JP6509091B2 - 波長変換積層フィルム - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置のバックライト等に用いられる波長変換積層フィルムに関する。

液晶表示装置（以下、ＬＣＤともいう。）は、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。また、近年の液晶表示装置において、さらなる省電力化、色再現性向上等が求められている。

ＬＣＤに対する省電力化の要求に伴って、バックライト（バックライトユニット）における光利用効率を高め、また、色再現性を向上させるために、入射光の波長を変換して出射する量子ドット（Ｑｕａｎｔｕｍ Ｄｏｔ、ＱＤ、量子点とも呼ばれる。）を発光材料（蛍光体）として含んだ波長変換層を利用することが提案されている。

量子ドットとは、三次元全方向において移動方向が制限された電子の状態のことであり、半導体のナノ粒子が、高いポテンシャル障壁で三次元的に囲まれている場合に、このナノ粒子は量子ドットとなる。量子ドットは種々の量子効果を発現する。例えば、電子の状態密度（エネルギー準位）が離散化される「量子サイズ効果」が発現する。この量子サイズ効果によれば、量子ドットの大きさを変化させることで、光の吸収波長や発光波長を制御できる。

一般的に、量子ドットは、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の樹脂からなるマトリックスに分散される。マトリックス中に量子ドットを含んでなる量子ドット層は、例えば、波長変換を行う量子ドットフィルムとして、励起光源と液晶パネルとの間に配置されて用いられる。
励起光源から量子ドットフィルムに励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、青色光の半値幅の狭い光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が狭いため、波長を適切に選択することにより、得られる白色光を高輝度にしたり、色再現性に優れる設計にしたりすることが可能である。

一方で、量子ドットには、酸素等によって劣化しやすく、光酸化反応により発光強度が低下するという問題がある。そのため、量子ドットフィルムとしては、量子ドット層の両主面にガスバリアフィルムを積層して量子ドット層を保護した積層フィルムが用いられている。
しかしながら、量子ドット層の両面をガスバリアフィルムで挟持するのみでは、ガスバリアフィルムで覆われていない端面から量子ドット層に酸素や水分が入り込み、量子ドットが劣化するという問題がある。
そのため、量子ドット層の両面に加え、量子ドット層の周辺もガスバリアフィルム等で封止することが提案されている。

例えば、特許文献１には、量子ドット蛍光体を濃度０．０〜２０質量％の範囲でシク口オレフィン(共)重合体に分散させた組成物が記載されており、量子ドットが分散された樹脂成型体の全面を被覆するガスバリア層を有する構成が記載されている。また、このガスバリア層は、樹脂層とその樹脂層の少なくとも一方の面にシリカ膜またはアルミナ膜を形成して構成されることが記載されている。

特許文献２には、発光量子ドット（ＱＤ）集団を含むリモート蛍光体フィルムを備えるディスプレイバックライトユニットが記載されており、ＱＤ蛍光体材料を２つのガスバリアフィルムで挟み、ＱＤ蛍光体材料の周囲周辺の２つのガスバリアフィルムに挟まれた領域にガスバリア性を有する不活性領域を有する構成が記載されている。
特許文献３には、光源部から発せられた色光の少なくとも一部を他の色光に変換する色変換層と、色変換層を封止する不透水性の封止シートとを備えた発光装置が記載されており、蛍光体層（色変換層）の外周に沿って、すなわち蛍光体層の平面形状を囲むように枠形状に設けられている第２貼合層を有し、この第２貼合層がガスバリア性を有する接着材料からなる構成が記載されている。

さらに、特許文献４には、量子ドット層（波長変換部）と、量子ドット層を密封するシリコーン等からなる密封部材を有する量子点波長変換体において、量子ドット層を密封部材で挟み、かつ、量子ドット層の周辺において密封部材同士を貼着する構成が記載されている。

国際公開第２０１２／１０２１０７号 特表２０１３−５４４０１８号公報 特開２００９−２８３４４１号公報 特開２０１０−６１０９８号公報

ところで、ＬＣＤに用いられる量子ドット層は５μｍ〜３５０μｍ程度の薄型のフィルムである。特許文献１において、量子ドット蛍光体分散樹脂成型体としては、これほど薄型のフィルムは想定されておらず、このような薄型のフィルムに特許文献１の手法を適用して、フィルムの全面をガスバリア層で被覆するのは非常に困難であり、生産性が悪いという問題があった。

一方、特許文献２および３のように、２つのガスバリアフィルムで挟まれた、量子ドット層の端面領域に、ガスバリア性を有する保護層を形成する構成の場合、いわゆるダムフィル方式の積層フィルムは、一方のガスバリアフィルム上の周縁部分に保護層を形成した後に、保護層に囲まれた領域内に樹脂層を形成し、その後、保護層および樹脂層上に、他方のガスバリアフィルムを積層して作製される。このような作製法によれば、保護層の幅、すなわち額縁部分が大きくなり、それに伴って量子ドット層形成領域が狭くなり、発光領域として有効に利用できる領域が小さくなるという問題があった。

また、特許文献４のように、量子ドット層を挟む２つのガスバリアフィルムの端部の開口を狭くして、量子ドット層を密封する構成では、端部での量子ドット層の厚さが中央部分と比較して薄くなってしまうため、端部での発光効率が低下する。すなわち、特許文献２、３の場合と同様に、発光領域として有効に利用できる領域が狭くなり、発光領域として利用できない、額縁部分が大きくなってしまうという問題があった。また、一般に、高いガスバリア性を備えるバリア層は、硬く脆い。そのようなバリア層を有するガスバリアフィルムを、端部封止のために、端部領域で急に湾曲させると、バリア層が割れてしまい、ガスバリア性が低下するという問題があった。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、量子ドット層等の酸素により劣化する蛍光体を有する積層フィルムにおいて、端面から酸素等の侵入によって、蛍光体が劣化することを防止できる波長変換積層フィルムを提供することにある。

本発明の波長変換積層フィルムは、蛍光体を含む波長変換層と、その波長変換層の両主面にそれぞれ積層されたガスバリア層とを有する積層体、および
積層体の端面のうち少なくとも波長変換層の端面を覆う端面封止層を備え、
その端面封止層は、積層体の端面側から、その端面に接触する第１の金属層、樹脂層および第２の金属層をこの順で含むことを特徴とする。

ここで、「ガスバリア層」とは、酸素透過度が１０cc/(m²・day・atm)以下の層をいうものであり、単層であってもよいし、支持体を含む複数層の積層構造を有するものであってもよい。

本発明の波長変換積層フィルムにおいては、第２の金属層が樹脂層の外表面を覆って形成されていることが好ましい。

また、本発明の波長変換積層フィルムにおいては、樹脂層が、第１の金属層と第２の金属層とにより覆われていることが好ましい。

本発明の波長変換積層フィルムにおいては、端面封止層が、積層体の端面を覆っていることが好ましい。

本発明の波長変換積層フィルムにおいては、第１の金属層の厚みが０．０１μｍ〜１μｍであることが好ましく、また、第１の金属層が気相成膜層であることが好ましい。

本発明の波長変換積層フィルムにおいては、樹脂層の酸素透過度が５０cc/(m²・day・atm)以下であることが好ましい。

本発明の波長変換積層フィルムにおいては、樹脂層に金属ナノ粒子が含まれており、第２の金属層が、無電解メッキ層であることが好ましい。

本発明の波長変換積層フィルムにおいては、蛍光体が量子ドットであることが好ましい。

本明細書において、「〜面を覆う」とは、〜面の全域を覆うことを意味する。例えば、端面を覆うとは、その端面全域を覆うことを意味する。

本発明の波長変換積層フィルムは、蛍光体を含む波長変換層がその両主面にそれぞれ積層されたガスバリア層を備え、少なくとも波長変換層の端面を覆う端面封止層を備え、端面封止層が、端面に接触する第１の金属層、樹脂層および第２の金属層をこの順で含む。かかる構成によれば、ガスバリア層および端面封止層により波長変換層への酸素の侵入を効果的に抑制することができる。波長変換層への酸素の侵入を抑制することにより、波長変換層中の蛍光体の発光特性の劣化を抑制することができる。

本発明の波長変換積層フィルムの一例の構成を模式的に示す断面図である。 本発明の波長変換積層フィルムの一例の構成を模式的に示す平面図である。 本発明の波長変換積層フィルムに用いられるガスバリア層の一例を模式的に示す断面図である。 本発明の波長変換積層フィルムの他の一例の構成を模式的に示す断面図である。 本発明の波長変換積層フィルムのさらに他の一例の構成を模式的に示す断面図である。 本発明の波長変換積層フィルムの製造方法を説明するための模式図である。 （Ａ）は、本発明の波長変換積層フィルムの製造方法の他の一例を説明する模式図であり、（Ｂ）は、樹脂層の他の一例の模式図である。 本発明の波長変換積層フィルムの製造方法のさらに他の一例を説明する模式図である。

以下、本発明の波長変換積層フィルムについて、図面を参照して説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

[波長変換積層フィルム]
図１および図２は、本発明の波長変換積層フィルムの一例の構成を模式的に示す断面図および平面図である。
図１に示す波長変換積層フィルム（以下において、積層フィルム）１は、蛍光体１１を含む波長変換層１０と、波長変換層１０の両面（両主面）にそれぞれ積層されたガスバリア層２０とを積層してなる積層体５、および、その積層体５の端面５ａを覆う端面封止層３０を備えている。ここで、端面封止層３０は、積層体５の端面５ａ側から、第１の金属層３２と、樹脂層３４と、第２の金属層３６とがこの順で形成されてなる。ここで、積層体５の端面５ａとは、波長変換層１０の端面１０ａと２枚のガスバリア層２０の端面２０ａを含むものである。

ガスバリア層２０は酸素透過度が１０cc/(m²・day・atm）以下の層であり、波長変換層１０の両主面はこのガスバリア層２０により保護されて酸素の侵入が防止されている。
そして、図２に示すように、積層フィルム１は、四角形の主面を有し、積層体５の４つの端面５ａの全てに端面封止層３０が備えられている。積層フィルム１は、このような端面封止層３０を有することにより、波長変換層１０のガスバリア層２０で覆っていない端面１０ａからの酸素等の侵入が抑制されている。
このように、波長変換層１０への酸素の侵入がガスバリア層２０と端面封止層３０により抑制されているので、波長変換層１０中の蛍光体１１の発光機能が劣化するのを抑制することができる。

