JP7342861B2 - 表面処理赤外線吸収微粒子分散液および赤外線吸収透明基材 - Google Patents
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Description
これらの提案を機能的観点から俯瞰してみる。すると、例えば、各種建築物や車両の窓材等の分野において、可視光線を十分に取り入れながら近赤外領域の光を遮蔽し、明るさを維持しつつ室内の温度上昇を抑制することを目的としたものがある。また、PDP(プラズマディスプレイパネル)から前方に放射される赤外線が、コードレスフォンや家電機器のリモコンに誤動作を引き起こしたり、伝送系光通信に悪影響を及ぼしたりすることを防止することを目的としたもの、等もある。
当該太陽光可変調光断熱材料へ太陽光が照射されると、光線中の紫外線が酸化タングステンに吸収されて励起電子とホールとが発生し、少量の紫外線量により5価タングステンの出現量が著しく増加して着色反応が速くなり、これに伴って着色濃度が高くなる。他方、光が遮断されることによって、前記5価タングステンが極めて速やかに6価に酸化されて消色反応が高くなる。当該着色/消色特性を用い、太陽光に対する着色および消色反応が速く、着色時に近赤外域の波長1250nmに吸収ピークが現れ、太陽光の近赤外線を遮断することが出来る太陽光可変調光断熱材料が得られることが提案されている。
尚、本発明において「コーティング層」とは、基材上に所定の膜厚をもって形成された室温で固体の媒質膜のことである。
また、本発明において「固体状樹脂」とは室温で固体の高分子媒質のことであり、三次元架橋したもの以外の高分子媒質も含む。また、本発明において室温で固体の高分子媒質を「樹脂」と記載する場合もある。
そして本発明者らは、当該表面処理赤外線吸収微粒子が分散しているコーティング層を有する赤外線吸収透明基材に想到した。さらに、当該表面処理赤外線吸収微粒子が所定の液体媒質中に分散している表面処理赤外線吸収微粒子分散液が、当該コーティング層を形成する為のコーティング液として好適であることにも想到して本発明を完成した。
液体媒質中に、表面処理赤外線吸収微粒子が分散している表面処理赤外線吸収微粒子分散液であって、
前記表面処理赤外線吸収微粒子は、当該微粒子の表面が、金属キレート化合物の加水分解生成物、金属キレート化合物の加水分解生成物の重合物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物の重合物、から選択される1種類以上を含む膜で被覆されている赤外線吸収微粒子であることを特徴とする表面処理赤外線吸収微粒子分散液である。
第2の発明は、
前記金属キレート化合物または前記金属環状オリゴマー化合物が、Al、Zr、Ti、Si、Znから選択される1種類以上の金属元素を含むことを特徴とする第1の発明に記載の表面処理赤外線吸収微粒子分散液である。
第3の発明は、
前記金属キレート化合物または前記金属環状オリゴマー化合物が、エーテル結合、エステル結合、アルコキシ基、アセチル基から選択される1種類以上を有することを特徴とする第1または第2の発明に記載の表面処理赤外線吸収微粒子分散液である。
第4の発明は、
前記赤外線吸収微粒子が、一般式WyOz(但し、Wはタングステン、Oは酸素、2.2≦z/y≦2.999)、または/および、一般式MxWyOz(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、I、Ybのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1、2.0≦z/y≦3.0)で表記される赤外線吸収微粒子であることを特徴とする第1から第3の発明のいずれかに記載の表面処理赤外線吸収微粒子分散液である。
第5の発明は、
前記Mが、Cs、K、Rb、Tl、In、Baのうちから選択される1種類以上の元素であることを特徴とする第4の発明に記載の表面処理赤外線吸収微粒子分散液である。
第6の発明は、
前記赤外線吸収微粒子が六方晶の結晶構造を有する、タングステン酸化物微粒子または/および複合タングステン酸化物微粒子であることを特徴とする第1から第5の発明のいずれかに記載の表面処理赤外線吸収微粒子分散液である。
第7の発明は、
前記表面処理赤外線吸収微粒子分散液が、さらにガラスコーティング剤を含んでいることを特徴とする第1から第6の発明のいずれかに記載の表面処理赤外線吸収微粒子分散液である。
第8の発明は、
前記液体媒質が、芳香族炭化水素類、ケトン類、エーテル類、アルコール類、水、から選択される1種類以上であり、
前記ガラスコーティング剤が、シランカップリング剤、シラン系アルコキシド、から選択される1種類以上であることを特徴とする第7の発明に記載の表面処理赤外線吸収微粒子分散液である。
第9の発明は、
前記液体媒質が、芳香族炭化水素類、ケトン類、エーテル類、から選択される1種類以上であり、
前記ガラスコーティング剤が、ポリシラザン、ポリオルガノシラン、から選択される1種類以上であることを特徴とする第7の発明に記載の表面処理赤外線吸収微粒子分散液である。
第10の発明は、
1枚以上の透明基材の少なくとも一方の面に、コーティング層を有する赤外線吸収透明基材であって、
前記コーティング層は、表面処理赤外線吸収微粒子を含み、
前記表面処理赤外線吸収微粒子は、当該微粒子の表面が、金属キレート化合物の加水分解生成物、金属キレート化合物の加水分解生成物の重合物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物の重合物、から選択される1種類以上を含む膜で被覆されている赤外線吸収微粒子であることを特徴とする赤外線吸収透明基材である。
第11の発明は、
前記金属キレート化合物または前記金属環状オリゴマー化合物が、Al、Zr、Ti、Si、Znから選択される1種類以上の金属元素を含むことを特徴とする第10の発明に記載の赤外線吸収透明基材である。
第12の発明は、
前記金属キレート化合物または前記金属環状オリゴマー化合物が、エーテル結合、エステル結合、アルコキシ基、アセチル基から選択される1種類以上を有することを特徴とする第10または第11の発明に記載の赤外線吸収透明基材である。
第13の発明は、
前記赤外線吸収微粒子が、一般式WyOz(但し、Wはタングステン、Oは酸素、2.2≦z/y≦2.999)、または/および、一般式MxWyOz(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、I、Ybのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1、2.0≦z/y≦3.0)で表記される赤外線吸収微粒子であることを特徴とする第10から第12の発明のいずれかに記載の赤外線吸収透明基材である。
第14の発明は、
前記Mが、Cs、K、Rb、Tl、In、Baのうちから選択される1種類以上の元素であることを特徴とする第13の発明に記載の赤外線吸収透明基材である。
第15の発明は、
前記赤外線吸収微粒子が六方晶の結晶構造を有する、タングステン酸化物微粒子または/および複合タングステン酸化物微粒子であることを特徴とする第10から第14の発明のいずれかに記載の赤外線吸収透明基材である。
第16の発明は、
前記コーティング層が、さらにガラスコーティング剤を含んでいることを特徴とする第10から第15の発明のいずれかに記載の赤外線吸収透明基材である。
第17の発明は、
前記ガラスコーティング剤が、シランカップリング剤、シラン系アルコキシド、ポリシラザン、ポリオルガノシラン、から選択される1種類以上であることを特徴とする第16の発明に記載の赤外線吸収透明基材である。
第18の発明は、
前記透明基材が、透明ガラス基材、透明樹脂基材、から選択される1種類以上であることを特徴とする第10から第17の発明のいずれかに記載の赤外線吸収透明基材である。
