JP7044071B2 - 化粧材 - Google Patents
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Description
化粧材の表面に平面的な柄模様と併せて立体的な凹凸感を表現する手法としては、従来、様々な方法が考案され、目的に応じて使い分けられている。なかでも、化粧材の表面に実際に凹凸を形成するのではなく、凹部または凸部として表現したい部分の表面の艶状態(具体的には光沢度)を異ならせることによって、人間の目の錯覚を利用して視覚的に凹凸の立体感を表現する手法がある。この手法によれば、実際には凹凸形状が存在しなくても、人間の目には、相対的に艶の高い部分は凸部、艶の低い部分は凹部として認識される。
このような手法によれば、特殊な薬剤等を必要とすることなく、艶の異なる2種類の塗料を用意するだけで、いかなる基材に対しても、容易に立体的な凹凸感を賦与することができる。しかも、艶の異なる合成塗料層の形成は、柄模様(柄インキ層)の形成に引き続きグラビア印刷法等の慣用の印刷法で行うことができるので、特殊設備は一切不要で生産能率も高く、柄模様との同調も容易である。また、合成塗料層の厚みは表現しようとする凹凸の高低差と比較すれば遥かに薄く済むので、樹脂の使用量を削減できるほか、可撓性の面でも有利であり、折り曲げ加工適性に優れた化粧材を容易に実現できる。また、化粧材の表面に大きな凹凸が無いので、凹部に汚染物が留まることも無いという利点もある。
そこで、近年、深さが連続的に変化した斜面部を有する凹凸形状を表現する合成塗料層(以下、「艶調整層」とも呼ぶ)を設けることによって、天然木の導管等のように、斜面部を有する凹凸形状を表現可能な化粧材が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、艶消し剤を用いた艶調整層を用いた場合、外部の物体の接触による表面の凸部の削れや、艶消し剤の脱落により、耐傷性が悪化することが知られている。そのため、例えば、家具の天板や棚板に求められる高度な耐傷性を満足することは困難であった。
ここで、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なる。また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本発明の技術的思想は、構成部品の材質、形状および構造等を下記のものに特定するものでない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。
図1に示すように、実施形態に係る化粧材1は、基材2上に設けられた第1の艶調整層5と、第1の艶調整層5上に部分的に設けられ、第1の艶調整層5の艶と異なる艶を有する第2の艶調整層6とを備えている。そして、これら第1、第2の艶調整層5、6のうちの相対的に艶の低い艶調整層は、平均粒径が6.0μm以上15.0μm以下の艶消し剤を含むことが重要である。これにより、相対的に艶の低い艶調整層の耐傷性を向上することができるため、意匠性と耐傷性とに優れた化粧材1を提供することができる。
なお、化粧材1は、基材2と第1の艶調整層5との間に、後述するように下地ベタインキ層3、柄インキ層4および透明樹脂層(不図示)等、他の層が配置する構成であってもよい。
基材2は、化粧材1の原紙として用いられるものであれば、特に限定されるものではない。基材2には、例えば、紙類、織布や不織布、合成樹脂系基材、木質系基材、無機系基材、金属系基材、またはこれらの複合材、積層体等、従来公知の材料を用いることができる。紙類としては、例えば薄葉紙、樹脂混抄紙、チタン紙、樹脂含浸紙、難燃紙、無機質紙等が挙げられる。織布もしくは不織布は、天然繊維または合成繊維からなる。合成樹脂系基材は、例えばホモまたはランダムポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂等のポリオレフィン樹脂、共重合ポリエステル樹脂、アモルファス状態の結晶性ポリエステル樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリブチレン樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、フッ素系樹脂等からなる。木質系基材としては、例えば木材単板、突板、合板、集成材、パーティクルボード、中密度繊維板等が挙げられる。無機系基材としては、例えば石膏板、セメント板、珪酸カルシウム板、陶磁器板等が挙げられる。金属系基材としては、例えば、鉄、銅、アルミニウム、ステンレス等が挙げられる。
