JP7008791B2 - 組成物、塗布膜、硬化膜、レンズ、固体撮像素子、樹脂 - Google Patents

Description

本発明は、組成物、塗布膜、硬化膜、レンズ、固体撮像素子、及び樹脂に関する。

従来、光学材料（例えば、イメージセンサ上に搭載するマイクロレンズ形成材料、及び、カラーフィルタの屈折率調整剤等）に使用される化合物に対して、高耐熱性、高透明性、高屈折率、高溶解性、及び低体積収縮率等の諸特性が求められている。
例えば、特許文献１には、高耐熱性、高透明性、高屈折率、高溶解性、及び低体積収縮率性を有する材料としてトリアジン環含有重合体が開示されている。

特開２０１５－０２５１３１号公報

本発明者らは、特許文献１に記載されたトリアジン環含有重合体を含む組成物から形成される硬化膜について検討したところ、高温環境下及び低温環境下（高温－低温環境下）に繰り返し晒された上記硬化膜は、欠陥が多く発生することを明らかとした。

そこで、本発明は、高温－低温環境下に繰り返し晒された後でも欠陥発生が抑制されている硬化膜を与え得る組成物を提供することを課題とする。
また、本発明は、上記組成物により形成される塗布膜、上記塗布膜を硬化して形成される硬化膜、レンズ、及び固体撮像素子を提供することを課題とする。
また、本発明は、高屈折率材料として好適に用いられ得る新規樹脂を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、特定構造のトリアジン環を含む樹脂と、所定含有量の特定金属イオンと、溶媒と、を含む組成物によれば、上記課題を解決できることを見いだし、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成できることを見出した。

（１） 後述する一般式（Ｉ－１）で表される繰り返し単位又は後述する一般式（Ｉ－２）で表される繰り返し単位を含む樹脂と、
溶媒と、
ナトリウムイオン、カリウムイオン、及びカルシウムイオンからなる群より選ばれる特定金属イオンと、を含む組成物であって、
特定金属イオンの総含有量が、組成物全質量に対して、０．０１～３０質量ｐｐｍである、組成物。
（２） 溶媒がトルエンを含み、
トルエンの含有量が、組成物全質量に対して、０．００１～１０質量ｐｐｍである、（１）に記載の組成物。
（３） 一般式（Ｉ－１）中、Ｖが、後述する一般式（ＩＩ）で表される基である、（１）又は（２）に記載の組成物。
（４） 一般式（ＩＩ）中、ｍは０を表し、ｎは１を表し、Ｒ^４は、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルキルチオ基、又はハロゲン原子を表す、（３）に記載の組成物。
（５） 後述する一般式（ＩＩ）で表される基が、後述する一般式（ＩＩＡ）で表される基である、（４）に記載の組成物。
（６） 一般式（Ｉ－１）中、Ｘ^１～Ｘ^３がいずれも－ＮＲ^１－である、（１）～（５）のいずれかに記載の組成物。
（７） 一般式（Ｉ－１）におけるＷ^１及び一般式（Ｉ－２）におけるＷ^２が、それぞれ独立して、後述する一般式（ＩＩＩ）で表される２価の連結基である、（１）～（６）のいずれかに記載の組成物。
（８） 一般式（Ｉ－２）のＷ^２において、Ａ^１～Ａ^３がいずれもアリーレン基を表す、（７）に記載の組成物。
（９） 一般式（Ｉ－２）のＷ^２において、アリーレン基が、１，４－フェニレン基である、（７）又は（８）に記載の組成物。
（１０） 更に、硬化性化合物を含む、（１）～（９）のいずれかに記載の組成物。
（１１） 更に、重合開始剤を含む、（１）～（１０）のいずれかに記載の組成物。
（１２） （１）～（１１）のいずれかに記載の組成物により形成される塗布膜。
（１３） （１２）に記載の塗布膜を硬化して形成される硬化膜。
（１４） （１３）に記載の硬化膜からなるレンズ。
（１５） （１４）に記載のレンズを備える固体撮像素子。
（１６） 後述する一般式（ＩＶ－１）で表される繰り返し単位を含む樹脂。
（１７） 後述する一般式（ＩＶ－２）で表される繰り返し単位を含む樹脂。

本発明によれば、高温－低温環境下に繰り返し晒された後でも欠陥発生が抑制されている硬化膜を与え得る組成物を提供できる。
また、本発明によれば、上記組成物により形成される塗布膜、上記塗布膜を硬化して形成される硬化膜、レンズ、及び固体撮像素子を提供できる。
また、本発明によれば、高屈折率材料として好適に用いられ得る新規樹脂を提供できる。

以下、本発明について詳細に説明する。
本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本明細書中における「活性光線」又は「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、及び、電子線等を意味する。また本発明において光とは、活性光線又は放射線を意味する。本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、及び、ＥＵＶ光等による露光のみならず、電子線及びイオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタアクリレートを表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタアクリルを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において、重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、測定装置としてＨＬＣ－８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ―Ｈ（東ソー（株）製、６．０ｍｍＩＤ（内径）×１５．０ｃｍ）を用い、溶離液として１０ｍｍｏｌ／Ｌ リチウムブロミドＮＭＰ（Ｎ－メチルピロリジノン）溶液を用いることによって求められる。
本明細書中において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性基とは、重合反応に関与する基をいう。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全体から溶媒を除いた成分の合計質量をいう。

本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。置換基としては、例えば、下記置換基群Ｔから選択される基が挙げられる。

（置換基Ｔ）
置換基Ｔとしては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基及びアニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、及びシリル基等が挙げられる。以下に、各基について詳述する。

ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子）、
直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基（直鎖状又は分岐鎖状の、置換又は無置換のアルキル基であり、好ましくは炭素数１～３０のアルキル基。例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、２－クロロエチル基、２－シアノエチル基、及び２－エチルヘキシル基等）、
シクロアルキル基（好ましくは炭素数３～３０の置換又は無置換のシクロアルキル基。シクロアルキル基は、単環であっても多環であってもよい。単環のシクロアルキル基としては、例えば、シクロヘキシル基、及びシクロペンチル基等が挙げられる。また、多環のシクロアルキル基としては、例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは炭素数５～３０の置換又は無置換のビシクロアルキル基であり、具体的には、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン－２－イル基、及びビシクロ［２，２，２］オクタン－３－イル基等）、及びトリシクロアルキル基等が挙げられる。シクロアルキル基としては、なかでも、単環のシクロアルキル基、又はビシクロアルキル基が好ましく、単環のシクロアルキル基がより好ましい。）、

直鎖状又は分岐鎖状のアルケニル基（直鎖状又は分岐鎖状の、置換又は無置換のアルケニル基であり、好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基。例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、及びオレイル基等）、
シクロアルケニル基（好ましくは炭素数３～３０の置換又は無置換のシクロアルケニル基。シクロアルケニル基は、単環であっても多環であってもよい。単環のシクロアルケニル基としては、例えば、２－シクロペンテン－１－イル基、及び２－シクロヘキセン－１－イル基が挙げられる。また、多環のシクロアルケニル基としては、ビシクロアルケニル基（好ましくは炭素数５～３０の置換又は無置換のビシクロアルケニル基。具体的には、ビシクロ［２，２，１］ヘプト－２－エン－１－イル基、及びビシクロ［２，２，２］オクト－２－エン－４－イル基等）、及びトリシクロアルケニル基等が挙げられる。シクロアルケニル基としては、なかでも、単環のシクロアルケニル基が好ましい。）、
アルキニル基（好ましくは炭素数２～３０の置換又は無置換のアルキニル基。例えば、エチニル基、プロパルギル基、及びトリメチルシリルエチニル基等）、

アリール基（好ましくは炭素数６～３０の置換又は無置換のアリール基。例えば、フェニル基、ｐ－トリル基、ナフチル基、ｍ－クロロフェニル基、ｏ－ヘキサデカノイルアミノフェニル基、ピレニル基、ビフェニル基、及びターフェニル基等）、
ヘテロ環基（ヘテロ環基は、置換若しくは無置換の脂環ヘテロ環基及び芳香族ヘテロ環基のいずれであってもよい。また、脂環ヘテロ環基は、飽和及び不飽和のいずれであってもよい。また、ヘテロ環基は、単環であっても縮環であってもよい。ヘテロ環基としては、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群より選ばれるヘテロ原子を１つ以上含むことが好ましく、炭素数３～３０の５員又は６員の芳香族ヘテロ環基がより好ましい。例えば、２－フリル基、２－チエニル基、２－ピリジル基、４－ピリジル基、２－ピリミジニル基、及び２－ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。）、
シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、

アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３０の置換又は無置換のアルコキシ基。例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、及び２－メトキシエトキシ基等）、
アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～３０の置換又は無置換のアリールオキシ基。例えば、フェノキシ基、２－メチルフェノキシ基、２，４－ジ－ｔｅｒｔ－アミルフェノキシ基、４－ｔｅｒｔ－ブチルフェノキシ基、３－ニトロフェノキシ基、及び２－テトラデカノイルアミノフェノキシ基等）、
シリルオキシ基（好ましくは炭素数３～２０のシリルオキシ基。例えば、トリメチルシリルオキシ基、及びｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルオキシ基等）、
ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数２～３０の置換又は無置換のヘテロ環オキシ基。ヘテロ環オキシ基中のヘテロ環基としては、上述したヘテロ環基から水素原子を１つ除いた２価のヘテロ環基が挙げられる。ヘテロ環オキシ基としては、例えば、１－フェニルテトラゾール－５－オキシ基、及び２－テトラヒドロピラニルオキシ基等が挙げられる。）、

アシルオキシ基（好ましくは、ホルミルオキシ基、炭素数２～３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、又は、炭素数６～３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基。例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ－メトキシフェニルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、及びメタクリロイルオキシ基等）、
カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１～３０の置換又は無置換のカルバモイルオキシ基。例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ－ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ－ジ－ｎ－オクチルアミノカルボニルオキシ基、及びＮ－ｎ－オクチルカルバモイルオキシ基等）、
アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルオキシ基。例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルオキシ基、及びｎ－オクチルカルボニルオキシ基等）、
アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７～３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基。例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ－メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、及びｐ－ｎ－ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基等）、

