JP6375951B2 - アミノ変性シロキサン化合物、変性イミド樹脂、熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、樹脂付フィルム、積層板、多層プリント配線板、及び半導体パッケージ - Google Patents
アミノ変性シロキサン化合物、変性イミド樹脂、熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、樹脂付フィルム、積層板、多層プリント配線板、及び半導体パッケージ Download PDFInfo
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Description
[2] [1]に記載の分子構造中に芳香族アゾメチンを有するアミノ変性シロキサン化合物と、1分子中に少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(C)とを反応させて得られる、芳香族アゾメチンを有する変性イミド樹脂。
[4] [1]に記載の芳香族アゾメチンを有するアミノ変性シロキサン化合物と、1分子中に少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(C)を含有する熱硬化性樹脂組成物。
[6] さらに、熱可塑性エラストマー(E)を含有する[4]又は[5]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[7] さらに、エポキシ樹脂及びシアネート樹脂から選ばれた少なくとも一種の熱硬化性樹脂(F)を含有する[4]〜[6]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[8] さらに、無機充填材(G)を含有する[4]〜[7]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[9] さらに、硬化促進剤(H)を含有する[4]〜[8]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[11] [4]〜[9]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物を支持体上に層形成してなる樹脂付フィルム。
[12] [10]記載のプリプレグを積層成形し得られる積層板。
[13] [11]記載の樹脂付フィルムを積層成形して得られる積層板。
[14] [12]又は[13]記載の積層板を用いて製造される多層プリント配線板。
[15] [14]記載の多層プリント配線板に半導体素子を搭載してなる半導体パッケージ。
(アミノ変性シロキサン化合物)
本発明の芳香族アゾメチンを有するアミノ変性シロキサン化合物は、1分子中に少なくとも2個の一級アミノ基を有する芳香族アミン化合物(i)、1分子中に少なくとも2個のアルデヒド基を有する芳香族アルデヒド化合物(ii)を反応させて得られる、1分子中に少なくとも1個のアルデヒド基を有する芳香族アゾメチン化合物(A)と、分子末端に少なくとも2個の一級アミノ基を有するシロキサン化合物(B)を反応させ得られるものである。
ここで、芳香族アゾメチンとは、シッフ塩基(−N=CH−)に少なくとも1つの芳香族が結合したものをいう。
一般式(2)の式中、nは1〜100の整数であり、より好ましくは、2〜50の整数である。
これらの中で、合成時の反応性が高く、低熱膨張性の点から、例えば、X−22−161A、X−22−161B、KF−8012、X−22−1660B−3、BY−16−853Bが好ましく、相溶性に優れ、高弾性率化できるX−22−161A、X−22−161Bがさらに好ましい。
また、本反応は、本発明の芳香族アゾメチンを有するアミノ変性シロキサン化合物の分子中における、芳香族アゾメチンの分子量制御が容易である特徴を有し、これを含有する樹脂組成物の高弾性率化に特に有効である。
また、この反応は脱水縮合反応であるため副生成物として水が生成される。この副生成物である水を除去する目的で、例えば、芳香族系溶剤との共沸により副生成物である水を除去しながら反応することが望ましい。
このときの反応温度は、例えば、70〜150℃が好ましく、100〜130がより好ましい。また、副生成物である水を除去しながら反応することが好ましい。反応温度を70℃以上とすることにより、反応速度が遅くなることが少ない傾向にある。また、反応温度を150℃以下とすることにより、反応溶媒に高沸点の溶媒を必要とせず、プリプレグを製造する際、残溶剤が残りにくく、良好な耐熱性低下が得られる傾向にある。
反応温度は、例えば、70〜150℃が好ましく、100〜130がより好ましい。また、副生成物である水を除去しながら反応することが好ましい。反応温度を70℃以上とすることにより、反応速度が遅くなりすぎない傾向にある。また、反応温度を150℃以下とすることにより、反応溶媒に高沸点の溶媒を必要とせず、プリプレグを製造する際、残溶剤が残りにくく、良好な耐熱性が得られる傾向にある。