また、基材2の形状としては、フィルム状、シート状、板状、異型成型体等を用いることができる。
下地ベタインキ層3は、基材2と柄インキ層4との間に設けられ、求められる意匠に応じて、基材2の第1の艶調整層5側の面の全面を被覆する層である。また、下地ベタインキ層3は、隠蔽性等、必要に応じて2層以上の多層としてもよい。さらに、下地ベタインキ層3は、求められる意匠を表現するために必要な分版の数だけ積層して形成してもよい。このように、下地ベタインキ層3は、柄インキ層4との組合せによって求められる意匠、つまり、表現したい意匠に応じて様々な態様を取り得るが、特に限定されるものではない。
ここで、下地ベタインキ層3、柄インキ層4および第1、第2の艶調整層5、6の各層は、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等の各種印刷方法によって形成することができる。また、下地ベタインキ層3および第1の艶調整層5は、基材2の第1の艶調整層5側の面の全面を被覆しているため、ロールコート法、ナイフコート法、マイクログラビアコート法、ダイコート法等の各種コーティング方法によっても形成できる。これらの印刷方法、コーティング方法は、形成する層によって、形成する方法を別々に選択してもよいし、同じ形成方法を選択して一括加工してもよい。
柄インキ層4は、基材2と第1の艶調整層5の間に設けられ、化粧材1に柄模様を付加するための層である。柄模様としては、木目模様、石目模様、砂目模様、タイル貼模様、煉瓦積模様、布目模様、皮絞模様、幾何学図形等を用いることができる。図1では、柄インキ層4の形成箇所は、第2の艶調整層6を形成する位置の直下の部分のみとなっている。すなわち、第2の艶調整層6が、柄インキ層4と重なる部分にのみ形成された構成となっている。すなわち、柄インキ層4の柄模様は、第2の艶調整層6の艶と同調している。これにより、本実施形態の化粧材1は、柄インキ層4による意匠性に、第2の艶調整層6による意匠性を付加することができる。それゆえ、本実施形態の化粧材1は、天然木や天然石に近い高級感のある意匠表現を有した化粧材とすることができる。
柄インキ層4の構成材料は、特に限定されるものではない。例えば、下地ベタインキ層3と同様に、マトリックスと、染料、顔料等の着色剤とを溶剤中に溶解、分散してなる印刷インキやコーティング剤を用いることができる。また、柄インキ層4には、各種機能を賦与するために、体質顔料、可塑剤、分散剤、界面活性剤、粘着賦与剤、接着助剤、乾燥剤、硬化剤、硬化促進剤、および硬化遅延剤等の機能性添加剤を添加してもよい。
第1の艶調整層5は、下地ベタインキ層3および柄インキ層4の上に設けられ、化粧材1表面の艶状態を調整するための層である。第1の艶調整層5の形成箇所は、下地ベタインキ層3および柄インキ層4の面の全面となっており、第1の艶調整層5は、基材2における化粧材1の表面側の面の全面を被覆している。また、第2の艶調整層6は、第1の艶調整層5の上に設けられる。第2の艶調整層6は、第1の艶調整層5の艶と異なる艶を有し、化粧材1表面の艶状態を調整するための層である。第2の艶調整層6の形成箇所は、第1の艶調整層5における化粧材1の表面側の面の一部となっている。そして、化粧材1は、これら第1、第2の艶調整層5、6の艶の差により凹凸形状が表現可能となっている。
少なくとも相対的に艶の低い艶調整層に含有する艶消し剤の平均粒径は、6.0μm以上15.0μm以下である。平均粒径が6.0μm未満である場合には、平均粒径が小さすぎるため、外部の物体が第1、第2の艶調整層5、6の樹脂部分に接触しやすくなるので、耐傷性が十分に得られないおそれがある。一方、平均粒径が15.0μmより大きい場合には、平均粒径が大きすぎるため、第1、第2の艶調整層5、6表面からの艶消し剤の露出量が大きくなり、艶消し剤が脱落しやすくなるので、耐傷性が十分に得られないおそれがある。また、平均粒径が15.0μmより大きい場合には、第1、第2の艶調整層5、6表面での光の散乱が大きく、第1、第2の艶調整層5、6の白濁を招いたり、目視での粒子感が大きくなったりし、艶の差による凹凸感が損なわれてしまうため、意匠性が十分に得られないおそれがある。
