JP6771141B1 - 水素システムおよび水素システムの運転方法 - Google Patents

Abstract

水素システムは、アノードに供給するアノード流体から取り出されたプロトンが、電解質膜を介してカソードに移動し、圧縮された水素が生成される圧縮器と、水透過膜、水透過膜の一方の主面上に設けられ、圧縮器のカソードから排出されるカソードガスが流通するカソードガス流路および水透過膜の他方の主面上に設けられ、カソードガスより低圧の液体が満ちている収容部を含み、カソードガスに含まれる水分を除去する第１の除去器と、を備える。

Description

本開示は水素システムおよび水素システムの運転方法に関する。

近年、地球の温暖化などの環境問題、石油資源の枯渇などのエネルギー問題から、化石燃料に代わるクリーンな代替エネルギー源として、水素が注目されている。水素は燃焼しても基本的に水しか放出せず、地球温暖化の原因となる二酸化炭素が排出されずかつ窒素酸化物などもほとんど排出されないので、クリーンエネルギーとして期待されている。また、水素を燃料として高効率に利用する装置として、例えば、燃料電池があり、自動車用電源向け、家庭用自家発電向けに、燃料電池の開発および普及が進んでいる。

来るべき水素社会では、水素を製造することに加えて、水素を高密度で貯蔵し、小容量かつ低コストで輸送または利用し得る技術開発が求められている。特に、分散型のエネルギー源となる燃料電池の普及の促進には、燃料供給インフラを整備する必要がある。

そこで、燃料供給インフラで水素を安定的に供給するために、高純度の水素を精製および昇圧する様々な提案が行われている。

例えば、特許文献１には、水の電気分解を行いながら、高圧の水素ガスを生成する水電解装置が開示されている。ここで、水電解により生成された水素ガスは水分を含む。よって、このような水素をタンクなどの水素貯蔵器に貯蔵する際に、仮に水素に含まれる水分が多い場合、水素貯蔵器内に水分の存在により水素貯蔵器内の水素量が減少するので効率的でない。また、水素に含まれる水分が水素貯蔵器内で凝縮する問題もある。このため、水素貯蔵器に貯蔵する際の水素の水分量は、例えば、約５ｐｐｍ程度以下まで低減することが望まれている。そこで、この特許文献１では、水電解装置と水素貯蔵器との間の水素が流れる経路上に、水素と水とを分離するための気液分離器、および、水素から水分を吸着除去するための吸着塔が設けられた水素生成システムが提案されている。

また、例えば、特許文献２では、高圧の水素ガス中の水分を吸着除去する吸着塔を圧力スイング吸着式精製器（ＰＳＡ）として構成することで、水素中の水分を安定的に除去するシステムが提案されている。

特開２００９−１７９８４２号公報 特表２０１７−５３４４３５号公報

本開示は、一例として、圧縮器のカソードから排出されるカソードガスに含まれる水分の除去を従来よりも効率的に行い得る水素システムおよび水素システムの運転方法を提供することを課題とする。

上記課題を解決するため、本開示の一態様(aspect)の水素システムは、アノードに供給するアノード流体から取り出されたプロトンが、電解質膜を介してカソードに移動し、圧縮された水素が生成される圧縮器と、水透過膜、前記水透過膜の一方の主面上に設けられ、前記圧縮器のカソードから排出されるカソードガスが流通するカソードガス流路、および前記水透過膜の他方の主面上に設けられ、前記カソードガスより低圧の液体が満ちている収容部を含み、カソードガスに含まれる水分を除去する第１の除去器と、を備える。

本開示の一態様の水素システムの運転方法は、アノードに供給するアノード流体から取り出されたプロトンが、電解質膜を介してカソードに移動し、圧縮された水素が生成されるステップと、圧縮された水素を含むカソードガスから水分を、水透過膜を介して収容部内に満ちている低圧の液体に移動させるステップと、を備える。

本開示の一態様の水素システムおよび水素システムの運転方法は、圧縮器のカソードから排出されるカソードガスに含まれる水分の除去を従来よりも効率的に行い得る、という効果を奏する。

図１は水透過膜の水透過性を評価するための測定装置の一例を示す図である。 図２Ａは水透過膜のＬＬＰの測定結果の一例を示す図である。 図２Ｂは水透過膜のＬＶＰの測定結果の一例を示す図である。 図３は水分の化学ポテンシャルの一例を相対湿度との関係において示す図である。 図４は第１実施形態の水素システムの一例を示す図である。 図５は第１実施形態の第１実施例の水素システムの一例を示す図である。 図６は第１実施形態の第３実施例の水素システムの一例を示す図である。 図７は第１実施形態の第３実施例の水素システムの一例を示す図である。 図８は第１実施形態の第３実施例の水素システムの一例を示す図である。 図９は第２実施形態の水素システムの一例を示す図である。 図１０は第２実施形態の実施例の水素システムの一例を示す図である。 図１１は第２実施形態の実施例の水素システムの一例を示す図である。 図１２は第３実施形態の水素システムの一例を示す図である。 図１３は第４実施形態の水素システムの一例を示す図である。 図１４は第４実施形態の実施例の水素システムの一例を示す図である。

上記の圧縮器の一例である固体高分子電解質膜（以下、電解質膜）による電気化学式水素ポンプでは、アノードに供給する水素含有ガスなどのアノード流体中の水素（Ｈ_２）をプロトン化してカソードに移動させ、プロトン（Ｈ^＋）をカソードで水素（Ｈ_２）に戻すことで水素が高圧化される。このとき、一般に、電解質膜は、高温および高加湿の条件（例えば、電解質膜に供給する水素含有ガスの温度および露点が約６０℃程度）で、プロトン伝導率が上がり、電気化学式水素ポンプの水素圧縮動作の効率が向上する。これに対して、電気化学式水素ポンプのカソードから排出される高圧の水素ガス（以下、カソードガス）を水素貯蔵器に貯蔵する際のカソードガス中の水分量は、上記のとおり、例えば、約５ｐｐｍ程度以下まで低減することが望まれているが、このようなカソードガス中の水分を効率的に除去することが困難な場合が多い。

例えば、特許文献１および特許文献２に開示された吸着塔の如く、水素中の水分をゼオライトなどの多孔質吸着材により吸着させことができる。しかしながら、吸着材の水分吸着性能には、限界がある。吸着塔の運転時間は、吸着塔に送られる水の量で決まるので、水素中の水分量が多い条件で吸着塔を使用する場合、吸着塔の大型化が必要とある。また、吸着塔内には、高圧水素ガスが流通するので、吸着塔の容器を高圧に耐え得るような構成にする必要性があり、吸着塔の更なる大型化を招く恐れがある。なお、特許文献２の如く、圧力スイング吸着式の精製器を用いて吸着材の充填量を低減することは可能である。しかし、この場合、水素が流れる流路を構成する部材の複雑化、吸着材の再生時に、吸着材で水分とともに吸着した水素の取り扱いが必要になるという問題など、改善の余地がある。

そこで、本開示者らは、以下の如く鋭意検討を行った結果、電気化学式水素ポンプのカソードから排出されるカソードガス中の水分を、水透過膜を用いることでカソードガスから効率的に除去できることを見出した。なお、特許文献１では、水電解装置から排出される水素ガス中の水分を気液分離器により水素ガスから分離することが提案されているが、気液分離器に上記の水透過膜を設けることは検討されていない。

そこで、以下の測定装置において、水透過膜を装置内に組み込み、水透過膜の水透過性について評価した。

＜測定装置＞
図１は、水透過膜の水透過性を評価するための測定装置の一例を示す図である。

測定装置のセル８００は、低圧側の収納部８００Ｌと、高圧側の収納部８００Ｈと、水透過膜８０５と、を備える。

収納部８００Ｌおよび収納部８００Ｈはそれぞれ、円柱状に構成されており、平面視において円形のセパレーターおよびガス拡散層が積層されている。なお、セパレーターはチタン金属で構成され、収納部８００Ｌのガス拡散層は、チタン粉末焼結体で構成され、収納部８００Ｈのガス拡散層は、チタン繊維焼結体で構成されている。

水透過膜８０５は、収納部８００Ｌおよび収納部８００Ｈのそれぞれのガス拡散層によって挟まれており、これらのガス拡散層に接触するセパレーターの主面にはそれぞれ、サーペンタイン状の流路（以下、サーペンタイン流路）が形成されている。なお、収納部８００Ｌのサーペンタイン流路の出入口と、収納部８００Ｈのサーペンタイン流路の出入口とが９０°ずれるように、これらのセパレーターを配置した。また、水透過膜８０５およびガス拡散層は、セパレーターの主面に形成された溝内のＯリングでシールされている。

また、本測定装置では、水透過膜８０５として、Ｎａｆｉｏｎ（登録商標、デュポン社製）を用いた。具体的には、厚みが５１μｍのＮａｆｉｏｎ ＮＲＥ−２１２（製品名、以下、「Ｎ２１２膜」と略記）および厚みが１２７μｍのＮａｆｉｏｎ １１５（製品名、以下、「Ｎ１１５膜」と略記）を使用した。

なお、図示を省略するが、セル８００には、収納部８００Ｌおよび収納部８００Ｈのそれぞれのセパレーターの外側に端板が設けられ、セル８００の各部材を貫通するボルトおよびネジで、セル８００の各部材が端板とともに締結されている。また、端板にはそれぞれ、シーズヒータが埋め込まれている。これにより、セル８００を適温にまで加熱することができる。

本測定装置は、高圧の水（液体）から常圧状態の水素含有ガスへの水透過膜８０５の水透過性（Liquid-vapor permeation；以下、ＬＶＰ）および高圧の水（液体）から常圧状態の水（液体）への水透過膜８０５の水透過性（Liquid-liquid permeation；以下、ＬＬＰ）の両方を測定可能に構成されている。

具体的には、セル８００における収納部８００Ｈの流入口（サーペンタイン流路の入口）には、約２ＭＰａＧから約１００ＭＰａＧまで水圧をかけることができる手動式の水圧ポンプ８０４が接続されている。また、セル８００の収納部８００Ｈの流出口（サーペンタイン流路の出口）には、二方弁９０３が接続されている。これにより、セル８００の収納部８００Ｈに存在する水に対して所望の水圧を付与することができる。

ここで、水透過膜８０５のＬＬＰの測定が開始される際には、セル８００の収納部８００Ｌの流入出口（サーペンタイン流路の出入口）のそれぞれと接続された三方弁９０１、９０２の弁操作により、図１の実線で示すように、収納部８００Ｌの流入口（サーペンタイン流路の入口）が、水ポンプ８０１が設けられた水配管と連通するとともに、収納部８００Ｌの流出口（サーペンタイン流路の出口）が、天秤８０６が設けられた水配管と連通する。

これに対して、水透過膜８０５のＬＶＰの測定が開始される際には、セル８００の収納部８００Ｌの流入出口（サーペンタイン流路の出入口）のそれぞれと接続された三方弁９０１、９０２の弁操作により、図１の点線で示すように、収納部８００Ｌの流入口（サーペンタイン流路の入口）が、マスフローコントローラ８０２およびバブラー８０３が設けられた水素配管と連通するとともに、収納部８００Ｌの流出口（サーペンタイン流路の出口）が、鏡面式露点計８０７が設けられた水素配管と連通する。

なお、以上の測定装置は例示であって、本例に限定されない。

＜水透過膜８０５のＬＬＰの測定手順および測定結果＞
以下、水透過膜８０５のＬＬＰの測定手順および測定結果について説明する。

まず、セル８００の温度が、約５０℃程度となるように上記のシーズヒータを制御した。

次に、水圧ポンプ８０４を動作させ、セル８００の収納部８００Ｈを水で満たすとともに、二方弁９０３を閉めることで、収納部８００Ｈの流出口を封止した。同時に、水ポンプ８０１を動作させ、セル８００の収納部８００Ｌを水で満たすとともに、図示しない封止弁を閉めることで、収納部８００Ｌの流入口を封止した。

このとき、収納部８００Ｈに存在する水の水圧が約２ＭＰａＧになるように、水圧ポンプ８０４の動作を制御した。そして、収納部８００Ｌの流出口から流出する一定時間あたりの水量を天秤８０６で測定することで、水透過膜８０５における水の透過流束（透過速度）を導出した。

なお、以上の水透過膜８０５の水の透過流束の導出は、収納部８００Ｈに存在する水の水圧が、約５ＭＰａＧ、約１０ＭＰａＧ、約１５ＭＰａＧおよび約２０ＭＰａＧのそれぞれである場合についても行われた。

また、セル８００の温度が、約６５℃および約７０℃の場合について、上記と同様の測定が行われた。

図２Ａは、水透過膜のＬＬＰの測定結果の一例を示す図である。図２Ａの縦軸は、水透過膜８０５における水の透過流束（ｍｏｌ／ｍ^２／ｓ）が示され、横軸は、収納部８００Ｈに存在する水の水圧（ＭＰａＧ）が示されている。

図２Ａには、水透過膜８０５として、Ｎ２１２膜およびＮ１１５膜に関するＬＬＰの測定データが示されている。具体的には、図２Ａには、セル８００の温度が約５０℃の場合における水透過膜８０５のＬＬＰの測定値（黒菱形および白菱形）、同温度が約６５℃の場合における水透過膜８０５のＬＬＰの測定値（黒四角および白四角）、および、同温度が約７０℃の場合における水透過膜８０５のＬＬＰの測定値（黒三角および白三角）がプロットされている。

なお、以上の測定手順および測定結果は例示であって、本例に限定されない。

＜水透過膜８０５のＬＶＰの測定手順および測定結果＞
以下、水透過膜８０５のＬＶＰの測定手順および測定結果について説明する。

まず、セル８００の温度が、約５０℃程度となるように上記のシーズヒータを制御した。

次に、水圧ポンプ８０４を動作させ、セル８００の収納部８００Ｈを水で満たすとともに、二方弁９０３を閉めることで、収納部８００Ｈの流出口を封止した。同時に、マスフローコントローラ８０２を動作させ、セル８００の収納部８００Ｌをセル温度基準で相対湿度が約３８％の水素含有ガスで満たすように、バブラー８０３の水温を調整した。そして、相対湿度が約３８％の水素含有ガスを所望の流量（例えば、約５００−１０００ｍｌ／ｍｉｎ）で収納部８００Ｌを流通させ、収納部８００Ｌの流出口から流出する水素含有ガスの露点を鏡面式露点計８０７で測定した。

次に、収納部８００Ｈに存在する水の水圧が約２ＭＰａＧになるように、水圧ポンプ８０４の動作を制御した。そして、鏡面式露点計８０７の測定値が安定した時点で、収納部８００Ｌの流出口から流出する水素含有ガスの露点を鏡面式露点計８０７で測定することで、水透過膜８０５における水の透過流束（透過速度）を導出した。

なお、以上の水透過膜８０５の水の透過流束の導出は、収納部８００Ｈに存在する水の水圧が、約５ＭＰａＧ、約１０ＭＰａＧ、約１５ＭＰａＧおよび約２０ＭＰａＧのそれぞれである場合についても行われた。

また、セル８００の温度が、約６５℃および約７５℃の場合について、上記と同様の測定が行われた。

図２Ｂは、水透過膜のＬＶＰの測定結果の一例を示す図である。図２Ｂの縦軸は、水透過膜８０５の水の透過流束（ｍｏｌ／ｍ^２／ｓ）が示され、横軸は、収納部８００Ｈに存在する水の水圧（ＭＰａＧ）が示されている。

図２Ｂには、水透過膜８０５として、Ｎ２１２膜およびＮ１１５膜に関するＬＶＰの測定データが示されている。具体的には、図２Ｂには、セル８００の温度が約５０℃の場合における水透過膜８０５のＬＶＰの測定値（黒菱形および白菱形）、同温度が約６５℃の場合における水透過膜８０５のＬＶＰの測定値（黒四角および白四角）、および、同温度が約７５℃の場合における水透過膜８０５のＬＶＰの測定値（黒丸および白丸）がプロットされている。