本発明に係る赤外線吸収透明基材、表面処理赤外線吸収微粒子分散液および表面処理赤外線吸収微粒子粉末に用いられる赤外線吸収微粒子は、一般式WyOz(但し、Wはタングステン、Oは酸素、2.2≦z/y≦2.999)、または/および、一般式MxWyOz(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、I、Ybのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1、2.0≦z/y≦3.0)で表記される赤外線吸収微粒子であることを特徴としている。
尚、本発明において「透明性」とは、「可視光領域の光に対して散乱が少なく透過性が高い。」という意味で用いている。
ここで、本発明に係る赤外線吸収微粒子であるタングステン酸化物微粒子または/および複合タングステン酸化物微粒子について、(1)タングステン酸化物微粒子、(2)複合タングステン酸化物微粒子、(3)赤外線吸収微粒子、の順で説明する。
本発明に係るタングステン酸化物微粒子は、一般式WyOz(但し、Wはタングステン、Oは酸素、2.2≦z/y≦2.999)で表記されるタングステン酸化物の微粒子である。
さらには、当該赤外線吸収微粒子をWyOzと記載したとき、2.2≦z/y≦2.999であることが好ましい。当該z/yの値が2.2以上であれば、当該タングステン酸化物中に目的以外であるWO2の結晶相が現れるのを回避することが出来ると伴に、材料としての化学的安定性を得ることが出来るので有効な赤外線吸収微粒子となる。一方、当該z/yの値が2.999以下であれば、必要とされる量の自由電子が生成され効率よい赤外線吸収微粒子となる。
上述した当該複合タングステン酸化物(WO3)へ、後述する元素Mを添加したものが複合タングステン酸化物である。そして、当該WO3に対し酸素量の制御と、自由電子を生成する元素Mの添加とを併用することで、より効率の良い赤外線吸収微粒子を得ることが出来る。当該構成をとることで、複合タングステン酸化物中に自由電子が生成され、特に近赤外線領域に自由電子由来の強い吸収特性が発現し、波長1000nm付近の近赤外線吸収微粒子として有効となる。
この酸素量の制御と、自由電子を生成する元素Mの添加とを併用した赤外線吸収微粒子の一般式をMxWyOz(但し、Mは、後述する元素M、Wはタングステン、Oは酸素)と記載したとき、0.001≦x/y≦1、2.2≦z/y≦3の関係を満たす赤外線吸収微粒子が望ましい。
図1において、符号11で示すWO6単位にて形成される8面体が6個集合して六角形の空隙が構成され、当該空隙中に、符号12で示す元素Mが配置して1箇の単位を構成し、この1箇の単位が多数集合して六方晶の結晶構造を構成する。
そして、可視光領域における光の透過を向上させ、赤外領域における光の吸収を向上させる効果を得る為には、複合タングステン酸化物微粒子中に、図1を用いて説明した単位構造が含まれていれば良く、当該複合タングステン酸化物微粒子が結晶質であっても非晶質であっても構わない。
この六角形の空隙に元素Mの陽イオンが添加されて存在するとき、可視光領域における光の透過が向上し、赤外領域における光の吸収が向上する。ここで一般的には、イオン半径の大きな元素Mを添加したとき当該六方晶が形成され易い。具体的には、Cs、K、Rb、Tl、In、Ba、Li、Ca、Sr、Fe、Snのうち1種類以上、より好ましくはCs、K、Rb、Tl、In、Baのうち1種類以上を添加したとき六方晶が形成され易い。典型的な例としてはCs0.33WOz、Cs0.03Rb0.30WOz、Rb0.33WOz、K0.33WOz、Ba0.33WOz(2.0≦z≦3.0)などを挙げることができる。勿論これら以外の元素でも、WO6単位で形成される六角形の空隙に上述した元素Mが存在すれば良く、上述の元素に限定される訳ではない。
本発明に係る赤外線吸収微粒子は、上述したタングステン酸化物微粒子および/または複合タングステン酸化物微粒子を含有する。そして本発明に係る赤外線吸収微粒子は、近赤外線領域、特に波長1000nm付近の光を大きく吸収するため、その透過色調は青色系から緑色系となる物が多い。
ここで、粒子径とは凝集していない個々の赤外線吸収微粒子がもつ径の平均値であり、後述する赤外線吸収透明基材、表面処理赤外線吸収微粒子分散液、表面処理赤外線吸収微粒子粉末に含まれる赤外線吸収微粒子の平均粒径である。尚、粒子径は、赤外線吸収微粒子の電子顕微鏡像から算出される。
一方、本発明に係る赤外線吸収微粒子の分散粒子径は、その使用目的によって各々選定することが出来る。そして、分散粒子径は、上述した粒子径とは異なり凝集体の粒径も含む概念である。
さらに分散粒子径が100nm以下になると、散乱光は非常に少なくなり好ましい。光の散乱を回避する観点からは、分散粒子径が小さい方が好ましく、分散粒子径が1nm以上あれば工業的な製造は容易である。
尚、赤外線吸収微粒子の分散粒子径は、動的光散乱法を原理とした大塚電子株式会社製ELS-8000等を用いて測定することが出来る。
また、優れた赤外線吸収特性を発揮させる観点から、赤外線吸収微粒子の結晶子径は1nm以上200nm以下であることが好ましく、より好ましくは1nm以上100nm以下、さらに好ましくは10nm以上70nm以下である。結晶子径の測定には、粉末X線回折法(θ―2θ法)によるX線回折パターンの測定と、リートベルト法による解析を用いる。X線回折パターンの測定には、例えばスペクトリス株式会社PANalytical製の粉末X線回折装置「X’Pert-PRO/MPD」などを用いて行うことが出来る。
本発明に係る赤外線吸収微粒子の表面被覆に用いる表面処理剤は、金属キレート化合物の加水分解生成物、金属キレート化合物の加水分解生成物の重合物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物の重合物、から選択される1種以上である。
そして、当該金属キレート化合物、金属環状オリゴマー化合物は、金属アルコキシド、金属アセチルアセトネート、金属カルボキシレートであることが好ましい観点から、エーテル結合、エステル結合、アルコキシ基、アセチル基から選択される1種以上を有することが好ましい。
ここで、本発明に係る赤外線吸収微粒子の表面処理剤について、(1)金属キレート化合物、(2)金属環状オリゴマー化合物、(3)金属キレート化合物や金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物、および、それらの重合物、(4)表面処理剤の添加量、の順で説明する。
本発明に用いる金属キレート化合物は、アルコキシ基を含有するAl系、Zr系、Ti系、Si系、Zn系のキレート化合物から選ばれる1種以上であることが好ましい。
これらの化合物は、アルミニウムアルコレートを非プロトン性溶媒や、石油系溶剤、炭化水素系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、アミド系溶剤等に溶解し、この溶液に、β-ジケトン、β-ケトエステル、一価または多価アルコール、脂肪酸等を加えて、加熱還流し、リガンドの置換反応により得られた、アルコキシ基含有のアルミニウムキレート化合物である。
また、4官能性シラン化合物の加水分解生成物(4官能性シラン化合物の加水分解生成物全体の意味である。)としては、アルコキシ基の一部あるいは全量が加水分解して、シラノール(Si-OH)基となったシランモノマー、4~5量体のオリゴマー、および、重量平均分子量(Mw)が800~8000程度の重合体(シリコーンレジン)が挙げられる。尚、アルコキシシランモノマー中のアルコキシシリル基(Si-OR)は、加水分解反応の過程において、その全てが加水分解してシラノール基(Si-OH)になるわけではない。
本発明に係る金属環状オリゴマー化合物としては、Al系、Zr系、Ti系、Si系、Zn系の環状オリゴマー化合物から選ばれる1種以上であることが好ましい。例えば、環状アルミニウムオキサイドオクチレート、環状アルミニウムオキサイドイソプロピレート、環状アルミニウムオキサイドステレートなどが挙げられる。
