JP7189122B2 - 電気化学発電装置用のイオン伝導性材料及び製造方法 - Google Patents
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Description
1. 10-5から10-3S/cmのイオン伝導率を有する、ポリマーBとは異なる、少なくとも1種のポリマーAと、
2. 200Mpa以上、例えば200から5000MPa又は350から1500MPaの貯蔵弾性率を特徴とする機械的強度を有する、少なくとも1種のポリマーBと、
3. 少なくとも1種の補強充填剤Cと
を含むことを特徴とする、電気化学発電装置用のイオン伝導性材料に関する、本発明によって達成される。
以下に、本発明によるイオン伝導性材料1-2-3の好ましい特性を詳述する。
- ポリ(オキシエチレン)、ポリ(オキシプロピレン)、ポリ(オキシトリメチレン)及びポリ(オキシテトラメチレン)の中から選択されるポリエーテルタイプのホモポリマーであって、直鎖状構造、くし形構造、星形構造又はデンドリマー構造を有する、ホモポリマー、
- 網目構造を形成する(又は形成しない)、ポリエーテルタイプのブロックコポリマー又はグラフト化コポリマー[これらのブロックコポリマーの中でも、特定のブロックがレドックス特性を有する官能基を運ぶ且つ/又は特定のブロックが架橋可能な基を有する且つ/又は特定のブロックがイオン官能基を有するものを列挙することができる]、
- 網目構造を形成する(又は形成しない)、反復性オキシアルキレン単位を含有する統計的、ランダム又は交互コポリマー[オキシアルキレン単位の中でも、オキシエチレン単位、オキシプロピレン単位、2-クロロメチルオキシエチレン単位及びオキシエチレンオキシメチレン単位を列挙することができ、これらはそれぞれ、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、エピクロルヒドリン及びジオキソランの環の開裂から生じ、これらは特に好ましい。エポキシヘキセン、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリレートの環の開裂から生じるオキシアルケニレン単位を更に列挙することができる。]、
- オリゴエーテル分岐のキャリアである、ポリホスファゼン、ポリシロキサン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリスチレン、
- 例えば、グリコールポリエチレンとジクロロメタンとの間のウィリアムソン反応によって調製される直鎖状重縮合体[このような重縮合体は、特に、J. R. Cravenら、MaKromol. Chem. Rapid Comm.、1986、7、81に記載されている]、
- イソシアネートによって架橋されたグリコールポリエチレン網目構造又は入手した網目構造[例えばF. Alloinら、J. of Electrochem. Soc. 141、7、1915 (1994)に記載されるような不飽和二ハロゲン化物とのウィリアムソン反応によって、二重又は三重結合等の架橋可能な基を運ぶ重縮合体から調製される]、
- グリコールポリエチレン反応によって調製され、市販製品Jeffamine(登録商標)等の末端アミン官能基及びイソシアネートによって修飾された、網目構造、
- 直鎖状又は分岐状ポリエチレンイミン、及びN-アルキルポリエチレンイミン、並びに
- これらの混合物。
- 低いガラス転移温度(例えば、20℃以下)から高い融解温度(例えば、110℃以上)の間の非晶質相を有する半結晶性ポリマー、
- イオン性半結晶性ポリマー、
- 110℃以上のガラス転移温度を有する非晶質ポリマー、
- 中性又はイオン形態の、高性能と呼ばれるポリマー、及び
- これらの混合物
の中から選択される。
