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JP7504580B2 - 電子デバイス、表示装置、光電変換装置、電子機器、照明装置及び移動体 - Google Patents

電子デバイス、表示装置、光電変換装置、電子機器、照明装置及び移動体 Download PDF

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Description

本発明は、電子デイバス、表示装置、光電変換装置、電子機器、照明装置及び移動体に関する。
有機層を用いた電子デバイスとして、有機発光素子や有機光電変換素子が提案されている。有機発光素子は、上部電極と下部電極とその間に配置されている有機層を有する素子であり、有機層に含まれる有機化合物を励起させることにより発光する。近年、有機発光素子を備えた電子デバイスが注目されており、中でも表示装置が広く用いられている。
有機発光素子の有機層を形成する方式には、発光色ごとに異なる構成の有機層を形成する方式、発光色に依らずに同じ構成の有機層を形成する方式が知られている。発光色に依らずに同じ構成の有機層を形成する方式では、典型的には複数の発光素子に渡って連続した有機層が形成される。また、発光色ごとに異なる構成の有機層を形成する場合であっても、一部の有機層は複数の発光素子につながって設けられる場合もある。
しかし、有機層が複数の発光素子および複数の発光素子間においてつながっている構成においては、隣り合う発光素子間での有機層を介した電流のリークが発生しやすい。発光素子間でのリーク電流は、意図しない発光素子の発光の原因となる。意図しない発光素子の発光は、表示装置の表現の性能を表す色域を狭めてしまう。
また、有機層を用いた光電変換素子においては、複数の下部電極を覆うように連続する有機光電変換層が配される。有機光電変換層を介して複数の下部電極間でリーク電流が生じ、結果として、ノイズが生じる可能性がある。
有機層が薄いことで、下部電極の間でのリーク電流は低減することができる。しかし、有機層が薄い場合には、上部電極と下部電極との間のリーク電流が生じやすくなる。特許文献1には、上部電極と下部電極との間でのショートを低減するために、各画素を分離する隔壁に近い、画素周辺部の有機層の層厚が、画素の中央部の有機層の層厚よりも大きい表示装置を開示している。
特開2007-73608号公報
特許文献1には、画素の中央部における有機層の層厚、および、画素の周辺部における有機層の層厚の関係が記載されているが、画素を分離する隔壁の傾斜部における傾斜部に対して垂直方向の有機層の層厚については記載がない。画素中央部の有機層と、画素周辺部の有機層の厚さの比を制御するのみでは、画素を分離する隔壁の傾斜部における傾斜部に対して垂直方向の有機層の層厚に起因する上部電極と下部電極との間のリーク電流の低減には不十分である。
本発明は、上記課題に鑑みてなされるものであり、その目的は、複数の第一電極を有する電子デバイスにおいて、複数の第一電極の間のリーク電流を低減し、かつ第一電極及び第二電極の間のリーク電流を低減した電子デバイスを提供することである。
本発明の一実施形態は、複数の第一電極と、第二電極と、前記第一電極と前記第二電極との間に配置され、前記複数の第一電極を覆っている機能層と、前記第一電極の端を覆い、前記第一電極の上に傾斜部を有する絶縁層と、を有し、
前記第一電極は、前記第一電極の前記端を含み、前記絶縁層に覆われた第一領域と、前記機能層に接する第二領域と、を有し、
前記機能層が、前記複数の第一電極のうちの隣り合う2つの第一電極の前記第二領域と、前記2つの第一電極をそれぞれ覆う前記絶縁層と、を覆うように連続して配され、
前記第二領域における前記機能層の層厚が、前記第一電極の上面から前記絶縁層の上面までの高さよりも小さい電子デバイスであって、
前記第一電極の主面に垂直な断面において、前記絶縁層の前記傾斜部は、前記傾斜部の上端と前記傾斜部の下端との間に配される緩傾斜部と、前記緩傾斜部と前記下端の間に配され、かつ、前記第一電極に対する傾斜角が前記緩傾斜部の傾斜角よりも大きい急傾斜部とを有し、
前記傾斜部は、前記第一電極の前記第一領域の上面に対する傾斜角が50°よりも大きく、前記緩傾斜部は、前記第一電極に対する傾斜角が50°以下であり、
前記第一電極の前記第二領域における前記機能層の上面の高さは、前記急傾斜部の上端の高さよりも高いことを特徴とする電子デバイスに関する。
本発明によれば、複数の第一電極を有する電子デバイスにおいて、複数の第一電極の間のリーク電流を低減し、かつ第一電極及び第二電極の間のリーク電流を低減した電子デバイスを提供できる。
本発明の第一の実施形態に係る有機デバイスの構成を模式的に示す断面図である。 図1の有機デバイスの構成を模式的に示す平面図である。 実施形態に係る有機発光装置の模式図と回路図である。 第一電極上における前記有機層の層厚に対する、隣り合う二つの第一電極の開口部間の距離の比と、赤画素の色度の関係図である。 本発明の第一の実施形態に係る有機発光装置の構成を模式的に示す断面図の拡大図である。 本発明の第二の実施形態に係る有機発光装置の構成を模式的に示す断面図の拡大図である。 蒸着シミュレーションにおける部材の配置図である。 蒸着シミュレーション結果の図である。 本実施形態に係る表示装置の一例を表す模式図である。 (a)本実施形態に係る撮像装置の一例を表す模式図である。(b)本実施形態に係る電子機器の一例を表す模式図である。 (a)本実施形態に係る表示装置の一例を表す模式図である。(b)折り曲げ可能な表示装置の一例を表す模式図である。 (a)本実施形態に係る照明装置の一例を示す模式図である。(b)本実施形態に係る車両用灯具を有する自動車の一例を示す模式図である。 傾斜部における有機層の傾斜部に対して垂直方向の膜厚のうち最も薄い部分の膜厚と、上部電極と下部電極との間のリーク電流の関係である。
本発明の一実施形態に係る電子デバイスは、複数の第一電極と、第二電極と、前記第一電極と前記第二電極との間に配置され、前記複数の第一電極を覆っている機能層と、前記第一電極の端を覆い、前記第一電極の上に傾斜部を有する絶縁層と、を有し、前記第一電極は、前記第一電極の前記端を含み、前記絶縁層に覆われた第一領域と、前記機能層に接する第二領域と、を有し、前記機能層が、前記複数の第一電極のうちの隣り合う2つの第一電極の前記第二領域と、前記2つの第一電極をそれぞれ覆う前記絶縁層と、を覆うように連続して配され、前記第二領域における前記機能層の層厚が、前記第一電極の上面から前記絶縁層の上面までの高さよりも小さい電子デバイスであって、前記絶縁層の傾斜部における前記機能層は、前記傾斜部の傾斜面に対して垂直方向の層厚が20nm以上であることを特徴とする電子デバイスである。
本発明の一実施形態に係る電子デバイスは、第一電極、第二電極、第一電極と第二電極との間に配置されている機能層、第一電極の端を覆っている絶縁層、を有する素子を有するということができる。
上記のように、複数ある第一電極において、第一電極間のリーク電流が低減された電子デバイスにおいて、絶縁層の傾斜部における機能層の層厚が20nm以上であることで、第一電極と第二電極との間でのリーク電流を低減することができる。
この機能層の厚さによるリーク電流の低減効果は、機能層の層厚が、複数の第一電極の端を覆っている絶縁層の高さよりも小さい場合、すなわち、機能層が薄い場合に、効果が高い。また、機能層が複数の素子において連続で形成されている場合、すなわち、機能層がつながって形成されている場合に、効果が高い。
電子デバイスが有機発光素子である場合、機能層、すなわち、有機層の層厚が小さいことで、発光効率を向上することができる。有機層に吸収される光を低減することができるからである。有機発光素子の一対の電極間の距離Lは、以下の式(1)を満たすことが好ましい。有機発光素子において以下の式(1)を満たすことは、電極間での光学干渉を強めることを意味し、有機発光素子がさらに発光効率を向上させることができる。ここでの発光効率は取出し効率ということもできる。
(λ/8)×(-(2φ/π)-1)<L<(λ/8)×(-(2φ/π)+1) (1)
式(1)において、λは有機層に含まれる発光層が発光する発光スペクトルの最大ピークの波長である。最大ピークとは、発光スペクトルのピークの内で強度が最大のピークである。ピーク波長は、発光に含まれるピークのうち最小の波長であってよい。φは電極での位相シフトである。位相シフトは光が反射する際に起こる位相シフトである。第一電極または第二電極の一方は、反射電極であってよく、他方は光透過電極であってよい。光透過電極は、光の一部を透過し、一部を反射する電極であってもよい。
