[go: up one dir, main page]

JP6188470B2 - 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影システム - Google Patents

放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影システム Download PDF

Info

Publication number
JP6188470B2
JP6188470B2 JP2013153198A JP2013153198A JP6188470B2 JP 6188470 B2 JP6188470 B2 JP 6188470B2 JP 2013153198 A JP2013153198 A JP 2013153198A JP 2013153198 A JP2013153198 A JP 2013153198A JP 6188470 B2 JP6188470 B2 JP 6188470B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
potential
radiation
cathode
electron emission
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2013153198A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015023013A (ja
JP2015023013A5 (ja
Inventor
青木 修司
修司 青木
上田 和幸
和幸 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2013153198A priority Critical patent/JP6188470B2/ja
Priority to US14/337,590 priority patent/US9412552B2/en
Publication of JP2015023013A publication Critical patent/JP2015023013A/ja
Publication of JP2015023013A5 publication Critical patent/JP2015023013A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6188470B2 publication Critical patent/JP6188470B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00X-ray tubes
    • H01J35/02Details
    • H01J35/16Vessels; Containers; Shields associated therewith
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00X-ray tubes
    • H01J35/02Details
    • H01J35/04Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H01J35/045Electrodes for controlling the current of the cathode ray, e.g. control grids
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00X-ray tubes
    • H01J35/02Details
    • H01J35/04Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H01J35/06Cathodes
    • H01J35/065Field emission, photo emission or secondary emission cathodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00X-ray tubes
    • H01J35/02Details
    • H01J35/04Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H01J35/06Cathodes
    • H01J35/066Details of electron optical components, e.g. cathode cups
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00X-ray tubes