なお、以上の測定手順および測定結果は例示であって、本例に限定されない。

＜対比＞
図２Ａおよび図２Ｂから理解できるとおり、セル８００の全ての温度において、水透過膜８０５のＬＬＰ（水の透過流束）は、水透過膜８０５のＬＶＰ（水の透過流束）に比べて圧力依存性が大きかった。例えば、水透過膜８０５がＮ２１２膜であると、このような傾向が顕著に現れており、Ｎ２１２膜のＬＬＰ（水の透過流束）は、収納部８００Ｈに存在する水の水圧の増加とともに大幅に増加して、Ｎ２１２のＬＶＰ（水の透過流束）の約２．７〜約５倍であった。例えば、セル８００の温度が約７０℃において、Ｎ２１２膜のＬＬＰ（水の透過流束）は、約０．１５（ｍｏｌ／ｍ^２／ｓ）にも達した。

なお、ここでは、湿潤状態の水素含有ガスから乾燥状態の水素含有ガスへの水透過膜８０５における水蒸気の透過性については評価しなかった。しかし、「M. Adachi et al., J. Electrochem. Soc., 156 (2009) B782；以下、非特許文献」には、厚みが５６μｍのＮａｆｉｏｎに関する水蒸気の透過性（Vapor-vapor permeation；ＶＶＰ）が検討されており、例えば、温度が７０℃で、相対湿度が９６％の湿潤側から相対湿度が３８％の乾燥側（化学ポテンシャル差が３．４ｋＪ／ｍｏｌ）への水蒸気の透過性（ＶＶＰ）のデータとして、０．０２（ｍｏｌ／ｍ^２／ｓ）が報告されている。

以上の水透過膜８０５のＬＬＰおよびＬＶＰの測定データは、収納部８００Ｈに存在する水の水圧が所定の圧力まで増加すると、水透過膜８０５のＬＬＰが、水透過膜８０５のＬＶＰに比べて高くなることを意味する。

また、以上の水透過膜８０５のＬＬＰおよびＬＶＰの測定データ、ならびに、上記の非特許文献の報告は、収納部８００Ｈに存在する水の水圧が所定の圧力まで増加すると、水透過膜８０５のＬＬＰが、水透過膜８０５のＬＶＰおよびＶＶＰに比べて高くなることを意味する。

すなわち、本開示の第１態様の水素システムは、このような知見に基づいて案出されたものであり、アノードに供給するアノード流体から取り出されたプロトンが、電解質膜を介してカソードに移動し、圧縮された水素が生成される圧縮器と、水透過膜、水透過膜の一方の主面上に設けられ、圧縮器のカソードから排出されるカソードガスが流通するカソードガス流路、および水透過膜の他方の主面上に設けられ、カソードガスより低圧の液体が満ちている収容部を含み、カソードガスに含まれる水分を除去する第１の除去器と、を備える。

かかる構成によると、本態様の水素システムは、圧縮器のカソードから排出されるカソードガスに含まれる水分の除去を従来よりも効率的に行い得る。具体的には、カソードガスよりも低圧の液体を水透過膜の他方の主面に設けられた収容部に満たすことで、この収容部に低圧のガスを満たす場合に比べて、水透過膜の水の透過流束を高くすることができる。そして、このような本態様の水素システムの作用効果は、水の水圧が所定の圧力まで増加するとき、水透過膜のＬＬＰが水透過膜のＬＶＰに比べて高くなるという、図２Ａおよび図２Ｂの測定データからも検証されている。

ここで、本開示の第２態様の水素システムは、第１態様の水素システムにおいて、第１の除去器に収容部内の液体を排出する排出路を備えてもよい。

また、本開示の第３態様の水素システムは、第１態様または第２態様の水素システムにおいて、収容部は、液体が流れる流路であってもよい。

本開示の第４態様の水素システムは、第１態様から第３態様のいずれか一つの水素システムにおいて、液体の温度は、第１の除去器に流入するカソードガスの温度よりも低くてもよい。例えば、液体の温度は、第１の除去器に流入するカソードガスの露点よりも低くてもよい。

かかる構成によると、本態様の水素システムは、圧縮器のカソードから排出されるカソードガスから凝縮した高圧の凝縮水が水透過膜を用いて効率的に除去される。

具体的には、液体の温度が第１の除去器に流入するカソードガスの温度よりも低いので、水透過膜を介したカソードガスと液体との間の熱交換により、第１の除去器をカソードガスが通過する際にカソードガスが冷却される。ここで、第１の除去器において、液体の温度が第１の除去器に流入するカソードガスの露点よりも低い場合、カソードガス中の水蒸気から凝縮水が発生しやすい。すると、水透過膜に接触する高圧の凝縮水が、水透過膜に接触する低圧の液体へ水透過膜を介して効率的に透過し得る。例えば、水透過膜による水分離において、カソードガス中の水蒸気を、水透過膜を介して水蒸気としてカソードガスから回収する場合、水蒸気の水透過膜への吸着過程、水透過膜を透過した水の蒸発過程などが水透過膜の水透過性の律速条件になり得ると考えられる。これに対して、カソードガスから凝縮した高圧の凝縮水を、水透過膜を介して液体の水としてカソードガスから回収する場合、上記の過程が存在しないので、前者の場合に比べて水透過膜の水の透過流束を高くすることが可能であると考えられ、その結果、第１の除去器において、カソードガス中の水分の除去を効率的に行うことができる。

そして、以上のような本態様の水素システムの作用効果は、水の水圧が所定の圧力まで増加するとき、水透過膜のＬＬＰが水透過膜のＬＶＰおよびＶＶＰに比べて高くなるという、図２Ａおよび図２Ｂの測定データならびに非特許文献の報告からも検証されている。

本開示の第５態様の水素システムは、第１態様から第４態様のいずれか一つの水素システムにおいて、液体が、水を含んでもよい。

かかる構成によると、本態様の水素システムは、第１の除去器の収容部内の液体に、熱容量が大きく、入手が容易な水を用いることで、圧縮器のカソードから排出されるカソードガスに含まれる水分の除去を簡易かつ効果的に行うことができる。

ただし、第１の除去器の収容部内の液体は、このような水には限定されない。例えば、高分子量で水透過膜の細孔を通過しない液体であって、かつ水素結合を形成する水酸基を含む液体を選定することも可能である。なお、水の分子量が小さいので、様々な膜の細孔を水が通過するが、仮に、何らかの要因で、第１の除去器のカソードガス流路（高圧）と液体流路（低圧）との圧力の大小関係が逆転することで、水透過膜を介してカソードガス内に水が混入しても、カソードガス中の水分量が増加する以外の悪影響を与えない。

本開示の第６態様の水素システムは、第１態様から第５態様のいずれか一つの水素システムにおいて、第１の除去器から排出された液体を、再び第１の除去器に供給するためのリサイクル流路を備えてもよい。

第１の除去器において、カソードガス中の水素が水透過膜を透過すると、第１の除去器から排出された液体中に水素を含む場合がある。この場合、第１の除去器から排出された液体を外部に放出する際に、液体中の水素の後処理を適切に行う必要がある。そこで、本態様の水素システムは、第１の除去器から排出された液体を、リサイクル流路を通じてリサイクルすることで、このような不都合を軽減することができる。

本開示の第７態様の水素システムは、第１態様から第４態様および第６態様のいずれか一つの水素システムにおいて、液体は水を含み、アノード流体は水素含有ガスであり、第１の除去器から排出された液体をアノードに供給される水素含有ガスに供給する供給路を備えてもよい。

第１の除去器において、カソードガス中の水素が水透過膜を透過すると、第１の除去器から排出された水中に水素を含む場合がある。そこで、本態様の水素システムは、供給路を通じて第１の除去器から排出された水を水素含有ガスに供給することで、かかる水を圧縮器のアノードに供給される水素含有ガスの加湿に利用することができる。また、水に溶存する水素を、圧縮器のアノードからカソードに移動させ、かつ圧縮することができる。

本開示の第８態様の水素システムは、第１態様から第７態様のいずれか一つの水素システムにおいて、水透過膜が、スルホン酸基を含む高分子膜であってもよい。

高分子膜のスルホン酸基は親水性を発現し得るので、上記の高分子膜において、水のパスを形成することができる。よって、本態様の水素システムは、以上の構成により、第１の除去器において、圧縮器のカソードから排出されるカソードガスに含まれる水分の除去機能を有効に発揮させることができる。

本開示の第９態様の水素システムは、第１態様から第８態様のいずれか一つの水素システムにおいて、水透過膜に通電をしなくてもよい。

水透過膜がプロトン伝導性の電解質膜で構成される場合、仮に、水透過膜の両側に電気化学的な水素酸化反応、水素発生反応を促進する物質（例えば、白金など）を含む電極を設けて、水透過膜の電極間に電流を流すと、電流に応じて水透過膜内をプロトンが移動するとともに、例えば、水透過膜で低圧の液体（例えば、水）の電気分解が発生する可能性がある。そこで、本態様の水素システムは、水透過膜に対して通電しないように構成することで、このような可能性を低減することができる。

本開示の第１０態様の水素システムは、第１態様から第９態様のいずれか一つの水素システムにおいて、第１の除去器内の液体が流れる流路（以下、液体流路）に、第１の多孔性構造体が設けられていてもよい。また、本開示の第１１態様の水素システムは、第１態様から第１０態様のいずれか一つの水素システムにおいて、カソードガス流路に、水透過膜と接するように第２の多孔性構造体が設けられていてもよい。

仮に、第１の除去器の液体流路に第１の多孔性構造体を設けない場合、第１の除去器のカソードガス流路（高圧）と液体流路（低圧）との差圧によって、液体流路を閉塞する方向に、水透過膜が変形する。例えば、このような差圧によって、水透過膜が液体流路を構成する第１の除去器の部材に接触する恐れがある。すると、液体流路内の液体の流れが困難になる恐れがあるが、本態様の水素システムは、第１の多孔性構造体を液体流路に設けているので、このような問題が軽減される。なお、水透過膜を透過した水は、第１の多孔性構造体の細孔を通じて、液体流路の液体とともに効率的に第１の除去器外に排水され得る。

また、仮に、第１の除去器のカソードガス流路に、第２の多孔性構造体を設けない場合、本カソードガス流路内のカソードガスの流れは層流になりやすい。この場合、カソードガス中の水分は、カソードガスに同伴して流れるので、例えば、水透過膜から離れた位置に存在するカソードガス中の水分は水透過膜と接触する確率が低い。つまり、この場合、水透過膜を透過する水分は、水透過膜の主面近傍に沿って流れるカソードガス中の水分に限定される恐れがある。

これに対して、本態様の水素システムは、第２の多孔性構造体をカソードガス流路に設けることにより、本カソードガス流路内のカソードガスの流れを強制的にランダムな方向に変えることができる。この場合、カソードガス流路内の様々な位置に存在するカソードガス中の水分が水透過膜と接触できる可能性がある。これにより、本態様の水素システムは、第２の多孔性構造体をカソードガス流路に設けない場合に比べて、カソードガス中の水分と水透過膜とが接触する確率が高くなる。そして、カソードガス中の水分が水透過膜と接触すると、第１の除去器のカソードガス流路（高圧）と液体流路（低圧）との差圧によって、水透過膜に接触する高圧の水分が、水透過膜に接触する低圧の液体へ水透過膜を介して効率的に透過し得る。これにより、第１の除去器において、カソードガスに含まれる水分の除去を促進することができる。

また、仮に、第２の多孔性構造体を水透過膜と接するように設けない場合、第２の多孔性構造体と水透過膜との間の空隙をカソードガスが通過しやすくなる。すると、例えば、第１の除去器のカソードガス流路（高圧）と液体流路（低圧）との差圧の大小などによって上記の空隙の大きさが変化する場合、カソードガスの流通状態がカソードガス流路内で変化する。これにより、水透過膜における水透過性に影響を与えるので、カソードガスに含まれる水分の除去を安定的に行うことが困難になる。しかし、本態様の水素システムは、第２の多孔性構造体を水透過膜と接するように設けることで、両者間の接触界面を安定に保つことができるので、以上の問題が軽減される。

また、本態様の水素システムは、第２の多孔性構造体を水透過膜と接するように設けることで、第２の多孔性構造体が、カソードガス流路を流れるカソードガス冷却のための熱伝導体として機能する。よって、カソードガスがカソードガス流路を通過する際にカソードガスが効果的に冷却される。これにより、本態様の水素システムは、第１の除去器において、第２の多孔性構造体を水透過膜と接するように設けない場合に比べて、カソードガス中の水蒸気からの凝縮水発生を促進させることができる。

本開示の第１２態様の水素システムは、第１態様から第１１態様のいずれか一つの水素システムにおいて、圧縮器が、カソード、電解質膜、およびアノードを含むセルを備える積層体であり、第１の除去器が積層体と一体で積層されていてもよい。

かかる構成によると、本態様の水素システムは、圧縮器および第１の除去器を積層することでシステム構成を簡素化することができる。例えば、圧縮器および第１の除去器では、高圧のカソードガスが流通する。よって、仮に、圧縮器および第１の除去器が別体で設けられる場合、圧縮器および第１の除去器をそれぞれ固定するための高剛性の端板が必要であることが多い。

そこで、本態様の水素システムは、第１の除去器を上記の積層体と一体で積層することにより、例えば、圧縮器および第１の除去器に使用する端板を共用化することができるので、システム構成が簡素化する。

ところで、電解質膜などの水透過膜の水の浸透は、水透過膜の両側の水の化学ポテンシャルの差によって引き起こされる。ここで、高圧における水蒸気の化学ポテンシャルは、本開示者らの知る限り報告されていない。このため、例えば、６５℃および２０ＭＰａＧにおける水の化学ポテンシャル(U_{liq_338})を、６５℃および常圧における公知の水の化学ポテンシャル（U⁰ _{liq_338}）と、「Job G. et. al., Eur. J. Phys., 27 353 (2006)」で報告された以下の式とによって計算するとともに、このような水の化学ポテンシャル(U_{liq_338})から、公知の手法に基づいて６５℃および２０ＭＰａＧにおける水蒸気の化学ポテンシャルを算出した。

U_{liq_338} = U⁰ _{liq_338}＋δ × [Ｐ（ｚ）−Ｐ_STD]
上記の式において、δは「1.990 J mol^−１ atm^−１」であり、Ｐ（ｚ）は水に対する加圧力であり、Ｐ_STDは、常圧である。

そして、水蒸気の相対湿度（％）を横軸にとり、６５℃および２０ＭＰａＧにおける水蒸気の化学ポテンシャルを、６５℃および常圧の水蒸気の化学ポテンシャルと比較すると、これらの化学ポテンシャル図（図３）が得られた。

水透過膜の水の浸透は、上記のとおり、水透過膜の両側の化学ポテンシャルの差によって引き起こされる。よって、水透過膜の低圧側の領域にガスをフル加湿（相対湿度：１００％）で供給しても、水透過膜の両側の化学ポテンシャルが等しくなるまで、水透過膜の高圧側の領域における相対湿度が低下する方向に、水透過膜に対して水の浸透駆動力が働く。例えば、図３に示す例では、水透過膜の２０ＭＰａＧの領域における相対湿度がＨ１になるまで、水透過膜に対して水の浸透駆動力が働く。

ここで、図３から理解できるとおり、水透過膜の常圧領域における相対湿度が１００％未満のガスを供給するとき、水透過膜の２０ＭＰａＧの領域における相対湿度が上記のＨ１よりも低下する方向に、水透過膜に対して水の浸透駆動力が働く。例えば、相対湿度が８０％のガスを水透過膜の常圧の領域に供給するとき、水透過膜の２０ＭＰａＧの領域における相対湿度がＨ２（Ｈ２＜Ｈ１）になるまで、水透過膜に対して水の浸透駆動力が働く。

すなわち、本開示の第１３態様の水素システムは、このような知見に基づいて案出されたものであり、第１態様から第１２態様の水素システムにおいて、水透過膜の一方の主面に第１の除去器を通過したカソードガスを流通させ、他方の主面にカソードガスよりも、ガス中に含まれる水蒸気の化学ポテンシャルが低い気体を流通させる第２の除去器を備えもよい。

第１の除去器の収容部では、水透過膜の低圧側に液体（例えば、水）が満たされるので、図３の相対湿度が１００％の化学ポテンシャルのデータから理解できるように、水透過膜の高圧側の領域を流通するカソードガスの相対湿度の低減に自ずと限界がある。つまり、第１の除去器のみを用いて、カソードガスの水分量が所望の低濃度まで低減するように、カソードガス中の水分を除去することが困難な場合がある。