図３および図４は、本発明の波長変換積層フィルムの他の一例およびさらに他の一例を模式的に示す断面図である。これらは、端面封止層の構成が図１に示す積層フィルム１と異なる。

図１の積層フィルム１において、端面封止層３０は積層体５の端面５ａ全域を覆うように形成されている。しかしながら、本発明において端面封止層は、図３に示す積層フィルム２の端面封止層３０Ａのように、積層体５の端面５ａのうち少なくとも波長変換層１０の端面１０ａを覆うように形成されていればよい。図３に示す端面封止層３０Ａでは第１の金属層３２は波長変換層１０の端面１０ａを覆っているが、ガスバリア層２０の端面２０ａは覆っていない。このような構成であっても、波長変換層１０への酸素の侵入を抑制する効果を得ることができる。

また、図１および図３に示す積層フィルム１および２のように、第２の金属層３６は、樹脂層３４の外表面（積層体端面５ａ側の面以外の面）を覆って形成されていることが好ましい。しかし、図４に示す積層フィルム３の端面封止層３０Ｂのように、必ずしも第２の金属層３６が樹脂層３４の外表面全域に形成されていなくても構わない。図４に示す例では端面封止層３０Ｂにおいて、積層フィルム３の主面に面一となっている樹脂層３４の端面３４ｂは、樹脂層３４の外表面の一部であるが、第２の金属層３６に覆われておらず露出している。なお、酸素の侵入をより効果的に防止する観点からは図１および図３に示すように、樹脂層３４の外表面が第２の金属層３６により覆われていることが好ましい。特に、図１に示すように樹脂層３４が第１の金属層３２と第２の金属層３６とにより覆われた、すなわち樹脂層３４が第１の金属層３２および第２の金属層３６により内包された構成が最も酸素侵入防止効果が高く好ましい。

以下、端面封止層３０、３０Ａ、３０Ｂについて、より詳細に説明する。以下においては特に区別する必要がない場合には、端面封止層３０、３０Ａ、３０Ｂを単に端面封止層３０と表記する。

＜端面封止層＞
既述の通り、端面封止層３０は、積層体５の端面５ａ側から、第１の金属層３２と、樹脂層３４と、第２の金属層３６とをこの順で形成されてなるものである。
積層フィルム１は、このような端面封止層３０を有することにより、ガスバリア層２０で覆われていない端面１０ａから波長変換層１０に酸素等が侵入して、量子ドット等の光学的な機能を発現する部材を劣化させることを防止する。

前述のとおり、従来、量子ドット層等の波長変換層に酸素が侵入したり水分が浸入したりするのを防止する構成として、波長変換層の全面をガスバリアフィルムで被覆する構成や、波長変換層の両面をガスバリアフィルムで挟持し、端面領域を樹脂層で封止するダムフィル方式や、波長変換層を挟む２つのガスバリアフィルムの端部の開口を狭くして密封する構成等が検討されていた。
しかしながら、これらの構成では、十分なガスバリア性を確保できず、また、額縁部分が大きくなったり、生産性が悪くなったりする等の問題があった。

これに対して、本発明者らは、量子ドット層等の波長変換層をガスバリア層で挟んで形成される積層フィルムにおいて、波長変換層の端面から酸素や水分が入り込むのを抑制し、かつ、額縁部分を小さくして量子ドット層を有効に利用できる領域を大きくできる構成として、積層体の端面に、ガスバリア性を有する封止層を設けて端面を封止する構成を検討した。
このような封止層として、高いガスバリア性を有する無機膜を気相成膜によって、積層体の端面に直接、形成することを検討した。一方で、積層体の端面に直接、無機膜を形成すると、ピンホール等の欠陥が生じ十分なガスバリア性を得られない場合があることがわかった。

そこで、本発明においては、積層体の端面を封止する端面封止層として、積層体の端面側からその端面に接して配置された第１の金属層、樹脂層および第２の金属層をこの順で含む構成とした。本発明の波長変換積層フィルムの端面封止層においては、積層体の端面に直接形成した第１の金属層に生じるピンホール等の欠陥が樹脂層により埋め込まれており、また、表面が平坦な樹脂層の表面に第２の金属層を備える。第２の金属層は積層体の端面と比較して平坦性の高い樹脂層の上に形成されるため、成膜時におけるピンホール等の欠陥の発生が少ない。したがって、第２の金属層によるガスバリア性は非常に高く、酸素や水分による波長変換層の劣化を効果的に防止できる。

なお、図１および２に示した積層フィルム１は、好ましい態様として、波長変換層１０とガスバリア層２０とからなる積層体５の４つの端面５ａが全て端面封止層３０により封止されているが、本発明は、これに限定はされない。
すなわち、本発明の積層フィルムは、例えば、積層フィルム１の平面形状が四角形状である場合、４つの端面のうち対向する２つの端面にのみ端面封止層を設けてもよく、１端面を残して３つの端面に端面封止層を設けてもよい。また、積層体５の各端面５ａの波長変換層の端面１０ａのみを覆うように端面封止層を設けてもよい。これらは、積層フィルムが利用されるバックライトユニットの構成、積層フィルムの取付け部の構成等に応じて、適宜、設定すればよい。
しかしながら、積層体５の端面から侵入する酸素等による量子ドットの劣化等、波長変換層１０の劣化をより好適に防止できる等の点で、端面封止層３０は、積層体５の端面５ａ上に可能な限り大きな面積で形成されていることが好ましく、図１に示す積層フィルム１のように、積層体５の全ての端面５ａの全域に設けられていることが特に好ましい。

なお、図１に示す例では、端面封止層３０は、樹脂層３４の表面に第２の金属層３６が直接設けられている構成であるが、図４に示す端面封止層３０Ｂのように、樹脂層３４の表面にさらに第２の金属層３６を形成するための下地層３５を備えてもよい。
また、端面封止層は、さらに、他の層を有していてもよい。例えば、第２の金属層３６上に、第２の金属層３６を保護する目的やガスバリア性をより向上する目的で樹脂層を有していてもよい。このような樹脂層は酸素透過度が５０cc/(m²・day・atm）以下であるのが好ましい。
また、端面封止層は、金属層を３層以上有していてもよい。例えば、第２の金属層３６上に樹脂層を有し、この樹脂層上にさらに第３の金属層を有していてもよい。このように金属層と樹脂層とを交互に積層する回数が増加するほど、酸素侵入の抑制効果を高めることができる。

端面封止層３０を第１の金属層３２、樹脂層３４および第２の金属層３６の積層構造とすることで、端面封止層３０の酸素透過度を、１×１０^-2［cc/(m²・day・atm)］以下とすることができる。
積層体５の端面５ａに、酸素透過度が低い、すなわち、ガスバリア性が高い端面封止層３０を形成することで、波長変換層１０への酸素の侵入や水分の浸入をより好適に防止して波長変換層１０の劣化をより好適に防止することができる。

また、端面封止層３０は、積層体５の端面５ａのみに形成され、積層体５の主面への回りこみが少ないことが好ましい場合がある。理由としては、回り込みが大きいと、主面上での端面封止層３０の盛り上がりにより積層フィルム１全体の平坦性が損なわれるおそれがあること、端面封止層３０の回りこみ部分が遮光層として働くことによって、積層フィルム１端部に非発光領域が生じ、額縁部分が大きくなり、有効に利用可能な面積が小さくなること等が挙げられる。
上述する観点から、端面封止層３０の積層体５の主面への回り込みは１ｍｍ以下であることが好ましく、０．５ｍｍ以下であることがより好ましく、回りこみ部分の存在が目視困難となる０．１ｍｍ以下であることが特に好ましい。端面封止層３０の回り込み量は、例えば、積層フィルムを大和光機工業株式会社製リトラトームＲＥＭ−７１０などで断面切削し、その断面を光学顕微鏡で観察することで測定できる。

第１の金属層３２は、例えば、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）および白金（Ｐｔ）のいずれか、もしくはこれらの２種以上の金属からなる合金から構成することができる。スパッタ法や蒸着法等の気相法により成膜することが好ましい。特には、スパッタ法により形成することが好ましい。すなわち、第１の金属層３２は気相成膜層であることが好ましく、スパッタ膜であることが特に好ましい。また、第１の金属層の厚みは０．０１μｍ〜１μｍであることが好ましい。なお、第１の金属層は単層であってもよいし、異なる金属からなる複数層から構成されていてもよい。

積層体５の端面５ａに直接形成される第１の金属層３２は、既述の通り端面５ａの平坦さが十分でないこと等によりピンホールが生じることが多い。したがって第１の金属層３２のみではこのピンホールから酸素等が波長変換層中に入り込み、発光特性の劣化を十分に抑制することができない場合がある。ここで、ピンホールとは、金属層を光学顕微鏡で観察した際に見られる、大きさ１μｍ以上の非被覆部（金属層３２の欠落部分）を意味し、その形状は円、多角形、線状など任意の形である。

樹脂層３４は第１の金属層３２の表面に形成される。図１および図３に示す積層フィルムの端面封止層３０、３０Ａにおいては、樹脂層３４中に後述の金属ナノ粒子３１が分散されている。

前述のとおり、樹脂層３４を有することで、第１の金属層３２中のピンホールを樹脂により埋め込み、ピンホールからの酸素等の侵入を抑制することができる。さらに、第２の金属層３６を形成する面を平滑にすることができ、これにより、第２の金属層３６にピンホール等の欠陥が発生することを防止して、金属層３６によるガスバリア性を確実に発現することができる。

樹脂層３４の厚さは、１μｍ〜１００μｍが好ましく、５μｍ〜５０μｍがより好ましい。
本発明者らの検討によれば、樹脂層３４の厚さが１μｍ以上あれば、第２の金属層３６を形成する際に、下層の平滑化を担保できピンホール等の欠陥を抑制することが可能となることがわかった。
また、樹脂層３４の厚さが１００μｍ以下であれば、樹脂層３４を形成する際の、樹脂層３４となる材料の硬化収縮に起因して、第１の金属層３２との密着性が低下することなく形成できることがわかった。

