JP7069485B2 - 六方晶窒化ホウ素粉末及びその製造方法、並びにそれを用いた組成物及び放熱材 - Google Patents

Description

本発明は、六方晶窒化ホウ素（以下、「ｈ－ＢＮ」とも言う。）の一次粒子の凝集体を含むｈ－ＢＮ粉末及びその製造方法、並びに前記ｈ－ＢＮ粉末を用いた組成物及び放熱材に関する。

ｈ－ＢＮ粒子は、黒鉛類似の層状構造を有しており、熱伝導性や電気絶縁性、耐熱性、耐食性、潤滑・離型性等の特性に優れている。このため、樹脂やゴム等（以下、単に「樹脂等」とも言う。）の絶縁性放熱材のフィラーや、固体潤滑剤、固体離型剤、ｈ－ＢＮ焼結体製造用原料等として使用されている。

これらのうち、ｈ－ＢＮ粒子が樹脂等の絶縁性放熱材のフィラーとして使用される場合、絶縁性放熱材中における充填性の向上及び配向による特性の異方性の抑制を目的として、例えば、特許文献１には、所定の粒径及び嵩密度を有する、ｈ－ＢＮの一次粒子の凝集体である二次粒子のｈ－ＢＮ粉末が用いられることが記載されている。

このようなｈ－ＢＮ粉末の製造方法としては、従来の一般的な方法を用いることができ、例えば、特許文献２～４には、ホウ酸やホウ砂等のホウ素化合物と、メラミンや尿素等の窒素化合物とを混合し、アンモニアガス又は非酸化性ガスの雰囲気下で、仮焼した後、１４００～２２００℃程度の高温で焼成して結晶成長させる方法が記載されている。

特開２０１１－９８８８２号公報 特開昭６１－２８６２０７号公報 特開平９－２０２６６３号公報 特開昭６１－２５６９０５号公報

しかしながら、前記凝集体の強度が不十分であると、このような凝集体を含むｈ－ＢＮ粉末は、樹脂等と混合される際に凝集体が崩壊して、樹脂等における充填率を十分に向上させることができず、また、配向によって特性の異方性が増大する傾向が見られ、絶縁性放熱材の放熱性及び絶縁性の低下を招くこととなる。

したがって、樹脂等におけるｈ－ＢＮ粉末の充填性の向上、及びｈ－ＢＮ粉末の配向による特性の異方性の抑制等の観点から、前記凝集体は、十分な強度を有していることが求められる。

本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、樹脂等の絶縁性放熱材のフィラーとして用いた場合に、前記樹脂等の熱伝導率及び耐電圧（絶縁破壊電圧）を高めることができるｈ－ＢＮ粉末及びその製造方法を提供することを目的とする。また、前記ｈ－ＢＮ粉末を用いた組成物、及び放熱性及び絶縁性に優れた放熱材を提供することも目的とする。

本発明は、ｈ－ＢＮの一次粒子の凝集体を含むｈ－ＢＮ粉末について、所定の粒度分布を有し、かつ、前記凝集体が所定の凝集強度を有するものであることにより、樹脂等の絶縁性放熱材のフィラーとして用いた場合に、該絶縁性放熱材の放熱性及び絶縁性が向上することを見出したことに基づくものである。

すなわち、本発明は、以下の［１］～［８］を提供するものである。
［１］六方晶窒化ホウ素の一次粒子の凝集体を含む六方晶窒化ホウ素粉末であって、平均一次粒子径が０．５０μｍ以上１０．０μｍ未満、５０％体積累積粒径Ｄ₅₀が１０．０～１５０．０μｍ、ＢＥＴ比表面積が１．０ｍ²／ｇ以上１０．０ｍ²／ｇ未満、嵩密度が０．５０～２．００ｇ／ｃｍ³であり、体積基準の頻度分布を表す粒度分布曲線において、粒径１．０μｍ以上２０．０μｍ未満の範囲にピークＡを有し、粒径２０．０μｍ以上２００．０μｍ未満の範囲にピークＢを有し、該六方晶窒化ホウ素粉末を下記条件１にて３分間超音波処理したときの、処理前の前記ピークＡの高さａ１と前記ピークＢの高さｂ１の比（ａ１／ｂ１）が０．０７～０．８０、処理後の前記ピークＡの高さａ２と前記ピークＢの高さｂ２の比（ａ２／ｂ２）が０．４０～２．００である、六方晶窒化ホウ素粉末。
［条件１］胴内径４０ｍｍ、高さ６０ｍｍの５０ｍＬガラス製ビーカーに、該六方晶窒化ホウ素粉末の０．１２質量％の２０℃の水分散液５０ｍＬを入れ、超音波発生機の振動子のチップの先端を前記ビーカーの中央部の底面から１ｃｍの高さにセットして、出力１５０Ｗ、発振周波数１９．５ｋＨｚで超音波処理する。
［２］前記六方晶窒化ホウ素粉末を粒径４５μｍ超１０６μｍ以下の範囲内に振動篩で分級された粉末の体積基準の頻度分布を表す粒度分布曲線において、粒径４５．０～１５０．０μｍの範囲内に最大ピークＣを有し、分級された前記粉末を前記条件１にて１分間超音波処理したときの、前記最大ピークＣの処理前の高さｃ１に対する処理後の高さｃ２の減少率（（ｃ１－ｃ２）／ｃ１×１００）が５％以上３０％未満である、上記［１］に記載の六方晶窒化ホウ素粉末。

［３］上記［１］又は［２］に記載の六方晶窒化ホウ素粉末を製造する方法であって、六方晶窒化ホウ素原料粉５０～９０質量部と、ホウ素のオキソ酸及び酸化ホウ素から選ばれる１種又は２種以上のホウ素化合物１０～５０質量部とを含む混合粉末を調製する工程と、前記混合粉末１００質量部に、黒鉛及び炭素含有化合物から選ばれる１種又は２種以上の炭素源を炭素原子換算で３．０～１０．０質量部添加混合して成形用材料を調製する工程と、前記成形用材料を加圧成形して、密度１．４０～１．７０ｇ／ｃｍ³の成形体を作製する工程と、前記成形体を、窒素ガス雰囲気下、１０００～２２００℃で焼成して焼成物を得る工程と、前記焼成物を粉砕して、分級する工程とを有し、前記六方晶窒化ホウ素原料粉の平均一次粒子径Ｌと平均厚さｄの比（Ｌ／ｄ）が２．０～１５、５０％体積累積粒径Ｄ₅₀が０．２０～５．００μｍ、ＢＥＴ比表面積が５．０～３０．０ｍ²／ｇ、結晶子径が１５０～４００Åである、六方晶窒化ホウ素粉末の製造方法。
［４］前記炭化ホウ素が、５０％体積累積粒径Ｄ₅₀が０．１～１５．０μｍの粉末である、上記［３］に記載の六方晶窒化ホウ素粉末の製造方法。
［５］前記成形用材料を調製する工程において、前記炭素源が炭化ホウ素であり、前記混合粉末１００質量部に、該炭化ホウ素が１５～２０質量部添加混合される、上記［３］又は［４］に記載の六方晶窒化ホウ素粉末の製造方法。

［６］樹脂及びゴムから選ばれる１種又は２種以上からなる基材と、上記［１］又は［２］に記載の六方晶窒化ホウ素粉末とを含む、組成物。
［７］上記［６］に記載の組成物からなる放熱材。
［８］放熱シートである、上記［７］に記載の放熱材。

本発明によれば、樹脂等の絶縁性放熱材のフィラーとして用いた場合に、前記樹脂等の熱伝導率及び耐電圧を高めることができるｈ－ＢＮ粉末及びその製造方法を提供することができる。
したがって、前記ｈ－ＢＮ粉末を用いた本発明の組成物により、放熱性及び絶縁性に優れた放熱材を提供することができる。