艶消し剤としては、市販されている公知の艶消し剤等を用いることができる。艶消し剤としては、例えば、シリカ、ガラス、アルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、アクリル等の無機材料からなる微粒子が挙げられる。第1、第2の艶調整層5、6は、透明性が高いことが要求されるため、なかでも、透明性の高いシリカ、ガラス、アクリル等の微粒子を用いることが望ましい。特に、シリカ微粒子のなかでも、中実の真球状粒子ではなく、微細な1次粒子が2次凝集してなる嵩密度の低い艶消し剤は添加量に対する艶消し効果が高い。それゆえ、このような艶消し剤を用いることで、より艶の低い艶調整層を形成できる。これにより、第1の艶調整層5と第2の艶調整層6の艶の差を大きくすることができ、得られる凹凸感を大きくすることができる。これにより、より深みのある優れた意匠表現が可能となる。
樹脂組成物としては、作業性、価格、樹脂自体の凝集力等の観点から、イソシアネートを用いたウレタン系のものが好適である。イソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート(TDI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート(HMDI)、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、リジンジイソシアネート(LDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、メチルヘキサンジイソシアネート(HTDI)、ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン(HXDI)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMDI)等の誘導体であるアダクト体、ビュレット体、イソシアヌレート体等の硬化剤を用いることができる。
また、第1、第2の艶調整層5、6は、化粧材1の最表面となる層のため、化粧材1として必要な耐摩耗性、耐擦傷性、耐溶剤性、耐汚染性等の表面物性が求められる。なかでも、耐摩耗性や耐擦傷性は層厚による影響があり、層厚が厚い方が有利となる。したがって、艶消し剤を含有する場合には、第1、第2の艶調整層5、6のさらに好ましい層厚は2μm以上12μm以下となる。1μm未満の場合、耐摩耗性および耐擦傷性が大幅に悪くなるため、化粧材1としての用途が限られる。また、18μmより大きい場合、艶消し剤を含有する場合には第1、第2の艶調整層5、6自体の可撓性が悪くなるため、化粧材1としての加工性が悪化する。
また、第1、第2の艶調整層5、6には、各種機能を賦与するために、抗菌剤、防カビ剤等の機能性添加剤を添加してもよい。また、必要に応じて紫外線吸収剤、光安定化剤を添加してもよい。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、ベンゾフェノン系、トリアジン系を用いることができる。また、光安定化剤としては、ヒンダードアミン系を用いることができる。さらに、汚染防止性能やセロテープ(登録商標)離型性が求められる場合には、シリコーン骨格を持つ離型剤を添加することができる。この場合、離型剤の種類は特に限定されないが、樹脂組成物に対して反応性を有する末端官能基を持つシリコーン離型剤を用いることで、汚染防止性能やセロテープ離型性の耐久性を向上できる。
