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JP7244535B2 - EMI SHIELDING FILM, METHOD FOR MANUFACTURING SHIELD PRINTED WIRING BOARD, AND SHIELD PRINTED WIRING BOARD - Google Patents

EMI SHIELDING FILM, METHOD FOR MANUFACTURING SHIELD PRINTED WIRING BOARD, AND SHIELD PRINTED WIRING BOARD Download PDF

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JP7244535B2 JP2020553885A JP2020553885A JP7244535B2 JP 7244535 B2 JP7244535 B2 JP 7244535B2 JP 2020553885 A JP2020553885 A JP 2020553885A JP 2020553885 A JP2020553885 A JP 2020553885A JP 7244535 B2 JP7244535 B2 JP 7244535B2
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Description

本発明は、電磁波シールドフィルム、シールドプリント配線板の製造方法、及び、シールドプリント配線板に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electromagnetic wave shielding film, a method for manufacturing a shield printed wiring board, and a shield printed wiring board.

フレキシブルプリント配線板は、小型化、高機能化が急速に進む携帯電話、ビデオカメラ、ノートパソコンなどの電子機器において、複雑な機構の中に回路を組み込むために多用されている。さらに、その優れた可撓性を生かして、プリンタヘッドのような可動部と制御部との接続にも利用されている。これらの電子機器では、電磁波シールド対策が必須となっており、装置内で使用されるフレキシブルプリント配線板においても、電磁波シールドフィルムを貼付する等の電磁波シールド対策を施したフレキシブルプリント配線板(以下、「シールドプリント配線板」とも記載する)が用いられるようになってきた。 Flexible printed wiring boards are widely used to incorporate circuits into complicated mechanisms in electronic devices such as mobile phones, video cameras, and notebook computers, which are rapidly becoming smaller and more functional. Furthermore, taking advantage of its excellent flexibility, it is also used to connect a movable part such as a printer head and a control part. These electronic devices require measures to shield against electromagnetic waves, and the flexible printed wiring boards used in the equipment must be equipped with electromagnetic shielding measures such as attaching an electromagnetic shielding film (hereafter referred to as "flexible printed wiring boards"). (Also described as a "shield printed wiring board") has come to be used.

一般的に、電磁波シールドフィルムは、最外層の絶縁層(保護層)と、電磁波をシールドするためのシールド層と、プリント配線板に貼付するための接着剤層とからなる。
シールドプリント配線板を製造する際には、電磁波シールドフィルムの接着剤層が、フレキシブルプリント配線板に接触するように、電磁波シールドフィルムがフレキシブルプリント配線板に貼付されることになる。
Generally, an electromagnetic wave shielding film consists of an outermost insulating layer (protective layer), a shield layer for shielding electromagnetic waves, and an adhesive layer for attaching to a printed wiring board.
When manufacturing the shield printed wiring board, the electromagnetic shielding film is attached to the flexible printed wiring board so that the adhesive layer of the electromagnetic shielding film is in contact with the flexible printed wiring board.

また、フレキシブルプリント配線板のグランド回路は、筐体等の外部グランドに電気的に接続されることになるが、フレキシブルプリント配線板に貼付された電磁波シールドフィルムを介して、プリント配線板のグランド回路と外部グランドとを電気的に接続することも行われている。 In addition, the ground circuit of the flexible printed wiring board is electrically connected to the external ground such as the housing. and an external ground are also electrically connected.

例えば、特許文献1には、電磁波シールドフィルムの接着剤層を導電性接着剤とし、当該導電性接着剤をフレキシブルプリント配線板のグランド回路に接触させ、さらに、接着剤層を外部グランドと接続させることにより、フレキシブルプリント配線板のグランド回路と外部グランドとを電気的に接続している。 For example, in Patent Document 1, the adhesive layer of the electromagnetic wave shielding film is made of a conductive adhesive, the conductive adhesive is brought into contact with the ground circuit of the flexible printed wiring board, and the adhesive layer is connected to the external ground. Thus, the ground circuit of the flexible printed wiring board and the external ground are electrically connected.

特開2004-095566号公報JP 2004-095566 A

特許文献1に記載の電磁波シールドフィルムの導電性接着剤層は接着性樹脂と導電性フィラーからなり、導電性接着剤層の導電性は導電性フィラーにより得られるものである。
つまり、導電性接着剤層とグランド回路との電気的接触は、導電性フィラーとグランド回路との接触により得られるものである。導電性接着剤とグランド回路との接触面には、導電性フィラーが存在しない部分もある。このような部分があるので、グランド回路-シールド層間の接続抵抗が高くなってしまうという問題がある。
The conductive adhesive layer of the electromagnetic wave shielding film described in Patent Document 1 is composed of an adhesive resin and a conductive filler, and the conductivity of the conductive adhesive layer is obtained by the conductive filler.
That is, electrical contact between the conductive adhesive layer and the ground circuit is obtained by contact between the conductive filler and the ground circuit. The contact surface between the conductive adhesive and the ground circuit has a portion where the conductive filler does not exist. Since there is such a portion, there is a problem that the connection resistance between the ground circuit and the shield layer increases.

本発明は上記問題を鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、グランド回路-シールド層間の接続抵抗が充分に小さいシールドプリント配線板を製造するための電磁波シールドフィルムを提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shield film for manufacturing a shield printed wiring board with sufficiently low connection resistance between the ground circuit and the shield layer. .

本発明の電磁波シールドフィルムは、保護層と、上記保護層に積層されたシールド層と、上記シールド層に積層された接着剤層とからなり、上記シールド層の上記接着剤層側には導電性バンプが形成されており、上記導電性バンプの体積は、30000~400000μmであることを特徴とする。The electromagnetic wave shielding film of the present invention comprises a protective layer, a shield layer laminated on the protective layer, and an adhesive layer laminated on the shield layer. A bump is formed, and the volume of the conductive bump is 30,000 to 400,000 μm 3 .

本発明の電磁波シールドフィルムは、ベースフィルムと、ベースフィルムの上に形成されたグランド回路を含むプリント回路と、プリント回路を覆うカバーレイとを備え、カバーレイにはグランド回路を露出する開口部が形成されているプリント配線板に貼付されることになる。 The electromagnetic wave shielding film of the present invention comprises a base film, a printed circuit including a ground circuit formed on the base film, and a coverlay covering the printed circuit, the coverlay having an opening exposing the ground circuit. It is attached to the printed wiring board that has been formed.

この際、導電性バンプは、接着剤層を貫き、グランド回路に接触することになる。
ここで、本発明の電磁波シールドフィルムでは、上記導電性バンプの体積は、30000~400000μmである。
導電性バンプの体積が上記範囲内であると、導電性バンプがグランド回路にしっかり接触し、グランド回路-シールド層間の接続抵抗が小さくなる。
導電性バンプの体積が30000μm未満であると、導電性バンプがグランド回路に接触しにくくなり、グランド回路-シールド層間の接続抵抗が大きくなりやすくなる。
導電性バンプの体積が400000μmを超えると、接着剤層において、導電性バンプが占める割合が大きくなる。
そのため、接着剤層がある領域全体の比誘電率及び誘電正接が高くなりやすくなる。従って、伝送特性が悪化する。
At this time, the conductive bump penetrates the adhesive layer and comes into contact with the ground circuit.
Here, in the electromagnetic wave shielding film of the present invention, the volume of the conductive bumps is 30,000 to 400,000 μm 3 .
When the volume of the conductive bump is within the above range, the conductive bump is firmly in contact with the ground circuit, and the connection resistance between the ground circuit and the shield layer is reduced.
If the volume of the conductive bump is less than 30000 μm 3 , the conductive bump is less likely to come into contact with the ground circuit, and the connection resistance between the ground circuit and the shield layer tends to increase.
When the volume of the conductive bump exceeds 400000 μm 3 , the conductive bump occupies a large proportion of the adhesive layer.
Therefore, the relative permittivity and dielectric loss tangent of the entire region where the adhesive layer is present tend to increase. Therefore, transmission characteristics deteriorate.

本発明の電磁波シールドフィルムでは、上記導電性バンプの形状は、錐体状であることが望ましい。
導電性バンプの形状が錐体状であると、導電性バンプが接着剤層を貫きやすくなり、グランド回路と接触しやすくなる。
そのため、グランド回路-シールド層間の接続抵抗が充分に小さくなる。
In the electromagnetic wave shielding film of the present invention, the shape of the conductive bumps is desirably pyramidal.
If the conductive bump has a conical shape, the conductive bump can easily penetrate the adhesive layer and easily come into contact with the ground circuit.
Therefore, the connection resistance between the ground circuit and the shield layer is sufficiently reduced.

本発明の電磁波シールドフィルムでは、上記導電性バンプが複数形成されていることが望ましい。
さらに、複数の上記導電性バンプの高さは、略同一であることが望ましい。
複数の導電性バンプの高さが略同一であると、均等に複数の導電性バンプが接着剤層を貫き、グランド回路と接触しやすくなる。
そのため、グランド回路-シールド層間の接続抵抗を小さくすることができる。
In the electromagnetic wave shielding film of the present invention, it is desirable that a plurality of conductive bumps are formed.
Furthermore, it is desirable that the heights of the plurality of conductive bumps are substantially the same.
When the heights of the plurality of conductive bumps are substantially the same, the plurality of conductive bumps evenly pierce the adhesive layer and easily come into contact with the ground circuit.
Therefore, the connection resistance between the ground circuit and the shield layer can be reduced.