本発明のｈ－ＢＮの一次粒子の凝集体の模式図である。 本発明のｈ－ＢＮ粉末（実施例２）を３分間超音波処理したときの粒度分布曲線である。左側が超音波処理前、右側が超音波処理後である。 本発明に係る条件１を説明するための概略図である。 本発明のｈ－ＢＮ粉末（実施例１）の所定の分級粉末を１分間超音波処理したときの粒度分布曲線である。左側が超音波処理前、右側が超音波処理後である。 比較例３のｈ－ＢＮ粉末の３分間超音波処理したときの粒度分布曲線である。左側が超音波処理前、右側が超音波処理後である。

以下、本発明のｈ－ＢＮ粉末及びその製造方法、並びに前記ｈ－ＢＮ粉末を用いた組成物及び放熱材について、詳細に説明する。

［六方晶窒化ホウ素（ｈ－ＢＮ）粉末］
本発明のｈ－ＢＮ粉末は、ｈ－ＢＮの一次粒子の凝集体を含むものである。前記ｈ－ＢＮ粉末は、平均一次粒子径が０．５μｍ以上１０．０μｍ未満、５０％体積累積粒径Ｄ₅₀が１０．０～１５０．０μｍ、ＢＥＴ比表面積が１．０ｍ²／ｇ以上１０．０ｍ²／ｇ未満、嵩密度が０．５０～２．００ｇ／ｃｍ³である。
また、前記ｈ－ＢＮ粉末の体積基準の頻度分布を表す粒度分布曲線は、粒径１．０μｍ以上２０．０μｍ未満の範囲にピークＡを有し、粒径２０．０μｍ以上２００．０μｍ未満の範囲にピークＢを有している。そして、該ｈ－ＢＮ粉末を下記条件１にて３分間超音波処理したときの、処理前のピークＡの高さａ１とピークＢの高さｂ１の比（ａ１／ｂ１）が０．０７～０．８０、処理後のピークＡの高さａ２とピークＢの高さｂ２の比（ａ２／ｂ２）が０．４０～２．００であることを特徴としている。
［条件１］胴内径４０ｍｍ、高さ６０ｍｍの５０ｍＬガラス製ビーカーに、該六方晶窒化ホウ素粉末の０．１２質量％の２０℃の水分散液５０ｍＬを入れ、超音波発生機の振動子のチップの先端を前記ビーカーの中央部の底面から１ｃｍの高さにセットして、出力１５０Ｗ、発振周波数１９．５ｋＨｚで超音波処理する。

上記要件を満たすｈ－ＢＮ粉末は、適度な粒度及び凝集強度を有しており、これにより、該ｈ－ＢＮ粉末を樹脂等の絶縁性放熱材のフィラーとして用いた際に、熱伝導率及び耐電圧を効果的に高めることができる。

（一次粒子）
本発明のｈ－ＢＮ粉末の一次粒子は、平均一次粒子径が０．５μｍ以上１０．０μｍ未満であり、好ましくは１．０～８．０μｍ、より好ましくは２．０～４．０μｍである。平均一次粒子径が０．５μｍ以上であることにより、樹脂等の熱伝導率及び耐電圧を高める上で適度な凝集強度を有するｈ－ＢＮの一次粒子の凝集体を構成することができる。また、１０．０μｍ未満であることにより、このような一次粒子の凝集体を含むｈ－ＢＮ粉末は、樹脂等に添加混合される際に、該凝集体の顆粒形状が維持されやすく、前記樹脂等における充填率を高めることができる。
ｈ－ＢＮの凝集体は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による観察画像において、図１に模式的に示すような形状である。図１に示すように、ｈ－ＢＮの凝集体１は、ｈ－ＢＮの一次粒子２が凝集して、顆粒形状をなす。
なお、本発明で言う平均一次粒子径とは、一次粒子の長径の数平均値であり、具体的には、ｈ－ＢＮ粉末のＳＥＭによる観察画像において、任意の１００個のｈ－ＢＮの一次粒子の長径を計測し、これらの平均値として求めた値である。

（５０％体積累積粒径Ｄ₅₀）
前記ｈ－ＢＮ粉末は、Ｄ₅₀が１０．０～１５０．０μｍであり、好ましくは２０．０～１２０．０μｍ、より好ましくは３０．０～１００．０μｍである。Ｄ₅₀が１０．０μｍ以上であることにより、前記凝集体が十分な凝集強度を有するものとすることができる。また、１５０．０μｍ以下であることにより、前記樹脂等の熱伝導率及び耐電圧を高めるのに十分な充填率とすることができる。
なお、本発明で言うＤ₅₀とは、レーザー回折散乱法によって測定された値である。具体的には、下記実施例に記載のマイクロトラック（登録商標）粒度分布測定装置で測定した値である。

（ＢＥＴ比表面積）
前記ｈ－ＢＮ粉末は、ＢＥＴ比表面積が１．０ｍ²／ｇ以上１０．０ｍ²／ｇ未満であり、好ましくは１．５～８．０ｍ²／ｇ、より好ましくは２．０～６．０ｍ²／ｇである。ＢＥＴ比表面積が１．０ｍ²／ｇ以上であることにより、該ｈ－ＢＮ粉末が樹脂等に添加混合される際に、該樹脂等との馴染みを良好にすることができる。また、１０．０ｍ²／ｇ未満であることにより、該ｈ－ＢＮ粉末が樹脂等に添加混合される際に、良好な分散性が得られ、前記樹脂等の熱伝導率及び耐電圧を十分に高めることができる。
なお、本発明で言うＢＥＴ比表面積とは、流動法（吸着質：窒素ガス）によるＢＥＴ１点法で測定された値である。具体的には、下記実施例に記載の全自動ＢＥＴ比表面積測定装置で測定した値である。

（嵩密度）
前記ｈ－ＢＮ粉末は、嵩密度が０．５０～２．００ｇ／ｃｍ³であり、好ましくは０．６０～１．５０ｇ／ｃｍ³、より好ましくは０．７０～１．００ｇ／ｃｍ³である。嵩密度が０．５０ｇ／ｃｍ³以上であることにより、該ｈ－ＢＮ粉末が樹脂等に添加混合される際に、前記樹脂等の熱伝導率及び耐電圧を高めるのに十分な充填率とすることができる。また、２．００ｇ／ｃｍ³以下であることにより、該ｈ－ＢＮ粉末が樹脂等に添加混合される際に、前記凝集体の凝集強度を適度に維持することができる。
なお、本発明で言う嵩密度とは、３００ｍＬメスシリンダーに粉末試料１００ｇを投入し、電動振動機（振動数５０Ｈｚ、出力０．０３５ｋＷ）にて、３分間水平振動させた後の体積から算出した密度（充填嵩密度）である。

（粒度分布曲線）
図２に、本発明のｈ－ＢＮ粉末を３分間超音波処理したときの処理前後における体積基準の頻度分布を表す粒度分布曲線の一例を示す。なお、図２の粒度分布曲線は、後述する実施例２のｈ－ＢＮ粉末について示したものである。
本発明のｈ－ＢＮ粉末は、図２に示すように、体積基準の頻度分布を表す粒度分布曲線において、粒径１．０μｍ以上２０．０μｍ未満の範囲にピークＡを有し、粒径２０．０μｍ以上２００．０μｍ未満の範囲にピークＢを有している。
前記粒度分布曲線において、ピークＡを含む粒径１．０μｍ以上２０．０μｍ未満の範囲及びその近傍の粒径の粉末（粒子）である微粒は、ｈ－ＢＮの一次粒子がほとんど凝集体を形成することなく存在しているものであると考えられる。一方、前記ピークＢを含む粒径２０．０μｍ以上２００．０μｍ未満の範囲及びその近傍の粉末である粗粒は、ｈ－ＢＮの一次粒子の凝集体であると考えられる。
本発明のｈ－ＢＮ粉末は、粒度分布曲線において、このような２つのピークを有するものであり、すなわち、ｈ－ＢＮの一次粒子の凝集体と、凝集していない状態の一次粒子とを含むものである。

そして、本発明のｈ－ＢＮ粉末は、下記条件１にて３分間超音波処理したときの、処理前のピークＡの高さａ１とピークＢの高さｂ１の比（ａ１／ｂ１）が０．０７～０．８０、処理後のピークＡの高さａ２とピークＢの高さｂ２の比（ａ２／ｂ２）が０．４０～２．００であるという特徴を有しているものである。図２において、矢印の左側が、超音波処理前の粒度分布曲線、右側が超音波処理後の粒度分布曲線を示している。