- ホモポリマー及び/又はフッ化ビニリデンコポリマー(PVDF)、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、テトラフルオロエチレン(TFE)又はクロロトリフルオロエチレン(CTFE)等のフルオロポリマーであって、スルホネート、スルホンアミド若しくはスルホニルイミド等のイオン基又はアンモニウム若しくはホスホニウム基を含むことが可能なフルオロポリマー、
- ガラス転移温度が-50℃以下(Tg<223K)であり、融解温度が+65℃以上である、POEをベースとした半結晶性ポリマー、
- イオン基を含む(又は含まない)、ポリスルホン(PSu)、
- イオン基を含む(又は含まない)、ポリエーテルスルホン(PES)、
- イオン基を含む(又は含まない)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)等のポリアリールエーテルケトン、
- イオン基を含む(又は含まない)、フッ素化された(又はフッ素化されていない)、ポリイミド(PI)、
- イオン基を含む(又は含まない)、ポリアミドイミド、
- イオン基を含む(又は含まない)、フェニレンポリスルフィド、
- イオン基を含む(又は含まない)、フェニレンポリオキシド等のポリアリールエーテル、
- ホモポリマー及び/又はエチレン、プロピレン、スチレン、N-ビニルピロリドン、ビニルピリジン、インデン、クマロンコポリマー等のポリオレフィン、
- ホモポリマー及びアクリロニトリルコポリマー(PAN)、
- ホモポリマー及びポリメタクリロニトリル等のメタクリロニトリルコポリマー、
- ビニレンポリカーボネート等のポリカーボネート、並びに
- これらの混合物
の中から選択される。
- 結晶性及び剛性のナノ粒子の形態で存在する、ナノ結晶性セルロースであり、セルロースナノウィスカ又は結晶性ナノセルロースとも呼ばれる。このタイプのナノセルロースは、セルロースの酸加水分解によって得られる。
- 数マイクロメートルの長さと5から20ナノメートルの幅を有する繊維である、セルロース・ミクロフィブリル又はセルロース・ナノフィブリル。これらの繊維は、機械的作用によってセルロースから単離される。
- 細菌によって生成される、細菌ナノセルロース。
本発明は、上述のイオン伝導性材料をベースとした膜も目標にする。膜は、ポリマーA及びB並びに補強充填剤Cを含む材料の薄層である。ポリマー及び補強充填剤の単純混合物、補強充填剤を含む浸潤膜又は数層の本発明による膜の集合体であってもよい。
本発明は、浸潤膜であることと、ポリマーAがポリマーB中に浸潤されることとを特徴とする、上述のイオン伝導性材料をベースとした膜も目標にする。この膜は、多孔質ポリマーの浸潤によって得られる。この場合、ポリマーBは多孔質ポリマーであり、このポリマーBの細孔をポリマーAが充填する。また、ポリマーAは、ポリマーBの細孔を充填することに加えて、多孔質ポリマーBの層を完全に覆う層を形成ことも可能である。
特に、ポリマーBは、
- ポリエチレン、
- ポリプロピレン、
- エチレン及びプロピレンコポリマー、
- ビニリデンホモポリマーフッ化物PVDF、及びこれらのコポリマー(ヘキサフルオロプロペン(HFP)及び/又はクロロトリフルオロエチレンCTFEを導入するコポリマー等)、
- イソタクチック又はシンジオタクチックポリスチレン、
- ポリエーテルケトンPEK、及びポリエーテルエーテルケトン(Victrex(登録商標)PEEK等)、
- フェニレンポリスルフィドPPS、並びに
- これらの混合物
等の半結晶性ポリマーの中から、又は高ガラス転移温度の非晶質ポリマー、
- ポリアミドイミド、
- ポリイミドPI、フッ素化(又は非フッ素化)、
- ポリスルフィドPSU、
- ポリエーテルスルホンPES、
- フェニレンポリオキシドPPO等のポリアリールエーテル、及び
- これらの混合物
