JP7371110B2 - 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置に関する。

逆波長分散性を示す重合性液晶化合物は、広い波長範囲での正確な光線波長の変換が可能になること、および、高い屈折率を有するために位相差フィルムを薄膜化できること、などの特徴を有しているため、盛んに研究されている。
また、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物としては、一般にＴ型の分子設計指針が取られており、分子長軸の波長を短波長化し、分子中央に位置する短軸の波長を長波長化することが要求されている。
そして、分子中央に位置する短軸の波長を長波長化する観点から、短軸の骨格（以下、「逆波長分散発現部」ともいう。）に、親水的な窒素原子、酸素原子、硫黄原子を導入することが知られている（例えば、特許文献１～３参照）。

特開２０１０－０３１２２３号公報 国際公開第２０１４／０１０３２５号 特開２０１６－０８１０３５号公報

本発明者らは、特許文献１～３について、形成される光学異方性膜が、塩基性の求核物質であるアンモニアによって複屈折率が変化してしまうという耐久性（以下、「アミン耐性」とも略す。）の問題があることを確認した。
そして、本発明者らは、分子中央に位置する短軸の骨格（逆波長分散発現部）と、分子長軸との連結に強固な結合（例えば、エーテル結合など）を用いると、アミン耐性は改善されるが、液晶性を示さなくなり、逆波長分散性が失われる問題点を明らかとした。

そこで、本発明は、逆波長分散性を有し、アミン耐性に優れた光学異方性膜の形成に用いられる重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、後述する式（Ｉ－１）で表される化合物とともに、重合性スメクチック液晶化合物を配合した重合性液晶組成物を用いることにより、形成される光学異方性膜に逆波長分散性が発現し、アミン耐性も良好となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］ 後述する式（Ｉ－１）で表される化合物と、重合性スメクチック液晶化合物とを含有する、重合性液晶組成物。
［２］ 後述する式（Ｉ－１）中のＡｒ^１およびＡｒ^２が、３００～４００ｎｍに極大吸収波長を有する芳香環を表す、［１］に記載の重合性液晶組成物。
［３］ 後述する式（Ｉ－１）中のＡｒ^１およびＡｒ^２が、後述する式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す、［１］または［２］に記載の重合性液晶組成物。
［４］ 後述する式（Ｉ－１）中のＸ^１およびＸ^２が、－Ｏ－で表される連結基を表す、［１］～［３］のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
［５］ 後述する式（Ｉ－３）中のＰが、後述する式（Ｐ－１）～（Ｐ－２０）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を表す、［１］～［４］のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
［６］ 重合性スメクチック液晶化合物の含有量が、重合性スメクチック液晶化合物および後述する式（Ｉ－１）で表される化合物の合計質量に対して１５～７５質量％である、［１］～［５］のいずれかに記載の重合性液晶組成物。

［７］ ［１］～［６］のいずれかに記載の重合性液晶組成物を重合して得られる光学異方性膜。
［８］ 下記式（ＩＩＩ）を満たす、［７］に記載の光学異方性膜。
０．５０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ ・・・（ＩＩＩ）
ここで、式（ＩＩＩ）中、Ｒｅ（４５０）は、光学異方性膜の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性膜の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
［９］ ［７］または［８］に記載の光学異方性膜を有する光学フィルム。
［１０］ ［９］に記載の光学フィルムと、偏光子とを有する、偏光板。
［１１］ ［９］に記載の光学フィルム、または、［１０］に記載の偏光板を有する、画像表示装置。

本発明によれば、逆波長分散性を有し、アミン耐性に優れた光学異方性膜の形成に用いられる重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置を提供することができる。

図１Ａは、本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。 図１Ｂは、本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。 図１Ｃは、本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、表記される二価の基（例えば、－ＣＯ－ＮＲ－）の結合方向は、結合位置を明記している場合を除き、特に制限されず、例えば、後述する式（Ｉ－１）中のＸ^１が－ＣＯ－ＮＲ－である場合、Ｌ^１側に結合している位置を＊１、Ａｒ^１側に結合している位置を＊２とすると、Ｘ^１は、＊１－ＣＯ－ＮＲ－＊２であってもよく、＊１－ＮＲ－ＣＯ－＊２であってもよい。

［重合性液晶組成物］
本発明の重合性液晶組成物は、後述する式（Ｉ－１）で表される化合物（以下、「特定化合物」とも略す。）と、重合性スメクチック液晶化合物とを含有する、重合性液晶組成物である。

本発明においては、上述した通り、特定化合物とともに、重合性スメクチック液晶化合物を配合した重合性液晶組成物を用いることにより、形成される光学異方性膜に逆波長分散性が発現し、アミン耐性も良好となる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、特定化合物が、後述する式（Ｉ－１）中、２８０～４２０ｎｍに極大吸収波長を有する芳香環（Ａｒ^１およびＡｒ^２）と結合する連結基（Ｘ^１およびＸ^２）として、エステル結合を含まない強固な結合を有しているため、アミン耐性が向上したと考えられる。
また、特定化合物と重合性スメクチック液晶化合物とを混合した際に、特定化合物の分子長軸に含まれる後述する式（Ｉ－３）で表される構造と、重合性スメクチック液晶化合物のメソゲン骨格とが相互作用することにより、混合物としても液晶性が発現するとともに、特定化合物の構造に起因する逆波長分散性が発現したと考えられる。
以下、本発明の重合性液晶組成物の各成分について詳細に説明する。

〔特定化合物〕
本発明の重合性液晶組成物が含有する特定化合物は、下記式（Ｉ－１）で表される化合物である。

上記式（Ｉ－１）中、Ａｒ^１およびＡｒ^２は、それぞれ独立に、２８０～４２０ｎｍに極大吸収波長を有する芳香環を表す。
また、上記式（Ｉ－１）中、Ｄ^１は、単結合、または、－ＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^３＝ＣＲ^４－、－ＮＲ^５－、もしくは、これらの２つ以上の組み合わせからなる２価の連結基を表し、Ｒ^１～Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
また、上記式（Ｉ－１）中、ｐは、０または１を表す。
また、上記式（Ｉ－１）中、Ｘ^１およびＸ^２は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ^６－、または、単結合を表し、Ｒ^６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。

上記式（Ｉ－１）中、ｐは、上述した通り、０または１を表すが、０であること、すなわち、上記式（Ｉ－１）中のＤ^１およびＡｒ^２が存在していないことが好ましい。

上記式（Ｉ－１）中、Ｄ^１の一態様が示す２価の連結基としては、例えば、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^１Ｒ^２－、－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＮＲ^５－ＣＲ^１Ｒ^２－、および、－ＣＯ－ＮＲ^５－などが挙げられる。Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
これらのうち、－ＣＯ－、－Ｏ－、および、－ＣＯ－Ｏ－のいずれかであることが好ましい。