図３に、前記超音波処理における条件１の態様の概略を示す。前記条件１とは、胴内径（Ｌ）４０ｍｍ、高さ（Ｈ）６０ｍｍの５０ｍＬガラス製ビーカー１１に、該ｈ－ＢＮ粉末の０．１２質量％の２０℃の水分散液１２を５０ｍＬ入れ、超音波発生機（図示せず）の振動子のチップ１３の先端を前記ビーカー１１の中央部の底面から１ｃｍの高さ（ｙ）にセットして、出力１５０Ｗ、発振周波数１９．５ｋＨｚで超音波処理することである。
前記超音波発生機としては、具体的には、株式会社日本精機製作所製の「超音波ホモジナイザーＵＳ－１５０Ｔ」が用いられ、また、前記振動子のチップ１３としては、水分散液１２との接触部分がステンレス製の直径（ｘ）１８ｍｍの円筒形状のものが用いられる。

上記のような超音波処理の前後での粒度分布曲線の形状の変化は、ｈ－ＢＮ粉末の凝集体の凝集状態の変化を示していると言える。その変化が、処理前と処理後のピークＡ及びＢの高さが所定の比を示すことに現れている。
前記条件１にて３分間超音波処理することにより、ｈ－ＢＮの一次粒子の凝集体のうち、凝集強度の低いものはすべて崩壊する。このため、前記超音波処理前後での凝集状態の変化に対応する粒度分布曲線におけるピークＡ及びＢの高さの比の変化は、前記凝集体の凝集強度の指標となる。特に、ａ２／ｂ２が２．００超と大きい場合には、前記超音波処理による前記凝集体の崩壊の程度が大きく、前記凝集体は凝集強度が十分であるとは言えないものである。
なお、処理前のピークＡと処理後のピークＡは、ピーク位置での粒径は同じであるとは限らない。通常、処理前に比べて処理後の方が、粒径が小さい側に、ピーク位置がシフトする。ピークＢについても、同様である。

ａ１／ｂ１は、０．０７～０．８０であり、好ましくは０．０８～０．５０、より好ましくは０．０９～０．２０である。超音波処理前は、ピークＡに対応する微粒よりも、ピークＢに対応する粗粒の方が多く、ａ１／ｂ１が０．０７以上であることにより、該ｈ－ＢＮ粉末が樹脂等に添加混合される際に、前記樹脂等の耐電圧を十分に高めることができる。また、０．８０以下であることにより、前記樹脂等の熱伝導率を十分に高めることができる。

ａ２／ｂ２は、０．４０～２．００であり、好ましくは０．５０～１．９０、より好ましくは０．６０～１．５０である。ａ２／ｂ２が０．４０以上であることにより、該ｈ－ＢＮ粉末が樹脂等に添加混合される際に、前記樹脂等の耐電圧を十分に高めることができる。また、２．００以下であることにより、前記凝集体が、前記樹脂等の熱伝導率及び耐電圧を高めるのに十分な凝集強度を有していると言える。

前記ｈ－ＢＮ粉末は、粒径４５μｍ超１０６μｍ以下の範囲内に振動篩で分級された粉末について、体積基準の頻度分布を表す粒度分布曲線において、粒径４５～１５０μｍの範囲内に最大ピークＣを有し、分級された前記粉末を前記条件１にて１分間超音波処理したときの、最大ピークＣの処理前の高さｃ１に対する処理後の高さｃ２の減少率（（ｃ１－ｃ２）／ｃ１×１００）が５％以上３０％未満であることが好ましい。
図４に、本発明のｈ－ＢＮ粉末を粒径４５μｍ超１０６μｍ以下の範囲内に振動篩で分級した粉末について、１分間超音波処理したときの処理前後における体積基準の頻度分布を表す粒度分布曲線の一例を示す。図４において、矢印の左側が、超音波処理前の粒度分布曲線、右側が超音波処理後の粒度分布曲線を示している。なお、図４の粒度分布曲線は、後述する実施例１のｈ－ＢＮ粉末を分級した粉末について示したものである。
ここで言う粒度分布曲線は、ｈ－ＢＮ粉末を粒径４５μｍ超１０６μｍ以下の範囲内に振動篩で分級した粉末について測定されたものである。このような特定の粒径範囲に分級された粉末について、前記条件１にて１分間超音波処理したときの、処理前後での粒度分布曲線における最大ピークＣの高さの減少率は、該ｈ－ＢＮ粉末における一次粒子の凝集体の凝集強度を示す指標となるものであり、前記減少率が低いほど、前記凝集体の凝集強度が高いと言える。また、該ｈ－ＢＮ粉末が樹脂等に添加混合される際に、前記樹脂等との馴染みやすさ等の観点から、前記減少率は５％以上であることが好ましい。
前記減少率は、より好ましくは５～２８％であり、さらに好ましくは１０～２５％である。
なお、振動篩による分級は、乾式振動篩装置にて行うことができ、前記乾式振動篩装置としては、晃栄産業株式会社製の「佐藤式振動ふるい機」が用いられる。

ここで、超音波処理時間を１分間としているのは、上述したように、前記凝集体のうち凝集強度の低いものは、３分間の超音波処理ですべて崩壊するが、これらの崩壊途上の段階での評価を行うためである。
なお、粒径４５μｍ超１０６μｍ以下の範囲内に分級された粉末は、ここでの前記凝集体の凝集強度の評価における評価対象として規定したものであり、本発明のｈ－ＢＮ粉末の粒径を規定するものではない。また、体積基準の頻度分布を表す粒度分布曲線においては、上記の分級した粒径の範囲外にピークが計測される場合もあることに鑑みて、最大ピークＣを有する範囲は、粒径４５．０～１５０．０μｍの範囲内とする。
なお、処理前の最大ピークＣと処理後の最大ピークＣは、ピーク位置での粒径は同じであるとは限らない。通常、処理前に比べて処理後の方が、粒径が小さい側に、ピーク位置がシフトする。

なお、前記粒度分布曲線は、いずれも、レーザー回折散乱法による粒度分布計を用いて測定され、具体的には、下記実施例に記載するようなマイクロトラック（登録商標）粒度分布測定装置で測定することにより求められる。

［六方晶窒化ホウ素（ｈ－ＢＮ）粉末の製造方法］
本発明のｈ－ＢＮ粉末は、その製造方法は特に限定されるものではないが、例えば、以下のような本発明の製造方法により、好適に製造することができる。
本発明の製造方法は、ｈ－ＢＮ原料粉５０～９０質量部と、ホウ素のオキソ酸及び酸化ホウ素から選ばれる１種又は２種以上のホウ素化合物１０～５０質量部とを含む混合粉末を調製する工程と、前記混合粉末１００質量部に、黒鉛及び炭素含有化合物から選ばれる１種又は２種以上の炭素源を炭素原子換算で３．０～１０．０質量部添加混合して成形用材料を調製する工程と、前記成形用材料を加圧成形して、密度１．４０～１．７０ｇ／ｃｍ³の成形体を作製する工程と、前記成形体を、窒素ガス雰囲気下、１０００～２２００℃で焼成して焼成物を得る工程と、前記焼成物を粉砕して、分級する工程とを有する製造方法であり、前記ｈ－ＢＮ原料粉の平均一次粒子径Ｌと平均厚さｄの比（Ｌ／ｄ）が２．０～１５．０、５０％体積累積粒径Ｄ₅₀が０．２０～５．００μｍ、ＢＥＴ比表面積が５．０～３０．０ｍ²／ｇ、結晶子径が１５０～４００Åであることを特徴とするものである。

本発明のｈ－ＢＮ粉末の製造方法においては、上記のような所定のｈ－ＢＮ原料粉を用いて、混合工程、成形工程、焼成工程、粉砕工程、及び分級工程を順に経る。
以下、上記製造方法について、工程順に説明する。

