JP7670231B2 - セリウム系研磨材、研磨液、研磨液の製造方法、及びガラス研磨方法 - Google Patents

Description

本発明は、液晶パネル、ハードディスク、特定周波数カット用フィルター等に使用されるガラス基板、光学レンズ用ガラス基板等のガラス材の研磨に用いられる、セリウム系研磨材、研磨液、研磨液の製造方法、及びガラス研磨方法に関する。

ガラス材は、様々な用途に用いられており、その用途によっては表面研磨が必要な場合がある。特に、液晶パネル、ハードディスク、特定周波数カット用フィルター等に使用されるガラス基板、光学レンズ用ガラス基板等のガラス材は、高い平滑度かつ高効率での表面研磨加工が求められている。

このような優れた研磨性能が求められるガラス材の表面研磨加工においては、例えば、特許文献１や特許文献２に記載されているようなセリウム系研磨材が多用されている。

国際公開第２００５／０４２６６１号 国際公開第２００２／０３１０７９号

ガラス研磨材としては、一般的にセリウム系研磨材が用いられており、ランタンを含有するものが多く用いられている。セリウム系研磨材は、水で分散させたスラリーで使用するのが一般的である。そのスラリーは中性からアルカリ性であり、使用者によっては使用者の皮膚に刺激を与え、肌荒れや皮膚炎等の症状が見られる問題があった。そのため、より皮膚刺激が低い取扱い性に優れたセリウム系研磨材が求められていた。

本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、肌荒れ及び皮膚炎の発生が抑制されたセリウム系研磨材、研磨液、研磨液の製造方法、及びガラス研磨方法を提供することを課題とする。

本発明は、ランタン及びセリウムを含む混合希土類研磨材粒子を含有するセリウム研磨材において、全希土類元素の酸化物換算含有量（ＴＲＥＯ）中の前記セリウムの酸化物換算含有量が５５．０質量％以上であり、前記セリウム系研磨材を含み、所定の方法により得られた混合液中におけるランタン溶解量が、４０ｍｇ／Ｌ以下であることで、皮膚に付着した際に発生する肌荒れや皮膚炎を低減できることを見出したことに基づく。

すなわち、本発明は、以下の［１］～［１６］を提供するものである。
［１］ ランタン及びセリウムを含む混合希土類研磨材粒子を含有するセリウム系研磨材であって、
全希土類元素の酸化物換算含有量（ＴＲＥＯ）中における前記セリウムの酸化物換算含有量が５５．０質量％以上であり、
１００ｍＬポリエチレン容器に、前記セリウム系研磨材１０ｇ及び純水４０ｇを入れると共にビーズとして粒径が１ｍｍのジルコニアビーズ１３０ｇを入れ、ボールミル架台を用いて、容器回転数２１０ｒｐｍにて３０分間、前記セリウム系研磨材の粉砕処理を行うことにより得られた混合液中におけるランタン溶解量が、４０ｍｇ／Ｌ以下である、セリウム系研磨材。
［２］ さらにランタン溶解抑制剤を含有する、上記［１］に記載のセリウム系研磨材。
［３］ 前記混合希土希土類研磨材粒子を含有する第一剤と、
ランタン溶解抑制剤を含有する第二剤と、
を含有する二剤型である、上記［１］に記載のセリウム系研磨材。
［４］ フッ素原子を０．１～１０質量％含有する、上記［１］に記載のセリウム系研磨材。
［５］ 前記ＴＲＥＯ中における前記ランタンの酸化物換算含有量が０．０１～４５．０質量％である、上記［１］に記載のセリウム系研磨材。
［６］ 前記ランタン溶解抑制剤が、アルカリ金属の炭酸塩、アルカリ金属のリン酸塩、アルカリ金属の水酸化物塩、アルカリ金属の硫酸塩、アルカリ金属の硝酸塩、アルカリ金属の有機酸塩、アルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ土類金属のリン酸塩、アルカリ土類金属の水酸化物塩、アルカリ土類金属の硫酸塩、アルカリ土類金属の硝酸塩、アルカリ土類金属の有機酸塩、アンモニウムの炭酸塩、アンモニウムのリン酸塩、アンモニウムの水酸化物塩、アンモニウムの硫酸塩、アンモニウムの硝酸塩、及びアンモニウムの有機酸塩から選ばれる１種以上である、上記［２］又は［３］に記載のセリウム系研磨材。
［７］ 前記ランタン溶解抑制剤が、アルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ土類金属のリン酸塩、アルカリ土類金属の有機酸塩、及びアルカリ金属の炭酸塩から選ばれる１種以上である、上記［６］に記載のセリウム系研磨材。
［８］ 前記ランタン溶解抑制剤の分子量が３００以下である、上記［２］又は［３］に記載のセリウム系研磨材。
［９］ 前記混合希土類研磨材粒子１００質量部に対して、前記ランタン溶解抑制剤を０．００１～０．９質量部含む、上記［２］又は［３］に記載のセリウム系研磨材。
［１０］ 上記［１］に記載のセリウム系研磨材と、水及び水溶性有機溶媒から選ばれる１種以上を含有する、研磨液。
［１１］ 上記［１０］に記載の研磨液の製造方法であって、
前記セリウム系研磨材と、
前記水及び前記水溶性有機溶媒から選ばれる１種以上と、
を混合してスラリー化する工程（Ｉ）を含む、研磨液の製造方法。
［１２］ 前記セリウム系研磨材は、前記ランタン溶解抑制剤を含有する、上記［１１］に記載の研磨液の製造方法。
［１３］ 上記［１０］に記載の研磨液の製造方法であって、
前記セリウム系研磨材と、
前記ランタン溶解抑制剤と、
前記水及び前記水溶性有機溶媒から選ばれる１種以上と、
を混合してスラリー化する工程（ＩＩ）を含む、研磨液の製造方法。
［１４］ 上記［１０］に記載の研磨液の製造方法であって、
前記セリウム系研磨材と、
前記水及び前記水溶性有機溶媒から選ばれる１種以上と、
を混合してスラリー化する工程（ＩＩＩ）と、
前記工程（ＩＩＩ）で得られたスラリーに、
前記ランタン溶解抑制剤を添加混合する工程（ＩＶ）を含む、研磨液の製造方法。
［１５］ 前記セリウム系研磨材は、前記溶解抑制剤を含有しない、上記［１４］に記載の研磨液の製造方法。
［１６］ 上記［１０］に記載の研磨液を用いて研磨を行う、ガラス研磨方法。

本発明によれば、肌荒れ及び皮膚炎の発生が抑制されたセリウム系研磨材、研磨液、研磨液の製造方法、及びガラス研磨方法を提供することができる。

以下、本発明のセリウム系研磨材、研磨液、研磨液の製造方法、及びガラス研磨方法の実施形態を詳細に説明する。
なお、本明細書において、「体積基準の累積粒度分布における５０％粒子径」及び「Ｄ_５０」とは、レーザー回折・散乱法によって測定される粒度分布から求めた、体積基準の累積粒径分布において５０％となる粒子径である。具体的には、下記実施例に記載のマイクロトラック粒度分布計で測定された値である。