測定装置としては、オートサンプラー(東ソー社製AS−8020)、カラムオーブン(日本分光工業社製860−C0)、RI検出器(日本分光工業社製830−RI)、UV/VIS検出器(日本分光工業社製870−UV)、HPLCポンプ(日本分光工業社製880−PU)を使用する。
また、使用カラムとしては、東ソー社製 TSKgel SuperHZ2000,2300を使用し、測定条件としては、測定温度 40℃、流量 0.5ml/min、溶媒をテトラヒドロフランとすることで、測定可能である。
本発明の変性イミド樹脂は、既述の本発明のアミノ変性シロキサン化合物と、1分子中に少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(C)とを反応させて得られるものである。
なお、アミン化合物(D)のさらなる詳細については後述する。また、「アミン化合物(D)の酸性置換基に由来するもの」とは、アミン化合物(D)の酸性置換基そのもの、及び、当該酸性置換基を含むものをいう。
本発明の熱硬化性樹脂組成物は、芳香族アゾメチンを有するアミノ変性シロキサン化合物と、1分子中に少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(C)とを含有してなるものである。
成分(C)の使用量は、例えば、樹脂成分の総和100質量部当たり、30〜99質量部とすることが好ましく、40〜95質量部とすることが、低熱膨張性、高弾性率の点からより好ましい
有機溶媒中で芳香族アゾメチンを有するアミノ変性シロキサン化合物と、1分子中に少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(C)とを反応させる際の反応温度は、例えば、70〜150℃であることが好ましく、100〜130℃であることがより好ましい。反応時間は、例えば、0.1〜10時間であることが好ましく、1〜6時間であることがより好ましい。
併用する硬化剤としては、例えば、ジシアンジアミドや、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジエチル−ジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、フェニレンジアミン、キシレンジアミン等の芳香族アミン類、ヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン等の脂肪族アミン類、メラミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン化合物類などが挙げられる。これらは単独で、あるいは2種類以上を混合して用いてもよい。
有機溶媒中で芳香族アゾメチンを有するアミノ変性シロキサン化合物、成分(C)、及び成分(D)を反応させる際の反応温度は、例えば、70〜150℃であることが好ましく、100〜130℃であることがより好ましい。反応時間は、例えば、0.1〜10時間であることが好ましく、1〜6時間であることがより好ましい。
また、プレ反応における成分(D)の使用量は、例えば、アミノ変性シロキサン化合物の樹脂成分100質量部に対して1〜1000質量部が好ましく、5〜500質量部がより好ましい。1質量部以上とすることにより耐熱性の低下が抑制される傾向にある。また、1000質量部以下とすることにより低熱膨張性を良好に保つことができる。
併用する硬化剤としては、例えば、ジシアンジアミドや、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジエチル−ジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、フェニレンジアミン、キシレンジアミン等の芳香族アミン類、ヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン等の脂肪族アミン類、メラミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン化合物類などが挙げられる。
また、上記ラジカル開始剤としては、例えば、アシル過酸化物、ハイドロパーオキサイド、ケトン過酸化物、t−ブチル基を有する有機過酸化物、クミル基を有する過酸化物等の有機過酸化物などが使用できる。これらは単独で、あるいは2種類以上を混合して使用してもよい。これらの中で、例えば、良好な反応性や耐熱性の点から、芳香族アミン類が好ましい。
