JP6472065B2 - 酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくgoa回路 - Google Patents
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Description
同時に図2及び図11を参照する。本発明における酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路の実施例1の作業工程は以下のものである。前記走査起動信号STVは第一ステージのGOAユニット回路を始動させ、第一ステージのGOAユニット回路から最後のステージのGOAユニット回路に向かって順次各ステージに走査駆動を行う。Nを正の整数であるとした場合、第NステージのGOAユニット回路を例とすると、まず、前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の伝送信号ST(N−1)は、第十一薄膜トランジスタT11及び第五十五薄膜トランジスタT55のゲート電極に高電位を提供する(第一ステージのGOAユニット回路は、走査起動信号STVによって第十一薄膜トランジスタT11及び第五十五薄膜トランジスタT55のゲート電極に高電位を提供する)。第十一薄膜トランジスタT11及び第五十五薄膜トランジスタT55は導通し、定圧高電位DCHは第十一薄膜トランジスタT11によって第一ノードQ(N)を高電位に上昇させるとともに、コンデンサCbを充電させ、同時に第五十五薄膜トランジスタT55は第四ノードS(N)の電位を第一負電位VSSにプルダウンし、このようにして、第一ノードQ(N)がまだ完全に上昇していない状況において、前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の伝送信号ST(N−1)を利用して、第五十五薄膜トランジスタT55が導通するように制御し、迅速に第四ノードS(N)の電位をプルダウンし、素早くプルダウン保持モジュール600をオフにして、第一ノードQ(N)が高電位に上昇することを可能にする。この時第四ノードS(N)は低電位であり、第一ノードQ(N)は高電位であり、前記二重インバータF1のメインインバータ内の第五十二薄膜トランジスタT52及び第五十四薄膜トランジスタT54はいずれも導通し、第五十三薄膜トランジスタT53は切断され、補助メインインバータ内の第七十四薄膜トランジスタT74は導通し、第七十三薄膜トランジスタT73は切断される。第二ノードP(N)の電位は、第一負電位VSSと比べて更に低い定圧低電位DCLまで低下させられ、第四十二薄膜トランジスタT42と、第三十二薄膜トランジスタT32と、第七十六薄膜トランジスタT76とは、切断され、第一ノードQ(N)及び走査駆動信号G(N)が安定的に高電位を出力するようにする。それからすぐに、前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の伝送信号ST(N−1)が低電位に変わり、第十一薄膜トランジスタT11は切断され、第一ノードQ(N)はコンデンサCbによって高電位を保持し、第二十一薄膜トランジスタT21及び第二十二薄膜トランジスタT22を導通させる。それから、m番目のクロック信号CK(m)は、第二十一薄膜トランジスタT21のソース電極及び第二十二薄膜トランジスタT22のソース電極に高電位を提供するとともに、第二十一薄膜トランジスタT21のドレイン電極を経由して高電位の走査駆動信号G(N)を出力し、第二十二薄膜トランジスタT22のドレイン電極は高電位の伝送信号ST(N)を出力し、同時にm番目のクロック信号CK(m)は第二十一薄膜トランジスタT21によってコンデンサCbを充電させ続け、第一ノードQ(N)を更に高電位にまで上昇させる。それから、m番目のクロック信号CK(m)は低電位に変わり、m+2番目のクロック信号CK(m+2)は高電位に変わり、第四十一薄膜トランジスタT41及び第四十薄膜トランジスタT40は導通し、第一ノードQ(N)はプルダウンモジュール400によって放電し、低電位へと変換され、走査が終わる。回路が非作動期間に入ると、この時第一ノードQ(N)は低電位であり、前記双重インバータF1のメインインバータ内の第五十二薄膜トランジスタT52及び第五十四薄膜トランジスタT54はそれぞれ切断され、第五十一薄膜トランジスタT51は導通し、第四ノードS(N)の電位を高電位に変え、第五十三薄膜トランジスタT53を導通させ、補助メインインバータ内の第七十四薄膜トランジスタT74は切断され、第七十三薄膜トランジスタT73は導通する。第五十四薄膜トランジスタT54が漏電するのを防止するため、第二ノードP(N)の電位を定圧高電位DCHに保持し、それから第四十二薄膜トランジスタT42と、第三十二薄膜トランジスタT32と、第七十六薄膜トランジスタT76と、をそれぞれ導通またはプルダウンさせるとともに、第一ノードQ(N)の電位を定圧低電位DCLに保持し、走査駆動信号G(N)の電位を第一負電位VSSに保持する。