［セリウム系研磨材］
本実施形態のセリウム系研磨材は、ランタン及びセリウムを含む混合希土類研磨材粒子を含有するセリウム系研磨材であって、全希土類元素の酸化物換算含有量（ＴＲＥＯ；Total Rare Earth Oxidesの略称）中における前記セリウムの酸化物（ＣｅＯ₂）換算含有量（以下、「ＣｅＯ_２量／ＴＲＥＯ」と表記する。）が５５．０質量％以上である。
そして、１００ｍＬポリエチレン容器に、前記セリウム系研磨材１０ｇ及び純水４０ｇを入れると共にビーズとして粒径が１ｍｍのジルコニアビーズ１３０ｇを入れ、ボールミル架台を用いて、容器回転数２１０ｒｐｍにて３０分間、前記セリウム系研磨材の粉砕処理を行うことにより得られた混合液中におけるランタン溶解量が、４０ｍｇ／Ｌ以下である。

本実施形態のセリウム系研磨材中のＴＲＥＯは、混合希土類研磨材粒子を由来とするものである。
前記混合希土類研磨材粒子中のＴＲＥＯは、研磨速度向上の観点から、好ましくは８５．０質量％以上、より好ましくは９０．０質量％以上、さらに好ましくは９２．０質量％以上であり、ＴＲＥＯを構成する元素以外の元素を含有させ、研磨速度をさらに向上させる観点、及び研磨面の表面欠陥の発生を抑制する観点から、好ましくは９９．０質量％以下、より好ましくは９８．０質量％以下、さらに好ましくは９５．０質量％以下である。

ＴＲＥＯ中における前記セリウムの酸化物（ＣｅＯ₂）換算含有量（ＣｅＯ_２量／ＴＲＥＯ）は、５５．０質量％以上であり、研磨速度向上の観点から、好ましくは６０．０質量％以上、より好ましくは６２．０質量％以上、さらに好ましくは６４．０質量％以上である。また、ＣｅＯ_２量／ＴＲＥＯは、Ｃｅ以外の希土類元素の含有量を確保し、研磨面の表面欠陥の発生を抑制する観点から、好ましくは９０．０質量％以下、より好ましくは８０．０質量％以下、さらに好ましくは７５．０質量％以下、さらにより好ましくは７０．０質量％以下である。

ＴＲＥＯ中における前記ランタンの酸化物（Ｌａ_２Ｏ_３）換算含有量（以下、Ｌａ_２Ｏ_３量／ＴＲＥＯと表記する。）は、研磨面のスクラッチの発生を抑制する観点から、好ましくは０．０１質量％以上、より好ましくは１．０質量％以上、さらに好ましくは１０．０質量％以上、よりさらに好ましくは２０．０質量%以上、よりさらに好ましくは３０．０質量％以上である。Ｌａ_２Ｏ_３量／ＴＲＥＯは、ＴＲＥＯ中におけるＣｅ量が５５．０質量％以上であることから４５．０質量％以下であり、研磨速度向上の観点、並びにより肌荒れ及び皮膚炎を低減する観点から、好ましくは４０．０質量％以下、より好ましくは３７．０質量％以下、さらに好ましくは３５．０質量％以下である。

なお、ＴＲＥＯは、シュウ酸塩沈殿、焼成及び重量法により測定することができ、具体的には、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。
また、ＣｅやＬａ等の各希土類元素の含有量は、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）分析や蛍光Ｘ線分析等の機器分析により測定することができ、本実施形態では、ＩＣＰ発光分光分析（ＩＣＰ－ＡＥＳ）による測定値から、各希土類元素を酸化物として換算した値を酸化物換算量とする。

本実施形態のセリウム系研磨材が、肌荒れや皮膚炎を抑制できる理由は定かではないが、次のように考えられる。
セリウム系研磨材に含まれるランタンは、セリウム系研磨材の製造時や、スラリー化した際に、水や水溶性有機溶媒等に、ランタンイオンとして溶出し、溶解する。液体中のランタン溶解量が多いと、セリウム系研磨材の原料由来の塩化物イオン等と結びつき、毒性の強い塩化ランタン等を生成し、人体の皮膚に付着して肌荒れや皮膚炎を生じさせる。一方、ランタン溶解量を４０ｍｇ／Ｌ以下と低濃度とすることで、塩化物ランタン等の生成が抑制され、その結果、肌荒れや、皮膚炎等の発生が抑制されると考えられる。

上記所定の方法により得られた混合液中におけるランタン溶解量は、４０ｍｇ／Ｌ以下であり、より肌荒れ及び皮膚炎の発生を抑制する観点から、好ましくは３５ｍｇ／Ｌ以下、より好ましくは３０ｍｇ／Ｌ以下、さらに好ましくは２５ｍｇ／Ｌ以下であり、コストの観点から、好ましくは０．１ｍｇ／Ｌ以上、より好ましくは０．５ｍｇ／Ｌ以上、さらに好ましくは１．０ｍｇ／Ｌ以上である。なお、本実施形態のセリウム系研磨材を、実機にてスラリー状態で用いる場合、スラリー中の、セリウム系研磨材と分散媒である水、水溶性有機溶剤との比率は上記所定の方法の場合と異なることもあるが、当該測定方法で測定されたランタン溶解濃度以下であれば、本実施形態の効果は発現する。
なお、本明細書において、「ランタン溶解量」とは、ＩＣＰ分析から算出される値であり、具体的には、下記実施例に記載の方法により算出される値である。

セリウム系研磨材の製造時や、スラリー化した際に、ランタンイオンと共にセリウム系研磨材の原料由来の塩化物イオンも、水や水溶性有機溶媒等に溶解する。
上記所定の方法により得られた混合液中における塩素溶解量は、より肌荒れ及び皮膚炎の発生を抑制する観点から、好ましくは４０ｍｇ／Ｌ以下、より好ましくは３５ｍｇ／Ｌ以下、さらに好ましくは２５ｍｇ／Ｌ以下であり、コストの観点から、好ましくは０．１ｍｇ／Ｌ以上、より好ましくは０．５ｍｇ／Ｌ以上、さらに好ましくは１．０ｍｇ／Ｌ以上である。
なお、本明細書において、「塩素溶解量」とは、ＩＣ分析から算出される値であり、具体的には、下記実施例に記載の方法により算出される値である。

本実施形態のセリウム系研磨材の粒径（Ｄ_５０）は、セリウム系研磨材を良好な生産性で製造する観点から、好ましくは０．１０μｍ以上、より好ましくは０．３μｍ以上、さらに好ましくは０．５μｍ以上、よりさらに好ましくは０．７μｍ以上であり、研磨傷を低減し研磨面を良好に平滑化できる、優れた研磨性能を得る観点から、Ｄ_５０が好ましくは１０．０μｍ以下、より好ましくは５．０μｍ以下、さらに好ましくは３．０μｍ以下である。