本発明では、上述した金属キレート化合物や金属環状オリゴマー化合物における、アルコキシ基、エーテル結合、エステル結合の全量が加水分解し、ヒドロキシル基やカルボキシル基となった加水分解生成物、一部が加水分解した部分加水分解生成物、または/および、当該加水分解反応を経て自己縮合した重合物を、本発明に係る赤外線吸収微粒子の表面に被覆して被覆膜とし、本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子を得るものである。
即ち、本発明における加水分解生成物は、部分加水分解生成物を含む概念である。
尚、本発明において、「赤外線吸収微粒子へ耐湿熱性を付与する為に、当該微粒子の表面へ、金属キレート化合物の加水分解生成物、金属キレート化合物の加水分解生成物の重合物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物の重合物、から選択される1種以上を用いて形成した被覆膜」を、単に「被覆膜」と記載する場合がある。
こうした事態を回避する為、前記被覆膜に未分解の金属キレート化合物または/および金属環状オリゴマー化合物が含有されている場合、後述の熱処理によってこれらの化合物の分解を進め、反応性の低い加水分解生成物の重合物になるまで反応させておくことが好ましい。
上述した金属キレート化合物や金属環状オリゴマー化合物の添加量は、赤外線吸収微粒子100重量部に対して、金属元素換算で0.05重量部以上1000重量部以下であることが好適である。より好ましくは5重量部以上500重量部以下、更により好ましくは50重量部以上250重量部以下の範囲である。
また、金属キレート化合物または金属環状オリゴマー化合物の添加量が1000重量部以下であれば、赤外線吸収微粒子に対する吸着量が過剰になることを回避出来る。また、表面被覆による耐湿熱性の向上が飽和せず、被覆効果の向上が望める。
さらに、金属キレート化合物または金属環状オリゴマー化合物の添加量が1000重量部以下であることで、赤外線吸収微粒子に対する吸着量が過剰になり、媒質除去時に当該金属キレート化合物または金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物や、当該加水分解生成物の重合物を介して微粒子同士が造粒し易くなることを回避出来るからである。当該微粒子同士による望まれない造粒の回避によって、良好な透明性を担保することが出来る。
加えて、金属キレート化合物または金属環状オリゴマー化合物の過剰による、添加量および処理時間の増加による生産コスト増加も回避出来る。よって工業的な観点からも金属キレート化合物や金属環状オリゴマー化合物の添加量は、1000重量部以下とすることが好ましい。
以上より、当該被覆膜の膜厚は0.5nm以上20nm以下であることがより好ましく、1nm以上10nm以下であればさらに好ましい。
尚、被覆膜の膜厚は、表面処理赤外線吸収微粒子の透過型電子顕微鏡像から測定することができる。例えば、図2に示す、実施例1に係る表面処理赤外線吸収微粒子の30万倍の透過型電子顕微鏡像において2本の平行する実線で挟まれた、赤外線吸収微粒子の格子縞(結晶中の原子の並び)が観察されない部分が被覆膜に相当する。
本発明に係る赤外線吸収微粒子の表面へ被覆を施し、表面処理赤外線吸収微粒子を製造するには、まず、赤外線吸収微粒子を水、または、水を含む有機溶媒中に分散させて被覆膜形成用の赤外線吸収微粒子分散液(本発明において「被覆膜形成用分散液」と記載する場合がある。)を調製する。
一方、「[2]赤外線吸収微粒子の表面処理剤」にて説明した表面処理剤を調製する。
そして被覆膜形成用分散液を混合攪拌しながら、ここへ表面処理剤を添加する。すると、赤外線吸収微粒子の表面が、金属キレート化合物の加水分解生成物、金属キレート化合物の加水分解生成物の重合物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物の重合物、から選択される1種以上を含む被覆膜で被覆されるものである。
そして、この粉砕、分散処理工程中において分散状態を担保し、微粒子同士を凝集させないことが肝要である。これは、次工程である赤外線吸収微粒子の表面処理の過程において、当該赤外線吸収微粒子が凝集を起こして凝集体の状態で表面被覆され、ひいては、後述する赤外線吸収微粒子分散体中においても当該凝集体が残存し、後述する赤外線吸収微粒子分散体や赤外線吸収基材の透明性が低下する事態を回避する為である。
本発明者らは、上述した被覆膜形成用分散液の調製において、水を媒質とする被覆膜形成用分散液を攪拌混合しながら、ここへ、本発明に係る表面処理剤を添加し、さらに、添加された金属キレート化合物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解反応を即座に完了させるのが好ましいことを知見した。尚、赤外線吸収微粒子を均一に表面被覆する観点から、表面処理剤は滴下添加することが好ましい。
これは、添加した本発明に係る表面処理剤の反応順序が影響していると考えられる。即ち、水を媒質とする被覆膜形成用分散液中においては、表面処理剤の加水分解反応が必ず先立ち、その後に、生成した加水分解生成物の重合反応が起こる。この結果、水を媒質としない場合に比較して、被覆膜中に存在する表面処理剤分子内の炭素C残存量を低減することが出来るからであると考えられる。当該被覆膜中に存在する表面処理剤分子内の炭素C残存量を低減することで、個々の赤外線吸収微粒子の表面を高密度に被覆する被覆膜を形成することが出来たと考えている。
この表面処理剤の滴下添加の際、当該表面処理剤の時間当たりの添加量を調整する為に、表面処理剤自体を適宜な溶剤で希釈したものを滴下添加することも好ましい。希釈に用いる溶剤としては、当該表面処理剤と反応せず、被覆膜形成用分散液の媒質である水とも相溶性の高いものが好ましい。具体的にはアルコール系、ケトン系、グリコール系等の溶剤が好ましく使用出来る。
表面処理剤の希釈倍率は特に限定されるものではない。尤も、生産性を担保する観点から、希釈倍率は100倍以下とするのが好ましい。
一方、当該水を媒質とする被覆膜形成用分散液中において、本発明に係る赤外線吸収微粒子は静電反発によって分散を保っている。
その結果、全ての赤外線吸収微粒子の表面は、金属キレート化合物の加水分解生成物、金属キレート化合物の加水分解生成物の重合物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物の重合物、から選択される1種以上を含む被覆膜で被覆され、本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子が生成すると考えられる。
上述した水を媒質とする被覆膜形成用分散液を用いた赤外線吸収微粒子の表面被覆方法の変形例として、被覆膜形成用分散液の媒質として水を含む有機溶剤を用い、添加する水量を適宜な値に調整しながら上述した反応順序を実施する方法も好ましい。
当該調製方法は、後工程の都合により被覆膜形成用分散液中に含まれる水分量を低減したい場合に好適である。
具体的には、有機溶剤を媒質とする被覆膜形成用分散液を攪拌混合しながら、本発明に係る表面処理剤と純水とを並行滴下するものである。このとき、反応速度に影響する媒質温度や、表面処理剤と純水との滴下速度を適宜に制御する。尚、有機溶剤としては、アルコール系、ケトン系、グリコール系等、の室温で水に溶解する溶剤であれば良く、種々のものを選択することが可能である。
そして、当該「(2)」においても、表面処理剤の滴下添加の際、当該表面処理剤の時間当たりの添加量を調整する為に、表面処理剤自体を適宜な溶剤で希釈したものを滴下添加することが好ましい。この場合、希釈に用いる溶剤としては、当該表面処理剤と反応せず、被覆膜形成用分散液の媒質である水を含む有機溶剤と相溶性の高いものが好ましい。具体的にはアルコール系、ケトン系、グリコール系等の溶剤が好ましく使用出来る。
尚、表面処理剤として市販品の金属キレート化合物、金属環状オリゴマー化合物を用いる場合の対応や、表面処理剤の希釈倍率については、前記「(1)」と同様である。