また、特に、化粧材1の特性として、耐摩耗性が要求される場合には、柄インキ層4と第1の艶調整層5の間に透明樹脂層(不図示)を設けることができる。透明樹脂層としては、例えば、オレフィン系樹脂を主成分とした樹脂組成物を用いることが好ましい。オレフィン系樹脂としては、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の他に、αオレフィン(例えば、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-ヘプテン、1-オクテン、1-ノネン、1-デセン、1-ウンデセン、1-ドデセン、トリデセン、1-テトラデセン、1-ペンタデセン、1-ヘキサデセン、1-ヘプタデセン、1-オクタデセン、1-ノナデセン、1-エイコセン、3-メチル-1-ブテン、3-メチル-1-ペンテン、3-エチル-1-ペンテン、4-メチル-1-ペンテン、4-メチル-1-ヘキセン、4,4-ジメチル-1-ペンテン、4-エチル-1-ヘキセン、3-エチル-1-ヘキセン、9-メチル-1-デセン、11-メチル-1-ドデセン、12-エチル-1-テトラデセン等)を単独重合あるいは2種類以上共重合させたものや、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体、エチレン・メチルメタクリレート共重合体、エチレン・エチルメタクリレート共重合体、エチレン・ブチルメタクリレート共重合体、エチレン・メチルアクリレート共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体、エチレン・ブチルアクリレート共重合体等のように、エチレンまたはαオレフィンとそれ以外のモノマーとを共重合させたものを用いることができる。特に、表面強度の更なる向上を図る場合には、高結晶性のポリプロピレンを用いることが好ましい。
(1)以上のように、本実施形態の化粧材1では、相対的に艶の低い艶調整層は、平均粒径が6.0μm以上15.0μm以下の艶消し剤を含有する。
この構成によれば、相対的に艶の低い艶調整層、つまり耐傷性が弱くなりやすい艶調整層の艶消し剤の平均粒径を、艶調整層が耐傷性と意匠性とに優れたものとなるようにする最適な範囲とすることができる。これにより、化粧材1全体の耐傷性と意匠性とを向上でき、耐傷性と意匠性とに優れた化粧材1を提供することができる。
もちろん、相対的に艶の高い側の艶調整層にも、平均粒径が6.0μm以上15.0μm以下の艶消し剤を含有させてもよい。
この構成によれば、艶消し剤の一部が表面から露出した状態とすることができ、耐傷性をより確実に向上できる。
(3)このとき、相対的に艶の低い艶調整層の層厚は、艶消し剤の粒径の1/3以上が好ましい。
この構成によれば、艶消し剤の脱落を防止でき、耐傷性をより確実に向上できる。
(4)また、本実施形態の化粧材1では、柄インキ層4の柄模様と第2の艶調整層6の艶とが同調している。
この構成によれば、柄インキ層4による意匠性に、第2の艶調整層6による意匠性を付加でき、天然木等に近い高級感のある意匠表現を有した化粧材1を形成できる。
この構成によれば、艶調整層の艶を大きく下げることができる。そのため、第1の艶調整層5の艶と第2の艶調整層6の艶との差を大きくすることができ、得られる凹凸感を大きくすることができる。これにより、より深みのある優れた意匠表現が可能となる。
(6)また、本実施形態の化粧材1では、艶消し剤を構成する無機材料として、シリカまたはガラスを用いている。
この構成によれば、艶消し効果を向上でき、より艶の低い艶調整層を形成できる。
(1)上記の説明では、第2の艶調整層6が柄インキ層4と重なる部分に形成され、柄インキ層4の柄模様と第2の艶調整層6の艶とが同調している例を示したが、他の構成を採用することもできる。例えば、図2に示すように、第2の艶調整層6が柄インキ層4の直上以外の部分に形成され、柄インキ層4の柄模様と第1の艶調整層5の艶とが同調していてもよい。この場合、柄インキ層4の柄模様に、露出している第1の艶調整層5の艶が賦与され、柄インキ層4による意匠性に第1の艶調整層5による意匠性を付加できる。それゆえ、天然木や天然石に近い高級感のある意匠表現を有した化粧材1を形成できる。
(2)ここで、同調は、同調させる2つの層が層厚方向で完全に一致するように重なっていなくても良い。同調は、第2の艶調整層6が、例えば幅方向において、同調させる他の層と7割以上重なるように調整されていればよい。
(実施例1)
実施例1では、坪量50g/m2の含浸紙(GFR-506:興人(株)製)を基材2として用いた。そして、基材2の一方の面に、油性硝化綿樹脂系グラビア印刷インキ(PCNT(PCRNT)各色:東洋インキ(株)製)を使用して、下地ベタインキ層3と、柄インキ層4とをこの順に形成した。柄インキ層4の柄模様は、木目柄とした。
