。
周辺領域102は、撮像領域101の周辺に位置する。周辺領域102は、光電変換素子における光電変換によって得られた画像信号を読み出して信号処理を行う処理回路104を含む。処理回路104は、出力された画像信号をデジタル信号に変換するAD変換回路を含む。また、処理回路104は、画像信号を伝送するための伝送回路105も含む。
撮像素子100は、実装基板120にCOB(Chip On Board)実装されている。撮像素子100は、接着部210によって実装基板120に固定される。接着部210は、例えば熱硬化性接着剤である。後述する他の接着部も、例えば熱硬化性接着剤である。
撮像素子100は、ボンディングワイヤ110を介して実装基板120と電気的に接続される。撮像素子100のAD変換回路でデジタル信号に変換された画像信号は、ボンディングワイヤ110を介して実装基板120に出力される。なお、撮像素子100は、実装基板120にフリップチップ実装されてもよい。
実装基板120は、第1層121と、芯層207と、第2層122とを含む。第1層121は、ソルダレジスト層201と、配線層202と、絶縁層203と、配線層204と、絶縁層205とを含む。第2層122は、絶縁層215と、配線層214と、絶縁層213と、配線層212と、ソルダレジスト層211とを含む。実装基板120は、芯層207をコア層として有する多層コア基板である。
実装基板120において、z軸マイナス方向に、ソルダレジスト層201、配線層202、絶縁層203、配線層204、絶縁層205、芯層207、絶縁層215、配線層214、絶縁層213、配線層212、ソルダレジスト層211の順で配されている。
絶縁層203、絶縁層205、絶縁層215及び絶縁層213は、例えば樹脂層である。絶縁層203等のそれぞれのz軸方向の厚みは、例えば20μm~50μmである。
配線層202、配線層204、配線層214及び配線層212は、配線パターンを含む。配線層202等の材料として、ニッケルと鉄の合金(例えば42alloy、56alloy)、銅、アルミニウム等を用いることができる。配線層202等が有する配線パターンそれぞれの厚みは、例えば10μm~50μmである。
芯層207は、金属で形成される。芯層207を金属で形成する場合、芯層207の材料として例えばニッケルと鉄の合金(例えば42alloy、56alloy)、銅、アルミニウム等を用いてよい。芯層207の厚みは、配線層202等のいずれの厚みよりも厚い。芯層207の厚みは、絶縁層203等のいずれの厚みよりも厚い。具体的には、芯層207の厚みは、例えば0.1mm~0.8mmである。
芯層207の剛性は、配線層202等のいずれの剛性よりも高い。芯層207の剛性は、第1層121の剛性より高くてもよい。芯層207の剛性は、第2層122の剛性より高くてもよい。
なお、芯層207は樹脂で形成されていてもよい。芯層207を樹脂で形成する場合、芯層207は、例えばFR4、FR4より弾性率の高い材料を用いて形成されてよい。芯層207を樹脂で形成する場合、z軸方向において芯層207は配線層に挟まれる。例えば、芯層207を樹脂で形成する場合、z軸マイナス方向に、ソルダレジスト層201、配線層202、絶縁層203、配線層204、芯層207、配線層214、絶縁層213、配線層212、ソルダレジスト層211の順で配されてよい。2層の配線層を追加で配する場合は、配線層204と芯層207との間に、配線層204に接触する追加の絶縁層と芯層207に接触する追加の配線層とがz軸マイナス方向に順に配され、芯層207と配線層214との間に、芯層207に接触する追加の配線層と、配線層214に接触する追加の絶縁層とをz軸マイナス方向に順に配される。
このように、実装基板120は、金属コアまたは樹脂コアを有する多層コア基板である。実装基板120の厚みは、例えば0.3mm~1.5mmであってよい。
配線層202の少なくとも一部は、撮像素子100からボンディングワイヤ110を介して出力された画像信号を受け取る配線パターンに使用される。配線層202は、ボンディングワイヤ110が接続されるボンディングパッド240を含む。
配線層204に含まれる配線パターン及び配線層214に含まれる配線パターンは、例えば、グランドライン、電源ライン等に使用できる。
撮像素子100は、ソルダレジスト層201上に配置され、ボンディングワイヤ110によってボンディングパッド240に電気的に接続される。ボンディングパッド240と配線層212とは、第1層121及び芯層207を貫通するビア131によって電気的に接続されている。ビア131は、絶縁体132により覆われている。撮像素子100から出力された画像信号は、配線層202及びビア131を介して、配線層212に伝送される。
ソルダレジスト層211上には、コネクタ180、バイパスコンデンサ群185、および、回路群187などの電子部品が実装される。換言すると、これらの電子部品は、実装基板120において撮像素子100が実装された第1主面111とは反対側の第2主面112上に実装される。ソルダレジスト層211上には、他の電子部品として、例えば抵抗、レギュレータ、トランジスタ等を含んでもよい。
これらの電子部品は、リード部材によって配線層212に電気的に接続される。当該リード部材は、配線層212にはんだ等で固定されている。配線層212の一部は、ソルダレジスト層211に形成された開口から外部に露出して、ランド等の電極を提供する。