本発明の電磁波シールドフィルムでは、上記導電性バンプは、樹脂組成物と導電性フィラーとからなっていてもよい。
すなわち、導電性バンプは、導電性ペーストからなっていてもよい。
導電性ペーストを用いることにより、導電性バンプを任意の位置に任意の形状で容易に形成することができる。
In the electromagnetic wave shielding film of the present invention, the conductive bumps may be made of a resin composition and a conductive filler.
That is, the conductive bumps may be made of conductive paste.
By using the conductive paste, the conductive bumps can be easily formed at any position and with any shape.

本発明の電磁波シールドフィルムでは、上記接着剤層を構成する樹脂の周波数1GHz、23℃における、比誘電率が1~5であり、誘電正接が0.0001~0.03であることが望ましい。
このような範囲であると、本発明の電磁波シールドフィルムを用いて製造するシールドプリント配線板の伝送特性を向上させることができる。
In the electromagnetic wave shielding film of the present invention, it is desirable that the resin constituting the adhesive layer has a dielectric constant of 1 to 5 and a dielectric loss tangent of 0.0001 to 0.03 at a frequency of 1 GHz and 23°C.
Within such a range, the transmission characteristics of the shield printed wiring board manufactured using the electromagnetic wave shielding film of the present invention can be improved.

本発明の電磁波シールドフィルムでは、上記接着剤層は、絶縁性接着剤層であることが望ましい。
また、本発明の電磁波シールドフィルムは、接着剤層によりプリント配線板に接着されることになる。
上記接着剤層が絶縁性接着剤層である場合、絶縁接着剤層は導電性フィラー等の導電性物質を含まないため、比誘電率及び誘電正接が充分に小さくなる。
従って、本発明の電磁波シールドフィルムを用いて製造されたシールドプリント配線板では、伝送特性が良好になる。
In the electromagnetic wave shielding film of the present invention, the adhesive layer is desirably an insulating adhesive layer.
Also, the electromagnetic wave shielding film of the present invention is adhered to the printed wiring board by the adhesive layer.
When the adhesive layer is an insulating adhesive layer, the insulating adhesive layer does not contain a conductive substance such as a conductive filler, so that the dielectric constant and the dielectric loss tangent are sufficiently small.
Therefore, a shield printed wiring board manufactured using the electromagnetic wave shielding film of the present invention has good transmission characteristics.

本発明のシールドプリント配線板の製造方法は、上記本発明の電磁波シールドフィルムを準備する電磁波シールドフィルム準備工程と、ベースフィルムと、上記ベースフィルムの上に形成されたグランド回路を含むプリント回路と、上記プリント回路を覆うカバーレイとを備え、上記カバーレイには上記グランド回路を露出する開口部が形成されているプリント配線板を準備するプリント配線板準備工程と、上記電磁波シールドフィルムの接着剤層が、上記プリント配線板のカバーレイに接触するように上記プリント配線板に上記電磁波シールドフィルムを配置する電磁波シールドフィルム配置工程と、上記電磁波シールドフィルムの導電性バンプが、上記電磁波シールドフィルムの接着剤層を貫き、上記プリント配線板のグランド回路に接触するように加圧する加圧工程とを含むことを特徴とする。 A method for manufacturing a shield printed wiring board of the present invention includes an electromagnetic shielding film preparing step of preparing the electromagnetic shielding film of the present invention, a base film, a printed circuit including a ground circuit formed on the base film, a printed wiring board preparing step of preparing a printed wiring board comprising a coverlay covering the printed circuit, the coverlay having an opening for exposing the ground circuit; and an adhesive layer of the electromagnetic wave shielding film. However, an electromagnetic shielding film arranging step of arranging the electromagnetic shielding film on the printed wiring board so as to be in contact with the coverlay of the printed wiring board, and a conductive bump of the electromagnetic shielding film is an adhesive of the electromagnetic shielding film and a pressurizing step of penetrating the layer and applying pressure so as to come into contact with the ground circuit of the printed wiring board.

本発明のシールドプリント配線板の製造方法は、上記本発明の電磁波シールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の製造方法である。
そのため、得られたシールドプリント配線板では、グランド回路-シールド層間の接続抵抗が低くなる。
The method for producing a shield printed wiring board of the present invention is a method for producing a shield printed wiring board using the electromagnetic wave shielding film of the present invention.
Therefore, the obtained shield printed wiring board has a low connection resistance between the ground circuit and the shield layer.

本発明のシールドプリント配線板は、ベースフィルムと、上記ベースフィルムの上に形成されたグランド回路を含むプリント回路と、上記プリント回路を覆うカバーレイとを備え、上記カバーレイには上記グランド回路を露出する開口部が形成されているプリント配線板と、上記本発明の電磁波シールドフィルムとからなり、上記電磁波シールドフィルムの導電性バンプは、上記接着剤層を貫き、上記プリント配線板のグランド回路に接続していることを特徴とする。 A shield printed wiring board of the present invention comprises a base film, a printed circuit including a ground circuit formed on the base film, and a coverlay covering the printed circuit, wherein the coverlay includes the ground circuit. It comprises a printed wiring board having an exposed opening and the electromagnetic wave shielding film of the present invention, and the conductive bumps of the electromagnetic wave shielding film penetrate the adhesive layer and connect to the ground circuit of the printed wiring board. characterized by being connected.

本発明のシールドプリント配線板では、上記本発明の電磁波シールドフィルムの導電性バンプが、接着剤層を貫き、プリント配線板のグランド回路に接続している。
そのため、電磁波シールドフィルムの導電性バンプがプリント配線板のグランド回路にしっかり接触し、グランド回路-シールド層間の接続抵抗が小さくなる。
In the shield printed wiring board of the present invention, the conductive bumps of the electromagnetic wave shielding film of the present invention pierce the adhesive layer and are connected to the ground circuit of the printed wiring board.
Therefore, the conductive bumps of the electromagnetic wave shielding film are firmly in contact with the ground circuit of the printed wiring board, and the connection resistance between the ground circuit and the shield layer is reduced.

本発明の電磁波シールドフィルムは、ベースフィルムと、ベースフィルムの上に形成されたグランド回路を含むプリント回路と、プリント回路を覆うカバーレイとを備え、カバーレイにはグランド回路を露出する開口部が形成されているプリント配線板に貼付されることになる。 The electromagnetic wave shielding film of the present invention comprises a base film, a printed circuit including a ground circuit formed on the base film, and a coverlay covering the printed circuit, the coverlay having an opening exposing the ground circuit. It is attached to the printed wiring board that has been formed.

この際、導電性バンプは、接着剤層を貫き、グランド回路に接触することになる。
ここで、本発明の電磁波シールドフィルムでは、上記導電性バンプの体積は、30000~400000μmである。
導電性バンプの体積が上記範囲内であると、導電性バンプがグランド回路にしっかり接触し、グランド回路-シールド層間の接続抵抗が小さくなる。
At this time, the conductive bump penetrates the adhesive layer and comes into contact with the ground circuit.
Here, in the electromagnetic wave shielding film of the present invention, the volume of the conductive bumps is 30,000 to 400,000 μm 3 .
When the volume of the conductive bump is within the above range, the conductive bump is firmly in contact with the ground circuit, and the connection resistance between the ground circuit and the shield layer is reduced.

図1は、本発明の電磁波シールドフィルムの一例を模式的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the electromagnetic wave shielding film of the present invention. 図2は、本発明の電磁波シールドフィルムが用いられたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield printed wiring board using the electromagnetic wave shielding film of the present invention. 図3Aは、本発明のシールドプリント配線板の製造方法の一例を工程順に示す工程図である。FIG. 3A is a process diagram showing an example of the manufacturing method of the shield printed wiring board of the present invention in order of steps. 図3Bは、本発明のシールドプリント配線板の製造方法の一例を工程順に示す工程図である。FIG. 3B is a process drawing showing an example of the manufacturing method of the shield printed wiring board of the present invention in order of steps. 図3Cは、本発明のシールドプリント配線板の製造方法の一例を工程順に示す工程図である。FIG. 3C is a process drawing showing an example of the manufacturing method of the shield printed wiring board of the present invention in order of steps. 図3Dは、本発明のシールドプリント配線板の製造方法の一例を工程順に示す工程図である。FIG. 3D is a process diagram showing an example of the manufacturing method of the shield printed wiring board of the present invention in order of steps. 図4は、実施例1に係る電磁波シールドフィルムの断面写真である。4 is a cross-sectional photograph of the electromagnetic wave shielding film according to Example 1. FIG. 図5は、伝送損失測定試験における電磁波シールドフィルムの伝送損失の測定方法を模式的に示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram schematically showing a method of measuring the transmission loss of the electromagnetic wave shielding film in the transmission loss measurement test. 図6は、接続抵抗測定試験における電磁波シールドフィルムの抵抗値の測定方法を模式的に示す模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram schematically showing a method of measuring the resistance value of the electromagnetic wave shielding film in the connection resistance measurement test.

以下、本発明の電磁波シールドフィルムについて具体的に説明する。しかしながら、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜変更して適用することができる。 The electromagnetic wave shielding film of the present invention will be specifically described below. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and can be appropriately modified and applied without changing the gist of the present invention.

本発明の電磁波シールドフィルムは、保護層と、上記保護層に積層されたシールド層と、上記シールド層に積層された接着剤層とからなり、上記接着剤層側の上記シールド層には導電性バンプが形成されていることを特徴とする。 The electromagnetic wave shielding film of the present invention comprises a protective layer, a shield layer laminated on the protective layer, and an adhesive layer laminated on the shield layer. A bump is formed.

