JP6995314B2 - 網膜組織の製造法 - Google Patents
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Description
これら製造法の出発材料である多能性幹細胞は、特に霊長類多能性幹細胞の場合、フィーダー細胞存在下・未分化維持因子添加条件で未分化状態を維持して培養することが可能であった。近年、未分化維持培養の改良が進み、霊長類多能性幹細胞を、フィーダー細胞非存在下(フィーダーフリー)・未分化維持因子添加条件にて培養する手法が報告されている(非特許文献7、8及び9)。当該手法でフィーダーフリー培養された多能性幹細胞を出発材料として、網膜等の神経系細胞又は神経組織を安定的に製造する方法が切望されていた。
すなわち、本発明は以下に関する。
(1)多能性幹細胞を、フィーダー細胞非存在下で、1)TGFβファミリーシグナル伝達経路阻害物質及び/又はソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質、並びに2)未分化維持因子を含む培地中で培養する第一工程、
(2)第一工程で得られた細胞を、Wntシグナル伝達経路阻害物質を含む培地中で浮遊培養し、細胞の凝集体を形成させる第二工程、及び
(3)第二工程で得られた凝集体を、Wntシグナル伝達経路阻害物質の存在下又は非存在下において、BMPシグナル伝達経路作用物質を含む培地中で浮遊培養し、網膜系細胞もしくは網膜組織を含む凝集体を得る第三工程。
[2]第一工程において多能性幹細胞を0.5時間~144時間培養する、[1]に記載の製造方法。
[3]第一工程の培養が接着培養で行われる、[1]又は[2]に記載の製造方法。
[4]第二工程において、第一工程で得られた細胞を分散し、当該分散した細胞を浮遊培養する、[1]~[3]のいずれかに記載の製造方法。
[5]未分化維持因子が、少なくともFGFシグナル伝達経路作用物質を含む、[1]~[4]に記載の製造方法。
[6]FGFシグナル伝達経路作用物質が、bFGFである、[5]に記載の製造方法。
[7]第二工程において、浮遊培養に用いる培地が、更にソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を含む、[1]~[6]のいずれかに記載の製造方法。
[8]多能性幹細胞がヒト多能性幹細胞であり、第二工程における培地中のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質濃度がSAG10nM~700nMのソニック・ヘッジホッグシグナル伝達作用に相当する濃度である、[7]に記載の製造方法。
[9]TGFβファミリーシグナル伝達経路阻害物質が、TGFβシグナル伝達経路阻害物質、又はBMPシグナル伝達経路阻害物質である、[1]~[8]のいずれかに記載の製造方法。
[10]TGFβファミリーシグナル伝達経路阻害物質が、Lefty、SB431542、A-83-01及びLDN193189からなる群から選ばれる1以上の物質である、[1]~[9]のいずれかに記載の製造方法。
[11]ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質がShh、SAG及びPurmorphamineからなる群から選ばれる1以上の物質である、[1]~[10]のいずれかに記載の製造方法。
[12]第三工程において、第二工程の開始後1日目から9日目の間にBMPシグナル伝達経路作用物質を培地に添加する、[1]~[11]のいずれかに記載の製造方法。
[13]第三工程において、第二工程開始後1日目から6日目の間にBMPシグナル伝達経路作用物質を培地に添加する、[12]に記載の製造方法。
[14]第三工程において、第二工程開始後1日目から3日目の間にBMPシグナル伝達経路作用物質を培地に添加する、[13]に記載の製造方法。
[15]BMPシグナル伝達経路作用物質が、BMP2、BMP4、BMP7及びGDF7からなる群から選ばれる1以上の蛋白質である、[1]~[14]のいずれかに記載の製造方法。
[16]BMPシグナル伝達経路作用物質が、BMP4である、[1]~[15]のいずれかに記載の製造方法。
[17]第三工程において、培地中のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質の濃度がSAG700nMのソニック・ヘッジホッグシグナル伝達作用に相当する濃度以下である培地で凝集体を培養する、[1]~[16]のいずれかに記載の製造方法。
[18]第三工程における培地中のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質の濃度がSAG700nMのソニック・ヘッジホッグシグナル伝達作用に相当する濃度以下である、[1]~[16]のいずれかに記載の製造方法。
[19]第二工程開始後3日間から18日間、Wntシグナル伝達経路阻害物質を含む培地で培養する、[1]~[18]のいずれかに記載の製造方法。
[20]第二工程開始後10日間、Wntシグナル伝達経路阻害物質を含む培地で培養する、[1]~[19]のいずれかに記載の製造方法。
[21]Wntシグナル伝達経路阻害物質が、IWR-1-endoである、[1]~[20]のいずれかに記載の製造方法。
[22]第三工程が、以下の工程を含む、[1]~[21]のいずれかに記載の製造方法:
(i)第二工程で得られた凝集体を、Wntシグナル伝達経路阻害物質の存在下又は非存在下において、BMPシグナル伝達経路作用物質を含む培地中で浮遊培養し、網膜系細胞もしくは網膜組織を含み、Chx10陽性細胞の存在割合が20%以上100%以下である細胞凝集体を得る工程;
(ii)工程(i)で得られた細胞凝集体を、Wntシグナル伝達経路作用物質、及び/又は、FGFシグナル伝達経路阻害物質を含む無血清培地又は血清培地中で、RPE65遺伝子を発現する細胞が出現するに至るまでの期間中に限り、培養する工程;
(iii)工程(ii)で得られたRPE65遺伝子を発現する細胞が出現していない細胞凝集体を、Wntシグナル伝達経路作用物質を含まない無血清培地又は血清培地中で培養する工程。
[23]第三工程において得られる凝集体が、網膜前駆細胞、神経網膜前駆細胞、視細胞前駆細胞、視細胞、桿体視細胞、錐体視細胞、水平細胞、アマクリン細胞、介在神経細胞、神経節細胞、双極細胞、網膜色素上皮細胞、及び毛様体周縁部細胞からなる群から選択される1又は複数の細胞を含む凝集体である、[1]~[22]のいずれかに記載の製造方法。
[24]多能性幹細胞がヒト多能性幹細胞である、[1]~[23]のいずれかに記載の製造方法。
[25]多能性幹細胞が人工多能性幹細胞である、[1]~[24]のいずれかに記載の製造方法。
[26]第二工程において、均一な凝集体を形成させる、[1]~[25]のいずれかに記載の製造方法。
[27]浮遊培養が、基底膜標品非存在下で行われる、[1]~[26]のいずれかに記載の製造方法。
[28][1]~[27]のいずれかに記載の方法により製造される網膜系細胞又は網膜組織を含有する、被験物質の毒性・薬効評価用試薬。
[29][1]~[27]のいずれかに記載の方法により製造される網膜系細胞または網膜組織に被験物質を接触させ、該物質が該細胞又は該組織に及ぼす影響を検定することを含む、該物質の毒性・薬効評価方法。
[30][1]~[27]のいずれかに記載の方法により製造される網膜系細胞又は網膜組織を含有する、網膜系細胞又は網膜組織の障害に基づく疾患の治療薬。
[31]網膜系細胞又は網膜組織が、網膜前駆細胞、網膜層特異的神経細胞、又は網膜組織である、[30]に記載の治療薬。
[32][1]~[27]のいずれかに記載の方法により製造される網膜系細胞又は網膜組織の有効量を、移植を必要とする対象に移植することを含む、網膜系細胞又は網膜組織の障害に基づく疾患の治療方法。
[33]網膜系細胞又は網膜組織の障害に基づく疾患の治療における使用のための[1]~[27]のいずれかに記載の方法により製造される網膜系細胞又は網膜組織。
[34][1]~[27]のいずれかに記載の方法により製造される網膜系細胞又は網膜組織を有効成分として含有する、医薬組成物。
本発明において、「幹細胞」とは、分化能及び分化能を維持した増殖能(特に自己複製能)を有する未分化な細胞を意味する。幹細胞には、分化能力に応じて、多能性幹細胞(pluripotent stem cell)、複能性幹細胞(multipotent stem cell)、単能性幹細胞(unipotent stem cell)等の亜集団が含まれる。多能性幹細胞とは、インビトロにおいて培養することが可能で、かつ、三胚葉(外胚葉、中胚葉、内胚葉)及び/又は胚体外組織に属する細胞系譜すべてに分化しうる能力(分化多能性(pluripotency))を有する幹細胞をいう。複能性幹細胞とは、全ての種類ではないが、複数種の組織や細胞へ分化し得る能力を有する幹細胞を意味する。単能性幹細胞とは、特定の組織や細胞へ分化し得る能力を有する幹細胞を意味する。
人工多能性幹細胞は、2006年、山中らによりマウス細胞で樹立された(Cell, 2006, 126(4), pp.663-676)。人工多能性幹細胞は、2007年にヒト線維芽細胞でも樹立され、胚性幹細胞と同様に多能性と自己複製能を有する(Cell, 2007, 131(5), pp.861-872;Science, 2007, 318(5858), pp.1917-1920;Nat. Biotechnol., 2008, 26(1), pp.101-106)。
人工多能性幹細胞として、遺伝子発現による直接初期化で製造する方法以外に、化合物の添加などにより体細胞より人工多能性幹細胞を誘導することもできる(Science, 2013,341, pp. 651-654)。
また、株化された人工多能性幹細胞を入手する事も可能であり、例えば、京都大学で樹立された201B7細胞、201B7-Ff細胞、253G1細胞、253G4細胞、1201C1細胞、1205D1細胞、1210B2細胞、1231A3細胞等のヒト人工多能性細胞株が、京都大学及びiPSアカデミアジャパン株式会社より入手可能である。株化された人工多能性幹細胞として、例えば、京都大学で樹立されたFf-I01細胞、Ff-I14細胞及びQHJI01s04細胞が、京都大学より入手可能である。
選別した細胞株の中から目的とする相同組換え体を選択する方法としては、ゲノムDNAに対するサザンハイブリダイゼーション法やPCR法等があげられる。
本発明の一態様は、下記工程(1)~(3)を含む、網膜系細胞又は網膜組織の製造方法である:
(1)多能性幹細胞を、フィーダー細胞非存在下で、1)TGFβファミリーシグナル伝達経路阻害物質及び/又はソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質、並びに2)未分化維持因子を含む培地中で培養する第一工程、
(2)第一工程で得られた細胞を、Wntシグナル伝達経路阻害物質を含む培地中で浮遊培養し、細胞の凝集体を形成させる第二工程、及び
(3)第二工程で得られた凝集体を、Wntシグナル伝達経路阻害物質の存在下又は非存在下において、BMPシグナル伝達経路作用物質を含む培地中で浮遊培養し、網膜系細胞もしくは網膜組織を含む凝集体を得る第三工程。
工程(1)においては、多能性幹細胞を、フィーダー細胞非存在下で、1)TGFβファミリーシグナル伝達経路阻害物質及び/又はソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質、並びに2)未分化維持因子を含む培地中で培養する。
工程(1)で得られた細胞をWntシグナル伝達経路阻害物質を含む培地中で浮遊培養することにより細胞の凝集体を形成させる工程(2)について説明する。
・操作:工程(1)で用いる未分化維持培地(すなわち、1)TGFβファミリーシグナル伝達経路阻害物質及び/又はソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質、並びに2)未分化維持因子を含む培地)から培地交換を行い、かつ、浮遊培養へ移行する操作。
上記操作における培地交換とは、未分化維持培地以外への培地交換であり、本発明の網膜系細胞及び/又は網膜組織、又はその中間体への分化誘導が可能な培地であれば特に限定はなく、例えば、後述する基礎培地等、「未分化維持因子」を含まない培地が挙げられる。工程(2)開始時点、すなわち培地交換時点ではWntシグナル伝達経路阻害物質を含んでいても含んでいなくてもよく、後述するように、培地交換後にWntシグナル伝達経路阻害物質を添加してもよい。
培地中のTGFβシグナル伝達経路阻害物質の濃度は、上述の効果を達成可能な範囲で適宜設定することが可能である。SB431542は、通常0.1~200 μM、好ましくは2~50 μM、より好ましくは3~10μMの濃度で使用される。A-83-01は、通常0.05~50 μM、好ましくは0.5~5 μMの濃度で使用される。SB431542又はA-83-01以外のTGFβシグナル伝達経路阻害物質を用いる場合には、上記SB431542の濃度と同等のTGFβシグナル伝達経路阻害活性を示す濃度で用いられることが望ましい。