フレーム140は、樹脂によって形成されている。フレーム140は、実装基板120のソルダレジスト層201に接着部220で接着される。すなわち、実装基板120は、フレーム140に固定される。
なお、フレーム140は、樹脂に金属体がインサートされて構成されてもよい。当該金属体の材料としては、ニッケルと鉄の合金(例えば42alloy、56alloy)、銅、アルミニウムを用いることができる。アルミニウムなどの軽量な材料を金属体の材料として用いれば、フレーム140を軽量化することができる。銅などの熱伝導率が比較的に高い材料を金属体の材料として用いれば、フレーム140からの放熱特性を高めることができる。
フレーム140は、第1面141と、第2面142と、第3面143と、第4面144と、第5面145と、第6面146とを有する。第6面146は、開口部138を形成する。第6面146は、フレーム140の内壁面を形成する。開口部138は、例えばxy面内の中央部分に形成される。開口部138内には、実装基板120の第1主面111上に実装されている撮像素子100が位置する。
第1面141は、カバーガラス160と接着部230により接着される面である。第1面141は、第6面146の端部に接する面である。第1面141は、第6面146の外縁に沿って形成される。第1面141は、xy平面と略平行な面である。
第2面142は、第1面141の端部に接する面である。第2面142は、第1面141の外縁に沿って形成される面である。第2面142は、yz平面に略平行な面と、xz平面に略平行な面とを有する。
第3面143は、第2面142の端部に接する面である。第3面143は、xy平面と略平行な面であり、第1面141と略平行な面である。
第4面144は、第3面143の端部に接する面である。第4面144は、第3面143の外縁に沿って形成される面である。第4面144は、yz平面に略平行な面と、xz平面に略平行な面とを有する。
第5面145は、第4面144の端部に接する面である。第5面145は、第4面144の外縁に沿って形成される面である。第5面145は、xy平面と略平行な面である。第5面145は、第1面141及び第3面143と略平行な面である。第5面145は、実装基板120のソルダレジスト層201と接着部220により接着される面である。第5面145は、接着部220に面する。第5面145は、第6面146の端部に接する面である。第5面145は、第6面146の外縁に沿って形成される。
フレーム140は、第1面141と第2面142と第3面143とにより形成された段部を有する。フレーム140は、取付部として取付穴148を有する。フレーム140は、例えば3つの取付穴148を有する。3つの取付穴148はいずれも第3面143から第5面145までを貫通する穴である。3つの取付穴148はいずれも、撮像ユニット40をカメラボディ30の筐体31等の他の構造体に取付けるために利用される。
フレーム140は、3つの取付穴148を介して、ビス149で例えばビス止めされることで、ブラケット150に固定される。ブラケット150は、例えばビス止めされることでカメラボディ30の筐体31に固定される。よって、撮像ユニット40は、カメラボディ30の筐体31に固定される。
取付穴148を用いてフレーム140とブラケット150とを例えば金属のビス149でビス止めした場合、撮像素子100が動作している場合に生じた熱を、ビス149を介して筐体31の方へ熱を逃がすための伝熱経路を形成することができる。
フレーム140は、位置決め穴147を有する。フレーム140は、例えば2つの位置決め穴147を有する。2つの位置決め穴147はいずれも第3面143から第5面145までを貫通する穴である。2つの位置決め穴147のうち、一方の位置決め穴は嵌合穴で形成され、他方の位置決め穴147は長穴で形成されている。
フレーム140は、2つの位置決め穴147を用いてブラケット150に対して位置決めされる。例えばブラケット150に設けられた2つの位置決めピンが2つの位置決め穴147に挿入されることで、フレーム140とブラケット150とが位置決めされる。フレーム140は、ブラケット150に対して位置決めされた状態で固定される。よって、撮像ユニット40は、筐体31に位置決めされた状態で固定される。なお、フレーム140及びブラケット150は、筐体31以外の他の構造体に対して固定されてよい。
なお、撮像ユニット40は、ブラケット150を介さずに筐体31に固定されてもよい。撮像ユニット40は、3つの取付穴148を介して例えばビス止めされることで、筐体31に固定されてよい。
カバーガラス160は、例えばホウケイ酸ガラス、石英ガラス、無アルカリガラス、耐熱ガラス、水晶などによって形成されている。カバーガラス160は、透光性を有している。カバーガラス160の厚みは、例えば0.5mm~0.8mmである。
カバーガラス160は、フレーム140の開口部138内に収容された撮像素子100を封止するために用いられる。より具体的には、カバーガラス160は、フレーム140の開口部138を覆うようにフレーム140に固定される。カバーガラス160は、撮像素子100、ボンディングワイヤ110及びフレーム140が実装基板120に実装された後に、フレーム140に固定される。カバーガラス160は、接着部230によりフレーム140と接着される。カバーガラス160は透光性を有するので、当該接着部230は光硬化型接着剤であってもよい。