以下に、本発明の電磁波シールドフィルムの各構成について図面を用いて説明する。
図1は、本発明の電磁波シールドフィルムの一例を模式的に示す断面図である。
図2は、本発明の電磁波シールドフィルムが用いられたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。
Each configuration of the electromagnetic wave shielding film of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the electromagnetic wave shielding film of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield printed wiring board using the electromagnetic wave shielding film of the present invention.

図1に示すように、電磁波シールドフィルム10は、保護層11と、保護層11に積層されたシールド層12と、シールド層12に積層された接着剤層13とからなる。
また、シールド層12の接着剤層13側には複数の導電性バンプ14が形成されている。
As shown in FIG. 1 , the electromagnetic wave shielding film 10 comprises a protective layer 11 , a shield layer 12 laminated on the protective layer 11 , and an adhesive layer 13 laminated on the shield layer 12 .
A plurality of conductive bumps 14 are formed on the adhesive layer 13 side of the shield layer 12 .

なお、図2に示すように、電磁波シールドフィルム10は、ベースフィルム21と、ベースフィルム21の上に形成された複数のグランド回路22aを含むプリント回路22と、プリント回路22を覆うカバーレイ23とを備え、カバーレイ23にはグランド回路22aを露出する開口部23aが形成されているプリント配線板20に貼付され、シールドプリント配線板30を製造するために用いられる。 As shown in FIG. 2, the electromagnetic wave shielding film 10 includes a base film 21, a printed circuit 22 including a plurality of ground circuits 22a formed on the base film 21, and a coverlay 23 covering the printed circuit 22. , and the coverlay 23 is attached to the printed wiring board 20 in which the opening 23 a is formed to expose the ground circuit 22 a and is used to manufacture the shield printed wiring board 30 .

(保護層)
保護層11の材料は特に限定されないが、熱可塑性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物、活性エネルギー線硬化性組成物等から構成されていることが望ましい。
(protective layer)
Although the material of the protective layer 11 is not particularly limited, it is preferably composed of a thermoplastic resin composition, a thermosetting resin composition, an active energy ray-curable composition, or the like.

上記熱可塑性樹脂組成物としては、特に限定されないが、スチレン系樹脂組成物、酢酸ビニル系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、ポリエチレン系樹脂組成物、ポリプロピレン系樹脂組成物、イミド系樹脂組成物、アクリル系樹脂組成物等が挙げられる。 Examples of the thermoplastic resin composition include, but are not limited to, styrene resin compositions, vinyl acetate resin compositions, polyester resin compositions, polyethylene resin compositions, polypropylene resin compositions, and imide resin compositions. , acrylic resin compositions, and the like.

上記熱硬化性樹脂組成物としては、特に限定されないが、エポキシ系樹脂組成物、ウレタン系樹脂組成物、ウレタンウレア系樹脂組成物、スチレン系樹脂組成物、フェノール系樹脂組成物、メラミン系樹脂組成物、アクリル系樹脂組成物及びアルキッド系樹脂組成物からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂組成物が挙げられる。 Examples of the thermosetting resin composition include, but are not limited to, epoxy-based resin compositions, urethane-based resin compositions, urethane-urea-based resin compositions, styrene-based resin compositions, phenol-based resin compositions, and melamine-based resin compositions. at least one resin composition selected from the group consisting of products, acrylic resin compositions and alkyd resin compositions.

上記活性エネルギー線硬化性組成物としては、特に限定されないが、例えば、分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する重合性化合物等が挙げられる。 Examples of the active energy ray-curable composition include, but are not limited to, polymerizable compounds having at least two (meth)acryloyloxy groups in the molecule.

保護層11は、1種単独の材料から構成されていてもよく、2種以上の材料から構成されていてもよい。 The protective layer 11 may be composed of a single material, or may be composed of two or more materials.

保護層11には、必要に応じて、硬化促進剤、粘着性付与剤、酸化防止剤、顔料、染料、可塑剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レベリング剤、充填剤、難燃剤、粘度調節剤、ブロッキング防止剤等が含まれていてもよい。 The protective layer 11 may optionally contain a curing accelerator, a tackifier, an antioxidant, a pigment, a dye, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an antifoaming agent, a leveling agent, a filler, a flame retardant, and a viscosity adjuster. agents, anti-blocking agents and the like may also be included.

保護層11の厚さは、特に限定されず、必要に応じて適宜設定することができるが、1~15μmであることが望ましく、3~10μmであることがより望ましい。
保護層の厚さが1μm未満であると、薄すぎるのでシールド層及び接着剤層を充分に保護しにくくなる。
保護層の厚さが15μmを超えると、厚すぎるので保護層が折り曲がりにくくなり、また、保護層自身が破損しやすくなる。そのため、耐折り曲げ性が要求される部材へ適用しにくくなる。
The thickness of the protective layer 11 is not particularly limited and can be appropriately set as required, but is preferably 1 to 15 μm, more preferably 3 to 10 μm.
If the thickness of the protective layer is less than 1 μm, it is too thin to sufficiently protect the shield layer and the adhesive layer.
If the thickness of the protective layer exceeds 15 μm, the protective layer is too thick to be bent, and the protective layer itself is likely to be damaged. Therefore, it becomes difficult to apply to members requiring bending resistance.

(シールド層)
シールド層12は、電磁波をシールドすることができれば、その材料は導電性の材料であれば特に限定されず、例えば、金属からなっていてもよく、導電性樹脂からなっていてもよい。
(shield layer)
The material of the shield layer 12 is not particularly limited as long as it is a conductive material as long as it can shield electromagnetic waves. For example, it may be made of a metal or a conductive resin.

シールド層12が金属からなる場合、金属としては金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、スズ、パラジウム、クロム、チタン、亜鉛等が挙げられる。これらの中では、銅であることが望ましい。銅は、導電性及び経済性の観点からシールド層にとって好適な材料である。 When the shield layer 12 is made of metal, the metal includes gold, silver, copper, aluminum, nickel, tin, palladium, chromium, titanium, zinc, and the like. Among these, copper is desirable. Copper is a preferred material for the shield layer from the standpoint of conductivity and economy.

なお、シールド層12は、上記金属の合金からなっていてもよい。
また、シールド層12は、金属箔であってもよく、スパッタリングや無電解めっき、電解めっき等の方法で形成された金属膜であってもよい。
The shield layer 12 may be made of an alloy of the above metals.
Also, the shield layer 12 may be a metal foil, or may be a metal film formed by a method such as sputtering, electroless plating, or electrolytic plating.

シールド層12が導電性樹脂からなる場合、シールド層12は、導電性粒子と樹脂から構成されていてもよい。 When the shield layer 12 is made of a conductive resin, the shield layer 12 may be made of conductive particles and resin.

導電性粒子としては、特に限定されないが、金属微粒子、カーボンナノチューブ、炭素繊維、金属繊維等であってもよい。 The conductive particles are not particularly limited, but may be fine metal particles, carbon nanotubes, carbon fibers, metal fibers, or the like.

導電性粒子が金属微粒子である場合、金属微粒子としては、特に限定されないが、銀粉、銅粉、ニッケル粉、ハンダ粉、アルミニウム粉、銅粉に銀めっきを施した銀コート銅粉、高分子微粒子やガラスビーズ等を金属で被覆した微粒子等であってもよい。
これらの中では、経済性の観点から、安価に入手できる銅粉又は銀コート銅粉であることが望ましい。
When the conductive particles are metal microparticles, the metal microparticles are not particularly limited, but include silver powder, copper powder, nickel powder, solder powder, aluminum powder, silver-coated copper powder obtained by plating copper powder with silver, and polymer microparticles. Fine particles obtained by coating glass beads or the like with a metal may also be used.
Among these, copper powder or silver-coated copper powder, which are available at low cost, are desirable from the viewpoint of economy.

導電性粒子の平均粒子径D50は、特に限定されないが、0.5~15.0μmであることが望ましい。導電性粒子の平均粒子径が0.5μm以上であると、導電性樹脂の導電性が良好となる。導電性粒子の平均粒子径が15.0μm以下であると、導電性樹脂を薄くすることができる。The average particle diameter D50 of the conductive particles is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 15.0 μm. When the average particle size of the conductive particles is 0.5 μm or more, the conductive resin has good conductivity. When the average particle size of the conductive particles is 15.0 µm or less, the conductive resin can be thinned.

導電性粒子の形状は、特に限定されないが、球状、扁平状、リン片状、デンドライト状、棒状、繊維状等から適宜選択することができる。 The shape of the conductive particles is not particularly limited, but can be appropriately selected from spherical, flat, scale-like, dendrite-like, rod-like, fibrous and the like.

導電性粒子の配合量は、特に限定されないが、15~80質量%であることが望ましく、15~60質量%であることがより望ましい。 The amount of the conductive particles to be blended is not particularly limited, but is preferably 15 to 80% by mass, more preferably 15 to 60% by mass.

樹脂としては、特に限定されないが、スチレン系樹脂組成物、酢酸ビニル系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、ポリエチレン系樹脂組成物、ポリプロピレン系樹脂組成物、イミド系樹脂組成物、アミド系樹脂組成物、アクリル系樹脂組成物等の熱可塑性樹脂組成物や、フェノール系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ウレタン系樹脂組成物、メラミン系樹脂組成物、アルキッド系樹脂組成物等の熱硬化性樹脂組成物等が挙げられる。 Examples of resins include, but are not limited to, styrene resin compositions, vinyl acetate resin compositions, polyester resin compositions, polyethylene resin compositions, polypropylene resin compositions, imide resin compositions, and amide resin compositions. thermosetting materials such as thermoplastic resin compositions such as acrylic resin compositions, phenolic resin compositions, epoxy resin compositions, urethane resin compositions, melamine resin compositions, alkyd resin compositions, etc. A resin composition etc. are mentioned.