工程(2)で得られた凝集体から、網膜系細胞もしくは網膜組織を含む凝集体を誘導する工程(3)について説明する。
工程(2)の培地は、好ましくは、ROCK阻害物質(例、Y-27632)を含む。
工程(2)の培地は、好ましくは、ROCK阻害物質(例、Y-27632)を含む。
工程(2)の培地は、好ましくは、ROCK阻害物質(例、Y-27632)を含む。
工程(2)の培地は、好ましくは、ROCK阻害物質(例、Y-27632)を含む。
本発明の製造方法により製造された、網膜組織又は網膜系細胞(例、網膜前駆細胞、網膜層特異的神経細胞)は、網膜組織又は網膜系細胞の障害に基づく疾患の治療薬のスクリーニングや、毒性評価における、疾患研究材料、創薬材料として有用であるので、被験物質の毒性・薬効評価用試薬とすることができる。例えば、網膜組織の障害に基づく疾患、特に遺伝性の障害に基づく疾患のヒト患者から、iPS細胞を作製し、このiPS細胞を用いて本発明の方法により、網膜組織又は網膜系細胞(例、網膜前駆細胞、網膜層特異的神経細胞)を製造する。網膜組織又は網膜系細胞は、その患者が患っている疾患の原因となる網膜組織の障害をインビトロで再現し得る。そこで、本発明は、本発明の製造方法により製造される網膜組織又は網膜系細胞(例、網膜前駆細胞、網膜層特異的神経細胞)に被験物質を接触させ、該物質が該細胞又は該組織に及ぼす影響を検定することを含む、該物質の毒性・薬効評価方法を提供する。
(工程1)本発明の製造方法により製造された網膜組織又は網膜系細胞を、生存可能な培養条件で、一定時間、被験物質の存在下で培養した後、細胞の傷害の程度を測定する工程、
(工程2)本発明の製造方法により製造された網膜組織又は網膜系細胞を、生存可能な培養条件で、一定時間、被験物質の非存在下又はポジティブコントロールの存在下で培養した後、細胞の傷害の程度を測定する工程、
(工程3)(工程1)及び(工程2)において測定した結果の差異に基づき、工程1における被験物質が有する毒性を評価する工程。
ここで、「被験物質の非存在下」とは、被験物質の代わりに培地、被験物質を溶解している溶媒のみを添加することを包含する。また、「ポジティブコントロール」とは、毒性を有する既知化合物を意味する。細胞の傷害の程度を測定する方法としては、生存する細胞数を計測する方法、例えば細胞内ATP量を測定する方法、又は、細胞染色(例えば細胞核染色)と形態観察により生細胞数を計測する方法等が挙げられる。
本発明は、本発明の製造方法により製造される網膜組織又は網膜系細胞(例、網膜前駆細胞、網膜層特異的神経細胞)の有効量を含む医薬組成物を提供する。
本発明の製造方法により製造される網膜組織又は網膜系細胞(例、網膜前駆細胞、網膜層特異的神経細胞)は、当該網膜組織又は網膜系細胞の障害に基づく疾患の移植医療に有用である。そこで、本発明は、本発明の製造方法により製造される網膜組織又は網膜系細胞(例、網膜前駆細胞、網膜層特異的神経細胞)を含む、当該網膜組織又は網膜系細胞の障害に基づく疾患の治療薬を提供する。当該網膜組織又は網膜系細胞の障害に基づく疾患の治療薬として、或いは、当該網膜組織の損傷状態において、該当する損傷部位を補充するために、本発明の製造方法により製造された網膜組織又は網膜系細胞(例、網膜前駆細胞、網膜層特異的神経細胞)を用いることが出来る。移植を必要とする、網膜組織又は網膜系細胞の障害に基づく疾患、又は網膜組織の損傷状態の患者に、本発明の製造方法により製造された網膜組織又は網膜系細胞を移植し、当該網膜系細胞や、障害を受けた網膜組織自体を補充することにより、網膜組織又は網膜系細胞の障害に基づく疾患、又は網膜組織の損傷状態を治療することが出来る。例えば、網膜組織又は網膜系細胞の障害に基づく疾患としては、例えば、眼科疾患である黄斑変性症、加齢黄斑変性、網膜色素変性、白内障、緑内障、角膜疾患、網膜症等が挙げられる。
ヒトiPS細胞(1231A3株、京都大学より入手)を、Scientific Reports, 4, 3594 (2014)に記載の方法に準じてフィーダーフリー培養した。フィーダーフリー培地としてはStemFit(登録商標)培地(AK03N、味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いた。
また、工程1にてSB431542及びSAGにてPreconditionせず、工程2及び工程3でIWR-1eを添加した条件で作製した細胞凝集体では、全細胞中のRx陽性細胞の割合が40%程度であることがわかった(図2B)。連続切片の解析から、本条件で作製された細胞凝集体では、Chx10弱陽性が観察された(図2F)。
工程1にてSB431542及びSAGにてPreconditionして、工程2及び工程3でIWR-1eを添加しなかった条件で作製した細胞凝集体では、全細胞中のRx陽性細胞の割合が40%程度であることがわかった(図2C)。連続切片の解析から、本条件で作製された細胞凝集体では、Chx10陽性(強陽性)細胞が40%程度観察された(図2G)。
さらに、工程1にてSB431542及びSAGにてPreconditionして、工程2及び工程3でIWR-1eを添加した条件で作製した細胞凝集体では、全細胞中のRx陽性細胞の割合が60%程度であることがわかった(図2D)。連続切片の解析から、本条件で作製された細胞凝集体では、Chx10陽性(強陽性)細胞が60%程度観察された(図2H)。
また、Preconditionを行わず工程2及び工程3でWnt阻害剤も添加しない条件に比べて、Preconditionを行わず工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加する条件では、網膜組織形成が若干促進される傾向があることがわかった(図1A, B、図2A, B, E, F)。一方、工程1にてTGFβファミリーシグナル伝達経路阻害物質及びShhシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、さらに工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加することで、非常に効率よく網膜組織が形成されることがわかった(図2B, D, F, H)。
ヒトiPS細胞(1231A3株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、SAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)の存在下(工程1:Precondition処理、図3 “Precondition: Shh”)あるいは非存在下(工程1:Preconditionしない条件、図3 “Untreated control”)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。
・条件1. 工程1でPreconditionしない条件で、かつ、工程2開始時の前記無血清培地に外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質及び外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しない条件(図3A)。
・条件2. 工程1でPrecondition処理して、かつ、工程2開始時の前記無血清培地に外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質及び外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しない条件(図3B)。
・条件3. 工程1でPrecondition処理して、かつ、工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しない条件(図3C)。
・条件4. 工程1でPrecondition処理して、かつ、工程2開始時の前記無血清培地に、外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質を添加せず、かつ、ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG (30 nM)を添加した条件(図3D)。
・条件5. 工程1でPrecondition処理して、かつ、工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG (30 nM)を添加した条件(図3E)。
浮遊培養開始後2日目までに、条件1-5のいずれの条件でも、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
このうち、工程1にてSAGにてPreconditionし、かつ、工程2及び工程3で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質を添加しなかった条件2では、全細胞中のRx陽性細胞の割合が40%程度であることがわかった(図4A)。連続切片の解析から、前記条件で作製された細胞凝集体では、Rx陽性細胞がChx10共陽性の網膜組織であることがわかった(図4E)。
一方、工程1にてSAGにてPreconditionして、工程2及び工程3でIWR-1eを添加した条件3で作製した細胞凝集体では、全細胞中のRx陽性細胞の割合が90%程度であることがわかった(図4B)。連続切片の解析から、前記条件で作製された細胞凝集体では、Rx陽性細胞がChx10共陽性の網膜組織であることがわかった(図4F)。
すなわち条件2と条件3の比較から、工程1にてPreconditionし、さらに工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質処理をすることで、90%程度の効率で網膜組織が形成できることがわかった。
また、工程1にてSAGにてPreconditionして、工程2でSAGを添加した条件4で作製した細胞凝集体では、全細胞中のRx陽性細胞の割合が60%程度であることがわかった(図4C)。連続切片の解析から、前記条件で作製された細胞凝集体では、Rx陽性細胞がChx10共陽性の網膜組織であることがわかった(図4G)。
一方、工程1にてSAGにてPreconditionして、工程2でSAGを添加し、工程2及び工程3でIWR-1eを添加した条件5で作製した細胞凝集体では、全細胞中のRx陽性細胞の割合が90%程度であることがわかった(図4D)。連続切片の解析から、前記条件で作製された細胞凝集体では、Rx陽性細胞がChx10共陽性の網膜組織であることがわかった(図4H)。
ヒトiPS細胞(1231A3株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、SB431542 (TGFβシグナル伝達経路阻害物質(TGFβR-i)、5μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しない条件(工程1:Precondition(TGFβR-i)処理、図5“Precondition: TGFβR-i”)、あるいは、SB431542 (TGFβシグナル伝達経路阻害物質(TGFβR-i)、5μM)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)の存在下(工程1:Precondition(TGFβR-i+Shh)処理、図5“Precondition: TGFβR-i + Shh”)、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。
・条件1. 工程1でPrecondition(TGFβR-i)処理した後、工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)、及び、ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG (30 nM)を添加した条件(図5A)。
・条件2. 工程1でPrecondition(TGFβR-i+Shh)処理した後、工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図5B)。
・条件3. 工程1でPrecondition(TGFβR-i+Shh)処理した後、工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)、及び、ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG (30 nM)を添加した条件(図5C)。
浮遊培養開始後2日目までに、前記条件1-3のいずれの条件でも、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