本実施形態のセリウム系研磨材の比表面積は、研磨面のスクラッチ（傷）の発生を抑制する観点から、好ましくは１．０ｍ^２／ｇ以上、より好ましくは２．０ｍ^２／ｇ以上、さらに好ましくは３．０ｍ^２／ｇ以上であり、研磨速度向上の観点から、好ましくは１０．０ｍ^２／ｇ以下、より好ましくは８．０ｍ^２／ｇ以下、さらに好ましくは７．０ｍ^２／ｇ以下、よりさらにより好ましくは６．０ｍ^２／ｇ以下である。
なお、本明細書において、比表面積はＢＥＴ法（一点法）により測定された値である。

本実施形態のセリウム系研磨材は、研磨速度向上の観点から、フッ素原子を含んでもよい。
セリウム系研磨材がフッ素原子を含む場合、セリウム系研磨材中におけるフッ素原子含有量は、研磨速度向上の観点から、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは１．０質量％以上、さらに好ましくは３．０質量％以上であり、研磨面のスクラッチの発生を抑制する観点から、好ましくは１０．０質量％以下、より好ましくは９．０質量％以下、さらに好ましくは８．０質量％以下、よりさらに好ましくは７．０質量％以下である。
セリウム系研磨材中のフッ素原子含有量は、該セリウム系研磨材をアルカリ溶融して水溶液化し、イオン電極法により測定することができる。

本実施形態のセリウム系研磨材中におけるＴＲＥＯは、研磨速度向上の観点から、好ましくは８５．０質量％以上、より好ましくは９０．０質量％以上、さらに好ましくは９２．０質量％以上であり、ＴＲＥＯを構成する元素以外の元素を含有させ、研磨速度をさらに向上させる観点、及び研磨面の表面欠陥（表面の微細な凹凸）の発生を抑制する観点から、好ましくは９９．０質量％以下、より好ましくは９７．０質量％以下、さらに好ましくは９６．０質量％以下である。

（混合希土類研磨材粒子）
本実施形態における混合希土類研磨材粒子の「混合」とは、複数種の希土類元素が含まれていることを意味する。前記混合希土類研磨材粒子には、Ｃｅ及びＬａ（ランタン）以外の希土類元素が含まれていてもよい。前記希土類元素としては、例えば、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ等が挙げられる。

本実施形態の混合希土類研磨材粒子の粒径（Ｄ_５０）は、セリウム系研磨材を良好な生産性で製造する観点から、好ましくは０．１０μｍ以上、より好ましくは０．３μｍ以上、さらに好ましくは０．５μｍ以上、よりさらに好ましくは０．７μｍ以上であり、研磨傷を低減し研磨面を良好に平滑化できる、優れた研磨性能を得る観点から、好ましくは１０．０μｍ以下、より好ましくは５．０μｍ以下、さらに好ましくは３．０μｍ以下である。

本実施形態の混合希土類研磨材粒子の比表面積は、研磨面のスクラッチ（傷）の発生を抑制する観点から、好ましくは１．０ｍ^２／ｇ以上、より好ましくは２．０ｍ^２／ｇ以上、さらに好ましくは３．０ｍ^２／ｇ以上であり、研磨速度向上の観点から、好ましくは１０．０ｍ^２／ｇ以下、より好ましくは８．０ｍ^２／ｇ以下、さらに好ましくは７．０ｍ^２／ｇ以下、よりさらにより好ましくは６．０ｍ^２／ｇ以下である。
なお、本明細書において、比表面積はＢＥＴ法（一点法）により測定された値である。

本実施形態の混合希土類研磨材粒子は、研磨速度向上の観点から、フッ素原子を含んでもよい。
混合希土類研磨材粒子がフッ素原子を含む場合、混合希土類研磨材粒子中におけるフッ素原子含有量は、研磨速度向上の観点から、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは１．０質量％以上、さらに好ましくは３．０質量％以上であり、研磨面のスクラッチの発生を抑制する観点から、好ましくは１０．０質量％以下、より好ましくは９．０質量％以下、さらに好ましくは８．０質量％以下、よりさらに好ましくは７．０質量％以下である。

（ランタン溶解抑制剤）
本実施形態のセリウム系研磨材は、前記混合希土類研磨材粒子に加えて、ランタンの溶解を抑制するランタン溶解抑制剤を含有してもよい。
ランタン溶解抑制剤としては、水や水溶性有機溶媒等に溶解しているランタンイオンを、不溶性の塩等に変換させ沈降させる作用を有するものや、キレート作用によりランタンイオンを固定化する作用を有するものが好ましい。
そのようなランタン溶解抑制剤としては、アルカリ金属の炭酸塩、アルカリ金属のリン酸塩、アルカリ金属の水酸化物塩、アルカリ金属の硫酸塩、アルカリ金属の硝酸塩、アルカリ金属の有機酸塩、アルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ土類金属のリン酸塩、アルカリ土類金属の水酸化物塩、アルカリ土類金属の硫酸塩、アルカリ土類金属の硝酸塩、アルカリ土類金属の有機酸塩、アンモニウムの炭酸塩、アンモニウムのリン酸塩、アンモニウムの水酸化物塩、アンモニウムの硫酸塩、アンモニウムの硝酸塩、及びアンモニウムの有機酸塩から選ばれる１種以上であることが好ましく、生成する塩の安全性の観点から、アルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ土類金属のリン酸塩、アルカリ土類金属の有機酸塩、及びアルカリ金属の炭酸塩から選ばれる１種以上であることがより好ましい。

アルカリ金属としては、生成する塩の安全性の観点から、ナトリウム及びカリウムが好ましく、ナトリウムがより好ましい。
アルカリ土類金属としては、同様の観点から、カルシウム及びマグネシウムが好ましい。
ランタン溶解抑制剤としては、具体的には、第一リン酸カルシウム、第二リン酸カルシウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、グルコン酸カルシウム、クエン酸カルシウム炭酸水素ナトリウム、炭酸水素アンモニウム、第二リン酸マグネシウム、第二リン酸カルシウム等が好ましく、これらの中でも、より肌荒れ及び皮膚炎の発生を抑制し、生成する塩の安全性、並びに研磨面のスクラッチの発生を抑制する観点から、第二リン酸カルシウムがより好ましい。
ランタン溶解抑制剤は、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。

また、ランタン溶解抑制剤の分子量は、より肌荒れ及び皮膚炎の発生を抑制する観点から、好ましくは５０以上、より好ましくは７５以上、さらに好ましくは１００以上であり、好ましくは３００以下、より好ましくは２００以下、さらに好ましくは１５０以下である。分子量が３００以下であると、ランタンイオンとの反応性が高く、ランタン溶解抑制効果が高いため好ましい。

本実施形態のセリウム系研磨材がランタン溶解抑制剤を含有する場合、セリウム系研磨材は、ランタン溶解抑制剤を予め含有している一剤型であってもよく、前記混合希土類研磨材粒子を含有する第一剤と、ランタン溶解抑制剤を含有する第二剤とを含有する二剤型であってもよい。

前記セリウム系研磨材が、前記混合希土類研磨材粒子を含有する第一剤と、ランタン溶解抑制剤等を含有する第二剤と、を含有する二剤型である場合、前記第一剤中における混合希土類研磨材粒子の含有量は、研磨速度向上の観点から、好ましくは８５．０質量％以上、より好ましくは９０．０質量％以上、さらに好ましくは９２．０質量％以上であり、肌荒れ及び皮膚炎の発生を抑制する観点から、好ましくは９９．９質量％以下、より好ましくは９９．５質量％以下、さらに好ましくは９９．２質量％以下である。