また、図４に示す例のように、樹脂層３４が一部外気に露出する構成や、図３に示すように、樹脂層３４がガスバリア層２０の後述する支持体部分と直接接触する構成の場合、樹脂層３４および樹脂層３４が充填された第１の金属層３２のピンホールが酸素の侵入経路となりえるので、樹脂層３４の酸素透過度は低い方が好ましい。
具体的には、樹脂層３４の酸素透過度は、５０cc/(m²・day・atm）以下であるのが好ましく、１０cc/(m²・day・atm）以下がより好ましく、５cc/(m²・day・atm）以下がさらに好ましい。なお、樹脂層３４の酸素透過度の下限には、特に限定はなく、基本的に、低い程、好ましい。ここで、上記酸素透過率は、測定温度２３℃、相対湿度９０％の条件下で、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡ ２/２０：商品名）を用いて測定した値である。

上記の通り、樹脂層３４は、酸素の侵入経路となりえるため、図１に示すように端面封止層としては、樹脂層３４が第１の金属層３２および第２の金属層３６で覆われていることが特に好ましい。このような構成であれば、樹脂層３４の酸素透過度が十分に低くなくても波長変換層への酸素の侵入を十分に抑制することが可能である。

なお、図１に示す例では、積層体５の端面５ａの延在方向に垂直な断面における、樹脂層３４の形状（以下、樹脂層の断面形状ともいう）は、略半円状である構成としたが、これに限定はされず、円の一部からなる形状であってもよく、半楕円形状、半角丸長方形状（半長円形状）、または、これらの形状の一部からなる形状、あるいは、図４に示すように、略矩形状であってもよい。

樹脂層３４を形成する樹脂材料には限定はないが、酸素透過度が５０cc/(m²・day・atm）以下となる樹脂層３４を形成可能な公知の樹脂材料であるのが好ましい。

ここで、樹脂層３４は、樹脂材料（モノマー、ダイマー、トリマー、オリゴマー、ポリマー等）、必要に応じて添加される架橋剤や界面活性剤などの添加剤、有機溶剤等を含む組成物を調製して、この組成物を樹脂層３４の形成面に塗布し、組成物を乾燥し、必要に応じて紫外線照射や加熱等によって樹脂材料を重合（架橋・硬化）して形成するのが好ましい。

樹脂層３４を形成するための組成物は、重合性化合物を含有し、あるいはさらに、水素結合性化合物を含有するのが好ましい。なお、重合性化合物とは、重合性を有する化合物であり、水素結合性化合物とは、水素結合性を有する化合物である。
ここで、樹脂層３４を形成するための組成物が含有する重合性化合物および水素結合性化合物は、親水度ｌｏｇＰが４以下であるのが好ましく、３以下であるのがより好ましい。
なお、本発明において、親水度を示すｌｏｇＰ値とは、１−オクタノール／水の分配係数の対数値をいうものである。ｌｏｇＰ値は、フラグメント法、原子アプローチ法等を用いて計算により算出することができる。本明細書に記載のｌｏｇＰ値は、化合物の構造からCambridge Soft社製ChemBioDraw Ultra12.0を用いて計算されるｌｏｇＰ値である。第１の金属層３２との密着力を、より高くするためには、樹脂層３４は、疎水性の化合物で形成するのが好ましい。

一方、周知のように、化合物は、親水度ｌｏｇＰが低い方ほど親水性が高い。すなわち、第１の金属層３２との密着力が強い樹脂層３４を形成するためには、主体となる重合性化合物や水素結合性化合物は、親水度ｌｏｇＰが高い方が好ましい。
その半面、疎水性の高い化合物からなる樹脂は、酸素透過性が高く、樹脂層の酸素透過度という点では、主体となる重合性化合物や水素結合性化合物は、親水度ｌｏｇＰが低い方が好ましい。

従って、樹脂層３４を、親水度ｌｏｇＰが４以下の重合性化合物および水素結合性化合物を用いて形成することにより、適度な疎水性によって第１の金属層３２との高い密着力を確保しつつ、酸素透過度が十分に低い樹脂層３４を形成することができる。

なお、酸素透過度の点では、重合性化合物および水素結合性化合物は、親水度ｌｏｇＰは低い方が好ましい。しかしながら、親水度ｌｏｇＰが低すぎると、親水性が高すぎてしまい、樹脂層３４と第１の金属層３２との密着力が弱くなってしまい、樹脂層３４の耐久性が低下してしまうことも懸念される。
この点を考慮すると、重合性化合物および水素結合性化合物の親水度ｌｏｇＰは、０．０以上が好ましく、０．５以上がより好ましい。

樹脂層３４を形成する組成物は、組成物の固形分全量を１００質量部とした際に、水素結合性化合物を３０質量部以上含有するのが好ましく、４０質量部以上含有するのが好ましい。
なお、組成物の固形分全量とは、組成物から有機溶剤を除いた、形成される樹脂層３４に残るべき成分の全量である。
樹脂層３４を形成する組成物の固形分が、水素結合性化合物を３０質量部以上含有することにより、分子間の相互作用を強くして、酸素透過性を低くできる。

水素結合とは、分子中で水素原子よりも電気陰性度が高い原子と共有結合している水素原子が、同じ分子中または異なる分子中の原子または原子群との間で引力的相互作用によって作る非共有結合性の結合をいう。
水素結合性を有する官能基とは、このような水素結合を生じさせることのできる水素原子を含む官能基である。具体的には、ウレタン基、ウレア基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミド基またはシアノ基等が挙げられる。
これらの官能基を有する化合物としては、具体的には、トリレンジイソシアナート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアナート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアナート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアナート（ＩＰＤＩ）、水素添加ＭＤＩ（ＨＭＤＩ）等のジイソシアナートと、ポリ（プロピレンオキサイド）ジオール、ポリ（テトラメチレンオキサイド）ジオール、エトキシ化ビスフェノールＡ、エトキシ化ビスフェノールＳスピログリコール、カプロラクトン変性ジオール、カーボネートジオール等のポリオール、および、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のヒドロキシアクリレートとを反応させて得られるモノマー、オリゴマーが例示される。
また、エポキシ基を有する化合物に、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＳ型、ビスフェノールＦ型、エポキシ化油型、フェノールノボラック型等の化合物を反応させて得られるエポキシ化合物や、脂環型エポキシに、アミン化合物、酸無水物等を反応させて得られるエポキシ化合物も例示される。
さらに、前述のエポキシ化合物のカチオン重合物、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ブテンジオール−ビニルアルコール共重合体、ポリアクリロニトリル等も例示される。
中でも、硬化収縮が小さく積層フィルムとの密着に優れる観点から、エポキシ基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物を反応させて得られる化合物が好ましい。

さらに、樹脂層３４を形成する組成物は、組成物の固形分全量を１００質量部とした際に、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、グリシジル基、オキセタン基、脂環式エポキシ基から少なくとも１つ選ばれる重合性官能基を有する重合性化合物を５質量部以上含有するのが好ましく、これらの重合性官能基を有する重合性化合物を１０質量部以上含有するのがより好ましい。
樹脂層３４を形成する組成物の固形分が、（メタ）アクリロイル基等から少なくとも１つ選ばれる重合性官能基を有する重合性化合物を５質量部以上含有することにより、高温高湿下での耐久性に優れる樹脂層３４を実現できる。

（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物としては、具体的には、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が例示される。
また、グリシジル基、オキセタン基、脂環エポキシ基等を有する重合性化合物としては、具体的には、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル等が例示される。

また、本発明において、（メタ）アクリロイル基やグリシジル基を有する重合性化合物は、市販品も好適に利用可能である。
これらの重合性化合物を含む市販品としては、三菱ガス化学社製のマクシーブ、ＥＶＯＮＩＫ社製のＮａｎｏｐｏｘ４５０、Ｎａｎｏｐｏｘ５００、Ｎａｎｏｐｏｘ６３０、荒川化学工業社製のコンポセラン１０２などのシリーズ、東レ・ファインケミカル社製のフレップ、チオコールＬＰ、ヘンケル・ジャパン社製のロックタイトＥ−３０ＣＬなどのシリーズ、Ｅｐｏｘｙ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製のＥＰＯ−ＴＥＸ３５３ＮＤなどのシリーズ等が好適に例示される。

樹脂層３４を形成する組成物は、必要に応じて、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、グリシジル基、オキセタン基、脂環式エポキシ基を含まない重合性組成物を含有してもよい。
ただし、樹脂層３４を形成する組成物において、これらの官能基を含まない重合性化合物は、組成物の固形分全量を１００質量部とした際に、３質量部以下とするのが好ましい。

なお、第２の金属層３６をメッキで形成するための下地層としての機能（導電性）を付与するために、樹脂層３４には、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）および白金（Ｐｔ）のいずれか、またはこれらのうちの２種以上の合金からなる金属ナノ粒子３１を含むことが特に好ましい。

なお、樹脂層３４が金属ナノ粒子等の無機物の粒子を含有することにより、樹脂層３４の酸素透過度をより低くでき、端面１０ａから侵入する酸素等に起因する波長変換層１０の劣化を、より効果的に防止できる。

樹脂層３４に分散する無機物粒子の大きさには、限定は無く、樹脂層３４の厚さ等に応じて、適宜、設定すればよい。樹脂層３４に分散する無機物粒子の大きさ（最大長）は、樹脂層３４の厚さ未満であるのが好ましく、特に、小さいほど有利である。
なお、樹脂層３４に分散する無機物粒子の大きさは、均一でも不均一でもよい。

樹脂層３４における無機物粒子の含有量は、無機物粒子の大きさ等に応じて、適宜、設定すればよい。
本発明者らの検討によれば、樹脂層３４における無機物粒子の含有量は、５０質量％以下が好ましく、１０〜３０質量％がより好ましい。すなわち、前述の樹脂層３４を形成する組成物において、組成物の固形分全量を１００質量部とした際に、無機物粒子の含有量が５０質量部以下であるのが好ましく、１０〜３０質量部であるのがより好ましい。