そこで、本態様の水素システムは、第２の除去器を用いて、水透過膜の他方の主面に、カソードガスよりも、ガス中に含まれる水蒸気の化学ポテンシャルが低い気体を流通させている。これにより、本態様の水素システムは、第１の除去器のみでカソードガス中の水分を除去する場合に比べて、カソードガスの水分量を低濃度まで低減することができる。

本開示の第１４態様の水素システムは、第１態様から第１２態様の水素システムにおいて、第１の除去器を通過したカソードガス中の水分を除去する吸着材を含む第３の除去器を備えてもよい。

上記のとおり、第１の除去器のみを用いて、カソードガスの水分量が所望の低濃度まで低減するように、カソードガス中の水分を除去することが困難な場合がある。

そこで、本態様の水素システムは、上記の構成により、第１の除去器を通過したカソードガス中の水分を第３の除去器の吸着材を用いて簡易に除去している。

また、本態様の水素システムは、第１の除去器により除去できなかったカソードガスに含まれる水分のみを第３の除去器の吸着材で吸着除去すればよい。これにより、本態様の水素システムは、第１の除去器でカソードガス中の水分を除去しない場合に比べて、吸着材で吸着する単位時間あたりの水分量を減らすことができる。すると、第３の除去器内の吸着材の充填量を少なくしても、第３の除去器の吸着材の水分吸着性能を所望の期間、適切に維持することができるので、第３の除去器の小型化、低コスト化を図ることができる。

本開示の第１５態様の水素システムの運転方法は、アノードに供給するアノード流体から取り出されたプロトンが、電解質膜を介してカソードに移動し、圧縮された水素が生成されるステップと、圧縮された水素を含むカソードガスから水分を、水透過膜を介して収容部内に満ちている低圧の液体に移動させるステップと、を備える。

これにより、本態様の水素システムの運転方法は、圧縮器のカソードから排出されるカソードガスに含まれる水分の除去を従来よりも効率的に行い得る。なお、本態様の水素システムの運転方法が奏する作用効果の詳細は、第１態様の水素システムが奏する作用効果と同様であるので説明を省略する。

ここで、本開示の第１６態様の水素システムの運転方法は、第１５態様の水素システムの運転方法において、収容部内の液体を排出するステップを備えてもよい。

また、本開示の第１７態様の水素システムの運転方法は、第１５態様または第１６態様の水素システムの運転方法において、収容部は、液体が流れる流路であってもよい。

本開示の第１８態様の水素システムの運転方法は、第１５態様から第１７態様のいずれか一つの水素システムの運転方法において、液体の温度は、カソードガスの温度よりも低くてもよい。

これにより、本態様の水素システムの運転方法は、圧縮器のカソードから排出されるカソードガスから凝縮した高圧の凝縮水が水透過膜を用いて効率的に除去される。なお、本態様の水素システムの運転方法が奏する作用効果の詳細は、第４態様の水素システムが奏する作用効果と同様であるので説明を省略する。

本開示の第１９態様の水素システムの運転方法は、第１５態様から第１８態様のいずれか一つの水素システムの運転方法において、液体が、水を含んでもよい。

これにより、本態様の水素システムの運転方法は、収容部内の液体に、熱容量が大きく、入手が容易な水を用いることで、圧縮器のカソードから排出されるカソードガスに含まれる水分の除去を簡易かつ効果的に行うことができる。

以下、添付図面を参照しつつ、本開示の各態様の具体例について説明する。

以下で説明する具体例は、いずれも上記の各態様の一例を示すものである。よって、以下で示される形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置および接続形態などは、請求項に記載されていない限り、上記の各態様を限定するものではない。また、以下の構成要素のうち、本態様の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。また、図面において、同じ符号が付いたものは、説明を省略する場合がある。また、図面は理解しやすくするために、それぞれの構成要素を模式的に示したもので、形状および寸法比などについては正確な表示ではない場合がある。また、以下で説明する運転方法においては、必要に応じて、各ステップの順序などを変更できる。また、必要に応じて、他の公知のステップを追加できる。

（第１実施形態）
以下の実施形態では、上記の圧縮器の一例である電気化学式水素ポンプを備える水素システムの構成および水素システムの運転方法について説明する。

［装置構成］
図４は、第１実施形態の水素システムの一例を示す図である。

図４に示す例では、水素システム２００は、電気化学式水素ポンプ１００と、第１の除去器３００と、を備える。

電気化学式水素ポンプ１００は、アノードＡＮに供給するアノード流体から取り出されたプロトン（Ｈ^＋）を、電解質膜１１を介してカソードＣＡに移動し、圧縮された水素が生成される装置である。なお、アノード流体として、例えば、水素含有ガス、水などを用いることができる。

以下、アノード流体として水素含有ガスを用いる場合の水素システム２００の構成について説明する。

電気化学式水素ポンプ１００は、電解質膜１１による電気化学式の圧縮装置であれば、どのような構成であってもよい。

図４に示す例では、電気化学式水素ポンプ１００には、アノードＡＮに水素含有ガスを供給させるためのアノードガス導入経路２９と、アノードＡＮから水素含有ガスを排出させるためのアノードガス導出経路３１と、カソードＣＡからカソードガスを排出させるためのカソードガス導出経路２６と、が設けられている。なお、カソードガスは、例えば、カソードＣＡから排出される水蒸気を含む高圧の水素含有ガスである。

第１の除去器３００は、水透過膜１１５と、水透過膜１１５の一方の主面に設けられ、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡから排出されるカソードガスが流通する流路（以下、カソードガス流路１１４）と、水透過膜１１５の他方の主面上に設けられ、カソードガスより低圧の液体が満ちている収容部と、を含み、カソードガスに含まれる水分を除去する装置である。なお、カソードガス中の水分は、カソードガス中に含まれる液水を含む。第１の除去器３００で除去される水分は、例えば、カソードガスから凝縮した凝縮水を含む。この凝縮水は、カソードガス導出経路２６のうちの電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡから第１の除去器３００までの流路、または、第１の除去器３００内のカソードガス流路１１４で生成される。

第１の除去器３００は、カソードガスに含まれる水分の除去が可能な膜式の除去装置であれば、どのような構成であってもよい。

例えば、図４に示すように、第１の除去器３００は、カソードガス流路１１４と、低圧の液体が流通する流路１１３（以下、液体流路１１３）と、これらの流路１１３、１１４の間に設けられた水透過膜１１５と、を備えてもよい。つまり、この場合、液体流路１１３が、上記の収容部に相当する。収容部の他の例は、第４実施形態で説明する。

なお、第１の除去器３００には、カソードガス流路１１４にカソードガスを流通させるためのカソードガス導出経路２６と、液体流路１１３に液体を流通させるための液体導入経路１１１および液体導出経路１１２と、が設けられている。

水透過膜１１５は、カソードガス中の水素（Ｈ_２）の透過性が低く、カソードガス中の水分を透過させる膜であれば、どのような構成であってもよい。

例えば、水透過膜１１５は、スルホン酸基を含む高分子膜で構成されていてもよい。これにより、カソードガス中の液体の水だけでなく、水蒸気を透過する機能を水透過膜１１５に付与することができる。なお、高分子膜のスルホン酸基は親水性を発現し得るので、高分子膜において、水のパスを形成することができる。よって、本実施形態の水素システム２００は、以上の構成により、第１の除去器３００において、電気化学式水素ポンプ１００のカソードから排出されるカソードガスに含まれる水分の除去機能を有効に発揮させることができる。

ここで、本実施形態の水素システム２００では、第１の除去器３００に流入する液体の温度が、第１の除去器３００に流入するカソードガスの温度よりも低い。例えば、第１の除去器３００に流入する液体の温度は、第１の除去器３００に流入するカソードガスの露点よりも低い。そこで、本実施形態の水素システム２００では、液体導入経路１１１の適所に冷却器（図示せず）が設けられていてもよい。

なお、以上の電気化学式水素ポンプ１００および第１の除去器３００が一体的に構成された水素システム２００の一例は第３実施例で説明する。

[動作]
以下、第１実施形態の水素システム２００の動作の一例について図面を参照しながら説明する。

なお、以下の動作は、例えば、図示しない制御器の演算回路が、制御器の記憶回路から制御プログラムを読み出すことにより行われてもよい。ただし、以下の動作を制御器で行うことは、必ずしも必須ではない。操作者が、その一部の動作を行ってもよい。また、以下では、アノード流体として水素含有ガスを用いる場合の水素システム２００の動作について説明する。

まず、電気化学式水素ポンプ１００のアノードＡＮに低圧の水素含有ガスが供給されるとともに、電圧印加器（図４では図示せず）の電圧が電気化学式水素ポンプ１００に印加される。すると、電気化学式水素ポンプ１００において、アノードＡＮに供給する水素含有ガスから取り出されたプロトンが、電解質膜１１を介してカソードＣＡに移動し、圧縮された水素が生成されるステップ（水素圧縮動作）が行われる。具体的には、アノードＡＮのアノード触媒層において、酸化反応で水素分子が水素イオン（プロトン）と電子とに分離する（式（１））。プロトンは電解質膜１１内を伝導してカソード触媒層に移動する。電子は電圧印加器を通じてカソード触媒層に移動する。そして、カソード触媒層において、還元反応で水素分子が再び生成される（式（２））。なお、プロトンが電解質膜１１中を伝導する際に、所定量の水が、電気浸透水としてアノードＡＮからカソードＣＡにプロトンと同伴して移動することが知られている。

アノード：Ｈ_２（低圧）→２Ｈ^＋＋２ｅ⁻ ・・・（１）
カソード：２Ｈ^＋＋２ｅ⁻→Ｈ_２（高圧） ・・・（２）
電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡで生成された水素は、水蒸気を含むカソードガスとして、カソードＣＡで圧縮される。例えば、図示しない流量調整器を用いて、カソードガス導出経路２６の圧損を増加させることにより、カソードＣＡでカソードガスを圧縮することができる。なお、流量調整器として、例えば、カソードガス導出経路２６に設けられた背圧弁、調整弁などを挙げることができる。

次に、流量調整器の圧損を低下させると、カソードガスが、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡからカソードガス導出経路２６を通じて電気化学式水素ポンプ１００外に排出される。

すると、第１の除去器３００において、圧縮された水素を含むカソードガスから水分を、水透過膜１１５を介して液体流路１１３内に満ちている低圧の液体に移動させるステップが行われる。具体的には、第１の除去器３００では、水透過膜１１５の一方の主面に、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡから排出されるカソードガスが流通する。よって、第１の除去器３００において、水透過膜１１５の他方の主面にカソードガスより低圧の液体を流通させることで、カソードガスに含まれる水分の除去動作が行われる。このとき、上記の水分は、カソードガス中に含まれる液水を含む。この水分は、例えば、カソードガスから凝縮した凝縮水を含む。この凝縮水は、カソードガス導出経路２６のうちの電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡから第１の除去器３００までの流路、または、第１の除去器３００内のカソードガス流路１１４で生成される。また、第１の除去器３００に流入する液体の温度は、第１の除去器３００に流入するカソードガスの温度よりも低くてもよい。

以上により、本実施形態の水素システム２００および水素システム２００の運転方法は、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡから排出されるカソードガスに含まれる水分の除去を従来よりも効率的に行い得る。具体的には、水透過膜１１５の他方の主面に低圧の液体を流通させることで、この主面に低圧のガスを流通させる場合に比べて、水透過膜１１５の水の透過流束を高くすることができる。そして、このような本実施形態の水素システム２００および水素システム２００の運転方法の作用効果は、水の水圧が所定の圧力まで増加するとき、水透過膜のＬＬＰが水透過膜のＬＶＰに比べて高くなるという、図２Ａおよび図２Ｂの測定データからも検証されている。

例えば、本実施形態の水素システム２００および水素システム２００の運転方法は、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡから排出されるカソードガスから凝縮した高圧の凝縮水が水透過膜１１５を用いて効率的に除去される。

具体的には、第１の除去器３００に流入する液体の温度が第１の除去器３００に流入するカソードガスの温度よりも低いので、水透過膜１１５を介したカソードガスと液体との間の熱交換により、第１の除去器３００をカソードガスが通過する際にカソードガスが冷却される。ここで、第１の除去器３００において、第１の除去器３００に流入する液体の温度が第１の除去器３００に流入するカソードガスの露点よりも低い場合、カソードガス中の水蒸気から凝縮水が発生しやすい。すると、水透過膜１１５に接触する高圧の凝縮水が、水透過膜１１５に接触する低圧の液体へ水透過膜１１５を介して効率的に透過し得る。例えば、水透過膜１１５による水分離において、カソードガス中の水蒸気を、水透過膜１１５を介して水蒸気としてカソードガスから回収する場合、水蒸気の水透過膜１１５への吸着過程、水透過膜１１５を透過した水の蒸発過程などが水透過膜１１５の水透過性の律速条件になり得ると考えられる。これに対して、カソードガスから凝縮した高圧の凝縮水を、水透過膜１１５を介して液体の水として水素含有ガスから回収する場合、上記の過程が存在しないので、前者の場合に比べて水透過膜１１５の水の透過流束を高くすることが可能であると考えられ、その結果、第１の除去器３００において、カソードガス中の水分の除去を効率的に行うことができる。

そして、以上のような本実施形態の水素システム２００および水素システム２００の運転方法の作用効果は、水の水圧が所定の圧力まで増加するとき、水透過膜のＬＬＰが水透過膜のＬＶＰおよびＶＶＰに比べて高いという、図２および図３の測定データならびに非特許文献の報告からも検証されている。

なお、ここでは、図示を省略しているが、本実施形態の水素システム２００の水素圧縮動作において必要となる部材および機器は適宜、設けられる。

例えば、水素システム２００には、例えば、電気化学式水素ポンプ１００の温度を検出する温度検出器、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡで圧縮されたカソードガスの圧力を検出する圧力検出器などが設けられていてもよい。また、水素システム２００には、アノードガス導入経路２９、アノードガス導出経路３１、カソードガス導出経路２６、液体導入経路１１１および液体導出経路１１２の適所において、これらの経路を開閉するための弁などが設けられていてもよい。

以上の水素システム２００の構成は例示であって、本例に限定されない。例えば、電気化学式水素ポンプ１００は、アノードガス導出経路３１を設けずに、アノードガス導入経路２９を通してアノードＡＮに供給する水素含有ガス中の水素（Ｈ_２）を全量、カソードＣＡで圧縮するデッドエンド構造が採用されてもよい。

また、水素含有ガスは、例えば、純水素ガスであってもよいし、純水素ガスよりも水素濃度の低いガスであってもよい。後者の水素含有ガスは、例えば、水の電気分解により生成する水素ガスであってもよいし、水素を含む改質ガスであってもよい。

（第１実施例）
図５は、第１実施形態の第１実施例の水素システムの一例を示す図である。

図５に示す例では、水素システム２００は、電気化学式水素ポンプ１００と、第１の除去器３００と、リサイクル流路１４０と、供給路１３０と、水素源７００と、を備える。

ここで、電気化学式水素ポンプ１００および第１の除去器３００は、第１実施形態の水素システム２００と同様であるので説明を省略する。

本実施例の水素システム２００および水素システム２００の運転方法では、第１の除去器３００に流通する液体は水を含む。これにより、本実施例の水素システム２００および水素システム２００の運転方法は、第１の除去器３００を流通する液体に、熱容量が大きく、入手が容易な水を用いることで、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡから排出されるカソードガスに含まれる水分の除去を簡易かつ効果的に行うことができる。

ただし、第１の除去器３００に流通する液体は、このような水には限定されない。例えば、高分子量で水透過膜１１５の細孔を通過しない液体であって、かつ水素結合を形成する水酸基を含む液体を選定することも可能である。なお、水の分子量が小さいので、様々な膜の細孔を水が通過するが、仮に、何らかの要因で、第１の除去器３００のカソードガス流路１１４（高圧）と液体流路１１３（低圧）との圧力の大小関係が逆転することで、水透過膜１１５を介してカソードガス内に水が混入しても、カソードガス中の水分量が増加する以外の悪影響を与えない。

また、本実施例の水素システム２００および水素システム２００の運転方法では、電気化学式水素ポンプ１００のアノードＡＮに供給されるアノード流体は、水素源７００からの水素含有ガスである。なお、水素源７００で生成される水素含有ガスとして、例えば、メタンガスなどの改質反応により発生する改質ガス、水の電気分解により発生する水素ガスなどを挙げることができる。