熱可塑性エラストマー(E)(以下、成分(E)と呼ぶことがある)としては、例えば、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリアミド系エラストマー、アクリル系エラストマー、シリコーン系エラストマーやその誘導体等が挙げられる。これらは、ハードセグメント成分とソフトセグメント成分を含んでおり、一般に前者が耐熱性及び強度に、後者が柔軟性及び強靭性に寄与している。これらは、1種を単独で又は2種以上を混合して使用できる。
成分(F)のエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリアジン骨格含有エポキシ樹脂、フルオレン骨格含有エポキシ樹脂、トリフェノールフェノールメタン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、キシリレン型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、多官能フェノール類及びアントラセン等の多環芳香族類のジグリシジルエーテル化合物並びにこれらにリン化合物を導入したリン含有エポキシ樹脂などが挙げられる。これらは単独で、あるいは2種類以上を混合して使用してもよい。これらの中で、例えば、耐熱性、難燃性の点からビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂及びナフタレン型エポキシ樹脂が好ましい。
無機充填材(G)(以下、成分(G)と呼ぶことがある)としては,例えば、シリカ、アルミナ、タルク、マイカ、カオリン、水酸化アルミニウム、ベーマイト、水酸化マグネシウム、ホウ酸亜鉛、スズ酸亜鉛、酸化亜鉛、酸化チタン、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ホウ酸アルミニウム、チタン酸カリウム、EガラスやTガラス、Dガラス等のガラス粉や中空ガラスビーズなどが挙げられる。これらは単独で、あるいは2種類以上を混合して使用してもよい。
また、樹脂組成物に成分(G)を配合するに際しては、例えば、成分(G)をシラン系、チタネート系等のカップリング剤、シリコーンオリゴマー等の表面処理剤で前処理、あるいはインテグラルブレンド処理してもよい。
硬化促進剤(H)(以下、成分(H)と呼ぶことがある)としては、例えば、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、オクチル酸スズ、オクチル酸コバルト、ビスアセチルアセトナートコバルト(II)、トリスアセチルアセトナートコバルト(III)等の有機金属塩、イミダゾール類及びその誘導体、ホスフィン類及びホスホニウム塩等の有機リン系化合物、第二級アミン類、第三級アミン類、及び第四級アンモニウム塩などが挙げられる。これらの1種を単独で又は2種以上を混合して使用できる。
これらの中で、例えば、促進効果と保存安定性の点から、ナフテン酸亜鉛、イミダゾール誘導体、ホスホニウム塩が好ましい。
これらの中で、例えば、溶解性の点からメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルが好ましく、低毒性である点からメチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルがより好ましい。
本発明のプリプレグは、前記した本発明の熱硬化性樹脂組成物を、基材に含浸してなるものである。。以下、本発明のプリプレグについて詳述する。
本発明のプリプレグは、本発明の熱硬化性樹脂組成物を、基材に含浸し、加熱等により半硬化(Bステージ化)して製造することができる。本発明の熱硬化性樹脂組成物を基材に含浸させる方法として特に限定されないが、例えば、基材を樹脂ワニスに浸漬する方法、各種コーターにより塗布する方法、スプレーによる吹き付ける方法等が挙げられる。これらの中でも、基材を樹脂ワニスに浸漬する方法が好ましい。これにより、基材に対する樹脂組成物の含浸性を向上することができる。
本発明の基材としては、例えば、各種の電気絶縁材料用積層板に用いられている周知のものが使用できる。その材質の例としては、Eガラス、Dガラス、Sガラス及びQガラス等の無機物繊維、ポリイミド、ポリエステル及びテトラフルオロエチレン等の有機繊維、並びにそれらの混合物などが挙げられる。他の用途では、例えば、繊維強化基材であれば、炭素繊維等を用いることも可能である。
本発明の樹脂付フィルムは、本発明の熱硬化性樹脂組成物を支持体上に層形成してなるものである。本発明で得られる熱硬化性樹脂組成物を支持体上に層形成する方法として特に限定されないが、例えば、本発明で得られる熱硬化性樹脂組成物をワニスの状態にし、各種コーターを用いて支持体に塗布し、更に加熱、あるいは熱風吹きつけ等により乾燥させて樹脂組成物層を形成させることができる。このように加熱等により半硬化(Bステージ化)して本発明の樹脂付フィルムを製造することができる。この半硬化状態は、樹脂付きフィルムと回路基板を積層し、硬化する際に、樹脂付きフィルムの樹脂組成物層と回路基板との接着力が確保される状態で、また、回路基板への埋めこみ性(流動性)が確保される状態であることが好ましい。