無機物粒子による樹脂層３４の酸素透過度の低減効果は、無機物粒子の含有量が多いほど高くなるが、無機物粒子の含有量を１０質量％以上とすることにより、無機物粒子の添加効果をより好適に得て、酸素透過度が小さい樹脂層３４を形成できる。
樹脂層３４における無機物粒子の含有量を５０質量％以下とすることにより、樹脂層３４の密着性や耐久性を十分にできる、積層フィルムを裁断や打ち抜きする際にクラックが発生することを抑制できる等の点で好ましい。

樹脂層３４に分散する無機物粒子としては、既述の金属粒子の他、シリカ粒子およびアルミナ粒子等の金属酸化物からなる粒子であってもよい。

−第２の金属層−
第２の金属層３６は、端面封止層３０において、主にガスバリア性を発現する層であり、樹脂層３４の全面（積層体５の端面に接する面以外の全面）を覆って形成される。
第２の金属層３６の形成材料としては、金属であれば限定はないが、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法、および、金属メッキ処理のいずれかの方法により形成される金属層であるのが好ましい。
具体的には、第２の金属層３６の形成材料は、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、錫、銅、銀、および、金からなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金であるのが好ましい。

中でも、第２の金属層３６を厚く形成することができ高いガスバリア性を確保できる、生産性が高い、樹脂層３４の表面が曲面であっても容易に均一な厚さで樹脂層３４の全面に形成できる等の観点から、第２の金属層３６は、金属メッキ処理により形成されるのが好ましい。すなわち、第２の金属層３６は、無電解メッキ層であることが特に好ましい。
第２の金属層３６を形成する金属メッキ処理の方法は、電解メッキ処理、無電解メッキ処理等の公知の方法が利用可能である。中でも、メッキ液に浸漬するのみで容易に均一な厚さで形成でき、形成が容易である等の観点から、無電解メッキ処理で形成するのがより好ましい。
無電解メッキ処理での形成に適した金属材料としては、ニッケル、銅、錫、金等が挙げられる。

金属層３６の厚さは、ガスバリア性の確保、生産性等の観点から、０．０５μｍ〜１００μｍとするのが好ましく、１μｍ〜２０μｍとするのがより好ましい。

また、第２の金属層３６は、ガスバリア性を確保する観点から、ピンホールが少ないことが好ましい。ピンホールの定義は上述の通りであり、ピンホールの数は５０個／ｍｍ²以下であることが好ましく、２０個／ｍｍ²以下であることがより好ましく、５個／ｍｍ²以下であることが特に好ましい。ピンホール数は少なければ少ないほど好ましく、下限値は特にない。

また、本発明の波長変換積層フィルムにおいては、図４の例の端面封止層のように、第２の金属層３６の形成方法に応じて、必要な場合には、樹脂層３４の表面に下地層３５を設けてもよい。第２の金属層３６を電解メッキ処理もしくは無電解メッキ処理により形成する場合、第２の金属層３６の形成面は導電性を有するものであることを要する。
例えば、金属層３６を電解メッキ処理によって形成する場合には、電解メッキ処理の際に電極（カソード）として作用する部材として、高い導電性を有する下地層３５を設ける。
また、金属層３６を無電解メッキ処理によって形成する場合にも、積層体５の端面と無電解メッキ処理により形成されるメッキとの密着性を高くするために、高い導電性を有する下地層３５を設ける。
なお、樹脂層３４が金属ナノ粒子を含有して導電性を有するものである場合には、下地層は不要である。

このような高い導電性を有する下地層３５は、その形成方法および材料に限定はなく、金属ナノ粒子等の高い導電性を有する微粒子が分散された導電性塗料を塗布する方法で形成される、導電性粒子を含有する樹脂層や、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法等により形成される、金属等の高い導電性を有する層が挙げられる。
下地層３５の材料として用いられる導電性塗料としては、パラジウムコロイド（核触媒）等を主成分としたメッキプライマーなどが例示される。
また、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法で形成可能な層の形成材料としては、アルミニウム、チタン、クロム、銅、および、ニッケルからなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金であるのが好ましく、アルミニウム、チタン、クロムからなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金が特に好ましい。イオン化傾向が高い金属（アルミニウム、チタン、クロム）を用いることで樹脂との界面において金属酸化物、金属窒化物が形成されやすいため密着性が高くなると推測している。

形成が容易である等の点で、下地層３５は、導電性塗料を塗布する方法で形成するのが好ましい。

下地層３５の厚さは、第２の金属層３６を適正に形成できれば限定はないが、樹脂層３４と第２の金属層３６との密着性や被覆性等の観点から、０．１μｍ〜１．０μｍが好ましい。

以下、積層体５の各要素である波長変換層１０およびガスバリア層２０について詳細に説明する。

[波長変換層]
波長変換層１０は、励起光の照射を受けて蛍光を発する波長変換機能を有する層で、あり、例えば、四角形の平面形状を有するシート状物である。
波長変換層１０は、車載などの高温高湿等の様々な環境下での使用が想定されるＬＣＤ等に利用され、かつ、酸素による光学特性の劣化が大きな問題となる量子ドットなどの蛍光体１１を含む層である。より具体的には、多数の蛍光体１１がマトリックス１２中に分散されてなる層である。そして、例えば、青色光が波長変換層１０に入射すると、波長変換層１０は、内部に含有する蛍光体１１の効果により、この青色光の少なくとも一部を赤色光あるいは緑色光に波長変換して出射する。

ここで、青色光とは、４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長帯域に発光中心波長を有する光であり、緑色光とは、５００ｎｍ超６００ｎｍ以下の波長帯域に発光中心波長を有する光のことであり、赤色光とは、６００ｎｍ超６８０ｎｍ以下の波長帯域に発光中心波長を有する光のことである。
なお、波長変換層が発現する波長変換の機能は、青色光を赤色光あるいは緑色光に波長変換する構成に限定はされず、入射光の少なくとも一部を異なる波長の光に変換するものであればよい。

酸素に暴露されると酸素と反応して劣化する蛍光体１１としては、公知の各種蛍光体を用いることができる。例えば、希土類ドーピングガーネット、ケイ酸塩、アルミン酸塩、リン酸塩、セラミックス蛍光体、硫化物蛍光体、窒化物蛍光体等の無機蛍光体、および、有機蛍光染料および有機蛍光顔料を始めとする有機蛍光物質などである。また、半導体微粒子に希土類をドープした蛍光体、および、半導体のナノ微粒子（量子ドット）も好適に用いられる。蛍光体は１種単独で用いることもできるが、所望の蛍光スペクトルが得られるように、異なる波長のものを複数混ぜて使用してもよいし、異なる素材構成の蛍光体同士の組み合わせ（例えば、希土類ドーピングガーネットと量子ドットとの組み合わせ）として用いてもよい。
ここで、酸素に暴露されるとは、大気中など酸素を含む環境下に曝されることを意味し、酸素と反応して劣化するとは、蛍光体が酸化されることによりその蛍光体の性能が劣化（低下）することを意味し、主として発光性能が酸素と反応する前と比較して低下することをいうが、蛍光体を光電変換体として利用する場合には、光電変換効率が酸素と反応する前と比較して低下することを意味する。

なお、端面封止層を有することで、端面から侵入する酸素や水などに起因する光学特性の劣化を防止できるという、本発明の波長変換積層フィルムの特徴を十分に発現できることから、蛍光体として量子ドットを用いることが特に好ましい。

以下、蛍光体１１として量子ドットを備えた場合について説明する。なお、以下において、量子ドットを含む波長変換層を量子ドット層と称する場合がある。
波長変換層１０に含有される量子ドットの種類には特に限定はなく、求められる波長変換の性能等に応じて、種々の公知の量子ドットを適宜選択すればよい。

量子ドットについては、例えば特開２０１２−３０９２７１号公報の段落００６０〜００６６を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズにより調整することができる。

量子ドットは、マトリックス中に均一に分散されるのが好ましいが、マトリックス中に偏りをもって分散されてもよい。
また、量子ドットは、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。２種以上の量子ドットを併用する場合は、互いの発光光の波長が異なる量子ドットを使用してもよい。

具体的には、公知の量子ドットには、６００ｎｍ超６８０ｎｍ以下の範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、５００ｎｍ超６００ｎｍ以下の範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）があり、量子ドット（Ａ）は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット（Ｂ）は緑色光を、量子ドット（Ｃ）は青色光を発光する。例えば、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）を含む量子ドット含有積層体へ励起光として青色光を入射させると、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光と、量子ドット層を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含む量子ドット層に励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、および量子ドット（Ｃ）により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。

また、量子ドットとして、形状がロッド状で指向性を持ち偏光を発する、いわゆる量子ロッドや、テトラポッド型量子ドットを用いてもよい。

波長変換層１０のマトリックス１２は、特に限定はなく、公知の蛍光体を有する波長変換層で用いられる各種の樹脂からなるものとすることができる。マトリックス１２は、樹脂材料、必要に応じて添加される架橋剤や界面活性剤などの添加剤、および有機溶剤等を含む組成物（マトリックス原料）を調製して、このマトリックス原料を塗布、硬化して形成することができる。
以下、マトリックス原料として、特に量子ドットに適する例を挙げるが、量子ドットに限らず前述の各種蛍光体に対しても適用できる。
マトリックス原料は、例えば、ポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂などを主として含んでなる。
マトリックス原料としては、上記の樹脂、あるいは、重合性基を有する硬化性化合物を含む組成物を用いることができる。重合性基の種類は、限定はないが、好ましくは、（メタ）アクリレート基、ビニル基またはエポキシ基であり、より好ましくは、（メタ）アクリレート基であり、特に好ましくは、アクリレート基である。また、２つ以上の重合性基を有する重合性単量体は、それぞれの重合性基が同一であってもよいし、異なっていても良い。

具体的なマトリックス原料としては、一例として、以下の第１の重合性化合物と第２の重合性化合物とが例示される。

第１の重合性化合物は、２官能以上の（メタ）アクリレートモノマー、ならびにエポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーからなる群から選択される1つ以上の化合物であるのが好ましい。

２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーのうち、２官能の（メタ）アクリレートモノマーとしては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が好ましい例として挙げられる。

また、２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーのうち、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、エピクロロヒドリン（ＥＣＨ）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド（ＥＯ）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド（ＰＯ）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が好ましい例として挙げられる。

エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーとしては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシシクロアルカンを含む化合物等が好適に用いられる。

エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーとして好適に使用できる市販品としては、株式会社ダイセルのセロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド８０００、シグマアルドリッチ社製の４−ビニルシクロヘキセンジオキシド等が挙げられる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。

また、エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーはその製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成II、２１３〜、平成４年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry of heterocyclic compounds−Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes,John & Wiley and Sons,An Interscience Publication,New York,1985、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１−１００３７８号公報、特許第２９０６２４５号公報、特許第２９２６２６２号公報などの文献を参考にして合成できる。

第２の重合性化合物は、分子中に水素結合性を有する官能基を有し、かつ、第１の重合性化合物と重合反応できる重合性基を有する。
水素結合性を有する官能基としては、ウレタン基、ウレア基、またはヒドロキシル基等が挙げられる。
第１の重合性化合物と重合反応できる重合性基としては、例えば、第１の重合性化合物が２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーであるときは（メタ）アクリロイル基であればよく、第１の重合性化合物がエポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーであるときはエポキシ基またはオキセタニル基であればよい。

ウレタン基を含む（メタ）アクリレートモノマーとしては、ＴＤＩ、ＭＤＩ、ＨＤＩ、ＩＰＤＩ、ＨＭＤＩ等のジイソシアナートと、ポリ（プロピレンオキサイド）ジオール、ポリ（テトラメチレンオキサイド）ジオール、エトキシ化ビスフェノールＡ、エトキシ化ビスフェノールＳスピログリコール、カプロラクトン変性ジオール、カーボネートジオール等のポリオール、および、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のヒドロキシアクリレートのいずれかとを反応させて得られるモノマー、オリゴマーであり、特開２００２−２６５６５０公報や、特開２００２−３５５９３６号公報、特開２００２−０６７２３８号公報等に記載の多官能ウレタンモノマーを挙げることができる。具体的には、ＴＤＩとヒドロキシエチルアクリレートとの付加物、ＩＰＤＩとヒドロキシエチルアクリレートとの付加物、ＨＤＩとペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）との付加物、ＴＤＩとＰＥＴＡとの付加物を作り残ったイソシアナートとドデシルオキシヒドロキシプロピルアクリレートを反応させた化合物、６，６ナイロンとＴＤＩの付加物、ペンタエリスリトールとＴＤＩとヒドロキシエチルアクリレートの付加物等をあげることができるが、これに限定されるものではない。

ウレタン基を含む（メタ）アクリレートモノマーとして好適に使用できる市販品としては、共栄社化学株式会社製のＡＨ−６００、ＡＴ−６００、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＵＡ−５１０Ｈ、ＵＦ−８００１Ｇ、ＤＡＵＡ−３０７、新中村化学工業株式会社製のＵＡ−３００ＴＭ、大阪有機化学工業株式会社製のＵＶ−４１０８Ｆ、ＵＶ−４１１７Ｆ等が挙げられる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。

ヒドロキシル基を含む（メタ）アクリレートモノマーとしては、エポキシ基を有する化合物と（メタ）アクリル酸との反応により合成される化合物を挙げることができる。代表的なものは、エポキシ基を有する化合物により、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＳ型、ビスフェノールＦ型、エポキシ化油型、フェノールのノボラック型、脂環型に分類される。具体的な例としては、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンの付加物に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、フェノールノボラックにエピクロロヒドリンを反応させ、（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳとエピクロロヒドリンの付加物に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳとエピクロロヒドリンの付加物に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、エポキシ化大豆油に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート等を挙げることができる。また、ヒドロキシル基を含む（メタ）アクリレートモノマーとして他には、末端にカルボキシ基、またはリン酸基を有する（メタ）アクリレートモノマー等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

ヒドロキシル基を含む第２の重合性化合物として好適に使用できる市販品としては、共栄社化学株式会社製のエポキシエステル、Ｍ−６００Ａ、４０ＥＭ、７０ＰＡ、２００ＰＡ、８０ＭＦＡ、３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００ＭＫ、３０００Ａ、日本化成株式会社製の４−ヒドロキシブチルアクリレート、新中村化学工業株式会社製の単官能アクリレートＡ−ＳＡ、単官能メタクリレートＳＡ、ダイセル・オルネクス株式会社製の単官能アクリレートβ−カルボキシエチルアクリレート、城北化学工業株式会社製のＪＰＡ−５２０等が挙げられる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。
第１の重合性化合物と第２の重合性化合物との質量比は１０：９０〜９９：１であればよく、１０：９０〜９０：１０であることが好ましい。第２の重合性化合物の含有量に対し第１の重合性化合物の含有量が多いことも好ましく、具体的には（第１の重合性化合物の含有量）／（第２の重合性化合物の含有量）が２〜１０であることが好ましい。

第１の重合性化合物と第２の重合性化合物とを含むマトリクス原料を用いる場合には、マトリクス原料中にさらに単官能（メタ）アクリレートモノマーを含むことが好ましい。単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を分子内に１個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１〜３０であるアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７〜２０であるアラルキル（メタ）アクリレート；ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２〜３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキルまたはジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１〜２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１〜１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０で末端アリールエーテルの炭素数が６〜２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４〜３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４〜３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノまたはジ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；(メタ)アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。
単官能（メタ）アクリレートモノマーは第１の重合性化合物と第２の重合性化合物との総質量１００質量部に対して、１〜３００質量部含まれていることが好ましく、５０〜１５０質量部含まれていることがより好ましい。

また、炭素数４〜３０の長鎖アルキル基を有する化合物を含むことが好ましい。具体的には第１の重合性化合物、第２の重合性化合物、または単官能（メタ）アクリレートモノマーの少なくともいずれかが、炭素数４〜３０の長鎖アルキル基を有することが好ましい。上記長鎖アルキル基は炭素数１２〜２２の長鎖アルキル基であることがより好ましい。これにより、量子ドットの分散性が向上するからである。量子ドットの分散性が向上するほど、光変換層から出射面に直行する光量が増えるため、正面輝度および正面コントラストの向上に有効である。
炭素数４〜３０の長鎖アルキル基を有する単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、具体的には、ブチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、オレイル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリルアミド、オクチル（メタ）アクリルアミド、ラウリル（メタ）アクリルアミド、オレイル（メタ）アクリルアミド、ステアリル（メタ）アクリルアミド、ベヘニル（メタ）アクリルアミド等が好ましい。中でもラウリル（メタ）アクリレート、オレイル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレートが特に好ましい。

また、マトリックス原料中に、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、（パーフルオロブチル）エチル(メタ)アクリレート、パーフルオロブチル−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、（パーフルオロヘキシル）エチル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート等のフッ素原子を有する化合物を含んでいてもよい。これらの化合物を含むことにより塗布性を向上させることができる。
また、量子ドット層中のマトリックスの総量には限定はないが、量子ドット層の全量１００質量部に対して、９０〜９９．９質量部であることが好ましく、９２〜９９質量部であることがより好ましい。

なお、量子ドット層の厚さは、積層フィルム１の厚さ等に応じて、適宜、設定すればよい。本発明者らの検討によれば、取り扱い性および発光特性の点で、５〜２００μｍが好ましく、１０〜１５０μｍがより好ましい。
なお、上記厚さは平均厚さを意図し、平均厚さは量子ドット層の任意の１０点以上の厚さを測定して、それらを算術平均して求める。

量子ドット層の形成方法には限定はなく、公知の方法で形成すればよい。例えば、量子ドットとマトリックスとなる樹脂組成物と溶剤とを混合した塗布組成物を調製し、この塗布組成物をガスバリア層２０上に塗布し、硬化することで形成できる。
なお、塗布組成物には、必要に応じて、重合開始剤やシランカップリング剤等を添加してもよい。

＜ガスバリア層＞
ガスバリア層２０は、量子ドット層等の波長変換層１０の主面からの酸素等が侵入することを抑制するための層である。従って、ガスバリア層２０は、高いガスバリア性を有するのが好ましい。具体的には、ガスバリア層２０は、酸素透過度が０．１cc/(m²・day・atm）以下であるのが好ましく、０．０１cc/(m²・day・atm）以下であるのがより好ましく、０．００１cc/(m²・day・atm）以下であるのが特に好ましい。
ガスバリア層２０の酸素透過度を０．１cc/(m²・day・atm）以下とすることにより、波長変換層１０の主面から侵入する酸素等による波長変換層１０の劣化（特に、蛍光体の劣化）をより効果的に抑制して、長寿命な量子ドットフィルム等の波長変換積層フィルムを得ることができる。
なお、本発明において、ガスバリア層２０や端面封止層３０等の酸素透過度は、公知の方法や、後述する実施例に準じて測定すればよい。

ガスバリア層２０は、透明性などの点で十分な光学特性を有し、かつ、目的とするガスバリア性（酸素バリア性）を得られる物であれば、ガスバリア性を発現する公知の材料からなる層（膜）や、公知のガスバリアフィルムが、各種、利用可能である。
好ましいガスバリア層２０として、支持体の上（一方の面もしくは両面）に、有機層と無機層とを交互に積層してなる、有機無機の積層構造を有するガスバリアフィルムが例示される。

図５、ガスバリア層２０の一例の断面を模式的に示す。
図５に示すガスバリア層２０は、支持体２２の上に有機層２４を有し、有機層２４の上に無機層２６を有し、無機層２６の上に有機層２８を有するガスバリアフィルムである。
このガスバリア層２０（ガスバリアフィルム）において、ガスバリア性は主に無機層２６によって発現される。無機層２６の下層の有機層２４は、無機層２６を適正に形成するための下地層である。最上層の有機層２８は、無機層２６の保護層として作用する。

なお、本発明の積層フィルムにおいてガスバリア層は、図５に示す例に限定はされない。
例えば、保護層として作用する最上層の有機層２８を有さなくてもよい。
また、図５に示す例は、無機層と下地の有機層との組み合わせを１組のみ有するが、無機層と下地の有機層との組み合わせを２組以上有してもよい。一般的に、無機層と下地の有機層との組み合わせの数が多いほど、ガスバリア性は高くなる。
さらに、支持体２２の上に無機層を形成し、その上に、無機層と下地の有機層との組み合わせを１組以上、有する構成であってもよい。