（混合工程（１））
混合工程（１）は、ｈ－ＢＮ原料粉５０～９０質量部と、ホウ素のオキソ酸及び酸化ホウ素から選ばれる１種又は２種以上のホウ素化合物１０～５０質量部とを含む混合粉末を調製する工程である。本発明のｈ－ＢＮ粉末を高収率で製造する観点から、混合粉末中のｈ－ＢＮ原料粉は、５５～８５質量部であることが好ましく、より好ましくは６０～８０質量部とする。同様の観点から、混合粉末中の前記ホウ素化合物は、１５～４５質量部であることが好ましく、より好ましくは２０～４０質量部とする。
前記混合粉末は、該製造方法により本発明のｈ－ＢＮ粉末を得ることができる範囲内において、ｈ－ＢＮ原料粉及び前記ホウ素化合物以外の成分を含んでいてもよいが、該混合粉末中のｈ－ＢＮ原料粉及び前記ホウ素化合物の合計含有量は、９０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは９５質量％以上、さらに好ましくは１００質量％である。

＜ｈ－ＢＮ原料粉＞
ｈ－ＢＮ原料粉としては、製造するｈ－ＢＮ粉末が樹脂等に高熱伝導性及び高耐電圧性を付与し得るものとなるようにする観点から、平均一次粒子径Ｌと平均厚さｄの比（Ｌ／ｄ）が２．０～１５．０、５０％体積累積粒径Ｄ₅₀が０．２０～５．００μｍ、ＢＥＴ比表面積が５．０～３０．０ｍ²／ｇ、結晶子径が１５０～４００Åである微粉末を用いることが好ましい。
ｈ－ＢＮ原料粉は、ｈ－ＢＮ純度が９５質量％以上であることが好ましく、より好ましくは９７質量％以上、さらに好ましくは９９質量％以上である。
このような微粉末であるｈ－ＢＮ原料粉としては、市販品を用いることができる。

前記Ｌ／ｄは、より好ましくは５．０～１０．０、さらに好ましくは５．０～８．０である。また、前記Ｄ₅₀は、より好ましくは０．２５～３．００μｍ、さらに好ましくは０．３０～２．００μｍである。前記ＢＥＴ比表面積は、より好ましくは６．０～２０．０ｍ²／ｇ、さらに好ましくは７．０～１０．０ｍ²／ｇである。前記結晶子径は、より好ましくは１８０～３５０Å、さらに好ましくは２００～３００Åである。
なお、平均一次粒子径Ｌ、Ｄ₅₀及びＢＥＴ比表面積は、上述したｈ－ＢＮ粉末についての測定方法と同様の方法で求められる。
前記平均厚さｄは、一次粒子の厚みの数平均値であり、具体的には、ｈ－ＢＮ原料粉の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による観察画像において、任意の１００個のｈ－ＢＮの一次粒子の短径を厚みとみなして計測し、これらの平均値として求めた値である。
前記結晶子径は、Ｘ線回折測定から、シェラー（Ｓｃｈｅｒｒｅｒ）の式を用いて求められた値であり、具体的には、下記実施例に記載の方法により求められる。

＜ホウ素化合物＞
ｈ－ＢＮ原料粉と混合されるホウ素化合物としては、例えば、オルトホウ酸（Ｈ₃ＢＯ₃）、メタホウ酸（ＨＢＯ₂）、テトラホウ酸（Ｈ₂Ｂ₄Ｏ₇）等のホウ素のオキソ酸、酸化ホウ素（無水ホウ酸：Ｂ₂Ｏ₃）が挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらのうち、ｈ－ＢＮ原料粉との混合容易性や入手容易性等の観点から、酸化ホウ素が好ましい。
ホウ素化合物の純度は、９０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは９５質量％以上、さらに好ましくは１００質量％である。

混合工程（１）における混合方法は、特に限定されるものではなく、混合粉末を得るための一般的な混合機を用いて行うことができる。

（混合工程（２））
混合工程（２）は、前記混合工程（１）で得られた混合粉末１００質量部に、黒鉛及び炭素含有化合物から選ばれる１種又は２種以上の炭素源を炭素原子換算で３．０～１０．０質量部添加混合して成形用材料を調製する工程である。
前記炭素源の添加量が、炭素原子換算で３．０質量部以上であることにより、前記ホウ素化合物の窒化が促進され、ｈ－ＢＮの一次粒子の粒成長による凝集体の結晶性が向上するため、該凝集体の十分な凝集強度を有するものとなる。また、１０．０質量部以下であることにより、炭素源が未反応のまま、製造されるｈ－ＢＮ粒子中に残留し、黒色化したり、耐電圧が上昇したりすることを抑制することができる。
前記炭素源の添加量は、炭素原子換算で３．０～８．０質量部であることが好ましく、より好ましくは３．３～５．０質量部である。

＜炭素源＞
前記混合粉末に添加混合される炭素源としては、例えば、黒鉛や、カーボンブラック、炭化ホウ素、糖類、メラミン、フェノール樹脂等の炭素含有化合物が挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらのうち、前記凝集体の凝集強度や製造コスト等の観点から、黒鉛、炭化ホウ素が好ましい。
前記炭素源としては、炭化ホウ素が好ましく、この場合、該炭化ホウ素の添加量は、前記混合粉末１００質量部に対して１５～２０質量部であることが好ましく、より好ましくは１５．５～１９．５質量部、さらに好ましくは１６～１９質量部である。

前記炭素源として用いられる炭化ホウ素は、５０％体積累積粒径Ｄ₅₀が０．１～１５．０μｍの粉末であることが好ましく、より好ましくは０．５～１０．０μｍ、さらに好ましくは１．０～８．０μｍである。
前記Ｄ₅₀は、粉末としての取り扱い上の観点から、０．１μｍ以上であることが好ましく、また、１５μｍ以下であることにより、炭化ホウ素粉末の表面積が増大するため、反応性が向上し、前記凝集体を緻密化することができる。
なお、炭化ホウ素粉末のＤ₅₀は、上述したｈ－ＢＮ粉末についての測定方法と同様の方法で求められる。

混合工程（２）における混合方法は、特に限定されるものではなく、湿式混合及び乾式混合のいずれでもよいが、均一な成形用材料を得る観点から、湿式混合が好ましい。湿式混合は、例えば、ヘンシェルミキサー、ボールミル、リボンブレンダー等の一般的な混合機を用いて行うことができる。

混合は、均一な成形用材料を得る観点から、バインダーを添加して行ってもよい。前記バインダーとしては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、セルロース、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）等の樹脂が挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらのうち、ＰＶＡが好適に用いられる。
バインダーは、溶液として添加してもよい。例えば、ＰＶＡを用いる場合、好ましくは、濃度０．１～１５質量％、より好ましくは０．５～１０質量％、さらに好ましくは１～５質量％の水溶液を添加することが好ましい。
バインダーの添加量は、製造されるｈ－ＢＮ粉末における前記凝集体の凝集強度を低下させない範囲内であることが好ましく、例えば、ＰＶＡを用いる場合、前記混合粉末１００質量部に対して、好ましくは０．０５～２質量部、より好ましくは０．１～１質量部、さらに好ましくは０．１５～０．５質量部である。

（成形工程）
成形工程は、前記成形工程で得られた成形用材料を加圧成形して、密度１．４０～１．７０ｇ／ｃｍ³の成形体を作製する工程である。
加圧成形した成形体を焼成することにより、ｈ－ＢＮの一次粒子の凝集体を緻密化し、前記凝集体の凝集強度を高めることができる。
前記成形体の形状は、特に限定されるものではないが、加工性や取り扱い容易性等の観点から、例えば、円盤状等のタブレット状であることが好ましい。

前記成形体は、ｈ－ＢＮの一次粒子の凝集体を緻密化し、前記凝集体の凝集強度を高める観点から、密度が、１．４０～１．７０ｇ／ｃｍ³となるように作製されることが好ましく、より好ましくは１．４５～１．６８ｇ／ｃｍ³、さらに好ましくは１．５０～１．６５ｇ／ｃｍ³とする。