等の、イオン性官能基のキャリア(又は非キャリア)の中から選択される。
所望の用途に応じて、本発明による種々の膜を重ね合わせることが可能である。
本発明はまた、上述のような膜を調製するための3つの方法: ポリマーの単純混合物をベースとした膜を調製する2つの方法と、多孔質ポリマーの浸潤によって得られる浸潤膜を調製する1つの方法とを目標にする。
浸潤膜は、方法1に従って調製される。
- 場合により補強充填剤C及び/又は電子伝導性を有する充填剤を含む、多孔質ポリマーBの層を構築する工程と、
- 場合により補強充填剤C及び/又は塩及び/又は重合開始剤と共に、ポリマーBの細孔中に、ポリマーAを、又は重合後にポリマーAを形成することができるマクロモノマーを浸潤させる工程と、
- 場合により、重合後にポリマーAを形成することができるマクロモノマーを重合させる工程と
を含む。
ポリマーの単純混合物を含む膜は、方法2に従って調製することができる。
- 溶媒中、ポリマーA、ポリマーB、補強充填剤C、及び場合により塩の混合物を調製する工程と、
- この混合物を、ガラス板、金属、若しくはポリマー、又は更には電極等の支持体上に注ぐ工程と、
- 例えば、火炉又は加熱室中で、場合によりガス流下にて乾燥する工程と、
- 場合により架橋する工程と
を含む。
ポリマーの単純混合物を含む膜は、方法3に従って調製することができる。
- 溶媒中、ポリマーA、ポリマーB、補強充填剤C、及び場合により塩との混合物を調製する工程と、
- 得られた混合物を凍結乾燥する工程と、
- ホットプレスにより膜を得る工程と
を含む。
本発明は、上述のようなイオン伝導性材料を含むセパレーターをも目標にする。例えば、セパレーターは、上述のようなイオン伝導性材料をベースとした膜である。これは、ポリマーと補強充填剤との又は補強充填剤を含む浸潤膜との単純混合物をベースとした膜であってもよい。
- 10-5から10-3S/cmのイオン伝導率を有する、ポリマーBとは異なる、少なくとも1種のポリマーAと、
- 200Mpa以上、例えば200から5000MPa又は350から1500MPaの貯蔵弾性率を特徴とする機械的強度を有する、少なくとも1種のポリマーBと、
- 少なくとも1種のナノセルロースを含む、少なくとも1種の補強充填剤Cと、
- 上述のような少なくとも1種の溶媒と
を含む膜である。
本発明は、上述のようなイオン伝導性材料と、より良好なイオン伝導率を確保することを可能にする少なくとも1種の塩と、を含む固体ポリマー電解質をも目標にする。例えば、固体ポリマー電解質は、上述のようなイオン伝導性材料をベースとした膜である。これは、ポリマーA及びBと補強充填剤Cとの又は浸潤膜との単純混合物を含む膜であってもよい。
- 10-5から10-3S/cmのイオン伝導率を有する、ポリマーBとは異なる、少なくとも1種のポリマーAと、
- 200Mpa以上、例えば200から5000MPa又は350から1500MPaの貯蔵弾性率を特徴とする機械的強度を有する、少なくとも1種のポリマーBと、
- 少なくとも1種のナノセルロースを含む、少なくとも1種の補強充填剤Cと、
- より良好なイオン伝導率を確保することを可能にする、上述のような少なくとも1種の塩と
を含む膜である。
本発明は、上述のようなイオン伝導性材料を含む、電極、例えばカソードをも目標にする。
- 10-5から10-3S/cmのイオン伝導率を有する、ポリマーBとは異なる、少なくとも1種のポリマーAと、
- 200Mpa以上、例えば200から5000MPa又は350から1500MPaの貯蔵弾性率を特徴とする機械的強度を有する、少なくとも1種のポリマーBと、
- 少なくとも1種のナノセルロースを含む、少なくとも1種の補強充填剤Cと、
- 例えば繊維又は炭素粉末、グラフェン、カーボンナノチューブ、アセチレンブラック、グラファイト又は黒鉛材料、及びこれらの混合物の中から選択される、電子伝導性を有する、少なくとも1種の充填剤と、