本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末は、被覆膜形成用分散液中の赤外線吸収微粒子を表面被覆した後に、適宜な乾燥処理により分散液(被覆膜形成用分散液、表面処理剤、水等の溶媒の混合物)中の溶媒を除去することで得られる。乾燥処理の設備としては、加熱および/または減圧が可能で、当該超微粒子の混合や回収がし易いという観点から、大気乾燥機、万能混合機、リボン式混合機、真空流動乾燥機、振動流動乾燥機、凍結乾燥機、リボコーン、ロータリーキルン、噴霧乾燥機、パルコン乾燥機、等が好ましいが、これらに限定されない。
尚、赤外線吸収微粒子が複合タングステン酸化物微粒子である場合、分散液中の溶媒が揮発するよりも高い温度であって、大気雰囲気中でも元素Mが脱離しない温度で乾燥処理することが望ましく、150℃以下であることが望ましい。
「[2]赤外線吸収微粒子の表面処理剤(4)項」で述べた通り、表面処理赤外線吸収微粒子や表面処理赤外線吸収微粒子粉末中の被覆膜に未分解の金属キレート化合物または/および金属環状オリゴマー化合物が含有されている場合、熱処理によって、当該キレート化合物または/およびオリゴマー化合物の分解を進めることが好ましい。
当該熱処理は大気雰囲気下、または、不活性ガス雰囲気下で行う。このとき、熱処理温度は、金属キレート化合物または/および金属環状オリゴマー化合物が分解する温度以上であって、赤外線吸収微粒子が結晶化し始める温度より低いことが好ましい。具体的には、赤外線吸収微粒子がタングステン酸化物微粒子または複合タングステン酸化物微粒子である場合、温度200℃以上500℃未満の温度範囲であることが好ましい。
尚、赤外線吸収微粒子が複合タングステン酸化物微粒子である場合、元素Mが脱離しないように熱処理することが望ましく、熱処理雰囲気は不活性ガス雰囲気下であることが望ましい。
この温度制御により赤外線吸収微粒子を粒成長させることなく、未分解の金属キレート化合物または/および金属環状オリゴマー化合物の分解を進め、本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子を得ることが出来る。
「[4]表面処理赤外線吸収微粒子粉末の製造方法」や「[5]表面処理赤外線吸収微粒子粉末の熱処理」にて説明した本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末を用いて本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液を得ることが出来る。
本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液は、本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子が液体媒質中に分散しており、ガラスコーティング剤を含み、さらに所望により酸、分散剤、その他添加剤を含み、コーティング液として用いられるものである。当該液体媒質としては、有機溶媒、油脂、液状可塑剤、硬化により高分子化される化合物、水、から選択される1種以上の液体媒質を好ましく用いることが出来る。
以下、本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液について、好ましく使用出来る(1)有機溶剤、(2)油脂、(3)液状可塑剤、(4)ガラスコーティング剤、(5)酸、(6)分散剤、(7)その他添加剤、そして、(8)表面処理赤外線吸収微粒子分散液の製造方法、の順に説明する。
本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液に使用する有機溶媒としては、アルコール系、ケトン系、炭化水素系、グリコール系、水系、等を使用することが出来る。
具体的には、メタノール、エタノール、1-プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコールなどのアルコール系溶剤;
アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロンなどのケトン系溶剤;
3-メチル-メトキシ-プロピオネート、酢酸n-ブチルなどのエステル系溶剤;
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテートなどのグリコール誘導体;
フォルムアミド、N-メチルフォルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドンなどのアミド類;
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;
エチレンクロライド、クロルベンゼン、等を使用することが出来る。
そして、これらの有機溶媒中でも、特に、ジメチルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸n-ブチル、等を好ましく使用することが出来る。
本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液に使用する油脂としては、植物油または植物油由来の化合物が好ましい。
植物油としては、アマニ油、ヒマワリ油、桐油、エノ油等の乾性油、ゴマ油、綿実油、菜種油、大豆油、米糠油、ケシ油等の半乾性油、オリーブ油、ヤシ油、パーム油、脱水ヒマシ油等の不乾性油、等を使用することが出来る。
植物油由来の化合物としては、植物油の脂肪酸とモノアルコールを直接エステル反応させた脂肪酸モノエステル、エーテル類、等を使用することが出来る。
また、市販の石油系溶剤も油脂として用いることが出来る。
市販の石油系溶剤として、(登録商標)アイソパーE、エクソールHexane、エクソールHeptane、エクソールE、エクソールD30、エクソールD40、エクソールD60、エクソールD80、エクソールD95、エクソールD110、エクソールD130(以上、エクソンモービル製)、等を使用することが出来る。
本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液に添加する液状可塑剤としては、例えば、一価アルコールと有機酸エステルとの化合物である可塑剤、多価アルコール有機酸エステル化合物等のエステル系である可塑剤、有機リン酸系可塑剤等のリン酸系である可塑剤、等を使用することが出来る。尚、いずれも室温で液状であるものが好ましい。
なかでも、多価アルコールと脂肪酸から合成されたエステル化合物である可塑剤を好ましく使用することが出来る。当該多価アルコールと脂肪酸とから合成されたエステル化合物は特に限定されないが、例えば、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコールと、酪酸、イソ酪酸、カプロン酸、2-エチル酪酸、ヘプチル酸、n-オクチル酸、2-エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸(n-ノニル酸)、デシル酸等の一塩基性有機酸との反応によって得られた、グリコール系エステル化合物、等を使用することが出来る。
また、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコールと、前記一塩基性有機とのエステル化合物等も使用することが出来る。
なかでも、トリエチレングリコールジヘキサネート、トリエチレングリコールジ-2-エチルブチレート、トリエチレングリコールジ-オクタネート、トリエチレングリコールジ-2-エチルヘキサノネート等のトリエチレングリコールの脂肪酸エステル、等を好ましく使用することが出来る。さらに、トリエチレングリコールの脂肪酸エステルも好ましく使用することが出来る。
本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液にガラスコーティング剤を含有させることにより、本発明に係る赤外線吸収透明基材へ耐摩耗性を付与することが出来る。当該観点から、本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液へ、さらにガラスコーティング剤を含有させることが好ましい。