カバーガラス160は、フレーム140及び実装基板120と共に、開口部138内の空間を密封する。従って、開口部138内に位置する撮像素子100は、実装基板120とフレーム140とカバーガラス160とによって密封された空間に配置される。これにより、撮像素子100は、外部環境の影響を受け難い。例えば、撮像素子100は、当該空間の外に存在する水分の影響を受け難い。これにより、撮像素子100の劣化を抑止することができる。
図4は、一実施形態による撮像ユニット40における、模式的な回路図である。撮像ユニット40の基板62において、電源ユニット53は電源回路部300を有する。
基板62に実装された電源回路部300は、第1の電源電圧V1を出力する。電源回路部300は、当該第1の電源電圧V1に基づき第2フレキシブル基板260等を経由して撮像素子100に印加されている第2の電源電圧V1′を、第2フレキシブル基板260等を経由して帰還させる。電源回路部300は更に、帰還により基板62側に現われた第3の電源電圧に基づいて、上記の第1の電源電圧V1を補正する。なお、以降の説明において、第1の電源電圧V1を電源回路部300の出力電圧V1と称する場合がある。同様に、第2の電源電圧V1′を撮像素子100の端子電圧V1′と称する場合がある。
換言すると、電源回路部300は、撮像素子100に印加されている電圧を一定に保つべく、第2フレキシブル基板260等を介して実装基板120の回路群187と共に、撮像素子100に印加されている電圧を電源回路部300にフィードバックするフィードバック経路を形成している。なお、電源回路部300は、撮像素子100に印加されている電圧を監視する、とも言える。
より具体的には、電源回路部300は、レギュレータの一例であるDCDC311を含む。本実施形態による電源回路部300は更に、コイル312、抵抗素子313、抵抗素子314およびコンデンサ315を含む。上述のフィードバック経路は、少なくともコイル312、抵抗素子313および抵抗素子314を含む。
DCDC311の一端は、電源ユニット53の正電源に接続され、正電源から正電圧Vccを入力される。DCDC311の他端は、コネクタ182、第2フレキシブル基板260の電源線261およびコネクタ180を介して撮像素子100の入力端子に電気的に接続される。
DCDC311は、正電源から入力される正電圧Vccをデューティー変調(パルス幅変調)し、出力電圧Vdcdcを出力する。後段のコイル312とコンデンサ315で平滑する事で所望の電圧に降下できる。DCDC311には、上記のフィードバック経路を介して、撮像素子100の端子電圧V1′が帰還される。DCDC311は、帰還された、すなわちフィードバックされた電圧V1′が、撮像素子100で規定されている端子電圧の正常な電圧範囲Vsen内となるように、DCDC311の出力電圧Vdcdcを自ら調整できるドライブ能力を有する。
撮像素子100の入力端子近傍の電圧V1′は、撮像素子100へ流れ込む消費電流が変化することによって変化する。そのため、DCDC311は、例えばDCDC311を流れる電流量が増えて端子電圧V1′が低下してきた場合に、端子電圧V1′が正常な電圧範囲Vsen内となるように、Vdcdcのデューティー比を上げる。すなわち電源回路部300の出力電圧V1を昇圧して、端子電圧V1′を引き上げる。なお、この昇圧動作は、DCDC311のドライブ能力内で可能となる。
コイル312は、DCDC311の他端とコネクタ182との間の経路上に配置される。すなわち、コイル312は、電源ユニット53の正電源と撮像素子100との間でDCDC311と共に順に直列接続される。なお、コイル312はインダクタンスLを有する。
抵抗素子313および抵抗素子314は、撮像素子100とDCDC311との間で順に直列接続される。より具体的には、抵抗素子313の一端は、コネクタ182、第2フレキシブル基板260のフィードバック線262およびコネクタ180を介して撮像素子100の入力端子に電気的に接続される。抵抗素子313の他端は抵抗素子314の一端およびDCDC311に接続される。抵抗素子314の他端はグランドGndおよびDCDC311に接続される。抵抗素子313および抵抗素子314はそれぞれ抵抗値Rfb1およびRfb2を有する。
図中に記号Cで示すコンデンサ315は、一端が基板62のグランドGndに接続され、他端がDCDC311の出力側に接続され、正電源からDCDC311を介して撮像素子100に供給される電流の変化を平滑化する。なお、コンデンサ315と同様に、図中に記号Cで示すコンデンサ188は、一端が実装基板120のグランドGcobに接続され、他端が撮像素子100の入力端子側に接続され、電源ユニット53の正電源から撮像素子100に供給される電流の変化を平滑化する。
図中に示すように、第2フレキシブル基板260の電源線261は抵抗値r2を有し、電源線261に接続されるコネクタ180、182のピンは抵抗値r1を有する。また、第2フレキシブル基板260のフィードバック線262は抵抗値r2′′を有し、フィードバック線262に接続されるコネクタ180、182のピンは抵抗値r1′′を有する。また、第2フレキシブル基板260のグランド線263は抵抗値r2′を有し、グランド線263に接続されるコネクタ180、182のピンは抵抗値r1′を有する。