成形方法は、特に限定されるものではないが、高密度の成形体を作製する観点から、例えば、前記成形用材料を金型に入れて、一軸加圧成形により行うことが好ましい。

（焼成工程）
焼成工程は、前記成形体を、窒素ガス雰囲気下、１０００～２２００℃で焼成して焼成物を得る工程である。
焼成は、高純度でｈ－ＢＮの一次粒子の凝集体が緻密化されたｈ－ＢＮ粉末を得る観点から、窒素ガス雰囲気で行うことが好ましく、焼成雰囲気中には酸素ガスが含まれないことが好ましい。
雰囲気中の窒素ガスは、純度９０体積％以上であることが好ましく、より好ましくは９５体積％以上、さらに好ましくは１００体積％である。

焼成温度は、還元窒化反応の進行及びｈ－ＢＮの分解抑制等の観点から、１０００～２２００℃であることが好ましく、より好ましくは１５００～２２００℃、さらに好ましくは１７００～２２００℃である。
焼成時間は、還元窒化反応の進行及びｈ－ＢＮの分解抑制等の観点から、６～２０時間であることが好ましく、より好ましくは８～１８時間、さらに好ましくは１０～１５時間である。
なお、成形工程において水溶液等によるバインダーを用いた場合等には、必要に応じて、前記成形体を焼成前に乾燥させてもよい。乾燥温度は、好ましくは１５０～４００℃、より好ましくは２００～４００℃である。乾燥時間は、好ましくは５～２０時間、より好ましくは８～１５時間である。

（粉砕及び分級工程）
粉砕及び分級工程においては、前記焼成工程で得られた焼成物を粉砕して、分級する工程である。
粉砕方法は、特に限定されるものではなく、例えば、ジョークラッシャー、ピンミル、ロールクラッシャー等を用いた公知の方法を用いて行うことができる。

分級方法は、特に限定されるものではなく、例えば、振動篩装置、気流分級、水篩、遠心分離等の手段を用いて行うことができる。これらのうち、振動篩装置により分級することが好ましい。振動篩装置としては、例えば、「佐藤式振動ふるい機」（晃栄産業株式会社製）等の乾式振動篩装置が挙げられる。この場合、所望の粒度に対応する目開きの篩を用いて分級される。
本発明の効果を奏する粒度のｈ－ＢＮ粉末を得るためには、粒径４００μｍ以下に分級されることが好ましく、より好ましくは粒径３００μｍ以下、さらに好ましくは２００μｍ以下である。

また、２種以上の目開きの篩を用いて、それぞれの粒径範囲に分級された粉末を所定の割合の量で混合し、本発明のｈ－ＢＮ粉末とすることもできる。例えば、目開き４５μｍ及び１０６μｍの篩を用いて、粒径４５μｍ超１０６μｍ以下の粉末（１）と、粒径４５μｍ以下の粉末（２）を得て、粉末（１）及び（２）を所定の割合の量で混合して、本発明のｈ－ＢＮ粉末とすることができる。

［組成物］
本発明の組成物は、樹脂及びゴムから選ばれる１種又は２種以上からなる基材と、前記ｈ－ＢＮ粉末とを含むものである。
前記組成物は、前記ｈ－ＢＮ粉末が、前記基材に対して熱伝導率及び耐電圧を高めるためのフィラーとして配合されているものである。前記ｈ－ＢＮ粉末を用いることにより、前記基材に添加混合される際に、ｈ－ＢＮの一次粒子の凝集体の顆粒形状が維持されやすく、前記基材に対する充填率を高めることができる。

ｈ－ＢＮ粉末は、前記フィラーとしての性能及び前記基材との馴染みやすさ等の観点から、前記組成物中に、１０～９０体積％含まれていることが好ましく、より好ましくは２０～８０体積％、さらに好ましくは３０～７０体積％である。
なお、前記組成物中の前記ｈ－ＢＮ粉末の体積含有量は、ＪＩＳ Ｋ ７０７５：１９９１「炭素繊維強化プラスチックの繊維含有率及び空洞率試験方法」に記載の燃焼法により測定されるｈ－ＢＮ粉末の質量含有量を窒化ホウ素の密度で除することで算出される。組成物の全体積は、窒化ホウ素及び前記基材の比重から算出した値が用いられる。

（基材）
本発明の組成物の基材は、樹脂及びゴムである。これらのうち、１種単独であっても、２種以上が併用されていてもよい。
前記組成物中の前記基材の含有量は、上記の特性を維持することがで、かつ、ｈ－ＢＮ粉末の添加混合による効果が付与される範囲内であることが好ましく、１０～９０体積％であることが好ましく、より好ましくは２０～８０体積％、さらに好ましくは３０～７０体積％である。
前記組成物中の前記基材の体積含有量は、窒化ホウ素及び前記基材の比重から算出した全体積、及び前記ｈ－ＢＮ粉末の体積含有量から求められる。

前記樹脂としては、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、オイル等が挙げられる。
熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン－酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、液晶ポリエステル等のポリエステル樹脂；ポリ塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、及びポリカーボネート樹脂等が挙げられる。
熱可塑性エラストマーとしては、例えば、オレフィン系熱可塑性エラストマー、スチレン系熱可塑性エラストマー、塩化ビニル系熱可塑性エラストマー、ウレタン系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
オイルとしては、例えば、シリコーンオイル等のグリース類が挙げられる。

前記ゴムとしては、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン－ブタジエンゴム、ポリブタジエンゴム、エチレン－プロピレンゴム、エチレン－プロピレン－ジエンゴム、ブタジエン－アクリロニトリルゴム、イソブチレン－イソプレンゴム、クロロプレンゴム、シリコーンゴム、フッソゴム、クロロ－スルホン化ポリエチレン、ポリウレタンゴム等が挙げられる。これらのゴムは、架橋されることが好ましい。

前記基材は、本発明の組成物を用いて得られる放熱材の適用用途において求められる機械的強度、耐熱性、耐久性、柔軟性、可撓性等の特性に応じて、適宜選択される。前記基材としては、熱硬化性樹脂が好ましく、これらのうち、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂が好適に用いられ、エポキシ樹脂がより好適である。

＜エポキシ樹脂＞
前記基材として用いられるエポキシ樹脂としては、前記基材に対する前記ｈ－ＢＮ粉末の分散性の観点から、例えば、常温（２５℃）で液状のエポキシ樹脂、常温（２５℃）で固体状の低軟化点エポキシ樹脂が好ましい。
このようなエポキシ樹脂としては、１分子中に２個以上のエポキシ基を有する化合物であればよく、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸のグリシジルエーテル、シクロヘキサン誘導体のエポキシ化により得られるエポキシ樹脂等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらのうち、耐熱性や取り扱い容易性等の観点から、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、シクロヘキサン誘導体のエポキシ化により得られるエポキシ樹脂が好適である。

前記エポキシ樹脂は、前記基材中での前記ｈ－ＢＮ粉末の偏析の抑制や、該組成物から得られる放熱材の靭性等の機械的特性等の観点から、さらに、該エポキシ樹脂に可溶性の熱可塑性樹脂が配合されることが好ましい。
このような熱可塑性樹脂としては、水素結合性の官能基を有する熱可塑性樹脂が好ましく、前記官能基としては、例えば、アルコール性水酸基、アミド結合、スルホニル基、カルボキシル基等が挙げられる。前記熱可塑性樹脂としては、具体的には、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール、フェノキシ樹脂等のアルコール性水酸基を有する熱可塑性樹脂；ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリビニルピロリドン等のアミド結合を有する熱可塑性樹脂；ポリスルホン等のスルホニル基を有する熱可塑性樹脂；ポリエステル、ポリアミド、ポリアミドイミド等のカルボキシル基を有する熱可塑性樹脂等が挙げられる。これらのうち、アルコール性水酸基を有する熱可塑性樹脂が好ましく、フェノキシ樹脂がより好ましい。
水素結合性の官能基を有する熱可塑性樹脂の配合量は、エポキシ樹脂と、必要に応じて用いられる硬化剤及び硬化促進剤との合計１００質量部に対して、好ましくは０．０５～５０質量部、より好ましくは１．０～３０質量部、さらに好ましくは５～２５質量部である。