アミノ基（好ましくは、無置換アミノ基、炭素数１～３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６～３０の置換若しくは無置換のアリールアミノ基、又は炭素数０～３０のヘテロ環アミノ基。例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ－メチル－アニリノ基、ジフェニルアミノ基、及びＮ－１，３，５－トリアジン－２－イルアミノ基等）、
アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１～３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、又は炭素数６～３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基。例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５－トリ－ｎ－オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基、アクリロイルアミノ基、及びメタクリロイルアミノ基等）、
アミノカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０の置換又は無置換のアミノカルボニルアミノ基。例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノカルボニルアミノ基、及びモルホリノカルボニルアミノ基等）、
アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルアミノ基。例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ－オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、及びＮ－メチル－メトキシカルボニルアミノ基等）、

アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基。例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ－クロロフェノキシカルボニルアミノ基、及びｍ－ｎ－オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基等）、
スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数０～３０の置換又は無置換のスルファモイルアミノ基。例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノスルホニルアミノ基、及びＮ－ｎ－オクチルアミノスルホニルアミノ基等）、
アルキル又はアリールスルホニルアミノ基（好ましくは、炭素数１～３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、又は、炭素数６～３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ基。例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５－トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、及びｐ－メチルフェニルスルホニルアミノ基等）、
メルカプト基、

アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～３０の置換又は無置換のアルキルチオ基。例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、及びｎ－ヘキサデシルチオ基等）、
アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０の置換又は無置換のアリールチオ基。例えば、フェニルチオ基、ｐ－クロロフェニルチオ基、及びｍ－メトキシフェニルチオ基等）、
ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２～３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基。ヘテロ環チオ基中のヘテロ環基としては、上述したヘテロ環基から水素原子を１つ除いた２価のヘテロ環基が挙げられる。ヘテロ環チオ基としては、例えば、２－ベンゾチアゾリルチオ基、及び１－フェニルテトラゾール－５－イルチオ基が挙げられる。）、
スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０の置換又は無置換のスルファモイル基。例えば、Ｎ－エチルスルファモイル基、Ｎ－（３－ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルスルファモイル基、Ｎ－アセチルスルファモイル基、Ｎ－ベンゾイルスルファモイル基、及びＮ－（Ｎ’－フェニルカルバモイル）スルファモイル基等）、
スルホ基、

アルキル又はアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１～３０の置換若しくは無置換のアルキルスルフィニル基、又は６～３０の置換若しくは無置換のアリールスルフィニル基。例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、及びｐ－メチルフェニルスルフィニル基等）、
アルキル又はアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１～３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、又は炭素数６～３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基。例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、及びｐ－メチルフェニルスルホニル基等）、
アシル基（好ましくは、ホルミル基、炭素数２～３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、又は炭素数７～３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基。例えば、アセチル基、ピバロイル基、２－クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ－ｎ－オクチルオキシフェニルカルボニル基、アクリロイル基、及びメタクリロイル基等）、
アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニル基。例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ－クロロフェノキシカルボニル基、ｍ－ニトロフェノキシカルボニル基、及びｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノキシカルボニル基等）、

アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０の置換又は無置換アルコキシカルボニル基。例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、及びｎ－オクタデシルオキシカルボニル基等）、
カルバモイル基（好ましくは炭素数１～３０の置換又は無置換のカルバモイル基。例えば、カルバモイル基、Ｎ－メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジ－ｎ－オクチルカルバモイル基、及びＮ－（メチルスルホニル）カルバモイル基等）、
アリール又はヘテロ環アゾ基（好ましくは、炭素数６～３０の置換若しくは無置換のアリールアゾ基、又は炭素数３～３０の置換若しくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環アゾ基中のヘテロ環基としては、上述したヘテロ環基から水素原子を１つ除いた２価のヘテロ環基が挙げられる）。例えば、フェニルアゾ基、ｐ－クロロフェニルアゾ基、及び５－エチルチオ－１，３，４－チアジアゾール－２－イルアゾ基等）、
イミド基（好ましくは炭素数２～３０の置換又は無置換のイミド基。例えば、Ｎ－スクシンイミド基、及びＮ－フタルイミド基等）、
ホスフィノ基（好ましくは炭素数２～３０の置換又は無置換のホスフィノ基。例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、及びメチルフェノキシホスフィノ基等）、
ホスフィニル基（好ましくは炭素数２～３０の置換又は無置換のホスフィニル基。例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、及びジエトキシホスフィニル基等）、

ホスフィニルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０の置換又は無置換のホスフィニルオキシ基。例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、及びジオクチルオキシホスフィニルオキシ基等）、
ホスフィニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０の置換又は無置換のホスフィニルアミノ基。例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、及びジメチルアミノホスフィニルアミノ基等）、及び、
シリル基（好ましくは炭素数３～３０の置換又は無置換のシリル基。例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、及びフェニルジメチルシリル基等）が挙げられる。

上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、官能基中の水素原子の部分が、上記いずれかの基で置換されていてもよい。置換基として導入可能な官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基（例えば、アセチルアミノスルホニル基等）、アリールカルボニルアミノスルホニル基（例えば、ベンゾイルアミノスルホニル基等）、アルキルスルホニルアミノカルボニル基（例えば、メチルスルホニルアミノカルボニル基等）、及びアリールスルホニルアミノカルボニル基（例えば、ｐ－メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基等）等が挙げられる。

〔組成物〕
本発明の組成物は、後述する一般式（Ｉ－１）で表される繰り返し単位又は後述する一般式（Ｉ－２）で表される繰り返し単位を含む樹脂と、溶媒と、ナトリウムイオン、カリウムイオン、及びカルシウムイオンからなる群より選ばれる特定金属イオンと、を含み、上記特定金属イオンの総含有量が、組成物全質量に対して、０．０１～３０質量ｐｐｍである。

上記組成物の特徴点としては、後述する一般式（Ｉ－１）で表される繰り返し単位又は後述する一般式（Ｉ－２）で表される繰り返し単位を含む樹脂（以下、「特定トリアジン系樹脂」ともいう）と、所定含有量の特定金属イオンとを併用している点が挙げられる。
トリアジン系樹脂に代表される高屈折率性を示す材料は、その分子間相互作用により会合して凝集体を形成しやすい。今般、本発明者らは、上記凝集体を含む硬化膜について検討したところ、上記硬化膜は高温－低温環境下に繰り返し晒されるとミクロ相分離（凝集部分と非凝集部分との相分離）を生じ易く、このミクロ相分離に起因して、硬化膜は、欠陥が増加することを知見している。
本発明者らは、上記知見に基づいて更に検討を進めたところ、特定トリアジン系樹脂と、所定含有量の特定金属イオンとを配合した組成物によれば、形成される硬化膜はミクロ相分離が生じにくく、結果として、上記硬化膜は、高温－低温環境下に繰り返し晒された後でも欠陥発生が抑制されていることを明らかとした。
上記作用機序は明らかではないが、上記特定金属イオンは、特定トリアジン系樹脂中の窒素原子等とイオン相互作用し易いため、組成物により塗布膜を形成する過程において、特定トリアジン系樹脂の会合を抑制すると推測される。一方で、組成物中の上記特定金属イオンの含有量が多すぎると、組成物により塗布膜を形成する過程において、上記特定金属イオンと特定トリアジン系樹脂とが錯化し易く、これに起因して、硬化膜のミクロ相分離（錯化部分と非錯化部分との相分離）が生じ易くなる。特に、硬化膜が、高温－低温環境下に繰り返し晒されると、系内の上記特定金属イオンと特定トリアジン系樹脂との錯化が更に進行し、ミクロ相分離の発生量がより増加する。この結果、高温－低温環境下に繰り返し晒された硬化膜は、欠陥が増加する。
本発明者らは、組成物中において、上記特定金属イオンの総含有量が、組成物全質量に対して、０．０１～３０質量ｐｐｍである場合、特定トリアジン系樹脂の会合、及び特定トリアジン系樹脂と特定金属イオンとの錯化が抑制され、得られる硬化膜は、高温－低温環境下に繰り返し晒された後でも欠陥発生が抑制されることを明らかとしている。また、上記硬化膜は、高温－低温環境下に繰り返し晒された後でも分光変動（透過率の変化）が小さいことも確認されている。

なお、上記組成物が、溶媒としてトルエンを含み、上記トルエンの含有量が、組成物全質量に対して０．００１～１０質量ｐｐｍである場合、組成物により形成される塗布膜の表面外観に優れる。この作用機序は明らかではないが、トルエンは、特定トリアジン系樹脂の相溶性に影響を与えていると推測される。

以下に、上記組成物中に含まれる各成分について詳述する。

＜特定トリアジン系樹脂＞
上記組成物は、一般式（Ｉ－１）で表される繰り返し単位又は一般式（Ｉ－２）で表される繰り返し単位を含む樹脂（特定トリアジン系樹脂）を含む。
（一般式（Ｉ－１）で表される繰り返し単位）

一般式（Ｉ－１）中、Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３は、それぞれ独立して、－ＮＲ^１－、－Ｏ－、又は－Ｓ－を表す。
Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３としては、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の屈折率がより優れる点、及び高温－低温環境下に繰り返し晒されても硬化膜の分光変動が小さい点で、－ＮＲ^１－が好ましい。

Ｒ^１は、水素原子、又は置換基を表す。
Ｒ^１で表される置換基としては特に制限されないが、例えば、上述した置換基群Ｔで例示された基が挙げられ、なかでも、アルキル基、又はアリール基が好ましい。
Ｒ^１で表されるアルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい）としては特に制限されないが、例えば、炭素数１～１０のアルキル基が挙げられ、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、炭素数１～３のアルキル基がより好ましい。また、Ｒ^１で表されるアリール基としては特に制限されないが、例えば、フェニル基等が挙げられる。
Ｒ^１としては、なかでも、水素原子、又は炭素数１～３のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
また、Ｒ^１で表されるアルキル基及びアリール基は、置換基（例えば、置換基群Ｔに例示された基）を有していてもよい。

Ｗ^１は、２価の連結基を表す。
Ｗ^１で表される２価の連結基としては特に制限されないが、例えば、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－ＮＲ^Ａ－、アリーレン基、アルキレン基、ヘテロアリーレン基、及びこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。アルキレン基は、ハロゲン原子などの置換基（例えば、置換基群Ｔに例示された基）で置換されていてもよい。