上記式（Ｉ－１）中、Ｘ^１およびＸ^２は、形成される光学異方性膜のアミン耐性がより良好となる理由から、－Ｏ－または－Ｓ－であることが好ましく、－Ｏ－であることがより好ましい。

上記式（Ｉ－１）中、Ａｒ^１およびＡｒ^２は、上述した通り、２８０～４２０ｎｍに極大吸収波長を有する芳香環を表すが、形成される光学異方性膜の耐光性がより良好となる理由から、３００～４００ｎｍに極大吸収波長を有する芳香環を表すことが好ましい。
ここで、極大吸収波長は、芳香環との連結基（Ｘ^１およびＸ^２）をメチル基に置換した化合物を用いて、以下の方法で測定した吸収スペクトルにおける極大吸収波長をいう。
＜測定方法＞
化合物をクロロホルムに溶解させて、濃度１質量％の溶液を調製する。
次いで、調製した溶液を、石英セル（１０ｍｍ長四角セル）に入れ、紫外線可視赤外分光光度計Ｕ－３１００ＰＣ（島津製作所）を用いて、溶液の波長領域２００～８００ｎｍの範囲の吸光度を測定する。
次いで、得られた吸収スペクトルにおいて、極大吸収波長を求める。

上記式（Ｉ－１）中、Ａｒ^１およびＡｒ^２は、形成される光学異方性膜に逆波長分散性が発現しやすくなる理由から、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表すことが好ましい。なお、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、＊は、Ａｒ^１についてはＸ^１またはＤ^１との結合位置を表し、Ａｒ^２についてはＤ^１またはＸ^２との結合位置を表すが、ｐが０である場合には、Ｘ^１またはＸ^２との結合位置を表す。

上記式（Ａｒ－１）中、Ｑ^１は、ＮまたはＣＨを表し、Ｑ^２は、－Ｓ－、－Ｏ－、または、－Ｎ（Ｒ^７）－を表し、Ｒ^７は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｙ^１は、置換基を有してもよい、炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３～１２の芳香族複素環基を表す。
Ｒ^７が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられる。
Ｙ^１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基などのアリール基が挙げられる。
Ｙ^１が示す炭素数３～１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、ピリジル基などのヘテロアリール基が挙げられる。
また、Ｙ^１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルキルアミド基、アルケニル基、アルキニル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオール基、および、Ｎ－アルキルカルバメート基などが挙げられ、中でも、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、または、ハロゲン原子が好ましい。
アルキル基としては、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基およびシクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基が更に好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
アルコキシ基としては、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基およびメトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基が特に好ましい。
アルコキシカルボニル基としては、上記で例示したアルキル基にオキシカルボニル基（－Ｏ－ＣＯ－基）が結合した基が挙げられ、中でも、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロポキシカルボニル基またはイソプロポキシカルボニル基が好ましく、メトキシカルボニル基がより好ましい。
アルキルカルボニルオキシ基としては、上記で例示したアルキル基にカルボニルオキシ基（－ＣＯ－Ｏ－基）が結合した基が挙げられ、中でも、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ－プロピルカルボニルオキシ基またはイソプロピルカルボニルオキシ基が好ましく、メチルカルボニルオキシ基がより好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子または塩素原子が好ましい。

また、上記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ^８、－ＮＲ^９Ｒ^１０、または、－ＳＲ^１１を表し、Ｒ^８～Ｒ^１１は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ^１およびＺ^２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ－ブチル基、１，１－ジメチル－３，３－ジメチル－ブチル基が更に好ましく、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましい。
炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１^３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１^３，６．０^２，７］ドデシル基、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基としては、具体的には、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられ、炭素数６～１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であるのが好ましい。
一方、Ｒ^８～Ｒ^１１が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－２）および（Ａｒ－３）中、Ａ^１およびＡ^２は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^１２）－、－Ｓ－、および、－ＣＯ－からなる群から選択される基を表し、Ｒ^１２は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ^１２が示す置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－２）中、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい、第１４～１６族の非金属原子を表す。
また、Ｘが示す第１４～１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、水素原子または置換基が結合した窒素原子〔＝Ｎ－Ｒ^Ｎ１，Ｒ^Ｎ１は水素原子または置換基を表す。〕、水素原子または置換基が結合した炭素原子〔＝Ｃ－（Ｒ^Ｃ１）_２，Ｒ^Ｃ１は水素原子または置換基を表す。〕が挙げられる。
置換基としては、具体的には、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、水酸基等が挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｄ^４およびＤ^５は、それぞれ独立に、単結合、または、－ＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^３＝ＣＲ^４－、－ＮＲ^５－、もしくは、これらの２つ以上の組み合わせからなる２価の連結基を表し、Ｒ^１～Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
ここで、２価の連結基としては、上記式（Ｉ－１）中のＤ^１において説明したものと同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－３）中、ＳＰ^１およびＳＰ^２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
ここで、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、メチルヘキシレン基、へプチレン基などが好適に挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｌ^３およびＬ^４は、それぞれ独立に１価の有機基を表す。
１価の有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基などを挙げることができる。アルキル基は、直鎖状、分岐状または環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０が更に好ましい。また、アリール基は、単環であっても多環であってもよいが単環が好ましい。アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１０がより好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、酸素原子が好ましい。ヘテロアリール基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１２がより好ましい。また、アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－７）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－７）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
ここで、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ^３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
ＡｘおよびＡｙとしては、特許文献２（国際公開第２０１４／０１０３２５号）の［００３９］～［００９５］段落に記載されたものが挙げられる。
また、Ｑ^３が示す炭素数１～６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられ、置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

一方、上記式（Ｉ－１）中、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、下記式（Ｉ－２）で表されるアルキレン基を表す。なお、下記式（Ｉ－２）中、＊は、Ｌ^１についてはＭｅｓ^１またはＸ^１との結合位置を表し、Ｌ^２についてはＭｅｓ^２またはＸ^２との結合位置を表す。

上記式（Ｉ－２）中、ｍは、１以上の整数を表し、２～２０の整数であることが好ましく、２～１５の整数であることがより好ましく、２～１０の整数であることが特に好ましい。

また、上記式（Ｉ－２）で表されるアルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、または、炭素数１～２０のアルキル基で置換されていてもよい。
炭素数１～２０のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、デカニル基、ラウリル基、セチル基、ステアリル基、および、シクロヘキシル基などが挙げられる。