このようにして調製された浮遊培養開始後17日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件1-3のいずれの条件でも、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、工程1でTGFβシグナル伝達経路阻害物質を用いてPreconditionし、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加した条件で、ヒトiPS細胞から効率よく、網膜組織が形成できることがわかった。
ヒトiPS細胞(1231A3株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、LDN193189(BMPシグナル伝達経路阻害物質(BMPR-i)、100 nM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しない条件(工程1:Precondition(BMPR-i)処理、図6“Precondition: BMPR-i”)、あるいは、LDN193189(BMPシグナル伝達経路阻害物質、100 nM、BMPR-i)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)の存在下(工程1:Precondition(BMPR-i+Shh)処理、図6“Precondition: BMPR-i + Shh”)、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。
・条件1. 工程1でPrecondition(BMPR-i)処理した後、工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)、及び、ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG (30 nM)を添加した条件(図6A)。
・条件2. 工程1でPrecondition(BMPR-i+Shh)処理した後、工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図6B)。
・条件3. 工程1でPrecondition(BMPR-i+Shh)処理した後、工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)、及び、ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG (30 nM)を添加した条件(図6C)。
浮遊培養開始後2日目までに、前記条件1-3のいずれの条件でも、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
このようにして調製された浮遊培養開始後17日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件1-3のいずれの条件でも、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、工程1でBMPシグナル伝達経路阻害物質を用いてPreconditionし、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加した条件で、ヒトiPS細胞から効率よく、網膜組織が形成できることがわかった。
ヒトiPS細胞(1231A3株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、外来性のTGFβシグナル伝達経路阻害物質を添加せずSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(Shh)処理、図7“Precondition: Shh”)、並びに、SB431542 (TGFβシグナル伝達経路阻害物質(TGFβR-i)、5μM)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(TGFβR-i+Shh)処理、図7“Precondition: TGFβR-i + Shh”)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。
・条件1. 工程1でPrecondition(Shh)処理した後、工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図7A)。
・条件2. 工程1でPrecondition(Shh)処理した後、工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG (30 nM)を添加した条件(図7B)。
・条件3. 工程1でPrecondition(TGFβR-i+Shh)処理した後、工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図7C)。
・条件4. 工程1でPrecondition(TGFβR-i+Shh)処理した後、工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG (30 nM)を添加した条件(図7D)。
浮遊培養開始後2日目までに、前記条件1-4のいずれの条件でも、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
次に、浮遊培養開始後10日目に、前記無血清培地にソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG (100 nM)及び血清として牛胎児血清(10%)を加えたShh血清培地(図7 “Shh+serum”)を用いて、培地の80%程度を交換する操作(80%交換操作)を3回繰り返し、Y27632、ヒト組換えBMP4、及びIWR1-eを含まず、SAGと血清を含む前記Shh血清培地に交換した。その後、2~4日に一回、前記Shh血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後17日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件1-4のいずれの条件でも、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、工程1でPreconditionし、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3にてBMPシグナル作用物質を添加した後に、Shh血清培地で培養する条件で、ヒトiPS細胞から効率よく、網膜組織が形成できることがわかった。
ヒトiPS細胞(1231A3株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、SB431542 (TGFβシグナル伝達経路阻害物質(TGFβR-i)、5μM)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(TGFβR-i+Shh)処理、図8“Precondition: TGFβR-i + Shh”)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。
・条件1. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図8A)。
・条件2. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG (30 nM)を添加した条件(図8B)。
・条件3. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)及びTGFβシグナル伝達経路阻害物質としてSB431542(5μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図8C)。
・条件4. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)及びTGFβシグナル伝達経路阻害物質としてSB431542(5μM)を添加し、かつ、ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG (30 nM)を添加した条件(図8D)。
浮遊培養開始後2日目までに、条件1~4のいずれの条件でも、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
浮遊培養開始後10日目に、外来性のIWR-1e及び又はSB431542の濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、IWR-1e及びSB431542を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後19日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件1-4のいずれの条件でも、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、条件1及び条件2のように、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3の途中で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質の濃度を3%以下に減らした条件でも、効率よく網膜組織へと分化することがわかった。さらに、条件3及び4のように、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質及びTGFβシグナル伝達経路阻害物質を添加した条件でも、効率よく網膜系細胞へと分化することがわかった。
ヒトiPS細胞(1231A3株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、LDN193189(BMPシグナル伝達経路阻害物質(BMPR-i)、100 nM)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(BMPR-i+Shh)処理、図9“Precondition: BMPR-i + Shh”)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(BMPR-i+Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件1~2の2条件の無血清培地で培養した。
・条件1. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図9A)。
・条件2. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)及びTGFβシグナル伝達経路阻害物質としてSB431542(5μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図9B)。
浮遊培養開始後2日目までに、条件1及び条件2で、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
浮遊培養開始後10日目に、外来性のIWR-1e及び又はSB431542の濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、IWR-1e及びSB431542を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後19日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件1及び条件2で、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、条件1では、工程1でBMPシグナル伝達経路阻害物質及びソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3の途中で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質の濃度を3%以下に減らした条件でも、効率よく網膜組織へと分化することがわかった。さらに、条件2では、工程1でBMPR阻害剤及びソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質及びTGFβシグナル伝達経路阻害物質を添加した条件でも、効率よく網膜系細胞へと分化することがわかった。
また実施例6及び実施例7から、工程1でのTGFβシグナル伝達経路阻害物質及びソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を用いてPreconditionした場合でも、BMPR阻害剤及びソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を用いてPreconditionした場合でも、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加することで、効率よく網膜系細胞へと分化することがわかった。