本発明の一実施形態に係る電子デバイスの素子は、有機発光素子であってよい。素子が有機発光素子である場合は、機能層は発光層を有する有機層であってよい。一方、素子は、光電変換素子であってもよい。素子が光電変換素子である場合は、機能層は光電変換層を有する有機層であってよい。
第一電極は、絶縁層に覆われ、端を含む領域である第一領域と、絶縁層に覆われず、機能層と接する第二領域と、を有する。第一領域は第二領域を囲んでいてよい。
本発明の一実施形態に係る有機発光装置の第一電極の第二領域における有機層4の層厚は、100nm未満であることが好ましい。これによって、高輝度化しやすく、本発明による第一電極と第二電極間のリーク電流の低減効果が大きくなる。
以下、本発明の一実施形態に係る電子デバイスの具体的な実施形態を、添付図面を参照して説明する。なお、以下の説明および図面において、複数の図面に渡って共通の構成については共通の符号を付している。そのため、複数の図面を相互に参照して共通する構成を説明し、共通の符号を付した構成については適宜説明を省略する。
<第一の実施形態>
第一の実施形態は、電子デバイスが有機発光装置である例である。図1は、本発明における第一の実施形態の有機発光装置100の断面模式図である。図2は、有機発光装置100の上面俯瞰図である。図2のA-A’間の断面が、図1に相当し、3つの素子10で1つの画素を構成している。本実施形態では、デルタ配列の画素の例を示すが、これに限られることはなく、ストライプ配列やスクエア配列であってもよい。
有機発光装置100は、基板1と基板1の上面(第1の面)に配される複数の発光素子10を含む。図1には、有機発光装置100に含まれる複数の発光素子10のうち、3つの発光素子10R、10G、10Bが示されている。10Rにおける「R」は、赤色を発光する素子であることを示している。同様に10G、10Bはそれぞれ緑色、青色を発光することを示している。本明細書において、複数の発光素子10のうち特定の発光素子を示す場合は、発光素子10「R」のように参照番号の後に添え字し、何れであってもよい場合は、単に発光素子「10」と示す。他の構成要素についても同様である。
複数の発光素子10は、基板1の上面の側から、絶縁層3によってそれぞれの発光素子ごとに分離された下部電極2(第一電極)と、下部電極2および絶縁層3を覆う発光層を含む有機層4と、有機層4を覆う上部電極5(第二電極)と、を含む。本実施形態の有機発光装置100は、上部電極5から光を取り出すトップエミッション型デバイスである。さらに、有機発光装置100は、上部電極5を覆うように配された保護層6と、保護層6の上に複数の発光素子10のそれぞれと対応するように配された複数のカラーフィルタ7と、を含む。本実施形態において、有機層4は、白色発光し、カラーフィルタ7B、7G、7Rは、有機層4から発せられる白色光から、RGBそれぞれの光を分離する。カラーフィルタは有機層からの光を吸収して他の色に変換する色変換層であってもよい。
本明細書において、「上」「下」とは、図1における上下を指す。基板1の主面のうち下部電極2などが配されている面を「上」面と呼ぶ。また、「高さ」とは、基板1の上面(第1の面)からの上方向の距離である。基板1の上面(第1の面)と平行な部分を指定しその指定した基準に基づいて「高さ」を指定してもよい。
図1において、符号1は、基板と略記するが、第一電極に接続されているトランジスタを含む駆動回路との間に配置される絶縁物であってよい。絶縁物は例えば、酸化シリコン、窒化シリコン等の無機物、ポリイミド、ポリアクリル等の有機物で構成される層間絶縁層があげられる。創刊絶縁層は、第一電極を形成する面の凹凸を軽減する目的から平坦化層と呼ばれることもある。
下部電極2は、有機層4の発光波長に対する反射率が80%以上の金属材料が用いられてもよい。例えば、AlやAgなどの金属や、これらの金属にSi、Cu、Ni、Ndなどを添加した合金を下部電極2に使用することができる。ここで、発光波長とは、有機層4から出射する光のスペクトル範囲のことを指す。下部電極2の有機層4の発光波長に対する反射率が高ければ、下部電極2は、バリア層を含む積層構造としてもよい。バリア層の材料としては、Ti、W、Mo、Auなどの金属やその合金を用いてよい。バリア層は、下部電極の上面に配置される金属層であってよい。下部電極2Rの上面が反射面12Rである。反射面は、有機層からの発光を反射してよい。他の画素について同様に、12G,12Bを有する。
絶縁層3は、下部電極の端を覆い、下部電極と機能層との間に配置されてよい。下部電極は絶縁層に覆われている第一領域と、絶縁層に覆われず、有機層に覆われている第二領域を有してよい。第二領域は有機層に接しているといってもよい。第二領域は、開口部とも呼ばれる。上面俯瞰図において、第二領域は絶縁層によって形成された凹部と見ることができるからである。第二領域は、それぞれの発光素子10の発光領域である。すなわち、発光領域の上面俯瞰の形状は、絶縁層による形状であってよい。絶縁層は、各発光素子の第一電極を分離する役割があれば、図1に示されるような形状に限られない。
絶縁層3は、その上部に傾斜部を有してよい。上部とは、基板とは反対側、または、機能層側ということができる。
絶縁層3は、例えば、化学気相堆積法(CVD法)や物理蒸着法(PVD法)などで形成してよい。絶縁層3は、例えば、シリコン窒化物(SiN)、シリコン酸窒化物(SiON)、シリコン酸化物(SiO)などで構成されてよい。また、絶縁層3は、それらの積層膜でもよい。絶縁層の傾斜部の傾斜角は、異方性エッチングや等方性エッチングの条件によって制御してよい。また、絶縁層3の直下の層の傾斜角を制御することで、絶縁層3の傾斜角を制御してよい。絶縁層3は、エッチングなどによる加工や、層の積み増しなどによって、上面に凹凸を有してよい。
有機層4は、下部電極2と上部電極5との間に配置されている。基板1の上面に連続的に形成され、複数の発光素子10によって共有されてよい。1つの有機層を複数の発光素子で共有しているともいえる。有機層4は、有機発光装置100の画像を表示する表示領域の全面において、一体的に形成されていてもよい。有機層4は、正孔輸送層、発光層、電子輸送層を含んでよい。有機層4は、発光効率、駆動寿命、光学干渉といった観点からそれぞれ適切な材料を選択することができる。正孔輸送層は、電子ブロック層や正孔注入層として機能してもよく、正孔注入層や正孔輸送層や電子ブロック層などの積層構造としてもよい。発光層は、異なる色を発光する発光層の積層構造でもよく、異なる色を発光する発光ドーパントを混合した混合層でもよい。
また、電子輸送層は、正孔ブロック層や電子注入層として機能してもよく、電子注入層や電子輸送層や正孔ブロック層の積層構造としてもよい。
また、上部電極と下部電極のうち、陽極となる電極と発光層の間の領域は正孔輸送領域であり、陰極となる電極と発光層の間の領域は電子輸送領域である。正孔輸送領域と電子輸送領域を総称して電荷輸送領域と呼ぶ。
また、発光層を複数有する構成であってよく、複数の発光層の間に中間層を有してよい。中間層が電荷発生層であるタンデム構造の有機発光装置であってよい。タンデム構成は、中間層と発光層との間に正孔輸送層や電子輸送層などの輸送層を形成してもよい。
上部電極5は、有機層4の上に配置される。複数の素子上に連続的に形成され、複数の発光素子10によって共有されている。有機層4と同様に、上部電極5は、有機発光装置100の画像を表示する表示領域の全面において、一体的に形成されていてもよい。上部電極5は、上部電極5の下面に到達した光の少なくとも一部を透過する電極であってよい。上部電極は、一部の光を透過するとともに、他の一部を反射する(すなわち半透過反射性)半透過反射層として機能してもよい。上部電極5は、例えばマグネシウムや銀などの金属、または、マグネシウムや銀を主成分とする合金、もしくは、アルカリ金属、アルカリ土類金属を含んだ合金材料から形成されうる。また、上部電極5に、酸化物導電体などが用いられてもよい。また、上部電極5は、適当な透過率を有するならば、積層構造であってもよい。