上述したガラスコーティング剤に含まれる加水分解性ケイ素モノマー等の加水分解を促進させる観点から、本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液へ酸を添加することも好ましい構成である。
本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液に添加する酸としては、例えば、硝酸、塩酸、硫酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、リン酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、シュウ酸等を使用することが出来る。揮発性の酸は加熱時に揮発して硬化後の膜中に残存することがなく好ましい。
当該酸は、加水分解性ケイ素モノマーおよび当該ケイ素モノマーの加水分解縮合物の加水分解を促進させる触媒の役割を果たす。分散液における酸の添加量は、当該触媒の役割が果たせる範囲で特に限定なく設定出来るが、分散液全量に対して容量比で0.001~0.1mol/L程度とすることが好ましい。
本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液において、表面処理赤外線吸収微粒子の分散安定性を一層向上させ、再凝集による分散粒子径の粗大化を回避する為に、各種の分散剤、界面活性剤、カップリング剤などを添加することも好ましい。
当該分散剤、カップリング剤、界面活性剤は用途に合わせて選定可能であるが、アミンを含有する基、水酸基、カルボキシル基、または、エポキシ基を官能基として有するものであることが好ましい。これらの官能基は、表面処理赤外線吸収微粒子の表面に吸着して凝集を防ぎ、均一に分散させる効果を持つ。これらの官能基のいずれかを分子中にもつ高分子系分散剤は、さらに好ましい。
ビックケミー・ジャパン株式会社製Disperbyk(登録商標)-101、103、107、108、109、110、111、112、116、130、140、142、145、154、161、162、163、164、165、166、167、168、170、171、174、180、181、182、183、184、185、190、2000、2001、2020、2025、2050、2070、2095、2150、2155、Anti-Terra(登録商標)-U、203、204、BYK(登録商標)-P104、P104S、220S、6919等;
エフカアディティブズ社製 EFKA(登録商標)-4008、4046、4047、4015、4020、4050、4055、4060、4080、4300、4330、4400、4401、4402、4403、4500、4510、4530、4550、4560、4585、4800、5220、6230、BASFジャパン株式会社社製JONCRYL(登録商標)-67、678、586、611、680、682、690、819、JDX5050等;
大塚化学株式会社製TERPLUS(登録商標) MD 1000、D 1180、D1330等;
味の素ファインテクノ株式会社製アジスパー(登録商標)PB-711、PB-821、PB-822、等を使用することが出来る。
本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液には、塗布性やレベリング性、乾燥性の制御のために、各種界面活性剤や樹脂成分が、当該分散液の5質量%以下の範囲で少量含まれていても良い。界面活性剤としてはアニオン性、カチオン性、非イオン性、又は両性のものが挙げられる。
また、当該分散液を用いて得られる赤外線吸収透明基材の可撓性を付与するために、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオキシアルキレン基を含む親水性有機樹脂、エポキシ樹脂などの各種有機樹脂が当該分散液の5質量%以下の範囲で少量含まれていても良い。
また、得られる赤外線吸収透明基材へクラック防止性を付与するために、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、紫外線硬化性樹脂などが、当該分散液の20質量%以下の範囲で含まれていても良い。より具体的には、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコーン樹脂およびこれらの樹脂の変性品を挙げることが出来る。
本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液を製造するには、本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子と、ガラスコーティング剤と、必要に応じて分散剤および/またはその他添加剤とを、共に前記液体媒質中に添加して分散させればよい。分散させる方法としては、「[3]赤外線吸収微粒子の表面被覆方法」で説明した粉砕・分散処理の具体的方法が挙げられる。ただし、過度に粉砕・分散処理を行い表面処理赤外線吸収微粒子中の1次粒子を粉砕すると、未被覆の新生面が現れて耐湿熱性が担保されなくなる恐れがある。よって、粉砕・分散処理は最低限の分散に留めることが好ましい。
尚、上述した「(5)酸」は、ガラスコーティング剤との過剰な反応を抑制する観点から、分散液製造の最終段階で添加することが好ましい。
本発明に係る赤外線吸収透明基材は、透明基材の少なくとも一方の面に本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液をコーティング液として形成されたコーティング層を有するものである。前記コーティング層は、本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子が分散したガラスコーティング剤が、硬化したものである。
本発明に係る赤外線吸収透明基材は、耐湿熱性および化学安定性に優れ、且つ赤外線吸収材料として好適に利用出来るものである。
本発明に係る赤外線吸収透明基材について(1)赤外線吸収透明基材に用いる透明基材、(2)赤外線吸収透明基材の製造方法、(3)赤外線吸収透明基材の耐湿熱特性、(4)赤外線吸収透明基材上のコーティング層の膜厚測定の順に説明する。
透明基材としては透明ガラス基材、透明樹脂基材を用いることができ、必要とするボード、シート、フィルムの表面状態や耐久性に不具合を生じないものであれば特に制限はない。
透明ガラス基材の具体例としては、例えば、クリアガラス、グリーンガラス等の機能性ガラスが挙げられる。
透明樹脂基材の具体例としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや、さらにこれらの二元系、三元系各種共重合体、グラフト共重合体、ブレンド物等の透明ポリマーからなるボード、シート、およびフィルムが挙げられる。
本発明に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液を用い、透明基材上へ公知の方法でコーティング層を形成し、所定の方法で硬化させれば、本発明に係る表面処理赤外線微粒子が固体媒質に分散された赤外線吸収透明基材を製造することが出来る。硬化させる方法としては、乾燥処理、紫外線や電子線の照射、熱処理等により硬化させる方法が挙げられる。
本発明に係る赤外線吸収透明基材は、可視光透過率を80%前後に設定し、温度85℃相対湿度90%の湿熱雰囲気中に9日間暴露を行ったとき、当該暴露前後における日射透過率の変化量が4.0%以下であり、優れた耐湿熱性を有している。
本発明に係る赤外線吸収透明基材上のコーティング層の膜厚測定には、触針式表面粗さ計などを用いることが出来る。具体的には、所定の平滑な基材上に表面処理赤外線吸収微粒子分散液を塗布して塗布膜を得る。当該塗布膜が硬化する前に、当該塗布膜の一部を剃刀を用いて剥離させる。当該剥離させた硬化する前の塗布膜を、別の平滑な基材上に設置し、適宜な方法により硬化させてコーティング層を形成させた後、触針式表面粗さ計を用いて、基材とコーティング層との段差を測定して膜厚を得ることが出来る。