また、上記式（Ｉ－２）で表されるアルキレン基を構成し、かつ、上記式（Ｉ－１）中のＸ^１またはＸ^２に直接結合していない－ＣＨ_２－のうち、１個または隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、または、－Ｃ≡Ｃ－で置換されていてもよい。

一方、上記式（Ｉ－１）中、Ｍｅｓ^１およびＭｅｓ^２は、それぞれ独立に、下記式（Ｉ－３）で表される重合性基含有基を表す。なお、下記式（Ｉ－３）中、＊は、Ｍｅｓ^１についてはＬ^１との結合位置を表し、Ｍｅｓ^２についてはＬ^２との結合位置を表す。

上記式（Ｉ－３）中、Ｍは、１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキシレン基、ピリジン－２，５－ジイル基、ピリミジン－２，５－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、または、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を表す。
ただし、これらの基に含まれる水素原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、または、炭素数１～２０のアルキル基で置換されていてもよい。

また、上記式（Ｉ－３）中、Ｄ^２およびＤ^３は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－ＯＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＳＣＨ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＦ_２Ｓ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－Ｃ≡Ｃ－、または、単結合を表す。

また、上記式（Ｉ－３）中、ＳＰは、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
ここで、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、メチルヘキシレン基、へプチレン基などが好適に挙げられる。

また、上記式（Ｉ－３）中、Ｐは、重合性基を表す。
重合性基としては、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、公知のラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとして、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基を挙げることができる。この場合、重合速度はアクリロイルオキシ基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイルオキシ基が好ましいが、メタクリロイルオキシ基も重合性基として同様に使用することができる。
カチオン重合性基としては、公知のカチオン重合性基を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基が特に好ましい。
特に好ましい重合性基の例としては、下記式（Ｐ－１）～（Ｐ－２０）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基が挙げられる。なかでも、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であることがより好ましい。なお、下記式（Ｐ－１）～（Ｐ－２０）中、＊は、ＳＰとの結合位置を表す。

また、上記式（Ｉ－３）中、ｎは、２以上の整数を表し、２～５の整数であることが好ましく、２～４の整数であることがより好ましく、２または３であることが更に好ましい。
なお、複数のＭは、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＤ^２は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＤ^３は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＳＰは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

特定化合物としては、具体的には、例えば、下記式（１）～（２２）で表される化合物が好適に挙げられ、具体的には、下記式（１）～（２２）中のＫ（側鎖構造）として、下記表１および表２に示す側鎖構造を有する化合物がそれぞれ挙げられる。
なお、下記表１および表２中、Ｋの側鎖構造に示される「＊」は、芳香環との結合位置を表す。
また、下記表１中の１－９および下記表２中の２－９で表される側鎖構造において、それぞれアクリロイルオキシ基およびメタクリロイル基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

〔重合性スメクチック液晶化合物〕
本発明の重合性液晶組成物が含有する重合性スメクチック液晶化合物は、重合性基を有し、かつスメクチック相の液晶状態を示す化合物である。
ここで、重合性基としては、上述した式（Ｉ－３）中のＰにおいて説明したものと同様のものが挙げられる。中でも、上述した式（Ｐ－１）～（Ｐ－２０）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基であることが好ましく、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であることがより好ましい。
また、重合性スメクチック液晶化合物が示す液晶状態は、高次のスメクチック相であることが好ましい。ここでいう高次のスメクチック相とは、スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相及びスメクチックＬ相であり、中でも、スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相、スメクチックＩ相、傾斜したスメクチックＦ相および傾斜したスメクチックＩ相が好ましく、スメクチックＡ相、メクチックＢ相がより好ましい。
このような重合性スメクチック液晶化合物としては、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ ２６５５（１９９４））に記載されたものが挙げられる。

本発明においては、重合性スメクチック液晶化合物は、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物であってもよいが、順波長分散性を示す重合性液晶化合物であることが好ましい。
ここで、本明細書において「逆波長分散性を示す重合性液晶化合物」とは、これを用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。
一方、「順波長分散性を示す重合性液晶化合物」とは、これを用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が小さくなるものをいう。

本発明においては、特定化合物の分子長軸の側鎖と重合性スメクチック液晶のメソゲン骨格との相互作用により、混合物として液晶性が発現しやすくなる理由から、重合性スメクチック液晶化合物の含有量が、重合性スメクチック液晶化合物および上述した特定化合物の合計質量に対して１５～７５質量％であることが好ましく、３０～６０質量％であることがより好ましい。

〔他の重合性化合物〕
本発明の重合性液晶組成物は、上述した重合性スメクチック液晶化合物以外に、重合性基を１個以上有する他の重合性化合物を含んでいてもよい。
ここで、他の重合性化合物が有する重合性基は特に限定されず、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられる。なかでも、アクリロイル基、メタクリロイル基を有しているのが好ましい。

他の重合性化合物としては、形成される光学異方性膜の耐久性が向上する理由から、重合性基を１個～４個有する他の重合性化合物であるのが好ましく、重合性基を２個有する他の重合性化合物であるのがより好ましい。

他の重合性化合物としては、非液晶性の重合性化合物であることが好ましく、その具体例としては、特開２０１６－０５３７０９号公報の［００７３］～［００７４］段落に記載された化合物が挙げられる。

このような他の重合性化合物を含有する場合の含有量は、上述した重合性液晶化合物の質量に対して、５０質量％未満であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましく、２～３０質量％であることが更に好ましい。

〔重合開始剤〕
本発明の重合性液晶組成物は、重合開始剤を含有していることが好ましい。
使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報、特開平１０－２９９９７号公報記載）等が挙げられる。
また、本発明においては、重合開始剤がオキシム型の重合開始剤であることも好ましく、その具体例としては、国際公開第２０１７／１７０４４３号の［００４９］～［００５２］段落に記載された開始剤が挙げられる。

〔溶媒〕
本発明の重合性液晶組成物は、光学異方性膜を形成する作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン系溶媒（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなど）、エーテル系溶媒（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、環状アミド系溶媒（例えば、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン、Ｎ、Ｎ’－ジメチルイミダゾリジノンなど）、脂肪族炭化水素系溶媒（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素系溶媒（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素系溶媒（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素系溶媒（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル系溶媒（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール系溶媒（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ系溶媒（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート系溶媒、スルホキシド系溶媒（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、鎖状アミド系溶媒（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

本発明においては、上述した溶媒のうち、ろ過圧の上昇を抑制する本発明の効果が顕在化する理由から、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒および環状アミド系溶媒からなる群から選択される少なくとも１種の溶媒であることが好ましい。