ここで、リサイクル流路１４０は、第１の除去器３００から排出された水を、再び第１の除去器３００に供給するための流路である。供給路１３０は、第１の除去器３００から排出された水を電気化学式水素ポンプ１００のアノードＡＮに供給される水素含有ガスに供給する流路である。つまり、本例では、液体導出経路１１２が、リサイクル流路１４０と供給路１３０とに分岐部で分岐するとともに、リサイクル流路１４０の下流端は、液体導入経路１１１に接続しており、供給路１３０の下流端は、アノードガス導入経路２９に接続している。

なお、図５の水素システム２００において、リサイクル流路１４０および供給路１３０を流れる水の流量を制御する流量制御器（図示せず）が設けられていてもよい。流量制御器は、このような水の流量を制御することができれば、どのような構成であってもよい。流量制御器として、例えば、流量制御弁などを挙げることができる。このような流量制御弁は、例えば、リサイクル流路１４０と供給路１３０との接続部（上記の分岐部）に設けられた、分流比が制御可能な三方弁であってもよいし、三方切替弁であってもよい。また、流量制御弁は、供給路１３０上、および、リサイクル流路１４０上のいずれか一方、または、両方に設けられた、弁開度が制御可能な２方弁であってもよいし、オンオフ弁であってもよい。さらに、図５の水素システム２００において、リサイクル流路１４０を流れる水を冷却する冷却器（図示せず）が設けられていてもよい。冷却器は、上記の水を冷却する冷却機能を備える装置であれば、どのような構成であってもよい。冷却器は、例えば、空冷式の冷却器でもよいし、冷却液を用いる冷却器でもよい。前者の冷却器は、例えば、冷却ファン、冷却フィンなどを備える。後者の冷却器は、例えば、冷却液が流れる流路部材を備える。冷却液として、例えば、冷却水、不凍液などを用いることができる。

以下、本実施例の水素システム２００および水素システム２００の運転方法の作用効果について説明する。

第１の除去器３００において、カソードガス中の水素が水透過膜１１５を透過すると、第１の除去器３００から排出された水中に水素を含む場合がある。この場合、第１の除去器３００から排出された水を外部に放出する際に、水に溶存する水素の後処理を適切に行う必要がある。

そこで、本実施例の水素システム２００および水素システム２００の運転方法は、第１の除去器３００から排出された水を、リサイクル流路１４０を通じてリサイクルすることで、このような不都合を軽減することができる。

また、本実施例の水素システム２００および水素システム２００の運転方法は、供給路１３０を通じて第１の除去器３００から排出された水を水素含有ガスに供給することで、かかる水を電気化学式水素ポンプ１００のアノードＡＮに供給される水素含有ガスの加湿に利用することができる。また、水に溶存する水素を、電気化学式水素ポンプ１００のアノードＡＮからカソードＣＡに移動させ、かつ圧縮することができる。

本実施例の水素システム２００および水素システム２００の運転方法は、上記の特徴以外は、第１実施形態と同様であってもよい。

（第２実施例）
本実施例の水素システム２００は、第１の除去器３００内の液体流路１１３に、第１の多孔性構造体が設けられること、および、第１の除去器３００内のカソードガス流路１１４に、水透過膜１１５と接するように第２の多孔性構造体が設けられること以外、第１実施形態の水素システム２００と同様である。なお、第１の多孔性構造体は、第１の除去器３００の水透過膜１１５と接するように第１の除去器３００内の液体流路１１３に設けられていてもよい。

第１の多孔性構造体は、第１の除去器３００のカソードガス流路１１４（高圧）と液体流路１１３（低圧）との差圧で発生する水透過膜１１５の変位、変形を抑制可能な高剛性であることが望ましい。例えば、第１の多孔性構造体は、金属製であってもよい。金属製の第２の多孔性構造体は、例えば、金属焼結体であってもよい。金属焼結体として、例えば、ステンレス製またはチタン製の金属粉焼結体、金属繊維焼結体などを挙げることができる。

第２の多孔性構造体は、第１の除去器３００のカソードガス流路１１４（高圧）と液体流路１１３（低圧）との差圧で発生する水透過膜１１５の変位、変形に適切に追従するような弾性を備える方が望ましい。例えば、第２の多孔性構造体として、炭素繊維を含む弾性体で構成されていてもよい。このような弾性体として、例えば、カーボン繊維が積層されるカーボンフェルトなどを挙げることができる。

以下、第１の除去器３００の液体流路１１３に、上記の第１の多孔性構造体を水透過膜１１５と接するように設ける場合の本実施例の水素システム２００の作用効果について説明する。

仮に、第１の除去器３００の液体流路１１３に第１の多孔性構造体を設けない場合、第１の除去器３００のカソードガス流路１１４（高圧）と液体流路１１３（低圧）との差圧によって、液体流路１１３を閉塞する方向に、水透過膜１１５が変形する。例えば、このような差圧によって、水透過膜１１５が、液体流路１１３を構成する第１の除去器３００の部材に接触する恐れがある。すると、液体流路１１３内の液体の流れが困難になる恐れがあるが、本実施例の水素システム２００は、第１の多孔性構造体を液体流路１１３に設けているので、このような問題が軽減される。なお、水透過膜１１５を透過した水は、第１の多孔性構造体の細孔を通じて、液体流路１１３の液体とともに効率的に第１の除去器３００外に排水され得る。

また、仮に、第１の多孔性構造体を水透過膜１１５と接するように設けない場合、例えば、液体流路１１３を構成する第１の除去器３００の部材のエッジ部で、第１の除去器３００のカソードガス流路１１４（高圧）と液体流路１１３（低圧）との差圧に基づく水透過膜１１５への曲げ応力が発生する場合がある。すると、このような曲げ応力によって水透過膜１１５が破損する恐れがあるが、本実施例の水素システム２００は、第１の多孔性構造体を水透過膜１１５と接するように設けているので、このような問題が軽減される。

また、仮に、第１の多孔性構造体を水透過膜１１５と接するように設けない場合、例えば、第２の多孔性構造体と水透過膜１１５との間の空隙を液体が通過しやすくなる。

すると、例えば、カソードガス流路１１４（高圧）と液体流路１１３（低圧）との差圧の大小などによって上記の空隙の大きさが変化する場合、液体の流通状態が液体流路１１３内で変化する。これにより、水透過膜１１５の水透過性に影響を与えるので、カソードガスに含まれる水分の除去を安定的に行うことが困難になる。しかし、本実施例の水素システム２００は、第１の多孔性構造体を水透過膜１１５と接するように設けることで、両者間の接触界面を安定に保つことができるので、以上の問題も軽減される。

次に、第１の除去器３００のカソードガス流路１１４に、上記の第２の多孔性構造体を水透過膜１１５と接するように設ける場合の本実施例の水素システム２００の作用効果について説明する。

仮に、第１の除去器３００のカソードガス流路１１４に、第２の多孔性構造体を設けない場合、本カソードガス流路１１４内のカソードガスの流れは層流になりやすい。この場合、カソードガス中の水分は、カソードガスに同伴して流れるので、例えば、水透過膜１１５から離れた位置に存在するカソードガス中の水分は水透過膜１１５と接触する確率が低い。つまり、この場合、水透過膜１１５を透過する水分は、水透過膜１１５の主面近傍に沿って流れるカソードガス中の水分に限定される恐れがある。

これに対して、本実施例の水素システム２００は、第２の多孔性構造体をカソードガス流路１１４に設けることにより、本カソードガス流路１１４内のカソードガスの流れを強制的にランダムな方向に変えることができる。この場合、カソードガス流路１１４内の様々な位置に存在するカソードガス中の水分が水透過膜１１５と接触できる可能性がある。これにより、本実施例の水素システム２００は、第２の多孔性構造体をカソードガス流路１１４に設けない場合に比べて、カソードガス中の水分と水透過膜１１５とが接触する確率が高くなる。そして、カソードガス中の水分が水透過膜１１５と接触すると、第１の除去器３００のカソードガス流路１１４（高圧）と液体流路１１３（低圧）との差圧によって、水透過膜１１５に接触する高圧の水分が、水透過膜１１５に接触する低圧の液体へ水透過膜１１５を介して効率的に透過し得る。これにより、第１の除去器３００において、カソードガスに含まれる水分の除去を促進することができる。

また、仮に、上記の第２の多孔性構造体を水透過膜１１５と接するように設けない場合、第２の多孔性構造体と水透過膜との間の空隙をカソードガスが通過しやすくなる。すると、例えば、第１の除去器３００のカソードガス流路１１４（高圧）と液体流路１１３（低圧）との差圧の大小などによって上記の空隙の大きさが変化する場合、カソードガスの流通状態がカソードガス流路１１４内で変化する。これにより、水透過膜１１５における水透過性に影響を与えるので、カソードガスに含まれる水分の除去を安定的に行うことが困難になる。しかし、本実施例の水素システム２００は、第２の多孔性構造体を水透過膜１１５と接するように設けることで、両者間の接触界面を安定に保つことができるので、以上の問題が軽減される。

また、本実施例の水素システム２００は、第２の多孔性構造体を水透過膜１１５と接するように設けることで、第２の多孔性構造体が、カソードガス流路１１４を流れるカソードガス冷却のための熱伝導体として機能する。よって、カソードガスがカソードガス流路１１４を通過する際にカソードガスが効果的に冷却される。これにより、本実施例の水素システム２００は、第１の除去器３００において、第２の多孔性構造体を水透過膜１１５と接するように設けない場合に比べて、カソードガス中の水蒸気からの凝縮水発生を促進させることができる。

次に、第１の多孔性構造体および第２の多孔質構造体をそれぞれ、金属材料および弾性材料のそれぞれで構成する場合の本実施例の水素システム２００の作用効果について説明する。

本実施例の水素システム２００は、第１の多孔性構造体を金属材料で構成することで、第１の多孔性構造体の剛性を適切に確保することができる。すると、カソードガス流路１１４（高圧）と液体流路１１３（低圧）との差圧によって水透過膜１１５が変形しにくくなるので、第１の多孔性構造体と水透過膜１１５との間の接触界面、および、第２の多孔性構造体と水透過膜１１５との間の接触界面を安定的に保つことができる。これにより、本実施例の水素システム２００は、カソードガスに含まれる水分の除去を安定化させることができる。

本実施例の水素システム２００は、第２の多孔性構造体を弾性材料で構成することで、第２の多孔性構造体の弾性変形を適切に生じさせることができる。これにより、第１の除去器３００のカソードガス流路１１４（高圧）と液体流路１１３（低圧）との差圧が発生しても、第２の多孔性構造体と水透過膜１１５との間の接触界面を安定的に保つことができる。

例えば、上記の差圧の発生により、水透過膜１１５が液体流路１１３を閉塞する方向に変形した場合、または、カソードガス流路１１４を構成する部材（以下、流路部材）が外側に変形した場合、第２の多孔性構造体と水透過膜１１５との間の接触界面を安定的に保つことが難しい。すると、上記のとおり、水透過膜１１５における水透過性に影響を与えるので、カソードガスに含まれる水分の除去を安定的に行うことが困難になる。しかし、本実施例の水素システム２００は、第２の多孔性構造体を弾性材料で構成することで、水透過膜１１５の上記変形および流路部材の上記変形に対して、第２の多孔性構造体と水透過膜１１５との間の接触を維持する方向に、第２の多孔性構造体の弾性変形を追従させ得る。例えば、流路部材の凹部に、第２の多孔性構造体を収容する構成を取る場合、水透過膜１１５および流路部材のそれぞれの変形量相当分以上、第２の多孔性構造体を予め圧縮させて流路部材の凹部に収容するとよい。

本実施例の水素システム２００は、上記の特徴以外は、第１実施形態または第１実施形態の第１実施例の水素システム２００と同様であってもよい。

（第３実施例）
図６、図７および図８は、第１実施形態の第３実施例の水素システムの一例を示す図である。本実施例の水素システム２００では、電気化学式水素ポンプ１００および第１の除去器３００が一体的に構成されている。

なお、図６には、平面視において水素システム２００の中心と、カソードガス通過マニホールド５０の中心と、カソードガス導出マニホールド５１の中心と、を通過する直線を含む垂直断面が示されている。図７には、平面視において水素システム２００の中心と、アノードガス導入マニホールド４０の中心と、アノードガス導出マニホールド４１の中心と、を通過する直線を含む垂直断面が示されている。図８には、平面視において水素システム２００の中心と、液体導入マニホールド６０の中心と、液体導出マニホールド６１の中心と、を通過する直線を含む垂直断面が示されている。

［電気化学式水素ポンプの構成］
以下、図面を参照しながら、電気化学式水素ポンプ１００の構成の一例を説明する。

図６、図７および図８に示すように、水素システム２００は、少なくとも一つの電気化学式水素ポンプ１００の水素ポンプユニット１００Ａを備える。

なお、電気化学式水素ポンプ１００には、複数の水素ポンプユニット１００Ａが積層されていてもよい。つまり、図６、図７および図８に示す例では、１個の水素ポンプユニット１００Ａが示されているが、水素ポンプユニット１００Ａの個数は、本例に限定されない。水素ポンプユニット１００Ａの個数は、例えば、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡで圧縮する水素量などの運転条件をもとに適宜の数に設定することができる。

水素ポンプユニット１００Ａは、電解質膜１１と、アノードＡＮと、カソードＣＡと、カソードセパレーター１６と、アノードセパレーター１７と、絶縁体２１と、を備える。なお、水素ポンプユニット１００Ａでは、アノード触媒層およびカソード触媒層が電解質膜１１に一体的に接合された触媒層付き膜ＣＣＭ（Catalyst Coated Membrane）が使用されることも多い。

アノードＡＮは、電解質膜１１の一方の主面に設けられている。アノードＡＮは、アノード触媒層と、アノードガス拡散層とを含む電極である。ここで、電解質膜１１として、上記の触媒層付き膜ＣＣＭを使用する場合は、触媒層付き膜ＣＣＭに接合されたアノード触媒層の主面に、上記のアノードガス拡散層が設けられている。なお、アノード触媒層の周囲を囲むように、図示しない環状のシール部材が設けられ、アノード触媒層が、かかるシール部材で適切にシールされている。

カソードＣＡは、電解質膜１１の他方の主面に設けられている。カソードＣＡは、カソード触媒層と、カソードガス拡散層とを含む電極である。ここで、電解質膜１１として、上記の触媒層付き膜ＣＣＭを使用する場合は、触媒層付き膜ＣＣＭに接合されたカソード触媒層の主面に、上記のカソードガス拡散層が設けられている。なお、カソード触媒層の周囲を囲むように環状のシール部材が設けられ、カソード触媒層が、かかるシール部材で適切にシールされている。

以上により、水素ポンプユニット１００Ａでは、アノード触媒層およびカソード触媒層のそれぞれが接触するようにして、電解質膜１１がアノードＡＮとカソードＣＡとによって挟持されている。なお、カソードＣＡ、電解質膜１１およびアノードＡＮを含むセルを膜−電極接合体（以下、ＭＥＡ：Membrane Electrode Assembly）といい、電気化学式水素ポンプ１００は、カソードＣＡ、電解質膜１１およびアノードＡＮを含む、少なくとも１個以上のセルを備える積層体であってもよい。

電解質膜１１は、プロトン伝導性を備える。電解質膜１１は、プロトン伝導性を備えていれば、どのような構成であってもよい。例えば、電解質膜１１として、フッ素系高分子電解質膜、炭化水素系高分子電解質膜を挙げることができるが、これらに限定されない。具体的には、例えば、電解質膜１１として、Ｎａｆｉｏｎ（登録商標、デュポン社製）、Ａｃｉｐｌｅｘ（登録商標、旭化成株式会社製）などを用いることができる。

アノード触媒層は、電解質膜１１の一方の主面に設けられている。アノード触媒層は、触媒金属として、例えば、白金を含むが、これに限定されない。

カソード触媒層は、電解質膜１１の他方の主面に設けられている。カソード触媒層は、触媒金属として、例えば、白金を含むが、これに限定されない。

カソード触媒層およびアノード触媒層の触媒担体としては、例えば、カーボンブラック、黒鉛などの炭素粉体、導電性の酸化物粉体などが挙げられるが、これらに限定されない。

なお、カソード触媒層およびアノード触媒層では、触媒金属の微粒子が、触媒担体に高分散に担持されている。また、これらのカソード触媒層およびアノード触媒層中には、電極反応場を大きくするために、水素イオン伝導性のイオノマー成分を加えることが一般的である。