(導電性バンプ)
導電性バンプ14は、接着剤層13を貫き、グランド回路22aに接触することになる。
導電性バンプ14を、グランド回路22aと確実に接触するように設計することにより、グランド回路22a-導電性バンプ14間の接続抵抗を小さくすることができる。
(Conductive bump)
The conductive bump 14 penetrates the adhesive layer 13 and contacts the ground circuit 22a.
The connection resistance between the ground circuit 22a and the conductive bumps 14 can be reduced by designing the conductive bumps 14 to reliably contact the ground circuit 22a.

導電性バンプ14の形状は、特に限定されないが、円柱、三角柱、四角柱等の柱体状であってもよく、円錐、三角錐、四角錐等の錐体状であってもよい。
これらの中では、錐体状であることが望ましい。
導電性バンプ14の形状が錐体状であると、導電性バンプ14が接着剤層13を貫きやすくなり、グランド回路22aと接触しやすくなる。
そのため、グランド回路22a-導電性バンプ14間の接続抵抗が充分に小さくなる。
The shape of the conductive bumps 14 is not particularly limited, but may be a columnar shape such as a cylinder, a triangular column, or a square column, or a pyramidal shape such as a cone, a triangular pyramid, or a quadrangular pyramid.
Among these, a conical shape is desirable.
When the conductive bump 14 has a conical shape, the conductive bump 14 easily penetrates the adhesive layer 13 and easily comes into contact with the ground circuit 22a.
Therefore, the connection resistance between the ground circuit 22a and the conductive bump 14 is sufficiently reduced.

1個当たりの導電性バンプ14の体積は、30000~400000μmであることが望ましく、50000~400000μmであることがより望ましい。
1個当たりの導電性バンプ14の体積が上記範囲内であると、導電性バンプ14がグランド回路22aにしっかり接触し、グランド回路22a-導電性バンプ14間の接続抵抗が小さくなる。
1個当たりの導電性バンプの体積が30000μm未満であると、導電性バンプがグランド回路に接触しにくくなり、グランド回路-シールド層間の接続抵抗が大きくなりやすくなる。
1個当たりの導電性バンプの体積が400000μmを超えると、接着剤層において、導電性バンプが占める割合が大きくなる。
そのため、接着剤層がある領域全体の比誘電率及び誘電正接が高くなりやすくなる。従って、伝送特性が悪化しやすくなる。
The volume of each conductive bump 14 is desirably 30,000 to 400,000 μm 3 , more desirably 50,000 to 400,000 μm 3 .
When the volume of each conductive bump 14 is within the above range, the conductive bump 14 is in firm contact with the ground circuit 22a, and the connection resistance between the ground circuit 22a and the conductive bump 14 is reduced.
If the volume of each conductive bump is less than 30000 μm 3 , the conductive bumps are less likely to come into contact with the ground circuit, and the connection resistance between the ground circuit and the shield layer tends to increase.
If the volume of each conductive bump exceeds 400000 μm 3 , the ratio of the conductive bumps in the adhesive layer increases.
Therefore, the relative permittivity and dielectric loss tangent of the entire region where the adhesive layer is present tend to increase. Therefore, transmission characteristics tend to deteriorate.

複数の導電性バンプ14の高さ(図1中、符号「H」で示す高さ)は略同一であることが望ましい。
複数の導電性バンプ14の高さが略同一であると、均等に複数の導電性バンプ14が接着剤層13を貫き、グランド回路22aと接触しやすくなる。
そのため、グランド回路22a-導電性バンプ14間の接続抵抗を小さくすることができる。
It is desirable that the heights of the plurality of conductive bumps 14 (the height indicated by symbol "H" in FIG. 1) are approximately the same.
When the heights of the plurality of conductive bumps 14 are substantially the same, the plurality of conductive bumps 14 evenly pierce the adhesive layer 13 and easily come into contact with the ground circuit 22a.
Therefore, the connection resistance between the ground circuit 22a and the conductive bump 14 can be reduced.

導電性バンプ14の高さは、1~50μmであることが望ましく、5~30μmであることがより望ましい。 The height of the conductive bumps 14 is preferably 1-50 μm, more preferably 5-30 μm.

なお、導電性バンプの形状、高さ、体積は、コンフォーカル顕微鏡(Lasertec社製、OPTELICS HYBRID、対物レンズ20倍)を用いて、バンプを形成したシールド層の表面の任意の5か所を測定した後、データ解析ソフト(LMeye7)を用い解析できる。2値化のパラメータは高さで、自動しきい値アルゴリズムはKittler法を用いた。 The shape, height, and volume of the conductive bumps were measured at any five points on the surface of the shield layer on which the bumps were formed using a confocal microscope (manufactured by Lasertec, OPTELICS HYBRID, objective lens 20x). After that, it can be analyzed using data analysis software (LMeye7). The binarization parameter was height, and the Kittler method was used as the automatic threshold algorithm.

導電性バンプ14の配置位置は、特に限定されないが、グランド回路22aと接触する位置のみに配置されていてもよく、等間隔に配列されていてもよい。 Although the arrangement position of the conductive bumps 14 is not particularly limited, they may be arranged only at the positions in contact with the ground circuit 22a, or may be arranged at regular intervals.

導電性バンプ14は、樹脂組成物と導電性フィラーとからなることが望ましい。
すなわち、導電性バンプ14は、導電性ペーストからなっていてもよい。
導電性ペーストを用いることにより、導電性バンプ14を任意の位置に任意の形状で容易に形成することができる。
また、導電性バンプ14は、スクリーン印刷により形成されていてもよい。
導電性ペーストを用いてスクリーン印刷により導電性バンプ14を形成する場合、導電性バンプ14を任意の位置に任意の形状で容易にかつ効率よく形成することができる。
The conductive bumps 14 are desirably made of a resin composition and a conductive filler.
That is, the conductive bumps 14 may be made of conductive paste.
By using the conductive paste, the conductive bumps 14 can be easily formed in arbitrary positions and in arbitrary shapes.
Alternatively, the conductive bumps 14 may be formed by screen printing.
When the conductive bumps 14 are formed by screen printing using a conductive paste, the conductive bumps 14 can be easily and efficiently formed at any position and in any shape.

導電性バンプ14が樹脂組成物と導電性フィラーとからなる場合、樹脂組成物としては、特に限定されないが、スチレン系樹脂組成物、酢酸ビニル系樹脂組成物、ポリエステル系樹脂組成物、ポリエチレン系樹脂組成物、ポリプロピレン系樹脂組成物、イミド系樹脂組成物、アミド系樹脂組成物、アクリル系樹脂組成物等の熱可塑性樹脂組成物や、フェノール系樹脂組成物、エポキシ系樹脂組成物、ウレタン系樹脂組成物、メラミン系樹脂組成物、アルキッド系樹脂組成物等の熱硬化性樹脂組成物等を用いることができる。
樹脂組成物の材料はこれらの1種単独であってもよく、2種以上の組み合わせであってもよい。
When the conductive bumps 14 are made of a resin composition and a conductive filler, the resin composition is not particularly limited, but may be a styrene-based resin composition, a vinyl acetate-based resin composition, a polyester-based resin composition, or a polyethylene-based resin. Compositions, polypropylene resin compositions, imide resin compositions, amide resin compositions, thermoplastic resin compositions such as acrylic resin compositions, phenol resin compositions, epoxy resin compositions, urethane resins A composition, a thermosetting resin composition such as a melamine resin composition, an alkyd resin composition, and the like can be used.
The material of the resin composition may be one of these alone or a combination of two or more.

導電性バンプ14が樹脂組成物と導電性フィラーとからなる場合、導電性フィラーとしては、特に限定されないが、金属微粒子、カーボンナノチューブ、炭素繊維、金属繊維等であってもよい。 When the conductive bumps 14 are made of a resin composition and a conductive filler, the conductive filler is not particularly limited, but may be metal microparticles, carbon nanotubes, carbon fibers, metal fibers, or the like.

導電性フィラーが金属微粒子である場合、金属微粒子としては、特に限定されないが、銀粉、銅粉、ニッケル粉、ハンダ粉、アルミニウム粉、銅粉に銀めっきを施した銀コート銅粉、高分子微粒子やガラスビーズ等を金属で被覆した微粒子等であってもよい。
これらの中では、経済性の観点から、安価に入手できる銅粉又は銀コート銅粉であることが望ましい。
When the conductive filler is a fine metal particle, the fine metal particle is not particularly limited, but may be silver powder, copper powder, nickel powder, solder powder, aluminum powder, silver-coated copper powder obtained by plating copper powder with silver, or polymer fine particles. Fine particles obtained by coating glass beads or the like with a metal may also be used.
Among these, copper powder or silver-coated copper powder, which are available at low cost, are desirable from the viewpoint of economy.

導電性フィラーの平均粒子径D50は、特に限定されないが、0.5~15.0μmであることが望ましい。Although the average particle diameter D50 of the conductive filler is not particularly limited, it is preferably 0.5 to 15.0 μm.

導電性フィラーの形状は、特に限定されないが、球状、扁平状、リン片状、デンドライト状、棒状、繊維状等から適宜選択することができる。 The shape of the conductive filler is not particularly limited, but can be appropriately selected from spherical, flat, scaly, dendritic, rod-like, fibrous and the like.