セリウム系研磨材中におけるランタン溶解抑制剤の含有量は、一剤型及び二剤型の両方の場合において、混合希土類研磨材粒子１００質量部に対して、コストの観点から、好ましくは０．９５質量部以下、より好ましくは０．８５質量部以下、さらに好ましくは０．７５質量部以下である。また、肌荒れ及び皮膚炎の発生を抑制する観点から、好ましくは０．００１質量部以上、より好ましくは０．０１質量部以上、さらに好ましくは０．１質量部以上である。
また、セリウム系研磨材中におけるランタン溶解抑制剤の含有量は、一剤型及び二剤型の両方の場合において、コストの観点から、好ましくは０．９５質量％以下、より好ましくは０．９０質量％以下、さらに好ましくは０．８０質量％以下、よりさらに好ましくは０．７０質量％以下である。また、肌荒れ及び皮膚炎の発生を抑制する観点から、好ましくは０．００１質量％以上、より好ましくは０．０１質量％以上、さらに好ましくは０．０５質量％以上、よりさらに好ましくは０．１質量％以上である。
である。

（添加剤）
本実施形態のセリウム系研磨材は、分散性向上、沈降防止、固化防止、安定性向上及び作業性向上等のために、添加剤として、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール等のグリコール類、ポリアクリル酸のナトリウム塩、ポリカルボン酸系ポリマー、ポリスルホン酸系ポリマー等の高分子分散剤、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等のセルロースエーテル類、ポリビニルアルコール等の水溶性高分子、リン酸化合物等を添加してもよい。これらは、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。添加剤を添加する場合、これらの中でも、より分散性向上、沈降防止、固化防止、安定性向上及び作業性向上の観点から、高分子分散剤、リン酸化合物、及びセルロースエーテル類が好ましい。
高分子分散剤としては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸、ポリヒドロキシ（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸とマレイン酸とのコポリマー等の（メタ）アクリル酸コポリマー、オレフィンとマレイン酸とのコポリマー、マレイン酸とアリルアルコールのエチレンオキサイドやプロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイド付加物とのコポリマー、アリルスルホン酸とマレイン酸とのコポリマー等、又は、これらのナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩が挙げられる。これらの中でも、ポリアクリル酸、アクリル酸とマレイン酸とのコポリマー、又は、これらのアルカリ金属塩が好ましく、アクリル酸とマレイン酸とのコポリマー又はそのアルカリ金属塩がより好ましく、アクリル酸とマレイン酸とのコポリマーのナトリウム塩がさらに好ましい。
リン酸化合物としては、例えば、トリポリリン酸、ピロリン酸、テトラメタリン酸、ヘキサメタリン酸、オルトリン酸、亜リン酸等の無機リン酸；アミノトリメチレンホスホン酸、１－ヒドロキシエチリデン－１，１－ジホスホン酸、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸等の有機ホスホン酸；又は、これらのナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩が挙げられる。これらの中でも、トリポリリン酸、ピロリン酸、ヘキサメタリン酸、又は、これらのアルカリ金属塩が好ましく、トリポリリン酸ナトリウムがより好ましい。

セリウム系研磨材が添加剤を含む場合、混合希土類研磨材粒子１００質量部に対する添加剤の含有量は、分散性向上、沈降防止、固化防止、安定性向上及び作業性向上の観点から、好ましくは０．０１質量部以上、より好ましくは０．１質量部以上、さらに好ましくは０．３質量部以上、よりさらに好ましくは０．５質量部以上であり、コストの観点から、好ましくは１０．０質量部以下、より好ましくは５．０質量部以下、さらに好ましくは３．０質量部以下である。
また、セリウム系研磨材が添加剤を含む場合、セリウム系研磨材中における添加剤の含有量は、分散性向上、沈降防止、固化防止、安定性向上及び作業性向上の観点から、好ましくは０．０１質量％以上、より好ましくは０．１質量％以上、さらに好ましくは０．３質量％以上、よりさらに好ましくは０．５質量％以上であり、コストの観点から、好ましくは１０．０質量％以下、より好ましくは５．０質量％以下、さらに好ましくは３．０質量％以下である。

［セリウム系研磨材の製造方法］
セリウム系研磨材の製造方法は特に限定されるものではないが、具体的には、混合軽希土化合物を調製する工程（１）と、混合軽希土化合物から、混合酸化希土原料を製造する工程（２）と、前記混合酸化希土原料を、湿式粉砕後、焼成、解砕及び分級し、混合希土類研磨材粒子を得る工程（３）とを経ることにより、セリウム系研磨材を製造することが好ましい。また、より肌荒れ及び皮膚炎の発生を抑制する観点から、前記工程（３）の後に、さらにランタン溶解抑制剤を添加混合する、またはランタン溶解抑制剤を含有する第二剤を調製する工程（４）を経ることにより、セリウム系研磨材を製造することがより好ましい。ここで言う「混合」も、上述した混合希土類研磨材粒子の「混合」と同義である。
以下、各工程を順に説明する。

（工程（１））
工程（１）では、混合軽希土化合物を調製する。
混合軽希土化合物の調製方法は、特に限定されるものではない。混合軽希土化合物は、例えば、希土類元素を含む鉱石から希土類元素以外の不純物成分及び中重希土を化学的処理により分離して低減させることにより得られる。混合軽希土化合物としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属及び放射性物質等の非希土類成分の不純物成分、並びに中重希土の含有量が低減されているものが好ましい。
なお、本明細書において、中重希土とは、Ｐｍより原子番号が大きい希土類元素を指し、中重希土以外の希土類元素を軽希土と言うものとする。
希土類元素を含む鉱石としては、例えば、Ｃｅを多く含む、天然のモナザイトやバストネサイト等の原料鉱石から得られる希土精鉱等が好適に用いられる。

混合軽希土化合物の調製において、不純物成分の含有量を低減させる化学的処理方法としては、硫酸焙焼が一般的な方法である。硫酸焙焼は、粉砕された前記原料鉱石を硫酸とともに焙焼して硫酸塩（硫酸希土）を生成し、この硫酸塩を水に溶解して硫酸希土溶液とし、不溶物である不純物成分をろ過等により除去する方法である。混合軽希土化合物中の不純物成分の含有量は、１．０質量％以下にまで低減されることが好ましい。
また、中重希土の含有量を低減させる化学的処理方法としては、例えば、前記硫酸焙焼後の硫酸希土溶液に炭酸塩を加えて、粗炭酸希土とした後、これに塩酸を加えて、混合塩化希土水溶液とし、有機溶媒を用いて溶媒抽出することにより行うことができる。溶媒抽出においては、必要に応じて、抽出の程度の調整や添加剤等の使用等の公知の方法を用いて、セリウム、ランタン及びその他の軽希土の各含有量を調整することができる。混合軽希土化合物中の中重希土の含有量は、１．０質量％以下にまで低減されることが好ましい。