近年、撮像素子の高画素化、高速読み出しに伴い、撮像素子の消費電力または消費電流が増大化する傾向にある。更に、メモリなどの大規模回路を搭載した積層型の撮像素子も登場し、撮像素子の消費電力の増大化に拍車をかけている。また一方で、撮像素子が駆動している期間には、画素に電荷を蓄積する期間、各画素の電荷に見合ったデジタル値にコード化、すなわちA/D変換している期間、輝度データを撮像素子から出力している期間、デジタルデータを撮像素子内のメモリに蓄積する期間など、多種多様な処理を行う期間が含まれ、これらの期間は互いに重複している場合がある。そのため、撮像素子においては、ある期間の消費電流量が通常量であっても、次の期間では、消費電流量が通常量を大きく超過する過大量へと急激に増加したり、また次の期間では、消費電流量が通常量に戻ったりするなど、消費電流量が急激に変化する場合がある。
撮像素子の端子電圧V1′には、上述のように、撮像素子が動作可能な電圧範囲Vsenが定められている。撮像素子の端子電圧V1′が当該電圧範囲Vsen外になるとエラーとして検出され、エラーが繰り返されると、撮像素子の動作が不安定になって正常な画像取得ができなくなったり、撮像素子の動作が停止したりする場合がある。
撮像素子に電力を供給する電源ユニットが、撮像素子が実装された実装基板以外の電源基板上に実装され、実装基板と電源基板とがコネクタおよびハーネス(以降、単にコネクタ付きハーネスと称する。)によって接続されている場合、コネクタ付きハーネスの抵抗成分が原因で電圧低下(電圧ドロップと称する場合がある。)が生じる。当該電圧降下は、撮像素子に供給される電流量に比例し、当該電流量が多いほど大きくなる。
撮像素子に安定した電圧を供給するためのレギュレータが電源基板上に実装され、レギュレータの出力電圧を一定に保つフィードバック経路が電源基板上のみに形成されている場合、実装基板側における撮像素子の端子電圧V1′は電源基板側のレギュレータにフィードバックされないため、レギュレータの出力電圧は上記の電圧降下を考慮したものにはならない。よって、撮像素子の消費電流量が大きい場合、撮像素子の端子電圧V1′は、電圧ドロップが原因で上述の電圧範囲Vsenの規定電圧下限を過渡的に下回る可能性が高まる。
その一方で、上記のレギュレータが実装基板上に実装されている場合、レギュレータを流れる電流量が増大すると、レギュレータのスイッチングノイズや熱ノイズが増加して、撮像素子の撮像性能が劣化する場合がある。一例として、スイッチングノイズはスイッチングレギュレータ(DCDC)のスイッチング動作が撮像素子内部のシーケンス動作と共振することによって引き起こされ、熱ノイズは、LDOのようなリニアレギュレータによって引き起こされる。熱ノイズは、リニアレギュレータで生じた熱が実装基板を介して撮像素子に伝導することで生じる撮像性能の劣化であり、例えば、温度上限リミットをオーバーしやすくなるためにカメラの連続撮影可能な枚数を少なくさせたり、カメラの露光可能な時間を短くしたり、撮像画像の一部をホワイトノイズで白浮きさせたりすることである。
そこで、撮像ユニット40によれば、第2フレキシブル基板260等を介して実装基板120に接続された基板62は、DCDC311を含む電源回路部300を有し、電源回路部300は、第2フレキシブル基板260等を介して、実装基板120上の撮像素子100に印加されている電圧を帰還させる。また、撮像ユニット40によれば、実装基板120にはレギュレータを設けない。
より具体的には、電源回路部300は、第1の電源電圧V1を出力するが、当該第1の電源電圧V1に基づき第2フレキシブル基板260等を経由して撮像素子100に印加されている第2の電源電圧V1′は、コネクタ180、182の接触抵抗r1および第2フレキシブル基板260の電源線261の伝送抵抗r2で電圧降下した分、V1よりも小さい。DCDC311、コネクタ182、第2フレキシブル基板260およびコネクタ180を流れる電流をI1とすると、当該電圧降下はI1(2r1+r2)[V]となる。当該電流I1の一部は、上記のフィードバック経路によって、撮像素子100の入力側の手前でフィードバック電流Ifbだけ分流させる。よって、第2の電源電圧V1′は、基板62のグランド電位Gndを基準として、V1′=V1-(I1-Ifb)(2r1+r2)となる。
電源回路部300は、第2の電源電圧V1′を、第2フレキシブル基板260等を経由してDCDC311に帰還させる。帰還により基板62側に現われる第3の電源電圧は、コネクタ180、182の接触抵抗r1′′および第2フレキシブル基板260のフィードバック線262の伝送抵抗r2′′で電圧降下した分Ifb(2r1′′+r2′′)だけV1′よりも小さい。フィードバック電流Ifbは、端子電圧V1′を用いて、Ifb=V1′/(Rfb2+Rfb1+2r1′′+r2′′)と表される。例えば、抵抗Rfb1を極大にすることによってフィードバック電流Ifbを電流I1に比べて極小にすることができ、フィードバック経路での電圧降下分Ifb(2r1′′+r2′′)を無視できるほど小さくすることができる。なお、フィードバック電流Ifbは抵抗素子314を経由してグランドGndに流れるので、Vfb=Ifb・Rfb2と表すことができる。