エポキシ樹脂を硬化させるために、必要に応じて、エポキシ樹脂用の硬化剤を用いることができる。前記硬化剤は、特に限定されるものではなく、公知のものを適宜選択して用いることができる。前記硬化剤としては、例えば、アミン系、フェノール系、酸無水物系、イミダゾール系等が挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
アミン系硬化剤としては、例えば、ジシアンジアミドや、ｍ－フェニレンジアミン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン、ｍ－キシリレンジアミン等の芳香族ジアミン等が挙げられる。
フェノール系硬化剤としては、例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールＡ型ノボラック樹脂、トリアジン変性フェノールノボラック樹脂等が挙げられる。
酸無水物系硬化剤としては、例えば、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等の脂環式酸無水物、無水フタル酸等の芳香族酸無水物、脂肪族二塩基酸無水物等の脂肪族酸無水物、クロレンド酸無水物等のハロゲン系酸無水物等が挙げられる。
イミダゾール系硬化剤としては、例えば、２－メチルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、２－ヘプタデシルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－エチル－４－メチルイミダゾール等が挙げられる。
前記硬化剤の使用量は、硬化性及び硬化樹脂物性のバランス等の点から、前記エポキシ樹脂に対して、通常、０．５～１．５当量程度、好ましくは０．７～１．３当量である。

前記エポキシ樹脂は、必要に応じて、前記硬化剤とともに、エポキシ樹脂用の硬化促進剤を併用することができる。前記硬化促進剤は、特に限定されるものではなく、公知のものを適宜選択して用いることができる。前記硬化促進剤としては、例えば、２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチルイミダゾール、２－イソプロピルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物；２，４，６－トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール；三フッ化ホウ素アミン錯体；トリフェニルホスフィン等が挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
前記硬化促進剤の使用量は、硬化性及び硬化樹脂物性のバランス等の点から、前記エポキシ樹脂１００質量部に対して、通常、０．１～１０質量部程度、好ましくは０．４～５質量部である。

＜シリコーン樹脂＞
前記シリコーン樹脂としては、付加反応型シリコーン樹脂とシリコーン系架橋剤との混合物を用いることができる。
付加反応型シリコーン樹脂としては、例えば、官能基としてアルケニル基を有するポリオルガノシロキサンが挙げられる。前記ポリオルガノシロキサンとしては、具体的には、ビニル基を官能基とするポリジメチルシロキサン、ヘキセニル基を官能基とするポリジメチルシロキサン、及びこれらの混合物等が挙げられる。
シリコーン系架橋剤としては、例えば、１分子中に２個以上のケイ素原子結合水素原子を有するポリオルガノシロキサンが挙げられ、具体的には、ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖ジメチルシロキサン－メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖ジメチルシロキサン－メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキサン基末端封鎖ポリ（メチルハイドロジェンシロキサン）、ポリ（ハイドロジェンシルセスキオキサン）等が挙げられる。
前記シリコーン樹脂を得るための硬化触媒としては、例えば、微粒子状白金、炭素粉末担体上に吸着された微粒子状白金、塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸のオレフィン錯体等の白金系触媒；パラジウム触媒；ロジウム触媒等が挙げられる。これらのうち、通常、白金系触媒が用いられる。

（その他の成分）
前記組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内において、前記基材及び前記ｈ－ＢＮ粉末以外の他の成分を含有していてもよいが、該組成物中の前記基材及び前記ｈ－ＢＮ粉末の合計含有量は、９０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは９５質量％以上、さらに好ましくは１００質量％である。
前記他の成分としては、例えば、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、繊維状窒化ホウ素等の窒化物粒子；アルミナ、繊維状アルミナ、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ベリリウム、酸化チタン等の絶縁性金属酸化物；ダイヤモンド、フラーレン等の絶縁性炭素成分；水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の無機フィラー；無機フィラーと樹脂の界面接着強度を改善するシランカップリング剤等の表面処理剤や、還元剤、可塑剤、粘着剤、補強剤、着色剤、耐熱向上剤、粘度調整剤、分散安定剤、溶剤等が挙げられる。

（組成物の製造）
本発明の組成物は、その製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、基材として樹脂を用いる場合、以下のようにして製造することができる。
まず、基材として、樹脂と、必要に応じて添加される硬化剤及び溶剤等を混合し、これに、前記ｈ－ＢＮ粉末を、所望の体積含有量となるように添加混合し、組成物を得る。
混合方法は、特に限定されるものではなく、該組成物の適用用途に応じて、公知の方法や混合機を用いて行うことができる。

［放熱材］
本発明の放熱材は、前記組成物からなるものである。前記放熱材は、上述した本発明のｈ－ＢＮ粉末がフィラーとして用いられていることにより、優れた放熱性及び絶縁性を発揮することができる。
前記放熱材は、例えば、シート、ゲル、グリース、接着剤、フェーズチェンジシート等の各種性状のものが挙げられ、また、その形状も特に限定されるものではない。これらのうち、例えば、放熱シートは、マイクロプロセッサ（ＭＰＵ）やパワートランジスタ、トランス等の電子部品から生じる熱を、放熱フィンや放熱ファン等の放熱部品に効率的に伝達するものであり、前記放熱材は、優れた放熱性及び絶縁性を有することから、このような用途に好適に適用することができる。

前記放熱シートは、前記組成物をシート状に成形することにより得られる。前記組成物の基材が、硬化性樹脂等である場合、成形及び硬化することにより得られる。
前記放熱シートの場合、離型層付き樹脂フィルム等の離型性フィルム上に、前記組成物をコーティング機等で塗工し、該組成物が溶剤を含む場合には、遠赤外線輻射ヒーターや温風吹付け等で乾燥させることにより成形することができる。前記離型層としては、例えば、メラミン樹脂等が用いられる。また、前記樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂等が用いられる。
前記組成物の基材が、硬化性樹脂等でない場合には、シート状の成形物が放熱シートとなる。
前記組成物が硬化性樹脂等である場合は、該硬化性樹脂の硬化条件等に応じて、前記離型性フィルムの塗工面とは反対側の面から、該離型性フィルムを介して、シート状の前記成形物を加圧し、また、加熱して、前記成形物を硬化させた後、前記離型性フィルムを剥離して、放熱シートが得られる。

なお、前記放熱シートは、少なくとも一方の面及びシート内部に、作業性の向上や補強等の目的で、シート状、繊維状、網目状等の他の補助部材を積層したり、埋没させたりすることもできる。また、前記放熱シートは、使用時の利便性等の観点から、前記放熱シートの少なくとも一方の面に、粘着性層を設けてもよい。

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。

［ｈ－ＢＮ粉末の製造］
（実施例１）
ｈ－ＢＮ原料粉（Ｌ／ｄ：６．０、Ｄ₅₀：０．６７μｍ、ＢＥＴ比表面積９．９ｍ²／ｇ、結晶子径２６２Å）６５質量部と、酸化ホウ素（関東化学株式会社製）３５質量部とを、ミキサーで混合し、混合粉末を得た。
前記混合粉末１００質量部に、炭化ホウ素（理研コランダム株式会社製、Ｄ₅₀：３μｍ）１８質量部（炭素原子換算３．９質量部）、及びＰＶＡ水溶液（濃度２．５質量％）１０質量部を加えて、ミキサーで混合し、成形用材料を得た。
前記成形用材料を金型内に入れて加圧し、密度１．６ｇ／ｃｍ³のタブレット状の成形体を得た。
前記成形体を乾燥機にて３００℃で６時間乾燥させた後、高周波炉にて窒素ガス雰囲気下、１７５０～２２００℃で１２時間焼成して、焼成物を得た。
前記焼成物をジョークラッシャー及びピンミルにて粉砕した後、乾式振動篩装置（「佐藤式振動ふるい機」、晃栄産業株式会社製）にて、目開き１０６μｍ及び４５μｍの篩を重ねて、６０分間の処理により分級した。
１０６μｍ超の粉末を除去し、分級した粒径４５μｍ超１０６μｍ以下の粉末（１）と、４５μｍ篩下（粒径４５μｍ以下）の粉末（２）とを混合し、ｈ－ＢＮ粉末を得た。なお、粉末（１）と粉末（２）の混合は、粉末（１）及び（２）の合計１００質量％中、粉末（１）が８０質量％となるようにした。