保護層6は、例えば、窒化シリコン、酸窒化シリコン、酸化アルミニウム、シリコン酸化物およびチタン酸化物などの外部からの酸素や水分の透過性が低い材料で構成されてよい。窒化シリコン、酸窒化シリコンは、例えば、CVD法を用いて形成されてよい。一方、酸化アルミニウム、シリコン酸化物およびチタン酸化物原子層堆積法(ALD法)を用いて形成されてよい。保護層の構成材料と製造方法の組み合わせは、上記の例示に限定されないが、形成する層厚、それに要する時間など、を考慮して製造されてよい。保護層6は、上部電極5を透過した光を透過し、十分な水分遮断性能があれば、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。
カラーフィルタ7は、保護層6の上に形成される。図1に示されるカラーフィルタ7Rとカラーフィルタ7Gとのように、隙間なく接してもよい。また、カラーフィルタが他の色のカラーフィルタの上に重なるように配置されてもよい。カラーフィルタは、保護層との間に平坦化層8を有してよい。また、カラーフィルタの上に平坦化層を有してもよい。カラーフィルタ上の平坦化層は、カラーフィルタ下の平坦化層と同じ材料であってもよい。これら平坦化層の材料として、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂を用いてよい。
下部電極2R上における有機層5の層厚Cは、下部電極に対する垂直方向の有機層の厚さであり、下部電極2Rの開口部から下部電極2Gの開口部までの距離Dは、開口部端の間の最短距離である。
本発明の一実施形態に係る電子デバイスは、第一電極上における有機層の層厚に対する、第一電極の開口部から隣の第一電極の開口部までの間の距離の比が、50未満であってよい。この数値範囲の有機発光装置は、発光素子間のリーク電流が課題になり得るほど、発光素子が高精細に配列したデバイスとなる。その根拠を以下に説明する。
図3は、赤色カラーフィルタ7Rを有する発光素子10Rと緑色カラーフィルタ7Gを有する発光素子10Gが形成された有機発光装置の模式図である。図1と異なる点は、絶縁層が傾斜部を有さず、素子間のリーク電流低減をしない点である。模式図には、発光素子10Rの等価回路を重ねて記した。図3の有機層の抵抗値を示すものであり、電子回路が組み込まれるものではない。また、発光素子間のリーク電流を説明するために発光素子10Gの等価回路も記載されている。
下部電極2R上の有機層厚をC、下部電極2Rと下部電極2Gの開口部の間の距離をD、有機層の厚さ方向における単位面積あたりの抵抗をrとすると、有機層の水平方向における単位面積あたりの抵抗は、r(D/C)となる。ここから、発光素子10Rに流れる電流をI、発光素子10Gに流れる電流をIとすると、以下の関係が成り立つ。
/I=1/(1+D/C) (2)
つまり、赤色発光素子10Rのみを発光させようとしても、緑色発光素子10Gにも電流が流れ発光してしまうということであり、それがD/Cに依存するということである。
同じ電流量で発光させた際の、赤色発光素子10Rのみの発光スペクトルをS、緑色発光素子10Gのみの発光スペクトルをS、とした場合、発光素子間のリーク電流を考慮した発光スペクトルSR+Gは、以下の式(3)にて示される。
R+G = S+S(I/I) (3)
R+GのCIExy空間にける色度座標を算出しx値を縦軸、D/Cを横軸としたグラフを図4に示す。図4において、x座標が変化するということは、赤発光を意図しているにも関わらず、緑色も発光されていることを意味する。すなわち、図4において、x座標が低いことは、隣の画素へのリーク電流が発生していることを示している。D/Cが50以上の場合、x値がほとんど変化しない。つまり、絶縁層の傾斜部がなく、発光素子間のリーク電流が起こりやすい場合だとしても、D/Cが50以上の場合は発光素子間のリーク電流が課題とならない場合がある。一方、D/Cが50未満の場合、x値が大きく低下しており、赤色の色純度低下が顕著となるため、発光素子間のリーク電流が課題となり得るほど高精細に発光素子が配列した有機発光装置である。つまり、D/Cが50未満の場合、本実施形態に係る有機発光装置のリーク電流低減の効果が特に高い。
本発明の一実施形態に係る有機発光装置の一対の電極の間の光学距離は、強め合わせの干渉構造となってよい。強め合わせの干渉構造は、共振構造ということもできる。
発光素子において、強め合わせの光学干渉条件を満たすように各有機層を形成することで、光学干渉により有機発光装置からの取り出し光を強めることができる。正面方向の取り出し光を強める光学条件とすれば、より高効率に正面方向に光が放射される。また、光学干渉により強められた光は、発光スペクトルの半値幅が、干渉前の発光スペクトルに比べて小さくなることが知られている。すなわち、色純度を高くすることができる。波長λの光に対して設計した場合、発光層の発光位置から光反射材料の反射面までの距離dをd=iλ/4n(i=1,3,5,・・・)に調整することで強め合わせの干渉とすることができる。
その結果、波長λの光の放射分布に正面方向の成分が多くなり、正面輝度が向上する。なお、nは、発光位置から反射面までの層の波長λにおける屈折率である。
発光位置から光反射電極の反射面までの間の光学距離Lrは、反射面での波長λの光が反射する際の位相シフト量の和をφr[rad]とすると、以下の式(4)で示される。なお、光学距離Lは、有機層の各層の屈折率njと各層の厚さdjの積の総和である。つまり、Lは、Σnj×djと表せ、またn0×d0とも表せられる。なお、φは負の値である。
Lr=(2m-(φr/π))×(λ/4) (4)
上記式(4)中、mは0以上の整数である。なお、φ=-πでm=0ではL=λ/4、m=1ではL=3λ/4となる。以後、上記式のm=0の条件をλ/4の干渉条件と、上記式のm=1の条件を3λ/4干渉条件と記載する。
発光位置から光取出し電極の反射面までの間の光学距離Lsは、射面での波長λの光が反射する際の位相シフトの和をφs[rad]とすると、以下の式(5)で示される。下記式(5)中、m’は0以上の整数である。
Ls=(2m’-(φs/π))×(λ/4)=-(φs/π)×(λ/4) (5)
よって、全層干渉Lは、下記式(6)の通りである。
L=(Lr+Ls)=(2m-(φ/π))×(λ/4) (6)
ここで、φは波長λの光が該光反射電極と該光取出し電極で反射する際の位相シフトの和(φr+φs)である。
この時、実際の発光素子では、正面の取り出し効率とトレードオフの関係にある視野角特性等を考慮すると、上記式と厳密に一致させなくてもよい。具体的には、Lが式(6)を満たす値から±λ/8の値の範囲内の誤差があってもよい。Lの値が干渉条件から離れてもよい許容値は、50nm以上75nm以下であってよい。
よって、本発明に係る有機発光装置において、下記式(7)を満たすことが好ましい。さらに好ましくは、Lが式(6)を満たす値から±λ/16の値の範囲内であればよく、下記式(7’)を満たすことが好ましい。
(λ/8)×(4m-(2φ/π)-1)<L<(λ/8)×(4m-(2φ/π)+1) (7)
(λ/16)×(8m-(4φ/π)-1)<L<(λ/16)×(8m-(4φ/π)+1) (7’)
本発明に係る発光素子は、式(7)、式(7’)において、m=0且つ、m’=0、つまりλ/4の光学干渉条件であることが好ましい。その場合、式(7)、式(7’)は、式(8)、式(8’)のように表される。
(λ/8)×(-(2φ/π)-1)<L<(λ/8)×(-(2φ/π)+1) (8)
(λ/16)×(-(4φ/π)-1)<L<(λ/16)×(-(4φ/π)+1) (8’)
式(7)、式(7’)において、m=0、m’=0である場合、強め合わせの干渉構造のなかで有機層の膜厚が、最も薄くなる。これによって、発光素子の駆動電圧が低くなり、電源電圧の上限の範囲内で、より高輝度の発光が可能となる。有機層が薄くなる場合は、上部電極と下部電極間のリーク電流が発生しやすくなるため、本発明における要件を満たすことで、上部電極と下部電極間のリーク電流の低減効果が特に大きくなる。
ここで、発光波長λは、発光強度が最大にピークの発光波長であってよい。有機化合物の発光は、最大のピークは、発光スペクトルの内の最小ピークが最大発光であることが一般的なので、最小ピークの波長であってもよい。
本発明の一実施形態に係る電子デバイスは、機能層の層厚が小さいデバイスである。より具体的には、第一電極の絶縁層に覆われていない第二領域における機能層の層厚が、絶縁層の高さよりも小さい。機能層の層厚は、第一電極の第二領域だけでなく、絶縁層の上面において見積もることもできる。機能層の層厚が小さく、素子間のリーク電流が課題となるデバイスにおいて、絶縁層の傾斜部に沿った機能層の領域の層厚が20nm以上である。機能層が、絶縁層の傾斜部に沿っているとは、絶縁層の傾斜部に対して垂直に線を引いた場合に、機能層の傾斜部に到達する構成を指す。