ヒトiPS細胞(TFH-R1-10-2株及びTFH-R2-10-F8株、大日本住友製薬にて樹立)は、下記の通り樹立した。周知の方法で調製した末梢血単核球(PBMC)を原料に、市販されているセンダイウイルスベクター(Oct3/4、Sox2、KLF4、L-Mycの4因子、DNAVEC社(現、ID Pharma社)製サイトチューンキット)を用いて、Life Technologies社の公開プロトコル(iPS 2.0 Sendai Reprogramming Kit、Publication Number MAN0009378、Revision 1.0)、及び、京都大学の公開プロトコル(ヒトiPS細胞の樹立・維持培養、CiRA_Ff-iPSC_protocol_JP_v140310、http://www.cira.kyoto-u.ac.jp/j/research/protocol.html)記載の方法に従って、StemFit(登録商標)培地 (AK03N;味の素社製)、Laminin511-E8(ニッピ社製)を用いて樹立した。
ヒトiPS細胞(TFH-R1-10-2株及びTFH-R2-10-F8株)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、SB431542 (TGFβシグナル伝達経路阻害物質(TGFβR-i)、5μM)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(TGFβR-i+Shh)処理、図8“Precondition: TGFβR-i + Shh”)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(TGFβR-i+Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)には、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し(図10“Wnt-i (day 0-17)”)、かつ、ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG (30 nM)を添加した条件(図10“Shh day 0”)で培養した。TFH-R1-10-2株及びTFH-R2-10-F8株のいずれのヒトiPS細胞をスタート原料としても、浮遊培養開始後2日目までに、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
このようにして調製された浮遊培養開始後17日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、TFH-R1-10-2株及びTFH-R2-10-F8株のいずれのヒトiPS細胞をスタート原料としても、神経組織が形成されることがわかった。
その結果、TFH-R1-10-2株及びTFH-R2-10-F8株のいずれのヒトiPS細胞をスタート原料としても、神経組織が形成されることがわかった。そしてTFH-R1-10-2株をスタート原料とした場合、Chx10陽性の網膜組織の割合が70%程度であることがわかった(図10A)。また連続切片の解析から、これらのChx10陽性細胞がRx共陽性の細胞であることが確認できた(図10B)。また、TFH-R2-10-F8株をスタート原料とした場合、Chx10陽性の網膜組織の割合が90%程度であることがわかった(図10C)。また連続切片の解析から、これらのChx10陽性細胞がRx共陽性の細胞であることが確認できた(図10D)。
従って、エピソーマルベクターにて樹立したiPS細胞(例、1231A3株)でもセンダイウイルスベクターを用いて樹立したヒトiPS細胞(例、TFH-R1-10-2株及びTFH-R2-10-F8株)でも、iPS細胞の樹立方法に関わらず、本願製造法により網膜系細胞及び/又は網膜組織が製造できることがわかった。
ヒトiPS細胞(1231A3株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、SB431542 (TGFβシグナル伝達経路阻害物質(TGFβR-i)、5μM)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(TGFβR-i+Shh)処理)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(TGFβR-i+Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)には、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG (30 nM)を添加した条件で培養した。浮遊培養開始後2日目までに、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
このようにして調製された浮遊培養開始後20日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて明視野観察を行った。その結果、神経組織が形成されることがわかった。
前記浮遊培養開始後20日目の細胞の一部を抜き取り、4%パラホルムアルデヒドで固定し、凍結切片を作製した。これらの凍結切片に関し、網膜組織マーカーの1つであるChx10(抗Chx10抗体、Exalpha社製, ヒツジ)、又は、網膜組織マーカーの1つであるRx(抗Rx抗体、Takara社、ギニアピッグ)について免疫染色を行った。これらの染色された切片を、倒立型蛍光顕微鏡(キーエンス社製、BIOREVO)を用いて観察した。その結果、前記浮遊培養開始後20日目の細胞が、神経組織を含み、当該神経組織がChx10及びRx共陽性の網膜組織であることが分かった。
当該浮遊培養開始後20日目の細胞凝集体を、90 mmの低接着培養皿(住友ベークライト社製)に移し、Wntシグナル伝達経路作用物質(CHIR99021、3μM)及びFGFシグナル伝達経路阻害物質(SU5402、5μM)を含む無血清培地(DMEM/F12培地に、1% N2 supplementが添加された培地)で、37℃、5%CO2で、3日間すなわち浮遊培養開始後23日目まで培養した。この期間、一枚の90 mmの低接着培養皿あたり、50個程度の凝集体を、10 mlの前記CHIR99021及びSU5402を含む無血清培地で浮遊培養した。浮遊培養開始後23日目には、薄い神経上皮が形成され、網膜色素上皮(RPE)様組織が形成された。
すなわちフィーダーフリー培養したヒト多能性幹細胞から、本願製法により、再生医療・細胞移植治療や有効性・安全性評価研究に有用な網膜組織・網膜系細胞を製造できることがわかった。
ヒトiPS細胞(QHJI01s04株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、SB431542 (TGFβシグナル伝達経路阻害物質(TGFβR-i)、5μM)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(TGFβR-i +Shh)処理、図12“Precondition: TGFβR-i + Shh”)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(TGFβR-i +Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件1~3の3条件の無血清培地で培養した。
・条件1. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図12A-C、“Condition 1”)。
・条件2. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG(10nM)を添加した条件(図12D-F“Condition 2”)。
・条件3. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG(30nM)を添加した条件(図12G-I“Condition 3”)。
浮遊培養開始後2日目までに、条件1、条件2及び条件3で、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
浮遊培養開始後12日目に、外来性のIWR-1eの濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、及びIWR-1e を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後20日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件1、条件2及び条件3で、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、条件1では、工程1でTGFβシグナル伝達経路阻害物質及びソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3の途中(浮遊培養開始後12日目)で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質の濃度を3%以下に減らした条件でも、効率よく網膜組織へと分化することがわかった。さらに、条件2及び条件3では、工程1でTGFβシグナル伝達経路阻害物質及びソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加し、工程2及び工程3でWntシグナル経路阻害物質添加する条件でも、効率よく網膜系細胞へと分化することがわかった。
ヒトiPS細胞(QHJI01s04株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント2日前のヒトiPS細胞を、SAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(Shh)処理、図13“Precondition: Shh”)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、2日間フィーダーフリー培養した(すなわち、分化開始前にソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を2日間程度作用させた)。
このようにして調製されたPrecondition(Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件1~3の3条件の無血清培地で培養した。
・条件1. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図13A-C、“Condition 1”)。
・条件2. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG(10nM)を添加した条件(図13D-F、“Condition 2”)。
・条件3. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG(30nM)を添加した条件(図13G-I、“Condition 3”)。
浮遊培養開始後2日目までに、条件1、条件2及び条件3で、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
浮遊培養開始後10日目に、外来性のIWR-1eの濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、及びIWR-1eを含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後20日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件1、条件2及び条件3で、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、条件1では、工程1でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3の途中(浮遊培養開始後10日目)で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質の濃度を3%以下に減らした条件でも、効率よく網膜組織へと分化することがわかった。さらに、条件2及び条件3では、工程1でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加し、工程2及び工程3でWntシグナル経路阻害物質を添加した条件でも、効率よく網膜系細胞へと分化することがわかった。