電源回路部300は、第3の電源電圧に基づいて第1の電源電圧V1を補正する。より具体的には、電源回路部300は、DCDC311にV1′をフィードバックさせ、第1の電源電圧V1に対して当該電圧降下分I1(2r1+r2)を補った電圧を出力する。
このように、本実施形態に係る撮像ユニット40によれば、実装基板120以外の基板62の電源ユニット53から、第2フレキシブル基板260等で電圧降下する分I1(2r1+r2)[V]を予め昇圧させた電圧を出力することができ、これによって、撮像素子100の端子電圧V1′が上記のように撮像素子100の規定電圧下限を下回る可能性を低減することができる。
また、撮像ユニット40によれば、電源ユニット53が実装された基板62と、第2フレキシブル基板260等と、撮像素子100が実装された実装基板120との間に上記のフィードバック経路が形成されている。これにより、撮像ユニット40によれば、上述のように撮像素子100の消費電流量が急激に変化しようとする場合にも、電源ユニット53における電源回路部300のDCDC311で、電源回路部300の出力電圧V1を調整することにより、撮像素子100の端子電圧V1′を上記の電圧範囲Vsenに収めることができる。
以上のように、撮像ユニット40によれば、撮像素子100の規定電圧を遵守できるため、安定した撮像素子100の動作を確保できる。
本実施形態による撮像ユニット40の電源ユニット53は、基板62のグランド電位Gndを基準として補正した電圧を出力しており、撮像素子100を経由した帰還電流I1-Ifbが、実装基板120のグランドGcobから、コネクタ180、第2フレキシブル基板260のグランド線263およびコネクタ182を介して基板62のグランドGndに流れるときの電圧降下分(I1-Ifb)(2r′+r2′)を補正していない。そのため、撮像素子100の端子電圧V1′が、実装基板120のグランド電位Gcobを基準とする上述の電圧範囲Vsenから外れる場合があり得る。そこで、撮像ユニット40は、コネクタ付きハーネスにおけるグランド線263のピン数を増やしてもよい。これにより、撮像ユニット40は、r′およびr2′を0Ωに近づけることができ、上記の電圧降下分(I1-Ifb)(2r′+r2′)の影響を極力減らすことができる。よって、撮像ユニット40は、撮像素子100の端子電圧V1′が上述の電圧範囲Vsenから外れる可能性をより一層低減することができる。
また、本実施形態に係る撮像ユニット40によれば、実装基板120にはレギュレータを設けないので、レギュレータのスイッチングノイズや熱ノイズが撮像素子100に影響を与えることを抑止することができ、よって、撮像素子100の撮像性能が劣化することを抑止することができる。
なお、基板62の電源ユニット53において、電源回路部300のDCDC311は、LDOのようなリニアレギュレータであってもよい。以降の実施形態においても同様とし、重複する説明を省略する。
図5は、一実施形態による撮像ユニット41における、模式的な回路図である。本実施形態において、図1から4を用いて説明した実施形態と同じ構成には同じ又は対応する参照番号を付し、重複する説明を省略する。以降の実施形態の説明においても同様とする。
本実施形態では、図1から4を用いて説明した実施形態と異なる点として、撮像ユニット41の電源回路部301は追加的に、実装基板120のグランド電位Gcobを第2フレキシブル基板260を経由して帰還させ、帰還により基板62側に現われた第2のグランド電位Vgsを検知する検知部320を有する。他の異なる点として、上記のフィードバック経路における抵抗素子313と抵抗素子314との間には、DCDC311に加えて、検知部320の一端が接続される。
図6は、図5における電源ユニット53の模式的な回路図である。検知部320は、OPアンプ321と、4つの抵抗素子326、322、323、325と、トランジスタ324とを有する。図6中、抵抗素子326および抵抗素子322の抵抗を、それぞれR1、R2で示す。
OPアンプ321の非反転入力端子(+)は、第2フレキシブル基板260のグランド線263等を介して実装基板120のグランド電位Gcobに接続され、すなわち、第2のグランド電位Vgsに接続される。
撮像ユニット41に通常以上の電流I1が流れる場合、第2のグランド電位Vgsは、撮像素子100を経由した帰還電流I1-Ifbが、実装基板120のグランドGcobから第2フレキシブル基板260等を介して基板62のグランドGndに流れるときの電圧降下分(I1-Ifb)(2r′+r2′)[V]である。撮像ユニット41に電流I1が流れない又は電流I1が微小である場合は、第2のグランド電位Vgs≒0である。
OPアンプ321の反転入力端子(-)は、抵抗素子322を介してOPアンプ321の出力端子に接続され、且つ、抵抗素子326の一端に接続される。抵抗素子326の他端は電源ユニット53のグランド電位Gndに接続される。OPアンプ321の出力端子は、抵抗素子322と並列接続された抵抗素子323の一端にも接続され、抵抗素子323の他端はトランジスタ324のベースに接続される。
トランジスタ324のコレクタは、抵抗素子325を介して、上記のフィードバック経路における抵抗素子313と抵抗素子314との間に接続される。トランジスタ324のエミッタは、グランド電位Gndに接続される。