ガスバリア層２０の支持体２２としては、公知のガスバリアフィルムで支持体として用いられているものが、各種、利用可能である。
中でも、薄手化や軽量化が容易である、フレキシブル化に好適である等の点で、各種の樹脂材料（高分子材料）からなるフィルムが好適に利用される。
具体的には、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリアクリトニトリル（ＰＡＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、透明ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合合成樹脂（ＡＢＳ）、環状オレフィン・コポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、および、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）からなるプラスチックフィルムが、好適に例示される。

支持体２２の厚さは、波長変換積層フィルム１の厚さや大きさ等に応じて、適宜、設定すればよい。ここで、本発明者の検討によれば、支持体２２の厚さは、１０μｍ〜１００μｍ程度が好ましい。支持体２２の厚さを、この範囲にすることにより、軽量化や薄手化、等の点で、好ましい結果を得る。
なお、支持体２２は、このようなプラスチックフィルムの表面に、反射防止や位相差制御、光取り出し効率向上等の機能が付与されていてもよい。

図５に示すガスバリア層２０において、支持体２２の表面に形成される有機層２４すなわち無機層２６の下層となる有機層２４は、無機層２６の下地層となるものである。
このような有機層２４を有することにより、支持体２２の表面の凹凸や、支持体２２の表面に付着している異物等を包埋して、無機層２６の成膜面を、無機層２６の成膜に適した状態にできる。これにより、支持体２２の表面の凹凸や異物の影のような、無機層２６となる無機化合物が着膜し難い領域を無くし、基板の表面全面に、隙間無く、適正な無機層２６を成膜することが可能になる。その結果、酸素透過度が０．１cc/(m²・day・atm）以下のガスバリア層２０を安定して形成できる。

ガスバリア層２０において、有機層２４の形成材料には、限定はなく、公知の有機化合物が、各種、利用可能である。
具体的には、ポリエステル、（メタ）アクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリル化合物、などの熱可塑性樹脂、ポリシロキサンや、その他の有機ケイ素化合物の膜が好適に例示される。これらは、複数を併用してもよい。

中でも、ガラス転移温度や強度に優れる等の点で、ラジカル硬化性化合物および／またはエーテル基を官能基に有するカチオン硬化性化合物の重合物から構成された有機層２４は、好適である。
中でも特に、屈折率が低い、透明性が高く光学特性に優れる等の点で、アクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマーの重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、有機層２４として好適に例示される。
その中でも特に、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＤＰＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）などの、２官能以上、特に３官能以上のアクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマーの重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、好適に例示される。また、これらのアクリル樹脂やメタクリル樹脂を、複数、用いるのも好ましい。

有機層２４の厚さは、有機層２４の形成材料や支持体２２に応じて、適宜設定すればよい。本発明者らの検討によれば、有機層２４の厚さは、０．５〜５μｍとするのが好ましく、１〜３μｍとするのがより好ましい。
有機層２４の厚さを０．５μｍ以上とすることにより、支持体２２の表面の凹凸や、支持体２２の表面に付着した異物を包埋して、有機層２４の表面すなわち無機層２６の成膜面を平坦化できる。有機層２４の厚さを５μｍ以下とすることにより、有機層２４が厚すぎることに起因する、有機層２４のクラックや、ガスバリア層２０に起因するカール等の問題の発生を、効果的に抑制することができる。
なお、無機層と下地の有機層との組み合わせを複数有する場合等、複数の有機層を有する場合には、各有機層の厚さは、同じでも異なってもよい。

有機層２４は、塗布法やフラッシュ蒸着等の公知の方法で成膜すればよい。
有機層２４の下層となる無機層２６との密着性を向上するために、有機層２４（有機層２４となる組成物）は、シランカップリング剤を含有するのが好ましい。
なお、後述する有機層２８も含めて、無機層と下地の有機層との組み合わせを複数有する場合等、有機層２４を複数有する場合には、各有機層の形成材料は、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性等の点からは、全ての有機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。

有機層２４の上に、この有機層２４を下地として設けられる無機層２６は、無機化合物を主成分とする膜で、ガスバリア層２０において、ガスバリア性を主に発現するものである。

無機層２６としては、ガスバリア性を発現する、酸化物、窒化物、酸窒化物等の無機化合物からなる膜が、各種、利用可能である。
具体的には、１）酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの金属酸化物、２）窒化アルミニウムなどの金属窒化物、３）炭化アルミニウムなどの金属炭化物、４）酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸炭化ケイ素、酸化窒化炭化ケイ素などのケイ素酸化物、５）窒化ケイ素、窒化炭化ケイ素などのケイ素窒化物、６）炭化ケイ素等のケイ素炭化物、７）１）〜６）の水素化物、８）１）〜７）の２種以上の混合物、等の無機化合物からなる膜が、好適に例示される。

特に、透明性が高く、かつ、優れたガスバリア性を発現できる点で、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、ケイ素酸窒化物およびケイ素酸化物等のケイ素化合物のいずれかからなる膜は、好適に例示される。その中でも特に、窒化ケイ素からなる膜は、より優れたガスバリア性に加え、透明性も高く、好適に例示される。

無機層２６の厚さは、形成材料に応じて、目的とするガスバリア性を発現できる厚さを、適宜、決定すればよい。本発明者らの検討によれば、無機層２６の厚さは、１０〜２００ｎｍが好ましく、１０〜１００ｎｍがより好ましく、１５〜７５ｎｍが特に好ましい。
無機層２６の厚さを１０ｎｍ以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現する無機層２６が形成できる。また、無機層２６は、一般的に脆く、厚過ぎると、割れやヒビ、剥がれ等を生じる可能性が有るが、無機層２６の厚さを２００ｎｍ以下とすることにより、割れが発生することを防止できる。
なお、ガスバリアフィルムが複数の無機層２６を有する場合には、各無機層２６の厚さは、同じでも異なってもよい。

無機層２６は、形成材料に応じて、公知の方法で形成すればよい。具体的には、ＣＣＰ（Capacitively Coupled Plasma 容量結合プラズマ）−ＣＶＤ（chemical vapor deposition）やＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma 誘導結合プラズマ）−ＣＶＤ等のプラズマＣＶＤ、マグネトロンスパッタリングや反応性スパッタリング等のスパッタリング、真空蒸着など、気相堆積法が好適に例示される。
無機層を複数有する場合には、各無機層の形成材料は、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性等の点からは、全ての無機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。

無機層２６の上に設けられる有機層２８は、無機層２６の保護層として作用する層である。最上層に有機層２８を有することにより、ガスバリア性を発現する無機層２６の損傷を防止して、ガスバリア層２０が安定して目的とするガスバリア性を発現することが可能となる。また、有機層２８を有することにより、マトリックスとなる樹脂に量子ドット等を分散してなる波長変換層１０とガスバリア層２０との密着性も向上できる。
この有機層２８は、基本的に、前述の有機層２４と同様のものである。また、有機層２８は、これ以外にも、アクリルポリマーを主鎖とし、側鎖に末端がアクリロイル基のウレタンポリマーおよび末端がアクリロイル基のウレタンオリゴマーの少なくとも一方を有する、分子量が１００００〜３００００００で、アクリル当量が５００ｇ／ｍｏｌ以上であるグラフト共重合体からなるものも、好適に利用可能である。

ガスバリア層２０の厚さは、波長変換積層フィルム１の厚さ、波長変換積層フィルム１の大きさ等に応じて、適宜、設定すればよい。
本発明者らの検討によれば、ガスバリア層２０の厚さは、５〜１００μｍが好ましく、１０〜７０μｍがより好ましく、１５〜５５μｍが特に好ましい。
ガスバリア層２０の厚さを１００μｍ以下とすることで、ガスバリア層２０すなわち積層フィルム１が不要に厚くなることを防止できる。また、ガスバリア層２０の厚さを５μｍ以上とすることで、２つのガスバリア層２０の間に波長変換層１０を形成する際に、波長変換層１０の厚さを均一にできる点で好ましい。

なお、図示例においては、積層体５は、波長変換層１０が２枚のガスバリア層２０に挟持されてなる構成であるが、さらに、拡散層、アンチニュートンリング層、保護層、接着層等の、各種の機能を得るための層が積層されていてもよい。

[積層フィルムの製造方法]
次に、本発明の積層フィルムの製造方法について一例を挙げて説明する。なお、以下の説明は、主に、図１に示す積層フィルム１を例に行うが、その他の態様も、これに準じて製造することができる。

まず、波長変換層１０を含む積層体５を作製する。
積層体５の作製方法としては、まず、支持体２２の表面に塗布法等によって有機層２４を形成し、この有機層２４の表面にプラズマＣＶＤ等によって無機層２６を形成し、無機層２６の表面に塗布法等によって有機層２８を形成して、ガスバリア層２０（ガスバリアフィルム）を作製する。
このような有機層および無機層の形成は、いわゆるロール・トゥ・ロールによって行うのが好ましい。以下の説明では、ロール・トゥ・ロールをＲｔｏＲとも言う。

一方で、有機溶剤、マトリックスとなる樹脂を形成する化合物、量子ドット等を含有する、量子ドット層などの波長変換層１０となる組成物を調製する。
２枚のガスバリア層２０を用意して、一枚のガスバリア層２０の有機層２８の表面に、この波長変換層１０となる組成物を塗布し、さらに、組成物の上に有機層２８を組成物側に向けてもう１枚のガスバリア層２０を積層し、紫外線硬化等を行って、波長変換層１０の両面にガスバリア層２０を積層した長尺な積層体を作製する。

作製した長尺な積層体を所定サイズに切断して、積層体５を作製する。
積層体の切断方法には限定はなく、トムソン刃等の刃物を用いて物理的に切断する方法、レーザーを照射して切断する方法等の公知の方法が各種利用可能である。
また、所定形状に切断して形成された積層体に対して、例えば、端面の研磨加工を行ってもよい。

次に、作製した積層体５の端面５ａに、上述した端面封止層３０を形成する。
まず、積層体５の端面に第１の金属層３２を形成する。第１の金属層３２は、スパッタ、蒸着等の気相法により成膜形成することが好ましい。積層体５の４つの端面に順次第１の金属層３２を形成し、すべての端面を第１の金属層３２で覆う。

