JP7508278B2 - 露光装置、露光方法、及び物品の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。露光装置100は、複数の波長域を含む光でマスク(原版)1を照明し、プレート(基板)6にマスク1のパターンを転写するリソグラフィ装置である。露光装置100は、フラットパネルディスプレイ、半導体素子、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)などを製造するための装置である。
本実施形態との比較のために、変形照明の形成の比較例について説明する。図5は比較例における輪帯照明の形成に関する模式図である。図5(a)はある1つのLED素子22の発光面の光量分布である発光分布27を表しており、図5(b)は、瞳面における瞳面強度分布25を表し、図5(c)は輪帯形状の開口絞り24を表す。開口絞り24は、光を透過する透過領域と、中央部と外周部の光を遮蔽する遮蔽領域があり、図5(c)では、透過領域をドットで、遮蔽領域を斜線で表している。開口絞り24の透過領域でのみ光が透過するため、有効光源分布26の形状は、開口絞り24の形状によって決まる。
実施例1では、発光分布と瞳面強度分布が同じ分布である場合における変形照明の形成について説明する。変形照明とは、例えば、照明形状が回転対称となる輪帯照明や、照明形状が4回回転対称となる四重極照明である。以下では、4回以上の回転対称性を示す変形照明について説明する。図6は、実施例1を示す図である。
実施例1では、発光分布と瞳面強度分布が同じ分布である場合について説明した。実施例2では、発光分布と瞳面強度分布が異なる分布である場合について説明する。
実施例1、実施例2では、変形照明の光量の損失を抑制するための発光分布について説明した。実施例3では、集光部23の焦点距離が可変である照明光学系10の構成について説明する。
実施例1~3では、1つのLED素子はただ1つの発光分布を有することを前提としていた。しかし、LED素子の電極の配置方法によっては、1つのLED素子に対して2つ以上の発光分布をもたせることも可能である。実施例4では、1つのLED素子に対して2つの発光分布をもたせる例について説明する。
実施例1~4では、LED素子から出射される光の波長について、特に考慮していなかった。実施例5では、複数の波長特性の光によって領域が考慮される変形照明が形成される例について説明する。複数の波長特性の光を光源として、波長特性により異なる有効光源分布を形成することで、高い解像性能を得ることが期待できる。
σc=λ/(2NA・P)・・・(4)
によって定まる照明角度σcを含む発光領域を用いて変形照明することで、デフォーカスに伴うコントラストの低下を抑制することができる。式(4)で照明角度σcが波長λに依存するため、露光波長によって解像性能の向上に資する有効光源分布が異なるといえる。図19には、式(4)の露光波長λと照明角度σcの関係を実線で示している。図19に示すように、波長域λ1では発光領域I1に示す有効光源分布、波長域λ2では発光領域I2で示す有効光源分布となるようにすることで、解像性能の向上が期待できる。
次に、前述の露光装置を利用した物品(フラットパネルディスプレイ、液晶表示素子、半導体IC素子、MEMS等)の製造方法を説明する。物品の製造方法は、プレート上に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(プレートを露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成されたプレートを現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の処理(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を行う工程を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
2 プレート
10 照明光学系
22 LED素子
100 露光装置
101 投影光学系
Claims (19)
- 基板を露光する露光装置であって、
複数の固体発光素子と、前記複数の固体発光素子のそれぞれに対応して設けられた複数のコリメートレンズと、前記複数のコリメートレンズから出射した光を集光するコンデンサレンズと、を含み、前記複数の固体発光素子からの光でマスクを照明する照明光学系と、
前記マスクのパターンの像を前記基板に投影する投影光学系と、を有し、
前記複数の固体発光素子のそれぞれは、前記複数のコリメートレンズのそれぞれの光軸外で最大強度となるように発光し、
前記コンデンサレンズの後側焦点位置の光強度分布である瞳面強度分布は、前記複数の固体発光素子のそれぞれからの光を重畳させることにより形成される光強度分布であり、