〔レベリング剤〕
本発明の重合性液晶組成物は、光学異方性膜の表面を平滑に保ち、配向制御を容易にする観点から、レベリング剤を含有することが好ましい。
このようなレベリング剤としては、添加量に対するレベリング効果が高い理由から、フッ素系レベリング剤またはケイ素系レベリング剤であることが好ましく、泣き出し（ブルーム、ブリード）を起こしにくい観点から、フッ素系レベリング剤であることがより好ましい。
レベリング剤としては、具体的には、例えば、特開２００７－０６９４７１号公報の［００７９］～［０１０２］段落の記載に記載された化合物、特開２０１３－０４７２０４号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される化合物（特に［００２０］～［００３２］段落に記載された化合物）、特開２０１２－２１１３０６号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される化合物（特に［００２２］～［００２９］段落に記載された化合物）、特開２００２－１２９１６２号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される液晶配向促進剤（特に［００７６］～［００７８］および［００８２］～［００８４］段落に記載された化合物）、特開２００５－０９９２４８号公報に記載された一般式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される化合物（特に［００９２］～［００９６］段落に記載された化合物）などが挙げられる。なお、後述する配向制御剤としての機能を兼ね備えてもよい。

〔配向制御剤〕
本発明の重合性液晶組成物は、必要に応じて、配向制御剤を含有することができる。
配向制御剤により、ホモジニアス配向の他、ホメオトロピック配向（垂直配向）、傾斜配向、ハイブリッド配向、コレステリック配向等の種々の配向状態を形成することができ、また、特定の配向状態をより均一かつより精密に制御して実現することができる。

ホモジニアス配向を促進する配向制御剤としては、例えば、低分子の配向制御剤や、高分子の配向制御剤を用いることができる。
低分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００２－２０３６３号公報の［０００９］～［００８３］段落、特開２００６－１０６６６２号公報の［０１１１］～［０１２０］段落、および、特開２０１２－２１１３０６号公報の［００２１］～［００２９］段落の記載を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
また、高分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００４－１９８５１１号公報の［００２１］～［００５７］段落、および、特開２００６－１０６６６２号公報の［０１２１］～［０１６７］段落を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。

また、ホメオトロピック配向を形成または促進する配向制御剤としては、例えば、ボロン酸化合物、オニウム塩化合物が挙げられ、具体的には、特開２００８－２２５２８１号公報の［００２３］～［００３２］段落、特開２０１２－２０８３９７号公報の［００５２］～［００５８］段落、特開２００８－０２６７３０号公報の［００２４］～［００５５］段落、特開２０１６－１９３８６９号公報の［００４３］～［００５５］段落などに記載された化合物を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。

一方、コレステリック配向は、本発明の重合性液晶組成物にキラル剤を加えることにより実現することができ、そのキラル性の向きによりコレステリック配向の旋回方向を制御できる。なお、キラル剤の配向規制力に応じてコレステリック配向のピッチを制御することができる。

配向制御剤の含有する場合の含有量は、重合性液晶組成物中の全固形分質量に対して０．０１～１０質量％であることが好ましく、０．０５～５質量％であることがより好ましい。含有量がこの範囲であると、望む配向状態を実現しつつ、析出や相分離、配向欠陥等が無く、均一で透明性の高い光学異方性膜を得ることができる。
これらの配向制御剤は、さらに重合性官能基、特に、本発明の重合性液晶組成物を構成する重合性液晶化合物と重合可能な重合性官能基を付与することができる。

〔その他の成分〕
本発明の重合性液晶組成物は、上述した成分以外の成分を含有してもよく、例えば、上述した重合性スメクチック液晶化合物以外の液晶化合物、界面活性剤、チルト角制御剤、配向助剤、可塑剤、および、架橋剤などが挙げられる。

［光学異方性膜］
本発明の光学異方性膜は、上述した本発明の重合性液晶組成物を重合して得られる光学異方性膜である。
光学異方性膜の形成方法としては、例えば、上述した本発明の重合性液晶組成物を用いて、所望の配向状態とした後に、重合により固定化する方法などが挙げられる。特に、本発明においては、上述した本発明の重合性液晶組成物を調製した後に、保管する工程を経た後に、光学異方性膜を形成する態様が好ましい。
ここで、重合条件は特に限定されないが、光照射による重合においては、紫外線を用いることが好ましい。照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ^２～５０Ｊ／ｃｍ^２であることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ^２～５Ｊ／ｃｍ^２であることがより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ^２～３Ｊ／ｃｍ^２であることが更に好ましく、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２であることが特に好ましい。また、重合反応を促進するため、加熱条件下で実施してもよい。
なお、本発明においては、光学異方性膜は、後述する本発明の光学フィルムにおける任意の支持体上や、後述する本発明の偏光板における偏光子上に形成することができる。

本発明の光学異方性膜は、下記式（ＩＩＩ）を満たしていることが好ましい。
０．５０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ ・・・（ＩＩＩ）
ここで、上記式（ＩＩＩ）中、Ｒｅ（４５０）は、光学異方性膜の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性膜の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。なお、本明細書において、レターデーションの測定波長を明記していない場合は、測定波長は５５０ｎｍとする。
また、面内レターデーションおよび厚み方向のレターデーションの値は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用い、測定波長の光を用いて測定した値をいう。
具体的には、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１にて、平均屈折率（（Ｎｘ＋Ｎｙ＋Ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

本発明の光学異方性膜は、ポジティブＡプレートまたはポジティブＣプレートであることが好ましく、ポジティブＡプレートであることがより好ましい。

ここで、ポジティブＡプレート（正のＡプレート）とポジティブＣプレート（正のＣプレート）は以下のように定義される。
フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ポジティブＡプレートは式（Ａ１）の関係を満たすものであり、ポジティブＣプレートは式（Ｃ１）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示し、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ１） ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
式（Ｃ１） ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。
「実質的に同一」とは、ポジティブＡプレートでは、例えば、（ｎｙ－ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれ、（ｎｘ－ｎｚ）×ｄが、－１０～１０ｎｍ、好ましくは－５～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｚ」に含まれる。また、ポジティブＣプレートでは、例えば、（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、０～１０ｎｍ、好ましくは０～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。

本発明の光学異方性膜がポジティブＡプレートである場合、λ／４板として機能する観点から、Ｒｅ（５５０）が１００～１８０ｎｍであることが好ましく、１２０～１６０ｎｍであることがより好ましく、１３０～１５０ｎｍであることが更に好ましく、１３０～１４０ｎｍであること特に好ましい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。