    • H01J35/02Details
    • H01J35/04Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H01J35/08Anodes; Anti cathodes
    • H01J35/112Non-rotating anodes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/02Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
    • G01N23/04Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2235/00X-ray tubes
    • H01J2235/16Vessels
    • H01J2235/163Vessels shaped for a particular application
    • H01J2235/164Small cross-section, e.g. for entering in a body cavity

Landscapes

  • X-Ray Techniques (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)

Description

本発明は、例えば医療機器、非破壊検査装置等に適用できるマルチ放射線発生装置と放射線撮影システムに関する。
通常、放射線発生装置は、真空に保持された放射線発生管内において、電子放出源(カソード)から放出される電子を高エネルギーに加速し、所望の形状の電子線を成形した後に、ターゲットに照射して放射線を発生させている。電子放出源からの電子の放出/非放出は、電子放出源の電位を一定とし、電子放出源とターゲットとの間に配置させた引き出し電極の電位を変動させることで制御している(特許文献1参照)。
特開2013−33681号公報
ところで、従来より、複数の電子放出源にそれぞれ対向して設けられた複数のターゲットを有したマルチ放射線発生管が提案されている。しかしながら、それぞれの電子放出源からの電子の放出/非放出を制御するために、それぞれの電子の軌道に対して個別に引き出し電極を設けるため放射線発生管の構造が複雑になるという問題があった。
本発明の課題は、より簡易な構成によって、複数の電子放出源の電子の放出/非放出を個別に制御しうるマルチ放射線発生装置を提供することにあり、さらに、係るマルチ放射線発生装置を用いてより小型の放射線撮影システムを提供することにある。
本発明の第1は、電子を放出する複数のカソードと、前記カソードの各々に対応して配置され、電子の照射により放射線を発生する複数のターゲットと、前記複数のカソードと前記複数のターゲットの間に配置された引き出し電極と、を有する放射線発生管と、前記放射線発生管からの放射線の放出を制御する制御部と、を備えた放射線発生装置であって、
前記制御部、前記引き出し電極の電位より高いカットオフ電位と、前記引き出し電極の電位より低い電子放出電位とを、選択的に切り換えて、前記複数のカソードの各々に印加する手段を有し、
前記手段は、前記複数のカソードに対し共通する前記カットオフ電位を印加するためのカットオフ電圧を発生するカットオフ電圧発生部と、前記複数のカソードの各々に対応して設けられ、前記カットオフ電位に負の電圧を重畳し前記複数のカソードを選択的に切り替えて前記電子放出電位とする複数の電子放出電圧発生部と、を備えることを特徴とする。
本発明の第2は、上記本発明の放射線発生装置と、
記放射線発生装置から放出され、被検体を透過した放射線を検出する放射線検出装置と、
記放射線発生装置と前記放射線検出装置とを連携制御する制御装置とを備えていることを特徴とする放射線撮影システムである。
本発明の放射線発生装置によれば、引き出し電極の電位を一定とし、該電位に対してカソードの電位を選択的に切替えることで電子の放出/非放出を制御する。よって、引き出し電極を複数の電子放出源に対して共通として構成を簡素化することができ、各カソードより十分な電子を放出させて十分な放射線量を得ることができる。
本発明に係るマルチ放射線発生管の一実施形態の構成を示す断面模式図である。 本発明に係るマルチ放射線発生管の各電極への電位付与方法の一例を示す図である。 本発明に係るマルチ放射線発生管の各電極電位の関係図である。 本発明のマルチ放射線発生装置の一実形態の構成を示すブロック図である。 本発明のマルチ放射線発生装置の一実施形態のカソード駆動部の参考例の構成を示すブロック図である。 図5のカソード駆動部を備えた放射線発生装置のカソード電位と引き出し電極の電位とを示すタイミング図である。 本発明の放射線発生装置の実施形態のカソード駆動部の構成を示すブロック図である。 図7のカソード駆動部を備えた放射線発生装置のカソード電位と引き出し電極の電位とを示すタイミング図である。 本発明の放射線撮影システムの一実施形態の構成を示すブロック図である。