- 例えば、LIP(リン酸鉄リチウム)又はLixCoO2(リチウムコバルトオキシド)等の少なくとも1種の活性材料と
を含む。
本発明は、上述のようなイオン伝導性材料を含む電気化学発電装置をも目標にする。本発明の一実施形態によれば、電気化学発電装置は、セル又はバッテリー、例えばリチウムバッテリー、超コンデンサー又はエレクトロクロミックガラスである。
約650000g・mol-1のモル質量を有するポリフッ化ビニリデン(PVDF)、約500g・mol-1のモル質量を有するポリ(エチレングリコール)メチルエーテルメタクリレート(モノPEGMA)、約550g・mol-1のモル質量を有するポリ(エチレングリコール)ジメタクリレート(ジPEGMA)、約300000g・mol-1のモル質量を有する直鎖状ポリ(オキシエチレン)(POE)、及びポリエチレングリコールから合成される架橋性POE重縮合体を使用して、膜を調製する。
7質量%のNCCを含有するPVDF膜の合成
2.3gのPVDFを40mL容器に秤取り、14mLのN,N-ジメチルホルムアミド(DMF)を添加する。混合物を完全に溶解するまで50℃で攪拌する。Ultra-turrax型高出力ホモジナイザーを使用して6gのNCCを150mLのDMF中で混合することによって、DMF中4%のNCC分散体を調製する。次いで、この分散体4.4mL(すなわち0.18gのNCC)をPVDF溶液に添加し、混合物を激しく攪拌する。次いで「コーティング」「ドクターブレード」(登録商標)型機を使用して、混合物をガラス板の上に注ぎ、0.8mmの厚さを達成する。次いでこれを全て、エタノールに15分間浸漬して、非溶媒誘起位相分離(NIPS, Witteら、Journal of membrane science 117、(1996)、1~31)によって多孔性を作り出す。次いで「ガラス板+膜」ユニットをエタノール浴から取り出し、加熱室に移す。膜を60℃、真空下で少なくとも50時間乾燥し、次いでトング及びスパチュラを使用して容易に取り出した後、保管する。得られた微孔質膜は、約90ミクロンの厚さを有する。
モノPEGMAによって浸潤された7質量%のNCCを含有するPVDF膜の合成
1.0gのモノPEGMA及び50mgの過酸化ベンゾイルを20mL容器に秤取る。
ジPEGMAによって浸潤された7質量%のNCCを含有するPVDF膜の合成
ジPEGMAによって浸潤された7質量%のNCCを含有するPVDF膜を、モノPEGMAの代わりに1.0gのジPEGMAを使用することによって、実施例2に記載の作業方法に従って得た。
モノ及びジPEGMAの混合物によって浸潤された7質量%のNCCを含有するPVDF膜の合成
モノ及びジPEGMAの混合物によって浸潤された7質量%のNCCを含有するPVDF膜を、1.0gのモノPEGMAの代わりに0.5gのモノPEGMA及び0.5gのジPEGMAを使用することによって、実施例2に記載の作業方法に従って得た。
膜の質量増加を定量化するために、実施例2~4に従って調製した膜を浸潤の前後に秤量した。Table 1(表1)は、得られた結果をまとめたものである。このデータは、7質量%のNCCを含有するPVDF膜中にPEGMA型ポリマーの浸潤があることを示す。
実施例1~4に従って調製した種々の膜の形態を、走査電子顕微鏡(SEM、Philips XL-30)によって特性評価した。各膜試料(0.5×0.5mm)を導電性カーボン接着剤で支持体上に固定し、次いで試料の表面積を金で金属化する。15kVの電圧を印加し、種々の倍率で画像を得る。各膜の二面に、顕著な差異は観察されなかった。
実施例1~4に従って調製した膜は、-100℃から+180℃の間で特性評価する。試料は、14mm×6.5mm×0.1mm(L×1×e)近くの寸法を有する矩形膜である。試料を-100℃まで冷却し、次いで膜を、1Hzの周波数まで0.05%の変形を経て、2℃/minの速度で最高180℃まで加熱する。