つまり、本発明の一実施形態に係る電子デバイスは、機能層の層厚が第一電極の第二領域における層厚が絶縁層の高さよりも小さいので、隣接する素子へのリーク電流が低減される。同時に絶縁層の傾斜部における機能層の層厚が20nm以上であるので、第一電極と第二電極の間のリーク電流が低減される。
図5(a)は、図1の点線部Bを拡大した図である。図5(a)には、第一電極の第二領域21と、絶縁層の傾斜部31が示されている。絶縁層の傾斜部31は、第一電極の第一領域上の傾斜部である。傾斜部31は発光領域に接している傾斜部、開口部の内周を形成している傾斜部とも呼ぶことができる。また、基板に垂直な方向からの平面視において、傾斜部と第一電極の第一領域とが、重畳している。これに対して傾斜部32は、基板に対して垂直な方向の平面視において、第一電極と他の第一電極との間に配置されている傾斜部である。開口部の外周を形成している傾斜部,画素間の傾斜部と呼ぶこともできる。第二領域21における有機層の上面の高さFは、第二領域21に対して概ね平行に形成された有機層の上面の高さを表している。第二領域上の有機層は、第一電極上の有機層の平坦部と呼ぶこともできる。
絶縁層の傾斜部31の上端33は、絶縁層の角度が0°になる位置であり、傾斜部31の上端33の高さはEとして表されている。絶縁層の傾斜部の傾斜角θは、図5(a)のように傾斜部の各位置で一定でもよいし、傾斜角が傾斜部の位置によって変化してもよい。傾斜角が変化する場合でも、傾斜角が0°よりも大きい範囲では同一の傾斜部と見なし、傾斜角が0°になる両端の位置が、傾斜部31の上端33と下端34である。図2に示す平面構造であれば、傾斜部31は、六角形の各辺を一周してまたがって形成される。
有機層4の上面の高さFは、傾斜部31の上端33の高さはEよりも低い。本実施形態に係る有機発光装置は、有機層の層厚が絶縁層の高さよりも小さいからである。つまり、図5(a)の通り、本実施形態に係る有機発光装置は、絶縁層の傾斜部に沿った有機層を有する。傾斜部31に沿った有機層の領域41(点線内)が形成される。傾斜部に沿った有機層は、傾斜部に概ね平行に形成された領域であり、有機層の領域41のように、絶縁層に対する垂線によって区切られている。図2に示す平面構造であれば、傾斜部31に沿った有機層の領域41は、六角形の各辺を一周してまたがる領域となる。なお、概ね平行とは、傾斜部のある位置の傾斜角と、その位置から描いた傾斜部との垂線が有機層4上面と交わる位置の傾斜角が同じである場合が、平行とすると、傾斜角の差が±15°の範囲内に入る場合のことを指す。
図5(a)における有機層の領域42は、絶縁層の傾斜部31に沿った有機層ではない。なぜなら、第二領域21上に形成される有機層の層厚が大きいので、傾斜部31に沿って形成される有機層を埋めてしまっているからである。
図5(b)には、比較例として、有機層4の上面の高さEが、傾斜部31の上端61の高さはFよりも高い例を示している。この場合、傾斜部31に沿った有機層は存在しない。なぜなら、第二領域21上に形成される有機層の層厚が大きいので、傾斜部31に沿って形成される有機層を埋めてしまっているからである。図5(b)の例の場合、有機層の抵抗が比較的低いため、隣接する発光素子へのリーク電流の低減が十分でない場合がある。
図5(a)に示す、傾斜部31の有機層の層厚Gが20nm以上であると、上部電極5と下部電極2の間のリーク電流を大幅に低減することができることを、本発明者らは、様々な条件の有機デバイスを検討する中で見出した。傾斜部の有機層の層厚とは、絶縁層の傾斜部に対する垂直方向の層厚である。一方で、傾斜部に沿った有機層の層厚は、平坦部上に形成された有機層の層厚よりも小さいので、電気抵抗が高い。層厚が小さい第二領域の有機層に加えて、傾斜部による有機層の高抵抗化を行っているので、隣接する発光素子へのリーク電流が低減される。隣接する発光素子へのリーク電流が低減されれば、意図しない発光素子の発光を低減し、発光装置の色域の狭小化を低減することができる。傾斜部31の有機層の層厚Gは好ましくは25nm以上であり、特に好ましくは33nm以上である。これによって、より上部電極と下部電極間のリーク電流を低減することができる。
よって、図5(a)に示す有機デバイスとすることで、隣接する発光素子へのリーク電流と上部電極と下部電極の間のリーク電流との両方を低減することができる。傾斜部に対して垂直方向の有機層の層厚は、一つの傾斜部の層厚が最も薄い部分においても20nm以上であってよい。傾斜部に対して垂直方向の有機層の層厚は、傾斜部の傾斜角や有機層の成膜条件などで制御することができる。絶縁層の傾斜部の傾斜角は50°以下であってよい。
本実施形態に係る有機発光装置は、複数の絶縁層を有する。上記ではそのうちの一つ絶縁層を例にあげたが、複数の絶縁層において、傾斜部における有機層が、傾斜部に対して垂直な方向の層厚が20nm以上であってよい。
以上においては、絶縁層の傾斜部31における有機層の層厚について説明した。一方、絶縁層の傾斜部32についても同様に、傾斜部に対して垂直方向の有機層の層厚が20nm以上であることが好ましい。両傾斜部において、有機層の層厚が20nm以上であることが好ましいが、傾斜部31において、当該層厚が20nm以上であることを満たしていることの方が、傾斜部32において、当該層厚が20nm以上であることを満たしていることよりも好ましい。傾斜部31における有機層の方が、傾斜部32における有機層よりも第一電極と第二電極との間にリーク電流に寄与するからである。
また、複数の絶縁層の第一電極の第一領域上の傾斜部において、傾斜部に対して垂直方向の有機層の層厚が20nm以上であってよい。すべての絶縁層の傾斜部において傾斜部に対して垂直方向の有機層の層厚が20nm以上であってよい。さらに、複数の絶縁層の第一電極と他の第一電極の間に配置されている傾斜部において、傾斜部に対して垂直方向の有機層の層厚が20nm以上であってよい。さらに、すべての絶縁層の第一電極と他の第一電極の間に配置されている傾斜部において、傾斜部に対して垂直方向の有機層の層厚が20nm以上であってよい。
本実施形態に係る有機発光装置において、傾斜部における傾斜面は、第一電極の上面とは平行ではなく、傾斜部における傾斜面は、絶縁層の表面のうち、絶縁層の上面と、絶縁層が覆う第一電極の上面との間の部分である。言い換えれば、傾斜部の傾斜面は、絶縁層の表面のうち、絶縁層の上面の端と、第一電極の上面との間の部分である。第一電極上の傾斜部の角度は、90°より小さくてよい。当該角度が90°よりも小さい場合、第一電極の上面から上に向かうにつれて、絶縁層による開口の幅が大きくなる。
<第二の実施形態>
図6は本発明に係る第二の実施形態の図である。絶縁層3の形状が異なることと、有機層の下部に電荷輸送領域が含まれること以外、第一の実施形態と同じである。以下、第一の実施形態との差異と、その効果について説明する。
第一電極の第一領域上の絶縁層の傾斜部31は、緩傾斜部(太線部)311と急傾斜部(太線部)312を含む。緩傾斜部は、傾斜部のうち傾斜部の上端から傾斜部の下端の間に配置される。絶縁層が上面を有する場合は、上面の高さが上端の高さであり、上面自体は上端に含まない。急傾斜部は、緩傾斜部と、傾斜部の下端の間に配置される。より具体的には、緩傾斜部の下端と傾斜部の下端の間に配置される。
図6においては、緩傾斜部311は、傾斜部31のうち、傾斜部に沿った有機層の領域41に接する部分である。緩傾斜部は第一電極の上面に対してθ1の角度で形成されている。第一電極上面が、水平面に平行であれば、緩傾斜部の角度は水平面からθ1であってよい。急傾斜部は、緩傾斜部と絶縁層の下端との間に配置されており、第一電極の上面に対してθ2の角度で形成されている。急傾斜部312とは、傾斜部31のうち、緩傾斜部311のなかで最も大きい傾斜角θ1の部分よりも、傾斜角θ2が大きい部分である。
急傾斜部の傾斜角θ2は、50°よりも大きく、緩傾斜部の傾斜角θ1が50°以下である。好ましくは、急傾斜部の傾斜角θ2は、50°よりも大きく90°以下であり、緩傾斜部の傾斜角θ1は、30°以上50°以下である。
有機層4は、電荷輸送層43と発光層を含む領域44から成り、第一電極側に電荷輸送層が配置される。電荷輸送層は有機層の構成成分が、有機層と異なってよい。そして、第一電極の第二領域21における電荷輸送層の上面431の高さIは、急傾斜部312の上端の高さHよりも低い。これによって、電荷輸送層43は、急傾斜部に垂直な方向の層厚が小さい領域、急傾斜部312に沿った領域を形成する。