図3及び図11を同時に参照する。図3は、本発明における酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路の実施例2である。前記実施例2及び実施例1の違いは、前記プルダウン保持モジュール600はさらに、第五十六薄膜トランジスタT56を備え、前記第五十六薄膜トランジスタT56のゲート電極は前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の伝送信号ST(N−1)を受信し、ソース電極は第五ノードK(N)に電気的に接続され、ドレイン電極は定圧低電位DCLに電気的に接続され、前ステージであるステージGOAユニット回路の伝送信号ST(N−1)が高電位である時、前記第五十六薄膜トランジスタT56は導通し、第五ノードK(N)の電位を定圧低電位DCLまでプルダウンさせ、それによって第一ノードQ(N)がまだ完全に上昇していない状況において第五ノードK(N)の電位に対するプルダウンを完成させる。
図4及び図11を同時に参照する。図4は、本発明の酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路の実施例3である。前記実施例3及び実施例2の違いは、前記プルダウン保持モジュール600はさらに、第五十七薄膜トランジスタT57を備えていることであり、前記第五十七薄膜トランジスタT57のゲート電極は前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の伝送信号ST(N−1)を受信し、ソース電極は第二ノードP(N)に電気的に接続され、ドレイン電極は第五ノードK(N)に電気的に接続され、前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の伝送信号ST(N−1)が高電位である時、前記第五十六薄膜トランジスタT56と、第五十七薄膜トランジスタT57とは、それぞれ導通し、第五ノードK(N)及び第二ノードP(N)の電位を定圧低電位DCLにまでプルダウンし、第一ノードQ(N)がまだ完全に上昇していない状況において第五ノードK(N)及び第二ノードP(N)の電位にプルダウンを完成させる。
図5及び図8及び図11を同時に参照する。図5は、本発明の酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路の実施例4である。前記実施例4及び実施例1の違いは、前記第五十五薄膜トランジスタT55のゲート電極は前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の走査駆動信号G(N−1)を受信し、第一ノードQ(N)がまだ完全に上昇していない状況において、前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の走査駆動信号G(N−1)を用いて第五十五薄膜トランジスタT55が第四ノードS(N)の電位にプルダウンするように制御する。その他はいずれも実施例1と同様であり、ここでは記載を省略する。
図6及び図9及び図11を同時に参照する。図6は、本発明の酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路の実施例5である。前記実施例5及び実施例2の違いは、前記第五十五薄膜トランジスタT55及び第五十六薄膜トランジスタT56のゲート電極は前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の走査駆動信号G(N−1)を受信し、即ち第一ノードQ(N)がまだ完全に上昇していない状況において、前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の走査駆動信号G(N−1)を用いて、第五十五薄膜トランジスタT55及び第五十六薄膜トランジスタT56がそれぞれ第四ノードS(N)及び第五ノードK(N)の電位にプルダウンするように制御する。その他は実施例2と同様であり、ここでは記載を省略する。
図7及び図10及び図11を同時に参照する。図7は、本発明の酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路の実施例6である。前記実施例6及び実施例3の違いは、前記第五十五薄膜トランジスタT55と、第五十六薄膜トランジスタT56と、第五十七薄膜トランジスタT57のゲート電極は、前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の走査駆動信号G(N−1)を受信し、即ち第一ノードQ(N)がまだ完全に上昇していない状況において、前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の走査駆動信号G(N−1)を利用して第五十五薄膜トランジスタT55及び第五十六薄膜トランジスタT56及び第五十七薄膜トランジスタT57を、それぞれ第四ノードS(N)及び第五ノードK(N)及び第二ノードP(N)の電位にプルダウンさせるように制御する。その他はいずれも実施例3と同様であり、ここでは記載を省略する。
200 プルアップモジュール
300 伝送モジュール
400 第一プルダウンモジュール
500 ブートストラップコンデンサモジュール
600 プルダウン保持モジュール
T11 第十一薄膜トランジスタ
T21 第二十一薄膜トランジスタ
T22 第二十二薄膜トランジスタ
T40 第四十薄膜トランジスタ
T41 第四十一薄膜トランジスタ
T51 第五十一薄膜トランジスタ
T52 第五十二薄膜トランジスタ
T53 第五十三薄膜トランジスタ