（工程（２））
工程（２）では、混合軽希土化合物から、混合酸化希土原料を製造する。
混合軽希土化合物から、混合酸化希土原料を製造する方法は、特に限定されるものではない。混合酸化希土原料は、例えば、混合軽希土化合物と、炭酸ナトリウムや重炭酸アンモニウム等を用いて、炭酸塩である混合炭酸希土を製造し、混合炭酸希土を焼成することにより得られる。
混合炭酸希土を焼成して混合酸化希土原料を得る際の焼成温度は、混合炭酸希土の組成に応じて適宜調整されるが、５００～１２００℃であることが好ましく、より好ましくは６００～１１００℃、さらに好ましくは７００～１０００℃である。焼成時間は、０．５～４８時間であることが好ましく、より好ましくは１～４０時間、さらに好ましくは１．５～３０時間である。焼成雰囲気は、大気雰囲気中であることが好ましい。
混合酸化希土原料は、焼成後に、機械的な方法で解砕して、所望の粒径の粒子に調整してもよい。

なお、混合酸化希土原料は、市販もされており、市販品を用いてもよい。混合酸化希土原料は、例えば、混合炭酸希土や混合モノオキシ炭酸希土、混合シュウ酸希土、混合水酸化希土等の混合軽希土化合物を焼成することにより得ることができることから、市販品の混合酸化希土原料中には、その製造原料である混合炭酸希土や混合モノオキシ炭酸希土、混合シュウ酸希土等が残存している場合もある。

（工程（３））
工程（３）は、前記混合酸化希土原料を、湿式粉砕後、焼成、解砕及び分級し、混合希土類研磨材粒子を得る。
湿式粉砕は、均質な混合希土類研磨材粒子を得る観点から、湿式ボールミル等の媒体ミルを用いて行うことが好ましい。分散媒としては、水、水溶性有機溶媒等が好適に用いられる。
湿式粉砕後、乾燥、焼成、解砕、及び分級することにより、混合希土類研磨材粒子が得られる。
乾燥、焼成、解砕及び分級は、従来の混合希土類研磨材粒子の製造において適用される方法と同様に行うことができる。

また、焼成により被焼成物原料を十分に反応させる観点から、焼成温度は、６００～１２００℃であることが好ましく、より好ましくは６５０～１１５０℃、さらに好ましくは７００～１１００℃である。目標設定温度での焼成時間は、好ましくは０．１～１０時間、より好ましくは０．５～６時間、さらに好ましくは０．５～４時間である。焼成雰囲気は、大気中であることが好ましい。

研磨速度向上の観点から、混合希土類研磨材粒子にフッ素原子を含有させる場合がある。その場合には、フッ素原子を含有させる方法は特に限定されるものではないが、混合酸化希土原料に混合フッ化希土原料を混合し、湿式粉砕後、焼成、解砕及び分級し、混合希土類研磨材粒子を得る方法が好ましい。

混合フッ化希土原料を得る方法は、特に限定されるものではないが、例えば、前記混合軽希土化合物に、フッ酸、フッ化アンモニウムまたは酸性フッ化アンモニウム等のフッ化物をフッ素源として添加し、熱処理することにより得ることができる。前記熱処理は、均質で研磨特性に優れたセリウム系研磨材を得る観点から、４００℃以下であることが好ましい。なお、熱処理雰囲気は、大気中であることが好ましい。熱処理時間は、０．１～１０時間であることが好ましく、より好ましくは０．５～５時間、さらに好ましくは１．０～４時間である。焼成雰囲気は、大気雰囲気中であることが好ましい。
混合酸化希土原料に混合フッ化希土原料を混合して混合希土類研磨材粒子を得る方法は、フッ化アンモニウムやフッ酸等のフッ化物を直接混合酸化希土原料に添加して混合希土類研磨材粒子を得る方法よりも、安全かつ低コストであり、フッ素を含む混合希土類研磨材粒子を容易に得ることができる。

前記混合フッ化希土原料中のＴＲＥＯは、好ましくは７５質量％以上、より好ましくは８０質量％以上、さらに好ましくは８２質量％以上である。また、前記混合フッ化希土原料は、含有する全希土類元素のうちセリウムを主成分とするものであることが好ましい。ＴＲＥＯ中におけるセリウムの酸化物換算量含有量（ＣｅＯ_２量／ＴＲＥＯ）は、５５．０質量％以上であることが好ましく、研磨速度向上の観点から、より好ましくは６０．０質量％以上、さらに好ましくは６２．０質量％以上、よりさらに好ましくは６４．０質量％以上である。また、ＣｅＯ_２量／ＴＲＥＯは、Ｃｅ以外の希土類元素の含有量を確保し、研磨面の表面欠陥の発生を抑制する観点から、好ましくは９０．０質量％以下、より好ましくは８０．０質量％以下、さらに好ましくは７５．０質量％以下、さらにより好ましくは７０．０質量％以下である。

また、前記混合フッ化希土原料中のフッ素原子含有量は、好ましくは１０～３０質量％、より好ましくは１５～３０質量％、さらに好ましくは２０～３０質量％である。
混合酸化希土原料に添加される混合フッ化希土原料の量は、製造するセリウム系研磨材に要求されるフッ素原子含有量に応じて適宜決定される。優れた研磨特性を得る観点から、混合酸化希土原料と混合フッ化希土原料の合計１００質量％に対して、混合フッ化希土原料の量が、１～４０質量％となるように添加されることが好ましく、より好ましくは３～３５質量％、さらに好ましくは５～３０質量％である。

（工程（４））
工程（４）は、工程（３）の後、工程（３）で得られた混合希土類研磨材粒子にランタン溶解抑制剤を添加混合する、またはランタン溶解抑制剤を含有する第二剤を調製する。
本実施形態においては、セリウム系研磨材が一剤型の場合、工程（４）を経ず、混合希土類研磨材粒子をそのままセリウム系研磨材としてもよいし、工程（３）で得られた混合希土類研磨材粒子に、ランタン溶解抑制剤を添加混合して、セリウム系研磨材としてもよい。また、必要に応じて、ランタン溶解抑制剤と共に添加剤を添加混合してもよい。
混合の方法は、特に限定されるものではなく、例えば、バッチ式撹拌機等の撹拌機で混合してもよく、また、ボールミルやビーズミル等の媒体ミルを用いて混合してもよい。
本実施形態においては、セリウム系研磨材が二剤型の場合、工程（４）により、ランタン溶解抑制剤を含有する第二剤を調製する。
本実施形態においては、セリウム系研磨材が前記混合希土類研磨材粒子を含有する第一剤と、ランタン溶解抑制剤を含有する第二剤とを含有する二剤型の場合、前記混合希土類研磨材粒子を含有する第一剤と、ランタン溶解抑制剤を含有する第二剤とに分けて準備し、研磨液製造時に、第一剤と第二剤を混合してもよい。
前記第二剤には、ランタン溶解抑制剤の他、水、水溶性有機溶媒、添加剤等が含まれていてもよく、含まれていなくてもよい。