ヒトiPS細胞(QHJI01s04株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、SB431542 (TGFβシグナル伝達経路阻害物質(TGFβR-i)、5μM)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(TGFβR-i +Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件1の無血清培地で培養した。
・条件1. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件。
浮遊培養開始後2日目までに、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
浮遊培養開始後10日目に、外来性のIWR-1eの濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、及びIWR-1eを含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後20日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、神経組織が形成されることがわかった。
当該浮遊培養開始後20日目の細胞凝集体を、90 mmの低接着培養皿(住友ベークライト社製)に移し、Wntシグナル伝達経路作用物質(CHIR99021、3μM)及びFGFシグナル伝達経路阻害物質(SU5402、5μM)を含む無血清培地(DMEM/F12培地に、1% N2 supplementが添加された培地)で、37℃、5%CO2で、3日間すなわち浮遊培養開始後23日目まで培養した。この期間、一枚の90 mmの低接着培養皿あたり、50個程度の凝集体を、10 mlの前記CHIR99021及びSU5402を含む無血清培地で浮遊培養した。浮遊培養開始後23日目には、薄い神経上皮が形成され、網膜色素上皮(RPE)様組織が形成された。
ヒトiPS細胞(QHJI01s04株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント2日前のヒトiPS細胞を、SAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(Shh)処理、図15)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、2日間フィーダーフリー培養した(すなわち、分化開始前にソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を2日間程度作用させた)。
このようにして調製されたPrecondition(Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件の無血清培地で培養した。
・条件. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG(30nM)を添加した条件。
浮遊培養開始後2日目までに、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
浮遊培養開始後9日目に、外来性のIWR-1eの濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、及びIWR-1eを含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後19日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、神経組織が形成されることがわかった。
当該浮遊培養開始後19日目の細胞凝集体を、90 mmの低接着培養皿(住友ベークライト社製)に移し、Wntシグナル伝達経路作用物質(CHIR99021、3μM)及びFGFシグナル伝達経路阻害物質(SU5402、5μM)を含む無血清培地(DMEM/F12培地に、1% N2 supplementが添加された培地)で、37℃、5%CO2で、3日間すなわち浮遊培養開始後22日目まで培養した。この期間、一枚の90 mmの低接着培養皿あたり、50個程度の凝集体を、10 mlの前記CHIR99021及びSU5402を含む無血清培地で浮遊培養した。浮遊培養開始後22日目には、薄い神経上皮が形成され、網膜色素上皮(RPE)様組織が形成された。
ヒトiPS細胞(QHJI01s04株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、SB431542 (TGFβシグナル伝達経路阻害物質(TGFβR-i)、5μM)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(TGFβR-i +Shh)処理、図16“Precondition: TGFβR-i + Shh”)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(TGFβR-i +Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に6% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件で無血清培地で培養した。
・条件. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG(30nM)を添加した条件(図16、A,B)。
浮遊培養開始後2日目までに、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
・条件A.浮遊培養開始後3日目に、外来性のヒト組換えBMP4の終濃度が1.5 nM(55 ng/ml)になり、かつ、外来性のIWR-1eの濃度(3μM)が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)を含み、さらにIWR-1eを含む培地培地を50μl加えた。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4を含まず、さらにIWR-1eを含む前記無血清培地にて、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、半量培地交換操作を行った。
・条件B.浮遊培養開始後3日目に、外来性のヒト組換えBMP4の終濃度が1.5 nM(55 ng/ml)になり、かつ、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)を含み、さらにIWR-1eを含む培地培地を50μl加えた。さらに、浮遊培養開始後6日目に、外来性のヒト組換えBMP4の濃度、及び、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)及びIWR-1eを含む前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4を含まず、さらにIWR-1eを含む前記無血清培地にて、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、半量培地交換操作を行った。
浮遊培養開始後12日目に、外来性のIWR-1eの濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、及びIWR-1e を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後18日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件A及び条件Bで、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、外来性のBMPの添加条件が条件A及び条件Bのいずれの条件でも、工程1でTGFβシグナル伝達経路阻害物質及びソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加し、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3の途中(浮遊培養開始後12日目)で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質の濃度を3%以下に減らした条件で、前記無血清培地に含まれるKSRの濃度が6%の条件でも、効率よく網膜組織へと分化することがわかった。
ヒトiPS細胞(QHJI01s04株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント2日前のヒトiPS細胞を、SAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(+Shh)処理、図16“Precondition: Shh”)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、2日間フィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に6% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件で無血清培地で培養した。
・条件. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図16C,D)。
浮遊培養開始後2日目までに、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
・条件C.浮遊培養開始後3日目に、外来性のヒト組換えBMP4の終濃度が1.5 nM(55 ng/ml)になり、かつ、外来性のIWR-1eの濃度(3μM)が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)を含み、さらにIWR-1eを含む培地培地を50μl加えた。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4を含まず、さらにIWR-1eを含む前記無血清培地にて、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、半量培地交換操作を行った。
・条件D.浮遊培養開始後3日目に、外来性のヒト組換えBMP4の終濃度が1.5 nM(55 ng/ml)になり、かつ、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)を含み、さらにIWR-1eを含む培地培地を50μl加えた。さらに、浮遊培養開始後6日目に、外来性のヒト組換えBMP4の濃度、及び、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)及びIWR-1eを含む前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4を含まず、さらにIWR-1eを含む前記無血清培地にて、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、半量培地交換操作を行った。
浮遊培養開始後12日目に、外来性のIWR-1eの濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、及びIWR-1e を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後18日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件C及び条件Dで、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、外来性のBMPの添加条件が条件C及び条件Dのいずれの条件でも、工程1でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3の途中(浮遊培養開始後12日目)で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質の濃度を3%以下に減らした条件で、前記無血清培地に含まれるKSRの濃度が6%の条件でも、効率よく網膜組織へと分化することがわかった。
ヒトiPS細胞(QHJI01s04株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、LDN193189(BMPシグナル伝達経路阻害物質(BMPR-i)、100 nM)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(BMPR-i +Shh)処理、図17“Precondition: BMPR-i + Shh”)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(BMPR-i +Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件で無血清培地で培養した。