上記アリーレン基の炭素数は特に制限されないが、例えば、６～２０が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０が更に好ましい。上記アリーレン基としては、具体的には、１，４－フェニレン基、１，３－フェニレン基、１，４－ナフチレン基、１，５－ナフチレン基、２，７－フルオレニレン基、３，６－フルオレニレン基、９，９－フルオレニレン基、及びアントラセニレン基等が挙げられ、１，４－フェニレン基が好ましい。
上記アリーレン基は、置換基（例えば、置換基群Ｔに例示された基）を有していてもよい。

上記Ｒ^Ａは、水素原子、又は置換基を表し、水素原子が好ましい。
上記Ｒ^Ａで表される置換基としては、上記Ｒ^１で表される置換基と同義である。

Ｗ^１で表される２価の連結基としては、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の屈折率がより優れる点、及び高温－低温環境下に繰り返し晒されても硬化膜の分光変動が小さい点で、下記一般式（ＩＩＩ）で表される２価の連結基が好ましい。

一般式（ＩＩＩ）中、Ａ^１及びＡ^３は、それぞれ独立して、単結合又はアリーレン基を表し、Ａ^１及びＡ^３の少なくとも一方はアリーレン基を表す。Ａ^２は、単結合、－Ｏ－、ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－ＮＲ^Ａ－、又はアリーレン基を表す。Ｒ^Ａは、水素原子、又は置換基を表す。＊は結合位置を表す。

なお、Ａ^１、Ａ^２、及びＡ^３で表されるアリーレン基、及びＲ^Ａの具体的な態様については、上述した通りである。
なかでも、Ａ^１～Ａ^３で表されるアリーレン基としては、１，４－フェニレン基であることが好ましい。

以下に、上記一般式（ＩＩＩ）で表される基の具体例を示すが、これに制限されない。

Ｖは、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。
Ｖで表されるアルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい）としては特に制限されないが、例えば、炭素数１～１０のアルキル基が挙げられ、炭素数１～６のアルキル基がより好ましく、炭素数１～３のアルキル基が更に好ましい。
Ｖで表されるアリール基としては、例えば、６～１０員環又はその縮合環からなるアリール基が挙げられる。
アリール基を構成する環の具体例としては、特に制限されないが、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、トリフェニレン環、ピレン環、及びナフタセン環等が挙げられ、ベンゼン環又はナフタレン環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。なお、上記環は、環上の水素原子が１個除かれることにより、アリール基を構成する。
Ｖで表されるヘテロ環基としては特に制限されず、例えば、脂肪族ヘテロ環基、及び、芳香族ヘテロ環基が挙げられる。なお、脂肪族ヘテロ環としては、５員環、６員環若しくは７員環、又はその縮合環が挙げられる。また、芳香族ヘテロ環としては、５員環、６員環若しくは７員環、又はその縮合環が挙げられる。
なお、上記縮合環においては、ベンゼン環などのヘテロ環基以外の環が含まれていてもよい。

上記脂肪族ヘテロ環基が含むヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が挙げられる。脂肪族ヘテロ環の炭素数は特に制限されないが、３～２０が好ましい。
上記脂肪族ヘテロ環の具体例としては、特に制限されないが、例えば、オキソラン環、オキサン環、ピぺリジン環、及びピペラジン環等が挙げられる。なお、上記脂肪族ヘテロ環は、環上の水素原子が１個除かれることにより、脂肪族ヘテロ環基を構成する。

上記芳香族ヘテロ環基が含むヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が挙げられる。芳香族ヘテロ環基の炭素数は特に制限されないが、３～２０が好ましい。
上記芳香族ヘテロ環の具体例としては特に制限されないが、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、テトラジン環、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、インドリン環、イソインドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、ナフチリジン環、プリン環、及びプテリジン環等が挙げられる。なお、上記芳香族ヘテロ環は、環上の水素原子が１個除かれることにより、芳香族ヘテロ環基を構成する。

Ｖで表されるアルキル基、アリール基、及びヘテロ環基は、置換基（例えば、置換基群Ｔに例示された基）を有していてもよい。

上記Ｖとしては、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の屈折率がより優れる点で、置換基を有するアリール基が好ましく、なかでも、下記一般式（ＩＩ）で表される基がより好ましい。

一般式（ＩＩ）中、＊は、一般式（Ｉ－１）中のＸ^３との結合位置を表す。
Ｒ^３は、置換基を表す。なかでも、Ｒ^３としては、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルキルチオ基、又はハロゲン原子が好ましい。
Ｒ^３で表されるアルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい）としては特に制限されないが、例えば、炭素数１～１０のアルキル基が挙げられ、炭素数１～６のアルキル基がより好ましく、炭素数１～３のアルキル基が更に好ましい。
Ｒ^３で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子等が挙げられる。
Ｒ^３で表されるアルキルチオ基としては特に制限されないが、例えば、炭素数１～１０のアルキルチオ基が挙げられ、炭素数１～６のアルキルチオ基がより好ましく、炭素数１～３のアルキルチオ基が更に好ましい。なお、アルキルチオ基中のアルキレン基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。
なお、Ｒ^３で表されるアルキル基及びアルキルチオ基は、更に置換基（例えば、置換基群Ｔに例示された基）を有していてもよい。

Ｒ^３としては、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の屈折率がより優れる点で、シアノ基が好ましい。

Ｒ^４は、置換基を表す。なかでも、Ｒ^４としては、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルキルチオ基、又はハロゲン原子が好ましい。
Ｒ^４で表されるアリール基及びヘテロ環基としては、上記Ｖで表されるアリール基及びヘテロ環基と同義である。Ｒ^４で表されるアリール基としては、フェニル基が好ましい。
Ｒ^４で表されるアルキル基、アルキルチオ基、及びハロゲン原子としては、上記Ｒ^３で表されるアルキル基、アルキルチオ基、及びハロゲン原子と同義であり、好適態様も同じである。
Ｒ^４としては、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の屈折率がより優れる点で、アリール基、シアノ基、ニトロ基、又はハロゲン原子が好ましい。

ｍ及びｎは、それぞれ独立して、０～５の整数を表す。但し、ｍ＋ｎは１～５である。
高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の屈折率がより優れる点で、ｍは０であることが好ましく、ｎは１であることがより好ましい。

上記一般式（ＩＩ）で表される基としては、なかでも、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の屈折率がより優れる点で、下記一般式（ＩＩＡ）で表される基が好ましい。

一般式（ＩＩＡ）中、＊は、一般式（Ｉ－１）中のＸ^３との結合位置を表す。
一般式（ＩＩＡ）中、Ｒ^４は、一般式（ＩＩ）中のＲ^４と同義であり、好適態様も同じである。
Ｒ^４としては、なかでも、Ｒ^４が置換しているフェニル基において、上記フェニル基に隣接するフェニレン基との結合位置に対して、パラ位に位置することが好ましい。つまり、例えば、Ｒ^４がアリール基を表す場合、一般式（ＩＩＡ）で表される基は、ｐ－ターフェニレン基であることが好ましい。

（一般式（Ｉ－２）で表される繰り返し単位）

一般式（Ｉ－２）中、Ｘ^４、Ｘ^５、及びＸ^６は、それぞれ独立して、－ＮＲ^２－、－Ｏ－、又は－Ｓ－を表す。Ｗ^２は、２価の連結基を表す。Ｒ^２は、水素原子、又は置換基を表す。

一般式（Ｉ－２）中、Ｒ^２としては、一般式（Ｉ－１）中のＲ^１と同義であり、好適態様も同じである。
一般式（Ｉ－２）中、Ｗ^２としては、一般式（Ｉ－１）中のＷ^１と同義である。
また、Ｗ^２で表される２価の連結基としては、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の屈折率がより優れる点、及び高温－低温環境下に繰り返し晒されても硬化膜の分光変動が小さい点で、Ａ^１～Ａ^３で表されるアリーレン基としては、１，４－フェニレン基であることが好ましい。
Ｗ^２で表される２価の連結基としては、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の屈折率がより優れる点、及び高温－低温環境下に繰り返し晒されても硬化膜の分光変動が小さい点で、Ａ^１～Ａ^３がいずれもアリーレン基（好ましくは１，４－フェニレン基）を表すことがより好ましい。

Ｘ^４、Ｘ^５、及びＸ^６としては、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の屈折率がより優れる点、及び高温－低温環境下に繰り返し晒されても硬化膜の分光変動が小さい点で、－ＮＲ^２－が好ましい。

上記一般式（Ｉ－２）で表される繰り返し単位を含む化合物は、例えば、下記で表される化合物（重縮合物及び重付加物）が挙げられる。

（例示１）下記一般式（Ｖ）で表される化合物と、下記一般式（ＶＩ）で表される化合物との重縮合物又は重付加物。

上記一般式（Ｖ）中、Ｙ^１～Ｙ^３は、脱離基（例えば、ハロゲン原子）、又はイソシアネート基を表す。
上記一般式（ＶＩ）中、Ｘ^７及びＸ^８は、それぞれ独立して、－ＮＲ^２－、－Ｏ－、又は－Ｓ－を表す。Ｒ^２は、水素原子、又は置換基を表す。Ｗ^３は、２価の連結基を表す。
上記Ｒ^２で表される置換基としては、上述した一般式（ＩＩ－２）中のＲ^２と同様のものが挙げられる。
上記Ｗ^３で表される２価の連結基としては、上述した一般式（ＩＩ－２）中のＷ^２と同様のものが挙げられる。

（例示２）下記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物と、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物との重縮合物又は重付加物。

上記一般式（ＶＩＩ）中、Ｘ^９～Ｘ^１１は、それぞれ独立して、－ＮＲ^２－、－Ｏ－、又は－Ｓ－を表す。Ｒ^２は、水素原子、又は置換基を表す。
上記Ｒ^２で表される置換基としては、上述した一般式（ＩＩ－２）中のＲ^２と同様のものが挙げられる。
上記一般式（ＶＩＩＩ）中、Ｙ^４及びＹ^５は、脱離基（例えば、ハロゲン原子）、又はイソシアネート基を表す。Ｗ^４は、２価の連結基を表す。
上記Ｗ^４で表される２価の連結基としては、上述した一般式（ＩＩ－２）中のＷ^２と同様のものが挙げられる。

以下に、一般式（Ｉ－１）で表される繰り返し単位及び一般式（Ｉ－２）で表される繰り返し単位の具体例を示すが、本発明はこれに制限されるものではない。なお、下記具体例中において「Ｍｅ」はメチル基を表す。