実施例および比較例における被覆膜形成用分散液や表面処理赤外線吸収微粒子分散液中の微粒子の分散粒子径は、動的光散乱法に基づく粒径測定装置(大塚電子株式会社製ELS-8000)により測定した平均値をもって示した。また、結晶子径は、粉末X線回折装置(スペクトリス株式会社PANalytical製X’Pert-PRO/MPD)を用いて粉末X線回折法(θ―2θ法)により測定し、リートベルト法を用いて算出した。
表面処理赤外線吸収微粒子の被覆膜の膜厚は、透過型電子顕微鏡(日立製作所株式会社社製 HF-2200)を用いて得た30万倍の写真データより、赤外線吸収微粒子の格子縞の観察されない部分を被覆膜として、当該被覆膜の膜厚を読み取った。
まず、厚さ3mmのガラス基材上に、所定のバーコーターを用いて表面処理赤外線吸収微粒子分散液を塗布して塗布膜とする。当該塗布膜が硬化する前に、当該塗布膜の一部を剃刀を用いて剥離させる。当該剥離させた硬化する前の塗布膜を別の平滑なガラス基材上に設置し、熱処理等の適宜な方法により硬化させてコーティング層を形成させ、赤外線吸収透明基材を得る。そして触針式表面粗さ計を用い、ガラス基材とコーティング層との段差を測定してコーティング層の膜厚を得る。
Cs/W(モル比)=0.33の六方晶セシウムタングステンブロンズ(Cs0.33WOz)粉末(住友金属鉱山株式会社製YM-01、2.0≦Z≦3.0)25質量%と純水75質量%とを混合して得られた混合液を、0.3mmφZrO2ビーズを入れたペイントシェーカーに装填し10時間粉砕・分散処理し、実施例1に係るCs0.33WOz微粒子の分散液を得た。得られた分散液中のCs0.33WOz微粒子の分散粒子径を測定したところ、100nmであった。尚、粒径測定の設定として、粒子屈折率は1.81、粒子形状は非球形とした。また、バックグラウンドは純水を用いて測定し、溶媒屈折率は1.33とした。さらに、得られた分散液の溶媒を除去した後、Cs0.33WOz微粒子の結晶子径を測定したところ32nmであった。
一方、アルミニウム系のキレート化合物としてアルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピレート2.5質量%と、イソプロピルアルコール(IPA)97.5質量%とを混合して、実施例1に係る表面処理剤aとした。
当該表面処理剤aの滴下添加後、さらに温度20℃で24時間の攪拌を行い、実施例1に係る熟成液を作製した。次いで、真空流動乾燥を用いて、当該熟成液から媒質を蒸発させ、得られた乾固物を窒素ガス雰囲気中において200℃で1時間熱処理し 、得られた粉状体をハンマーミルにより乾式粉砕して、実施例1に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末を得た。
ここで、実施例1に係る表面処理赤外線吸収微粒子の被覆膜の膜厚を、図2に示す30万倍の透過型電子顕微鏡写真を用いて測定したところ2nmであることが判明した(実施例1に係るCs0.33WOz微粒子の格子縞(結晶中の原子の並び)が観察されない、2本の平行する実線で挟まれた部分の膜厚)。
得られた表面処理赤外線吸収微粒子分散液の溶媒を除去した後、表面処理赤外線吸収微粒子の結晶子径を測定したところ28nmであった。
尚、テトラメトキシシランと3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランとは、シラン系アルコキシドのガラスコーティング剤である。
実施例1に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末の製造条件を表1に、表面処理赤外線吸収微粒子分散液の製造条件を表2に、赤外線吸収透明基材の光学特性評価結果を表3に示す。
表面処理剤aの量と、その滴下添加時間とを変更したこと以外は、実施例1と同様の操作をすることで、実施例2および3に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末、表面処理赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収透明基材を得て、実施例1と同様の評価を実施した。
実施例2、3に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末の製造条件を表1に、表面処理赤外線吸収微粒子分散液の製造条件を表2に、赤外線吸収透明基材の光学特性評価結果を表3に示す。
実施例1に係る熟成液を1時間静置して、表面処理赤外線吸収微粒子粉末と媒質とを固液分離させた。次いで、上澄みである媒質のみを除去して赤外線吸収微粒子スラリーを得た。得られた赤外線吸収微粒子スラリーを大気雰囲気中において80℃で3時間乾燥処理し、得られた粉状体をハンマーミルにより乾式粉砕して実施例4に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末を得た。
実施例4に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末の製造条件を表1に、表面処理赤外線吸収微粒子分散液の製造条件を表2に、赤外線吸収透明基材の光学特性評価結果を表3に示す。
ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトネート2.4質量%とイソプロピルアルコール97.6質量%とを混合して実施例5に係る表面処理剤bとした。
表面処理剤aの代わりに表面処理剤bを用いたこと以外は、実施例1と同様の操作をすることで、実施例5に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末、表面処理赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収透明基材を得て、実施例1と同様の評価を実施した。
実施例5に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末の製造条件を表1に、表面処理赤外線吸収微粒子分散液の製造条件を表2に、赤外線吸収透明基材の光学特性評価結果を表3に示す。
ジイソプロポキシチタンビスエチルアセトアセテート2.6質量%とイソプロピルアルコール97.4質量%とを混合して実施例6に係る表面処理剤cとした。
表面処理剤aの代わりに表面処理剤cを用いたこと以外は、実施例1と同様の操作をすることで、実施例6に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末、表面処理赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収透明基材を得て、実施例1と同様の評価を実施した。
実施例6に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末の製造条件を表1に、表面処理赤外線吸収微粒子分散液の製造条件を表2に、赤外線吸収透明基材の光学特性評価結果を表3に示す。
Na/W(モル比)=0.33の立方晶ナトリウムタングステンブロンズ粉末(住友金属鉱山株式会社製)25質量%とイソプロピルアルコール75質量%とを混合し、得られた混合液を0.3mmφZrO2ビーズを入れたペイントシェーカーに装填して10時間粉砕・分散処理し、実施例7に係るNa0.33WOz微粒子の分散液を得た。得られた分散液中のNa0.33WOz微粒子の分散粒子径を測定したところ、100nmであった。尚、粒径測定の設定として、粒子屈折率は1.81とし、粒子形状は非球形とした。また、バックグラウンドはイソプロピルアルコールを用いて測定し、溶媒屈折率は1.38とした。また、得られた分散液の溶媒を除去したあと、実施例7に係るNa0.33WOz微粒子の結晶子径を測定したところ32nmであった。
実施例7に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末の製造条件を表1に、表面処理赤外線吸収微粒子分散液の製造条件を表2に、赤外線吸収透明基材の光学特性評価結果を表3に示す。