導電性バンプ14が樹脂組成物と導電性フィラーとからなる場合、導電性フィラーの重量割合は、30~99%であることが望ましく、50~99%であることがより望ましい。 When the conductive bumps 14 are composed of the resin composition and the conductive filler, the weight ratio of the conductive filler is desirably 30 to 99%, more desirably 50 to 99%.

また、導電性バンプは、めっき法や蒸着法等により形成された金属からなっていてもよい。
この場合、導電性バンプは、銅、銀、スズ、金、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、及びこれらのいずれか1つ以上を含む合金からなることが望ましい。
めっき法や蒸着法は従来の方法を用いることができる。
Also, the conductive bumps may be made of metal formed by a plating method, a vapor deposition method, or the like.
In this case, the conductive bumps are preferably made of copper, silver, tin, gold, palladium, aluminum, chromium, titanium, zinc, or alloys containing any one or more of these.
A conventional method can be used for the plating method and vapor deposition method.

(接着剤層)
上記の通り電磁波シールドフィルム10は、接着剤層13によりプリント配線板20に接着されることになる。
(adhesive layer)
As described above, the electromagnetic wave shielding film 10 is adhered to the printed wiring board 20 with the adhesive layer 13 .

電磁波シールドフィルム10では、接着剤層13のシールド層12と反対側の面は平坦であることが望ましい。
この面が平坦であると、複数の導電性バンプ14が接着剤層13を均等に貫くことになる。
そのため、複数の導電性バンプ14が均等に複数のグランド回路22aに接触することになる。従って、グランド回路-シールド層間の接続抵抗を小さくすることができる。
In the electromagnetic wave shielding film 10, the surface of the adhesive layer 13 opposite to the shield layer 12 is desirably flat.
If this surface is flat, the plurality of conductive bumps 14 will penetrate the adhesive layer 13 evenly.
Therefore, the plurality of conductive bumps 14 are evenly in contact with the plurality of ground circuits 22a. Therefore, the connection resistance between the ground circuit and the shield layer can be reduced.

電磁波シールドフィルム10では、接着剤層13の厚さは、5~30μmであることが望ましく、8~20μmであることがより望ましい。
接着剤層の厚さが5μm未満であると、接着剤層を構成する樹脂の量が少ないため、充分な接着性能が得られにくい。また、破損しやすくなる。
接着剤層の厚さが30μmを超えると、全体が厚くなり、柔軟性が失われやすい。また、導電性バンプが接着剤層を貫きにくくなる。
In the electromagnetic wave shielding film 10, the thickness of the adhesive layer 13 is desirably 5-30 μm, more desirably 8-20 μm.
If the thickness of the adhesive layer is less than 5 μm, the amount of resin constituting the adhesive layer is too small to obtain sufficient adhesive performance. Moreover, it becomes easy to damage.
If the thickness of the adhesive layer exceeds 30 μm, the entire thickness is increased and the flexibility is likely to be lost. Also, the conductive bumps are less likely to penetrate the adhesive layer.

電磁波シールドフィルム10では、接着剤層13を構成する樹脂の周波数1GHz、23℃における、比誘電率は1~5であることが望ましく、2~4であることがより望ましい。
また、接着剤層13を構成する樹脂の周波数1GHz、23℃における、誘電正接は0.0001~0.03であることが望ましく、0.001~0.002であることがより望ましい。
このような範囲であると、電磁波シールドフィルム10を用いて製造するシールドプリント配線板30の伝送特性を向上させることができる。
In the electromagnetic wave shielding film 10, the dielectric constant of the resin forming the adhesive layer 13 is desirably 1 to 5, more desirably 2 to 4, at a frequency of 1 GHz and 23.degree.
Further, the dielectric loss tangent of the resin constituting the adhesive layer 13 at a frequency of 1 GHz and 23° C. is preferably 0.0001 to 0.03, more preferably 0.001 to 0.002.
Within such a range, the transmission characteristics of the shield printed wiring board 30 manufactured using the electromagnetic wave shielding film 10 can be improved.

なお、電磁波シールドフィルム10では、接着剤層13は、導電性絶着剤層であってもよく、絶縁性接着剤層であってもよいが、接着剤層13は、比誘電率及び誘電正接を低くする観点から絶縁性接着剤層であることが望ましい。
上記の通り、電磁波シールドフィルム10は、接着剤層13によりプリント配線板30に接着されることになる。
上記接着剤層13が絶縁性接着剤層である場合、接着剤層13は導電性フィラー等の導電性物質を含まないため、比誘電率及び誘電正接が充分に小さくなる。この場合、電磁波シールドフィルム10を用いて製造されたシールドプリント配線板30では、伝送特性が良好になる。
In the electromagnetic wave shielding film 10, the adhesive layer 13 may be a conductive insulating layer or an insulating adhesive layer. From the viewpoint of lowering , the insulating adhesive layer is desirable.
As described above, the electromagnetic wave shielding film 10 is adhered to the printed wiring board 30 with the adhesive layer 13 .
When the adhesive layer 13 is an insulating adhesive layer, since the adhesive layer 13 does not contain a conductive substance such as a conductive filler, the dielectric constant and dielectric loss tangent are sufficiently small. In this case, the shield printed wiring board 30 manufactured using the electromagnetic wave shielding film 10 has good transmission characteristics.

なお、接着剤層13が導電性を有する場合、接着剤層13は、導電性フィラー等の導電性物質を含むことになる。接着剤層13が、このような導電性物質を多く含むと、接着剤層13全体の比誘電率及び誘電正接が高くなりやすい。
その一方で、製造されるシールドプリント配線板30の伝送特性を良好にするためには、接着剤層13全体の比誘電率及び誘電正接は低い方が望ましい。
そのため、接着剤層13が導電性物質を含む場合であったとしても、接着剤層13全体の比誘電率及び誘電正接が低くなるように、その含有量は少ない方が望ましい。
In addition, when the adhesive layer 13 has conductivity, the adhesive layer 13 contains a conductive substance such as a conductive filler. If the adhesive layer 13 contains a large amount of such a conductive substance, the dielectric constant and dielectric loss tangent of the entire adhesive layer 13 tend to increase.
On the other hand, in order to improve the transmission characteristics of the manufactured shield printed wiring board 30, it is desirable that the dielectric constant and dielectric loss tangent of the entire adhesive layer 13 are low.
Therefore, even if the adhesive layer 13 contains a conductive substance, it is desirable that the content be small so that the dielectric constant and dielectric loss tangent of the entire adhesive layer 13 are low.

接着剤層13は、熱硬化性樹脂からなっていてもよく、熱可塑性樹脂からなっていてもよい。 The adhesive layer 13 may be made of a thermosetting resin or may be made of a thermoplastic resin.

熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、ポリアミド系樹脂及びアルキッド系樹脂等が挙げられる。
また、熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、イミド系樹脂、及び、アクリル系樹脂が挙げられる。
また、エポキシ樹脂としては、アミド変性エポキシ樹脂であることがより望ましい。
これらの樹脂は、接着剤層を構成する樹脂として適している。
接着剤層の材料はこれらの1種単独であってもよく、2種以上の組み合わせであってもよい。
Examples of thermosetting resins include phenol-based resins, epoxy-based resins, urethane-based resins, melamine-based resins, polyamide-based resins, and alkyd-based resins.
Examples of thermoplastic resins include styrene-based resins, vinyl acetate-based resins, polyester-based resins, polyethylene-based resins, polypropylene-based resins, imide-based resins, and acrylic-based resins.
Further, the epoxy resin is more preferably an amide-modified epoxy resin.
These resins are suitable as resins constituting the adhesive layer.
The material for the adhesive layer may be one of these alone, or a combination of two or more.

(プリント配線板)
電磁波シールドフィルム10が貼付されることになるプリント配線板20について以下に説明する。
(Printed wiring board)
The printed wiring board 20 to which the electromagnetic wave shielding film 10 is attached will be described below.

(ベースフィルム及びカバーレイ)
ベースフィルム21及びカバーレイ23の材料は、特に限定されないが、エンジニアリングプラスチックからなることが望ましい。このようなエンジニアリングプラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、架橋ポリエチレン、ポリエステル、ポリベンズイミダゾール、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイドなどの樹脂が挙げられる。
また、これらのエンジニアリングプラスチックの内、難燃性が要求される場合には、ポリフェニレンサルファイドフィルムが望ましく、耐熱性が要求される場合にはポリイミドフィルムが望ましい。なお、ベースフィルム21の厚みは、10~40μmであることが望ましく、カバーレイ23の厚みは、10~30μmであることが望ましい。
(Base film and coverlay)
Materials for the base film 21 and the coverlay 23 are not particularly limited, but are preferably made of engineering plastics. Examples of such engineering plastics include resins such as polyethylene terephthalate, polypropylene, crosslinked polyethylene, polyester, polybenzimidazole, polyimide, polyimideamide, polyetherimide, and polyphenylene sulfide.
Among these engineering plastics, polyphenylene sulfide film is desirable when flame retardancy is required, and polyimide film is desirable when heat resistance is required. The thickness of the base film 21 is preferably 10-40 μm, and the thickness of the coverlay 23 is preferably 10-30 μm.

開口部23aの大きさは特に限定されないが、0.1mm以上であることが望ましく、0.3mm以上であることがより望ましい。
また、開口部23aの形状は、特に限定されず、円形、楕円形、四角形、三角形等であってもよい。
Although the size of the opening 23a is not particularly limited, it is preferably 0.1 mm 2 or more, more preferably 0.3 mm 2 or more.
The shape of the opening 23a is not particularly limited, and may be circular, elliptical, quadrangular, triangular, or the like.