前記瞳面強度分布は、前記照明光学系の光軸外で最大強度となる光強度分布であることを特徴とする露光装置。 - 前記瞳面強度分布は、4回以上の回転対称性を示す光強度分布であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記瞳面強度分布は、輪帯形状の光強度分布であることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- 前記瞳面強度分布は、四重極形状の光強度分布であることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- 前記照明光学系は、前記光のうち一部の光を遮光する開口絞りを更に備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記複数の固体発光素子の発光分布は、前記開口絞りを透過した後の前記投影光学系の瞳面における光強度分布である有効光源分布に対応した分布であることを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- 前記発光分布で最大の光強度となる領域は、前記有効光源分布の発光領域を仮想的に前記複数の固体発光素子の発光面に逆投影した領域の中に含まれることを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
- 前記複数の固体発光素子のそれぞれは、前記複数のコリメートレンズのそれぞれの光軸に対して偏心して配置されることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記複数のコリメートレンズの焦点距離が可変であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記複数の固体発光素子は、第1の固体発光素子と第2の固体発光素子を含み、
前記照明光学系は、前記第1の固体発光素子の発光面である第1発光面と、前記第2の固体発光素子の発光面である第2発光面を含む複数の発光面の発光分布を重畳して、前記投影光学系の瞳面に形成することを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記第1の固体発光素子の発光分布は、前記第2の固体発光素子の発光分布と異なる発光分布であることを特徴とする請求項11に記載の露光装置。
- 前記第1の固体発光素子は、前記発光面に対して垂直な軸周りの角度が、前記第2の固体発光素子と異なる角度で配置されることを特徴とする請求項11又は12に記載の露光装置。
- 基板を露光する露光装置であって、
第1の波長特性を有する第1の固体発光素子と、前記第1の波長特性とは異なる第2の波長特性を有する第2の固体発光素子とを含む複数の固体発光素子と、前記複数の固体発光素子にそれぞれ対応して設けられた複数のコリメートレンズと、前記複数のコリメートレンズから出射した光を集光するコンデンサレンズと、を有し、前記複数の固体発光素子からの光でマスクを照明する照明光学系と、
前記マスクのパターンの像を前記基板に投影する投影光学系と、を有し、
前記複数の固体発光素子のそれぞれは、前記複数のコリメートレンズのそれぞれの光軸外で最大強度となるように発光し、
前記コンデンサレンズの後側焦点位置における瞳面強度分布は、前記第1の固体発光素子からの光により形成される第1光強度分布と、前記第2の固体発光素子からの光により形成される第2光強度分布と、を重畳させた光強度分布であることを特徴とする露光装置。 - 前記第2の波長特性の重心波長は、前記第1の波長特性の重心波長よりも長い波長であることを特徴とする請求項14に記載の露光装置。
- 前記第2光強度分布において最大の光強度となる領域は、前記第1光強度分布において最大となる光強度の領域よりも前記照明光学系の光軸を中心として外側の領域であることを特徴とする請求項15に記載の露光装置。
- 前記複数のコリメートレンズは、前記第1の固体発光素子からの光をコリメートする第1コリメートレンズ及び前記第2の固体発光素子からの光をコリメートする第2コリメートレンズを含み、
前記第1コリメートレンズの焦点距離は、前記第2コリメートレンズの焦点距離とは異なることを特徴とする請求項14乃至16のいずれか1項に記載の露光装置。 - 基板を露光する露光方法であって、
照明光学系を介した光でマスクを照明する第1の工程と、
前記マスクのパターンの像を前記基板に投影する第2の工程と、を有し、
前記照明光学系は、複数の固体発光素子と、前記複数の固体発光素子のそれぞれに対応して設けられた複数のコリメートレンズと、前記複数のコリメートレンズから出射した光を集光するコンデンサレンズと、を含み、
前記複数の固体発光素子のそれぞれは、前記複数のコリメートレンズのそれぞれの光軸外で最大強度となるように発光し、
前記コンデンサレンズの後側焦点位置の光強度分布である瞳面強度分布は、前記複数の固体発光素子のそれぞれからの光を重畳させることにより形成される光強度分布であり、
前記瞳面強度分布は、前記照明光学系の光軸外で最大強度となる光強度分布であることを特徴とする露光方法。 - 請求項1乃至17のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する露光工程と、
前記露光工程で露光された基板を現像する現像工程と、
前記現像工程で現像された基板の処理を行う処理工程と、を含み、
前記処理工程で処理された基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
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