特定トリアジン系樹脂中、上記一般式（Ｉ－１）で表される繰り返し単位又は上記一般式（Ｉ－２）で表される繰り返し単位は、特定トリアジン系樹脂中の全繰り返し単位に対して、５０～１００モル％が好ましく、８０～１００モル％がより好ましく、９０～１００モル％が更に好ましい。

特定トリアジン系樹脂は、公知の手法（重縮合）に従って合成できる。

特定トリアジン系樹脂の重量平均分子量は、２，０００～１００，０００が好ましく、２，０００～５０，０００がより好ましく、４，０００～２０，０００が更に好ましい。分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、通常１．０～３．０であり、１．０～２．６が好ましく、１．０～２．０がより好ましく、１．１～２．０が更に好ましい。

上記組成物中、特定トリアジン系樹脂は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記組成物中、特定トリアジン系樹脂の含有量（複数種存在する場合はその合計）は、組成物の全固形分に対して、一般的に８０．０質量％以上の場合が多く、８５．０質量％以上が好ましく、９０．０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９９．９質量％以下が好ましく、９９．５質量％以下がより好ましい。

＜特定金属イオン＞
上記組成物は、ナトリウムイオン、カリウムイオン、及びカルシウムイオンからなる群より選ばれる特定金属イオンを含む。
上記組成物中、上記特定金属イオンの総含有量は、組成物全質量に対して、０．０１～３０質量ｐｐｍであり、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の欠陥抑制性により優れる点で、０．０３～１０質量ｐｐｍが好ましい。
また、上記組成物中、上記特定金属イオンの総含有量は、特定トリアジン系樹脂に対して、０．１～３００質量ｐｐｍであることが好ましく、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の欠陥抑制性により優れる点で、０．３～１００質量ｐｐｍが好ましい。
なお、上記組成物中における特定金属イオンの含有量は、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）発光分光分析装置（例えば、パーキンエルマー製「Ｏｐｔｉｍａ７３００ＤＶ」）により測定できる。

＜溶媒＞
上記組成物は、溶媒を含む。
上記溶媒としては、例えば、エチルセロソルブアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、γ－ブチロラクトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸シクロヘキシル等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、３－メトキシプロパノール、１－メトキシ－２－プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、及びジエチレングリコールジエチルエーテル等のアルコール類；ベンゼン、キシレン、エチルベンゼン、及びアニソール等の芳香族炭化水素類；シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；アセトニトリル等のニトリル類；アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、シクロペンタノン、及びジアセトンアルコール等のケトン類；エチレンジクロライド等のハロゲン化合物；シクロヘキシルメチルエーテル、及びジブチルエーテル等のエーテル類；３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、及び３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド等のアミド類；等が挙げられる。
なお、上記溶媒の詳細は、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２２３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。ただし、上記溶媒としての芳香族炭化水素類は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、溶媒全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。

（トルエン）
上記組成物は、溶媒としてトルエンを含んでいてもよい。
上記組成物中、トルエンの総含有量は、組成物全質量に対して、０．００１～１０質量ｐｐｍであることが好ましい。組成物中におけるトルエンの総含有量が上記数値範囲である場合、組成物により形成される塗布膜の表面外観に優れる。
また、上記組成物中、上記トルエンの総含有量は、特定トリアジン系樹脂に対して、０．０１～１００質量ｐｐｍであることが好ましい。
なお、上記組成物中におけるトルエンの含有量は、ガスクロマトグラフィーにて測定できる。

上記組成物中、上記溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

本発明において、金属含有量の少ない溶媒を用いることが好ましく、溶媒の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの溶媒を用いてもよく、そのような高純度溶媒は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。

溶媒から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留、及び薄膜蒸留等）、又は、フィルタを用いたろ過が挙げられる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、又はナイロンが好ましい。

溶媒は、異性体（同じ原子数で異なる構造の化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。

本発明において、溶媒は、過酸化物の含有量が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。

溶媒の含有量は、組成物の固形分濃度が１～９０質量％となる量が好ましく、組成物の固形分濃度が１～５０質量％となる量がより好ましく、組成物の固形分濃度が５～３０質量％となる量が更に好ましく、５～２０質量％となる量が特に好ましい。
なお、組成物の固形分濃度とは、組成物全質量に対する全固形分の濃度を意図する（つまり、組成物中における、硬化膜を形成する成分の濃度を意図する）。なお、全固形分の定義については、上述した通りである。

＜その他成分＞
上記組成物は、上述した成分以外のその他の成分を含んでもよい。その他の成分としては、硬化性化合物（重合性化合物を含む。）、重合開始剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、重合禁止剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、充填材（例えば、無機粒子）、硬化促進剤、可塑剤、低分子量有機カルボン酸等の現像性向上剤、及び凝集防止剤等の各種添加剤が挙げられる。

（硬化性化合物）
上記組成物は、硬化性化合物を含むことが好ましい。
硬化性化合物としては、ラジカル、酸、又は、熱により硬化可能な公知の化合物を使用できる。例えば、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物、並びに、メチロール基及びチオール基等の反応性基を有する化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリロイル基、及び（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、又は（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましい。硬化性化合物は、重合性化合物であることが好ましく、ラジカル重合性化合物であることがより好ましい。重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物等が挙げられる。

硬化性化合物の含有量は、組成物の全固形分に対し、１～８０質量％が好ましい。下限は、３質量％以上がより好ましく、４質量％以上が更に好ましい。上限は、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましく、３０質量％以下が特に好ましい。
上記組成物中、硬化性化合物は、１種単独であってもよいし、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、硬化性化合物を２種以上含む場合、合計含有量が上記範囲となることが好ましい。

・エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物（重合性化合物）
本発明において、硬化性化合物として、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物（以下、重合性化合物ともいう）を使用できる。重合性化合物は、モノマーであることが好ましい。重合性化合物の分子量は、１００～３０００が好ましい。上限は、２０００以下がより好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上がより好ましく、２５０以上が更に好ましい。重合性化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。

重合性化合物の例としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３３～００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。重合性化合物としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ；新中村化学工業（株）製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、及びこれらの（メタ）アクリロイル基が、エチレングリコール残基及び／又はプロピレングリコール残基を介して結合している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。また、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０５８５）に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成（株）製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、Ａ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。例えば、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）等が挙げられる。

重合性化合物は、カルボキシ基、スルホ基、及びリン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を有する重合性化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル等が挙げられる。脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基をもたせた重合性化合物が好ましく、より好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び／又はジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成（株）製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ－３０５、Ｍ－５１０、及びＭ－５２０等が挙げられる。
酸基を有する重合性化合物の酸価は、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。

重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物であることも好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に制限されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、及びトリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸及びε－カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε－カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートを挙げられる。カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００４２～００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、及びＤＰＣＡ－１２０等、並びに、サートマー社製のエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ－４９４、及び、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ－３３０等が挙げられる。

重合性化合物としては、特公昭４８－４１７０８号公報、特開昭５１－３７１９３号公報、特公平２－３２２９３号公報、及び特公平２－１６７６５号公報に記載されているウレタンアクリレート類、並びに、特公昭５８－４９８６０号公報、特公昭５６－１７６５４号公報、特公昭６２－３９４１７号公報、及び特公昭６２－３９４１８号公報に記載されているエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭６３－２７７６５３号公報、特開昭６３－２６０９０９号公報、及び特開平１－１０５２３８号公報に記載されている、分子内にアミノ構造及び／又はスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を使用できる。市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ－１０、及びＵＡＢ－１４０（山陽国策パルプ社製）、ＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、並びに、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、及びＡＩ－６００（共栄社化学（株）製）等が挙げられる。

・エポキシ基を有する化合物
硬化性化合物として、エポキシ基を有する化合物を用いることもできる。エポキシ基を有する化合物は、１分子内にエポキシ基を１つ以上有する化合物が挙げられ、１分子内にエポキシ基を２つ以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は１分子内に１～１００個有することが好ましい。上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。下限は、２個以上が好ましい。

エポキシ基を有する化合物は、エポキシ当量（＝エポキシ基を有する化合物の分子量／エポキシ基の数）が５００ｇ／当量以下であることが好ましく、１００～４００ｇ／当量であることがより好ましく、１００～３００ｇ／当量であることが更に好ましい。

エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物（例えば、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。エポキシ基を有する化合物の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下がより好ましく、５０００以下が更に好ましく、３０００以下が特に好ましい。

エポキシ基を有する化合物は、市販品を用いることもできる。例えば、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、及びＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。また、エポキシ基を有する化合物は、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６、及び特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。

（重合開始剤）
上記組成物は、重合開始剤を含んでいてもよく、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択できる。例えば、光重合開始剤は、紫外領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。

光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、及びオキサジアゾール骨格を有する化合物等）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、並びに、ヒドロキシアセトフェノン等が挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物、及び３－アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、及びアシルホスフィン化合物からなる群より選択される化合物がより好ましい。得られる膜がより優れる点で、なかでも、オキシム化合物が更に好ましい。光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落番号００６５～０１１１の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

光重合開始剤としては、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に使用できる。例えば、特開平１０－２９１９６９号公報に記載のα－アミノケトン化合物、及び、特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィン化合物も使用できる。α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ－１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－２９５９、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ－１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ－８１９、及びＤＡＲＯＣＵＲ－ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。オキシム化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０３、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（（株）ＡＤＥＫＡ製）、並びに、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）等が挙げられる。

本発明においては、光重合開始剤としてフルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

本発明においては、光重合開始剤としてフッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、及び、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）等が挙げられる。これらの内容は本明細書に組み込まれる。

本発明においては、光重合開始剤としてニトロ基を有するオキシム化合物を使用できる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２及び００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、並びに、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。

本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに制限されるものではない。

オキシム化合物は、３５０～５００ｎｍの波長領域に極大吸収を有する化合物が好ましく、３６０～４８０ｎｍの波長領域に極大吸収を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物は、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの吸光度が高い化合物が好ましい。
オキシム化合物の３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１,０００～３００，０００であることが好ましく、２,０００～３００，０００であることがより好ましく、５,０００～２００，０００であることが更に好ましい。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定できる。例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。

光重合開始剤は、オキシム化合物とα－アミノケトン化合物とを含むことも好ましい。両者を併用することで、現像性が向上し、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。オキシム化合物とα－アミノケトン化合物とを併用する場合、オキシム化合物１００質量部に対して、α－アミノケトン化合物を５０～６００質量部含むことが好ましく、１５０～４００質量部がより好ましい。