［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、本発明の光学異方性膜を有する光学フィルムである。
図１Ａ、図１Ｂおよび図１Ｃ（以下、これらの図面を特に区別を要しない場合は「図１」と略す。）は、それぞれ本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。
なお、図１は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致せず、図１に示す支持体、配向膜およびハードコート層は、いずれも任意の構成部材である。
図１に示す光学フィルム１０は、支持体１６と、配向膜１４と、光学異方性膜１２とをこの順で有する。
また、光学フィルム１０は、図１Ｂに示すように、支持体１６の配向膜１４が設けられた側とは反対側にハードコート層１８を有していてもよく、図１Ｃに示すように、光学異方性膜１２の配向膜１４が設けられた側とは反対側にハードコート層１８を有していてもよい。
以下、本発明の光学フィルムに用いられる種々の部材について詳細に説明する。

〔光学異方性膜〕
本発明の光学フィルムが有する光学異方性膜は、上述した本発明の光学異方性膜である。
本発明の光学フィルムにおいては、上記光学異方性膜の厚みについては特に限定されないが、０．１～１０μｍであるのが好ましく、０．５～５μｍであるのがより好ましい。

〔支持体〕
本発明の光学フィルムは、上述したように、光学異方性膜を形成するための基材として支持体を有していてもよい。
このような支持体は、透明であるのが好ましく、具体的には、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。

このような支持体としては、例えば、ガラス基板やポリマーフィルムが挙げられ、ポリマーフィルムの材料としては、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
また、後述する偏光子がこのような支持体を兼ねる態様であってもよい。

本発明においては、上記支持体の厚みについては特に限定されないが、５～６０μｍであるのが好ましく、５～３０μｍであるのがより好ましい。

〔配向膜〕
本発明の光学フィルムは、上述した任意の支持体を有する場合、支持体と光学異方性膜との間に、配向膜を有しているのが好ましい。なお、上述した支持体が配向膜を兼ねる態様であってもよい。

配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。
本発明において利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましい。特に変性又は未変性のポリビニルアルコールが好ましい。
本発明に使用可能な配向膜については、例えば、国際公開第０１／８８５７４号の４３頁２４行～４９頁８行に記載された配向膜；特許第３９０７７３５号公報の段落［００７１］～［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコール；特開２０１２－１５５３０８号公報に記載された液晶配向剤により形成される液晶配向膜；等が挙げられる。

本発明においては、配向膜の形成時に配向膜表面に接触しないことで面状悪化を防ぐことが可能となる理由から、配向膜としては光配向膜を利用することも好ましい。
光配向膜としては特に限定はされないが、国際公開第２００５／０９６０４１号の段落［００２４］～［００４３］に記載されたポリアミド化合物やポリイミド化合物などのポリマー材料；特開２０１２－１５５３０８号公報に記載された光配向性基を有する液晶配向剤により形成される液晶配向膜；Ｒｏｌｉｃ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製の商品名ＬＰＰ－ＪＰ２６５ＣＰなどを用いることができる。

また、本発明においては、上記配向膜の厚さは特に限定されないが、支持体に存在しうる表面凹凸を緩和して均一な膜厚の光学異方性膜を形成するという観点から、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～１μｍであることがより好ましく、０．０１～０．５μｍであることがさらに好ましい。

〔ハードコート層〕
本発明の光学フィルムは、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を有しているのが好ましい。具体的には、支持体の配向膜が設けられた側とは反対側にハードコート層を有していてもよく（図１Ｂ参照）、光学異方性膜の配向膜が設けられた側とは反対側にハードコート層を有していてもよい（図１Ｃ参照）。
ハードコート層としては特開２００９－９８６５８号公報の段落［０１９０］～［０１９６］に記載のものを使用することができる。

〔他の光学異方性膜〕
本発明の光学フィルムは、本発明の光学異方性膜とは別に、他の光学異方性膜を有していてもよい。
すなわち、本発明の光学フィルムは、本発明の光学異方性膜と他の光学異方性膜との積層構造を有していてもよい。
このような他の光学異方性膜は、上述した特定化合物を配合せず、上述した重合性スメクチック液晶化合物または他の重合性化合物（特に、液晶化合物）を用いて得られる光学異方性膜であれば特に限定されない。
ここで、一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物（円盤状液晶化合物）を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、または棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。上述の液晶化合物の固定化のために、重合性基を有する棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物を用いて形成することがより好ましく、液晶化合物が１分子中に重合性基を２以上有することがさらに好ましい。液晶化合物が二種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。
棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５－２８９９８０号公報の段落［００２６］～［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落［００２０］～［００６７］や特開２０１０－２４４０３８号公報の段落［００１３］～［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。

〔紫外線吸収剤〕
本発明の光学フィルムは、外光（特に紫外線）の影響を考慮して、紫外線（ＵＶ）吸収剤を含むことが好ましい。
紫外線吸収剤は、本発明の光学異方性膜に含有されてしてもよいし、本発明の光学フィルムを構成する光学異方性膜以外の部材に含有されていてもよい。光学異方性膜以外の部材としては、例えば、支持体が好適に挙げられる。
紫外線吸収剤としては、紫外線吸収性を発現できる従来公知のものがいずれも使用できる。このような紫外線吸収剤のうち、紫外線吸収性が高く、画像表示装置で用いられる紫外線吸収能（紫外線カット能）を得る観点から、ベンゾトリアゾール系またはヒドロキシフェニルトリアジン系の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。
また、紫外線の吸収幅を広くするために、最大吸収波長の異なる紫外線吸収剤を２種以上併用することができる。
紫外線吸収剤としては、具体的には、例えば、特開２０１２－１８３９５公報の［０２５８］～［０２５９］段落に記載された化合物、特開２００７－７２１６３号公報の［００５５］～［０１０５］段落に記載された化合物などが挙げられる。
また、市販品として、Ｔｉｎｕｖｉｎ４００、Ｔｉｎｕｖｉｎ４０５、Ｔｉｎｕｖｉｎ４６０、Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７、Ｔｉｎｕｖｉｎ４７９、および、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５７７（いずれもＢＡＳＦ社製）等を用いることができる。

［偏光板］
本発明の偏光板は、上述した本発明の光学フィルムと、偏光子とを有するものである。
また、本発明の偏光板は、上述した本発明の光学異方性膜がλ／４板（ポジティブＡプレート）である場合、円偏光板として用いることができる。
また、本発明の偏光板は、上述した本発明の光学異方性膜がλ／４板（ポジティブＡプレート）である場合、λ／４板の遅相軸と後述する偏光子の吸収軸とのなす角が３０～６０°であることが好ましく、４０～５０°であることがより好ましく、４２～４８°であることが更に好ましく、４５°であることが特に好ましい。
ここで、λ／４板の「遅相軸」は、λ／４板の面内において屈折率が最大となる方向を意味し、偏光子の「吸収軸」は、吸光度の最も高い方向を意味する。