本発明の熱硬化性樹脂組成物を支持体上に塗布する際に用いるコーターは、特に限定されるものではないが、例えば、ダイコーター、コンマコーター、バーコーター、キスコーター、ロールコーター等が利用できる。これらは、樹脂組成物層の厚みによって適宜選択できる。また、乾燥方法としては、加熱、あるいは熱風吹きつけ等を用いることができる。
本発明の積層板は、前述の樹脂付フィルムを積層成形して得られるものである。例えば、樹脂付フィルムを、真空ラミネーターを用いて、回路基板、プリプレグ及び基材等の片面又は両面にラミネートし、必要に応じ、加熱により硬化することで製造することができる。回路基板に用いられる基板としては、例えば、ガラスエポキシ基板、金属基板、ポリエステル基板、ポリイミド基板、BTレジン基板、熱硬化型ポリフェニレンエーテル基板等が挙げられる。なお、ここで回路基板とは、上記のような基板の片面又は両面に回路パターンが形成されたものをいう。また導体層と絶縁層とを交互に複数積層してなるプリント配線板において、該プリント配線板の最外層の片面又は両面に回路パターンが形成されたものも、ここでいう回路基板に含まれる。なお導体層表面には、黒化処理等により予め粗化処理が施されていてもよい。
積層板を積層成形する際の成形条件は、例えば、電気絶縁材料用積層板及び多層板の手法が適用でき、例えば多段プレス、多段真空プレス、連続成形、オートクレーブ成形機等を使用し、温度100〜250℃、圧力0.2〜10MPa、加熱時間0.1〜5時間の範囲で成形することができる。また、本発明のプリプレグと内層用配線板とを組合せ、積層成形して、積層板を製造することもできる。
本発明の多層プリント配線板は、前記積層板を用いて製造される。例えば、本発明の積層板の導体層を通常のエッチング法によって配線加工し回路基板を得ることが出来る。そして、前述のプリプレグを介して配線加工した積層板を複数積層し、加熱プレス加工することによって一括して多層化する。その後、ドリル加工、レーザー加工等によるスルーホール又はブラインドビアホールの形成と、メッキ又は導電性ペーストによる層間配線の形成を経て多層プリント配線板を製造することができる。
本発明の半導体パッケージは、前記多層プリント配線板に半導体素子を搭載してなるものである。本発明の半導体パッケージは、前記プリント配線板の所定の位置に半導体チップやメモリ等の半導体素子を搭載し製造される。
なお、各実施例及び比較例で得られた樹脂板を用いて硬化収縮率について以下の方法で測定し、評価した。さらに、銅張積層板を用いて、ガラス転移温度、熱膨張率、銅箔接着性、銅付きはんだ耐熱性、曲げ弾性率、及び誘電特性について以下の方法で測定し、評価した。
5mm角の樹脂板(厚さ1mm)を作製し、TMA試験装置(TAインスツルメント社製、Q400)を用いて圧縮法で熱機械分析を行った。樹脂板を前記装置にZ方向に装着後、荷重5g、昇温速度45℃/分とし、20℃(5分保持)〜260℃(2分保持)〜20℃(5分保持)の温度プロファイルにて測定した。樹脂板の初期寸法と昇温開始前の20℃及び昇温後の20℃での寸法変化量から樹脂板の硬化収縮率を評価した。
具体的には、以下の式を用いて、樹脂板の硬化収縮率を算出した。
硬化収縮率(%)=[(昇温開始前20℃の寸法(mm)−昇温後20℃の寸法(mm))/昇温開始前20℃の寸法(mm)]×100
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた5mm角の評価基板を作製し、TMA試験装置(TAインスツルメント社製、Q400)を用いて圧縮法で熱機械分析をおこなった。評価基板を前記装置にZ方向に装着後、荷重5g、昇温速度10℃/分の測定条件にて連続して2回測定した。2回目の測定における熱膨張曲線の異なる接線の交点で示されるTgを求め、耐熱性を評価した。
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた5mm角の評価基板を作製し、TMA試験装置(TAインスツルメント社製、Q400)を用いて圧縮法で熱機械分析をおこなった。評価基板を前記装置にX方向に装着後、荷重5g、昇温速度10℃/分の測定条件にて連続して2回測定した。2回目の測定における30℃から100℃までの平均熱膨張率を算出し、これを熱膨張率の値とした。
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより3mm幅の銅箔を形成して評価基板を作製し、引張り試験機を用いて銅箔の接着性(ピール強度)を測定した。
銅張積層板から25mm角の評価基板を作製し、温度288℃のはんだ浴に、120分間評価基板をフロートし、外観を観察することにより銅付きはんだ耐熱性を評価した。