重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～５０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましく、１～１０質量％が特に好ましい。
重合開始剤の含有量が上記範囲の場合、感度により優れ、且つ、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。上記組成物は、重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。上記組成物が、重合開始剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。

（酸化防止剤）
上記組成物は、酸化防止剤を含んでもよい。
酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、及びチオエーテル化合物等が挙げられる。酸化防止剤としては、分子量５００以上のフェノール化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル化合物、又は分子量５００以上のチオエーテル化合物が好ましい。これらは２種以上を混合して使用してもよい。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができ、多置換フェノール系化合物が好ましい。多置換フェノール系化合物は、大きく分けてその置換位置及び構造の異なる３種類（ヒンダードタイプ、セミヒンダードタイプ、及びレスヒンダードタイプ）がある。また、酸化防止剤としては、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物が好ましく用いられる。また、酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤も好ましく用いられる。酸化防止剤は市販品を用いることもできる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ ＡＯ－２０、アデカスタブ ＡＯ－３０、アデカスタブ ＡＯ－４０、アデカスタブ ＡＯ－５０、アデカスタブ ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ ＡＯ－６０、アデカスタブ ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ ＡＯ－８０、及びアデカスタブ ＡＯ－３３０（（株）ＡＤＥＫＡ）等が挙げられる。また、酸化防止剤としては、特開２０１４－０３２３８０号公報の段落番号００３３～００４３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

酸化防止剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．３～１５質量％がより好ましい。酸化防止剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。上記組成物が、酸化防止剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。

（シランカップリング剤）
上記組成物は、シランカップリング剤を含んでもよい。
本発明において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、及びアシルオキシ基等が挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基は、樹脂との間で相互作用若しくは結合を形成して親和性を示す基が好ましい。例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、及びフェニル基等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、又はエポキシ基が好ましい。

シランカップリング剤の具体例としては、例えば、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。また、シランカップリング剤としては、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、及び特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シランカップリング剤は市販品を用いることもできる。シランカップリング剤の市販品としては、信越シリコーン（株）製のＫＢＭ－１３、ＫＢＭ－２２、ＫＢＭ－１０３、ＫＢＥ－１３、ＫＢＥ－２２、ＫＢＥ－１０３、ＫＢＭ－３０３３、ＫＢＥ－３０３３、ＫＢＭ－３０６３、ＫＢＭ－３０６６、ＫＢＭ－３０８６、ＫＢＥ－３０６３、ＫＢＥ－３０８３、ＫＢＭ－３１０３、ＫＢＭ－７１０３、ＳＺ－３１、ＫＰＮ－３５０４、ＫＢＭ－１００３、ＫＢＥ－１００３、ＫＢＭ－３０３、ＫＢＭ－４０２、ＫＢＭ－４０３、ＫＢＥ－４０２、ＫＢＥ－４０３、ＫＢＭ－１４０３、ＫＢＭ－５０２、ＫＢＭ－５０３、ＫＢＥ－５０２、ＫＢＥ－５０３、ＫＢＭ－５１０３、ＫＢＭ－６０２、ＫＢＭ－６０３、ＫＢＭ－９０３、ＫＢＥ－９０３、ＫＢＥ－９１０３、ＫＢＭ－５７３、ＫＢＭ－５７５、ＫＢＭ－９６５９、ＫＢＥ－５８５、ＫＢＭ－８０２、ＫＢＭ－８０３、ＫＢＥ－８４６、ＫＢＥ－９００７、Ｘ－４０－１０５３、Ｘ－４１－１０５９Ａ、Ｘ－４１－１０５６、Ｘ－４１－１８０５、Ｘ－４１－１８１８、Ｘ－４１－１８１０、Ｘ－４０－２６５１、Ｘ－４０－２６５５Ａ、ＫＲ－５１３、ＫＣ－８９Ｓ、ＫＲ－５００、ＫＲ－５１６、ＫＲ－５１７、Ｘ－４０－９２９６、Ｘ－４０－９２２５、Ｘ－４０－９２４６、Ｘ－４０－９２５０、ＫＲ－４０１Ｎ、Ｘ－４０－９２２７、Ｘ－４０－９２４７、ＫＲ－５１０、ＫＲ－９２１８、ＫＲ－２１３、Ｘ－４０－２３０８、及びＸ－４０－９２３８等が挙げられる。

シランカップリング剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１～１５．０質量％が好ましく、０．０５～１０．０質量％がより好ましい。シランカップリング剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。上記組成物が、シランカップリング剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。

（重合禁止剤）
上記組成物は、重合禁止剤を含んでもよい。
重合禁止剤は、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４'－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２'－メチレンビス（４－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、及びＮ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、及び第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。なお、重合禁止剤は、酸化防止剤として機能することもある。

重合禁止剤の含有量は、重合開始剤１００質量部に対して、０．０１～１０質量部が好ましく、０．０１～８質量部がより好ましく、０．０１～５質量部が更に好ましい。

（界面活性剤）
上記組成物は、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を含んでもよい。
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、及びシリコーン系界面活性剤等の各種界面活性剤を使用できる。界面活性剤は、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２３８～０２４５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

上記組成物がフッ素系界面活性剤を含むことで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上し、塗布厚の均一性及び省液性をより改善できる。フッ素系界面活性剤を含む組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力が低下して、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に実施できる。

フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好適であり、より好ましくは５～３０質量％であり、特に好ましくは７～２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性及び省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。

フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４－４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開２０１４／１７６６９号公報の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、及び特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、及び同Ｆ７８０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、及び同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０３、同ＳＣ－１０４、同ＳＣ－１０５、同ＳＣ－１０６８、同ＳＣ－３８１、同ＳＣ－３８３、同Ｓ－３９３、及び同ＫＨ－４０（以上、旭硝子（株）製）、並びに、ＰｏｌｙＦｏｘ ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、及びＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。

また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含む官能基を持つ分子構造で、熱を加えるとフッ素原子を含む官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。

フッ素系界面活性剤としては、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１－８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、又はプロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく使用できる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。

上記の化合物の重量平均分子量は、例えば、３，０００～５０，０００が好ましく、具体的には、１４，０００が挙げられる。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。

また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０及び段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、及びＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。

ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、及びグリセロールエトキシレート等）等が挙げられる。また、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、及び２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、及び１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、及びＮＣＷ－１００２（和光純薬工業（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、及びＤ－６３１５（竹本油脂（株）製）、並びに、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、及び４４０（日信化学工業（株）製）等も挙げられる。

また、フッ素系界面活性剤としては、ビニルエーテル重合型フッ素系界面活性剤を用いることもできる。ビニルエーテル重合型フッ素系界面活性剤としては、例えば、特開２０１６－２１６６０２号公報の実施例欄に記載されたもの（例えば、フッ素系界面活性剤（１））等が挙げられる。

界面活性剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０００１～５．０質量％が好ましく、０．０００５～３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。上記組成物が、界面活性剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。

（紫外線吸収剤）
上記組成物は、紫外線吸収剤を含んでもよい。
紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、及びヒドロキシフェニルトリアジン化合物等が挙げられる。これらの詳細については、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、及び特開２０１３－６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。共役ジエン化合物の市販品としては、例えば、ＵＶ－５０３（大東化学（株）製）等が挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。
紫外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～１０質量％が好ましく、０．１～５質量％がより好ましく、０．１～３質量％が更に好ましい。また、紫外線吸収剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。上記組成物が、紫外線吸収剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。

（充填材）
充填材としては、例えば無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、屈折率が高く、無色、白色又は透明な無機粒子が好ましく、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、又はマグネシウム（Ｍｇ）等の酸化物粒子が好ましく、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）粒子、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）粒子、又は二酸化珪素（ＳｉＯ_２）粒子がより好ましい。
無機粒子の一次粒子径は特に制限されず、１～１００ｎｍが好ましく、１～８０ｎｍがより好ましく、１～５０ｎｍが更に好ましい。無機粒子の一次粒子径が上記範囲内であれば、分散性がより優れると共に、屈折率及び透過率がより向上する。
無機粒子の屈折率は特に制限はないが、高屈折率を得る観点から、１．７５～２．７０が好ましく、１．９０～２．７０がより好ましい。
無機粒子の比表面積は特に制限はないが、１０～４００ｍ^２／ｇが好ましく、２０～２００ｍ^２／ｇがより好ましく、３０～１５０ｍ^２／ｇが更に好ましい。
また、無機粒子の形状には特に制限はなく、例えば、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、及び不定形状等が挙げられる。
無機粒子は、有機化合物により表面処理されたものであってもよい。表面処理に用いる有機化合物としては、例えば、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤、及びチタネートカップリング剤が挙げられる。なかでも、ステアリン酸又はシランカップリング剤が好ましい。
また、無機粒子の表面は、耐候性がより向上する点で、アルミニウム、ケイ素、及びジルコニア等の酸化物により覆われていることも好ましい。
無機粒子としては、市販されているものを好ましく使用できる。
上記組成物中、無機粒子は、１種単独でも、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（硬化促進剤）
上記組成物が、硬化性化合物として、カチオン重合性基を含む化合物（例えば、エポキシ基を有する化合物）を含む場合、組成物は、硬化促進剤を含むことが好ましい。
硬化速度を向上させる硬化促進剤としては、酸無水物、塩基（脂肪族アミン、芳香族アミン、及び変性アミン等）、酸（スルホン酸、リン酸、及びカルボン酸等）、及びポリメルカプタン等が挙げられる。なかでも、酸無水物が好ましく、脂肪族酸無水物が更に好ましい。

＜組成物の調製方法＞
上記組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶媒に溶解又は分散した後に逐次配合してもよい。例えば、全成分を同時に溶媒に溶解又は分散して組成物を調製してもよい。また、粒子性を示す成分を溶媒及び樹脂中で分散させて組成物を調製し、得られた組成物と他の成分（例えば、特定トリアジン系樹脂及び硬化性化合物等）とを混合してもよい。

上記組成物が粒子性を示す成分を含む場合、組成物の調製方法において、粒子を分散させるプロセスを含むことが好ましい。粒子を分散させるプロセスにおいて、粒子の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、及びキャビテーション等が挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、及び超音波分散等が挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくすること等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離等で粗粒子を除去することが好ましい。また、粒子を分散させるプロセス及び分散機としては、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」及び「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際 総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用できる。また粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、及び処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、及び特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。