カソードガス拡散層は、カソード触媒層上に設けられている。また、カソードガス拡散層は、多孔性材料で構成され、導電性およびガス拡散性を備える。さらに、カソードガス拡散層は、電気化学式水素ポンプ１００の動作時にカソードＣＡおよびアノードＡＮ間の差圧で発生する構成部材の変位、変形に適切に追従するような弾性を備える方が望ましい。なお、本実施例の電気化学式水素ポンプ１００では、カソードガス拡散層として、カーボン繊維で構成した部材が用いられている。例えば、カーボンペーパー、カーボンクロス、カーボンフェルトなどの多孔性のカーボン繊維シートでもよい。なお、カソードガス拡散層の基材として、カーボン繊維シートを用いなくもよい。例えば、カソードガス拡散層の基材として、チタン、チタン合金、ステンレススチールなどを素材とする金属繊維の焼結体、これらを素材とする金属粉体の焼結体などを用いてもよい。

アノードガス拡散層は、アノード触媒層上に設けられている。また、アノードガス拡散層は、多孔性材料で構成され、導電性およびガス拡散性を備える。さらに、アノードガス拡散層は、電気化学式水素ポンプ１００の動作時にカソードＣＡおよびアノードＡＮ間の差圧で発生する構成部材の変位、変形を抑制可能な高剛性であることが望ましい。

なお、本実施例の電気化学式水素ポンプ１００では、アノードガス拡散層として、チタン粉体焼結体の薄板で構成した部材が用いられているが、これに限定されない。つまり、アノードガス拡散層の基材として、例えば、チタン、チタン合金、ステンレススチールなどを素材とする金属繊維の焼結体、これらを素材とする金属粉体の焼結体を用いることができる。また、アノードガス拡散層の基材として、例えば、エキスパンドメタル、金属メッシュ、パンチングメタルなどを用いることもできる。

アノードセパレーター１７は、アノードＡＮのアノードガス拡散層上に設けられた部材である。カソードセパレーター１６は、カソードＣＡのカソードガス拡散層上に設けられた部材である。

そして、カソードセパレーター１６およびアノードセパレーター１７のそれぞれの中央部には、凹部が設けられている。これらの凹部のそれぞれに、カソードガス拡散層およびアノードガス拡散層がそれぞれ収容されている。

このようにして、カソードセパレーター１６およびアノードセパレーター１７で上記のＭＥＡを挟むことにより、水素ポンプユニット１００Ａが形成されている。

なお、アノードガス拡散層と接触するアノードセパレーター１７の主面には、平面視において、例えば、複数のＵ字状の折り返す部分と複数の直線部分とを含むサーペンタイン状のアノードガス流路（図示せず）が設けられている。但し、このようなアノードガス流路は、例示であって、本例に限定されない。例えば、アノードガス流路は、複数の直線状の流路により構成されていてもよい。

また、導電性のカソードセパレーター１６およびアノードセパレーター１７の間には、平面視においてＭＥＡの周囲を囲むように設けられた環状かつ平板状の絶縁体２１が挟み込まれている。これにより、カソードセパレーター１６およびアノードセパレーター１７の短絡が防止されている。

ここで、図６、図７および図８に示すように、水素システム２００は、水素ポンプユニット１００Ａのアノードセパレーター１７に設けられたアノード給電板２２Ａと、水素ポンプユニット１００Ａのカソードセパレーター１６に設けられたカソード給電板２２Ｃと、電圧印加器１０２と、を備える。

電圧印加器１０２は、アノード触媒層とカソード触媒層との間に電圧を印加する装置である。具体的には、電圧印加器１０２の高電位が、アノード触媒層に印加され、電圧印加器１０２の低電位が、カソード触媒層に印加されている。電圧印加器１０２は、アノード触媒層およびカソード触媒層間に電圧を印加できれば、どのような構成であってもよい。例えば、電圧印加器１０２は、アノード触媒層およびカソード触媒層間に印加する電圧を調整する装置であってもよい。具体的には、電圧印加器１０２は、バッテリ、太陽電池、燃料電池などの直流電源と接続されているときは、ＤＣ／ＤＣコンバータを備え、商用電源などの交流電源と接続されているときは、ＡＣ／ＤＣコンバータを備える。

また、電圧印加器１０２は、例えば、水素ポンプユニット１００Ａに供給する電力が所定の設定値となるように、アノード触媒層およびカソード触媒層間に印加される電圧、アノード触媒層およびカソード触媒層間に流れる電流が調整される電力型電源であってもよい。

図６、図７および図８に示す例では、電圧印加器１０２の低電位側の端子が、カソード給電板２２Ｃに接続され、電圧印加器１０２の高電位側の端子が、アノード給電板２２Ａに接続されている。本例では、カソード給電板２２Ｃは、カソードセパレーター１６と電気的に接触するとともに、アノード給電板２２Ａは、アノードセパレーター１７と電気的に接触している。なお、図示を省略するが、電気化学式水素ポンプ１００において、カソードＣＡ、電解質膜１１およびアノードＡＮを含むセルが複数個、積層される場合、アノード給電板２２Ａは、これらの部材の積層方向において一方の端に位置するアノードセパレーター１７と電気的に接触するとともに、カソード給電板２２Ｃは、これらの部材の積層方向において他方の端に位置するカソードセパレーター１６と電気的に接触する。

［第１の除去器の構成］
以下、図面を参照しながら、第１の除去器３００の構成の一例を説明する。

図６、図７および図８に示すように、水素システム２００は、アノード給電板２２Ａおよびカソード給電板２２Ｃのそれぞれを介して、水素ポンプユニット１００Ａを挟むように設けられた上下で一対の第１の除去器３００の第１の除去ユニット３００Ａを備える。

なお、図６、図７および図８に示す例では、第１の除去器３００のそれぞれには、１個の第１の除去ユニット３００Ａが示されているが、第１の除去ユニット３００Ａの個数は、本例に限定されない。また、上下で一対の第１の除去器３００のそれぞれは、同一構成の第１の除去ユニット３００Ａを備える。

第１の除去ユニット３００Ａは、水透過膜１１５と、第１の多孔質構造体１１３Ａと、第２の多孔質構造体１１４Ａと、セパレーター１８と、セパレーター１９と、絶縁体２０と、を備える。

水透過膜１１５は、上記のとおり、カソードガス中の水素（Ｈ_２）の透過性が低く、カソードガス中の水分を透過させる膜であれば、どのような構成であってもよい。なお、このような水透過膜１１５として、例えば、電解質膜１１と同様の材料により構成されるプロトン（Ｈ^＋）を透過可能なプロトン伝導性の高分子膜を用いることができる。つまり、水透過膜１１５として、例えば、プロトン伝導性の高分子膜に使用可能な、フッ素系高分子膜、炭化水素系高分子膜などを挙げることができるが、これらに限定されない。

第１の多孔質構造体１１３Ａは、水透過膜１１５と接するように液体流路１１３内に設けられている。第１の多孔質構造体１１３Ａは、第１の除去器３００のカソードガス流路１１４（高圧）と液体流路１１３（低圧）との差圧で発生する水透過膜１１５の変位、変形を抑制可能な高剛性であることが望ましい。なお、このような第１の多孔質構造体１１３Ａの基材は、例えば、アノードガス拡散層と同様の金属材料で構成されていてもよい。

第２の多孔質構造体１１４Ａは、水透過膜１１５と接するようにカソードガス流路１１４内に設けられている。第２の多孔質構造体１１４Ａは、第１の除去器３００のカソードガス流路１１４（高圧）と液体流路１１３（低圧）との差圧で発生する水透過膜１１５の変位、変形に適切に追従するような弾性を備える方が望ましい。なお、このような第２の多孔質構造体１１４Ａの基材は、例えば、カソードガス拡散層と同様の金属材料で構成されていてもよい。

セパレーター１８は、第２の多孔質構造体１１４Ａ上に設けられた部材である。セパレーター１９は、第１の多孔質構造体１１３Ａ上に設けられた部材である。

そして、セパレーター１８およびセパレーター１９のそれぞれの中央部には、凹部が設けられている。これらの凹部のそれぞれに、第２の多孔質構造体１１４Ａおよび第１の多孔質構造体１１３Ａがそれぞれ収容されている。なお、本実施例では、セパレーター１８およびセパレーター１９のそれぞれの凹部と水透過膜１１５とで区画された領域が、第１の除去器３００のカソードガス流路１１４および液体流路１１３のそれぞれを構成する。

また、セパレーター１８およびセパレーター１９の間には、平面視においてＭＥＡの周囲を囲むように設けられた環状かつ平板状の絶縁体２０が挟み込まれている。

このように、第１の除去ユニット３００Ａは、上記の水素ポンプユニット１００Ａと同様のセル構造で構成されていてもよい。

［電気化学式水素ポンプおよび第１の除去器の締結構成］
以下、図面を参照しながら、電気化学式水素ポンプ１００および第１の除去器３００の締結構成の一例を説明する。

図６、図７および図８に示すように、水素システム２００は、アノード絶縁板２３Ａおよびアノード端板２４Ａと、カソード絶縁板２３Ｃおよびカソード端板２４Ｃと、締結器２５と、を備える。

ここで、アノード絶縁板２３Ａおよびアノード端板２４Ａはこの順番に、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａにおける積層方向の一方の端に設けられている。カソード絶縁板２３Ｃおよびカソード端板２４Ｃはこの順番に、上記の積層方向の他方の端に設けられている。

締結器２５は、水素ポンプユニット１００Ａの各部材および第１の除去ユニット３００Ａの各部材、アノード給電板２２Ａ、アノード絶縁板２３Ａ、アノード端板２４Ａ、カソード給電板２２Ｃ、カソード絶縁板２３Ｃおよびカソード端板２４Ｃを上記の積層方向に締結する部材である。締結器２５は、このような各部材を上記の積層方向に締結することができれば、どのような構成であってもよい。

例えば、締結器２５として、ボルトおよび皿ばね付きナットなどを挙げることができる。

このとき、締結器２５のボルトは、アノード端板２４Ａおよびカソード端板２４Ｃのみを貫通するように構成してもよいが、本実施例の水素システム２００では、かかるボルトは、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａの各部材、アノード給電板２２Ａ、アノード絶縁板２３Ａ、アノード端板２４Ａ、カソード給電板２２Ｃ、カソード絶縁板２３Ｃおよびカソード端板２４Ｃを貫通している。そして、上記の積層方向において一方の端に位置するセパレーター１９の端面、および、上記の積層方向において他方の端に位置するセパレーター１８の端面をそれぞれ、アノード絶縁板２３Ａおよびカソード絶縁板２３Ｃのそれぞれを介して、アノード端板２４Ａおよびカソード端板２４Ｃのそれぞれで挟むようにして、締結器２５により水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａに所望の締結圧が付与されている。

以上により、本実施例の電気化学式水素ポンプ１００では、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａが、上記の積層方向において、締結器２５の締結圧により積層状態で適切に保持されるとともに、電気化学式水素ポンプ１００および第１の除去ユニット３００Ａの各部材を締結器２５のボルトが貫通しているので、これらの各部材の面内方向における移動を適切に抑えることができる。

［カソードガスの流路構成］
以下、図６を参照しながら、電気化学式水素ポンプ１００および第１の除去器３００におけるカソードガスの流路構成の一例を説明する。なお、図６では、カソードガスの流れの模式図が細い一点鎖線の矢印で示されている。

図６に示すように、水素システム２００は、カソードガス通過マニホールド５０と、カソードガス導出マニホールド５１と、を備える。

カソードガス通過マニホールド５０は、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａの各部材、アノード給電板２２Ａおよびカソード給電板２２Ｃのそれぞれの適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されている。そして、カソードガス通過マニホールド５０は、カソードセパレーター１６に設けられた第１カソードガス通過経路５４を介してカソードＣＡのカソードガス拡散層と連通するとともに、セパレーター１８に設けられた第２カソードガス通過経路５５を介してカソードガス流路１１４とも連通している。

カソードガス導出マニホールド５１は、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａの各部材、アノード給電板２２Ａ、カソード給電板２２Ｃ、カソード絶縁板２３Ｃおよびカソード端板２４Ｃの適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されている。つまり、カソード端板２４Ｃの連通孔には、カソードガス導出経路２６（図４参照）が接続され、これにより、カソードガス導出経路２６とカソードガス導出マニホールド５１とが連通している。カソードガス導出経路２６は、カソードガスが流通する配管で構成されていてもよい。そして、カソードガス導出マニホールド５１は、セパレーター１８に設けられた第３カソードガス通過経路５６を介してカソードガス流路１１４と連通している。

以上の構成により、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡで圧縮された高圧のカソードガスは、図６の一点鎖線の矢印で示す如く、第１カソードガス通過経路５４、カソードガス通過マニホールド５０、第２カソードガス通過経路５５、カソードガス流路１１４、第３カソードガス通過経路５６およびカソードガス導出マニホールド５１をこの順番に流通する。その後、カソードガスは、カソードガス導出経路２６を通じて水素システム２００外へ排出される。このとき、カソードガスが第１の除去ユニット３００Ａのカソードガス流路１１４を通過する際に、第１の除去ユニット３００Ａにおいてカソードガスに含まれる水分の除去が行われる。

なお、平面視の部材間の適所において、カソードガス通過マニホールド５０およびカソードガス導出マニホールド５１を囲むように、環状のシール部材（図示せず）が設けられ、カソードガス通過マニホールド５０およびカソードガス導出マニホールド５１が、かかるシール部材で適切にシールされている。

［水素含有ガスの流路構成］
以下、図７を参照しながら、水素ポンプユニット１００ＡのアノードＡＮに供給するアノード流体が水素含有ガスである場合における水素含有ガスの流路構成の一例を説明する。なお、図７では、水素含有ガスの流れの模式図が細い一点鎖線の矢印で示されている。

図７に示すように、水素システム２００は、アノードガス導入マニホールド４０と、アノードガス導出マニホールド４１と、を備える。

アノードガス導入マニホールド４０は、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａの各部材、アノード給電板２２Ａ、カソード給電板２２Ｃ、アノード絶縁板２３Ａおよびアノード端板２４Ａの適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されている。アノード端板２４Ａの連通孔には、アノードガス導入経路２９（図４参照）が接続され、これにより、アノードガス導入経路２９とアノードガス導入マニホールド４０とが連通している。アノードガス導入経路２９は、アノードＡＮに供給される水素含有ガスが流通する配管で構成されていてもよい。そして、アノードガス導入マニホールド４０は、アノードセパレーター１７に設けられた第１アノードガス通過経路４５を介してアノードＡＮのアノードガス拡散層と連通している。例えば、第１アノードガス通過経路４５と、アノードセパレーター１７に設けられたサーペンタイン状のアノードガス流路（図示せず）の一方の端部とが接続していてもよい。

アノードガス導出マニホールド４１は、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａの各部材、アノード給電板２２Ａ、カソード給電板２２Ｃ、カソード絶縁板２３Ｃおよびカソード端板２４Ｃの適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されている。カソード端板２４Ｃの連通孔には、アノードガス導出経路３１（図４参照）が接続され、これにより、アノードガス導出経路３１とアノードガス導出マニホールド４１とが連通している。アノードガス導出経路３１は、アノードＡＮから排出される水素含有ガスが流通する配管で構成されていてもよい。そして、アノードガス導出マニホールド４１は、アノードセパレーター１７に設けられた第２アノードガス通過経路４６を介してアノードＡＮのアノードガス拡散層と連通している。例えば、第２アノードガス通過経路４６と、アノードセパレーター１７に設けられたサーペンタイン状のアノードガス流路（図示せず）の他方の端部とが接続していてもよい。