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた25mm×50mmの評価基板を作製し、オリエンテック社製5トンテンシロンを用い、クロスヘッド速度1mm/min、スパン間距離20mmで測定した。
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた100mm×2mmの評価基板を作製し、空洞共振機装置(株式会社関東電子応用開発製)を用いて、周波数1GHzでの比誘電率及び誘電正接を測定した。
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン:12.9g、テレフタルアルデヒド:17.1g、プロピレングリコールモノメチルエーテル:45.0gを入れ、115℃で4時間反応した後、130℃まで昇温して常圧濃縮により脱水し、1分子中に少なくとも1個のアルデヒド基を有する芳香族アゾメチン化合物含有溶液(樹脂成分:60質量%)を得た。
次に、上記反応溶液に、分子末端に少なくとも2個の一級アミノ基を有するシロキサン化合物X−22−161B〔信越化学工業株式会社製、商品名〕:325.5g、プロピレングリコールモノメチルエーテル:513.3gを入れ、115℃で4時間反応した後、130℃まで昇温して常圧濃縮により脱水し、分子構造中に芳香族アゾメチンを有する変性シロキサン化合物(I−1)含有溶液(Mw:30000、樹脂成分:90質量%)を得た。
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、2,5−ジメチル−1,4−ジアミノベンゼン:8.7g、テレフタルアルデヒド:21.3g、プロピレングリコールモノメチルエーテル:45.0gを入れ、115℃で4時間反応した後、130℃まで昇温して常圧濃縮により脱水し、芳香族アゾメチン化合物含有溶液(樹脂成分:60質量%)を得た。
次に、上記反応溶液に、X−22−161B〔信越化学工業株式会社製、商品名〕:413.8g、プロピレングリコールモノメチルエーテル:645.7gを入れ、115℃で4時間反応した後、130℃まで昇温して常圧濃縮により脱水し、芳香族アゾメチンを有する変性シロキサン化合物(I−2)含有溶液(Mw:25000、樹脂成分:90質量%)を得た。
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、芳香族アゾメチンを有する変性シロキサン化合物(I−1)含有溶液(樹脂成分:90質量%):62.4g、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン:243.9g、プロピレングリコールモノメチルエーテル:443.8gを入れ、115℃で4時間反応した後、130℃まで昇温して常圧濃縮し、芳香族アゾメチンを有する変性イミド樹脂(J−1)含有溶液(Mw:8000、樹脂成分:60質量%)を得た。
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、芳香族アゾメチンを有する変性シロキサン化合物(I−1)含有溶液(樹脂成分:90質量%):62.5g、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン:238.1g、p−アミノフェノール:5.7g、プロピレングリコールモノメチルエーテル:443.8gを入れ、115℃で4時間反応した後、130℃まで昇温して常圧濃縮し、酸性置換基と芳香族アゾメチンを有する変性イミド樹脂(K−1)含有溶液(Mw:6500、樹脂成分:60質量%)を得た。
製造実施例1、2で得られた芳香族アゾメチンを有するアミノ変性シロキサン化合物含有溶液(I−1、I−2)、製造実施例3で得られた芳香族アゾメチンを有する変性イミド樹脂含有溶液(J−1)及び製造実施例4で得られた酸性置換基と芳香族アゾメチンを有する変性イミド樹脂含有溶液(K−1)と、以下に示す芳香族アミン化合物(i)、芳香族アルデヒド化合物(ii)、シロキサン化合物(B)、マレイミド化合物(C)、酸性置換基を有するアミン化合物(D)、熱可塑性エラストマー(E)、熱硬化性樹脂(F)、無機充填材(G)、硬化促進剤(H)、及び希釈溶剤にメチルエチルケトンを使用して、第1表〜第4表に示した配合割合(質量部)で混合して樹脂分65質量%のワニスを得た。
次に、上記ワニスを、16μmのポリエチレンテレフタレート製フィルムに、乾燥後の樹脂厚が35μmとなるようにフィルムアプリケーター(テスター産業株式会社製、PI−1210)を用いて塗布し、160℃で10分加熱乾燥し、半硬化物の樹脂粉を得た。支持体としては、特に制限はなく、汎用のものを使用することができ、また、塗布の方法としても特に制限はなく、通常の卓上塗工機を用いて塗布すればよい。