上記組成物の調製にあたり、異物の除去及び欠陥の低減等の目的で、組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に制限されることなく使用できる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、及びナイロン－６，６）等のポリアミド系樹脂、並びに、ポリエチレン及びポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度及び／又は超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）及びナイロンが好ましい。
フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍ程度が好ましく、０．０１～３．０μｍ程度がより好ましく、０．０５～０．５μｍ程度が更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物を確実に除去できる。ファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、及びグラスファイバ等が挙げられる。具体的には、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８等）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、及びＴＰＲ００５等）、及びＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３等）等のフィルタカートリッジが挙げられる。

フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタ等）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照できる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＩＥＹ等）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）、及び株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択できる。第２のフィルタは、第１のフィルタと同様の素材等で形成されたものを使用できる。また、第１のフィルタでのろ過は、樹脂、及び溶媒のみを混合した混合液に対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。

＜用途＞
上記組成物、及び後述する本発明の樹脂の用途は特に制限されないが、例えば、固体撮像素子の高屈折部材（マイクロレンズ、カラーフィルタの下地層及び隣接層等の透明膜、並びに、カラーフィルタのホワイトピクセル等）、レンズ（眼鏡レンズ、デジタルカメラ用レンズ、フレネルレンズ、及びプリズムレンズ等）、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、光ファイバ、光導波路、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）用封止材料、ＬＥＤ用平坦化材料、及び太陽光電池用コーティング材として有用である。

〔膜〕
本発明の膜は、本発明の組成物から得られる膜である。
ここで、上記「膜」は、本発明の組成物により形成される塗布膜（未硬化の膜）、及び塗布膜を硬化して形成される硬化膜をいずれも意図している。
なお、硬化膜は、組成物中に硬化性化合物が含まれる場合、上記組成物により形成される塗布膜に対して硬化処理を施すことによって得られる。
上記膜の屈折率（波長５８９ｎｍ）は特に制限されないが、１．５５以上であることが好ましく、１．６～２．０であることがより好ましい。
上記膜の光透過率は特に制限されないが、４００～７００ｎｍの波長領域全域に渡って９０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましく、１００％であることが更に好ましい。
上記膜の厚みは特に制限されないが、０．１～２０μｍであることが好ましく、０．１～１０μｍであることがより好ましく、０．５～４μｍであることが更に好ましい。

上記組成物を硬化させる方法は特に制限されず、加熱及び露光等が挙げられる。加熱に使用する装置は特に制限されず、送風乾燥機、オーブン、赤外線乾燥機、及び加熱ドラム等を使用できる。露光に使用装置は特に制限されず、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン（Ｘｅ）ランプ、ケミカルランプ、及びカーボンアーク灯等を使用できる。

＜パターン状硬化膜の製造方法＞
以下、硬化膜の製造方法の一例として、パターン状の硬化膜を製造する方法について詳述する。

パターン状の硬化膜の製造方法は、基板上に、上記組成物を塗布して組成物層（塗布膜）を形成する工程（以下、適宜「組成物層形成工程」と略称する。）と、上記組成物層を、マスクを介して露光する工程（以下、適宜「露光工程」と略称する。）と、露光後の組成物層を現像してパターン状の硬化膜を形成する工程（以下、適宜「現像工程」と略称する。）と、を含む。
なお、上記で使用される組成物には、通常、硬化性化合物及び光重合開始剤が含まれる。

具体的には、上記組成物を、直接又は他の層を介して基板上に塗布して、組成物層を形成し（組成物層形成工程）、所定のマスクパターンを介して露光し、光照射された組成物層部分だけを硬化させ（露光工程）、現像液で現像することによって（現像工程）、画素からなるパターン状の硬化膜を形成できる。
以下、各工程について説明する。

・組成物層形成工程
組成物層形成工程では、基板上に、上記組成物を塗布して組成物層（塗布膜）を形成する。

基板としては特に制限されず、例えば、液晶表示装置等に用いられる無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラス、及びこれらに透明導電膜を付着させたもの、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板（例えば、シリコン基板等）、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）基板、並びに、ＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）基板等が挙げられる。

基板上への上記組成物の塗布方法としては、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、又はスクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用できる。

組成物の塗布膜厚としては、用途により適宜選択され得るが、例えば、０．１～２０μｍであり、０．１～１０μｍがより好ましく、０．５～４μｍが更に好ましい。

基板上に塗布された組成物は、通常、７０～１１０℃で２～４分程度の条件下で乾燥する。これにより、組成物層を形成できる。

・露光工程
露光工程では、組成物層形成工程において形成された組成物層（塗布膜）を、マスクを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させる。
露光は、活性光線又は放射線の照射により行うことが好ましく、特に、ｇ線、ｈ線、又はｉ線等の紫外線がより好ましい。照射強度は５～１５００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。

・現像工程
露光工程に次いで、アルカリ現像処理（現像工程）を行い、露光工程における光未照射部分をアルカリ水溶液に溶出させる。これにより、光硬化した部分（光照射された塗布膜部分）だけが残る。
現像液としては、下地の回路等にダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。現像温度としては通常２０～３０℃であり、現像時間は２０～９０秒である。

アルカリ性の水溶液としては、例えば、無機系現像液及び有機系現像液が挙げられる。無機系現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、又は、メタ硅酸ナトリウムを、濃度が０．００１～１０質量％、好ましくは０．０１～１質量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。有機系現像液としては、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、又は、１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が０．００１～１０質量％、好ましくは０．０１～１質量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。アルカリ性水溶液には、例えばメタノール又はエタノール等の水溶性有機溶媒及び／又は界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後純水で洗浄（リンス）する。

現像方法としては、例えば、パドル現像方法又はシャワー現像方法等を使用できる。

〔レンズ〕
本発明の膜（好ましくは硬化膜）は、レンズとして使用することもできる。レンズとしては、なかでも、上述した固体撮像素子のマイクロレンズに好適に使用できる。

〔固体撮像素子〕
本発明の膜（好ましくは硬化膜）は、固体撮像素子に好適に適用できる。
本発明の固体撮像素子の構成としては、例えば、基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる受光素子を有するとともに、カラーフィルタの下に本発明の膜である下塗り膜を備えた構成等が挙げられる。

〔樹脂〕
本発明は、高屈折率材料として好適に用いられ得る新規樹脂にも関する。本発明の樹脂は、下記一般式（ＩＶ－１）で表される繰り返し単位、又は下記一般式（ＩＶ－２）で表される繰り返し単位を含む樹脂である。なお、下記一般式（ＩＶ－１）で表される繰り返し単位、又は下記一般式（ＩＶ－２）で表される繰り返し単位を含む樹脂は、上述した特定トリアジン系樹脂の一形態に該当する。
以下に、本発明の樹脂について詳述する。
＜一般式（ＩＶ－１）で表される繰り返し単位＞

一般式（ＩＶ－１）中、Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３は、それぞれ独立して、－ＮＲ^１－、－Ｏ－、又は－Ｓ－を表す。Ｗ^１は、２価の連結基を表す。Ｒ^１は、水素原子、又は置換基を表す。Ｒ^５は、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルキルチオ基、又はハロゲン原子を表す。

一般式（ＩＶ－１）中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、及びＷ^１は、上述した一般式（Ｉ－１）中のＸ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、及びＷ^１と同義であり、好適態様も同じである。

一般式（ＩＶ－１）中、Ｒ^５は、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルキルチオ基、又はハロゲン原子を表す。
上記Ｒ^５で表される、ヘテロ環基、アルキル基、アルキルチオ基、及びハロゲン原子の好適態様としては、上述した一般式（ＩＩ）中のＲ^４で表される、ヘテロ環基、アルキル基、アルキルチオ基、及びハロゲン原子と各々同様である。

上記一般式（ＩＶ－１）としては、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の屈折率がより優れる点、なかでも、下記一般式（ＩＶ－１Ａ）で表される基であることが好ましい。

なかでも、Ｒ^５が置換しているフェニル基に隣接するフェニレン基との結合位置に対して、Ｒ^５はパラ位に位置することが好ましい。

＜下記一般式（ＩＶ－２）で表される繰り返し単位＞

一般式（ＩＶ－２）中、Ｘ^４、Ｘ^５、及びＸ^６は、それぞれ独立して、－ＮＲ^２－、－Ｏ－、又は－Ｓ－を表す。Ｒ^２は、水素原子、又は置換基を表す。

一般式（ＩＶ－２）中、Ｘ^４、Ｘ^５、及びＸ^６は、上述した一般式（Ｉ－２）中のＸ^４、Ｘ^５、及びＸ^６と同義であり、好適態様も同じである。

上記一般式（ＩＶ－２）としては、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の屈折率がより優れる点、なかでも、下記一般式（ＩＶ－２Ａ）で表される基であることが好ましい。

上記樹脂中、上記一般式（Ｉ－１）で表される繰り返し単位又は上記一般式（Ｉ－２）で表される繰り返し単位は、樹脂中の全繰り返し単位に対して、５０～１００モル％が好ましく、８０～１００モル％がより好ましく、９０～１００モル％が更に好ましい。

上記樹脂の重量平均分子量は、２，０００～１００，０００が好ましく、２，０００～５０，０００がより好ましく、４，０００～２０，０００が更に好ましい。分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、通常１．０～３．０であり、１．０～２．６が好ましく、１．０～２．０がより好ましく、１．１～２．０が更に好ましい。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔１〕一般式（Ｉ－１）で表される繰り返し単位又は下記一般式（Ｉ－２）で表される繰り返し単位を含む樹脂の合成
＜合成例１：樹脂（Ａ－１）＞

容器内にシアヌル酸クロリド９．０ｇ及びテトラヒドロフラン１３．２ｇを量り取り、得られた溶液を窒素気流下で攪拌しながら氷冷した。次いで、この氷冷した溶液に、４－アミノ－４’－シアノビフェニル１０．０ｇをテトラヒドロフラン７６．８ｇに溶解させた溶液を滴下し、さらに２時間撹拌した。撹拌後の反応溶液に０．２質量％の塩酸水３８０ｇを添加し、得られた固体を濾過した。次いで、濾別した固体をイオン交換水１０００ｇで洗浄し、６０℃で真空乾燥することで、化合物（ｉ－１）を１６．０ｇ得た。