〔偏光子〕
本発明の偏光板が有する偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であれば特に限定されず、従来公知の吸収型偏光子および反射型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子などが用いられる。
なかでも、密着性がより優れる点で、ポリビニルアルコール系樹脂（－ＣＨ_２－ＣＨＯＨ－を繰り返し単位として含むポリマー、特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン－ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つ）を含む偏光子であることが好ましい。

本発明においては、偏光子の厚みは特に限定されないが、３μｍ～６０μｍであるのが好ましく、５μｍ～３０μｍであるのがより好ましく、５μｍ～１５μｍであるのが更に好ましい。

〔粘着剤層〕
本発明の偏光板は、本発明の光学フィルムにおける光学異方性膜と、偏光子との間に、粘着剤層が配置されていてもよい。
光学異方性膜と偏光子との積層のために用いられる粘着剤層としては、例えば、動的粘弾性測定装置で測定した貯蔵弾性率Ｇ’と損失弾性率Ｇ”との比（ｔａｎδ＝Ｇ”／Ｇ’）が０．００１～１．５である物質のことを表し、いわゆる、粘着剤やクリープしやすい物質等が含まれる。本発明に用いることのできる粘着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系粘着剤が挙げられるが、これに限定されない。

［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルムまたは本発明の偏光板を有する、画像表示装置である。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セル、有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置は、上述した本発明の偏光板と、液晶セルとを有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光板のうち、フロント側の偏光板として本発明の偏光板を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光板として本発明の偏光板を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ－Ｆｉｅｌｄ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、又はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、及びＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、及び特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。

〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、偏光子と、本発明の光学異方性膜からなるλ／４板（ポジティブＡプレート）と、有機ＥＬ表示パネルとをこの順で有する態様が好適に挙げられる。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔特定化合物（Ｉ－ｇ）の合成〕

上記スキームに示す通り、化合物（Ｉ－ａ：４－ヒドロキシブチルアクリレート）６０．０ｇ、トリエチルアミン４９．３ｇ、および、ＢＨＴ（ジブチルヒドロキシトルエン）０．９ｇを、ＤＭＡｃ（ジメチルアセトアミド）１２０．１ｍＬ、および、トルエン１１４．１ｍＬに混合した。次いで、内温０℃に冷却し、メシルクロライド５０．６ｇをゆっくり滴下した。滴下終了後、内温０℃で１時間撹拌した。その後、室温（２３℃）に戻し、希塩酸で分液し、ブラインで２回目の分液を実施し、化合物（Ｉ－ｂ）を得た。
上記で得られた化合物（Ｉ－ｂ）のトルエン溶液と、１，１’－ビシ口ヘキシル－４，４’－ジカルボン酸９１．４０ｇ、トリエチルアミン７２．７３ｇ、および、ジブチルヒドロキシトルエン０．８ｇを、ＤＭＡｃ２７４．２ｍＬ、および、トルエン６９．７ｍＬに混合した。次いで、内温９０℃に加熱し、５時間反応させた。その後、室温に戻し、希塩酸を加え、４２℃に加熱して分液した。次いで、ＴＥＭＰＯ（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン１－オキシル）０．５ｇとトルエン１６４．５ｍＬを加え、その後、炭酸水素ナトリウム水溶液で二回分液を実施した。得られた溶液をエバポレーターで濃縮し、トルエン濃度を５０％に調整し、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２５．７ｇを添加し、化合物（Ｉ－ｃ）を得た。
上記で得られた化合物（Ｉ－ｃ）のトルエン溶液２３５．０ｇと、ジブチルヒドロキシトルエン０．２ｇを、トルエン４１．９ｍＬに混合した。次いで、内温０℃に冷却し、塩化チオニル２１．０ｇをゆっくり滴下した。滴下終了後、室温に戻して３０分撹拌した。その後、静置し、反応容器の底部に沈殿するエマルジョンを除去した。その後、内温０℃に冷却し、トランス－４－ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸２６．５ｇとＤＭＡｃ５６．０ｍＬの混合溶液をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温に戻して５時間撹拌した。その後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液３００ｍｌとヘキサン３００ｍＬを添加し、析出した固体を濾過で取り出した。得られた固体を酢酸エチル３００ｍＬに混合し、６０℃に加熱して１時間撹拌し、その後、固体を濾過で取り出し、化合物（Ｉ－ｄ）を得た。
上記で得られた化合物（Ｉ－ｄ）を１０ｇ秤量し、ＤＭＦ３．７ｇとジブチルヒドロキシトルエン０．０２ｇを加え、トルエン５０．０ｍＬに混合した。次いで、内温０℃に冷却し、塩化チオニル２．８ｇをゆっくり滴下する。滴下終了後、室温に戻して３０分撹拌する。その後、内温０℃に冷却し、７－ブロモ－１－ヘプタノール５．８ｇとＤＭＡｃ１０．０ｍＬの混合溶液をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温に戻して５時間撹拌した。その後、水１２０ｍｌとヘキサン１２０ｍＬを添加し、析出した固体を濾過で取り出した。得られた固体をカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物（Ｉ－ｅ）を得た。
上記で得られた化合物（Ｉ－ｅ）を１．７ｇ秤量し、化合物（Ｉ－ｆ）０．２４ｇ、炭酸カリウム０．３４ｇ、および、ジブチルヒドロキシトルエン０．０１ｇを加え、ＴＨＦ１．０ｍＬとＤＭＡｃ１．４ｍＬに混合した。内温６０℃に加熱し、２時間撹拌した。その後、室温に戻し、水３５ｍＬを添加し、析出した固体を濾過で取り出した。得られた固体をカラムクロマトグラフィーで精製することで、化合物（Ｉ－ｇ）１．０５ｇ（収率７６％）を得た。
得られた化合物（Ｉ－ｇ）の^１Ｈ－ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）データを以下に示す。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）＝０．９１（ｍ，８Ｈ），１．２０－１．２９（ｍ，１２Ｈ），１．４３（ｍ，８Ｈ），１．６１（ｍ，１２Ｈ），１．７５（ｍ，１６Ｈ），２．２０（ｍ，６Ｈ），２．７５（ｍ，１２Ｈ），３．８８－４．１６（３０Ｈ），５．８３（ｄ，２Ｈ），６．１２（ｑ，２Ｈ），６．４１（ｄ，２Ｈ），６．９４（ｓ，２Ｈ）