続いて、柄インキ層4を形成した基材2上に、第1の艶調整層5用のインキを、基材2の一方の面の全面を被覆するように塗布し、第1の艶調整層5を形成した。インキは、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100質量部に対して、アクリルポリオール(6KW-700:大成ファインケミカル(株)製)20質量部、シリカ系艶消し剤(サイリシア370:富士シリシア化学(株)製)10質量部、紫外線ラジカル開始剤(IRGACURE184:BASF製)5質量部、ポリイソシアネート(UR190B硬化剤:東洋インキ(株)製)6質量部から構成した。インキの塗布量は5g/m2とした。続いて、第2の艶調整層6用のインキを、第1の艶調整層5上の、柄インキ層4の直上の部分に塗布することで、第2の艶調整層6を形成した。インキは、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート100質量部に対して、シリカ系艶消し剤(サイリシア370:富士シリシア化学(株)製)5質量部、紫外線ラジカル開始剤(IRGACURE184:BASF製)5質量部から構成した。なお、艶消し剤の平均粒径は6.4μmであった。
実施例2では、第1の艶調整層5用のインキの艶消し剤、および第2の艶調整層6用のインキの艶消し剤として、シリカ系艶消し剤(CARPLEX CS-801:エボニックジャパン(株)製)を用いた。艶消し剤の平均粒径は7.8μmであった。それ以外は実施例1と同様の構成とした。
(実施例3)
実施例3では、第1の艶調整層5用のインキの艶消し剤、および第2の艶調整層6用のインキの艶消し剤として、シリカ系艶消し剤(ミズカシルP-510:水澤化学工業(株)製)を用いた。艶消し剤の平均粒径は10.0μmであった。それ以外は実施例1と同様の構成とした。
(実施例4)
実施例4では、第1の艶調整層5用のインキの艶消し剤として、シリカ系艶消し剤(CARPLEX CS-801:エボニックジャパン(株)製)を用い、第2の艶調整層6用のインキに艶消し剤を添加しなかった。それ以外は実施例1と同様の構成とした。
実施例5では、第1の艶調整層5用のインキの艶消し剤として、シリカ系艶消し剤(サイリシア370:富士シリシア化学(株)製)5質量部を用い、第2の艶調整層6用のインキの艶消し剤として、シリカ系艶消し剤(CARPLEX CS-801:エボニックジャパン(株)製)10質量部を用いた。それ以外は実施例1と同様の構成とした。なお、実施例5では第2の艶調整層に用いる艶消し剤の添加量が相対的に多いため、相対的に艶の低い艶調整層は第2の艶調整層6となっている。
(実施例6)
実施例6では、第2の艶調整層6用のインキの艶消し剤として、シリカ系艶消し剤(CARPLEX CS-801:エボニックジャパン(株)製)10質量部を用い、第1の艶調整層5用のインキに艶消し剤を添加しなかった。それ以外は実施例1と同様の構成とした。
比較例1では、第1の艶調整層5用のインキの艶消し剤、および第2の艶調整層6用のインキの艶消し剤として、シリカ系艶消し剤(ミズカシルP-707:水澤化学工業(株)製)を用いた。艶消し剤の粒径は4.0μm(<6.0μm)であった。それ以外は実施例1と同様の構成とした。
(比較例2)
比較例2では、第1の艶調整層5用のインキの艶消し剤、および第2の艶調整層6用のインキの艶消し剤として、シリカ系艶消し剤(ミズカシルP-78F:水澤化学工業(株)製)を用いた。艶消し剤の粒径は18.0μm(>15.0μm)であった。それ以外は実施例1と同様の構成とした。
以上の実施例1~6、比較例1~2について、意匠性と耐傷性の評価を行った。
(意匠性)
艶調整層の白濁(印刷柄の見え方)および艶の差による凹凸感を目視観察によって評価した。そして、問題無い場合を「○」、僅かに白濁が見られる場合または僅かに凹凸感が弱い場合を「△」、明確に白濁が見られる場合または凹凸感が弱い場合を「×」とした。(耐傷性)
化粧材1に対して、スチールウール(#0000)を用いて荷重500[g/m2]、30回往復の耐傷性試験を実施した後、化粧材1の表面の傷や光沢度変化の有無を目視観察によって評価した。そして、傷や光沢度変化が見られない場合を「○」、傷や光沢度変化が僅かに見える場合を「△」、大きな傷や光沢度変化が見える場合を「×」とした。
これらの評価結果を表1に示す。表1に記載の粒径は、平均粒径である。