T54 第五十四薄膜トランジスタ
T73 第七十三薄膜トランジスタ
T74 第七十四薄膜トランジスタ
T55 第五十五薄膜トランジスタ
T42 第四十二薄膜トランジスタ
T32 第三十二薄膜トランジスタ
T75 第七十五薄膜トランジスタ
T76 第七十六薄膜トランジスタ
T56 第五十六薄膜トランジスタ
T57 第五十七薄膜トランジスタ
CK(m) m番目のクロック信号
CK(m+2) m+2番目のクロック信号
CK(1) 第一クロック信号
CK(2) 第二クロック信号
CK(3) 第三クロック信号
CK(4) 第四クロック信号
ST(N) 第NステージのGOAユニット回路の伝送信号
ST(N−1) 第N−1ステージのGOAユニット回路の伝送信号
Q(N) 第一ノード
P(N) 第二ノード
T(N) 第三ノード
S(N) 第四ノード
K(N) 第五ノード
DCH 定圧高電位
DCL 定圧低電位
VSS 第一負電位
Cb コンデンサ
G(N) 第NステージのGOAユニット回路の走査駆動信号
G(N−1)第N−1ステージのGOAユニット回路の走査駆動信号
G(1) 第一ステージのGOAユニット回路の走査駆動信号
STV 走査起動信号
F1 二重インバータ
Claims (6)
- 縦続接続された複数のGOAユニット回路からなる酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路であって、
各ステージのGOAユニット回路がそれぞれ、プルアップ制御モジュールと、プルアップモジュールと、伝送モジュールと、第一プルダウンモジュールと、ブートストラップコンデンサモジュールと、プルダウン保持モジュールと、からなり、
Nを正の整数とした場合、第一ステージのGOAユニット回路だけでなく、第NステージのGOAユニット回路においても、
前記プルアップ制御モジュールは、第十一薄膜トランジスタからなり、
前記第十一薄膜トランジスタのゲート電極は前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の伝送信号を受信し、ソース電極は定圧高電位に電気的に接続され、ドレイン電極は第一ノードに電気的に接続され、
前記プルアップモジュールは、第二十一薄膜トランジスタからなり、
前記第二十一薄膜トランジスタのゲート電極は第一ノードに電気的に接続され、ソース電極はm番目のクロック信号が入力されるm番目クロック信号点に電気的に接続され、ドレイン電極は走査駆動信号を出力させる走査駆動信号点に接続され、
前記伝送モジュールは、第二十二薄膜トランジスタからなり、
前記第二十二薄膜トランジスタのゲート電極は前記第一ノードに電気的に接続され、ソース電極は前記m番目クロック信号点に電気的に接続され、ドレイン電極は伝送信号を出力させ、
前記第一プルダウンモジュールは、第四十薄膜トランジスタと、第四十一薄膜トランジスタと、からなり、
前記第四十薄膜トランジスタのゲート電極及びソース電極は前記第一ノードにそれぞれ電気的に接続され、ドレイン電極は第四十一薄膜トランジスタのドレイン電極に電気的に接続され、
前記第四十一薄膜トランジスタのゲート電極はm+2番目のクロック信号が入力されるm+2番目クロック信号点に電気的に接続され、ソース電極には前記走査駆動信号が入力する前記走査駆動信号点に接続され、
前記ブートストラップコンデンサモジュールはコンデンサからなり、
前記コンデンサの一端は前記第一ノードに電気的に接続され、他端は前記走査駆動信号点に電気的に接続され、
前記プルダウン保持モジュールは、少なくとも第五十一薄膜トランジスタと、第五十二薄膜トランジスタと、第五十三薄膜トランジスタと、第五十四薄膜トランジスタと、第七十三薄膜トランジスタと、第七十四薄膜トランジスタと、第五十五薄膜トランジスタと、第四十二薄膜トランジスタと、第三十二薄膜トランジスタと、第七十五薄膜トランジスタと、第七十六薄膜トランジスタと、第五十六薄膜トランジスタと、からなり、
前記第五十一薄膜トランジスタのゲート電極及びソース電極は前記定圧高電位に電気的に接続され、ドレイン電極は第四ノードに電気的に接続され、
前記第五十二薄膜トランジスタのゲート電極は前記第一ノードに電気的に接続され、ドレイン電極は前記第四ノードに電気的に接続され、ソース電極は第一負電位に電気的に接続され、
前記第五十三薄膜トランジスタのゲート電極は前記第四ノードに電気的に接続され、ソース電極は前記定圧高電位に電気的に接続され、ドレイン電極は第二ノードに電気的に接続され、
前記第五十四薄膜トランジスタのゲート電極は前記第一ノードに電気的に接続され、ソース電極は前記第二ノードに電気的に接続され、ドレイン電極は第五ノードに電気的に接続され、
前記第七十三薄膜トランジスタのゲート電極は前記第四ノードに電気的に接続され、ソース電極は前記定圧高電位に電気的に接続され、ドレイン電極は前記第五ノードに電気的に接続され、
前記第七十四薄膜トランジスタのゲート電極は前記第一ノードに電気的に接続され、ソース電極は定圧低電位に電気的に接続され、ドレイン電極は前記第五ノードに電気的に接続され、
前記第五十五薄膜トランジスタのゲート電極は前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の伝送信号、または前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の走査駆動信号を受信し、ソース電極は前記第四ノードに電気的に接続され、ドレイン電極は前記第一負電位に電気的に接続され、