六方晶セシウムタングステンブロンズ粉末の代わりに、K/W(モル比)=0.33の六方晶カリウムタングステンブロンズ粉末(実施例8)、Rb/W(モル比)=0.33の六方晶ルビジウムタングステンブロンズ粉末(実施例9)、マグネリ相のW18O49(実施例10)、(以上、住友金属鉱山株式会社製)を用いた以外は、実施例1と同様にして赤外線吸収微粒子の分散粒子径および結晶子径を測定し、更に被覆膜形成用分散液C(実施例8)、D(実施例9)、E(実施例10)を得た。
被覆膜形成用分散液Aの代わりに被覆膜形成用分散液C~Eを用いたこと以外は、実施例1と同様の操作をすることで、実施例8~10に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末、表面処理赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収透明基材を得て、実施例1と同様の評価を実施した。
実施例8~10に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末の製造条件を表1に、表面処理赤外線吸収微粒子分散液の製造条件を表2に、赤外線吸収透明基材の光学特性評価結果を表3に示す。
テトラメトキシシラン16gおよび3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン10gの代わりに、低温硬化型ペルヒドロポリシラザン(AZ-エレクトロニックマテリアルズ社製、商品名:アクアミカNP-110)15gを用い、0.1モル/リットルの硝酸40gを添加しなかったこと以外は、実施例1と同様の操作をすることで、実施例11に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末、表面処理赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収透明基材を得て、実施例1と同様の評価を実施した。
実施例11に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末の製造条件を表1に、表面処理赤外線吸収微粒子分散液の製造条件を表2に、赤外線吸収透明基材の光学特性評価結果を表3に示す。
尚、低温硬化型ペルヒドロポリシラザンはガラスコーティング剤である。
テトラエトキシシラン309gを表面処理剤dとした。
表面処理剤希釈液aの代わりに表面処理剤dを用い、イソプロピルアルコールを添加しなかったこと以外は、実施例1と同様の操作をすることで、実施例12に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末、表面処理赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収透明基材を得て、実施例1と同様の評価を実施した。
実施例12に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末の製造条件を表1に、表面処理赤外線吸収微粒子分散液の製造条件を表2に、赤外線吸収透明基材の光学特性評価結果を表3に示す。
亜鉛アセチルアセトナート4.4質量%とイソプロピルアルコール95.6質量%とを混合して実施例13に係る表面処理剤希釈液eを得た。
表面処理剤希釈液aの代わりに表面処理剤希釈液eを用いたこと以外は、実施例1と同様の操作をすることで、実施例13に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末、表面処理赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収透明基材を得て、実施例1と同様の評価を実施した。
実施例13に係る表面処理赤外線吸収微粒子粉末の製造条件を表1に、表面処理赤外線吸収微粒子分散液の製造条件を表2に、赤外線吸収透明基材の光学特性評価結果を表3に示す。
六方晶セシウムタングステンブロンズ粉末(住友金属鉱山株式会社製YM-01、2.0≦Z≦3.0)10gを、イソプロピルアルコール23g、テトラメトキシシラン16g、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン10gと混合し、得られた混合液を、0.3mmφZrO2ビーズを入れたペイントシェーカーに装填して5時間粉砕・分散処理した。その後、0.1モル/リットルの硝酸40gを添加し、温度20℃で1時間攪拌し、比較例1に係る表面処理赤外線吸収微粒子分散液を得た。得られた表面処理赤外線吸収微粒子分散液の溶媒を除去したあと、六方晶セシウムタングステンブロンズ粒子の結晶子径を測定したところ28nmであった。
比較例1に係る赤外線吸収透明基材の光学特性評価結果を表3に示す。
六方晶セシウムタングステンブロンズ粉末の代わりに、Na/W(モル比)=0.33の立方晶ナトリウムタングステンブロンズ粉末(比較例2)や、K/W(モル比)=0.33の六方晶カリウムタングステンブロンズ粉末(比較例3)や、Rb/W(モル比)=0.33の六方晶ルビジウムタングステンブロンズ粉末(比較例4)や、マグネリ相のW18O49粉末(比較例5)(以上、住友金属鉱山株式会社製)を用いたこと以外は、比較例1と同様の操作をすることで、比較例2~5に係る赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収透明基材を得て、実施例1と同様の評価を実施した。
比較例2~5に係る赤外線吸収透明基材の湿熱雰囲気暴露による可視光透過率の変化量、および日射透過率の変化量は実施例より大きかった。また、比較例2~5に係る赤外線吸収透明基材の湿熱雰囲気暴露によるヘイズの変化量も実施例より大きかった。
比較例2~5に係る赤外線吸収微粒子分散液の製造条件を表2に、赤外線吸収透明基材の光学特性評価結果を表3に示す。
12.元素M
Claims (6)
- 液体媒質中に、表面処理赤外線吸収微粒子が分散している表面処理赤外線吸収微粒子分散液であって、
前記赤外線吸収微粒子は、一般式MxWyOz(但し、Mは、Cs、K、Rb、Tl、In、Baのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1、2.0≦z/y≦3.0)で表記される、六方晶の結晶構造を有する赤外線吸収微粒子であり、
前記表面処理赤外線吸収微粒子は、当該微粒子の表面が、金属キレート化合物の加水分解生成物、金属キレート化合物の加水分解生成物の重合物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物の重合物、から選択される1種類以上からなる膜で被覆されている赤外線吸収微粒子であり、
前記表面処理赤外線吸収微粒子分散液が、さらにガラスコーティング剤を含み、
前記液体媒質が、芳香族炭化水素類、ケトン類、エーテル類、アルコール類、水、から選択される1種類以上であって、前記ガラスコーティング剤が、シランカップリング剤、シラン系アルコキシド、から選択される1種類以上である、
または、前記液体媒質が、芳香族炭化水素類、ケトン類、エーテル類、から選択される1種類以上であって、前記ガラスコーティング剤が、ポリシラザン、ポリオルガノシラン、から選択される1種類以上である、ことを特徴とする表面処理赤外線吸収微粒子分散液。 - 前記金属キレート化合物または前記金属環状オリゴマー化合物が、Al、Zr、Ti、Si、Znから選択される1種類以上の金属元素を含むことを特徴とする請求項1に記載の表面処理赤外線吸収微粒子分散液。
- 前記金属キレート化合物または前記金属環状オリゴマー化合物が、エーテル結合、エステル結合、アルコキシ基、アセチル基から選択される1種類以上を有することを特徴とする請求項1または2に記載の表面処理赤外線吸収微粒子分散液。
- 1枚以上の透明基材の少なくとも一方の面に、コーティング層を有する赤外線吸収透明基材であって、
前記コーティング層は、表面処理赤外線吸収微粒子を含み、
前記赤外線吸収微粒子は、一般式MxWyOz(但し、Mは、Cs、K、Rb、Tl、In、Baのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1、2.0≦z/y≦3.0)で表記される、六方晶の結晶構造を有する赤外線吸収微粒子であり、