以上の構成により、アノードガス導入経路２９からの水素含有ガスは、図７の一点鎖線の矢印で示す如く、アノードガス導入マニホールド４０、第１アノードガス通過経路４５、アノードＡＮ、第２アノードガス通過経路４６およびアノードガス導出マニホールド４１をこの順番に流通する。その後、水素含有ガスは、アノードガス導出経路３１を通じて水素ポンプユニット１００Ａ外へ排出される。このとき、水素含有ガスが水素ポンプユニット１００ＡのアノードＡＮを通過する際に、水素含有ガスの一部が、電解質膜１１に供給されることで、水素ポンプユニット１００Ａにおいて水素含有ガス中の水素の圧縮が行われる。

なお、平面視の部材間の適所において、アノードガス導入マニホールド４０およびアノードガス導出マニホールド４１を囲むように、環状のシール部材（図示せず）が設けられ、アノードガス導入マニホールド４０およびアノードガス導出マニホールド４１が、かかるシール部材で適切にシールされている。

［冷却水の流路構成］
以下、図８を参照しながら、第１の除去ユニット３００Ａの液体流路１１３に供給する液体が冷却水である場合における冷却水の流路構成の一例を説明する。なお、図８では、冷却水の流れの模式図が細い一点鎖線の矢印で示されている。

図８に示すように、水素システム２００は、液体導入マニホールド６０と、液体導出マニホールド６１と、を備える。

液体導入マニホールド６０は、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａの各部材、アノード給電板２２Ａ、カソード給電板２２Ｃ、アノード絶縁板２３Ａおよびアノード端板２４Ａの適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されている。アノード端板２４Ａの連通孔には、液体導入経路１１１（図４参照）が接続され、これにより、液体導入経路１１１と液体導入マニホールド６０とが連通している。液体導入経路１１１は、液体流路１１３に供給される冷却水が流通する配管で構成されていてもよい。そして、液体導入マニホールド６０は、セパレーター１９に設けられた第１液体通過経路６５を介して液体流路１１３と連通している。

液体導出マニホールド６１は、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａの各部材、アノード給電板２２Ａ、カソード給電板２２Ｃ、カソード絶縁板２３Ｃおよびカソード端板２４Ｃの適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されている。カソード端板２４Ｃの連通孔には、液体導出経路１１２（図４参照）が接続され、これにより、液体導出経路１１２と液体導出マニホールド６１とが連通している。液体導出経路１１２は、液体流路１１３から排出される冷却水が流通する配管で構成されていてもよい。そして、液体導出マニホールド６１は、セパレーター１９に設けられた第２液体通過経路６６を介して液体流路１１３と連通している。

以上の構成により、液体導入経路１１１からの冷却水は、図８の一点鎖線の矢印で示す如く、液体導入マニホールド６０、第１液体通過経路６５、液体流路１１３、第２液体通過経路６６および液体導出マニホールド６１をこの順番に流通する。その後、冷却水は、液体導出経路１１２を通じて第１の除去ユニット３００Ａ外へ排出される。

なお、平面視の部材間の適所において、液体導入マニホールド６０および液体導出マニホールド６１を囲むように、環状のシール部材（図示せず）が設けられ、液体導入マニホールド６０および液体導出マニホールド６１が、かかるシール部材で適切にシールされている。

なお、以上の電気化学式水素ポンプ１００および第１の除去器３００の一体的な構成は例示であって、本例に限定されない。

以上のとおり、本実施例の水素システム２００は、電気化学式水素ポンプ１００が、カソードＣＡ、電解質膜１１、およびアノードＡＮを含むセルを備える積層体であり、第１の除去器３００の第１の除去ユニット３００Ａがこの積層体と一体で積層されている。

これにより、本実施例の水素システム２００は、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａを積層することでシステム構成を簡素化することができる。例えば、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａでは、高圧のカソードガスが流通する。よって、仮に、水素ポンプユニットおよび第１の除去ユニットが別体に設けられる場合、水素ポンプユニットおよび第１の除去ユニットをそれぞれ固定するための高剛性の端板が必要であることが多い。

そこで、本実施例の水素システム２００は、第１の除去ユニット３００Ａを上記の積層体と一体で積層することにより、例えば、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａに使用する端板を、アノード端板２４Ａおよびカソード端板２４Ｃとして共用化することができるので、システム構成が簡素化する。

ところで、図６、図７および図８に示すように、本実施例の水素システム２００では、上下で一対の第１の除去ユニット３００Ａがそれぞれ、水素ポンプユニット１００Ａを上下から挟むように積層されている。これにより、本実施例の水素システム２００は、水素ポンプユニット１００Ａの部材間の接触抵抗の増加を簡易かつ適切に抑制し得る。この理由は、以下のとおりである。

仮に、第１の除去ユニットを水素ポンプユニット１００Ａの下方または上方のみから一体に積層する場合、第１の除去ユニットが積層されていない側の端板（アノード端板２４Ａまたはカソード端板２４Ｃ）に対して、水素ポンプユニット１００ＡのカソードＣＡで圧縮されるカソードガスの圧力が直接的に作用する。このとき、端板の剛性が十分でないと、第１の除去ユニットが積層されていない側の端板が外側に膨らむように変形する可能性がある。すると、このような変形に対して、カソードガス拡散層の弾性変形が追従できない場合、水素ポンプユニット１００Ａの部材間に隙間が発生することで、これらの部材間の接触抵抗が増加する場合がある。

これに対して、本実施例の水素システム２００では、上下で一対の第１の除去ユニット３００Ａをそれぞれ、水素ポンプユニット１００Ａの下方および上方のそれぞれから一体に積層しているので、上記の不都合を軽減することができる。つまり、図６に示すように、水素ポンプユニット１００ＡのカソードＣＡで圧縮されたカソードガスが、第１カソードガス通過経路５４、カソードガス通過マニホールド５０および第２カソードガス通過経路５５を通じて、上下で一対の第１の除去ユニット３００Ａのそれぞれのカソードガス流路１１４に供給される。このため、これらのカソードガス流路１１４内のガス圧が、水素ポンプユニット１００ＡのカソードＣＡ内のガス圧とほぼ同等の高圧になる。すると、カソードガス流路１１４内のカソードガスによって水素ポンプユニット１００Ａの各部材に付与される荷重は、カソードＣＡ内のガス圧に起因するこれらの部材の変形（たわみ）を上下から抑え込むように作用する。

よって、本実施例の水素システム２００は、第１の除去ユニット３００Ａを水素ポンプユニット１００Ａの下方または上方のみから一体に積層する場合に比べて、水素ポンプユニット１００Ａの部材間の隙間が発生しにくくなるので、これらの部材間の接触抵抗の増加を簡易かつ適切に抑制することができる。

なお、図６、図７および図８に示すように、本実施例の水素システム２００では、水透過膜１１５に通電をしていない。つまり、水透過膜１１５には、アノード絶縁板２３Ａおよびカソード絶縁板２３Ｃの存在により、電圧印加器１０２による電圧が印加されない。ここで、水透過膜１１５がプロトン伝導性の電解質膜１１で構成される場合、仮に、水透過膜１１５の両側に電気化学的な水素酸化反応、水素発生反応を促進する物質（例えば、白金など）を含む電極を設けて、水透過膜１１５の電極間に電流を流すと、電流に応じて水透過膜１１５内をプロトンが移動するとともに、例えば、水透過膜１１５で低圧の液体（例えば、水）の電気分解が発生する可能性がある。

そこで、本実施例の水素システム２００は、水透過膜１１５に対して通電しないように構成することで、このような可能性を低減することができる。

本実施例の水素システム２００は、上記の特徴以外は、第１実施形態および第１実施形態の第１実施例−第２実施例のいずれかの水素システム２００と同様であってもよい。

（第２実施形態）
［装置構成］
図９は、第２実施形態の水素システムの一例を示す図である。

図９に示す例では、水素システム２００は、電気化学式水素ポンプ１００と、第１の除去器３００と、第２の除去器４００と、を備える。

ここで、電気化学式水素ポンプ１００および第１の除去器３００は、第１実施形態の水素システム２００と同様であるので説明を省略する。

第２の除去器４００は、水透過膜１２５の一方の主面に第１の除去器３００を通過したカソードガスを流通させ、他方の主面にカソードガスよりも、ガス中に含まれる水蒸気の化学ポテンシャルが低い気体を流通させる装置である。なお、このような気体として、乾燥状態の空気などを挙げることができるが、これに限定されない。

第２の除去器４００は、カソードガスに含まれる水分の除去が可能な膜式の除去装置であれば、どのような構成であってもよい。

図９に示す例では、第２の除去器４００は、第１の除去器３００を通過した高圧のカソードガスが流通する流路１２４（以下、カソードガス流路１２４）と、低圧の気体が流通する流路１２３（以下、気体流路１２３）と、これらの流路１２３、１２４の間に設けられた水透過膜１２５と、備える。なお、第２の除去器４００には、カソードガス流路１２４にカソードガスを流通させるためのカソードガス導出経路２６と、気体流路１２３に気体を流通させるための気体導入経路１２１および気体導出経路１２２と、が設けられている。

水透過膜１２５は、カソードガス中の水素（Ｈ_２）の透過性が低く、カソードガス中の水分を透過させる膜であれば、どのような構成であってもよい。水透過膜１２５は、例えば、第１の除去器３００の水透過膜１１５と同様のスルホン酸基を含む高分子膜で構成されていてもよい。

なお、図９の電気化学式水素ポンプ１００、第１の除去器３００および第２の除去器４００が一体的に構成された水素システム２００の一例は実施例で説明する。

[動作]
以下、第２実施形態の水素システム２００の動作の一例について図面を参照しながら説明する。

なお、以下の動作は、例えば、図示しない制御器の演算回路が、制御器の記憶回路から制御プログラムを読み出すことにより行われてもよい。ただし、以下の動作を制御器で行うことは、必ずしも必須ではない。操作者が、その一部の動作を行ってもよい。また、以下では、アノード流体として水素含有ガスを用いる場合の水素システム２００の動作について説明する。

まず、電気化学式水素ポンプ１００のアノードＡＮに低圧の水素含有ガスが供給されるとともに、電圧印加器（図９では図示せず）の電圧が電気化学式水素ポンプ１００に印加される。すると、電気化学式水素ポンプ１００において、アノードＡＮに供給する水素含有ガスから取り出されたプロトンが、電解質膜１１を介してカソードＣＡに移動し、圧縮された水素が生成される水素圧縮動作が行われる。

なお、このような水素圧縮動作は、第１実施形態の電気化学式水素ポンプ１００の動作と同様であるので詳細な説明を省略する。

電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡで生成された水素は、水蒸気を含むカソードガスとして、カソードＣＡで圧縮される。例えば、図示しない流量調整器を用いて、カソードガス導出経路２６の圧損を増加させることにより、カソードＣＡでカソードガスを圧縮することができる。なお、流量調整器として、例えば、カソードガス導出経路２６に設けられた背圧弁、調整弁などを挙げることができる。

次に、流量調整器の圧損を低下させると、カソードガスが、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡからカソードガス導出経路２６を通じて電気化学式水素ポンプ１００外に排出される。

すると、第１の除去器３００では、水透過膜１１５の一方の主面に、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡから排出されるカソードガスが流通する。よって、第１の除去器３００において、水透過膜１１５の他方の主面にカソードガスより低圧の液体を流通させることで、カソードガスに含まれる水分の除去動作が行われる。なお、このとき、第１の除去器３００に流入する液体の温度は、第１の除去器３００に流入するカソードガスの温度よりも低くてもよい。

第２の除去器４００では、水透過膜１２５の一方の主面に第１の除去器３００を通過したカソードガスが流通する。よって、第２の除去器４００において、水透過膜１２５の他方の主面にカソードガスよりも、ガス中に含まれる水蒸気の化学ポテンシャルが低い気体を流通させることで、カソードガス中の水分の除去動作が行われる。

以上により、本実施形態の水素システム２００は、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡから排出されるカソードガス中の水分の除去を従来よりも効率的に行い得る。なお、第１の除去器３００によるカソードガスに含まれる水分の除去の作用効果は、第１実施形態の水素システム２００と同様であるので説明を省略する。

ここで、第１の除去器３００では、液体流路１１３に液体（例えば、水）が流通するので、図３の相対湿度が１００％の化学ポテンシャルのデータから理解できるように、カソードガス流路１１４を流通するカソードガスの相対湿度の低減に自ずと限界がある。つまり、第１の除去器３００のみを用いて、カソードガスの水分量が所望の低濃度まで低減するように、カソードガス中の水分を除去することが困難な場合がある。

そこで、本実施形態の水素システム２００は、第２の除去器４００を用いて、水透過膜１２５の他方の主面に、カソードガスよりも、ガス中に含まれる水蒸気の化学ポテンシャルが低い気体を流通させている。これにより、本実施形態の水素システム２００は、第１の除去器３００のみでカソードガス中の水分を除去する場合に比べて、カソードガスの水分量を低濃度まで低減することができる。

本実施形態の水素システム２００は、上記の特徴以外は、第１実施形態および第１実施形態の第１実施例−第３実施例のいずれかの水素システム２００と同様であってもよい。例えば、本実施形態の水素システム２００は、第１実施形態の第１実施例の水素システム２００と同様に、電気化学式水素ポンプ１００、第１の除去器３００および第２の除去器４００の他、リサイクル流路１４０、供給路１３０および水素源７００（図５参照）を備えてもよい。また、例えば、本実施形態の水素システム２００は、第１実施形態の第２実施例の水素システム２００と同様に、第２の除去器４００内の気体流路１２３に、上記の第１の多孔性構造体を設けてもよいし、第２の除去器４００内のカソードガス流路１２４に、水透過膜１２５と接するように第２の多孔性構造体を設けてもよい。

（実施例）
図１０および図１１は、第２実施形態の実施例の水素システムの一例を示す図である。本実施例の水素システム２００では、電気化学式水素ポンプ１００、第１の除去器３００および第２の除去器４００が一体的に構成されている。

なお、図１０には、平面視において水素システム２００の中心と、第１カソードガス通過マニホールド１５０Ａの中心と、第２カソードガス通過マニホールド１５０Ｂの中心と、を通過する直線を含む垂直断面が示されている。図１１には、平面視において水素システム２００中心と、気体導入マニホールド１６０の中心と、気体導出マニホールド１６１の中心と、を通過する直線を含む垂直断面が示されている。

ここで、平面視において水素システム２００の中心と、アノードガス導入マニホールドの中心と、アノードガス導出マニホールドの中心と、を通過する直線を含む垂直断面の図示は、第１実施形態の第３実施例で説明した図７の図示内容を参酌することで、容易に理解できるので省略する。つまり、図７の水素システム２００では、アノードガス導出マニホールド４１が、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａの各部材、アノード給電板２２Ａ、カソード給電板２２Ｃ、カソード絶縁板２３Ｃおよびカソード端板２４Ｃの適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されているが、本実施例の水素システム２００では、アノードガス導出マニホールドが、上記の部材の連通孔とともに、第２の除去器４００の各部材の適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されている。

同様に、平面視において水素システム２００の中心と、液体導入マニホールドの中心と、液体導出マニホールドの中心と、を通過する直線を含む垂直断面の図示は、第１実施形態の第３実施例で説明した図８の図示内容を参酌することで、容易に理解できるので省略する。つまり、図８の水素システム２００では、液体導出マニホールド６１が、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａの各部材、アノード給電板２２Ａ、カソード給電板２２Ｃ、カソード絶縁板２３Ｃおよびカソード端板２４Ｃの適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されているが、本実施例の水素システム２００では、液体導出マニホールドが、上記の部材の連通孔とともに、第２の除去器４００の各部材の適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されている。

さらに、本実施例の水素システム２００の電気化学式水素ポンプ１００の構成、第１の除去器３００の構成は、第１実施形態の第３実施例の水素システム２００と同様であるので説明を省略する。また、電気化学式水素ポンプ１００、第１の除去器３００および第２の除去器４００の締結構成、電気化学式水素ポンプ１００における水素含有ガスの流路構成、および、第１の除去器３００における冷却水の流路構成は、第１実施形態の第３実施例で説明した内容の参酌により、容易に理解できるので説明を省略する。