〔特定化合物（ＩＩ－ｇ）の合成〕
特開２０１１－１６２６７８号公報の段落［０２５２］～［０２５４］に記載された方法で、下記式（ＩＩ－ｆ）で表される化合物（ＩＩ－ｆ）を合成した。
その後、化合物（Ｉ－ｆ）に代えて、化合物（ＩＩ－ｆ）を用いた以外は、特定化合物（Ｉ－ｇ）と同様の方法で、下記式（ＩＩ－ｇ）で表される特定化合物（ＩＩ－ｇ）を合成した。

得られた特定化合物（ＩＩ－ｇ）の^１Ｈ－ＮＭＲデータを以下に示す。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）＝０．９１（ｍ，８Ｈ），１．２０－１．２９（ｍ，１２Ｈ），１．４３（ｍ，８Ｈ），１．６１（ｍ，１２Ｈ），１．７５（ｍ，１６Ｈ），２．２０（ｍ，６Ｈ），２．４３（ｓ，３Ｈ），２．７５（ｍ，１２Ｈ），３．８８－４．１６（３０Ｈ），５．８３（ｄ，２Ｈ），６．１２（ｑ，２Ｈ），６．４１（ｄ，２Ｈ），７．０１（ｓ，２Ｈ），７．１３（ｓ，１Ｈ），７．２５（ｓ，２Ｈ），７．８１（ｄ，１Ｈ）

〔逆波長分散性液晶化合物（ＩＩ－ａ）の合成〕
特開２０１６－０８１０３５号公報の段落［０１２２］（実施例４）に記載された方法に従い、下記式（ＩＩ－ａ）で表される逆波長分散性液晶化合物（ＩＩ－ａ）を合成した。なお、下記式（ＩＩ－ａ）中、アクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

［実施例１］
〔光学フィルムの作製〕
下記の組成を有する重合性液晶組成物を調製し、ラビング処理されたポリイミド配向膜（日産化学工業（株））製ＳＥ－１５０）付ガラス基板にスピンコートにより塗布した。
塗膜を下記表５に示す温度で配向処理し、液晶層を形成した。
その後、下記表５に記載されている露光時温度まで冷却して１０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線照射による配向固定化を行い、光学異方性膜を形成し、光学フィルムを作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層膜塗布液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・特定化合物（Ｉ－ｇ） ５０質量部
・下記重合性スメクチック液晶化合物（Ｓｍ－１） ５０質量部
・光重合開始剤（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社製） ２質量部
・下記含フッ素化合物Ａ １質量部
・クロロホルム ５２１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

重合性スメクチック液晶化合物（Ｓｍ－１）

含フッ素化合物Ａ

［実施例２］
特定化合物を下記表３に示す化合物に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを作製した。

［比較例１］
重合性スメクチック液晶化合物（Ｓｍ－１）に代えて、以下の重合性ネマチック液晶化合物（Ｎｅ－１）を配合した以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを作製した。

重合性ネマチック液晶化合物（Ｎｅ－１）

［比較例２］
特定化合物に代えて逆波長分散性液晶化合物（ＩＩ－ａ）を配合し、重合性スメクチック液晶化合物（Ｓｍ－１）を配合しなかった以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを作製した。

［比較例３］
重合性スメクチック液晶化合物（Ｓｍ－１）を配合しなかった以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを作製した。

＜レターデーション＞
作製した光学フィルムについて、Ａｘｏ Ｓｃａｎ（ＯＰＭＦ－１、オプトサイエンス社製）を用いて、波長４５０ｎｍのレターデーション値（Ｒｅ（４５０））と、波長５５０ｎｍのレターデーション値（Ｒｅ（５５０））とを測定し、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）を算出した。これらの結果を下記表５に示す。

＜湿熱耐久性＞
湿熱耐久性の試験条件は、８５℃相対湿度８５％の環境下で５００時間放置する試験を行った。
試験前の光学フィルムのＲｅ（５５０）と、試験後の光学フィルムのＲｅ（５５０）を測定し、以下の基準で湿熱耐久性を評価した。結果を下記表３に示す。
Ａ：試験前のＲｅ（５５０）に対する試験後のＲｅ（５５０）の変化量が試験前のＲｅ（５５０）の１０％未満
Ｂ：試験前のＲｅ（５５０）に対する試験後のＲｅ（５５０）の変化量が試験前のＲｅ（５５０）の１０％以上３０％未満
Ｃ：試験前のＲｅ（５５０）に対する試験後のＲｅ（５５０）の変化量が試験前のＲｅ（５５０）の３０％以上

＜アミン耐性＞
アミン耐性の試験条件は、ＮＨ_３／ＭｅＯＨの２ｍｏｌ％溶液をバイアルに入れ、その出口部分に光学フィルムを置き、１０時間放置する試験を行った。
試験前の光学フィルムのＲｅ（５５０）と、試験後の光学フィルムのＲｅ（５５０）を測定し、以下の基準でアミン耐性を評価した。結果を下記表３に示す。
Ａ：試験前のＲｅ（５５０）に対する試験後のＲｅ（５５０）の変化量が試験前のＲｅ（５５０）の１０％未満
Ｂ：試験前のＲｅ（５５０）に対する試験後のＲｅ（５５０）の変化量が試験前のＲｅ（５５０）の１０％以上３０％未満
Ｃ：試験前のＲｅ（５５０）に対する試験後のＲｅ（５５０）の変化量が試験前のＲｅ（５５０）の３０％以上

＜耐光性＞
作製した光学フィルムについて、重合性液晶組成物の塗布膜が照射面となるように、ガラス基板をキセノン照射機（スガ試験機株式会社製 ＳＸ７５）にセットして、＃２７５フィルターを用いて２００時間照射する試験を行った。
試験前の光学フィルムのＲｅ（５５０）と、試験後の光学フィルムのＲｅ（５５０）を測定し、以下の基準で耐光性を評価した。結果を下記表３に示す。
Ａ：試験前のＲｅ（５５０）に対する試験後のＲｅ（５５０）の変化量が試験前のＲｅ（５５０）の５％未満
Ｂ：試験前のＲｅ（５５０）に対する試験後のＲｅ（５５０）の変化量が試験前のＲｅ（５５０）の５％以上１５％未満
Ｃ：試験前のＲｅ（５５０）に対する試験後のＲｅ（５５０）の変化量が試験前のＲｅ（５５０）の１５％以上