蒸着法で形成した場合、傾斜部に沿った層の層厚は、傾斜角が大きいほど薄くなるため、電荷輸送層を高抵抗化しやすい。電荷輸送層は有機層のなかでも電荷輸送能力に優れた領域であるため、発光素子間のリーク電流に寄与しやすいが、上記のように高抵抗化できれば、発光素子間のリーク電流を低減することができる。
そのため、第一電極の第二領域21における有機層の上面の高さFは、急傾斜部312の上端の高さHよりも高い。第二領域21上の有機層4が、急傾斜部を形成したことによる高抵抗化の領域が形成されるためである。
傾斜部を有する絶縁層により、有機層が薄膜化された場合であっても、本実施形態に係る有機発光装置は、傾斜部における有機層は、傾斜部に対して垂直な方向の層厚が20nm以上であるため、第一電極、第二電極の間のリーク電流が低減されている。
本実施形態に係る緩傾斜部および急傾斜部は、例えば、緩傾斜部311は等方性エッチング等を用いて形成することができ、急傾斜部312は異方性エッチング等を用いて形成することができる。
ここまで、絶縁層の傾斜部31が緩傾斜部および急傾斜部を有する例をあげたが、絶縁層の傾斜部32が緩傾斜部および急傾斜部を有してもよい。
絶縁層の急傾斜部と緩傾斜部の傾斜角は、図6のようにそれぞれ傾斜部において一定でもよいし、傾斜角が傾斜部に沿って変化してもよい。この場合、緩傾斜部と急傾斜部の境界は、傾斜角が50°を超える点である。
本実施形態における電荷輸送層は正孔輸送層であってよい。一般的に電子輸送層よりも正孔輸送層の方が、電荷移動度が高いため、本実施形態の構造とすることで、正孔輸送層を高抵抗化することができ、発光素子間のリーク電流の低減効果を大きくすることができる。また、正孔輸送層は、複数の有化合物層からなる正孔輸送領域であってもよい。
発光素子間のリーク電流を低減する場合、発光層は電子トラップ型であることが好ましい。電子トラップ型とは、発光層の主成分を占めるホスト材料の最低非占軌道のエネルギーよりも、発光層に含まれるドーパント材料の最低非占軌道のエネルギーが0.15eV以上深い場合の発光層である。これによって、発光層の電子移動度が低下する。そのため、正孔による発光素子間のリーク電流は、傾斜部による高抵抗化で、電子による発光素子間のリーク電流は発光層による高抵抗化という形で対策できるため、正孔および電子による発光素子間のリーク電流の双方を低減しやすい。
本実施形態における好ましい傾斜部の傾斜角についての知見を得るために、蒸着法による成膜シミュレーションを実施した。図7は蒸着シミュレーションの際の各部材の配置図である。蒸着源201、基板202、基板に配された有機デバイス203の位置を図7のように設定し、R=200mm、r=95mm、h=340mmとした。
以下の式(9)で表す、蒸着分布のn=2とした。
φ=φcosα (9)
ここで、αは角度、φは角度αにおける蒸気流密度、φはα=0における蒸気流密度である。また、基板202は基板の中心で回転することを前提とした。
基板上の有機デバイス203の位置に傾斜角0°~90°の傾斜部がある場合を仮定し、傾斜角0°における有機層の層厚を76nmとした際の、各傾斜角における、傾斜部に沿った有機層の領域の層厚を計算した。
図8に、成膜シミュレーションの結果を示す。ここから、傾斜角が50°よりも大きい場合、傾斜部に沿った有機層の領域の層厚が薄くなり易く、傾斜角が50°以下だと、傾斜部に沿った有機層の領域の層厚が厚くなり易いことが分かる。よって、本実施形態の急傾斜部の傾斜角は50°よりも大きいことが好ましく、緩傾斜部は傾斜角が50°以下であることが好ましい。
本実施形態に係る、急傾斜部の傾斜角は90°よりも大きい部分を含んでよい。これによって、急傾斜部における電荷輸送層の層厚が特に薄くなり易く、発光素子間のリーク電流を低減しやすくなる。
[本実施形態に係る有機発光素子の用途]
本実施形態に係る有機発光素子は、表示装置や照明装置の構成部材として用いることができる。他にも、電子写真方式の画像形成装置の露光光源や液晶表示装置のバックライト、白色光源にカラーフィルタを有する発光装置等の用途がある。
表示装置は、エリアCCD、リニアCCD、メモリーカード等からの画像情報を入力する画像入力部を有し、入力された情報を処理する情報処理部を有し、入力された画像を表示部に表示する画像情報処理装置でもよい。
また、撮像装置やインクジェットプリンタが有する表示部は、タッチパネル機能を有していてもよい。このタッチパネル機能の駆動方式は、赤外線方式でも、静電容量方式でも、抵抗膜方式であっても、電磁誘導方式であってもよく、特に限定されない。また表示装置はマルチファンクションプリンタの表示部に用いられてもよい。
次に、本実施形態に係る表示装置について説明する。表示装置は、有機発光素子とこの有機発光素子に接続されるトランジスタとを有してよい。トランジスタは、能動素子の一例である。
トランジスタは、層間絶縁層に設けられたコンタクトホールを介して有機発光素子を構成する第一電極と接続されてよい。
なお、有機発光素子に含まれる電極(陽極、陰極)とトランジスタに含まれる電極(ソース電極、ドレイン電極)との電気接続の方式は、特に限られるものではない。つまり陽極又は陰極のうちいずれか一方とトランジスタのソース電極またはドレイン電極のいずれか一方とが電気接続されていればよい。
また表示装置に使用されるトランジスタは、単結晶シリコンウエハを用いたトランジスタに限らず、基板の絶縁性表面上に活性層を有する薄膜トランジスタでもよい。活性層として、単結晶シリコン、アモルファスシリコン、微結晶シリコンなどの非単結晶シリコン、インジウム亜鉛酸化物、インジウムガリウム亜鉛酸化物等の非単結晶酸化物半導体が挙げられる。なお、薄膜トランジスタはTFTとも呼ばれる。
表示装置に含まれるトランジスタは、Si基板等の基板内に形成されていてもよい。ここで基板内に形成されるとは、Si基板等の基板自体を加工してトランジスタを作製することを意味する。つまり、基板内にトランジスタを有することは、基板とトランジスタとが一体に形成されていると見ることもできる。
本実施形態に係る有機発光素子はスイッチング素子の一例であるTFTにより発光輝度が制御され、有機発光素子を複数面内に設けることでそれぞれの発光輝度により画像を表示することができる。なお、基板内にトランジスタを設けるか、TFTを用いるかは、表示部の大きさによって選択され、例えば0.5インチ程度の大きさであれば、Si基板上に有機発光素子を設けることが好ましい。
図9は、本実施形態に係る表示装置の一例を表す模式図である。表示装置1000は、上部カバー1001と、下部カバー1009と、の間に、タッチパネル1003、表示パネル1005、フレーム1006、回路基板1007、バッテリー1008、を有してよい。タッチパネル1003および表示パネル1005は、フレキシブルプリント回路FPC1002、1004が接続されている。回路基板1007には、トランジスタがプリントされている。バッテリー1008は、表示装置が携帯機器でなければ、設けなくてもよいし、携帯機器であっても、別の位置に設けてもよい。
本実施形態に係る表示装置は、複数のレンズを有する光学部と、当該光学部を通過した光を受光する撮像素子とを有する撮像装置の表示部に用いられてよい。撮像装置は、撮像素子が取得した情報を表示する表示部を有してよい。また、表示部は、撮像装置の外部に露出した表示部であっても、ファインダ内に配置された表示部であってもよい。撮像装置は、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラであってよい。
図10(a)は、本実施形態に係る撮像装置の一例を表す模式図である。撮像装置1100は、ビューファインダ1101、背面ディスプレイ1102、操作部1103、筐体1104を有してよい。ビューファインダ1101は、本実施形態に係る表示装置を有してよい。その場合、表示装置は、撮像する画像のみならず、環境情報、撮像指示等を表示してよい。環境情報には、外光の強度、外光の向き、被写体の動く速度、被写体が遮蔽物に遮蔽される可能性等であってよい。
撮像に好適なタイミングはわずかな時間なので、少しでも早く情報を表示した方がよい。したがって、本発明の一実施形態に係る有機発光装置を用いた表示装置を用いるのが好ましい。有機発光素子は応答速度が速いからである。有機発光素子を用いた表示装置は、表示速度が求められる、これらの装置、液晶表示装置よりも好適に用いることができる。