一方、比較例1の化粧材1では、意匠性は「○」となったが、耐傷性が「×」となった。耐傷性が「×」となった理由としては、艶消し剤の平均粒径が小さすぎるために、スチールウールが第1、第2の艶調整層5、6の樹脂部分に接触しやすくなったためと考えられる。また、比較例2では、耐傷性と意匠性との両方が「×」となった。耐傷性が「×」となった理由としては、艶消し剤の平均粒径が大きすぎるために、第1、第2の艶調整層5、6表面からの艶消し剤の露出量が大きくなり、艶消し剤が脱落しやすくなったためと考えられる。また、意匠性が「×」となった理由としては、第1、第2の艶調整層5、6の表面での光の散乱が大きく、第1、第2の艶調整層5、6に白濁を招いたり、目視での粒子感が大きくなったりし、艶の差による凹凸感が損なわれたためと考えられる。
なお、本発明の化粧材1は、上記の実施形態および実施例に限定されるものではなく、発明の特徴を損なわない範囲において種々の変更が可能である。
ここで、本願が優先権を主張する、日本国特許出願2016-215189号(2016年11月2日出願)の全内容は、参照により本開示の一部をなす。
Claims (9)
- 基材上に設けられた第1の艶調整層と、前記第1の艶調整層上に部分的に設けられ、前記第1の艶調整層の艶と異なる艶を有する第2の艶調整層とを備え、
前記第1の艶調整層と前記第2の艶調整層とのうち、少なくとも相対的に艶の低い艶調整層が艶消し剤を含み、前記相対的に艶の低い艶調整層に含まれる艶消し剤の平均粒径が6.0μm以上15.0μm以下であり、
前記相対的に艶の低い艶調整層の層厚は、1μm以上18μm以下であり且つ前記相対的に艶の低い艶調整層に含まれる艶消し剤の粒径の1.2倍以下の層厚であり、
前記艶消し剤は、1次粒子が2次凝集して形成された粒子であることを特徴とする化粧材。 - 前記相対的に艶の低い艶調整層の層厚は、前記相対的に艶の低い艶調整層に含まれる艶消し剤の粒径の1/3以上の層厚であることを特徴とする請求項1に記載の化粧材。
- 前記艶消し剤は、無機材料からなることを特徴とする請求項1又は2に記載の化粧材。
- 前記無機材料は、シリカまたはガラスであることを特徴とする請求項3に記載の化粧材。
- 前記基材と前記第1の艶調整層との間に設けられた柄インキ層を更に備え、
前記第2の艶調整層は、前記柄インキ層と重なる部分に形成されて、前記柄インキ層の柄模様と前記第2の艶調整層の艶とが同調していることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の化粧材。 - 前記基材と前記第1の艶調整層との間に設けられた柄インキ層を更に備え、
前記第1の艶調整層は、前記基材の前記第1の艶調整層側の面の全面を被覆しており、
前記第2の艶調整層は、前記柄インキ層の直上以外の部分と重なる部分に形成されて、前記柄インキ層の柄模様と前記第1の艶調整層の艶とが同調していることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の化粧材。 - 基材上に設けられた第1の艶調整層と、前記第1の艶調整層上に部分的に設けられ、前記第1の艶調整層の艶と異なる艶を有する第2の艶調整層とを備え、
前記第1の艶調整層と前記第2の艶調整層の両方が艶消し剤を含み、前記艶消し剤の平均粒径が6.0μm以上15.0μm以下であり、
前記第1の艶調整層と前記第2の艶調整層のうち、相対的に艶の低い艶調整層の層厚は、1μm以上18μm以下であり且つ前記相対的に艶の低い艶調整層に含まれる艶消し剤の粒径の1.2倍以下の層厚であり、
前記第1の艶調整層と前記第2の艶調整層の両方に含まれる前記艶消し剤の平均粒径は、互いに同じであり、
前記第1の艶調整層に含まれる前記艶消し剤の含有量は、前記第2の艶調整層に含まれる前記艶消し剤の含有量よりも多いことを特徴とする化粧材。 - 前記艶消し剤の平均粒径は、6.4μm以上10.0μm以下であることを特徴とする請求項7に記載の化粧材。
- 前記艶消し剤は、1次粒子が2次凝集して形成されたシリカ粒子であることを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載の化粧材。
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