以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面を用いて詳細に説明するが、本発明は下記実施形態に限定されるものではない。尚、本明細書で特に図示又は記載されていない部分に関しては、当該技術分野の周知又は公知技術を適用する。また、以下に参照する図面において、同じ符号は同様の構成要素を示す。
〔第1の参考実施形態〕
図1に本発明のマルチ放射線発生装置の一実施形態における放射線発生管の構成を示す。
図1に示されるように、本発明に係る放射線発生管100は、電子を放出する電子放出源としてのカソード1と、電子線を衝突させて放射線を発生させるターゲット(アノード)4とを、複数組備えたマルチ放射線発生管である。本発明ではさらに、カソード1から電子を引き出す強電界を印加するための引き出し電極2とを備えている。これらは真空容器7内に設けられている。また、本例では、引き出した電子を収束させて電子線とする電界を印加するための中間電極3も備えている。
電子放出源としては、冷陰極型電子放出源、熱陰極型電子放出源等を適宜適用することが可能である。また、大電流の電子線を安定して取り出せる点では、例えばヒーター加熱による高温条件下で電子を引き出す液体金属含浸型電子放出源を好適に用いることができる。本例は、ヒーター(フィラメント)5と、該ヒーター5と絶縁されたカソード1からなる熱電子放出源を用いた構成を示している。引き出し電極2と中間電極3は、例えばモリブデン等の導電性金属で構成することができ、中間電極3は、カソード1とターゲット4との間に位置し、引き出し電極2は、カソード1と中間電極3の間に位置している。
ターゲット4は、それ自体が電子線の照射によって放射線を発生する材料で構成されていてもよいが、放射線を透過させる材料からなる支持基板上に、電子線の照射によって放射線を発生するターゲット層を積層したものであってもよい。放射線を透過させる支持基板の構成材料としては、ベリリウムやダイヤモンドのような低原子番号材料が好ましい。ターゲット層の構成材料としては、放射線の発生効率の点から、原子番号26以上の重金属材料を用いることが好ましい。具体的には、タングステン、モリブデン、クロム、銅、コバルト、鉄、ロジウム又はレニウム若しくはこれらの合金材料を用いることができる。
ターゲット4は、真空容器7を貫通して設けられた筒状の支持台6内の中空部の中間部を仕切るように配置し、カソード1に対向している。支持台6とターゲット4は、真空容器7の壁面の一部をなしており、真空容器7内の真空気密保持に寄与している。
即ち、本発明に係る放射線発生管は、複数のターゲット4を含む真空容器内に複数のカソード1と引き出し電極2とを収納して構成されている。
本発明に係る放射線発生管100は、複数のカソード1を有し、この複数のカソード1各々に対向して設けられた複数のターゲット4を有している。また、引き出し電極2と中間電極3は、複数のカソード1に対して共通に設けられ、それぞれカソード1から放出された電子が通過する開口2a,3aを複数のカソード1に対応して備えている。
本発明に係る放射線発生管100における電位状態の一例を図2、図3に示す。図2においては、真空容器7は接地電位となっている。真空容器7とターゲット4は同電位、即ち接地電位である。また、電圧源9aは、ターゲット4と引き出し電極2間の電位差を規定する。電圧源9bと電圧源9cは、カソード1の電位を規定するカソード電位規定手段として配備している。電圧源9dは、中間電極3の電位を規定する中間電極電位規定手段として配備している。電圧源9bは、電子線を加速してターゲット4に衝突させるために、カソード1に負の電位(電子放出電位)を付与する。電圧源9cは、カソード1から電子の放出を抑えるために、カソード1に正の電位(カットオフ電位)を付与する。
図3に示すように、ターゲット4の電位をVA、中間電極3の電位VG2、引き出し電極2の電位をVG1、カソード1の電位をVKとする。VA,VG1,VG2は一定に設定される。電子線を加速してターゲット4に衝突させるためのカソード1と引き出し電極2と中間電極3とターゲット4の各電位の関係は、VK<VG1<VG2<VAである。カソード1から電子の放出を抑えるためのカソード1と引き出し電極2と中間電極3とターゲット4の各電位の関係は、VG1<VK<VG2<VAである。即ち、本発明においては、引き出し電極2の電位VG1を一定とし、カソード1の電位VKを、該電位VG1よりも高いカットオフ電位とすることで電子放出を抑え、上記電位VG1よりも低い電子放出電位とすることで電子放出を行う。