［研磨液］
本実施形態の研磨液は、上記のようなセリウム系研磨材と、水及び水溶性有機溶媒から選ばれる１種以上を含有する。前記研磨液は、より肌荒れ及び皮膚炎の発生を抑制する観点から、ランタン溶解抑制剤を含有することが好ましい。また、前記研磨液は、セリウム系研磨材、水及び水溶性有機溶媒から選ばれる１種以上、及びランタン溶解抑制剤以外の成分を含有してもよい。
本実施形態の研磨液は、人体の皮膚への付着により発生する肌荒れや皮膚炎等が抑制された研磨液である。

前記研磨液は、良好な研磨性能を発揮させる観点、また、コストの観点から、研磨液中におけるセリウム系研磨材の含有量が、０．１～４０．０質量％の範囲内で使用されることが好ましく、より好ましくは１．０～３５．０質量％、さらに好ましくは３．０～３０．０質量％、よりさらに好ましくは５．０～２０．０質量％である。
なお、前記研磨液は、研磨対象や研磨装置の仕様等を考慮して、該研磨液の調製時に、必要に応じて、研磨性能を妨げない範囲内において、例えば、ｐＨ調整剤、消泡剤、防錆剤等の添加剤が添加されたものであってもよい。

前記研磨液は、特に、光ディスクや磁気ディスク用のガラス基板、液晶ディスプレイ用のガラス基板、カラーフィルターやフォトマスク用のガラス基板、光学レンズ用のガラス基板等、各種ガラス材及びガラス製品の仕上げ研磨に好適に用いられる。

［研磨液の製造方法］
本発明の研磨液の製造方法は、上記のようなセリウム系研磨材と、水及び水溶性有機溶媒から選ばれる１種以上を含有する研磨液を製造する方法である。
本発明の一態様において、研磨液の製造方法は、前記セリウム系研磨材と、前記水及び前記水溶性有機溶媒から選ばれる１種以上と、を混合してスラリー化する工程（Ｉ）を含む。この場合、前記セリウム系研磨材は、前記ランタン溶解抑制剤を含有するものであってもよく、含有しないものであってもよい。

なお、セリウム系研磨材が、混合希土類研磨材粒子を含有する第一剤と、ランタン溶解抑制剤を含有する第二剤とを含有する二剤型である場合、前記セリウム系研磨材として、第一剤と第二剤を用いて工程（Ｉ）を行う。

工程（Ｉ）において、スラリー化する方法は特に限定されるものではないが、例えば、撹拌機で混合してスラリー化してもよく、また、湿式ボールミルや、アトライター、ビーズミル等の粉砕機を用いてスラリー化してもよい。

本発明の他の態様において、研磨液の製造方法は、前記セリウム系研磨材と、前記ランタン溶解抑制剤と、前記水及び前記水溶性有機溶媒から選ばれる１種以上と、を混合してスラリー化する工程（ＩＩ）を含む。この場合、前記セリウム系研磨材は、前記ランタン溶解抑制剤を含有するものであってもよく、含有しないものであってもよい。
工程（ＩＩ）におけるスラリー化する方法は、前記工程（Ｉ）におけるスラリー化する方法と同様である。

本発明のさらに他の態様において、研磨液の製造方法は、前記セリウム系研磨材と、前記水及び前記水溶性有機溶媒から選ばれる１種以上と、を混合してスラリー化する工程（ＩＩＩ）と、前記工程（ＩＩＩ）で得られたスラリーに、前記ランタン溶解抑制剤を添加混合する工程（ＩＶ）を含む。前記セリウム系研磨材は、前記ランタン溶解抑制剤を含有するものであってもよく、含有しないものであってもよい。
工程（ＩＩＩ）におけるスラリー化する方法は、前記工程（Ｉ）におけるスラリー化する方法と同様である。

［ガラス研磨方法］
本発明のガラス研磨方法は、上記のような研磨液を用いて研磨を行う方法である。
前記ガラス研磨方法は、前記研磨液を用いること以外、特に限定されるものではなく、公知の研磨装置等を用いた方法を適用することができる。前記研磨液は、例えば、片面研磨機や両面研磨機で、ガラス材の鏡面研磨等の仕上げ研磨する際に公知の方法で使用することができる。

以下、本発明を、実施例により具体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
なお、混合酸化希土原料の調製、混合フッ化希土原料の調製、実施例、及び比較例におけるＴＲＥＯ、ＴＲＥＯ中における各希土類元素の酸化物換算含有量（ＣｅＯ_２量／ＴＲＥＯ、Ｌａ_２Ｏ_３量／ＴＲＥＯ、Ｎｄ_２Ｏ_３量／ＴＲＥＯ、Ｐｒ_６Ｏ_１１量／ＴＲＥＯ）、及びフッ素原子含有量は、以下のようにして求めた。
〔ＴＲＥＯ〕
測定試料を酸溶解した溶液に、アンモニア水を添加した。生成した沈殿物を、ろ過、洗浄してアルカリ金属を除去した後、再び酸溶解した。この溶液にシュウ酸を添加し、生成した沈殿物を大気中で、８００℃で２時間焼成して、重量法にてＴＲＥＯを求めた。なお、混合希土類研磨材粒子のＴＲＥＯは「焼成後得られた全希土類酸化物質量／酸溶解処理前の混合希土類研磨材粒子質量」から得られ、セリウム研磨材のＴＲＥＯは「焼成後得られた全希土類酸化物質量／酸溶解処理前のセリウム研磨材質量」から得られる。
〔ＴＲＥＯ中における各希土類元素の酸化物換算含有量〕
測定試料を酸溶解し、ＩＣＰ－ＡＥＳ法で測定された各希土類元素量を、酸化物として換算した値のＴＲＥＯに対する値を算出することにより求めた。
〔フッ素原子含有量〕
測定試料をアルカリ溶融して温水抽出し、フッ素イオン計（株式会社堀場製作所製；イオン電極法）で測定した。

［混合酸化希土原料の調製］
（混合酸化希土原料Ａ）
ＴＲＥＯを４７質量％、中重希土を酸化物換算で２質量％、ネオジムを酸化物換算で８質量％含有する原料鉱石（希土精鉱）を、硫酸培焼法及び溶媒抽出法により処理し、希土類元素以外の不純物成分を１質量％以下、中重希土を酸化物換算で１質量％以下に低減して、希土類元素の含有量を調整した混合軽希土化合物を得た。この混合軽希土化合物は、ＴＲＥＯ中におけるセリウムの酸化物換算（［ＣｅＯ₂］）含有量（ＣｅＯ₂量／ＴＲＥＯ）が６４．７質量％、ランタンの酸化物換算（［Ｌａ₂Ｏ₃］）含有量（Ｌａ₂Ｏ₃量／ＴＲＥＯ）が３４．１質量％、ネオジムの酸化物換算（［Ｎｄ₂Ｏ₃］）含有量（Ｎｄ₂Ｏ₃量／ＴＲＥＯ）が０．６質量％、プラセオジムの酸化物換算（［Ｐｒ₆Ｏ₁₁］）含有量（Ｐｒ₆Ｏ₁₁量／ＴＲＥＯ）が０．２質量％であった。
この混合軽希土化合物を、重炭酸アンモニウムで処理し、混合炭酸希土を得た。なお、混合炭酸希土は、ＴＲＥＯが４９質量％であった。
この混合炭酸希土を、焼成炉にて大気中で、８００℃で１０時間熱処理し、混合酸化希土原料Ａを得た。混合酸化希土原料ＡのＴＲＥＯ、ＣｅＯ₂量／ＴＲＥＯ、Ｌａ₂Ｏ₃量／ＴＲＥＯ、Ｎｄ₂Ｏ₃量／ＴＲＥＯ、及びＰｒ₆Ｏ₁₁量／ＴＲＥＯを表１に示す。