次いで、実施例2~4による膜を、30℃で延伸速度0.1N/minの牽引試験を実施することによって特性評価した。試料は、12mm×6mm×0.1mm近くの寸法を有する矩形膜である。
測定は、周波数範囲0.1Hz~10MHzでデータを処理するコンピューターと一体化したSolartron 1287-1260インピーダンス計を用いて行われ、正弦波信号の振幅は、+/-100mVに設定される。
膜は、O/Li比が25になるような量のLiTFSI((CF3SO2)2NLi)塩を含有する。
7%のNCCを有するPOE/PVDF(50/50)膜の合成
1.0gのPOE、1.0gのPVDF及び0.26gのLiTFSIを60mL容器に秤取り、20mLのDMFを添加する。混合物を完全に溶解するまで60℃で攪拌する。Ultra-turrax高出力ホモジナイザーを使用して6gのNCCを150mLのDMF中で混合することによって、DMF中4%のNCC分散体を調製する。次いで、この分散体3.77mL(すなわち0.15gのNCC)をポリマー溶液に添加し、機械攪拌器を使用して混合物を70℃で10分間激しく攪拌し、次いでポンプを使用して脱気して泡の形成を回避する。
7%のNCCを含有するPOE/PVDF(80/20)膜の合成
POE/PVDF 80/20膜は、1.6gのPOE、0.4gのPVDF、0.42gのLiTFSI及び21mLのDMFを使用することによって、実施例5に記載の作業方法に従って得た。
7%のNCCを含有するPOE/PVDF(90/10)膜の合成
POE/PVDF 90/10膜は、1.8gのPOE、0.2gのPVDF、0.47gのLiTFSI及び22mLのDMFを使用することによって、実施例5に記載の作業方法に従って得た。
0%のNCCを含有するPOE/PVDF(80/20)膜の合成
POE/PVDF 80/20膜は、一切のNCCも使用せずに、実施例6に記載の作業方法に従って得た。
0%のNCCを含有するPOE/PVDF(90/10)膜の合成
POE/PVDF 90/10膜は、一切のNCCも使用せずに、実施例7に記載の作業方法に従って得た。
実施例6から9による膜の熱劣化を、酸化性雰囲気(空気)下で、Perkin Elmer Pyris 1 TGAを用いた熱重量分析によって測定した。10mgの試料の質量損失を、室温から最大450℃まで、加熱速度10℃/minで記録した。
- 20%のPVDFを含有する膜(M2及びM3)は、セルロース(M2)の存在下で若干あまりはっきりしない約200℃で第1の質量損失(Petre de masse)を開始する。これらの膜では、第2の質量損失は、約400℃で観察される。
- 10%のPVDFを含有する膜(M1及びM4)は、約400℃で突然の高い質量損失が開始する。
- 400℃から、20%のPVDFを含有する膜(M2及びM3)は、10%のPVDFを含有する膜(M1及びM4)より重要ではない、より漸進的な質量損失を経験する。
実施例6~9による膜の熱量分析を、窒素雰囲気下でDSC Mettler Toledo 822を用いて実施した。速度10℃/minにおける-70℃から200℃の間の冷却及び加熱ランプ中、10mgの試料の熱流を記録した。
- NCCの添加が、PVDFの百分率とは関係なく、Tgを極めてわずか低減させ、これは測定不確実性の範囲内にあることと、
- NCCの添加が、PVDF及びPOEの結晶化及び溶融をわずかに変更するが、種々の試料間に何らの傾向も検出できないことと
を観察することができる。
実施例6~9による膜の形態を、走査電子顕微鏡(SEM、Philips XL-30)によって特性評価した。各膜の試料(0.5×0.5mm)を導電性カーボン接着剤で支持体上に固定し、次いで試料の表面積を金で金属化する。15又は5kVの電圧を印加し、種々の倍率で画像を得る。各膜の二面に、顕著な差異は観察されなかった。