前記表面処理赤外線吸収微粒子は、当該微粒子の表面が、金属キレート化合物の加水分解生成物、金属キレート化合物の加水分解生成物の重合物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物、金属環状オリゴマー化合物の加水分解生成物の重合物、から選択される1種類以上からなる膜で被覆されている赤外線吸収微粒子であり、
前記コーティング層が、さらにガラスコーティング剤を含み、
前記ガラスコーティング剤が、シランカップリング剤、シラン系アルコキシド、ポリシラザン、ポリオルガノシラン、から選択される1種類以上であり、
前記コーティング層は形成後の熱処理により硬化させたものである、ことを特徴とする赤外線吸収透明基材。 - 前記金属キレート化合物または前記金属環状オリゴマー化合物が、Al、Zr、Ti、Si、Znから選択される1種類以上の金属元素を含むことを特徴とする請求項4に記載の赤外線吸収透明基材。
- 前記金属キレート化合物または前記金属環状オリゴマー化合物が、エーテル結合、エステル結合、アルコキシ基、アセチル基から選択される1種類以上を有することを特徴とする請求項4または5に記載の赤外線吸収透明基材。
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|---|---|---|---|---|
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Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000212480A (ja) | 1999-01-21 | 2000-08-02 | Toray Ind Inc | 赤外線吸収性ハ―ドコ―ト被膜 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0812378A (ja) | 1994-06-30 | 1996-01-16 | Nissan Motor Co Ltd | 熱線遮断ガラス及びその製造方法 |
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| JPH09169549A (ja) * | 1995-12-19 | 1997-06-30 | Affinity Kk | 積層体の製造方法 |
| JPH09169849A (ja) * | 1995-12-20 | 1997-06-30 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 近赤外線吸収材料およびそれを用いた近赤外線吸収フィルター |
| GB9822338D0 (en) | 1998-10-13 | 1998-12-09 | Glaverbel | Solar control coated glass |
| JP4110762B2 (ja) | 2001-10-17 | 2008-07-02 | 住友金属鉱山株式会社 | エレクトロクロミック特性を有する酸化タングステン微粒子の製造方法 |
| US20060257760A1 (en) * | 2003-08-11 | 2006-11-16 | Kenichi Mori | Near-infrared absorbing film, and process for production the same, near-infrared absorbing film roll, process for producing the same and near-infrared absorbing filter |
| CN100590154C (zh) * | 2003-10-20 | 2010-02-17 | 住友金属矿山株式会社 | 红外线遮蔽材料微粒分散体、红外线遮蔽体、红外线遮蔽材料微粒的制法及红外线遮蔽材料微粒 |
| BRPI0407265B1 (pt) | 2003-10-20 | 2018-01-09 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Dispersão de partículas finas de material de proteção contra infravermelho |
| EP1842834A1 (en) | 2006-04-04 | 2007-10-10 | Asahi Glass Company, Limited | Infrared shielding film-coated glass plate and process for its production |
| JP5365197B2 (ja) * | 2007-08-09 | 2013-12-11 | 大日本印刷株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、及び近赤外線吸収フィルタ |
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| US10330837B2 (en) * | 2015-03-31 | 2019-06-25 | Konica Minolta, Inc. | Near-infrared shielding film, method for producing the same, and pressure-sensitive adhesive composition |
| KR101578909B1 (ko) * | 2015-08-31 | 2015-12-18 | 한국세라믹기술원 | 무기 산화물이 코팅된 전이금속 치환 이산화바나듐 복합체 및 그의 제조 방법 |
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| EP3492544A4 (en) * | 2016-07-26 | 2020-04-15 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | NEAR INFRARED RADIUS ABSORBING MICROPARTICLE DISPERSION SOLUTION, NEAR INFRARED RADIUS ABSORBING MICROPARTICLE DISPERSION ELEMENT, TRANSPARENT SUBSTRATE ABSORBENT AND INFRARED TRANSPARENT STRATIFIED ABSORBED SUBSTRATE |
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| CN111373011B (zh) * | 2017-11-13 | 2023-04-21 | 住友金属矿山株式会社 | 表面处理的红外线吸收微粒、其粉末、其分散液、其分散体和它们的制造方法 |
| JP7292586B2 (ja) * | 2019-01-21 | 2023-06-19 | 住友金属鉱山株式会社 | 表面処理赤外線吸収微粒子、表面処理赤外線吸収微粒子粉末、当該表面処理赤外線吸収微粒子を用いた赤外線吸収微粒子分散液、赤外線吸収微粒子分散体、および、赤外線吸収基材 |
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000212480A (ja) | 1999-01-21 | 2000-08-02 | Toray Ind Inc | 赤外線吸収性ハ―ドコ―ト被膜 |
| WO2010055570A1 (ja) | 2008-11-13 | 2010-05-20 | 住友金属鉱山株式会社 | 赤外線遮蔽微粒子及びその製造方法、並びにそれを用いた赤外線遮蔽微粒子分散体、赤外線遮蔽基材 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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