前記第四十二薄膜トランジスタのゲート電極は前記第二ノードに電気的に接続され、ソース電極は前記第一ノードに電気的に接続され、ドレイン電極は第三ノードに電気的に接続され、
前記第三十二薄膜トランジスタのゲート電極は前記第二ノードに電気的に接続され、ソース電極は前記走査駆動信号点に電気的に接続され、ドレイン電極は前記第一負電位に電気的に接続され、
前記第七十五薄膜トランジスタのゲート電極は前記第一ノードに電気的に接続され、ソース電極は前記第三ノードに電気的に接続され、ドレイン電極は前記定圧高電位に電気的に接続され、
前記第七十六薄膜トランジスタのゲート電極は前記第二ノードに電気的に接続され、ソース電極は前記第三ノードに電気的に接続され、ドレイン電極は前記定圧低電位に電気的に接続され、
前記第五十六薄膜トランジスタのゲート電極は前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の伝送信号、または前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の走査駆動信号を受信し、ソース電極は前記第五ノードに電気的に接続され、ドレイン電極は前記定圧低電位に電気的に接続され、
前記定圧低電位は前記第一負電位より低く、
前記各ステージのGOAユニット回路内のすべての薄膜トランジスタは酸化物半導体薄膜トランジスタである
こと特徴とする酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路。
ここで、第一クロック信号CK(1)と、第二クロック信号CK(2)と、第三クロック信号CK(3)と、第四クロック信号CK(4)とは、パルスの立ち上がりの位相がπ/2(90°)ずつ順番にずれた4つのクロック信号であって、パルスの立ち上がりの順番は、CK(1)→CK(2)→CK(3)→CK(4)→CK(1)→・・・であるとする。
mを正整数であって前記Nを4で割った余りであるとし、前記4つのクロック信号を、m番目のクロック信号CK(m)、m+1番目のクロック信号CK(m+1)、m+2番目のクロックCK(m+2)、および、m+3番目のクロック信号CK(m+3)、と表わす。 - 請求項1に記載の酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路において、
前記プルダウン保持モジュールは、さらに、第五十七薄膜トランジスタを備え、
前記第五十七薄膜トランジスタのゲート電極は前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の伝送信号、または前ステージである第N−1ステージのGOAユニット回路の走査駆動信号を受信し、ソース電極は前記第二ノードに電気的に接続され、ドレイン電極は前記第五ノードに電気的に接続される
ことを特徴とする酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路。 - 請求項1に記載の酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路において、
第一ステージのGOAユニット回路において、
前記第十一薄膜トランジスタのゲート電極、前記第五十五薄膜トランジスタのゲート電極、および、前記第五十六薄膜トランジスタのゲート電極は、走査起動信号を受信する
ことを特徴とする酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路。 - 請求項2に記載の酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路において、
第一ステージのGOAユニット回路において、
前記第十一薄膜トランジスタのゲート電極、前記第五十五薄膜トランジスタのゲート電極、前記第五十六薄膜トランジスタのゲート電極、および、前記第五十七薄膜トランジスタのゲート電極は走査起動信号を受信する
ことを特徴とする酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路。 - 請求項1に記載の酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路において、
前記m番目のクロック信号CK(m)が第三クロック信号CK(3)である時、前記m+2番目のクロック信号CK(m+2)は第一クロック信号CK(1)であり、
前記m番目のクロック信号CK(m)が第四クロック信号CK(4)である時、前記m+2番目のクロック信号CK(m+2)は第二クロック信号CK(2)である
ことを特徴とする酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路。 - 請求項1に記載の酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路において、
前記各ステージのGOAユニット回路内のすべての薄膜トランジスタはIGZO薄膜トランジスタである
ことを特徴とする酸化物半導体薄膜トランジスタに基づくGOA回路。
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