撮像装置1100は、不図示の光学部を有する。光学部は複数のレンズを有し、筐体1104内に収容されている撮像素子に結像する。複数のレンズは、その相対位置を調整することで、焦点を調整することができる。この操作を自動で行うこともできる。
本実施形態に係る表示装置は、赤色、緑色、青色を有するカラーフィルタを有してよい。カラーフィルタは、当該赤色、緑色、青色がデルタ配列で配置されてよい。
本実施形態に係る表示装置は、携帯端末の表示部に用いられてもよい。その際には、表示機能と操作機能との双方を有してもよい。携帯端末としては、スマートフォン等の携帯電話、タブレット、ヘッドマウントディスプレイ等が挙げられる。
図10(b)は、本実施形態に係る電子機器の一例を表す模式図である。電子機器1200は、表示部1201と、操作部1202と、筐体1203を有する。筐体1203には、回路、当該回路を有するプリント基板、バッテリー、通信部、を有してよい。操作部1202は、ボタンであってもよいし、タッチパネル方式の反応部であってもよい。操作部は、指紋を認識してロックの解除等を行う、生体認識部であってもよい。通信部を有する電子機器は通信機器ということもできる。
図11は、本実施形態に係る表示装置の一例を表す模式図である。図11(a)は、テレビモニタやPCモニタ等の表示装置である。表示装置1300は、額縁1301を有し表示部1302を有する。表示部1302には、本実施形態に係る発光装置が用いられてよい。
額縁1301と、表示部1302を支える土台1303を有している。土台1303は、図11(a)の形態に限られない。額縁1301の下辺が土台を兼ねてもよい。
また、額縁1301および表示部1302は、曲がっていてもよい。その曲率半径は、5000mm以上6000mm以下であってよい。
図11(b)は本実施形態に係る表示装置の他の例を表す模式図である。図11(b)の表示装置1310は、折り曲げ可能に構成されており、いわゆるフォルダブルな表示装置である。表示装置1310は、第一表示部1311、第二表示部1312、筐体1313、屈曲点1314を有する。第一表示部1311と第二表示部1312とは、本実施形態に係る発光装置を有してよい。第一表示部1311と第二表示部1312とは、つなぎ目のない1枚の表示装置であってよい。第一表示部1311と第二表示部1312とは、屈曲点で分けることができる。第一表示部1311、第二表示部1312は、それぞれ異なる画像を表示してもよいし、第一および第二表示部とで一つの画像を表示してもよい。
図12(a)は、本実施形態に係る照明装置の一例を表す模式図である。照明装置1400は、筐体1401と、光源1402と、回路基板1403と、光学フィルム1404と、光拡散部1405と、を有してよい。光源は、本実施形態に係る有機発光素子を有してよい。光学フィルタは光源の演色性を向上させるフィルタであってよい。光拡散部は、ライトアップ等、光源の光を効果的に拡散し、広い範囲に光を届けることができる。光学フィルタ、光拡散部は、照明の光出射側に設けられてよい。必要に応じて、最外部にカバーを設けてもよい。
照明装置は例えば室内を照明する装置である。照明装置は白色、昼白色、その他青から赤のいずれの色を発光するものであってよい。それらを調光する調光回路を有してよい。照明装置は本発明の有機発光素子とそれに接続される電源回路を有してよい。電源回路は、交流電圧を直流電圧に変換する回路である。また、白とは色温度が4200Kで昼白色とは色温度が5000Kである。照明装置はカラーフィルタを有してもよい。
また、本実施形態に係る照明装置は、放熱部を有していてもよい。放熱部は装置内の熱を装置外へ放出するものであり、比熱の高い金属、液体シリコン等が挙げられる。
図12(b)は、本実施形態に係る移動体の一例である自動車の模式図である。当該自動車は灯具の一例であるテールランプを有する。自動車1500は、テールランプ1501を有し、ブレーキ操作等を行った際に、テールランプを点灯する形態であってよい。
テールランプ1501は、本実施形態に係る有機発光素子を有してよい。テールランプは、有機EL素子を保護する保護部材を有してよい。保護部材はある程度高い強度を有し、透明であれば材料は問わないが、ポリカーボネート等で構成されることが好ましい。ポリカーボネートにフランジカルボン酸誘導体、アクリロニトリル誘導体等を混ぜてよい。
自動車1500は、車体1503、それに取り付けられている窓1502を有してよい。窓は、自動車の前後を確認するための窓でなければ、透明なディスプレイであってもよい。当該透明なディスプレイは、本実施形態に係る有機発光素子を有してよい。この場合、有機発光素子が有する電極等の構成材料は透明な部材で構成される。
本実施形態に係る移動体は、船舶、航空機、ドローン等であってよい。移動体は、機体と当該機体に設けられた灯具を有してよい。灯具は、機体の位置を知らせるための発光をしてよい。灯具は本実施形態に係る有機発光素子を有する。
以上説明した通り、本実施形態に係る有機発光素子を用いた装置を用いることにより、良好な画質で、長時間表示にも安定な表示が可能になる。
[実施例1]
以下、本実施形態の有機発光装置100の実施例について説明する。まず、基板1の上に金属層を形成し、マスクパターンなどを用いて金属層の所望の領域をエッチングすることによって、下部電極2を形成した。次いで、絶縁層3を、下部電極2の端を覆うように形成した。本実施例において、絶縁層3はシリコン酸化物によって形成され、下部電極2の上面での基板1の上面に直交する方向の絶縁層3の膜厚は80nmとした。絶縁層3を形成した後、マスクパターンなどを用いて絶縁層3の所望の領域をエッチングすることによって、開口部12を形成した。絶縁層3の形状は図6に示すように、緩傾斜部および急傾斜部を有する形状とした。緩傾斜部311の傾斜角は40°、急傾斜部312の傾斜角は80°であった。第一電極上面の第二領域(平坦部)21に対する、急傾斜部312の上端の高さは50nmとした。また、第一電極の第二領域(平坦部)21に対する、傾斜部31の高さは80nmとした。絶縁層3の傾斜部32に含まれる、緩傾斜部321の傾斜角は40°、急傾斜部322の傾斜角は80°とした。また、第一電極と他の第一電極の間の平坦部22に対する傾斜部32の高さは80nmとした。本実施例において、画素配列はデルタ配列とし、互いに隣接する開口部12の間の距離を1.4μm、互いに隣接する下部電極2の間の距離を0.6μmとした。画素は図2に示すように、各画素が六角形の形状をしたデルタ配列とした。
次いで、有機層4を形成した。有機層は、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、2層構成の発光層、電子輸送層、電子注入層をこの順で有する構成とした。まず、基板1の上に正孔注入層として下記の化合物1に示す材料を7nm成膜した。
Figure 0007504580000001
次いで、正孔輸送層として、下記の化合物2に示す材料を5nm、電子ブロック層として下記の化合物3を10nm成膜した。発光層42は、2層の積層構造とした。まず、1層目の発光層として、ホスト材料が下記の化合物4、発光ドーパントが下記の化合物5である発光層を形成した。発光ドーパントの重量比は3%となるように調整し、1層目の発光層の層厚は10nmとした。
Figure 0007504580000002
次に、2層目の発光層として、ホスト材料が上記の化合物4、発光ドーパントが下記の化合物6である発光層を形成した。発光ドーパントの重量比は1%となるように調整し、2層目の発光層の層厚は10nmとした。2層構造の発光層の形成後、電子輸送層として下記の化合物7を34nm成膜し、さらに、電子注入層としてLiFを0.5nm成膜した。
Figure 0007504580000003
有機層4の形成後、上部電極5としてMgとAgとの割合が1:1のMgAg合金を10nm成膜した。上部電極5の形成後、封止層6としてCVD法を用いてSiNを1.5μm成膜した。保護層6の形成後、カラーフィルタ7を形成した。
第一電極上における有機層の層厚76nm(各有機層の合計)に対する、隣り合う二つの第一電極の開口部間の距離1.4μmの比は、18であり、50未満であった。第一電極の第二領域(平坦部)21における有機層の層厚は76nmであり、傾斜部31の上端の高さである80nmよりも低かった。また、平坦部22における有機層の層厚である76nmは、傾斜部32の上端の高さである80nmよりも低かった。傾斜部31に沿った有機層の領域41、傾斜部32に沿った有機層の領域42の、有機膜厚が36nm~45nmと、20nm以上であった。発光層の発光スペクトルのピークのうち最小の波長λは、460nmであり、光学距離Lが146nmであり、位相差シフトφが‐πであったので、以下の式(8)を満たす。式(8)は、前述の式(5)から導出される。