検知部320は、撮像ユニット41に電流I1が流れることで第2のグランド電位Vgsを検知した場合、第2のグランド電位Vgsに応じた補正電流Igcの流れを生じさせることにより、DCDC311のフィードバック電位Vfbに第2のグランド電位Vgsを導入する。これにより、本実施形態に係る電源回路部301は、検知部320で検知した第2のグランド電位Vgsに基づいて第1の電源電圧V1を更に補正する。なお、OPアンプ321、トランジスタ324等を有する検知部320は、検知電位に応じた電流をシンクする、すなわち吸い込む機能を有する回路、とも言える。
より具体的には、検知部320に対して、第2のグランド電位Vgsを補正電流Igcに変換する変換係数Kviが予め設定され、Igc=Kvi・Vgsと定義する。上述した通り、DCDC311へ帰還するフィードバック電位VfbはVfb=Ifb・Rfb2で表される。ここで、上記の補正電流Igcが上記のフィードバック経路における抵抗素子313と抵抗素子314との間から検知部320に向けて流れた場合、VfbはVfb=(Ifb-Igc)Rfb2=(Ifb-Kvi・Vgs)Rfb2となる。つまり、第2のグランド電位Vgsを補正電流Igcに変換すれば、第2のグランド電位VgsもDCDC311のフィードバック電位Vfbとして補正することができる。
検知部320の動作を更に詳述する。OPアンプ321の入力端子電圧がハイインピーダンス(≒∞[Ω])の場合、コネクタ付きハーネスの抵抗(r1′′、r2′′)での電圧降下分は無視できるほどに小さくなる。この場合、Vgs=Gcob[V]となる。また、OPアンプ321の出力端子電圧は、Vop=Vgs(1+R2/R1)で定義される。
撮像ユニット41に電流I1が流れない又は電流I1が微小である場合は、第2のグランド電位Vgs≒0であるので、OPアンプ321の出力電位VopはVop≒0[V]となる。この場合、トランジスタ324のベースにはベース電流ibが流れないので、トランジスタ324のコレクタにはコレクタ電流として補正電流Igcが流れず、Igc=0[A]となる。よって、この場合には、電源回路部301は、第2のグランド電位Vgsに基づく第1の電源電圧V1の補正を行わない。
撮像ユニット41に通常以上の電流I1が流れ、検知部320が第2のグランド電位Vgsを検知した場合、OPアンプ321の出力電圧は、Vop=Vgs(1+R2/R1)となり、トランジスタ324のベースにはベース電流ibが流れるので、トランジスタ324のコレクタにはコレクタ電流として補正電流Igcが流れる。この場合、Igc=hFE・ibで定義される。ただし、hFEはトランジスタ324の直流電流増幅率とする。
以上の実施形態による撮像ユニット41も、図1から4を用いて説明した実施形態と同様の効果を有する。また、本実施形態に係る撮像ユニット41によれば、基板62の電源ユニット53からの出力電圧に対して、電流I1が基板62から第2フレキシブル基板260等を介して実装基板120に流れるときの電圧降下分I1(2r1+r2)[V]だけでなく、撮像素子100を経由した帰還電流I1-Ifbが、実装基板120のグランドGcobから第2フレキシブル基板260等を介して基板62のグランドGndに流れるときの電圧降下分(I1-Ifb)(2r′+r2′)[V]も、予め昇圧させて出力することができる。
図7は、一実施形態による撮像ユニット42における、模式的な回路図である。本実施形態では、図1から4を用いて説明した実施形態と異なる点として、撮像ユニット41の電源回路部302は追加的に、差動増幅回路330を更に有する。電源回路部302の差動増幅回路330は、抵抗素子313および抵抗素子314と共に、上記のフィードバック経路上で、撮像素子100とDCDC311との間で順に直列接続される。
差動増幅回路330は、OPアンプ331と、4つの抵抗素子334、332、333、335とを有する。図7に示すように、4つの抵抗素子334、332、333、335の抵抗値はRで等しい。このように、4つの抵抗素子334、332、333、335の抵抗の値が同じとなるように構成すると、差動増幅回路330はゲイン1倍の差動増幅回路となる。
OPアンプ331の反転入力端子(-)は、第2フレキシブル基板260のグランド線263等と、抵抗素子334とを介して実装基板120のグランド電位Gcobに接続される。OPアンプ331の反転入力端子(-)はまた、抵抗素子335を介してOPアンプ331の出力端子にも接続される。
OPアンプ321の非反転入力端子(+)は、抵抗素子332と、第2フレキシブル基板260のフィードバック線262等とを介して、撮像素子100の入力端子側に接続される。OPアンプ321の非反転入力端子(+)と抵抗素子332との間において、抵抗素子333の一端が接続され、抵抗素子333の他端はグランド電位Gndに接続される。OPアンプ331の出力端子は、抵抗素子335と並列接続された抵抗素子313にも接続される。
また、本実施形態では、実装基板120のコネクタ180、第2フレキシブル基板260、および、基板62のコネクタ182における、実装基板120のグランド電位Gcobが帰還する経路の抵抗(r1′′、r2′′)と、撮像素子100に印加されている第2の電源電圧V1′が帰還する経路の抵抗(r1′′、r2′′)とは等しい。すなわち、第2フレキシブル基板260のグランド線263およびフィードバック線262の抵抗値は何れもr2′′であり、グランド線263およびフィードバック線262のそれぞれに接続されるコネクタ180、182のピンは何れも抵抗値r1′′である。