（混合酸化希土原料Ｂ～Ｅ）
混合酸化希土原料Ａの調製と同様に、混合軽希土化合物を用いて、その処理条件及び混合炭酸希土の熱処理条件を調整することにより、混合酸化希土原料Ｂ～Ｅをそれぞれ調製した。混合酸化希土原料Ｂ～ＥのＴＲＥＯ、ＣｅＯ₂量／ＴＲＥＯ、Ｌａ₂Ｏ₃量／ＴＲＥＯ、Ｎｄ₂Ｏ₃量／ＴＲＥＯ、及びＰｒ₆Ｏ₁₁量／ＴＲＥＯを表１に示す。

［混合フッ化希土原料の調製］
（混合フッ化希土原料Ｆ）
混合軽希土化合物に、フッ酸を加えて混合した後、大気中にて４００℃で２時間熱処理し、混合フッ化希土原料Ｆを得た。この混合フッ化希土原料ＦのＴＲＥＯ、ＣｅＯ₂量／ＴＲＥＯ、及びフッ素含有量を表２に示す。

（混合フッ化希土原料Ｇ～Ｉ）
混合フッ化希土原料Ｆの調製と同様に、混合軽希土化合物を用いてその処理条件を調整することにより、混合フッ化希土原料Ｇ～Ｉをそれぞれ調整した。混合フッ化希土原料Ｇ～ＩのＴＲＥＯ、ＣｅＯ₂量／ＴＲＥＯ、フッ素含有量を表２に示す。

［セリウム系研磨材の製造］
セリウム系研磨材を下記の実施例及び比較例により製造した。
下記実施例及び比較例において用いた添加剤の詳細を以下に示す。
・添加剤１：トリポリリン酸ナトリウム（関東化学株式会社）：分子量３００超
・添加剤２：ポリアクリル酸のナトリウム塩「ポイズ５３０」（花王株式会社）：分子量３００超
・添加剤３：アクリル酸とマレイン酸のコポリマーのナトリウム塩「ポイズ５２１」（花王株式会社）：分子量３００超
・添加剤４：カルボキシメチルセルロース（関東化学株式会社）：分子量３００超
・添加剤５：結晶性セルロース「セルロース微結晶」（関東化学株式会社）：分子量３００超

（実施例１）
水１０００ｋｇと、前記混合酸化希土原料Ａ及び前記混合フッ化希土原料Ｆ（質量比７６：２４）の合計１４００ｋｇとを、スラリータンクで撹拌混合した後、湿式ボールミル（媒体：直径５ｍｍジルコニア製ボール）にて１７時間混合粉砕することにより、均一な混合溶液を得た。
この混合溶液を、ロータリーキルンに投入し、大気中にて７００℃で１時間乾燥後、９６０℃で４時間焼成した。得られた焼成体を放冷後、解砕、分級し、混合希土類研磨材粒子を得た。混合希土類研磨粒子に、ランタン溶解抑制剤として第二リン酸カルシウムを、混合希土類研磨材粒子１００質量部に対して０．１質量部となる量を添加及び攪拌機で混合してセリウム系研磨材を製造した。

（実施例２～２５及び比較例１～５）
実施例１において、混合酸化希土原料、混合フッ化希土原料、焼成温度、ランタン溶解抑制剤、添加剤１～５を、表３及び４に記載のとおりとしたこと以外は同様にして、セリウム系研磨材を製造した。

［混合希土類研磨材粒子及びセリウム系研磨材の物性測定］
上記のとおり製造した混合希土類研磨材子及びセリウム系研磨材について、以下に示す物性測定を行った。これらの物性測定結果を、下記表３及び４に示す。

（粒度分布Ｄ₅₀）
分散剤を含む純水にセリウム系研磨材または混合希土類研磨材粒子を分散させ、測定試料を調整し、マイクロトラック粒度分布計「ＭＴ３３００II」（日機装株式会社製）にて、レーザー回折散乱法により、セリウム系研磨材の粒度分布測定を行い、累積体積５０％での粒子径（Ｄ₅₀）を求めた。

（比表面積）
ＪＩＳ Ｒ １６２６：１９９６（ファインセラミックス粉体の気体吸着ＢＥＴ法による比表面積の測定方法）の「６．２ 流動法 （３．５）一点法」に準拠して、セリウム系研磨材または混合希土類研磨材粒子の比表面積を測定した。吸着質気体には窒素を用いた。

［セリウム系研磨材の評価］
上記実施例及び比較例で製造したセリウム系研磨材について、以下に示す評価を行った。これらの評価結果を、下記表５にまとめて示す。

（溶解イオン分析）
セリウム系研磨材を水に分散させた際の、ランタン、フッ素、及び塩素の水への溶解量をＩＣＰ分析及びＩＣ分析により算出した。
〔ＩＣＰ分析及びＩＣ分析用試料の作製〕
１００ｍＬポリエチレン容器に、スラリー成分として前記セリウム系研磨材１０ｇ及び純水４０ｇを入れると共にビーズとして粒径が１ｍｍのジルコニアビーズ１３０ｇを入れ、ボールミル架台を用いて、容器回転数２１０ｒｐｍにて３０分間、前記セリウム系研磨材の粉砕処理を行い、混合溶液を得た。
得られた混合溶液を２０ｍＬ採取し、目開きが０．４５μｍのメンブレンフィルター「ＳＬＨＮ０３３ＮＳ」（日本ミリポア株式会社製）でろ過した後、さらに目開きが０．０２５μｍのメンブレンフィルター「ＶＳＷＰ０２５００」（日本ミリポア株式会社製）をシリンジホルダーに取り付けたものを用いてろ過して、分析用試料を作製した。なお、分析試料作製後４８時間以内のものを用い、ＩＣＰ及びＩＣ分析を行った。

〔ＩＣＰ分析〕
得られた分析用試料１０ｍＬに、硝酸（濃度７０質量％）と超純水を体積比１：１で混合した水溶液を１０ｍＬ添加した後、超純水で１００ｍＬにメスアップし、ＩＣＰ分析用試料を調整した。このＩＣＰ分析用試料を、ＩＣＰ発光分光分析装置「ｉＣａｐ７０００Ｄｕｏ」（サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製）を用いて３３３．７４９ｎｍの波長の吸光度を測定し、ランタン原子の質量濃度（ｍｇ／Ｌ）を算出した。