膜をDMA TA Q800を用いて、延伸速度0.1N/minで30℃にて牽引試験を実施することによって、特性評価した。試料は、12×6×0.1mm近くの寸法を有する矩形膜である。
実施形態6~9による膜は、リチウム塩(LiTFSI)を添加することによって合成した。リチウム塩中のモル濃度は、リチウム塩のリチウムカチオン(Li+)の数に対してPOEポリマーの酸素原子(O)の数で表され、4つのケースにおいてO/Li=25である。この濃度は、文献では通常であり、良好な機能性能を得ることを可能にする。こうして得た膜は、対称的なセル中、すなわち2つの同一の金属リチウム電極間で特性評価した。セルの組み立ては、リチウムを分解しないように、また、膜を再度加湿しないように、アルゴン雰囲気(湿度5ppm未満、酸素5ppm未満)下で、グローブボックス中で行った。次いでアセンブリを積層アルミニウムパウチ中に封入し、外気に封着したまま、温度制御室に挿入して種々の温度における伝導率(conductivity)の測定に移る。
架橋性POE重縮合体(PC1000)の合成
反応器中、30g(30mmol)のポリエチレングリコール1000(PEG1000)を4.9g(120mmol)のNaOHと混合する。機械攪拌器を使用して混合物を65℃で3時間攪拌する。温度を50℃に下げ、次いで3.48mL(29.4mmol)の3-クロロ-2-クロロプロパ-1-エンを一滴ずつ添加する。その後、50℃で24時間攪拌してペーストを得る。
10%のNCCを含有するPOE/NPC1000(50/50)膜の合成
30ml容器中で、10mlの蒸留水、0.20gのPOE、0.11gのLiTFSI及び0.20gの実施例10によって得られたPC1000を溶解する。次いで、0.0040gのIrgacure 2959光開始剤及び最終的には1mLの4%NCC分散体を水に添加する。混合物を12時間攪拌する。ポンプを使用して気泡を除去し、溶液を直径9cmのペトリ皿に注ぎ入れる。溶媒が蒸発したら、第1及び第2のUV曝露間に1分の待ち時間を入れてランプ下で膜を1分間(2×30秒)曝露することによって、膜をUV下で架橋する。架橋により、PC1000は、三次元網目構造NPC1000を変形し、POEホモポリマーと共に、半相互侵入POE/NPC1000網目構造を形成する。以下の12~21(両端を含む)の実施例では、これらの半相互侵入網目構造は、UV架橋から形成される。
10%のNCCを含有するPOE/NPC1000(75/25)膜の合成
10%のNCCを含有するPOE/NPC1000(75/25)膜は、0.30gのPOE、0.10gのPC1000及び0.0020gのIragcure 2959を使用し、実施例11に記載の作業方法に従って得た。
10%のNCCを含有するPOE/NPC1000(25/75)膜の合成
10%のNCCを含有するPOE/NPC1000(25/75)膜は、0.10gのPOE、0.30gのPC1000及び0.0060gのIragcure 2959を使用し、実施例11に記載の作業方法に従って得た。
6%のNCCを含有するPOE/NPC1000(75/25)膜の合成
6%のNCCを含有するPOE/NPC1000(75/25)膜は、6mLの4% NCC分散体(すなわち、0.024gのNCC)を使用し、実施例12に記載の作業方法に従って得る。
12%のNCCを含有するPOE/NPC1000(75/25)膜の合成
12%のNCCを含有するPOE/NPC1000(75/25)膜は、0.048gのNCCを使用し、実施例12に記載の作業方法に従って得る。
0%のNCCを有するPOE/NPC1000(75/25)膜の合成