差動増幅回路330は、帰還により基板62側に現われた第3の電源電圧Vfbと、第2のグランド電位との差を、出力電圧Vopとして出力端子に出力する。第2のグランド電位は、実装基板120のグランド電位Gcobを第2フレキシブル基板260等を経由して基板62側に帰還させ、帰還により基板62側に現われた電圧である。なお、図7中、第2のグランド電位を(Vfb)と示している。
図7中に示すように、OPアンプ331の非反転入力端子(+)にはフィードバック電流Ifbが流れ込み、OPアンプ331の反転入力端子(-)にはフィードバック電流Ifb′が流れ込む。フィードバック線262等を介して撮像素子100の端子電圧V1′側に接続されたOPアンプ331の非反転入力端子(+)の電位Vfbは、グランド電位Gnd基準で、Vfb=V1′・R/(R+R)=V1′/2となる。また、Ifb=V1′/(R+R)=V1′/2Rで表される。
OPアンプ331の出力電位Vopは、抵抗素子335を介してOPアンプ331の出力端子にも接続されたOPアンプ331の反転入力端子(-)の電位が非反転入力端子(+)と同電位のVfbとなるように動作する。具体的には、フィードバック電流Ifbが抵抗素子335を流れることで電圧降下する分R・Ifbを考慮して、Vop=Vfb+R・Ifbとなるように動作する。当該式にVfb=V1′/2およびIfb=V1′/2Rを代入すると、Vop=V1′となる。これは、差動増幅回路330の出力電圧Vopが、実装基板120における撮像素子100の端子電圧V1′を、電源基板である基板62のグランド電位Gnd基準でそのまま出力していることを表している。
すなわち、電源回路部302は、第2フレキシブル基板260の電源線261等での電圧降下分と、実装基板120のグランド電位Gcobから基板62のグランド電位Gndへ帰還電流が流れることに起因する第2フレキシブル基板260のグランド線263等での電圧降下分とを個別に検出するのではなく、これらの電圧降下分の差分をそのまま差動増幅回路330の出力電圧に再現し、すなわち当該差分を直接検出している。
電源回路部302は、差動増幅回路330の出力電圧Vopとして出力される上記の差に基づいて、上述の第1の電源電圧V1を補正する。すなわち、電源回路部302は、撮像素子100の端子電圧V1′をそのままDCDC311にフィードバックすることによって、電源回路部302の出力電圧V1を補正する。
以上の実施形態による撮像ユニット42も、図1から4を用いて説明した実施形態と同様の効果を有する。また、本実施形態に係る撮像ユニット42によれば、コネクタ付きハーネスの接触抵抗、伝送抵抗の影響を排除して、電源ユニット53の遠方の電圧である端子電圧V1′を正確に電源ユニット53のグランドGnd基準で再現することができる。撮像ユニット42は、コネクタ付きハーネスでの電圧降下分を補正する精度が高い、とも言える。
図8は、一実施形態による撮像ユニット43における、模式的な回路図である。本実施形態では、図7を用いて説明した実施形態と異なる点として、電源回路部303は、電源ユニット53における小さなフィードバックループからなるフィードバック経路と、差動増幅回路330の出力端子と基板62のグランドGndとの間の分圧経路とを有する。
フィードバック経路は、抵抗素子313および抵抗素子314が直列して配され、基板62において、電源回路部303が出力する第1の電源電圧V1を電源回路部303のDCDC311にフィードバックする。分圧経路は、差動増幅回路330の出力端子と基板62のグランドGndとの間の経路上で直列に接続された抵抗素子336と抵抗素子337とを含む。
図8中に示すように、抵抗素子313および抵抗素子314の抵抗をそれぞれRfb1およびRfb2とし、抵抗素子336および抵抗素子337の抵抗をそれぞれRfb1′およびRfb2′とする。
抵抗素子336および抵抗素子337の抵抗比率Rfb1′:Rfb2′と抵抗素子313および抵抗素子314の抵抗比率Rfb1:Rfb2とは同じである。更に、抵抗素子313および抵抗素子314の間と抵抗素子336および抵抗素子337の間とは短絡している。
図7を用いて説明した通り、差動増幅回路330は、上述の第3の電源電圧Vfbと、第2のグランド電位との差を、出力電圧V1fbとして出力端子に出力する。第2のグランド電位は、実装基板120のグランド電位Gcobを第2フレキシブル基板260等を経由して基板62側に帰還させ、帰還により基板62側に現われた電圧である。
撮像ユニット43に電流I1が流れない又は電流I1が微小である場合は、第2フレキシブル基板260等での電圧降下が生じないため、差動増幅回路330の出力電圧V1fbは、V1fb=V1′となる。また、差動増幅回路330の出力電位はDCDC311のフィードバック電位Vfb′と等電位であるため、抵抗素子313および抵抗素子314の間から抵抗素子336および抵抗素子337の間に向かって補正電流Ifcは流れない。