上記表３に示す結果から、特定化合物に対して重合性ネマチック液晶化合物を配合した場合には、形成される光学異方性膜のアミン耐性が劣ることが分かった（比較例１）。
また、特定化合物に代えて逆波長分散性液晶化合物（ＩＩ－ａ）を配合し、重合性スメクチック液晶化合物を配合しない場合には、形成される光学異方性膜のアミン耐性が劣ることが分かった（比較例２）。
また、特定化合物を配合し、重合性スメクチック液晶化合物および重合性ネマチック液晶化合物をいずれも配合しない場合には、形成される光学異方性膜に逆波長分散性が発現しないことが分かった（比較例３）。
これに対し、特定化合物とともに重合性スメクチック液晶化合物を配合した場合は、形成される光学異方性膜に逆波長分散性が発現し、アミン耐性も良好となることが分かった（実施例１および２）。

１０ 光学フィルム
１２ 光学異方性膜
１４ 配向膜
１６ 支持体
１８ ハードコート層

Claims (9)

1. 下記式（Ｉ－１）で表される化合物と、重合性スメクチック液晶化合物とを含有し、
   前記重合性スメクチック液晶化合物の含有量が、前記重合性スメクチック液晶化合物および前記式（Ｉ－１）で表される化合物の合計質量に対して１５～７５質量％である、重合性液晶組成物。
   ここで、前記式（Ｉ－１）中、
   Ａｒ^１およびＡｒ^２は、それぞれ独立に、２８０～４２０ｎｍに極大吸収波長を有する、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。
   Ｄ^１は、単結合、または、－ＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^３＝ＣＲ^４－、－ＮＲ^５－、もしくは、これらの２つ以上の組み合わせからなる２価の連結基を表し、Ｒ^１～Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
   ｐは、０または１を表す。
   Ｘ^１およびＸ^２は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ^６－、または、単結合を表し、Ｒ^６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
   Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、下記式（Ｉ－２）で表されるアルキレン基を表す。
   Ｍｅｓ^１およびＭｅｓ^２は、それぞれ独立に、下記式（Ｉ－３）で表される重合性基含有基を表す。
   ここで、前記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、
   ＊は、Ａｒ ^１ についてはＸ ^１ またはＤ ^１ との結合位置を表し、Ａｒ ^２ についてはＤ ^１ またはＸ ^２ との結合位置を表す。
   Ｑ ^１ は、ＮまたはＣＨを表す。
   Ｑ ^２ は、－Ｓ－、－Ｏ－、または、－Ｎ（Ｒ ^７ ）－を表し、Ｒ ^７ は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表す。
   Ｙ ^１ は、置換基を有してもよい、炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３～１２の芳香族複素環基を表す。
   Ｚ ^１ 、Ｚ ^２ およびＺ ^３ は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ ^８ 、－ＮＲ ^９ Ｒ ^１０ 、または、－ＳＲ ^１１ を表し、Ｒ ^８ ～Ｒ ^１１ は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ ^１ およびＺ ^２ は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
   Ａ ^１ およびＡ ^２ は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ ^１２ ）－、－Ｓ－、および、－ＣＯ－からなる群から選択される基を表し、Ｒ ^１２ は、水素原子または置換基を表す。
   Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい、第１４～１６族の非金属原子を表す。
   Ｄ ^４ およびＤ ^５ は、それぞれ独立に、単結合、または、－ＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ ^１ Ｒ ^２ －、－ＣＲ ^３ ＝ＣＲ ^４ －、－ＮＲ ^５ －、もしくは、これらの２つ以上の組み合わせからなる２価の連結基を表し、Ｒ ^１ ～Ｒ ^５ は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
   ＳＰ ^１ およびＳＰ ^２ は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ _２ －の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
   Ｌ ^３ およびＬ ^４ は、それぞれ独立に１価の有機基を表す。
   Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
   Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
   ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
   Ｑ ^３ は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
   ここで、前記式（Ｉ－２）中、
   ＊は、Ｌ^１についてはＭｅｓ^１またはＸ^１との結合位置を表し、Ｌ^２についてはＭｅｓ^２またはＸ^２との結合位置を表す。
   ｍは、１以上の整数を表す。
   ただし、前記アルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、または、炭素数１～２０のアルキル基で置換されていてもよい。
   また、前記アルキレン基を構成し、かつ、Ｘ^１またはＸ^２に直接結合していない－ＣＨ_２－のうち、１個または隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、または、－Ｃ≡Ｃ－で置換されていてもよい。
   ここで、前記式（Ｉ－３）中、
   ＊は、Ｍｅｓ^１についてはＬ^１との結合位置を表し、Ｍｅｓ^２についてはＬ^２との結合位置を表す。
   Ｍは、１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキシレン基、ピリジン－２，５－ジイル基、ピリミジン－２，５－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、または、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を表す。ただし、これらの基に含まれる水素原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、または、炭素数１～２０のアルキル基で置換されていてもよい。
   Ｄ^２およびＤ^３は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－ＯＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＳＣＨ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＦ_２Ｓ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－Ｃ≡Ｃ－、または、単結合を表す。ただし、前記式（Ｉ－１）中のＬ^１またはＬ^２と結合するＤ^２については、－ＣＯＯ－を表す。
   ＳＰは、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
   Ｐは、重合性基を表す。
   ｎは、２以上の整数を表し、複数のＭは、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＤ^２は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＤ^３は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＳＰは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
2. 前記式（Ｉ－１）中のＡｒ^１およびＡｒ^２が、３００～４００ｎｍに極大吸収波長を有する芳香環を表す、請求項１に記載の重合性液晶組成物。
3. 前記式（Ｉ－１）中のＸ^１およびＸ^２が、－Ｏ－で表される連結基を表す、請求項１または２に記載の重合性液晶組成物。
4. 前記式（Ｉ－３）中のＰが、下記式（Ｐ－１）～（Ｐ－２０）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を表す、請求項１～３のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物。
   ここで、前記式（Ｐ－１）～（Ｐ－２０）中、＊は、ＳＰとの結合位置を表す。
5. 請求項１～４のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合して得られる光学異方性膜。
6. 下記式（ＩＩＩ）を満たす、請求項５に記載の光学異方性膜。
   ０．５０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ ・・・（ＩＩＩ）
   ここで、式（ＩＩＩ）中、Ｒｅ（４５０）は、前記光学異方性膜の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、前記光学異方性膜の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
7. 請求項５または６に記載の光学異方性膜を有する光学フィルム。
8. 請求項７に記載の光学フィルムと、偏光子とを有する、偏光板。
9. 請求項７に記載の光学フィルム、または、請求項８に記載の偏光板を有する、画像表示装置。

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