(プリント回路)
プリント回路22及びグランド回路22aの材料は、特に限定されず、銅箔、導電性ペーストの硬化物等であってもよい。
(printed circuit)
Materials for the printed circuit 22 and the ground circuit 22a are not particularly limited, and may be copper foil, cured conductive paste, or the like.

電磁波シールドフィルム10がプリント配線板20に貼付されて製造されたシールドプリント配線板30は、本発明のシールドプリント配線板の一態様である。 Shield printed wiring board 30 manufactured by attaching electromagnetic shielding film 10 to printed wiring board 20 is one aspect of the shield printed wiring board of the present invention.

図2に示す、シールドプリント配線板30は、ベースフィルム21と、ベースフィルム21の上に形成された複数のグランド回路22aを含むプリント回路22と、プリント回路22を覆うカバーレイ23とを備え、カバーレイ23にはグランド回路22を露出する開口部が形成されているプリント配線板20と、保護層11と、保護層11に積層されたシールド層12と、シールド層12に積層された接着剤層13とからなり、接着剤層13側のシールド層12には複数の導電性バンプ14が形成されている電磁波シールドフィルム10からなり、電磁波シールドフィルム10の複数の導電性バンプ14は、接着剤層13を貫き、プリント配線板20の複数のグランド回路22aに接続している。 The shield printed wiring board 30 shown in FIG. 2 includes a base film 21, a printed circuit 22 including a plurality of ground circuits 22a formed on the base film 21, and a coverlay 23 covering the printed circuit 22, A printed wiring board 20 formed with an opening exposing a ground circuit 22 in a coverlay 23, a protective layer 11, a shield layer 12 laminated on the protective layer 11, and an adhesive laminated on the shield layer 12. The shield layer 12 on the side of the adhesive layer 13 is made of an electromagnetic wave shielding film 10 in which a plurality of conductive bumps 14 are formed. It penetrates the layer 13 and connects to a plurality of ground circuits 22 a of the printed wiring board 20 .

シールドプリント配線板30では、電磁波シールドフィルム10の複数の導電性バンプ14は、接着剤層13を貫き、プリント配線板20の複数のグランド回路22aに接続している。
導電性バンプ14を、グランド回路22aと確実に接触するように設計することにより、グランド回路22a-導電性バンプ14間の接続抵抗を小さくすることができる。
In the shield printed wiring board 30 , the plurality of conductive bumps 14 of the electromagnetic wave shielding film 10 penetrate through the adhesive layer 13 and are connected to the plurality of ground circuits 22 a of the printed wiring board 20 .
The connection resistance between the ground circuit 22a and the conductive bumps 14 can be reduced by designing the conductive bumps 14 to reliably contact the ground circuit 22a.

次に、本発明のシールドプリント配線板の製造方法の一例について図面を用いながら説明する。
図3A、図3B、図3C及び図3Dは本発明のシールドプリント配線板の製造方法の一例を工程順に示す工程図である。
Next, an example of the method for manufacturing the shield printed wiring board of the present invention will be described with reference to the drawings.
3A, 3B, 3C and 3D are process diagrams showing an example of the method for manufacturing the shield printed wiring board of the present invention in order of steps.

(電磁波シールドフィルム準備工程)
本工程では、図3Aに示すように、上記電磁波シールドフィルム10を準備する。
電磁波シールドフィルム10の望ましい構成等は既に説明しているので、ここでの説明は省略する。
(Electromagnetic wave shielding film preparation process)
In this step, as shown in FIG. 3A, the electromagnetic wave shielding film 10 is prepared.
Since the desirable configuration of the electromagnetic wave shielding film 10 has already been described, the description thereof will be omitted here.

(プリント配線板準備工程)
本工程では、図3Bに示すように、プリント配線板20を準備する。
プリント配線板20の望ましい構成等は既に説明しているので、ここでの説明は省略する。
(Printed wiring board preparation process)
In this step, as shown in FIG. 3B, a printed wiring board 20 is prepared.
Since the desirable configuration of the printed wiring board 20 has already been described, the description is omitted here.

(電磁波シールドフィルム配置工程)
本工程では、図3Cに示すように、電磁波シールドフィルム10の接着剤層面が、プリント配線板20のカバーレイ23に接触するようにプリント配線板20に電磁波シールドフィルム10を配置する。
この際、グランド回路22aの上に導電性バンプ14が位置するようにする。
(Electromagnetic wave shielding film placement process)
In this step, the electromagnetic wave shielding film 10 is placed on the printed wiring board 20 so that the adhesive layer surface of the electromagnetic wave shielding film 10 is in contact with the coverlay 23 of the printed wiring board 20, as shown in FIG. 3C.
At this time, the conductive bump 14 is positioned on the ground circuit 22a.

(加圧工程)
本工程では、図3Dに示すように、電磁波シールドフィルム10の複数の導電性バンプ14が、電磁波シールドフィルム10の接着剤層13を貫き、プリント配線板20の複数のグランド回路22aに接触するように加圧する。
(pressurization process)
In this step, as shown in FIG. 3D, the plurality of conductive bumps 14 of the electromagnetic wave shielding film 10 penetrate through the adhesive layer 13 of the electromagnetic wave shielding film 10 and come into contact with the plurality of ground circuits 22a of the printed wiring board 20. pressurize to

加圧の条件としては、例えば、1~5Pa、1~60minの条件が挙げられる。 Conditions for pressurization include, for example, conditions of 1 to 5 Pa and 1 to 60 minutes.

本発明のシールドプリント配線板の製造方法では、加圧工程の後、又は、同時に加熱を行い、電磁波シールドフィルム10の接着剤層13を硬化させてもよい。 In the manufacturing method of the shield printed wiring board of the present invention, the adhesive layer 13 of the electromagnetic wave shielding film 10 may be cured by heating after or at the same time as the pressing step.

以上の工程を経て、シールドプリント配線板30を製造することができる。 The shield printed wiring board 30 can be manufactured through the above steps.

以下に本発明をより具体的に説明する実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described below in more detail with examples, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
まず、第1剥離フィルムとして、片面に剥離処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。
(Example 1)
First, as the first release film, a polyethylene terephthalate film having one side subjected to release treatment was prepared.

次に、第1剥離フィルムの剥離処理面にエポキシ樹脂を塗工し、電気オーブンを用い、100℃で2分間加熱し、厚さ7μmの保護層を作製した。
その後、保護層の上に、無電解めっきにより2μmの銅層を形成した。当該銅層は、シールド層となる。
Next, an epoxy resin was applied to the release-treated surface of the first release film and heated at 100° C. for 2 minutes using an electric oven to prepare a protective layer having a thickness of 7 μm.
After that, a copper layer of 2 μm was formed on the protective layer by electroless plating. The copper layer becomes a shield layer.

次に、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂とイソシアネートの混合物10重量部と、導電性フィラー(平均粒子径5μmの球状銀コート銅粉)90重量部とを混合し導電性ペーストを作製した。
なお、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂とイソシアネートの混合物の重量比は、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂:イソシアネート=100:0.2であった。
そして、導電性ペーストを銅層にスクリーン印刷することにより導電性バンプを形成した。
導電性バンプは形状が円錐状であり、高さ23μm、体積120000μmであった。
なお、導電性バンプの形状、高さ、体積は、コンフォーカル顕微鏡(Lasertec社製、OPTELICS HYBRID、対物レンズ20倍)を用いて、バンプを形成したシールド層の表面の任意の5か所を測定した後、データ解析ソフト(LMeye7)を用い解析できる。2値化のパラメータは高さで、自動しきい値アルゴリズムはKittler法を用いた。
Next, 10 parts by weight of a mixture of cresol novolac type epoxy resin and isocyanate and 90 parts by weight of a conductive filler (spherical silver-coated copper powder having an average particle diameter of 5 μm) were mixed to prepare a conductive paste.
The weight ratio of the mixture of cresol novolak type epoxy resin and isocyanate was cresol novolac type epoxy resin:isocyanate=100:0.2.
Conductive bumps were then formed by screen-printing a conductive paste onto the copper layer.
The conductive bumps were conical in shape, 23 μm high and 120000 μm 3 in volume.
The shape, height, and volume of the conductive bumps were measured at any five points on the surface of the shield layer on which the bumps were formed using a confocal microscope (manufactured by Lasertec, OPTELICS HYBRID, objective lens 20x). After that, it can be analyzed using data analysis software (LMeye7). The binarization parameter was height, and the Kittler method was used as the automatic threshold algorithm.

次に、エポキシ樹脂100.0部、及び、有機リン系難燃剤49.6部を混合し、接着剤層用組成物を作製した。 Next, 100.0 parts of an epoxy resin and 49.6 parts of an organic phosphorus flame retardant were mixed to prepare a composition for an adhesive layer.

次に、第2剥離フィルムとして、片面に剥離処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。
そして、第2剥離フィルムの剥離処理面に接着剤層用組成物を塗工し、電気オーブンを用い、100℃で2分間加熱し、厚さ9μmの接着剤層を作製した。
Next, as the second release film, a polyethylene terephthalate film having one side subjected to release treatment was prepared.
Then, the adhesive layer composition was applied to the release-treated surface of the second release film and heated at 100° C. for 2 minutes using an electric oven to prepare an adhesive layer having a thickness of 9 μm.

次に、第1剥離フィルムに形成された保護層と、第2剥離フィルムに形成された接着剤層とを貼り合わせ、第2剥離フィルムを剥離することにより実施例1に係る電磁波シールドフィルムを製造した。 Next, the protective layer formed on the first release film and the adhesive layer formed on the second release film are bonded together, and the second release film is peeled off to manufacture the electromagnetic wave shielding film according to Example 1. bottom.