(λ/8)×(-(2φ/π)-1)<L<(λ/8)×(-(2φ/π)+1) (8)
また、有機層は第一電極と発光層の間に、正孔注入層と正孔輸送層からなる正孔輸送領域を有する。平坦部21に対する、平坦部21における電荷輸送領域の上面の高さ12nmは、急傾斜部の上端の高さ50nmよりも低く、平坦部21に対する、平坦部21における有機層の上面の高さ76nmは、急傾斜部312の上端の高さ50nmよりも高い。同様に、平坦部22に対する、平坦部22における電荷輸送領域の上面の高さ12nmは、急傾斜部の上端の高さ50nmよりも低く、平坦部22に対する、平坦部22における有機層の上面の高さ76nmは、急傾斜部322の上端の高さ50nmよりも高い。
次いで、形成した実施例1の有機発光装置100の特性について説明する。まずは、発光素子間のリーク電流に関する指標である、Ileak/Ioledの測定方法について、R画素で例示して説明する。隣接するG画素及びB画素を短絡(電位=0V、つまりショート)させた状態で、R画素を通電させる。この時に、R画素の第一電極からR画素の第二電極へ流れた電流をIoled、R画素の第一電極からG画素またはB画素の第二電極へ流れた電流和をIleakとした。Ileakは、Ioledが0.1nA/pixelとなる電位の値で測定した。Ioledに対するIleakの比を、Ileak/Ioledとする。Ileak/Ioledが0.20以下であれば、リーク電流が低減されていると評価した。
次に、上部電極と下部電極と間のリーク電流について説明する。有機発光素子の発光閾値電圧が約2Vであるので、上部電極と下部電極間のリーク電流が発生しない発光素子は、例えば、上部電極と下部電極間に1.5Vの電圧を印加しても電流が流れない。ところが、上部電極と下部電極と間のリーク電流が発生する発光素子においては、上部電極と下部電極間に1.5Vの電圧を印加した場合、電流が流れる。そこで、R画素の上部電極と下部電極間に1.5Vの電圧を印加時の電流値を測定した。すなわち、1.5Vを印加した時に、流れる電流はリーク電流である。上部電極と下部電極との間のリーク電流が低減されている発光素子は、1.5Vを印加しても電流が流れない。
次に、R画素の上部電極と下部電極間に5Vの電圧を印加し、その際の電流値と輝度を測定した。
その結果、Ileak/Ioledは、0.15であり、1.5V電圧印加時の電流量は、1×10-6nA/pixelであり、5V電圧印加時の電流量は、16nA/pixel、輝度は250cd/mであり、輝度は良好なデバイス特性を得られた。
[比較例1]
平坦部21に対する、急傾斜部312の高さを90nm、傾斜部31の高さを120nmとし、平坦部22に対する、急傾斜部322の高さを90nm、傾斜部32の高さを120nmとしたこと以外、実施例1と同様に有機発光装置を作製した。傾斜部31に沿った有機層の領域41は、緩傾斜部311だけでなく、急傾斜部312に沿った領域にも形成され、急傾斜部に沿った領域での有機層厚は、18~24nmであった。傾斜部32についても同様であった。
その結果、上部電極と下部電極間のリーク電流が大きすぎて、Ileak/Ioledは正確な値が測定できなかった。Ileakが大きく、Ioledが小さいので、Ileak/Ioledは非常に大きな値となり、測定不能となった。また、1.5V電圧印加時の電流量は、1×10-1nA/pixelと、非常に大きかった。開口部の内周においては発光の強度が小さくなる現象が起こった。これは、上部電極と下部電極間のリーク電流の影響で、上部電極と下部電極の間の電位差が小さくなってしまった領域があったためと考えられる。
ここから、傾斜部に沿った有機層の領域の層厚が、20nm未満の部分を有する場合、上部電極と下部電極間のリーク電流が大きくなってしまうことが分かる。
[比較例2]
平坦部21に対する、急傾斜部312の高さを30nm、傾斜部31の高さを50nmとし、平坦部22に対する、急傾斜部322の高さを30nm、傾斜部32の高さを50nmとしたこと以外、実施例1と同様に有機デバイスを作製した。
その結果、Ileak/Ioledは、0.25であり、1.5V電圧印加時の電流量は、測定限界(10-6nA/pixel)以下であった。Ileak/Ioledが0.25であることが示す通り、リーク電流の割合が大きく、発光素子間のリーク電流が非常に大きかった。
ここから、傾斜部の上端の高さよりも、平坦部における有機層の上面の高さが低い場合、発光素子間のクロストークが大きくなりやすいことが分かる。
[比較例3]
電子輸送層の層厚を140nmとした以外、実施例1と同様に有機発光装置を作製した。
その結果、Ileak/Ioledは、0.35であり、1.5V電圧印加時の電流量は、測定限界(10-6nA/pixel)以下であった。Ileak/Ioledが0.35であることが示す通り、リーク電流の割合が大きく、発光素子間のリーク電流が非常に大きかった。ここから、傾斜部の上端の高さよりも、平坦部における有機層の上面の高さが低い場合、発光素子間のクロストークが大きくなりやすいことが分かる。
また、電子輸送層の層厚を140nm、下部電極上の有機層の総膜厚は、182nmと、実施例1よりも厚膜化したため、以下の式(8)は満たさず、λ/4の干渉条件ではなかった。
(λ/8)×(-(2φ/π)-1)<L<(λ/8)×(-(2φ/π)+1) (8)
その結果、5V電圧印加時の電流量は、6nA/pixel、輝度は90cd/mであり、電流量も輝度も小さかった。下部電極上の有機層を厚膜化したことによって抵抗が上がったためと考えられる。
[比較例4]
平坦部21に対する、急傾斜部312の角度を76°、急傾斜部322の角度を76°、としたこと以外、比較例1と同様に有機発光装置を作製した。傾斜部31と傾斜部32に沿う有機層の傾斜部に対して垂直方向の膜厚のうち最も薄い部分の膜厚(以下、有機最小膜厚)は、19nmであった。また、1.5V電圧印加時の電流量は、3×10-4nA/pixelであった。
[実施例2]
平坦部21に対する、急傾斜部312の高さを70nm、急傾斜部322の高さを70nm、としたこと以外、実施例1と同様に有機発光装置を作製した。有機最小膜厚は、20nmであった。また、1.5V電圧印加時の電流量は、3×10-5nA/pixelであった。
[実施例3]
平坦部21に対する、急傾斜部312の高さを65nm、急傾斜部322の高さを65nm、としたこと以外、実施例1と同様に有機発光装置を作製した。有機最小膜厚は、25nmであった。また、1.5V電圧印加時の電流量は、7×10-6nA/pixelであった。
[実施例4]
平坦部21に対する、急傾斜部312の高さを58nm、急傾斜部322の高さを58nm、としたこと以外、実施例1と同様に有機発光装置を作製した。有機最小膜厚は、29nmであった。また、1.5V電圧印加時の電流量は、4×10-6nA/pixelであった。
図13は、傾斜部における有機層の傾斜部に対して垂直方向の膜厚のうち最も薄い部分の膜厚と、上部電極と下部電極との間のリーク電流の関係である。比較例1、4、実施例1、2、3、4の有機発光装置における、傾斜部31と傾斜部32に沿う有機層の傾斜部に対して垂直方向の膜厚のうち最も薄い部分の膜厚(有機最小膜厚)と上部電極と下部電極間のリーク電流の関係を示している。
ここから、傾斜部に沿った有機層の領域の層厚が、20nm未満の部分を有する場合、上部電極と下部電極間のリーク電流が大きくなってしまうことが分かる。逆に傾斜部に沿った有機層の領域の層厚が、20nm以上の場合、上部電極と下部電極間のリーク電流は、1×10-4nA/pixel未満と良好な特性を保つことができる。また、傾斜部に沿った有機層の領域の層厚が25nm以上である場合は、1×10-5nA/pixel未満でさらに良好であった。
[比較例4]
絶縁層の形状を、図5(a)に示す形状とし、傾斜部31の傾斜角を67°、傾斜部32の傾斜角を40°とした以外、実施例1と同様に有機発光装置を作製した。画素の形状は六角形であるため、傾斜部31は、六角形の辺に応じて、図2の紙面の右側の辺から反時計回りに1~6の領域からなっている。