電源回路部303の出力電圧V1は、V1=Ifb・Rfb1+Vfb′で表すことができる。撮像ユニット43に通常以上の電流I1が流れる場合、第2フレキシブル基板260等の電圧降下が生じ、V1fb>V1′となる。このときに、電気的な平衡が崩れ、上記の補正電流Ifcが流れる。これにより、電源回路部303の補正後の出力電圧V1′は、V1′=(Ifc+Ifb)・Rfb1+Vfb′となる。すなわち、補正電流Ifcが流れた分だけ、DCDC311の出力電圧V1′は高い電圧となり、第2フレキシブル基板260等で電圧降下した分をDCDC311が補正して出力できたことになる。なお、DCDC311は、それ自体が構築している基準電圧VrefとVfb′が、Vref=Vfb′となるように制御されている。
以上の実施形態による撮像ユニット43も、複数の図を用いて説明した実施形態と同様の効果を有する。また、本実施形態に係る撮像ユニット43によれば、電源ユニット53の遠方の電圧である端子電圧V1′がV1から電圧降下した分を正確に電源ユニット53のグランドGnd基準で再現している。当該電圧降下分は端子電圧V1′に比べて大幅に小さいため、端子電圧V1′を再現する場合に比べて、電流値の増減に応じて電圧降下する分を補正して追従する際の遅延量を抑えることができ、電源システム全体が発振することを抑止することができる。
図9は、一実施形態による撮像素子100の消費電流変化と端子電圧変化との関係の一例を示すグラフである。図9に示すグラフは、図1から図8を用いて説明した複数の実施形態における、撮像素子100の消費電流変化と端子電圧変化との関係を示してもよい。
グラフの横軸は時間[s]を指し、縦軸は撮像素子100の端子電圧V2[V]および消費電流[A]を指す。また、グラフ中、上述した規定電圧上限および規定電圧下限をそれぞれ破線の直線で示す。
撮像素子100に通常時の電流α[A]が流れ込む場合、端子電圧V1′は、電源回路部の出力電圧V1がコネクタ180、182の接触抵抗r1および第2フレキシブル基板260の伝送抵抗r2で電圧降下した分、すなわちα(2r1+r2)[V]だけ電圧ドロップする(ドロップ後の電圧はV1α=V1-α(2r1+r2))。しかしながら、各実施形態に係る撮像ユニットの電源回路部は、端子電圧V1′の帰還電圧に基づいて当該電圧ドロップ分を補正した電圧を出力するため、端子電圧V1′=Vsenとなるように維持できる。
撮像素子100に大電流β[A]が流れ込む場合も、各実施形態に係る撮像ユニットの電源回路部は、端子電圧V1′の帰還電圧に基づいて当該電圧ドロップ分を補正した電圧を出力するため、端子電圧V1′=Vsenとなるように維持できる。すなわち、各実施形態に係る撮像ユニットによれば、撮像素子100の消費電流量が急激に変化する場合にも、撮像素子100の端子電圧V1′を、撮像素子100が動作可能な電圧範囲内Vsenに保つことができる。すなわち、撮像素子100の端子電圧V1′が、電源回路部のレギュレータのドライブ能力を上回ってVsenの規定電圧上限を過渡的に上回るオーバーシュートや、Vsenの規定電圧下限を過渡的に下回るアンダーシュートが発生することを防止できる。すなわち、各実施形態に係る撮像ユニットは、撮像素子100の規定電圧を遵守できるため、安定した撮像素子100の動作を確保できる。
以上の複数の実施形態において、撮像ユニットには、多種多様な電源回路が10個程度載せられている場合があり、その中には、実装基板に載せるべき電源回路、例えばアナログ系の電源回路が存在する。例えば、撮像素子の画素回路を駆動するための電力を供給する画素電源は、電源のふらつきに起因するノイズが画素系に与える信号に影響することを抑止するために、撮像素子を実装する基板に載せることが好ましい。
そこで、複数の実施形態に係る撮像ユニットでは、電源回路の種類に応じて、実装基板および電源基板における第1の電源回路部および第2の電源回路部の配置を異ならせてもよい。例えば、ノイズに弱い電源回路ならば、LDOなどのレギュレータを実装基板上に配置してノイズの混入を少なくしてもよい。例えば、デジタル系の電源回路ならば、ノイズが影響しても比較的余裕度があるので、DCDCなどのレギュレータを電源基板上に配置してもよい。なお、撮像ユニットの実装基板に第1の電源回路部および第2の電源回路部の両方が実装される場合、電源基板は、撮像ユニットに含まれない、独立した構成要素と考えてもよい。
以上の複数の実施形態において、レンズユニット及びカメラボディを含むカメラを、撮像装置の一例として取り上げて説明した。しかし、撮像装置は、レンズユニットを含まなくてよい。例えば、カメラボディは撮像装置の一例である。また、撮像装置とは、一眼レフレックスカメラ等のレンズ交換式の撮像装置の他に、レンズ非交換式の撮像装置を含む概念である。
なお、ASICや電源ユニットなどを含めて撮像ユニットと呼ぶ場合もある。また、追加的に又は代替的に、第1フレキシブル基板や第2フレキシブル基板などを含めて撮像ユニットと呼ぶ場合もある。
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
特許請求の範囲、明細書、および図面中において示した装置、システム、プログラム、および方法における動作、手順、ステップ、および段階等の各処理の実行順序は、特段「より前に」、「先立って」等と明示しておらず、また、前の処理の出力を後の処理で用いるのでない限り、任意の順序で実現しうることに留意すべきである。特許請求の範囲、明細書、および図面中の動作フローに関して、便宜上「まず、」、「次に、」等を用いて説明したとしても、この順で実施することが必須であることを意味するものではない。