容器内に１，４－フェニレンジアミン２．０ｇ及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド４０．６ｇを量り取り、得られた混合物を窒素気流下で１００℃に加熱した。次いで、加熱した溶液に、化合物（ｉ－１）６．４ｇをＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド２５．７ｇに溶解させた溶液を添加し、１時間撹拌した。次に、撹拌後の反応溶液にアニリン０．９ｍＬを添加し、更に１０分間撹拌した。得られた反応溶液を室温まで冷却した後、トリエチルアミン７．０ｇ、及びイオン交換水３８０ｇの水溶液に添加した。析出した固体を濾過した後、濾別した固体を、イオン交換水１００ｇで３回洗浄し、次にエタノール１００ｇで１回洗浄した。得られた固体を６０℃で真空乾燥することで、化合物（Ａ－１）を７．２ｇ得た。

＜合成例２：樹脂（Ａ－２）＞
４－アミノ－４’－シアノビフェニルと１，４－フェニレンジアミンとを、それぞれ、４－アミノ－ｐ－ターフェニルと１，３－フェニレンジアミンに変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－２）を得た。

＜合成例３：樹脂（Ａ－３）＞
４－アミノ－４’－シアノビフェニルと１，４－フェニレンジアミンとを、それぞれ、４－アミノ－４’－クロロビフェニルと４，４’－ジアミノベンズアニリドに変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－３）を得た。

＜合成例４：樹脂（Ａ－４）＞
４－アミノ－４’－シアノビフェニルと１，４－フェニレンジアミンとを、それぞれ、４－アミノ－４’－メチルビフェニルと４，４’－ジアミノジフェニルエーテルに変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－４）を得た。

＜合成例５：樹脂（Ａ－５）＞
４－アミノ－４’－シアノビフェニルと１，４－フェニレンジアミンとを、それぞれ、４－アミノ－４’－ニトロビフェニルとビス（４－アミノフェニル）スルフィドに変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－５）を得た。

＜合成例６：樹脂（Ａ－６）＞
４－アミノ－４’－シアノビフェニルと１，４－フェニレンジアミンとを、それぞれ、４－アミノ－４’－メチルチオビフェニルとビス（４－アミノフェニル）スルホンに変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－６）を得た。

＜合成例７：樹脂（Ａ－７）＞
４－アミノ－４’－シアノビフェニルと１，４－フェニレンジアミンとを、それぞれ、ｐ－シアノアニリンと４，４”－ジアミノ－ｐ－ターフェニルに変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－７）を得た。

＜合成例８：樹脂（Ａ－８）＞
４－アミノ－４’－シアノビフェニルと１，４－フェニレンジアミンとを、それぞれ、４－アミノ－ｐ－ターフェニルと４，４”－ジアミノ－ｐ－ターフェニルに変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－８）を得た。

＜合成例９：樹脂（Ａ－９）＞

容器内にシアヌル酸クロリド９．２ｇ、４，４”－ジアミノ－ｐ－ターフェニル８．７ｇ、及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド５６．７ｇを量り取り、得られた混合物を窒素気流下で１００℃に加熱し、１時間撹拌した。次に、撹拌後の反応溶液にアニリン３．０ｍＬを添加し、更に１０分間撹拌した。得られた反応溶液を室温まで冷却した後、トリエチルアミン１４．０ｇ、及びイオン交換水７６０ｇの水溶液に添加した。析出した固体を濾過した後、濾別した固体を、イオン交換水２００ｇで３回洗浄し、次にエタノール２００ｇで１回洗浄した。得られた固体を６０℃で真空乾燥することで、化合物（Ａ－９）を１５．１ｇ得た。

＜合成例１０：樹脂（Ａ－１０）＞
４，４”－ジアミノ－ｐ－ターフェニルを、１，３－フェニレンジアミンに変更し、同じモル当量で反応させた以外は合成例９と同様の操作を実施し、化合物（Ａ－１０）を得た。

＜合成例１１：樹脂（Ａ－１１）＞

容器内に化合物（ｉ－２）９．６ｇ、４－アミノフェノール４．４ｇ、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン１４．０ｇ、及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド３２．７ｇを量り取り、得られた混合物を窒素気流下で１００℃に加熱し、１時間撹拌した。次に、撹拌後の反応溶液にアニリン２．０ｍＬを添加し、更に１０分間撹拌した。得られた反応溶液を室温まで冷却した後、イオン交換水７６０ｇの水溶液に添加した。析出した固体を濾過した後、濾別した固体を、イオン交換水２００ｇで３回洗浄し、次にエタノール２００ｇで１回洗浄した。得られた固体を６０℃で真空乾燥することで、化合物（Ａ－１１）を１０．７ｇ得た。

以下に、樹脂（Ａ－１）～（Ａ－１１）の構造を示す。

表１に樹脂（Ａ－１）～（Ａ－１１）のＧＰＣ（Gel Permeation Chromatography）により測定した重量平均分子量（ポリスチレン換算値）を示した。

また、樹脂（Ａ－１）～（Ａ－１１）中に含まれるナトリウムイオン、カリウムイオン、及びカルシウムイオンの含有量を定量したところ、各々０．０１質量ｐｐｍ未満であることを確認した。なお、ナトリウムイオン、カリウムイオン、及びカルシウムイオンの定量には、ＩＣＰ発光分光分析装置（パーキンエルマー製「Ｏｐｔｉｍａ７３００ＤＶ」）を用いた。

また、樹脂（Ａ－１）～（Ａ－１１）中に含まれるトルエンの含有量を定量したところ、０．００１質量ｐｐｍ未満であることを確認した。
なお、樹脂中のトルエン濃度は、公知の方法に従い、ガスクロマトグラフィーにて検量線を作成した上で定量した。

〔２〕各種成分
以下に、組成物に含まれる各種成分を示す。
＜特定トリアジン系樹脂＞
特定トリアジン系樹脂（一般式（Ｉ－１）で表される繰り返し単位又は下記一般式（Ｉ－２）で表される繰り返し単位を含む樹脂）については、上述した樹脂（Ａ－１）～（Ａ－１１）を使用した。

＜硬化性化合物＞
以下に示す硬化性化合物Ｍ－１～Ｍ－７を使用した。

＜光重合開始剤＞
以下に示す光重合開始剤Ｉ－１～Ｉ－１２を使用した。
構造式中「Ｍｅ」はメチル基を示し、「Ｐｈ」はフェニル基を示す。

＜トルエン以外の溶媒＞
トルエン以外の溶媒として、以下に示す溶媒を使用した。
ＮＥＰ：Ｎ－エチル－２－ピロリドン
ＭＦＧ：１－メトキシ－２－プロパノール
ＣＰＮ：シクロペンタノン

＜界面活性剤＞
以下に示す界面活性剤を使用した。
メガファックＲ－４０（ＤＩＣ株式会社製）

＜各成分中の特定金属イオンの含有量＞
上述した各成分については、各々精製を実施し、各成分中のナトリウムイオン、カリウムイオン、及びカルシウムイオンの含有量が、各々０．０１質量ｐｐｍ未満であることを確認してから使用している。なお、ナトリウムイオン、カリウムイオン、及びカルシウムイオンの定量方法については、上述した通りである。

＜各成分中のトルエンの含有量＞
上述した各成分については、真空乾燥により、各成分中のトルエンの含有量が、０．００１質量ｐｐｍ未満であることを確認してから使用している。なお、各成分中のトルエンの含有量の定量方法については、上述した通りである。

〔３〕組成物の調製
上述の各種成分（樹脂、トルエン以外の溶媒、硬化性化合物、重合開始剤、及び界面活性剤）を表２に示す配合比で混合した後、得られた混合物を真空乾燥して、乾燥物中のナトリウムイオン、カリウムイオン、及びカルシウムイオンの含有量が、各々０．０１質量ｐｐｍ未満であることを確認した。また、トルエンの含有量が０．００１質量ｐｐｍ未満であることを確認した。

次に、樹脂、硬化性化合物、重合開始剤、界面活性剤、トルエン以外の溶媒、並びに、下記に示すトルエン、ナトリウムイオン（ナトリウム源として、臭化ナトリウムメタノール溶液）、カリウムイオン（カリウム源として、臭化カリウムメタノール溶液）、及びカルシウムイオン（カルシウムイオン源として、臭化カルシウムメタノール溶液）を表２に記載の含有量になるように添加することにより、各種組成物を各々調製した。なお、表２における「トルエン以外の溶媒」欄中には、上記イオン源中のメタノールも微量に含まれる。また、表２における各成分の含有量は、組成物全質量に対する含有割合（％）を表す。

得られた組成物中におけるナトリウムイオン、カリウムイオン、及びカルシウムイオンの含有量については、ＩＣＰ発光分光分析装置（アジレント・テクノロジー社製「Ａｇｉｌｅｎｔ７８００ ＩＣＰ－ＭＳ」）を用いて定量した。
また、得られた組成物中におけるトルエンの含有量については、公知の方法に従い、ガスクロマトグラフィーにて検量線を作成した上で定量した。

〔４〕評価
得られた組成物を用いて、サーモサイクル後における硬化膜の屈折率の評価、サーモサイクル後における硬化膜の分光変動、サーモサイクル後における硬化膜の欠陥抑制性の評価、及び、塗布膜の表面外観評価を行った。

＜サーモサイクル後における硬化膜の屈折率の評価＞
エポキシ樹脂（ＪＥＲ－８２７、ジャパンエポキシレジン社製）を用いてエポキシ樹脂層を形成した５ｃｍ×５ｃｍのガラス基板上に、表２に記載の組成物をそれぞれスピン塗布し、１００℃で３分間ベーク（加熱）した。次に、得られた塗布膜に対して、高圧水銀灯を用いて、積算露光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２となるように露光を行った。その後、ガラス基板を、２００℃で３分間ベークし、膜厚が１μｍの硬化膜を得た。得られた硬化膜を、冷熱衝撃試験装置（ＥＳＰＥＣ ＴＨＥＲＭＡＬ Ｓｈｏｃｋ ＣＨＡＭＢＥＲ ＴＳＡ－７０Ｌ （ＴＡＢＡＩ ＥＳＰＥＣ社製））に入れ、－６５℃／３０分間→１２５℃／３０分間の冷熱サイクルを３００サイクルかけた。Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製ＶＡＳＥを用いて、波長３００～１５００ｎｍの屈折率を測定し、波長５８９ｎｍにおける屈折率の値を各膜の屈折率とした。