次に第１の金属層３２上に樹脂層３４を形成する。樹脂層３４は、樹脂層３４となる化合物を含む組成物を調製して、この組成物を積層体５の端面に塗布して、組成物を乾燥し、必要に応じて紫外線照射や加熱等によって主に樹脂層を構成する化合物を重合して形成する。
積層体５の端面への組成物の塗布方法は、インクジェット、スプレー塗布、ディッピング（浸漬塗布）等の公知の方法が利用可能である。好ましい塗布方法をとして、図６に示す、液膜の転写による方法が挙げられる。

この塗布方法では、まず、図６のＡに示すように、平板４０（例えば、ガラス板やバット等）上に、樹脂層３４となる組成物の液膜３３を形成する。この液膜３３の厚さＨは、目的とする樹脂層３４の厚さ、組成物における固形分濃度等に応じて、適宜、設定すればよい。
また、液膜３３の面方向の大きさは、積層体５の１つの端面が全面的に接触可能であれば、特に限定はなく、例えば、液膜３３の一辺の長さが、積層体５の端辺の長さよりも長ければよい。

次に、図６のＢに示すように、液膜３３に、積層体５の端面５ａに形成された第１の金属層３２を接触させた後、図６のＣに示すように、積層体５を鉛直上方に持ち上げることで、積層体５の端面（詳細には、積層体５の端面に形成された第１の金属層３２の表面）に、樹脂層３４となる組成物を所定量、付着させる。
その際、積層体５の端面に付着した組成物の、端面の延在方向に垂直な断面形状は、組成物の表面張力により略円形状となる。
液膜３３への端面の浸漬量は、液膜３３の厚さＨ等に応じて、適宜、設定すればよい。

上記のようにして、積層体５の全ての端面の第１の金属層３２の表面に、組成物を付着させた後、その組成物を乾燥し、必要に応じて紫外線照射や加熱等によって硬化して樹脂層３４を形成する。

なお、図６のＣに示す例では、積層体５の端面と液膜３３とを接触させた後、積層体５を鉛直上方に移動して液膜３３と積層体５とを離間させる構成としたが、これに限定はされず、液膜３３（平板４０）を鉛直下方に移動してもよく、あるいは、積層体５と、液膜３３（平板４０）とをそれぞれ移動してもよい。

また、図６のＢに示す例では、積層体５の端面を鉛直下方に向けて液膜３３と接触させる構成としたが、液膜３３と接触させることができれば、これに限定はされない。
また、樹脂層３４の断面形状は、組成物の表面エネルギー（表面張力、接触角）の絶対値の大小に関わらず、積層体５の端面に塗れさえすれば半円状に形成される。

また、図６に示す例では、１枚の積層体５の端面を液膜３３に接触させる構成としたが、これに限定はされず、複数枚の積層体５をまとめて液膜３３に接触させる構成としてもよい。
例えば、積層体５とスペーサとを交互に積層して、積層体５同士が離間した状態で、前述と同様にして、端面封止層３０を形成する組成物の液膜３３に端面を接触させて、各積層体５の端面に端面封止層３０を形成してもよい。

あるいは、図７（Ａ）に示すように、複数の積層体５（例えば１０００枚）を重ねた積層物の端面全面に、前述と同様にして、樹脂層３４Ａを形成し、その後、重ねた積層体５を、１枚ずつ剥がして、各積層体５の端面に樹脂層３４を形成する構成としてもよい。
なお、このようにして樹脂層３４を形成した場合には、積層体５を重ねた積層物の端面に形成される樹脂層３４Ａは、半長円形状に形成される。したがって、積層物の中央付近に積層された積層体５の端面に形成される樹脂層３４は、図７（Ｂ）に示すように、略矩形状となる。

また、図６に示す例では、組成物の液膜３３を平板４０の上に形成し、この液膜３３に積層体５の端面を接触させて樹脂層３４となる組成物を積層体５の端面に塗布する構成としたが、これに限定はされない。
例えば、図８に示すように、組成物の塗膜を回転するローラ上に形成し、ローラ上の塗膜に、積層体の端面を接触させて樹脂層を形成する構成としてもよい。

図８に示す装置は、組成物を貯留するタンク５４と、タンク５４から供給される組成物をローラ５０の周面に塗布する塗布部５２と、周面に塗膜を形成されるローラ５０とを有し、回転するローラ５０と同調して積層体５を所定の方向に搬送しつつ、ローラ５０上の塗膜に積層体５の端面を接触させて、端面に組成物を付着させる。その後、組成物を乾燥し、必要に応じて紫外線照射や加熱等によって硬化して樹脂層３４を形成する。

次に、樹脂層３４の上に第２の金属層３６を形成する。
前述のとおり、金属層３６の形成方法としては、無電解メッキ処理、電解メッキ処理、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法等が利用可能である。
無電解メッキ処理の方法としては、従来公知の方法が利用可能であり、例えば、樹脂層３４が形成された積層体５の端面を、無電解メッキ液に浸漬して、樹脂層３４上に金属皮膜を析出させることで金属層３６を形成することができる。
これにより、積層フィルム１が作製される。

なお、樹脂層３４に金属ナノ粒子が含有されていない場合には、樹脂層３４上に導電性を有する下地層を設け、その下地層上に第２の金属層３６を形成すればよい。
既述の通り、下地層の形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法、あるいは、塗布法等が利用可能である。導電性塗料を塗布する方法としては、前述の樹脂層３４の場合と同様に、液膜の転写による塗布方法が好適に例示される。すなわち、樹脂層３４が形成された積層体５に対して、図６に例示した方法と同様の方法で、下地層となる導電性塗料を樹脂層３４上に付着させる。その後、乾燥、硬化することで、下地層を形成することができる。

以上、本発明の積層フィルムについて詳細に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。

以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明を、より詳細に説明する。ただし、本発明はこの実施例に限定されるものでなく、以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。

［実施例１］
実施例１として、図１に示すような波長変換積層フィルム１を作製した。

＜ガスバリア層２０の作製＞
＜＜支持体２２＞＞
ガスバリア層２０の支持体２２として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡株式会社製、商品名：コスモシャインＡ４３００、厚さ５０μｍ、幅１０００ｍｍ、長さ１００ｍ）を用いた。

＜＜有機層２４の形成＞＞
支持体２２の一面に、以下のようにして有機層２４を形成した。
まず、有機層２４を形成するための組成物を調製した。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、ダイセルサイテック株式会社製）および光重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥＫＴＯ４６）を用意し、ＴＭＰＴＡ：光重合開始剤の質量比率が、９５：５となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度が１５％の組成物を調製した。

この組成物を用い、ＲｔｏＲを利用して塗布法で成膜を行う一般的な成膜装置によって、支持体２２の一面に有機層２４を形成した。
まず、ダイコーターを用いて組成物を支持体２２の一面に塗布した。塗布後の支持体２２を５０℃の乾燥ゾーンを３分間通過させた後、紫外線（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ²）を照射することで組成物を硬化して、有機層２４を形成した。
また、紫外線硬化直後のパスロールにおいて、保護フィルムとして有機層２４の表面にポリエチレンフィルム（ＰＥフィルム、株式会社サンエー科研製、商品名：ＰＡＣ２−３０−Ｔ）を貼り付け、搬送し、巻き取った。
形成した有機層２４の厚さは１μｍであった。

＜＜無機層２６の形成＞＞
次に、ＲｔｏＲを利用するＣＶＤ装置を用いて、有機層２４の表面に無機層２６（窒化ケイ素（ＳｉＮ）層）を形成した。
送出機より有機層２４を形成した支持体２２を送り出し、無機層の成膜前の最後の膜面タッチロール通過後に保護フィルムを剥離し、暴露された有機層２４の上にプラズマＣＶＤによって無機層２６を形成した。
無機層２６の形成には、原料ガスとして、シランガス（流量３００ｓｃｃｍ）、アンモニアガス（流量３７０ｓｃｃｍ）、水素ガス（流量５９０ｓｃｃｍ）、および窒素ガス（流量２４０ｓｃｃｍ）を用いた。電源は、周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いた。成膜圧力は４０Ｐａとした。
形成した無機層２６の厚さは５０ｎｍであった。
なお、単位ｓｃｃｍで表す流量は、１０１３ｈＰａ、０℃における流量（ｃｃ／ｍｉｎ）に換算した値である。

＜＜有機層２８の形成＞＞
さらに、無機層２６の表面に、以下のようにして有機層２８を積層した。
まず、有機層２８を形成するための組成物を調製した。具体的には、ウレタン結合含有アクリルポリマー（大成ファインケミカル株式会社製、アクリット８ＢＲ５００、質量平均分子量２５０，０００）と光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製イルガキュア１８４）とを用意し、ウレタン結合含有アクリルポリマー：光重合開始剤の質量比率が、９５：５となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度が１５質量％の組成物を調製した。

この組成物を用い、ＲｔｏＲを利用して塗布法で成膜を行う一般的な成膜装置によって、無機層２６の表面に有機層２８を形成した。
まず、ダイコーターを用いて組成物を無機層２６上に塗布した。塗布後の支持体２２を１００℃の乾燥ゾーンを３分間通過させて、有機層２８を形成した。
これにより、支持体２２の上に有機層２４、無機層２６および有機層２８を形成してなる、図２に示すようなガスバリア層２０を作製した。形成した有機層２４の厚さは１μｍであった。
なお、ガスバリア層２０は、組成物を乾燥した直後のパスロールにおいて保護フィルムとして有機層２８の表面に先と同じポリエチレンフィルムを貼り付けた後、巻き取った。

＜積層体５の作製＞
以下の組成を有する、波長変換層１０としての量子ドット層を形成するための組成物を調製した。
（組成物の組成）
・量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５２０ｎｍ） １０質量部
・量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６３０ｎｍ） １質量部
・ラウリルメタクリレート ２．４質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ０．５４質量部
・光重合開始剤（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社製） ０．００９質量部
量子ドット１、２としては、下記のコア−シェル構造（ＩｎＰ／ＺｎＳ）を有するナノ結晶を用いた。
・量子ドット１：ＩＮＰ５３０−１０（ＮＮ−ｌａｂｓ社製）
・量子ドット２：ＩＮＰ６２０−１０（ＮＮ−ｌａｂｓ社製）
調製した組成物の粘度は５０ｍＰａ・ｓであった。