カソード1の電位VKと引き出し電極2の電位VG1の電位差は50V乃至500V程度である。引き出し電極2の電位VG1と中間電極3の電位VG2の電位差は1kV乃至10kV程度である。引き出し電極2の電位VG1とターゲット4の電位VAの電位差は10kV乃至150kV程度である。即ち、カソード1から引き出された電子線は10keV乃至150keV程度のエネルギーを持ってターゲット4に衝突し放射線を発生させる。
スイッチ(SW)11は電子線を加速してターゲット4に衝突させるための電源9bをカソード1に接続させるスイッチである。スイッチ(SW)12はカソード1から電子の放出を抑えるための電源9cをカソード1に接続させるスイッチである。スイッチ11とスイッチ12は両者共にオンすることはなく、スイッチ11がオンしている時、スイッチ12はオフであり、スイッチ11がオフしている時、スイッチ12はオンであるように制御する。
次に、図4、図5、図6を用いて、本発明のマルチ放射線発生装置についての構成と動作について説明する。図4は、本発明のマルチ放射線発生装置の一実施形態の構成を示すブロック図である。図5は、図4中のカソード駆動部17の参考例を示すブロック図であり、図6は、図5のカソード駆動部による各カソード1と引き出し電極2の電位を示すタイミング図である。
図4において、本例のマルチ放射線発生装置は、制御部102と放射線発生管100とで構成される。本例の制御部102は、DC電源部13、制御回路部14、各制御ブロック(高電圧発生部15、中間電極駆動部16、カソード駆動部17、ヒーター駆動部20)で構成され、放射線発生管100の駆動を制御する。
DC電源部13は、外部DC電源又は外部AC電源から電力を受給し、制御回路部14及び各制御ブロックに所望のDC電力を供給する。制御回路部14は、外部からの放射線出力要求に応じて、各制御ブロックへ制御信号を出力する。
電圧発生部15は、−40kVの高電圧を生成して、引き出し電極2に−40kVを印加する。即ち、ターゲット4が接地された陽極接地型の形態で加速電圧が生成される。高電圧発生部15では、制御回路部14からの制御信号に応答して、高電圧用インバータ回路は、1kHz乃至500kHzで、24V乃至1kVのAC電力信号aを発生させる。AC電力信号aは、高電圧用絶縁トランスと高電圧用昇圧回路とにより、DC−40kVの加速電圧に変換される(不図示)。
中間電極駆動部16は、中間電極電圧を生成し、中間電極3に出力する。中間電極駆動部16では、制御回路部14からの制御信号に応答して、中間電極用インバータ回路が、1kHz乃至500kHzで、24V乃至1kVのAC電力信号bを発生させる。AC電力信号bは、中間電極用絶縁トランスと中間電極用昇圧回路とにより、DC−10kV乃至−30kVの中間電極電圧に変換される(不図示)。
カソード駆動部17は、カットオフ電圧と電子放出電圧とを切り換えてカソード1a乃至1dに印加する手段を備えている。カソード駆動部17は、本例では、図5に示すように、複数のカソード1a乃至1dに共通のカットオフ電圧発生部19及び電子放出電圧発生部18と、選択回路とから構成される。カソード駆動部17の出力は、図4に示したカソード1a乃至1dにそれぞれ印加される。
カットオフ電圧発生部19では、制御回路部14からの制御信号SG6に応答して、カットオフ電圧用インバータ回路が、DC電源部13から供給されたDC24Vから、1kHz乃至500kHzで、10V乃至100VのAC電力信号cを発生させる。AC電力信号cは、カットオフ電圧用絶縁トランスとカットオフ電圧用昇圧回路とにより、引き出し電極2の電位を規定としたDC10V乃至200Vのカットオフ電圧に変換される(不図示)。
同様に、電子放出電圧発生部18では、制御回路部14からの制御信号SG5に応答して、電子放出電圧用インバータ回路が、DC電源部13から供給されたDC24Vから、1kHz乃至500kHzで、5V乃至100VのAC電力信号dを発生させる。AC電力信号dは、引き出し電圧用絶縁トランスと電子放出電圧用昇圧回路とにより、引き出し電極2の電位を規定としたDC−10V乃至−200Vの電圧に変換される(不図示)。
カットオフ電圧発生部19からの出力と電子放出電圧発生部18からの出力を後述の選択回路にて切替えることで、カソード1a乃至1dのそれぞれへカソード駆動電圧を印加する。
ヒーター駆動部20では、制御回路部14からの制御信号に応答して、ヒーター用インバータ回路が、1kHz乃至500kHzで、5V乃至10VのAC電力信号eを発生させる。AC電力信号eは、ヒーター用絶縁トランスと全波整流回路とにより、DC5V乃至10Vのヒーター電圧に変換され、それぞれのヒーター5に印加される。