測定された屈折率の値を以下の基準に照らして、サーモサイクル後における硬化膜の屈折率を評価した。
「Ａ」：屈折率が１．８５以上
「Ｂ」：屈折率が１．７０以上１．８５未満
「Ｃ」：屈折率が１．７０未満

＜サーモサイクル後における硬化膜の分光変動（透過率の変化）＞
上記屈折率の評価において、冷熱衝撃試験前後の硬化膜の波長４５０ｎｍの透過率の変化量（｜冷熱衝撃試験前の透過率－冷熱衝撃試験前の透過率｜（絶対値））を測定した。
測定された透過率の変化量を以下の基準に照らして、サーモサイクル後における硬化膜の分光変動（透過率の変化）を評価した。
「Ａ」：透過率の変動率が１％未満である。
「Ｂ」：透過率の変動率が１％以上５％未満である。
「Ｃ」：透過率の変動率が５％以上であり、実用上問題となるレベルである。
なお、上記透過率の変動率（％）は、｛（透過率の変化量）／（冷熱衝撃試験前の透過率）｝×１００によって算出される値である。

＜サーモサイクル後における硬化膜の欠陥抑制性の評価＞
エポキシ樹脂（ＪＥＲ－８２７、ジャパンエポキシレジン社製）を用いてエポキシ樹脂層を形成したシリコンウエハ上に、表２に記載の組成物をそれぞれスピン塗布し、更に１００℃で３分間ベーク（加熱）し、膜厚１μｍの塗布膜を形成した。次に、得られた塗布膜に対して、高圧水銀灯を用いて、積算露光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２となるように露光を行った。その後、ガラス基板を、２００℃で３分間ベークし、膜厚が１μｍの硬化膜を得た。得られた硬化膜を、冷熱衝撃試験装置（ＥＳＰＥＣ ＴＨＥＲＭＡＬ Ｓｈｏｃｋ ＣＨＡＭＢＥＲ ＴＳＡ－７０Ｌ （ＴＡＢＡＩ ＥＳＰＥＣ社製））に入れ、－６５℃／３０分間→１２５℃／３０分間の冷熱サイクルを３００サイクルかけた後、欠陥検査装置（アプライドマテリアルズ社製ＣｏｍＰｌｕｓ）を用いて硬化膜の欠陥数（個／ｃｍ^２）測定を行った。

測定された欠陥数を以下の基準に区分し、サーモサイクル後における硬化膜の欠陥抑制性を評価した。
「Ａ」：欠陥数が０個／ｃｍ^２以上１０個／ｃｍ^２未満
「Ｂ」：欠陥数が１０個／ｃｍ^２以上２０個／ｃｍ^２未満
「Ｃ」：欠陥数が２０個／ｃｍ^２以上であり、実用上問題となるレベルである。

＜塗布膜の表面外観評価（塗布膜のＰＣＤ（Post Coating Delay））評価＞
エポキシ樹脂（ＪＥＲ－８２７、ジャパンエポキシレジン社製）を用いてエポキシ樹脂層を形成したシリコンウエハ上に、表２に記載の組成物をそれぞれスピン塗布し、更に１００℃で３分間ベーク（加熱）し、膜厚１μｍの塗布膜Ａを形成し、光学顕微鏡で異常がないことを観察した。この塗布膜Ａを２５℃で１００時間放置し、光学顕微鏡で塗布膜Ｂを観察した。

以下の基準に区分し、観察した塗布膜Ｂを評価し、塗布膜の表面外観を評価した。
「Ａ」：膜の表面荒れ又は異物は観測されない。
「Ｂ」：膜の表面荒れ又は異物が一部観測されるものの、実用上問題とならないレベルである。
「Ｃ」：膜の表面荒れ又は異物が一部観測され、実用上問題となるレベルである。

以下に、表２を示す。
なお、表２において、「特定金属イオン」欄中の「０」は、組成物中の特定金属イオンの含有量が０．０１質量ｐｐｍ未満であったことを意図する。また、「トルエン」欄中の「０」は、組成物中のトルエンの含有量が０．００１質量ｐｐｍ未満であったことを意図する。
また、表２中の「トルエン以外の溶媒」欄の「残量」とは、組成物の全割合（１００％）から、組成物中の「トルエン以外の溶媒」以外の構成成分の合計質量割合を除いた量を意図する。

表２の結果から、実施例の組成物によれば、得られる硬化膜は、高温－低温環境下に繰り返し晒された後でも欠陥発生が抑制され、また高温－低温環境下に繰り返し晒された後でも分光変動（透過率の変化）が小さいことが明らかである。
また、実施例１～２１の対比から、上記組成物中、特定金属イオンの総含有量が、組成物全質量に対して０．０３～１０質量ｐｐｍである場合、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の欠陥抑制性により優れることが確認された。
また、実施例１～２１の対比から、上記組成物中、トルエンの含有量が、組成物全質量に対して０．００１～１０質量ｐｐｍである場合、表面外観特性により優れることが確認された。
また、実施例９、実施例１５、及び実施例１９の対比から、上記組成物が上述した一般式（Ｉ－２）で表されるトリアジン樹脂を含む場合において、Ｗ^２が上述した一般式（ＩＩＩ）で表される２価の連結基であって、Ａ^１～Ａ^３中に含まれるアリーレン基が１，４－フェニレン基であるとき、又はＡ^１～Ａ^３がいずれもアリーレン基を表すときは、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の屈折率がより優れ、且つ、高温－低温環境下に繰り返し晒された後でも硬化膜の分光変動（透過率の変化）が小さいことが確認された。
また、実施例１～３、実施例７、８、実施例１０～１４、及び実施例１７～１８と、実施例１６の対比から、上記組成物が、上述した一般式（Ｉ－１）中のＸ^１～Ｘ^３がいずれも－ＮＲ^１－である特定トリアジン系樹脂を含む場合、高温－低温環境下に繰り返し晒された後の硬化膜の屈折率がより優れ、且つ、高温－低温環境下に繰り返し晒された後でも硬化膜の分光変動（透過率の変化）が小さいことが確認された。

Claims (15)

1. 一般式（Ｉ－１）で表される繰り返し単位又は一般式（Ｉ－２）で表される繰り返し単位を含む樹脂と、
   溶媒と、
   ナトリウムイオン、カリウムイオン、及びカルシウムイオンからなる群より選ばれる特定金属イオンと、
   硬化性化合物と、
   重合開始剤と、を含む組成物であって、
   前記特定金属イオンの総含有量が、組成物全質量に対して、０．０１～３０質量ｐｐｍである、組成物。
   

   

   一般式（Ｉ－１）中、Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３は、それぞれ独立して、－ＮＲ^１－、－Ｏ－、又は－Ｓ－を表す。Ｗ^１は、２価の連結基を表す。Ｖは、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。Ｒ^１は、水素原子、又は置換基を表す。
   

   

   一般式（Ｉ－２）中、Ｘ^４、Ｘ^５、及びＸ^６は、それぞれ独立して、－ＮＲ^２－、－Ｏ－、又は－Ｓ－を表す。Ｗ^２は、２価の連結基を表す。Ｒ^２は、水素原子、又は置換基を表す。
2. 前記溶媒がトルエンを含み、
   前記トルエンの含有量が、組成物全質量に対して、０．００１～１０質量ｐｐｍである、請求項１に記載の組成物。
3. 一般式（Ｉ－１）中、前記Ｖが、一般式（ＩＩ）で表される基である、請求項１又は２に記載の組成物。
   

   

   一般式（ＩＩ）中、＊は、一般式（Ｉ－１）中のＸ^３との結合位置を表す。Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立して、置換基を表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立して、０～５の整数を表す。但し、ｍ＋ｎは１～５である。
4. 一般式（ＩＩ）中、前記ｍは０を表し、前記ｎは１を表し、前記Ｒ^４は、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルキルチオ基、又はハロゲン原子を表す、請求項３に記載の組成物。
5. 前記一般式（ＩＩ）で表される基が、一般式（ＩＩＡ）で表される基である、請求項４に記載の組成物。
   

   

   一般式（ＩＩＡ）中、＊は、一般式（Ｉ－１）中のＸ^３との結合位置を表す。Ｒ^４は、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルキルチオ基、又はハロゲン原子を表す。
6. 一般式（Ｉ－１）中、前記Ｘ^１～Ｘ^３がいずれも－ＮＲ^１－である、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
7. 一般式（Ｉ－１）における前記Ｗ^１及び一般式（Ｉ－２）における前記Ｗ^２が、それぞれ独立して、一般式（ＩＩＩ）で表される２価の連結基である、請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物。
   

   

   一般式（ＩＩＩ）中、Ａ^１及びＡ^３は、それぞれ独立して、単結合又はアリーレン基を表し、Ａ^１及びＡ^３の少なくとも一方はアリーレン基を表す。Ａ^２は、単結合、－Ｏ－、ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－ＮＲ^Ａ－、又はアリーレン基を表す。Ｒ^Ａは、水素原子、又は置換基を表す。＊は結合位置を表す。
8. 一般式（Ｉ－２）の前記Ｗ^２において、前記Ａ^１～Ａ^３がいずれもアリーレン基を表す、請求項７に記載の組成物。
9. 一般式（Ｉ－２）の前記Ｗ^２において、前記アリーレン基が、１，４－フェニレン基である、請求項７又は８に記載の組成物。
10. 請求項１～９のいずれか１項に記載の組成物により形成される塗布膜。
11. 請求項１０に記載の塗布膜を硬化して形成される硬化膜。
12. 請求項１１に記載の硬化膜からなるレンズ。
13. 請求項１２に記載のレンズを備える固体撮像素子。
14. 一般式（ＩＶ－１）で表される繰り返し単位を含む樹脂。
    

    

    一般式（ＩＶ－１）中、Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３は、それぞれ独立して、－ＮＲ^１－、－Ｏ－、又は－Ｓ－を表す。Ｗ^１は、２価の連結基を表す。Ｒ^１は、水素原子、又は置換基を表す。Ｒ^５は、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルキルチオ基、又はハロゲン原子を表す。
15. 一般式（ＩＶ－２）で表される繰り返し単位を含む樹脂。
    

    

    一般式（ＩＶ－２）中、Ｘ^４、Ｘ^５、及びＸ^６は、それぞれ独立して、－ＮＲ^２－、－Ｏ－、又は－Ｓ－を表す。Ｒ^２は、水素原子、又は置換基を表す。