図4は、実施例1に係る電磁波シールドフィルムの断面写真である。
図4に示すように、実施例1に係る電磁波シールドフィルム10は、保護層11と、保護層11に積層されたシールド層12と、シールド層12に積層された接着剤層13とからなり、接着剤層13側のシールド層12には円錐状の導電性バンプ14が形成されている。
4 is a cross-sectional photograph of the electromagnetic wave shielding film according to Example 1. FIG.
As shown in FIG. 4, the electromagnetic wave shielding film 10 according to Example 1 includes a protective layer 11, a shield layer 12 laminated on the protective layer 11, and an adhesive layer 13 laminated on the shield layer 12. A conical conductive bump 14 is formed on the shield layer 12 on the adhesive layer 13 side.

(実施例2)及び(比較例1)
表1に示すように導電性バンプの高さ及び体積を変更した以外は、実施例1と同様に実施例2及び比較例1に係る電磁波シールドフィルムを製造した。
(Example 2) and (Comparative Example 1)
Electromagnetic wave shielding films according to Example 2 and Comparative Example 1 were produced in the same manner as in Example 1, except that the height and volume of the conductive bumps were changed as shown in Table 1.

Figure 0007244535000001
Figure 0007244535000001

(比較例2)
まず、第1剥離フィルムとして、片面に剥離処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。
(Comparative example 2)
First, as the first release film, a polyethylene terephthalate film having one side subjected to release treatment was prepared.

次に、第1剥離フィルムの剥離処理面にエポキシ樹脂を塗工し、電気オーブンを用い、100℃で2分間加熱し、厚さ7μmの保護層を作製した。
その後、保護層の上に、無電解めっきにより2μmの銅層を形成した。当該銅層は、シールド層となる。
Next, an epoxy resin was applied to the release-treated surface of the first release film and heated at 100° C. for 2 minutes using an electric oven to prepare a protective layer having a thickness of 7 μm.
After that, a copper layer of 2 μm was formed on the protective layer by electroless plating. The copper layer becomes a shield layer.

次に、アミド変性エポキシ樹脂100.0部、銀コート銅粉(平均粒径D50:13μm)49.6部、及び、有機リン系難燃剤49.6部を混合し、導電性接着剤層用組成物を作製した。Next, 100.0 parts of an amide-modified epoxy resin, 49.6 parts of silver-coated copper powder (average particle size D 50 : 13 µm), and 49.6 parts of an organic phosphorus flame retardant were mixed to form a conductive adhesive layer. A composition for

次に、第2剥離フィルムとして、片面に剥離処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。
そして、第2剥離フィルムの剥離処理面に導電性接着剤層用組成物を塗工し、電気オーブンを用い、100℃で2分間加熱し、厚さ9μmの導電性接着剤層を作製した。
Next, as the second release film, a polyethylene terephthalate film having one side subjected to release treatment was prepared.
Then, the conductive adhesive layer composition was applied to the release-treated surface of the second release film and heated at 100° C. for 2 minutes using an electric oven to prepare a conductive adhesive layer having a thickness of 9 μm.

次に、第1剥離フィルムに形成された保護層と、第2剥離フィルムに形成された接着剤層とを貼り合わせ、第2剥離フィルムを剥離することにより比較例2に係る電磁波シールドフィルムを製造した。 Next, the protective layer formed on the first release film and the adhesive layer formed on the second release film are bonded together, and the second release film is peeled off to manufacture the electromagnetic wave shielding film according to Comparative Example 2. bottom.

(伝送損失測定試験)
図5は、伝送損失測定試験における電磁波シールドフィルムの伝送損失の測定方法を模式的に示す模式図である。
電磁波シールドフィルムの伝送損失測定について、図5に示すネットワークアナライザ41を用いて評価した。
ネットワークアナライザ41には、ローデ・シュワルツ社製のZVL6を用いた。ネットワークアナライザ41は、入力端子と出力端子とを有し、これらの夫々に接続用基板42が接続されている。この1対の接続用基板42の間に、測定対象のシールドプリント配線板30を空中に浮かした直線状態に支持されるように接続して測定を行う。シールドプリント配線板30は、100mmの長さのものを用いた。また、100kHz~20GHzの周波数範囲で測定を行った。また、温度25℃、相対湿度30~50%の雰囲気で測定を行った。ネットワークアナライザ41は、入力した信号が出力した信号に対してどれだけ減衰したかを、周波数10GHzにおいて測定した。測定した減衰量を伝送損失として表1に示す。減衰量がゼロに近いほど、伝送損失が少ないことを示す。
(Transmission loss measurement test)
FIG. 5 is a schematic diagram schematically showing a method of measuring the transmission loss of the electromagnetic wave shielding film in the transmission loss measurement test.
The transmission loss measurement of the electromagnetic wave shielding film was evaluated using the network analyzer 41 shown in FIG.
As the network analyzer 41, ZVL6 manufactured by Rohde & Schwarz was used. The network analyzer 41 has an input terminal and an output terminal, to which a connection board 42 is connected. Measurement is performed by connecting the shield printed wiring board 30 to be measured between the pair of connection boards 42 so as to be supported in a straight line floating in the air. A shield printed wiring board 30 having a length of 100 mm was used. Measurements were also performed in the frequency range from 100 kHz to 20 GHz. Further, the measurement was performed in an atmosphere of 25° C. and 30 to 50% relative humidity. The network analyzer 41 measured how much the input signal was attenuated with respect to the output signal at a frequency of 10 GHz. Table 1 shows the measured attenuation as transmission loss. The closer the attenuation is to zero, the less the transmission loss.

(接続抵抗測定試験)
図6は、接続抵抗測定試験における電磁波シールドフィルムの抵抗値の測定方法を模式的に示す模式図である。
図6における、電磁波シールドフィルム110は、実施例1及び実施例2に係る電磁波シールドフィルムを模式的に示している。
電磁波シールドフィルム110は、保護層111と、保護層111に積層されたシールド層112と、シールド層112に積層された接着剤層113とからなり、接着剤層113側のシールド層112には複数の導電性バンプ114が形成されている。
また、接続抵抗測定試験では、ベースフィルム121と、ベースフィルム121の上に形成された複数の測定用プリント回路125と、測定用プリント回路125を覆うカバーレイ123とを備え、カバーレイ123には測定用プリント回路125を露出する開口部123aが形成されているモデル基板120を準備する。
なお、開口部123aは、直径が1mmの円形である。
(Connection resistance measurement test)
FIG. 6 is a schematic diagram schematically showing a method of measuring the resistance value of the electromagnetic wave shielding film in the connection resistance measurement test.
An electromagnetic wave shielding film 110 in FIG. 6 schematically shows the electromagnetic wave shielding films according to the first and second examples.
The electromagnetic wave shielding film 110 includes a protective layer 111, a shield layer 112 laminated on the protective layer 111, and an adhesive layer 113 laminated on the shield layer 112. The shield layer 112 on the adhesive layer 113 side has a plurality of of conductive bumps 114 are formed.
In the connection resistance measurement test, a base film 121, a plurality of measurement printed circuits 125 formed on the base film 121, and a coverlay 123 covering the measurement printed circuit 125 are provided. A model board 120 having an opening 123a exposing the printed circuit 125 for measurement is prepared.
The opening 123a is circular with a diameter of 1 mm.

接続抵抗測定試験では、図6に示すように、電磁波シールドフィルム110の導電性バンプ114が測定用プリント回路125に接触するように電磁波シールドフィルム110をモデル基板120に配置し、170℃、3Pa、3分間の条件で加圧・加熱後に150℃、1時間アフターキュアすることにより、電磁波シールドフィルム110をモデル基板120に貼付した。
その後、測定用プリント回路125間の抵抗値を抵抗計150で測定した。
In the connection resistance measurement test, as shown in FIG. 6, the electromagnetic shielding film 110 was placed on the model substrate 120 so that the conductive bumps 114 of the electromagnetic shielding film 110 were in contact with the measurement printed circuit 125, and the temperature was 170° C., 3 Pa, The electromagnetic shielding film 110 was adhered to the model substrate 120 by applying pressure and heating for 3 minutes and then post-curing at 150° C. for 1 hour.
After that, the resistance value between the measurement printed circuits 125 was measured by the ohmmeter 150 .

なお、比較例1に係る電磁波シールドフィルムは、導電性バンプがなく、接着剤層が導電性接着剤層である以外は、電磁波シールドフィルム110と同じ構成である。
比較例1に係る電磁波シールドフィルムも、上記方法と同様の条件で、モデル基板120に貼付し、測定用プリント回路125間の抵抗値を抵抗計150で測定した。
The electromagnetic wave shielding film according to Comparative Example 1 has the same configuration as the electromagnetic wave shielding film 110 except that the conductive bump is not provided and the adhesive layer is a conductive adhesive layer.
The electromagnetic wave shielding film according to Comparative Example 1 was also attached to the model substrate 120 under the same conditions as the above method, and the resistance value between the measurement printed circuits 125 was measured with the ohmmeter 150 .

各実施例及び比較例に係る電磁波シールドフィルムの接続抵抗試験の結果を表1に示す。 Table 1 shows the results of the connection resistance test of the electromagnetic wave shielding films according to each example and comparative example.

表1に示すように、実施例1及び実施例2に係る電磁波シールドフィルムでは、伝送損失測定試験における伝送損失が小さく、接続抵抗測定試験における抵抗値が小さかった。 As shown in Table 1, the electromagnetic wave shielding films according to Examples 1 and 2 exhibited small transmission losses in the transmission loss measurement test and small resistance values in the connection resistance measurement test.