本比較例に係る有機発光装置の25画素に1nA/pixelの電流を印加した。その結果、開口部の内周の発光強度が小さくなる現象が起こった。そして、六角形の各辺によって、開口部の内周の発光強度が小さくなる現象の状況が異なっていた。それが、傾斜部に沿った有機層の領域の層厚に関係していることが分かった。結果を表1に示す。
ここから、傾斜部に沿った有機層の領域の層厚が33nm以上の場合は、開口部の内周の発光強度が小さくなる現象が起こらず、上部電極と下部電極間のリーク電流が低減されていることが分かる。
Figure 0007504580000004
1 基板
2 反射電極
3 絶縁層
4 有機層
5 半透過電極
6 保護層
7 カラーフィルタ
8 平坦化層
9 透過光
10 発光素子
100 有機発光装置
1000 表示装置
1001 上部カバー
1002 フレキシブルプリント回路
1003 タッチパネル
1004 フレキシブルプリント回路
1005 表示パネル
1006 フレーム
1007 回路基板
1008 バッテリー
1009 下部カバー
1100 撮像装置
1101 ビューファインダ
1102 背面ディスプレイ
1103 操作部
1104 筐体
1200 電子機器
1201 表示部
1202 操作部
1203 筐体
1300 表示装置
1301 額縁
1302 表示部
1303 土台
1310 表示装置
1311 第一表示部
1312 第二表示部
1313 筐体
1314 屈曲点
1400 照明装置
1401 筐体
1402 光源
1403 回路基板
1404 光学フィルム
1405 光拡散部
1500 自動車
1501 テールランプ
1502 窓
1503 車体

Claims (22)

  1. 複数の第一電極と、第二電極と、前記第一電極と前記第二電極との間に配置され、前記複数の第一電極を覆っている機能層と、前記第一電極の端を覆い、前記第一電極の上に傾斜部を有する絶縁層と、を有し、
    前記第一電極は、前記第一電極の前記端を含み、前記絶縁層に覆われた第一領域と、前記機能層に接する第二領域と、を有し、
    前記機能層が、前記複数の第一電極のうちの隣り合う2つの第一電極の前記第二領域と、前記2つの第一電極をそれぞれ覆う前記絶縁層と、を覆うように連続して配され、
    前記第二領域における前記機能層の層厚が、前記第一電極の上面から前記絶縁層の上面までの高さよりも小さい電子デバイスであって、
    前記第一電極の主面に垂直な断面において、前記絶縁層の前記傾斜部は、前記傾斜部の上端と前記傾斜部の下端との間に配される緩傾斜部と、前記緩傾斜部と前記下端の間に配され、かつ、前記第一電極に対する傾斜角が前記緩傾斜部の傾斜角よりも大きい急傾斜部とを有し、
    前記傾斜部は、前記第一電極の前記第一領域の上面に対する傾斜角が50°よりも大きく、前記緩傾斜部は、前記第一電極に対する傾斜角が50°以下であり、
    前記第一電極の前記第二領域における前記機能層の上面の高さは、前記急傾斜部の上端の高さよりも高いことを特徴とする電子デバイス。
  2. 前記絶縁層の前記緩傾斜部における前記機能層は、前記緩傾斜部の傾斜面に対して垂直方向の層厚が20nm以上であることを特徴とする請求項1に記載の電子デバイス。
  3. 前記第一電極の主面に垂直な方向からの平面視において、前記傾斜部と前記第一電極の前記第一領域とが、重畳することを特徴とする請求項1または2に記載の電子デバイス。
  4. 前記絶縁層の前記緩傾斜部における前記機能層は、前記緩傾斜部の傾斜面に対して垂直方向の層厚が33nm以上であることを特徴とする請求項1に記載の電子デバイス。
  5. 前記絶縁層は、前記機能層に覆われ、前記傾斜部とは異なる他の傾斜部を有し、前記他の傾斜部は、前記第一電極の主面に垂直な方向からの平面視において、前記第一電極と他の第一電極との間に配置され、
    前記他の傾斜部における前記機能層は、前記他の傾斜部に対して垂直方向の層厚が20nm以上であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の電子デバイス。
  6. 前記絶縁層は、前記機能層に覆われ、前記傾斜部とは異なる他の傾斜部を有し、前記他の傾斜部は、前記第一電極の主面に垂直な方向からの平面視において、前記第一電極と他の第一電極との間に配置され、
    前記他の傾斜部における前記機能層は、前記他の傾斜部に対して垂直方向の層厚が33nm以上であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の電子デバイス。
  7. 複数の前記絶縁層において、前記傾斜部における前記傾斜部に対して垂直方向の前記機能層の厚さが20nm以上であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の電子デバイス。
  8. 前記複数の絶縁層は、前記機能層に覆われ、前記傾斜部とは異なる他の傾斜部を有し、前記他の傾斜部における前記他の傾斜部の傾斜面に対して垂直方向の前記機能層の厚さが20nm以上であることを特徴とする請求項7に記載の電子デバイス。
  9. 複数の前記絶縁層において、前記傾斜部における前記傾斜部に対して垂直方向の前記機能層の厚さが33nm以上であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の電子デバイス。
  10. 前記複数の絶縁層は、前記機能層に覆われ、前記傾斜部とは異なる他の傾斜部を有し、前記他の傾斜部における前記他の傾斜部の傾斜面に対して垂直方向の前記機能層の厚さが33nm以上であることを特徴とする請求項9に記載の電子デバイス。
  11. 前記傾斜部における前記傾斜面は、前記第一電極の上面とは平行ではなく、
    前記傾斜部における前記傾斜面は、前記絶縁層の表面のうち、前記絶縁層の上面と、前記絶縁層が覆う前記第一電極の上面との間の部分であることを特徴とする請求項2、4、8、及び10のいずれか一項に記載の電子デバイス。
  12. 前記絶縁層は、前記第一電極に対する前記急傾斜部の傾斜角が90°よりも大きい部分を含むことを特徴とする請求項1乃至11のいずれか一項に記載の電子デバイス。
  13. 前記機能層が発光層を有する有機層であることを特徴とする請求項1乃至12のいずれか一項に記載の電子デバイス。
  14. 前記機能層は、前記第一電極と接する電荷輸送層を有し、前記第一電極の前記第二領域における前記電荷輸送層の高さは、前記急傾斜部の上端の高さよりも低いことを特徴とする請求項1乃至13のいずれか一項に記載の電子デバイス。
  15. 前記電荷輸送層が正孔輸送層であることを特徴とする請求項14に記載の電子デバイス。
  16. 前記第一電極が反射電極であり、前記第二電極が光取り出し電極であり、前記反射電極と前記光取り出し電極との間の光学距離Lが、式(1)を満たすことを特徴とする請求項13に記載の電子デバイス。
    (λ/8)×(-(2φ/π)-1)<L<(λ/8)×(-(2φ/π)+1) (1)
    ここで、λは前記発光層が発光する発光スペクトルの最大ピークの波長であり、nは前記機能層の屈折率であり、φは前記反射電極での位相シフトである。
  17. 前記機能層が、光電変換層を有する有機層であることを特徴とする請求項1乃至12のいずれか一項に記載の電子デバイス。
  18. 複数の画素を有し、前記複数の画素の少なくとも一つが、請求項1乃至16のいずれか一項に記載の電子デバイスと、前記電子デバイスに接続されたトランジスタと、を有することを特徴とする表示装置。
  19. 複数のレンズを有する光学部と、前記光学部を通過した光を受光する撮像素子と、前記撮像素子が撮像した画像を表示する表示部と、を有し、
    前記表示部は請求項1乃至16のいずれか一項に記載の電子デバイスを有することを特徴とする光電変換装置。
  20. 請求項1乃至16のいずれか一項に記載の電子デバイスを有する表示部と、前記表示部が設けられた筐体と、前記筐体に設けられ、外部と通信する通信部と、を有することを特徴とする電子機器。
  21. 請求項1乃至16のいずれか一項に記載の電子デバイスを有する光源と、前記光源が発する光を透過する光拡散部または光学フィルムと、を有することを特徴とする照明装置。
  22. 請求項1乃至16のいずれか一項に記載の電子デバイスを有する灯具と、前記灯具が設けられた機体と、を有することを特徴とする移動体。
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