〔ＩＣ分析〕
得られた分析用試料１０ｍＬを、超純水を用いて２０倍に希釈し、ＩＣ分析用試料を調整した。このＩＣ分析用試料を、イオンクロマトグラフシステム「ＩＣＳ－１６００」（サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製）を用い、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムを含む溶離液にて測定し、フッ素イオン、塩素イオンの質量濃度（ｍｇ／Ｌ）を算出した。

（肌荒れ及び皮膚炎発生評価）
実施例及び比較例で得られたセリウム系研磨材１０ｇと純水４０ｇを１００ｍＬポリエチレン容器に入れると共に、ビーズとして粒径が１ｍｍのジルコニアビーズ１３０ｇを入れ、ボールミル架台を用いて、容器回転数２１０ｒｐｍにて３０分間、前記セリウム系研磨材の粉砕処理を行い、セリウム系研磨材含有量が２０質量％の混合溶液を得た。この混合液を用いて肌荒れ及び皮膚炎の発生を検証した。
具体的には、被験者５人に被験物である前記研磨材スラリー０．２ｍｌを絆創膏のガーゼ部に塗布し十分なじませた後、各人の前腕部内側に直接貼付し、３０分経過後の皮膚表面の状態を観察した。肌荒れ及び皮膚炎が進行すると、痒みや紅斑が観察されるのに基づき、痒みや紅斑が全く確認されなければ変化なしとし、痒みがあったものをやや悪化、僅かに紅斑が確認されたものを悪化、紅斑がはっきり確認できるものを明らかに悪化として、下記の肌荒れ評価基準からスコアー化した。
〔肌荒れ及び皮膚炎発生抑制効果判定基準〕
０点：変化なし
１点：やや悪化
２点：悪化
３点：明らかに悪化

（研磨評価）
上記実施例及び比較例で得られた各セリウム系研磨材を用い、セリウム系研磨材４８ｇと純水２７２ｇ、回転子φ８×４０ｍｍを５００ｍｌビーカーに入れ、「ＲＳ-１ＤＮ」アズワン株式会社製マグネチックスターラーＲＥＸＩＭを用い、回転数５００ｒｐｍにて1時間攪拌することで、セリウム系研磨材含有量が１５質量％の研磨材スラリーを調製した。この研磨材スラリーを用いて、下記の研磨条件で、ＴＦＴ液晶ディスプレイ用無アルカリガラスの試料（５０ｍｍ×５０ｍｍ×厚さ１．１ｍｍ、研磨面積２５ｃｍ²）を片面研磨機にて研磨し、研磨速度及び研磨傷について評価を行った。
〔研磨条件〕
研磨パッド ：スウェードパッド
下定盤回転数：２６０ｒｐｍ
研磨時圧力 ：１００ｇ／ｃｍ²
研磨時間 ：２０分間×３枚

各評価方法は以下のとおりである。
〔研磨速度〕
試料１枚当たり５箇所での研磨前後の厚さをマイクロメーターで測定し、厚さの減少量の平均値（ΔＴ［μｍ］）を求めた。試料３枚についての［ΔＴ／研磨時間（２０分間）］の平均値を研磨速度とした。
〔研磨傷〕
研磨後の試料を、微分干渉顕微鏡（オリンパス株式会社製「ＢＸ５１Ｍ」）にて倍率５０倍で試料の研磨面を観察して傷の本数を計測し、試料３枚についての平均値を求めた。

表５から分かるように、所定の方法により得られた混合液中におけるランタン溶解量が、４０ｍｇ／Ｌ以下であるセリウム系研磨材（実施例１～２５）は、肌荒れ及び皮膚炎の発生が抑制されたものであることが認められた。また、前記セリウム系研磨材を含む研磨液によれば、研磨傷の発生が抑制され、良好な研磨速度で研磨を行うことができることが認められた。

Claims (10)

1. ランタン、セリウム及びフッ素原子を含有する混合希土類研磨材粒子と、ランタン溶解抑制剤を含有するセリウム系研磨材であって、
   前記混合希土類研磨材粒子中におけるフッ素原子含有量が０．１質量％以上１０質量％以下であり、
   全希土類元素の酸化物換算含有量（ＴＲＥＯ）中におけるセリウムの酸化物換算含有量が５５．０質量％以上９０．０質量％以下、ランタンの酸化物換算含有量が１．０質量％以上４５．０質量％以下であり、
   粒径（Ｄ_５０）が０．１０μｍ以上１０．０μｍ以下であり、
   比表面積が１．０ｍ^２／ｇ以上１０．０ｍ^２／ｇ以下であり、
   前記ランタン溶解抑制剤は、アルカリ金属の炭酸塩、アルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ土類金属のリン酸塩、及びアルカリ土類金属の有機酸塩から選ばれる１種以上であり、
   前記ランタン溶解抑制剤の含有量は、混合希土類研磨材粒子１００質量部に対して０．０１質量部以上１．００質量部以下であり、
   １００ｍＬポリエチレン容器に、前記セリウム系研磨材１０ｇ及び純水４０ｇを入れると共にビーズとして粒径が１ｍｍのジルコニアビーズ１３０ｇを入れ、ボールミル架台を用いて、容器回転数２１０ｒｐｍにて３０分間、前記セリウム系研磨材の粉砕処理を行うことにより得られた混合液中におけるランタン溶解量が、４０ｍｇ／Ｌ以下である、セリウム系研磨材。
2. 前記混合希土希土類研磨材粒子を含有する第一剤と、
   ランタン溶解抑制剤を含有する第二剤と、
   を含有する二剤型である、請求項１に記載のセリウム系研磨材。
3. 前記フッ素原子を、０．１～１０質量％含有する、請求項１に記載のセリウム系研磨材。
4. 前記ランタン溶解抑制剤の分子量が３００以下である、請求項１～３のいずれかに記載のセリウム系研磨材。
5. 前記混合希土類研磨材粒子１００質量部に対して、前記ランタン溶解抑制剤を０．０１～０．９質量部含む、請求項１～３のいずれかに記載のセリウム系研磨材。
6. 請求項１に記載のセリウム系研磨材と、水及び水溶性有機溶媒から選ばれる１種以上を含有する、研磨液。
7. 請求項６に記載の研磨液の製造方法であって、
   前記セリウム系研磨材と、
   前記水及び前記水溶性有機溶媒から選ばれる１種以上と、
   を混合してスラリー化する工程（Ｉ）を含む、研磨液の製造方法。
8. 請求項６に記載の研磨液の製造方法であって、
   前記セリウム系研磨材と、
   前記ランタン溶解抑制剤と、
   前記水及び前記水溶性有機溶媒から選ばれる１種以上と、
   を混合してスラリー化する工程（ＩＩ）を含む、研磨液の製造方法。
9. 請求項６に記載の研磨液の製造方法であって、
   前記セリウム系研磨材と、
   前記水及び前記水溶性有機溶媒から選ばれる１種以上と、
   を混合してスラリー化する工程（ＩＩＩ）と、
   前記工程（ＩＩＩ）で得られたスラリーに、
   前記ランタン溶解抑制剤を添加混合する工程（ＩＶ）を含む、研磨液の製造方法。
10. 請求項６に記載の研磨液を用いて研磨を行う、ガラス研磨方法。