・条件1. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図17A,B)。
浮遊培養開始後2日目までに、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
・条件A.浮遊培養開始後3日目に、外来性のヒト組換えBMP4の終濃度が1.5 nM(55 ng/ml)になり、かつ、外来性のIWR-1eの濃度(3μM)が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)を含み、さらにIWR-1eを含む培地培地を50μl加えた。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4を含まず、さらにIWR-1eを含む前記無血清培地にて、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、半量培地交換操作を行った。
・条件B.浮遊培養開始後3日目に、外来性のヒト組換えBMP4の終濃度が1.5 nM(55 ng/ml)になり、かつ、外来性のIWR-1eの濃度(3μM)が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)を含み、さらにIWR-1eを含む培地培地を50μl加えた。さらに、浮遊培養開始後6日目に、外来性のヒト組換えBMP4の濃度、及び、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)及びIWR-1eを含む前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4を含まず、さらにIWR-1eを含む前記無血清培地にて、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、半量培地交換操作を行った。
浮遊培養開始後10日目に、外来性のIWR-1eの濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、及びIWR-1e を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後20日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件A及び条件Bで、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、条件A及び条件Bのいずれの外来性のBMPの添加条件でも、工程1でBMPシグナル伝達経路阻害物質及びソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3の途中(浮遊培養開始後10日目)で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質の濃度を3%以下に減らした条件で、効率よく網膜組織へと分化することがわかった。
ヒトiPS細胞(QHJI01s04株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント2日前のヒトiPS細胞を、SAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養し、サブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を調製した。さらに、前記サブコンフレント1日前のヒトiPS細胞をSB431542 (TGFβシグナル伝達経路阻害物質(TGFβR-i)、5μM)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した(工程1:Precondition(TGFβR-i 24h +Shh 48h)処理、図18)。
このようにして調製されたPrecondition(TGFβR-i 24h +Shh 48h)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件で無血清培地で培養した。
・条件. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図18A,B)。
浮遊培養開始後2日目までに、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
・条件A.浮遊培養開始後3日目に、外来性のヒト組換えBMP4の終濃度が1.5 nM(55 ng/ml)になり、かつ、外来性のIWR-1eの濃度(3μM)が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)を含み、さらにIWR-1eを含む培地培地を50μl加えた。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4を含まず、さらにIWR-1eを含む前記無血清培地にて、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、半量培地交換操作を行った。
・条件B.浮遊培養開始後3日目に、外来性のヒト組換えBMP4の終濃度が1.5 nM(55 ng/ml)になり、かつ、外来性のIWR-1eの濃度(3μM)が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)を含み、さらにIWR-1eを含む培地培地を50μl加えた。さらに、浮遊培養開始後6日目に、外来性のヒト組換えBMP4の濃度、及び、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)及びIWR-1eを含む前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4を含まず、さらにIWR-1eを含む前記無血清培地にて、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、半量培地交換操作を行った。
浮遊培養開始後10日目に、外来性のIWR-1eの濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、及びIWR-1e を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後20日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件A及び条件Bで、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、条件A及び条件Bのいずれの外来性のBMPの添加条件でも、工程1でTGFβシグナル伝達経路阻害物質及びソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3の途中(浮遊培養開始後10日目)で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質の濃度を3%以下に減らした条件で、効率よく網膜組織へと分化することがわかった。
ヒトiPS細胞(QHJI01s04株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント2日前のヒトiPS細胞を、SAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養し、サブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を調製した。さらに、前記サブコンフレント1日前のヒトiPS細胞をLDN193189(BMPシグナル伝達経路阻害物質(BMPR-i)、100 nM)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した(工程1:Precondition(BMPR-i 24h +Shh 48h)処理、図19)。
このようにして調製されたPrecondition(BMPR-i 24h +Shh 48h)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件で無血清培地で培養した。
・条件. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図19A,B)。
浮遊培養開始後2日目までに、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
・条件A.浮遊培養開始後3日目に、外来性のヒト組換えBMP4の終濃度が1.5 nM(55 ng/ml)になり、かつ、外来性のIWR-1eの濃度(3μM)が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)を含み、さらにIWR-1eを含む培地培地を50μl加えた。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4を含まず、さらにIWR-1eを含む前記無血清培地にて、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、半量培地交換操作を行った。
・条件B.浮遊培養開始後3日目に、外来性のヒト組換えBMP4の終濃度が1.5 nM(55 ng/ml)になり、かつ、外来性のIWR-1eの濃度(3μM)が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)を含み、さらにIWR-1eを含む培地培地を50μl加えた。さらに、浮遊培養開始後6日目に、外来性のヒト組換えBMP4の濃度、及び、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)及びIWR-1eを含む前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4を含まず、さらにIWR-1eを含む前記無血清培地にて、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、半量培地交換操作を行った。
浮遊培養開始後10日目に、外来性のIWR-1eの濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、及びIWR-1e を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後20日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件A及び条件Bで、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、条件A及び条件Bのいずれの外来性のBMPの添加条件でも、工程1でBMPシグナル伝達経路阻害物質及びソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3の途中(浮遊培養開始後10日目)で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質の濃度を3%以下に減らした条件で、網膜組織へと分化することがわかった。
ヒトiPS細胞(QHJI01s04株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、SB431542 (TGFβシグナル伝達経路阻害物質(TGFβR-i)、5μM)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(TGFβR-i +Shh)処理、図20 “Precondition: TGFβR-i + Shh”)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(TGFβR-i +Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件で無血清培地で培養した。
・条件. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)、及び、TGFβシグナル伝達経路阻害物質としてSB431542(5μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しない条件(図20、A,B)。
浮遊培養開始後2日目までに、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
・条件A.浮遊培養開始後3日目に、外来性のヒト組換えBMP4の終濃度が1.5 nM(55 ng/ml)になり、かつ、外来性のIWR-1e(3μM)及びSB431542(5μM)の濃度が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)を含み、さらにIWR-1e及びSB431542を含む培地培地を50μl加えた。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4を含まず、さらにIWR-1e及びSB431542を含む培地前記無血清培地にて、外来性のIWR-1e及びSB431542の濃度が変わらないように、半量培地交換操作を行った。