図5、図6を用いて、選択回路について説明する。本発明のマルチ放射線発生装置は複数の対となっているカソード1とターゲット4を有するが、それら全てから同時に放射線を発生させることはなく、一組ずつ時分割で放射線を発生させる。即ち、複数のカソード1のうちの選択された一つのカソード1から電子を放出させる選択回路により、時分割で一個のターゲット4に対してのみ電子線を衝突させるものとなっている。
図5にはカソード駆動部17の選択回路を示し、図6にはそれぞれカソードを選択した時のそれぞれのカソード電位を示している。
カソード1aの前段には、電子放出電圧発生部18からの出力の接続をオン/オフするスイッチ11aとカットオフ電圧発生部19からの出力の接続をオン/オフするスイッチ12aとが並列に接続されている。制御回路部14からの制御信号SG1によりカソード1aから電子を放出させる時にはスイッチ11aがオンとなりスイッチ12aはオフとなり、カソード1aには電子放出電圧が印加される。この時、その他のカソード1b,1c,1dには、カットオフ電圧が印加される。これは、制御回路部14からの制御信号SG2、SG3、SG4が、スイッチ11b,11c,11dがオフ、スイッチ12a,12b,12cがオンとなる状態を作り出している。
同様に、制御回路部14からの制御信号SG2によりカソード1bから電子を放出させるときには11bがオンとなり、スイッチ12bはオフとなり、カソード1bには電子放出電圧が印加される。この時、その他のカソード1a,1c,1dには、カットオフ電圧が印加される。これは、制御回路部14からの制御信号SG1、SG3、SG4が、11a,11c,11dがオフ、スイッチ12a,12c,12dがオンとなる状態を作り出している。
制御回路部14からの制御信号SG3によりカソード1cから電子を放出させる時にはスイッチ11cがオンとなり、スイッチ12cはオフとなり、カソード1cには電子放出電圧が印加される。この時、その他のカソード1a,1b,1dには、カットオフ電圧が印加される。これは、制御回路部14からの制御信号SG1、SG2、SG4が、スイッチ11a,11b,11dがオフ、スイッチ12a,12b,12dがオンとなる状態を作り出している。
制御回路部14からの制御信号SG4によりカソード1dから電子を放出させる時にはスイッチ11dがオンとなり、スイッチ12dはオフとなり、カソード1dには電子放出電圧が印加される。この時、その他のカソード1a,1b,1cには、カットオフ電圧が印加される。これは、制御回路部14からの制御信号SG1、SG2、SG3が、スイッチ11a,11b,11cがオフ、スイッチ12a,12b,12cがオンとなる状態を作り出している。
以上のことから、電子放出電圧発生部18からの電子放出電位を、選択的に切替えて、前記複数のカソード1a乃至1dの各々に与えることで、いずれのカソードを選択しても、十分な放射線量を得ることができる。
切替えスイッチは、アナログスイッチを用いて説明をしたが、オペアンプやトランジスタなどを組み合わせたスイッチング回路でもよい。また、スイッチング回路に代えて、電磁リレー、フォトモスリレーや水銀リレーでもよい。
また、本説明においては、放射線発生管100は、4個のカソード1a乃至1dを有し、この複数のカソード1a乃至1dにそれぞれ対向して設けられた4個のターゲット4を有している構成としたが、これに限定されるものではない。カソード1とターゲット4との組み合わせが複数であれば、特に個数は限定されない。
〔第2の実施形態〕
本実施形態は、図4のカソード駆動部17として、図7に示す構成をとった点において、第1の実施形態と異なる。即ち、本例のカソード駆動部17は、複数のカソード1a乃至1dに対して共通のカットオフ電圧発生部19と、複数のカソード1a乃至1dの各々に対応して電子放出電圧発生部18a乃至18dを設けている。
図7を用いて、カソード駆動部17において、カソード1a乃至1dのいずれかが選択され、電子放出電圧が印加され、選択されなかったカソードにはカットオフ電圧が印加される動作を説明する。図8にはそれぞれカソードを選択した時のカソード電位を示している。
カソード駆動部17は、それぞれのカソード1a乃至1dに接続される電子放出電圧発生部18a乃至18dと電子放出電圧発生部18a乃至18dに対して共有となるカットオフ電圧発生部19から構成される。即ち、カットオフ電圧発生部19からの出力に電子放出電圧発生部18a乃至18dからの出力を重畳させて、カソード1a乃至1dのそれぞれに印加するカソード電圧を生成する。
カットオフ電圧発生部19では、制御回路部14からの制御信号SG7に応答して、カットオフ電圧用インバータ回路が、DC電源部13から供給されたDC24Vから、1kHz乃至500kHzで、10V乃至100VのAC電力信号fを発生させる。AC電力信号fは、カットオフ電圧用絶縁トランスとカットオフ電圧用昇圧回路とにより、引き出し電極2の電位を規定としたDC10V乃至100Vのカットオフ電圧に変換される(不図示)。