NCCを含まないPOE/NPC1000(75/25)膜は、NCCを一切使用せず、実施例12に記載の作業方法に従って得る。
6%のNCCを含有するPOE/NPC1000(50/50)膜の合成
6%のNCCを含有するPOE/NPC1000(50/50)膜は、0.024gのNCCを使用し、実施例11に記載の作業方法に従って得る。
6%のNCCを含有するPOE/NPC1000(25/75)膜の合成
6%のNCCを含有するPOE/NPC1000(25/75)膜は、0.024gのNCCを使用し、実施例13に記載の作業方法に従って得る。
12%のNCCを含有するPOE/NPC1000(25/75)膜の合成
12%のNCCを含有するPOE/NPC1000(25/75)膜は、0.048gのNCCを使用し、実施例13に記載の作業方法に従って得る。
0%のNCCを有するPOE/NPC1000(50/50)膜の合成
NCCを含まないPOE/NPC1000(50/50)膜は、NCCを一切使用せず、実施例11に記載の作業方法に従って得る。
12%のNCCを含有するPOE/NPC1000(50/50)膜の合成
12%のNCCを含有するPOE/NPC1000(50/50)膜は、0.048gのNCCを使用し、実施例11に記載の作業方法に従って得る。
実施例14、15及び16による膜は、-100℃から+100℃の間で特性評価する。試料は、15mm×6mm×0.150mm(L×1×e)近くの寸法を有する矩形膜である。試料を-100℃まで冷却し、次いで1Hzの周波数まで0.05%の変形を経て、膜を3℃/分の速度で最大100℃まで加熱する。
伝導率の測定は、周波数範囲5Hz~13MHzでデータを処理するコンピューターと一体化したヒューレットパッカード4192Aインピーダンス計を用いて行われ、正弦波信号の振幅は、+/-10mVに設定される。試料をSwagelokセル中に、アルゴン下のグローブボックス中でマウントする。
樹枝状成長の測定は、データを処理するコンピューターと一体化した、商標BioLogicのVMP300ポテンシオスタットを用いて行う。
10%のNCC及び1.33%のキトサンを含有するPOE/NPC1000(80/20)膜の合成
60mlの容器中、実施例10に従って1.20gのPOE及び0.3gのPC1000を43.8mLの蒸留水に溶解し、次いで0.39gのLiTFSI及び0.02gのキトサンを添加する。蒸留水中2.3%のNCC分散体を、ultra-turrax型高出力ホモジナイザーを使用して2.56gのNCCを110mLの蒸留水中で混合することによって調製する。次いで、この分散体6.9mL(すなわち0.16gのNCC)を添加し、混合物を激しく攪拌する。次いで、0.15mgの4,4'-アゾビス(4-シアノ吉草酸)、重合開始剤を調合物に添加し、円柱管に注ぎ入れ、液体窒素で凍結させ、最後に凍結乾燥により水を除去する。次いで、試料をホットプレス(80から90℃)して遊離基を通して架橋を引き起こし、半相互侵入網目構造膜(約300μmの厚さ)を得る。
10%のNCCを含有するPOE/NPC1000(80/20)膜の合成
60mlの容器中、1.23gのPOE及び0.3gのPC1000を、実施例10に従って44.1mLの蒸留水に溶解し、次いで0.40gのLiTFSIを添加する。蒸留水中2.3%のNCC分散体を、ultra-turrax型高出力ホモジナイザーを使用して2.56gのNCCを110mLの蒸留水中で混合することによって調製する。次いで、この分散体7.4mL(すなわち0.17gのNCC)を添加し、混合物を激しく攪拌する。次いで、0.15mgの4,4'-アゾビス(4-シアノ吉草酸)、重合開始剤を添加し、調合物を円柱管に注ぎ入れ、液体窒素で凍結させ、最後に凍結乾燥により水を除去する。次いで、試料をホットプレス(80から90℃)して遊離基を通して架橋を引き起こし、半相互侵入網目構造膜(約300μmの厚さ)を得る。