この組成物を用い、ＲｔｏＲを利用して塗布法で成膜を行う一般的な成膜装置によって、波長変換層１０の両面にガスバリア層２０を積層した積層体を作製した。
２枚のガスバリア層２０を成膜装置の所定位置に装填、通紙した。まず、一枚のガスバリア層の保護フィルムを剥離した後、ダイコーターを用いて組成物を有機層２８の表面に塗布した。次いで、もう一枚のガスバリア層２０から保護フィルムを剥離した後、組成物に有機層２８を向けて、ガスバリア層２０を積層した。
さらに、波長変換層１０となる組成物をガスバリア層２０で挟んだ積層体に、紫外線（積算照射量約２０００ｍＪ／ｃｍ²）を照射することで組成物を硬化して波長変換層１０を形成し、波長変換層１０の両面にガスバリア層２０を積層した積層体を作製した。
波長変換層１０の厚さは、４６μｍであり、積層体の厚さＴは、１５０μｍであった。
作製した積層体を、刃先角度１７°のトムソン刃を使用して、Ａ４サイズのシート状に切断し、積層体５を得た。

＜端面封止層３０の形成＞
次に、作製した積層体５の端面に、第１の金属層３２、樹脂層３４および第２の金属層３６の３層からなる端面封止層３０を形成した。

＜＜第１の金属層３２の形成＞＞
端面の切削加工を行った積層体５を、１０００枚重ね、一般的なスパッタリング装置を用いて、層積層体５を複数枚重ねた積層物の側面にチタン層を形成した。ターゲットとしてチタン、放電ガスとしてアルゴンを用いた。成膜圧力は０．５Ｐａ、成膜出力は４００Ｗ、到達膜厚は１０ｎｍであった。続いて、ターゲットをチタンから銅へ変更し、成膜圧力、成膜出力は上記と同様としてチタン層上に膜厚７５ｎｍの銅層を形成した。
このように、本例においては、第１の金属層３２として膜厚１０ｎｍのチタン層に膜厚７５ｎｍの銅層を積層してなる二層構造のスパッタ膜を形成した。

＜＜樹脂層３４の形成＞＞
次に、金属層３２の全面に樹脂層３４を形成した。
樹脂層３４を形成する塗料として、メタロイドＭＬ−４００（Ｐｄナノ粒子含有めっきプライマー：株式会社イオックス製）を用いた。
金属層３２の端面をメタロイドＭＬ−４００の液面に接触させ鉛直上方に持ち上げて、金属層３２上に所定量を付着させた。その後、８０℃で１０分乾燥、硬化して、樹脂層３４を形成した。
樹脂層３４の厚さは０．２μｍであった。なお、メタロイドＭＬ−４００を用いて形成された本例の樹脂層３４の酸素透過度は５０cc／m²・day・atm超である。

＜＜第２の金属層３６の形成＞＞
次に、積層体５の端面（樹脂層３４）を下記の無電解銅メッキ浴に浸漬して、樹脂層３４の全面に金属層３６として無電解銅メッキ層を形成し、積層フィルム１を作製した。
無電解銅メッキ浴は、上村工業株式会社製スルカップＰＳＹ(初期Ｃｕ濃度２．５ｇ／Ｌ、浴容積 １０００ｍＬ ３３℃ １５分)を用いた。
第２の金属層３６の厚さは０．５μｍであった。

［実施例２］
実施例１と同様にして積層体５を得た。

＜端面封止層３０の形成＞
次に、作製した積層体５の端面に、第１の金属層３２、樹脂層３４および第２の金属層３６の３層からなる端面封止層３０を形成した。

＜＜第１の金属層３２の形成＞＞
第１の金属層３２は実施例１と同様の方法にて、第１の金属層３２として膜厚１０ｎｍのチタン層に膜厚７５ｎｍの銅層を積層してなる二層構造のスパッタ膜を形成した。

＜＜樹脂層３４の形成＞＞
樹脂層３４を形成する組成物として、固形分が以下の組成を有する組成物を調製した。
・２液型熱硬化性エポキシ樹脂の主剤（三菱ガス化学株式会社製、Ｍ−１００）
３２質量部
・２液型熱硬化性エポキシ樹脂の硬化剤（三菱ガス化学株式会社製、Ｃ−９３）
６８質量部
・１−ブタノール ６０質量部

調製した組成物を平板４０上に塗布し、厚さＨが２００μｍの液膜３３を形成した。次に、図６に示すように、積層体５の端面を液膜３３に接触させ鉛直上方に持ち上げて、端面に所定量の組成物を付着させた。その後、８０℃で１０分乾燥、硬化して、樹脂層３４を形成した。樹脂層３４の厚さは４μｍであった。

また、２軸延伸ポリエステルフィルム（東レ株式会社製、ルミラーＴ６０）に、上述の樹脂層３４と全く同様にして厚さ４０μｍの酸素透過度測定用サンプルを作製した。次いで、ポリエステルフィルムから酸素透過度測定用サンプルを剥離して、ＡＰＩＭＳ法（大気圧イオン化質量分析法）による測定装置（株式会社日本エイピーアイ社製）を用いて、温度２５℃、湿度６０％ＲＨの条件下で、酸素透過度を測定した。
その結果、酸素透過度測定用サンプルすなわち端面封止層３０の酸素透過度は、１０cc/(m²・day・atm）であった。

＜＜第２の金属層３６の形成＞＞
本例においては、第２の金属層３６として、第１の金属層３２と同様のスパッタ法にて、膜厚１０ｎｍのチタン層に膜厚７５ｎｍの銅層を積層してなる二層構造のスパッタ膜を形成した。

［比較例１］
端面封止層を形成しない以外は、実施例１と同様にして、積層フィルムを作製した。

［比較例２］
実施例１と同様にして積層体５を得た。その後、実施例１の第１の金属層３２の形成方法により積層体の端面に膜厚１０ｎｍのチタン層と膜厚７５ｎｍの銅層との２層構造のスパッタ膜を設けて、比較例２の積層フィルムとした。すなわち、比較例２の積層フィルムは、金属スパッタ膜のみからなる端面封止層を備えた構造である。

［評価］
このようにして作製した実施例１〜２、および、比較例１〜２の積層フィルムについて、端部の性能劣化（バリア性）を評価した。

＜バリア性＞
端部の性能劣化の度合を測定することで端面封止層のバリア性を評価した。
まず、積層フィルムの初期輝度（Ｙ０）を以下の手順で測定した。市販のタブレット端末(Amazon社製Kindle（登録商標） Fire HDX 7”)を分解し、バックライトユニットを取り出した。取り出したバックライトユニットの導光板上に積層フィルムを置き、その上に、向きが直交した２枚のプリズムシートを重ね置いた。青色光源から発し、積層フィルムおよび２枚のプリズムシートを透過した光の輝度を、導光板の面に対して垂直方向７４０ｍｍの位置に設置した輝度計（ＳＲ３、ＴＯＰＣＯＮ社製）にて測定し、積層フィルムの輝度とした。輝度測定は、サンプル面の略中央にて行った。
次に、６０℃相対湿度９０％に保たれた恒温槽に積層フィルムを投入し、所定の時間保管した。５００時間後および１０００時間後のそれぞれのタイミングで、積層フィルムを取り出し、上記と同様の手順で、高温高湿試験後の輝度（Ｙ１）を測定した。下記式のように、初期の輝度値（Ｙ０）に対する、高温高湿試験後の輝度（Ｙ１）の変化率（ΔＹ）を算出し、輝度変化の指標として、以下の基準で評価した。
ΔＹ［％］＝（Ｙ０−Ｙ１）／Ｙ０×１００
Ａ：ΔＹ≦５％
Ｂ：５％＜ΔＹ＜１５％
Ｃ：１５％≦ΔＹ
結果を表１に示す。

上記表１に示されるように、本発明の積層フィルムは、比較例に対して、ガスバリア性の経時変化が小さく、端面封止層により酸素、水を遮断することができ、量子ドット（波長変換層）の劣化を防ぐことができることがわかる。

１、２、３ 波長変換積層フィルム
５ 積層体
１０ 波長変換層
１１ 蛍光体
１２ マトリックス
２０ ガスバリア層
２２ 支持体
２４、２８ 有機層
２６ 無機層
３０ 端面封止層
３２ 第１の金属層
３３ 液膜
３４ 樹脂層
３６ 第２の金属層
４０ 平板
５０ ローラ
５２ 塗布部
５４ タンク

Claims (9)

1. 蛍光体を含む波長変換層と、該波長変換層の両主面にそれぞれ積層されたガスバリア層とを有する積層体、および
   前記積層体の端面のうち少なくとも前記波長変換層の端面を覆う端面封止層を備え、
   前記端面封止層は、前記積層体の端面側から、該端面に接触する第１の金属層、樹脂層および第２の金属層をこの順で含むことを特徴とする波長変換積層フィルム。
2. 前記第２の金属層が前記樹脂層の外表面を覆って形成されている請求項１記載の波長変換積層フィルム。
3. 前記樹脂層が、前記第１の金属層と前記第２の金属層とにより覆われている請求項１記載の波長変換積層フィルム。
4. 前記端面封止層が、前記積層体の端面を覆う請求項１から３いずれか１項記載の波長変換積層フィルム。
5. 前記第１の金属層の厚みが０．０１μｍ〜１μｍである請求項１から４いずれか１項記載の波長変換積層フィルム。
6. 前記第１の金属層が気相成膜層である請求項１から５いずれか１項記載の波長変換積層フィルム。
7. 前記樹脂層の酸素透過度が５０cc/(m²・day・atm)以下である請求項１から６いずれか１項記載の波長変換積層フィルム。
8. 前記樹脂層に金属ナノ粒子が含まれており、
   前記第２の金属層が、無電解メッキ層である請求項１から７いずれか１項記載の波長変換積層フィルム。
9. 前記蛍光体が量子ドットである請求項１から８いずれか１項記載の波長変換積層フィルム。