10、110 電磁波シールドフィルム
11、111 保護層
12、112 シールド層
13、113 接着剤層
14、114 導電性バンプ
20 プリント配線板
21、121 ベースフィルム
22 プリント回路
22a グランド回路
23、123 カバーレイ
23a、123a 開口部
30 シールドプリント配線板
41 ネットワークアナライザ
42 接続用基板
120 モデル基板
125 測定用プリント回路
150 抵抗計
10, 110 electromagnetic wave shielding films 11, 111 protective layers 12, 112 shield layers 13, 113 adhesive layers 14, 114 conductive bumps 20 printed wiring boards 21, 121 base films 22 printed circuits 22a ground circuits 23, 123 coverlays 23a, 123a opening 30 shield printed wiring board 41 network analyzer 42 connection board 120 model board 125 measurement printed circuit 150 resistance meter

Claims (8)

保護層と、
前記保護層に積層されたシールド層と、
前記シールド層に積層された接着剤層とからなり、
前記シールド層の前記接着剤層側には導電性バンプが形成されており、
前記導電性バンプの体積は、30000~400000μmであり、
前記導電性バンプは、前記接着剤層の前記シールド層に接触する面に対向する面から露出しないように、前記接着剤層に埋まっており、
前記導電性バンプが、前記接着剤層の前記シールド層に接触する面から前記接着剤層の前記シールド層に接触する面に対向する面に向かう方向に凸な錐体状であることを特徴とする電磁波シールドフィルム。
a protective layer;
a shield layer laminated on the protective layer;
and an adhesive layer laminated on the shield layer,
A conductive bump is formed on the adhesive layer side of the shield layer,
the volume of the conductive bump is 30000-400000 μm 3 ;
The conductive bumps are embedded in the adhesive layer so as not to be exposed from the surface of the adhesive layer facing the surface in contact with the shield layer ,
The conductive bump has a conical shape convex in a direction from a surface of the adhesive layer in contact with the shield layer toward a surface of the adhesive layer facing the surface of the adhesive layer in contact with the shield layer. electromagnetic wave shielding film.
前記導電性バンプは、複数形成されている請求項1に記載の電磁波シールドフィルム。 2. The electromagnetic wave shielding film according to claim 1 , wherein a plurality of said conductive bumps are formed. 複数の前記導電性バンプの高さは、略同一である請求項に記載の電磁波シールドフィルム。 3. The electromagnetic wave shielding film according to claim 2 , wherein the heights of the plurality of conductive bumps are substantially the same. 前記導電性バンプは、樹脂組成物と導電性フィラーとからなる請求項1~のいずれかに記載の電磁波シールドフィルム。 The electromagnetic wave shielding film according to any one of claims 1 to 3 , wherein the conductive bumps are made of a resin composition and a conductive filler. 前記接着剤層を構成する樹脂の周波数1GHz、23℃における、比誘電率が1~5であり、誘電正接が0.0001~0.03である請求項1~のいずれかに記載の電磁波シールドフィルム。 The electromagnetic wave according to any one of claims 1 to 4 , wherein the resin constituting the adhesive layer has a dielectric constant of 1 to 5 and a dielectric loss tangent of 0.0001 to 0.03 at a frequency of 1 GHz and 23°C. shield film. 前記接着剤層は、絶縁性接着剤層である請求項1~のいずれかに記載の電磁波シールドフィルム。 The electromagnetic wave shielding film according to any one of claims 1 to 5 , wherein the adhesive layer is an insulating adhesive layer. 請求項1~のいずれかに記載の電磁波シールドフィルムを準備する電磁波シールドフィルム準備工程と、
ベースフィルムと、前記ベースフィルムの上に形成されたグランド回路を含むプリント回路と、前記プリント回路を覆うカバーレイとを備え、前記カバーレイには前記グランド回路を露出する開口部が形成されているプリント配線板を準備するプリント配線板準備工程と、
前記電磁波シールドフィルムの接着剤層が、前記プリント配線板のカバーレイに接触するように前記プリント配線板に前記電磁波シールドフィルムを配置する電磁波シールドフィルム配置工程と、
前記電磁波シールドフィルムの導電性バンプが、前記電磁波シールドフィルムの接着剤層を貫き、前記プリント配線板のグランド回路に接触するように加圧する加圧工程とを含むことを特徴とするシールドプリント配線板の製造方法。
An electromagnetic shielding film preparing step for preparing the electromagnetic shielding film according to any one of claims 1 to 6 ;
A base film, a printed circuit including a ground circuit formed on the base film, and a coverlay covering the printed circuit, the coverlay having an opening exposing the ground circuit. A printed wiring board preparation step of preparing a printed wiring board;
an electromagnetic shielding film placing step of placing the electromagnetic shielding film on the printed wiring board so that the adhesive layer of the electromagnetic shielding film is in contact with the coverlay of the printed wiring board;
a pressing step of applying pressure so that the conductive bumps of the electromagnetic wave shielding film penetrate through the adhesive layer of the electromagnetic wave shielding film and come into contact with the ground circuit of the printed wiring board. manufacturing method.
ベースフィルムと、前記ベースフィルムの上に形成されたグランド回路を含むプリント回路と、前記プリント回路を覆うカバーレイとを備え、前記カバーレイには前記グランド回路を露出する開口部が形成されているプリント配線板と、
請求項1~のいずれかに記載の電磁波シールドフィルムとからなり、
前記電磁波シールドフィルムの導電性バンプは、前記接着剤層を貫き、前記プリント配線板のグランド回路に接続していることを特徴とするシールドプリント配線板。
A base film, a printed circuit including a ground circuit formed on the base film, and a coverlay covering the printed circuit, the coverlay having an opening exposing the ground circuit. a printed wiring board;
Consisting of the electromagnetic wave shielding film according to any one of claims 1 to 6 ,
A shield printed wiring board, wherein the conductive bumps of the electromagnetic shielding film penetrate the adhesive layer and are connected to a ground circuit of the printed wiring board.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112004310B (en) * 2020-08-24 2023-09-01 大连吉星电子股份有限公司 Flexible circuit board for enabling 5G signals to be stably transmitted
US12532443B2 (en) 2021-03-31 2026-01-20 Tatsuta Electric Wire & Cable Co., Ltd. Electromagnetic wave shield film
JP7592849B2 (en) 2021-03-31 2024-12-02 タツタ電線株式会社 Electromagnetic wave shielding film
CN117395977B (en) * 2023-11-20 2024-03-22 广州方邦电子股份有限公司 Electromagnetic shielding film and application thereof
TW202539894A (en) * 2024-03-29 2025-10-16 日商拓自達電線股份有限公司 electromagnetic wave shielding film

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009200113A (en) 2008-02-19 2009-09-03 Nitto Denko Corp Shield wiring circuit board
JP2012156457A (en) 2011-01-28 2012-08-16 Tatsuta Electric Wire & Cable Co Ltd Shield printed circuit board
JP2013193253A (en) 2012-03-16 2013-09-30 Yamaichi Electronics Co Ltd Electromagnetic shielding coverlay film, flexible wiring board and method for manufacturing the same
JP2016157920A (en) 2015-12-18 2016-09-01 東洋インキScホールディングス株式会社 Electromagnetic shielding sheet, electromagnetic shielding wiring circuit board, and electronic equipment
JP2017010995A (en) 2015-06-17 2017-01-12 住友電工プリントサーキット株式会社 Shielding material, electronic parts and adhesive sheet
JP2017025280A (en) 2015-07-16 2017-02-02 東洋インキScホールディングス株式会社 Conductive adhesive layer, conductive adhesive sheet, and printed wiring board
JP2017535072A (en) 2014-10-08 2017-11-24 グアンチョウ ファン バン エレクトロニクス カンパニー リミテッド Free grounding film and manufacturing method thereof, shielding circuit board including free grounding film, and grounding method

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4201548B2 (en) 2002-07-08 2008-12-24 タツタ電線株式会社 SHIELD FILM, SHIELD FLEXIBLE PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR PRODUCING THEM
JP2015015304A (en) * 2013-07-03 2015-01-22 信越ポリマー株式会社 Electromagnetic wave shield film, flexible printed wiring board with electromagnetic wave shield film, electronic equipment, and method for manufacturing the same
KR101956091B1 (en) * 2014-12-05 2019-03-08 타츠타 전선 주식회사 Electromagnetic wave shielding film

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009200113A (en) 2008-02-19 2009-09-03 Nitto Denko Corp Shield wiring circuit board
JP2012156457A (en) 2011-01-28 2012-08-16 Tatsuta Electric Wire & Cable Co Ltd Shield printed circuit board
JP2013193253A (en) 2012-03-16 2013-09-30 Yamaichi Electronics Co Ltd Electromagnetic shielding coverlay film, flexible wiring board and method for manufacturing the same
JP2017535072A (en) 2014-10-08 2017-11-24 グアンチョウ ファン バン エレクトロニクス カンパニー リミテッド Free grounding film and manufacturing method thereof, shielding circuit board including free grounding film, and grounding method
JP2017010995A (en) 2015-06-17 2017-01-12 住友電工プリントサーキット株式会社 Shielding material, electronic parts and adhesive sheet
JP2017025280A (en) 2015-07-16 2017-02-02 東洋インキScホールディングス株式会社 Conductive adhesive layer, conductive adhesive sheet, and printed wiring board
JP2016157920A (en) 2015-12-18 2016-09-01 東洋インキScホールディングス株式会社 Electromagnetic shielding sheet, electromagnetic shielding wiring circuit board, and electronic equipment

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Publication number Publication date
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