・条件B.浮遊培養開始後3日目に、外来性のヒト組換えBMP4の終濃度が1.5 nM(55 ng/ml)になり、かつ、外来性のIWR-1e(3μM)及びSB431542(5μM)の濃度が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)を含み、さらにIWR-1e及びSB431542を含む培地培地を50μl加えた。さらに、浮遊培養開始後6日目に、外来性のヒト組換えBMP4の濃度、及び、外来性のIWR-1e及びSB431542の濃度が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)、IWR-1e及びSB431542を含む前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4を含まず、さらにIWR-1e及びSB431542を含む前記無血清培地にて、外来性のIWR-1eの濃度が変わらないように、半量培地交換操作を行った。
浮遊培養開始後10日目に、外来性のIWR-1e及びSB431542の濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、IWR-1e及びSB431542を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後20日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件A及び条件Bで、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、条件A及び条件Bのいずれの外来性のBMPの添加条件でも、工程1でTGFβシグナル伝達経路阻害物質及びソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質及びTGFβシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3の途中(浮遊培養開始後10日目)で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質及びTGFβシグナル伝達経路阻害物質の濃度を3%以下に減らした条件で、効率よく網膜組織へと分化することがわかった。
ヒトiPS細胞(QHJI01s04株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント2日前のヒトiPS細胞を、SAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(Shh)処理、図21 “Precondition: Shh 48 h”)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、2日間フィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件で無血清培地で培養した。
・条件. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)、及び、TGFβシグナル伝達経路阻害物質としてSB431542(5μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しない条件(図21、A,B)。
浮遊培養開始後2日目までに、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
・条件A.浮遊培養開始後3日目に、外来性のヒト組換えBMP4の終濃度が1.5 nM(55 ng/ml)になり、かつ、外来性のIWR-1e(3μM)及びSB431542(5μM)の濃度が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)を含み、さらにIWR-1e及びSB431542を含む培地培地を50μl加えた。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4を含まず、さらにIWR-1e及びSB431542を含む前記無血清培地にて、外来性のIWR-1e及びSB431542の濃度が変わらないように、半量培地交換操作を行った。
・条件B.浮遊培養開始後3日目に、外来性のヒト組換えBMP4の終濃度が1.5 nM(55 ng/ml)になり、かつ、外来性のIWR-1e(3μM)及びSB431542(5μM)の濃度が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)を含み、さらにIWR-1e及びSB431542を含む培地培地を50μl加えた。さらに、浮遊培養開始後6日目に、外来性のヒト組換えBMP4の濃度、及び、外来性のIWR-1e及びSB431542の濃度が変わらないように、Y27632とSAGを含まず、ヒト組換えBMP4(R&D社製)、IWR-1e及びSB431542を含む前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4を含まず、さらにIWR-1e及びSB431542を含む前記無血清培地にて、外来性のIWR-1e及びSB431542の濃度が変わらないように、半量培地交換操作を行った。
浮遊培養開始後10日目に、外来性のIWR-1e及びSB431542の濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、IWR-1e及びSB431542を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後20日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件A及び条件Bで、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、条件A及び条件Bのいずれの外来性のBMPの添加条件でも、工程1でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質及びTGFβシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3の途中(浮遊培養開始後10日目)で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質及びTGFβシグナル伝達経路阻害物質の濃度を3%以下に減らした条件で、効率よく網膜組織へと分化することがわかった。
ヒトiPS細胞(QHJI01s04株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント2日前のヒトiPS細胞を、SAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(Shh)処理、図22)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、2日間フィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.3 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件1及び条件2で無血清培地で培養した。
・条件1. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図22A,B)。
・条件2. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG(10nM)を添加した条件(図22C,D)。
浮遊培養開始後2日目までに、条件1及び条件2にて、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
浮遊培養開始後6日目に、外来性のIWR-1eの濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、及びIWR-1e を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
すなわち、工程2においてソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加する条件でも添加しない条件でも、工程1でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3の途中(浮遊培養開始後6日目)で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質を3%以下に減らした条件で、効率よく網膜組織へと分化することがわかった。
ヒトiPS細胞(QHJI01s04株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント2日前のヒトiPS細胞を、SAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(Shh)処理、図23)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、2日間フィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.3 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件1及び条件2で無血清培地で培養した。
・条件1. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図23A-D)。
・条件2. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG(10nM)を添加した条件(図23E-H)。
浮遊培養開始後2日目までに、条件1及び条件2にて、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
浮遊培養開始後6日目に、外来性のIWR-1eの濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、及びIWR-1e を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
当該浮遊培養開始後11日目の細胞凝集体を、90 mmの低接着培養皿(住友ベークライト社製)に移し、Wntシグナル伝達経路作用物質(CHIR99021、3μM)及びFGFシグナル伝達経路阻害物質(SU5402、5μM)を含む無血清培地(DMEM/F12培地に、1% N2 supplementが添加された培地)で、37℃、5%CO2で、3日間すなわち浮遊培養開始後14日目まで培養した。この期間、一枚の90 mmの低接着培養皿あたり、50個程度の凝集体を、10 mlの前記CHIR99021及びSU5402を含む無血清培地で浮遊培養した。浮遊培養開始後14日目には、薄い神経上皮が形成され、網膜色素上皮(RPE)様組織が形成された。
ヒトiPS細胞(TFH-HA株、大日本住友製薬にて樹立)は、下記の通り樹立した。周知の方法で調製した末梢血単核球(PBMC)を原料に、市販されているセンダイウイルスベクター(Oct3/4、Sox2、KLF4、L-Mycの4因子、ID Pharma社製サイトチューンキット)を用いて、StemFit(登録商標)培地 (AK03N;味の素社製)、Laminin511-E8(ニッピ社製)を用いて樹立した。
ヒトiPS細胞(TFH-HA株)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(TGFβR-i +Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.3 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件1及び2の2条件の無血清培地で培養した。
・条件1. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図24A,B、“Condition 1”)。
・条件2. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG(10nM)を添加した条件(図24E,F“Condition 2”)。
浮遊培養開始後2日目までに、条件1及び条件2で、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