（実施例２及び３、比較例１～３）
実施例１において、ｈ－ＢＮ原料粉、酸化ホウ素、及び炭化ホウ素の配合組成等、また、粉末（１）及び粉末（２）の混合割合を、下記表１に示すように変更し、それ以外は実施例１と同様にして、ｈ－ＢＮ粉末を製造した。

［放熱シートの製造］
上記実施例及び比較例で製造した各ｈ－ＢＮ粉末を用いて、以下のようにして、組成物を作製し、さらに、該組成物を用いて放熱シートを製造した。
室温（２５℃）で液状のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（「ＹＤ－１２８」、新日鉄住金化学株式会社製、エポキシ当量１８４～１９４ｇ／ｅｑ）９０質量部と、フェノキシ樹脂（「ＹＰ－５０Ｓ」、新日鉄住金化学株式会社製、純度９９．０質量％以上）１０質量部との混合物を基材とした。前記基材に、ｈ－ＢＮ粉末を、組成物中のｈ－ＢＮ粉末の含有量が６０体積％となるように添加混合した。また、粘度調整剤としてメトキシプロパノール（「ハイソルブ ＭＰ」、東邦化学工業株式会社製）１５３質量部（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂１００質量部に対して１７０質量部）を添加し、撹拌・脱泡装置（「マゼルスター（登録商標）」、倉敷紡績株式会社製）にて撹拌混合し、組成物を作製した。なお、ｈ－ＢＮ粉末の体積含有量は、ｈ－ＢＮの比重２．２７ｇ／ｃｍ³、及びビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の比重１．１７ｇ／ｃｍ³から求めた。

前記組成物を、ポリエチレンテレフタレート製の離型性フィルム上に、コーターにて膜厚３５０μｍで塗工し、５０℃で、大気中で１０分間、さらに、真空下で１０分間乾燥し、シート状の成形物を得た。
シート状の前記成形物２枚を該成形物同士が接するように重ね合わせた後、ロール加圧し、成形物の総厚さを２００μｍとした。その後、前記成形物を１２０℃で３０分間熱プレスして硬化させ、縦１０ｃｍ、横１０ｃｍ、厚さ３００μｍの放熱シートを製造した。

［各種評価］
上記実施例及び比較例についての各種評価を、以下のようにして行った。

（ｈ－ＢＮ原料粉、炭化ホウ素及びｈ－ＢＮ粉末の５０％体積累積粒径Ｄ₅₀）
粉末試料０．０６ｇ、水（２０℃）５０ｇ、及び分散剤として洗剤（「ママレモン」、ライオン株式会社製）０．００５ｇを含む、粉末試料濃度０．１２質量％の分散液を調製した。前記分散液をマグネティックスターラーで４００ｒｐｍで撹拌しながら、レーザー回折散乱法による粒度分布測定装置（「マイクロトラック（登録商標）ＭＴ３３００ＥＸII」、日機装株式会社製）にて粒度分布を測定し、Ｄ₅₀を求めた。

（ｈ－ＢＮ原料粉及びｈ－ＢＮ粉末の平均一次粒子径、並びにｈ－ＢＮ原料粉のＬ／ｄ）
粉末試料のＳＥＭ写真を撮影し、該写真画像における任意の１００個のｈ－ＢＮの一次粒子の長径を計測し、これらの平均値を平均一次粒子径とした。
前記写真画像における任意の１００個のｈ－ＢＮの一次粒子の短径を厚さとみなして計測し、これらの平均値をｄとした。上記において求めたｈ－ＢＮ原料粉の平均一次粒子径をＬとして、Ｌ／ｄを算出した。

（ｈ－ＢＮ原料粉及びｈ－ＢＮ粉末のＢＥＴ比表面積）
粉末試料について、全自動ＢＥＴ比表面積測定装置（「マルチソーブ１６」、ユアサアイオニクス株式会社製）にて、流動法（吸着質：窒素ガス）によるＢＥＴ１点法で比表面積を測定した。

（ｈ－ＢＮ粉末の嵩密度）
３００ｍＬメスシリンダーに粉末試料１００ｇを投入し、電動振動機（振動数５０Ｈｚ、出力０．０３５ｋＷ）にて、３分間水平振動させた後の体積から算出した密度を嵩密度とした。

（ｈ－ＢＮ原料粉の結晶子径）
粉末試料について、Ｘ線回折測定装置（「Ｘ’Ｐｅｒｔ ＰＲＯ」、パナリティカル社製、ターゲット：銅、Ｃｕ－Ｋα１線）にてＸ線回折測定を行い、下記式（１）で表されるシェラー（Ｓｃｈｅｒｒｅｒ）の式から結晶子径Ｄ［Å］を算出した。
Ｄ＝（Ｋ・λ）／（β・ｃｏｓθ） （１）
式（１）中、Ｋ：Ｓｃｈｅｒｒｅｒ定数、λ：Ｘ線（Ｃｕ－Ｋα１線）波長［Å］、β：回折線の広がり（ピーク半値幅）［ラジアン］、θ：ブラッグ角［ラジアン］である。
計算においては、Ｋ＝０．９、λ＝１．５４０５９［Å］とした。また、βは、下記式（２）で表される補正式により求めた値を用いた。
β＝（β_０ ²－β_ｉ ²）^0.5 （２）
式（２）中、β_０：ｈ－ＢＮ（００２）面由来のピーク半値幅、β_ｉ：標準試料（Ｓｉ）による装置由来の半価幅である。

（成形体の密度）
成形体について、質量計で質量を測定し、また、アルキメデス法で体積を測定し、質量及び体積の測定値から、密度を算出した。

（ｈ－ＢＮ粉末のａ１／ｂ１及びａ２／ｂ２）
上記のＤ₅₀を求める場合と同様にして、ｈ－ＢＮ粉末の分散液を調製して粒度分布を測定し、粒度分布曲線を得た。前記粒度分布曲線において、粒径１．０μｍ以上２０．０μｍ未満の範囲にあるピークＡの高さａ１と、粒径２０．０μｍ以上２００．０μｍ未満の範囲にあるピークＢの高さｂ１の比（ａ１／ｂ１）を求めた。
また、前記分散液と同様にして調製したｈ－ＢＮ粉末の分散液を、胴内径（Ｌ）４０ｍｍ、高さ（Ｈ）６０ｍｍの５０ｍＬガラス製ビーカーに入れ、超音波発生機（「超音波ホモジナイザーＵＳ－１５０Ｔ」、株式会社日本精機製作所製、出力１５０Ｗ、発振周波数１９．５ｋＨｚ）で３分間超音波処理した。前記超音波処理においては、図２に示すように、超音波発生機の振動子のチップ（ステンレス製、直径（ｘ）１８ｍｍの円筒形状）１３の先端を前記ビーカーの中央部の底面から１ｃｍの高さ（ｙ）にセットして行った。
超音波処理後の分散液について、上記と同様にして粒度分布を測定し、粒度分布曲線を得た。前記粒度分布曲線において、粒径１．０μｍ以上２０．０μｍ未満の範囲にあるピークＡの高さａ２と、粒径２０．０μｍ以上２００．０μｍ未満の範囲にあるピークＢの高さｂ２の比（ａ２／ｂ２）を求めた。
実施例及び比較例のｈ－ＢＮ粉末についての粒度分布曲線の代表例として、実施例２についての粒度分布曲線を図２に、また、比較例３についての粒度分布曲線を図５に示す。各図の左側が超音波処理前、右側が超音波処理後である。