［第２の除去器の構成］
以下、図面を参照しながら、第２の除去器４００の構成の一例を説明する。

図１０および図１１に示すように、水素システム２００は、第２の除去器４００の第２の除去ユニット４００Ａを備える。

なお、図１０および図１１に示す例では、第２の除去器４００には、１個の第２の除去ユニット４００Ａが示されているが、第２の除去ユニット４００Ａの個数は、本例に限定されない。また、第２の除去ユニット４００Ａが、カソード絶縁板２３Ｃと上方の第１の除去ユニット３００Ａとの間に設けられているが、第２の除去ユニット４００Ａの配置は、本例に限定されない。第２の除去ユニットは、例えば、アノード絶縁板２３Ａと下方の第１の除去ユニット３００Ａとの間に設けられていてもよい。

第２の除去ユニット４００Ａは、水透過膜１２５と、第１の多孔質構造体１２３Ａと、第２の多孔質構造体１２４Ａと、セパレーター１１８と、セパレーター１１９と、絶縁体１２０と、を備える。

水透過膜１２５は、上記のとおり、カソードガス中の水素（Ｈ_２）の透過性が低く、カソードガス中の水分を透過させる膜であれば、どのような構成であってもよい。なお、このような水透過膜１２５として、例えば、電解質膜１１と同様の材料により構成されるプロトン（Ｈ^＋）を透過可能なプロトン伝導性の高分子膜を用いることができる。つまり、水透過膜１２５として、例えば、プロトン伝導性の高分子膜に使用可能な、フッ素系高分子膜、炭化水素系高分子膜などを挙げることができるが、これらに限定されない。

第１の多孔質構造体１２３Ａは、水透過膜１２５と接するように気体流路１２３内に設けられている。第１の多孔質構造体１２３Ａは、第２の除去器４００のカソードガス流路１２４（高圧）と気体流路１２３（低圧）との差圧で発生する水透過膜１２５の変位、変形を抑制可能な高剛性であることが望ましい。なお、このような第１の多孔質構造体１２３Ａの基材は、例えば、アノードガス拡散層と同様の金属材料で構成されていてもよい。

第２の多孔質構造体１２４Ａは、水透過膜１２５と接するようにカソードガス流路１２４内に設けられている。第２の多孔質構造体１２４Ａは、第２の除去器４００のカソードガス流路１２４（高圧）と気体流路１２３（低圧）との差圧で発生する水透過膜１２５の変位、変形に適切に追従するような弾性を備える方が望ましい。なお、このような第２の多孔質構造体１２４Ａの基材は、例えば、カソードガス拡散層と同様の金属材料で構成されていてもよい。

セパレーター１１８は、第２の多孔質構造体１２４Ａ上に設けられた部材である。セパレーター１１９は、第１の多孔質構造体１２３Ａ上に設けられた部材である。

そして、セパレーター１１８およびセパレーター１１９のそれぞれの中央部には、凹部が設けられている。これらの凹部のそれぞれに、第２の多孔質構造体１２４Ａおよび第１の多孔質構造体１２３Ａがそれぞれ収容されている。なお、本実施例では、セパレーター１１８およびセパレーター１１９のそれぞれの凹部と水透過膜１２５とで区画された領域が、第２の除去器４００のカソードガス流路１２４および気体流路１２３のそれぞれを構成する。

また、セパレーター１１８およびセパレーター１１９の間には、平面視においてＭＥＡの周囲を囲むように設けられた環状かつ平板状の絶縁体１２０が挟み込まれている。

このように、第２の除去ユニット４００Ａは、上記の水素ポンプユニット１００Ａと同様のセル構造で構成されていてもよい。

［カソードガスの流路構成］
以下、図１０を参照しながら、電気化学式水素ポンプ１００、第１の除去器３００および第２の除去器４００におけるカソードガスの流路構成の一例を説明する。なお、図１０では、カソードガスの流れの模式図が細い一点鎖線の矢印で示されている。

図１０に示すように、水素システム２００は、第１カソードガス通過マニホールド１５０Ａと、第２カソードガス通過マニホールド１５０Ｂと、カソードガス導出マニホールド１５１と、を備える。

第１カソードガス通過マニホールド１５０Ａは、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３００Ａの各部材、アノード給電板２２Ａおよびカソード給電板２２Ｃのそれぞれの適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されている。そして、第１カソードガス通過マニホールド１５０Ａは、カソードセパレーター１６に設けられた第１カソードガス通過経路５４を介してカソードＣＡのカソードガス拡散層と連通するとともに、セパレーター１８に設けられた第２カソードガス通過経路５５を介してカソードガス流路１１４とも連通している。

第２カソードガス通過マニホールド１５０Ｂは、水素ポンプユニット１００Ａ、第１の除去ユニット３００Ａおよび第２の除去ユニット４００Ａの各部材、アノード給電板２２Ａおよびカソード給電板２２Ｃのそれぞれの適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されている。そして、第２カソードガス通過マニホールド１５０Ｂは、セパレーター１８に設けられた第３カソードガス通過経路５６を介してカソードガス流路１１４と連通するとともに、セパレーター１１８に設けられた第４カソードガス通過経路５７を介してカソードガス流路１２４とも連通している。

カソードガス導出マニホールド１５１は、水素ポンプユニット１００Ａのセパレーター１１８、カソード絶縁板２３Ｃおよびカソード端板２４Ｃの適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されている。カソード端板２４Ｃの連通孔には、カソードガス導出経路２６（図１０参照）が接続され、これにより、カソードガス導出経路２６とカソードガス導出マニホールド１５１とが連通している。カソードガス導出経路２６は、カソードガスが流通する配管で構成されていてもよい。そして、カソードガス導出マニホールド１５１は、セパレーター１１８に設けられた第５カソードガス通過経路５８を介してカソードガス流路１２４と連通している。

なお、図１０に示す例では、第１カソードガス通過マニホールド１５０Ａの中心と、カソードガス導出マニホールド１５１の中心とが同一の直線上を通るように、第１カソードガス通過マニホールド１５０Ａおよびカソードガス導出マニホールド１５１が、セパレーター１１９および絶縁体１２０を介して設けられているが、これらの配置は、本例に限定されない。

以上の構成により、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡで圧縮された高圧のカソードガスは、図１０の一点鎖線の矢印で示す如く、第１カソードガス通過経路５４、第１カソードガス通過マニホールド１５０Ａ、第２カソードガス通過経路５５、カソードガス流路１１４、第３カソードガス通過経路５６および第２カソードガス通過マニホールド１５０Ｂをこの順番に流通する。その後、カソードガスは、第４カソードガス通過経路５７、カソードガス流路１２４、第５カソードガス通過経路５８およびカソードガス導出マニホールド１５１を流通した後、カソードガス導出経路２６を通じて水素システム２００外へ排出される。このとき、カソードガスが、第１の除去ユニット３００Ａのカソードガス流路１１４および第２の除去ユニット４００Ａのカソードガス流路１２４をこの順に通過する際に、第１の除去ユニット３００Ａおよび第２の除去ユニット４００Ａにおいてカソードガス中の水分の除去が行われる。

なお、平面視の部材間の適所において、第１カソードガス通過マニホールド１５０Ａ、第２カソードガス通過マニホールド１５０Ｂおよびカソードガス導出マニホールド１５１を囲むように、環状のシール部材（図示せず）が設けられ、第１カソードガス通過マニホールド１５０Ａ、第２カソードガス通過マニホールド１５０Ｂおよびカソードガス導出マニホールド１５１が、かかるシール部材で適切にシールされている。

［気体の流路構成］
以下、図１１を参照しながら、第２の除去ユニット４００Ａの気体流路１２３に供給する気体（例えば、乾燥した空気）の流路構成の一例を説明する。なお、図１１では、気体の流れの模式図が細い一点鎖線の矢印で示されている。

図１１に示すように、水素システム２００は、気体導入マニホールド１６０と、気体導出マニホールド１６１と、を備える。

気体導入マニホールド１６０は、水素ポンプユニット１００Ａ、第１の除去ユニット３００Ａおよび第２の除去ユニット４００Ａの各部材、アノード給電板２２Ａ、カソード給電板２２Ｃ、アノード絶縁板２３Ａおよびアノード端板２４Ａの適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されている。アノード端板２４Ａの連通孔には、気体導入経路１２１（図９参照）が接続され、これにより、気体導入経路１２１と気体導入マニホールド１６０とが連通している。気体導入経路１２１は、気体流路１２３に供給される気体が流通する配管で構成されていてもよい。そして、気体導入マニホールド１６０は、セパレーター１１９に設けられた第１気体通過経路６７を介して気体流路１２３と連通している。

気体導出マニホールド１６１は、水素ポンプユニット１００Ａ、第１の除去ユニット３００Ａおよび第２の除去ユニット４００Ａの各部材、アノード給電板２２Ａ、カソード給電板２２Ｃ、カソード絶縁板２３Ｃおよびカソード端板２４Ｃの適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されている。カソード端板２４Ｃの連通孔には、気体導出経路１２２（図９参照）が接続され、これにより、気体導出経路１２２と気体導出マニホールド１６１とが連通している。気体導出経路１２２は、気体流路１２３から排出される気体が流通する配管で構成されていてもよい。そして、気体導出マニホールド１６１は、セパレーター１１９に設けられた第２気体通過経路６８を介して気体流路１２３と連通している。

以上の構成により、気体導入経路１２１からの気体は、図１１の一点鎖線の矢印で示す如く、気体導入マニホールド１６０、第１気体通過経路６７、気体流路１２３、第２気体通過経路６８および気体導出マニホールド１６１をこの順番に流通する。その後、気体は、気体導出経路１２２を通じて第２の除去ユニット４００Ａ外へ排出される。

なお、平面視の部材間の適所において、気体導入マニホールド１６０および気体導出マニホールド１６１を囲むように、環状のシール部材（図示せず）が設けられ、気体導入マニホールド１６０および気体導出マニホールド１６１が、かかるシール部材で適切にシールされている。

なお、以上の電気化学式水素ポンプ１００、第１の除去器３００および第２の除去器４００の一体的な構成は例示であって、本例に限定されない。

以上のとおり、本実施例の水素システム２００は、電気化学式水素ポンプ１００が、カソードＣＡ、電解質膜１１、およびアノードＡＮを含むセルを備える積層体であり、第１の除去器３００の第１の除去ユニット３００Ａおよび第２の除去器４００の第２の除去ユニット４００Ａが、この積層体と一体で積層されている。

これにより、本実施例の水素システム２００は、水素ポンプユニット１００Ａ、第１の除去ユニット３００Ａおよび第２の除去ユニット４００Ａを積層することでシステム構成を簡素化することができる。例えば、水素ポンプユニット１００Ａおよび第２の除去ユニット４００Ａでは、高圧のカソードガスが流通する。よって、仮に、水素ポンプユニットおよび第２の除去ユニットが別体に設けられる場合、水素ポンプユニットおよび第２の除去ユニットをそれぞれ固定するための高剛性の端板が必要であることが多い。

そこで、本実施例の水素システム２００は、第２の除去ユニット４００Ａを上記の積層体と一体で積層することにより、例えば、水素ポンプユニット１００Ａおよび第２の除去ユニット４００Ａに使用する端板を、アノード端板２４Ａおよびカソード端板２４Ｃとして共用化することができるので、システム構成が簡素化する。

なお、図１０および図１１に示すように、本実施例の水素システム２００では、水透過膜１１５および水透過膜１２５に通電をしていない。つまり、水透過膜１１５および水透過膜１２５には、アノード絶縁板２３Ａおよびカソード絶縁板２３Ｃの存在により、電圧印加器１０２による電圧が印加されない。かかる構成の理由は、第１実施形態の第３実施例で説明した内容と同様である。

本実施例の水素システム２００は、上記の特徴以外は、第１実施形態、第１実施形態の第１実施例−第３実施例および第２実施形態のいずれかの水素システム２００と同様であってもよい。

（第３実施形態）
図１２は、第３実施形態の水素システムの一例を示す図である。

図１２に示す例では、水素システム２００は、電気化学式水素ポンプ１００と、第１の除去器３００と、第３の除去器５００と、を備える。

ここで、電気化学式水素ポンプ１００および第１の除去器３００は、第１実施形態の水素システム２００と同様であるので説明を省略する。

第３の除去器５００は、第１の除去器３００を通過したカソードガス中の水分を除去する吸着材を含む装置である。第３の除去器５００は、このような吸着材を使用した除去装置であれば、どのような構成であってもよい。第３の除去器５００の吸着材は、カソードガス中の水蒸気などの水分を吸着除去する材料であれば、どのような材料で構成されていてもよい。吸着材の材料として、例えば、ゼオライト、シリカゲルなどの多孔質材料を挙げることができる。なお、このような吸着材が乾燥している間は水分の吸着が行われるが、やがて、吸着材の水分吸着性能が、水分が吸着することで低下するので、吸着材の交換または再生が必要となる。

上記のとおり、第１の除去器３００のみを用いて、カソードガスの水分量が所望の低濃度（例えば、約５ｐｐｍ程度）まで低減するように、カソードガス中の水分を除去することが困難な場合がある。

そこで、本実施形態の水素システム２００は、第１の除去器３００を通過したカソードガス中の水分を第３の除去器５００の吸着材を用いて簡易に除去している。

また、本実施形態の水素システム２００は、第１の除去器３００により除去できなかったカソードガスに含まれる水分のみを第３の除去器５００の吸着材で吸着除去すればよい。これにより、本実施形態の水素システム２００は、第１の除去器３００でカソードガス中の水分を除去しない場合に比べて、吸着材で吸着する単位時間あたりの水分量を減らすことができる。すると、第３の除去器５００内の吸着材の充填量を少なくしても、第３の除去器５００の吸着材の水分吸着性能を所望の期間、適切に維持することができるので、第３の除去器５００の小型化、低コスト化を図ることができる。

また、本実施形態の水素システム２００は、第３の除去器５００で水分が除去されたカソードガス（水素）を貯蔵する水素貯蔵器（図示せず）が設けられていてもよい。水素貯蔵器として、例えば、水素タンクなどを挙げることができる。なお、水素貯蔵器に貯蔵された乾燥状態のカソードガス（水素）は、適時に、水素消費体に供給される。水素消費体として、例えば、燃料電池などを挙げることができる。

本実施形態の水素システム２００は、上記の特徴以外は、第１実施形態、第１実施形態の第１実施例−第３実施例、第２実施形態および第２実施形態の実施例のいずれかの水素システム２００と同様であってもよい。例えば、本実施形態の水素システム２００は、第１実施形態の第１実施例の水素システム２００と同様に、電気化学式水素ポンプ１００、第１の除去器３００および第３の除去器５００の他、リサイクル流路１４０、供給路１３０および水素源７００（図５参照）を備えてもよい。また、例えば、本実施形態の水素システム２００は、第１の除去器３００と第３の除去器５００との間に、第２実施形態で説明した第２の除去器４００（図９参照）が設けられていてもよい。

（第４実施形態）
第４実施形態の水素システム２００は、以下に説明する第１の除去器３０１の構成以外は、第１実施形態の水素システム２００と同様である。

第１の除去器３０１は、水透過膜１１５と、水透過膜１１５の一方の主面に設けられ、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡから排出されるカソードガスが流通する流路（以下、カソードガス流路１１４）と、水透過膜１１５の他方の主面上に設けられ、カソードガスより低圧の液体が満ちている収容部と、を含み、カソードガスに含まれる水分を除去する装置である。なお、カソードガス中の水分は、カソードガスに含まれる液水を含む。第１の除去器３０１で除去される水分は、例えば、カソードガスから凝縮した凝縮水を含む。この凝縮水は、カソードガス導出経路２６のうちの電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡから第１の除去器３０１までの流路、または、第１の除去器３０１内のカソードガス流路１１４で生成される。

第１の除去器３０１は、カソードガスに含まれる水分の除去が可能な膜式の除去装置であれば、どのような構成であってもよい。

例えば、図１３に示すように、第１の除去器３０１は、カソードガス流路１１４と、容器１７０と、カソードガス流路１１４および容器１７０の間に設けられた水透過膜１１５と、容器１７０内の液体を排出する排出路１７１と、を備えてもよい。つまり、この場合、容器１７０が、上記の収容部に相当する。そして、排出路１７１は、容器の内外を連通するように延伸している。

次に、本実施形態の水素システム２００の動作の一例について図面を参照しながら説明する。

なお、以下の動作は、例えば、図示しない制御器の演算回路が、制御器の記憶回路から制御プログラムを読み出すことにより行われてもよい。ただし、以下の動作を制御器で行うことは、必ずしも必須ではない。操作者が、その一部の動作を行ってもよい。