この樹脂粉をテフロン(登録商標)シートの型枠に投入し、12μmの電解銅箔の光沢面を上下に配置し、圧力2.0MPa、温度240℃で60分間プレスを行った後、電解銅箔を除去して樹脂板を得た。
また,上記ワニスを厚さ0.1mmのEガラスクロスに含浸塗工し,160℃で10分加熱乾燥して熱硬化性樹脂組成物含有量48質量%のプリプレグを得た。
このプリプレグを4枚重ね,12μmの電解銅箔を上下に配置し,圧力3.0MPa、温度240℃で60分間プレスを行って,銅張積層板を得た。
得られた樹脂板及び銅張積層板の測定・評価結果を第1表〜第4表に示す。
・KAYAHARD A−A:3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン〔日本化薬株式会社製、商品名〕
・TPAL:テレフタルアルデヒド〔東レ・ファインケミカル株式会社製、商品名〕
・X−22−161B:末端アミノ変性シロキサン〔信越化学工業株式会社製、商品名〕
・BMI:ビス(4−マレイミドフェニル)メタン〔ケイ・アイ化成株式会社製、商品名〕
・BMI−4000:2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン〔大和化成工業株式会社製、商品名〕
・p−アミノフェノール〔関東化学株式会社製、商品名〕
・タフテックH1043:水添スチレン−ブタジエン共重合樹脂〔旭化成ケミカルズ株式会社、商品名:〕
・エポフレンドCT−310:エポキシ変性スチレン−ブタジエン共重合樹脂〔株式会社ダイセル製、商品名:〕
・PT−30:ノボラック型シアネート樹脂〔ロンザジャパン株式会社製、商品名〕
・NC−7000L:α−ナフトール/クレゾールノボラック型エポキシ樹脂〔日本化薬株式会社製、商品名〕
・SC2050−KNK:溶融シリカ〔株式会社アドマテックス(株)製、商品名〕
・モリブデン酸亜鉛〔シャーウィン・ウィリアムズ社製、商品名:KEMGARD1100〕
・ナフテン酸亜鉛(II)8%ミネラルスピリット溶液〔東京化成工業株式会社製、商品名〕
・G−8009L:イソシアネートマスクイミダゾール〔第一工業製薬株式会社製、商品名〕
・TPP−MK:テトラフェニルホスホニウムテトラ-p-トリルボレート〔北興化学工業株式会社製、商品名〕
一方、比較例は、樹脂板の硬化収縮率が大きく、また、積層板の特性においても、熱膨張率、銅箔接着性、弾性率、誘電特性において実施例と比較し、いずれかの特性に劣っている。
Claims (14)
- 1分子中に少なくとも2個の一級アミノ基を有する芳香族アミン化合物(i)、1分子中に少なくとも2個のアルデヒド基を有する芳香族アルデヒド化合物(ii)を反応させて得られる、1分子中に少なくとも1個のアルデヒド基を有する芳香族アゾメチン化合物(A)と、分子末端に少なくとも2個の一級アミノ基を有するシロキサン化合物(B)を反応させ得られる、分子構造中に芳香族アゾメチン及びアミノ基を有するシロキサン化合物。
- 請求項1に記載の芳香族アゾメチン及びアミノ基を有するシロキサン化合物と、1分子中に少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(C)とを反応させて得られる、芳香族アゾメチンを有する変性イミド樹脂。
- 請求項1に記載の芳香族アゾメチン及びアミノ基を有するシロキサン化合物と、1分子中に少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(C)とを含有する熱硬化性樹脂組成物。
- さらに、エポキシ樹脂及びシアネート樹脂から選ばれた少なくとも一種の熱硬化性樹脂(F)を含有する請求項4又は5に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- さらに、無機充填材(G)を含有する請求項4〜6のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- さらに、硬化促進剤(H)を含有する請求項4〜7のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
- 請求項4〜8のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物を基材に含浸してなるプリプレグ。
- 請求項4〜8のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物を支持体上に層形成してなる樹脂付フィルム。
- 請求項9記載のプリプレグを積層成形し得られる積層板。
- 請求項10記載の樹脂付フィルムを積層成形して得られる積層板。
- 請求項11又は12記載の積層板を用いて製造される多層プリント配線板。
- 請求項13記載の多層プリント配線板に半導体素子を搭載してなる半導体パッケージ。
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