浮遊培養開始後12日目に、外来性のIWR-1eの濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、及びIWR-1e を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後19日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件1及び条件2で、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、条件1で、スタート原料としてセンダイウイルスベクターを用いて樹立したヒトiPS細胞を用いて、工程1でTGFβシグナル伝達経路阻害物質及びソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加せず、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3の途中(浮遊培養開始後12日目)で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質の濃度を3%以下に減らした条件でも、効率よく網膜組織へと分化することがわかった。さらに、条件2では、スタート原料としてセンダイウイルスベクターを用いて樹立したヒトiPS細胞を用いて、工程1でTGFβシグナル伝達経路阻害物質及びソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加し、工程2及び工程3でWntシグナル経路阻害物質添加し条件でも、効率よく網膜系細胞へと分化することがわかった。
ヒトiPS細胞(TFH-HA株、大日本住友製薬にて樹立)は、実施例23記載の通り樹立した。ヒトiPS細胞を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96V底プレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.3 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件3及び4の2条件の無血清培地で培養した。
・条件3. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加しなかった条件(図24C,D、“Condition 3”)。
・条件4. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG(10nM)を添加した条件(図24G,H“Condition 4”)。
浮遊培養開始後2日目までに、条件3及び条件4で、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
浮遊培養開始後12日目に、外来性のIWR-1eの濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、及びIWR-1e を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後19日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、条件3及び条件4で、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、条件3で、スタート原料としてセンダイウイルスベクターを用いて樹立したヒトiPS細胞を用いて、工程1でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加せず、工程2及び工程3でWntシグナル伝達経路阻害物質を添加し、工程3の途中(浮遊培養開始後12日目)で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質の濃度を3%以下に減らした条件でも、効率よく網膜組織へと分化することがわかった。さらに、条件4では、スタート原料としてセンダイウイルスベクターを用いて樹立したヒトiPS細胞を用いて、工程1でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加し、工程2及び工程3でWntシグナル経路阻害物質添加し、工程3の途中(浮遊培養開始後12日目)で外来性のWntシグナル伝達経路阻害物質の濃度を3%以下に減らした条件でも、効率よく網膜系細胞へと分化することがわかった。
ヒトiPS細胞(1231A3株、京都大学より入手)を、フィーダーフリー培地としてはStem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8(ニッピ社製)を用いて、実施例1記載の方法でフィーダーフリー培養した。
このようにしてフィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、SB431542 (TGFβシグナル伝達経路阻害物質(TGFβR-i)、5μM)及びSAG (ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質(Shh)、300 nM)を添加した条件(工程1:Precondition(TGFβR-i +Shh)処理、図25“Precondition: TGFβR-i + Shh”)で、Stem Fit(登録商標)培地(AK03N;味の素社製)を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。
このようにして調製されたPrecondition(TGFβR-i +Shh)処理したヒトiPS細胞を、TrypLE Select(Life Technologies社製)を用いて細胞分散液処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、前記単一細胞に分散されたヒトiPS細胞を、非細胞接着性の96穴培養プレート(PrimeSurface 96スリットウェルプレート,住友ベークライト社製)の1ウェルあたり1.3 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5%CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地(gfCDM+KSR)には、F-12培地とIMDM培地の1:1混合液に10% KSR、450μM 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。浮遊培養開始時(浮遊培養開始後0日目、工程2開始)に、前記無血清培地にY27632(終濃度20μM)を加え、下記の条件2で無血清培地で培養した。
・条件2. 工程2開始時の前記無血清培地に、Wntシグナル伝達経路阻害物質としてIWR-1e(3μM)を添加し、かつ、外来性のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質としてSAG(10nM)を添加した条件。
浮遊培養開始後2日目までに、細胞凝集体が形成された(工程2終了、工程3開始)。
浮遊培養開始後10日目に、外来性のIWR-1eの濃度が培地交換前に比べて3%以下になるように、前記無血清培地を用いて80%培地交換操作を3回行った。その後、2~4日に一回、Y27632、SAG、ヒト組換えBMP4、及びIWR-1e を含まない前記無血清培地にて、半量培地交換操作を行った。
このようにして調製された浮遊培養開始後17日目の細胞を、倒立顕微鏡(ニコン社製、ECLIPSE Ti)を用いて、明視野観察を行った。その結果、神経組織が形成されることがわかった。
すなわち、工程1でTGFβシグナル伝達経路阻害物質及びソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質にてPreconditionし、工程2でソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を添加してスリットウェルプレートに播種し、工程2及び工程3でWntシグナル経路阻害物質添加した条件でも、効率よく網膜系細胞へと分化することがわかった。
Claims (25)
- 下記工程(1)~(3)を含む、網膜系細胞又は網膜組織の製造方法;
(1)ヒト多能性幹細胞を、フィーダー細胞非存在下で、1)TGFβファミリーシグナル伝達経路阻害物質及び/又はソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質、並びに2)未分化維持因子を含む培地中で培養する第一工程、
(2)第一工程で得られた細胞を、Wntシグナル伝達経路阻害物質を含む培地中で浮遊培養し、細胞の凝集体を形成させる第二工程、及び
(3)第二工程で得られた凝集体を、Wntシグナル伝達経路阻害物質の存在下又は非存在下において、BMPシグナル伝達経路作用物質を含む培地中で浮遊培養し、網膜系細胞もしくは網膜組織を含む凝集体を得る第三工程。 - 第一工程において多能性幹細胞を0.5時間~144時間培養する、請求項1に記載の製造方法。
- 第一工程の培養が接着培養で行われる、請求項1又は2に記載の製造方法。
- 第二工程において、第一工程で得られた細胞を分散し、当該分散した細胞を浮遊培養する、請求項1~3のいずれかに記載の製造方法。
- 未分化維持因子が、少なくともFGFシグナル伝達経路作用物質を含む、請求項1~4のいずれかに記載の製造方法。
- FGFシグナル伝達経路作用物質が、bFGFである、請求項5に記載の製造方法。
- 第二工程において、浮遊培養に用いる培地が、更にソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質を含む、請求項1~6のいずれかに記載の製造方法。
- 第二工程における培地中のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質濃度がSAG10nM~700nMのソニック・ヘッジホッグシグナル伝達作用に相当する濃度である、請求項7に記載の製造方法。
- TGFβファミリーシグナル伝達経路阻害物質が、TGFβシグナル伝達経路阻害物質、又はBMPシグナル伝達経路阻害物質である、請求項1~8のいずれかに記載の製造方法。
- TGFβファミリーシグナル伝達経路阻害物質が、Lefty、SB431542、A-83-01及びLDN193189からなる群から選ばれる1以上の物質である、請求項1~9のいずれかに記載の製造方法。
- ソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質がShh、SAG及びPurmorphamineからなる群から選ばれる1以上の物質である、請求項1~10のいずれかに記載の製造方法。
- 第三工程において、第二工程の開始後1日目から9日目の間にBMPシグナル伝達経路作用物質を培地に添加する、請求項1~11のいずれかに記載の製造方法。
- 第三工程において、第二工程開始後1日目から6日目の間にBMPシグナル伝達経路作用物質を培地に添加する、請求項12に記載の製造方法。
- 第三工程において、第二工程開始後1日目から3日目の間にBMPシグナル伝達経路作用物質を培地に添加する、請求項13に記載の製造方法。
- BMPシグナル伝達経路作用物質が、BMP2、BMP4、BMP7及びGDF7からなる群から選ばれる1以上の蛋白質である、請求項1~14のいずれかに記載の製造方法。
- BMPシグナル伝達経路作用物質が、BMP4である、請求項1~15のいずれかに記載の製造方法。
- 第三工程における培地中のソニック・ヘッジホッグシグナル伝達経路作用物質の濃度がSAG700nMのソニック・ヘッジホッグシグナル伝達作用に相当する濃度以下である、請求項1~16のいずれかに記載の製造方法。
- 第二工程開始後3日間から18日間、Wntシグナル伝達経路阻害物質を含む培地で培養する、請求項1~17のいずれかに記載の製造方法。
- 第二工程開始後10日間、Wntシグナル伝達経路阻害物質を含む培地で培養する、請求項1~18のいずれかに記載の製造方法。
- Wntシグナル伝達経路阻害物質が、IWR-1-endoである、請求項1~19のいずれかに記載の製造方法。
- 第三工程において得られる凝集体が、網膜前駆細胞、神経網膜前駆細胞、視細胞前駆細胞、視細胞、桿体視細胞、錐体視細胞、水平細胞、アマクリン細胞、介在神経細胞、神経節細胞、双極細胞、網膜色素上皮細胞、及び毛様体周縁部細胞からなる群から選択される1又は複数の細胞を含む凝集体である、請求項1~20のいずれかに記載の製造方法。
- ヒト多能性幹細胞がヒト人工多能性幹細胞である、請求項1~21のいずれかに記載の製造方法。
- 第二工程において、均一な凝集体を形成させる、請求項1~22のいずれかに記載の製造方法。
- 浮遊培養が、基底膜標品非存在下で行われる、請求項1~23のいずれかに記載の製造方法。
- 以下の工程を含む、網膜組織の製造方法:
請求項1~24のいずれかに記載の製造方法により網膜組織を含む凝集体を得る工程、及び該凝集体から網膜組織を切り出す工程。
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