まず、電気化学式水素ポンプ１００のアノードＡＮに低圧の水素含有ガスが供給されるとともに、電圧印加器（図１３では図示せず）の電圧が電気化学式水素ポンプ１００に印加される。すると、電気化学式水素ポンプ１００において、アノードＡＮに供給する水素含有ガスから取り出されたプロトンが、電解質膜１１を介してカソードＣＡに移動し、圧縮された水素が生成されるステップ（水素圧縮動作）が行われる。なお、このような水素圧縮動作は、第１実施形態と同様であるので、詳細な説明を省略する。

次に、カソードガス導出経路２６に設けられた上記の流量調整器の圧損を低下させると、カソードガスが、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡからカソードガス導出経路２６を通じて電気化学式水素ポンプ１００外に排出される。

すると、第１の除去器３０１において、圧縮された水素を含むカソードガスから水分を、水透過膜１１５を介して容器１７０内の低圧の液体に移動させるステップが行われる。具体的には、第１の除去器３０１では、水透過膜１１５の一方の主面に、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡから排出されるカソードガスが流通する。よって、第１の除去器３０１において、カソードガスよりも低圧の液体を水透過膜１１５の他方の主面に設けられた容器１７０に満たすことで、カソードガスに含まれる水分の除去動作が行われる。このとき、上記の水分は、カソードガス中に含まれる液水を含む。この水分は、例えば、カソードガスから凝縮した凝縮水を含む。この凝縮水は、カソードガス導出経路２６のうちの電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡから第１の除去器３０１までの流路、または、第１の除去器３０１内のカソードガス流路１１４で生成される。また、液体の温度は、第１の除去器３０１に流入するカソードガスの温度よりも低くてもよい。また、排出路１７１において、容器１７０内の液体を排出するステップが行われてもよい。

なお、水素システム２００の運転時には、容器１７０に液体が満ちてなく、容器１７０が空の状態であってもよい。例えば、水素システム２００の運転が行われることで、凝縮水が、水透過膜１１５を介してカソードガスから容器１７０内に移動する。これにより、容器１７０内を満水状態にすることができる。

以上により、本実施形態の水素システム２００および水素システム２００の運転方法は、電気化学式水素ポンプ１００のカソードＣＡから排出されるカソードガスに含まれる水分の除去を従来よりも効率的に行い得る。

なお、本実施形態の水素システム２００および水素システム２００の運転方法が奏する作用効果は、第１実施形態の水素システム２００および水素システム２００の運転方法が奏する作用効果と同様であるので詳細な説明を省略する。

本実施形態の水素システム２００および水素システム２００の運転方法は、上記の特徴以外は、第１実施形態、第１実施形態の第１実施例−第３実施例、第２実施形態、第２実施形態の実施例および第３実施形態のいずれかと同様であってもよい。例えば、本実施形態の水素システム２００は、第２実施形態で説明した第２の除去器４００（図９参照）、第３実施形態で説明した第３の除去器５００（図１２参照）などが設けられていてもよい。

（実施例）
図１４は、第４実施形態の実施例の水素システムの一例を示す図である。本実施例の水素システム２００では、電気化学式水素ポンプ１００および第１の除去器３０１が一体的に構成されている。

なお、図１４には、平面視において水素システム２００の中心と、排水マニホールド１７１Ａの中心と、通過する直線を含む垂直断面が示されている。また、図１４には、「上」および「下」が、同図の如く取られており、重力が、上から下に作用するものとする。

ここで、平面視において水素システム２００の中心と、カソードガス通過マニホールド５０の中心と、カソードガス導出マニホールド５１の中心と、を通過する直線を含む垂直断面の図示は、第１実施形態の第３実施例で説明した図６の図示内容を参酌することで、容易に理解できるので省略する。

同様に、平面視において水素システム２００の中心と、アノードガス導入マニホールド４０の中心と、アノードガス導出マニホールド４１の中心と、を通過する直線を含む垂直断面の図示は、第１実施形態の第３実施例で説明した図７の図示内容を参酌することで、容易に理解できるので省略する。

さらに、本実施例の水素システム２００の電気化学式水素ポンプ１００の構成は、第１実施形態の第３実施例の水素システム２００と同様であるので説明を省略する。また、電気化学式水素ポンプ１００および第１の除去器３０１の締結構成、および、電気化学式水素ポンプ１００におけるカソードガスおよび水素含有ガスの流路構成は、第１実施形態の第３実施例で説明した内容の参酌により、容易に理解できるので説明を省略する。

［第１の除去器の構成］
以下、図面を参照しながら、第１の除去器３０１の構成の一例を説明する。

図１４に示すように、水素システム２００は、アノード給電板２２Ａおよびカソード給電板２２Ｃのそれぞれを介して、水素ポンプユニット１００Ａを挟むように設けられた上下で一対の第１の除去器３０１の第１の除去ユニット３０１Ａを備える。

なお、図１４に示す例では、第１の除去器３０１のそれぞれには、１個の第１の除去ユニット３０１Ａが示されているが、第１の除去ユニット３０１Ａの個数は、本例に限定されない。また、上下で一対の第１の除去器３０１のそれぞれは、同一構成の第１の除去ユニット３０１Ａを備える。

第１の除去ユニット３０１Ａは、水透過膜１１５と、第１の多孔質構造体１７０Ａと、第２の多孔質構造体１１４Ａと、セパレーター１８と、セパレーター１９と、絶縁体２０と、を備える。

ここで、水透過膜１１５、第２の多孔質構造体１１４Ａ、セパレーター１８、絶縁体２０は、第１実施形態の第３実施例と同様であるので説明を省略する。

本実施例の水素システム２００では、セパレーター１９の凹部と水透過膜１１５とで区画された領域（空間）が、容器１７０の内部に相当する。そして、この領域に、第１の多孔質構造体１７０Ａが設けられている。なお、第１の多孔質構造体１７０Ａの構成は、第１実施形態の第３実施例で説明した第１の多孔質構造体１１３Ａと同様であるので説明を省略する。

以上の第１の除去器３０１の構成は、例示であって、本例に限定されない。例えば、セパレーター１９の凹部と水透過膜１１５とで区画された領域に、多孔質構造体を設けなくてもよい。

［排出路の流路構成］
以下、図１４を参照しながら、第１の除去ユニット３０１Ａの容器１７０から排出される液体が水である場合における排出路１７１（排水路）の流路構成の一例を説明する。なお、図１４では、水の流れの模式図が細い一点鎖線の矢印で示されている。

図１４に示すように、水素システム２００は、排水マニホールド１７１Ａを備える。

排水マニホールド１７１Ａは、水素ポンプユニット１００Ａおよび第１の除去ユニット３０１Ａの各部材、アノード給電板２２Ａ、カソード給電板２２Ｃ、アノード絶縁板２３Ａおよびアノード端板２４Ａの適所に設けられた連通孔の連なりによって構成されている。アノード端板２４Ａの連通孔には、排水経路１７２が接続され、これにより、排水経路１７２と排水マニホールド１７１Ａとが連通している。排水経路１７２は、容器１７０から排水される水が流通する配管で構成されていてもよい。そして、排水マニホールド１７１Ａは、セパレーター１９に設けられた水通過経路１７１Ｂを介して容器１７０の内部と連通している。このような水通過経路１７１Ｂは、水透過膜１１５の他方の主面側に接触するセパレーター１９の主面に設けられた連通溝で構成されていてもよい。

なお、平面視の部材間の適所において、排水マニホールド１７１Ａを囲むように、環状のシール部材（図示せず）が設けられ、排水マニホールド１７１Ａが、かかるシール部材で適切にシールされている。

以上の構成により、容器１７０内の水は、図１４の一点鎖線の矢印で示す如く、水通過経路１７１Ｂおよび排水マニホールド１７１Ａをこの順番に流通する。その後、水は、排水経路１７２を通じて水素システム２００外へ排水される。例えば、水素システム２００の運転が開始すると、カソードガス中の水蒸気から凝縮した凝縮水が、水透過膜１１５を介して容器１７０内に移動する。これにより、容器１７０内が満水状態になると、容器１７０内の水が、水通過経路１７１Ｂを通じて排水マニホールド１７１Ａに送られる。すると、この水は、重力の作用により排水マニホールド１７１Ａ内を下方に流れた後、排水経路１７２に移動する。このようにして、本実施例では、排水マニホールド１７１Ａおよび水通過経路１７１Ｂが、容器１７０内の液体（水）を排出する排出路１７１を構成している。

なお、以上の電気化学式水素ポンプ１００および第１の除去器３０１の一体的な構成は例示であって、本例に限定されない。

以上のとおり、本実施例の水素システム２００は、電気化学式水素ポンプ１００が、カソードＣＡ、電解質膜１１、およびアノードＡＮを含むセルを備える積層体であり、第１の除去器３０１の第１の除去ユニット３０１Ａがこの積層体と一体で積層されている。なお、本実施例の水素システム２００が奏する作用効果の詳細は、第１実施形態の第３実施例の水素システム２００が奏する作用効果と同様であるので説明を省略する。

本実施例の水素システム２００は、上記の特徴以外は、第１実施形態、第１実施形態の第１実施例−第３実施例、第２実施形態、第２実施形態の実施例、第３実施形態および第４実施形態のいずれかの水素システム２００と同様であってもよい。

第１実施形態、第１実施形態の第１実施例−第３実施例、第２実施形態、第２実施形態の実施例、第３実施形態、第４実施形態および第４実施形態の実施例は、互いに相手を排除しない限り、互いに組み合わせてもよい。

また、上記の説明から、当業者にとっては、本開示の多くの改良および他の実施形態が明らかである。従って、上記の説明は、例示としてのみ解釈されるべきであり、本開示を実行する最良の態様を当業者に教示する目的で提供されたものである。本開示の精神を逸脱することなく、その動作条件、組成、構造および／または機能を実質的に変更できる。例えば、水素システム２００は、水電解装置などの他の圧縮器を備える場合であってもよい。

本開示の一態様は、例えば、圧縮器のカソードから排出されるカソードガスに含まれる水分の除去を従来よりも効率的に行い得る水素システムおよび水素システムの運転方法に利用することができる。

１１ ：電解質膜
１６ ：カソードセパレーター
１７ ：アノードセパレーター
１８ ：セパレーター
１９ ：セパレーター
２０ ：絶縁体
２１ ：絶縁体
２２Ａ ：アノード給電板
２２Ｃ ：カソード給電板
２３Ａ ：アノード絶縁板
２３Ｃ ：カソード絶縁板
２４Ａ ：アノード端板
２４Ｃ ：カソード端板
２５ ：締結器
２６ ：カソードガス導出経路
２９ ：アノードガス導入経路
３１ ：アノードガス導出経路
４０ ：アノードガス導入マニホールド
４１ ：アノードガス導出マニホールド
４５ ：第１アノードガス通過経路
４６ ：第２アノードガス通過経路
５０ ：カソードガス通過マニホールド
５１ ：カソードガス導出マニホールド
５４ ：第１カソードガス通過経路
５５ ：第２カソードガス通過経路
５６ ：第３カソードガス通過経路
５７ ：第４カソードガス通過経路
５８ ：第５カソードガス通過経路
６０ ：液体導入マニホールド
６１ ：液体導出マニホールド
６５ ：第１液体通過経路
６６ ：第２液体通過経路
６７ ：第１気体通過経路
６８ ：第２気体通過経路
１００ ：電気化学式水素ポンプ
１００Ａ ：水素ポンプユニット
１０２ ：電圧印加器
１１１ ：液体導入経路
１１２ ：液体導出経路
１１３ ：液体流路
１１３Ａ ：第１の多孔質構造体
１１４ ：カソードガス流路
１１４Ａ ：第２の多孔質構造体
１１５ ：水透過膜
１１８ ：セパレーター
１１９ ：セパレーター
１２０ ：絶縁体
１２１ ：気体導入経路
１２２ ：気体導出経路
１２３ ：気体流路
１２３Ａ ：第１の多孔質構造体
１２４ ：カソードガス流路
１２４Ａ ：第２の多孔質構造体
１２５ ：水透過膜
１３０ ：供給路
１４０ ：リサイクル流路
１５０Ａ ：第１カソードガス通過マニホールド
１５０Ｂ ：第２カソードガス通過マニホールド
１５１ ：カソードガス導出マニホールド
１６０ ：気体導入マニホールド
１６１ ：気体導出マニホールド
１７０ ：容器
１７０Ａ ：第１の多孔質構造体
１７１ ：排出路
１７１Ａ ：排水マニホールド
１７１Ｂ ：水通過経路
１７２ ：排水経路
２００ ：水素システム
３００ ：第１の除去器
３０１ ：第１の除去器
３００Ａ ：第１の除去ユニット
３０１Ａ ：第１の除去ユニット
４００ ：第２の除去器
４００Ａ ：第２の除去ユニット
５００ ：第３の除去器
７００ ：水素源
ＡＮ ：アノード
ＣＡ ：カソード

Claims (19)

1. アノードに供給するアノード流体から取り出されたプロトンが、電解質膜を介してカソードに移動し、圧縮された水素が生成される圧縮器と、
   水透過膜、前記水透過膜の一方の主面上に設けられ、前記圧縮器のカソードから排出されるカソードガスが流通するカソードガス流路、および前記水透過膜の他方の主面上に設けられ、前記カソードガスより低圧の液体が満ちている収容部を含み、前記カソードガスに含まれる水分を除去する第１の除去器と、を備える水素システム。
2. 前記第１の除去器に前記収容部内の液体を排出する排出路を備える、請求項１に記載の水素システム。
3. 前記収容部は、前記液体が流れる流路である、請求項１または２に記載の水素システム。
4. 前記液体の温度は、前記第１の除去器に流入する前記カソードガスの温度よりも低い請求項１−３のいずれか１項に記載の水素システム。
5. 前記液体が、水を含む請求項１−４のいずれか１項に記載の水素システム。
6. 前記第１の除去器から排出された前記液体を、再び前記第１の除去器に供給するためのリサイクル流路を備える、請求項１−５のいずれか１項に記載の水素システム。
7. 前記液体は水を含み、前記アノード流体は水素含有ガスであり、前記第１の除去器から排出された前記液体を前記アノードに供給される前記水素含有ガスに供給する供給路を備える、請求項１−４、および６のいずれか１項に記載の水素システム。
8. 前記水透過膜が、スルホン酸基を含む高分子膜である請求項１−７のいずれか１項に記載の水素システム。
9. 前記水透過膜に通電をしない請求項１−８のいずれか１項に記載の水素システム。
10. 前記第１の除去器内の前記液体が流れる流路に、第１の多孔性構造体が設けられる請求項３に記載の水素システム。
11. 前記カソードガス流路に、前記水透過膜と接するように第２の多孔性構造体が設けられる請求項１−１０のいずれか１項に記載の水素システム。
12. 前記圧縮器が、前記カソード、前記電解質膜、および前記アノードを含むセルを備える積層体であり、前記第１の除去器が前記積層体と一体で積層されている請求項１−１１のいずれか１項に記載の水素システム。
13. 水透過膜の一方の主面に前記第１の除去器を通過した前記カソードガスを流通させ、他方の主面に前記カソードガスよりも、ガス中に含まれる水蒸気の化学ポテンシャルが低い気体を流通させる第２の除去器を備える請求項１−１２のいずれか１項に記載の水素システム。
14. 前記第１の除去器を通過した前記カソードガス中の水分を除去する吸着材を含む第３の除去器を備える請求項１−１３のいずれか１項に記載の水素システム。
15. アノードに供給するアノード流体から取り出されたプロトンが、電解質膜を介してカソードに移動し、圧縮された水素が生成されるステップと、
    圧縮された水素を含むカソードガスから水分を、水透過膜を介して収容部内に満ちている低圧の液体に移動させるステップと、を備える水素システムの運転方法。
16. 前記収容部内の液体を排出するステップを備える、請求項１５に記載の水素システムの運転方法。
17. 前記収容部は、前記液体が流れる流路である、請求項１５または１６に記載の水素システムの運転方法。
18. 前記液体の温度は、前記カソードガスの温度よりも低い請求項１５−１７のいずれか１項に記載の水素システムの運転方法。
19. 前記液体が、水を含む請求項１５−１８のいずれか１項に記載の水素システムの運転方法。

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