膜は、DMA TA Q800を使用して-100℃から+180℃の間で特性評価する。試料は、10×5.0×0.3(L×1×e(mm))近くの寸法を有する矩形膜である。試料を-100℃に冷却し、次いで膜を、1Hzの周波数まで0.05%の変形を経て、2℃/minの速度で最高180℃まで加熱する。
膜は、DMA TA Q800を用いて、延長速度0.1N/minにて、30℃で牽引試験を実施することによって特性評価した。試料は、10×5.0×0.3mm近くの寸法を有する矩形膜である。
Claims (14)
2. 30℃及び1Hzの周波数で200MPa以上の貯蔵弾性率を特徴とする機械的強度を有する、少なくとも1種のポリマーBと、
3. 少なくとも1種の補強充填剤Cと
を含み、
前記少なくとも1種の補強充填剤Cが、少なくとも1種のナノセルロースと、キチン、キトサン、ゼラチン、セリシン及びこれらの混合物の中から選択される材料とを含むことを特徴とする、電気化学発電装置用のイオン伝導性材料。
- イオン基を含んでもよいフルオロポリマー、ポリビニルピリジン、ポリインデン、ポリクマロン、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリ-α-メチルスチレン、ポリカーボネート又はPVP(ポリビニルピロリドン)から選択される、非晶質相が、20℃以下のガラス転移温度及び110℃以上の融解温度を有する半結晶性ポリマー
- カルボキシメチルセルロースから選択されるイオン性半結晶性ポリマー、
- 110℃以上のガラス転移温度を有する非晶質ポリマー、
- 非イオン又はイオン形態の、フェニレンポリオキシド、フェニレンポリ硫黄、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、及びポリアミドイミドから選択される、ポリマー、及び
- これらの混合物
の中から選択されることを特徴とする、請求項1に記載のイオン伝導性材料。
- 溶媒中、ポリマーA、ポリマーB、及び補強充填剤Cの混合物であって、塩を含んでもよい混合物を調製する工程と、
- この混合物を、ガラス板、金属、若しくはポリマー、又は電極等の支持体上に注ぐ工程と、
- 乾燥する工程と、
を含み、
- 架橋する工程を含んでも含まなくてもよい方法であって、
前記少なくとも1種の補強充填剤Cが、少なくとも1種のナノセルロースと、キチン、キトサン、ゼラチン、セリシン及びこれらの混合物の中から選択される材料とを含むことを特徴とする、方法。
- 溶媒中、ポリマーA、ポリマーB、及び補強充填剤Cの混合物であって、塩を含んでもよい混合物を調製する工程と、
- 得られた混合物を凍結乾燥する工程と、
- ホットプレスにより膜を得る工程と
を含み、
前記少なくとも1種の補強充填剤Cが、少なくとも1種のナノセルロースと、キチン、キトサン、ゼラチン、セリシン及びこれらの混合物の中から選択される材料とを含むことを特徴とする、方法。
- 補強充填剤C及び/又は電子伝導性を有する充填剤を含んでも含まなくてもよい、多孔質ポリマーBの層を構築する工程と、
- 補強充填剤C及び/又は塩及び/又は重合開始剤と共に、又は伴わずに、ポリマーBの細孔中に、ポリマーAを、又は重合後にポリマーAを形成することができるマクロモノマーを浸潤させる工程と、
を含み、
- 重合後にポリマーAを形成することができるマクロモノマーを重合させる工程を含んでも含まなくてもよい方法であって、
ただし、前記補強充填剤Cは、多孔質ポリマーBの層に含まれるか、及び/又はポリマーAと共に導入され、前記少なくとも1種の補強充填剤Cが、少なくとも1種のナノセルロースと、キチン、キトサン、ゼラチン、セリシン及びこれらの混合物の中から選択される材料とを含むことを特徴とする、方法。
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