（ｈ－ＢＮ粉末の（（ｃ１－ｃ２）／ｃ１×１００））
乾式振動篩装置（「佐藤式振動ふるい機」、晃栄産業株式会社製）にて、目開き１０６μｍ及び４５μｍの篩を重ねて用いて６０分間処理することにより、ｈ－ＢＮ粉末を分級し、粒径４５μｍ超１０６μｍ以下の範囲内に分級された粉末試料を得た。
前記粉末試料について、上記のａ１／ｂ１を求める場合と同様にして、粉末試料の分散液を調製し、粒度分布を測定し、粒度分布曲線を得た。前記粒度分布曲線において、粒径４５．０～１５０．０μｍの範囲内にある最大ピークＣの高さｃ１を求めた。
また、前記分散液と同様にして調製した粉末試料の分散液を、超音波発生機（「超音波ホモジナイザーＵＳ－１５０Ｔ」、株式会社日本精機製作所製、出力１５０Ｗ、発振周波数１９．５ｋＨｚ）で１分間超音波処理し、処理後の分散液について、上記と同様にして粒度分布を測定し、粒度分布曲線を得た。前記粒度分布曲線において、粒径４５．０～１５０．０μｍの範囲内にある超音波処理後の最大ピークＣの高さｃ２を求めた。
前記ｃ１及びｃ２から、最大ピークＣの減少率（（ｃ１－ｃ２）／ｃ１×１００）［％］を算出した。

（放熱シートの熱伝導率）
放熱シートの熱拡散率［ｍ²／ｓ］を、キセノンフラッシュアナライザー（「ＬＦＡ４４７ ＮａｎｏＦｌａｓｈ」、ＮＥＴＺＳＣＨ社製）にて測定した。測定値に、放熱シートの比熱及び密度を乗じた値を、放熱シートの厚さ方向の熱伝導率［Ｗ／（ｍ・Ｋ）］とした。なお、比熱は、ｈ－ＢＮ：０．８Ｊ／（ｇ・Ｋ）、樹脂成分（基材由来）：１．８Ｊ／（ｇ・Ｋ）の理論値（室温（２５℃））を用い、また、密度は、ｈ－ＢＮ：２．２７ｇ／ｃｍ³、樹脂成分（基材由来）：１．１７ｇ／ｃｍ³の理論値（室温（２５℃））を用いて計算した。
熱伝導率が１５Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であれば、放熱性に優れているものとして判定した。

（放熱シートの耐電圧）
放熱シートの耐電圧（絶縁破壊電圧）［ｋＶ／ｍｍ］を、耐電圧／絶縁抵抗測定装置（「ＴＯＳ９２０１／５１０１」、菊水電子工業株式会社製）にて、昇圧速度０．１ｋＶ／ｓｅｃで測定した。
耐電圧が１０ｋＶ／ｍｍ以上であれば、絶縁性に優れているものとして判定した。

上記評価に基づいて、各実施例及び比較例のｈ－ＢＮ粉末の配合原料の詳細を下記表１に示す。また、表２に、ｈ－ＢＮ粉末及び放熱シートについての評価結果を示す。

表２に示した評価結果から分かるように、ｈ－ＢＮ粉末のａ１／ｂ１が大きい、すなわち、粗粒（ピークＢ）に比べて微粒（ピークＡ）が多すぎる場合（比較例１）、これを用いて製造した放熱シートは、熱伝導率が低いものであった。ｈ－ＢＮ粉末のａ２／ｂ２が小さい、すなわち、超音波処理後において微粒（ピークＡ）が粗粒（ピークＢ）に比べて多すぎる場合（比較例３）も同様であった。
また、ｈ－ＢＮ粉末のａ１／ｂ１及びａ２／ｂ２がともに小さすぎる場合（比較例２）は、これを用いて製造した放熱シートは、耐電圧が低かった。
これらに対して、ｈ－ＢＮ粉末のａ１／ｂ１及びａ２／ｂ２が所定範囲内である場合（実施例１～３）は、これを用いて製造した放熱シートは、熱伝導率及び耐電圧ともに高いものであることが認められた。これは、ｈ－ＢＮ粉末中のｈ－ＢＮの一次粒子の凝集体が適度な凝集強度を有していることによるものと考えられる。

１ 凝集体
２ 六方晶窒化ホウ素（ｈ－ＢＮ）の一次粒子
１１ ５０ｍＬガラス製ビーカー
１２ 水分散液
１３ 超音波発生機の振動子のチップ

Claims (7)

1. 六方晶窒化ホウ素の一次粒子の凝集体を含む六方晶窒化ホウ素粉末であって、
   平均一次粒子径が３．２～３．５μｍ、５０％体積累積粒径Ｄ₅₀が８０．２～８５．５μｍ、ＢＥＴ比表面積が４．２～４．３ｍ ² ／ｇ、嵩密度が０．８４～０．８６ｇ／ｃｍ³であり、
   体積基準の頻度分布を表す粒度分布曲線において、ピークはピークＡ及びピークＢのみであり、粒径１．０μｍ以上２０．０μｍ未満の範囲にピークＡを有し、粒径２０．０μｍ以上２００．０μｍ未満の範囲にピークＢを有し、
   該六方晶窒化ホウ素粉末を下記条件１にて３分間超音波処理したときの、処理前の前記ピークＡの高さａ１と前記ピークＢの高さｂ１の比（ａ１／ｂ１）が０．１０～０．１４、処理後の前記ピークＡの高さａ２と前記ピークＢの高さｂ２の比（ａ２／ｂ２）が０．７１～１．１６であり、
   該六方晶窒化ホウ素粉末を粒径４５μｍ超１０６μｍ以下の範囲内に振動篩で分級された粉末の体積基準の頻度分布を表す粒度分布曲線において、粒径４５．０～１５０．０μｍの範囲内に最大ピークＣを有し、分級された前記粉末を前記条件１にて１分間超音波処理したときの、前記最大ピークＣの処理前の高さｃ１に対する処理後の高さｃ２の減少率（（ｃ１－ｃ２）／ｃ１×１００［％］）が１８～２２％である、六方晶窒化ホウ素粉末。
   ［条件１］胴内径４０ｍｍ、高さ６０ｍｍの５０ｍＬガラス製ビーカーに、該六方晶窒化ホウ素粉末の０．１２質量％の２０℃の水分散液５０ｍＬを入れ、超音波発生機の振動子のチップの先端を前記ビーカーの中央部の底面から１ｃｍの高さにセットして、出力１５０Ｗ、発振周波数１９．５ｋＨｚで超音波処理する。
2. 請求項１に記載の六方晶窒化ホウ素粉末を製造する方法であって、
   六方晶窒化ホウ素純度が９５質量％以上である六方晶窒化ホウ素原料粉５０～９０質量部と、ホウ素のオキソ酸及び酸化ホウ素から選ばれる１種又は２種以上のホウ素化合物１０～５０質量部とを含む混合粉末を調製する工程と、
   前記混合粉末１００質量部に、黒鉛及び炭素含有化合物から選ばれる１種又は２種以上の炭素源を炭素原子換算で３．０～１０．０質量部添加混合して成形用材料を調製する工程と、
   前記成形用材料を加圧成形して、密度１．４０～１．７０ｇ／ｃｍ³の成形体を作製する工程と、
   前記成形体を、窒素ガス雰囲気下、１０００～２２００℃で焼成して焼成物を得る工程と、
   前記焼成物を粉砕し、２種以上の目開きの篩を用いて、それぞれの粒径範囲に分級を行い、所定の割合の量で混合する工程とを有し、
   前記六方晶窒化ホウ素原料粉の平均一次粒子径Ｌと平均厚さｄの比（Ｌ／ｄ）が２．０～１５．０、５０％体積累積粒径Ｄ₅₀が０．２０～５．００μｍ、ＢＥＴ比表面積が５．０～３０．０ｍ²／ｇ、結晶子径が１５０～４００Åである、六方晶窒化ホウ素粉末の製造方法。
3. 前記成形用材料を調製する工程において、前記炭素源が炭化ホウ素であり、前記混合粉末１００質量部に、該炭化ホウ素が１５～２０質量部添加混合される、請求項２に記載の六方晶窒化ホウ素粉末の製造方法。
4. 前記炭化ホウ素が、５０％体積累積粒径Ｄ₅₀が０．１～１５．０μｍの粉末である、請求項３に記載の六方晶窒化ホウ素粉末の製造方法。
5. 樹脂及びゴムから選ばれる１種又は２種以上からなる基材と、請求項１に記載の六方晶窒化ホウ素粉末とを含む、組成物。
6. 請求項５に記載の組成物からなる放熱材。
7. 放熱シートである、請求項６に記載の放熱材。

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