電子放出電圧発生部18aでは、制御回路部14からの制御信号SG11がオンであることに応答して、引き出し電圧用インバータ回路が、DC電源部13から供給されたDC24Vから、1kHz乃至500kHzで、10V乃至200VのAC電力信号gを発生させる。AC電力信号gは、電子放出電圧用絶縁トランスと電子放出電圧用昇圧回路により、DC−10V乃至−300Vの電圧に変換され、カットオフ電圧に重畳される(不図示)。そして、その電圧が電子放出電圧として生成され、カソード1aに印加される。即ち、制御回路部14からの制御信号SG11のオン/オフにより、カソード1aの電子放出の有無を選択する。制御回路部14からの制御信号SG11がオフの時は電子放出電圧発生部18aから電子放出電圧を生成させず、カソード1aの印加電圧はカットオフ電圧となり、カソード1aからの電子放出はない。制御回路部14からの制御信号SG11がオンの時は電子放出電圧発生部18aから電子放出電圧を生成させ、カソード1aの印加電圧はカットオフ電圧が重畳された電子放出電圧となり、カソード1aから電子放出する。
同様に、電子放出電圧発生部18bでは、制御回路部14からの制御信号SG12がオンであることに応答して、電子放出電圧用インバータ回路が、DC電源部13から供給されたDC24Vから、1kHz乃至500kHzで、10V乃至200VのAC電力信号hを発生させる。AC電力信号hは、電子放出電圧用絶縁トランスと電子放出電圧用昇圧回路により、DC−10V乃至−300Vの電圧に変換され、カットオフ電圧に重畳される(不図示)。そして、その電圧が電子放出電圧として生成され、カソード1bに印加される。即ち、制御回路部14からの制御信号SG12がオフの時は電子放出電圧発生部18bから電子放出電圧を生成させず、カソード1bの印加電圧はカットオフ電圧となり、カソード1bからの電子放出はない。制御回路部14bからの制御信号SG12がオンの時は電子放出電圧発生部18bから電子放出電圧を生成させ、カソード1bの印加電圧はカットオフ電圧が重畳された電子放出電圧となり、カソード1bから電子放出する。
同様に、電子放出電圧発生部18cでは、制御回路部14からの制御信号SG13がオンであることに応答して、電子放出電圧用インバータ回路が、DC電源部13から供給されたDC24Vから、1kHz乃至500kHzで、10V乃至200VのAC電力信号jを発生させる。AC電力信号jは、電子放出電圧用絶縁トランスと電子放出電圧用昇圧回路により、DC−10V乃至−300Vの電圧に変換され、カットオフ電圧に重畳される(不図示)。そして、その電圧が電子放出電圧として生成され、カソード1cに印加される。即ち、制御回路部14からの制御信号SG13がオフの時は電子放出電圧発生部18cから電子放出電圧を生成させず、カソード1cの印加電圧はカットオフ電圧となり、カソード1cからの電子放出はない。制御回路部14からの制御信号SG13がオンの時は電子放出電圧発生部18cから電子放出電圧を生成させ、カソード1cの印加電圧はカットオフ電圧が重畳された電子放出電圧となり、カソード1cから電子放出する。
同様に、引き出し電圧発生部18dでは、制御回路部14からの制御信号SG14がオンであることに応答して、電子放出電圧用インバータ回路が、DC電源部13から供給されたDC24Vから、1kHz乃至500kHzで、10V乃至200VのAC電力信号kを発生させる。AC電力信号kは、電子放出電圧用絶縁トランスと電子放出電圧用昇圧回路により、DC−10V乃至−300Vの電圧に変換され、カットオフ電圧に重畳される(不図示)。そして、その電圧が電子放出電圧として生成され、カソード1dに印加される。即ち、制御回路部14からの制御信号SG14がオフの時は電子放出電圧発生部18dから電子放出電圧を発生させず、カソード1dの印加電圧はカットオフ電圧となり、カソード1dからの電子放出はない。制御回路部14からの制御信号SG14がオンの時は電子放出電圧発生部18dから電子放出電圧を発生させ、カソード1dは、カットオフ電圧が重畳された電子放出電圧となり、カソード1dから電子放出する。
以上のように、カソード駆動部17において、カットオフ電圧に選択的に電子放出電圧を重畳して、複数のカソードの各々に与えることで、いずれのカソードを選択しても、十分な放射線量を得ることができる。
〔放射線撮影システム〕
本発明のマルチ放射線発生装置を用いた放射線撮影システムについて説明する。図9は、本発明の放射線撮影システムの一実施形態の構成を示すブロック図である。
制御装置104は、放射線発生装置103と放射線検出装置106とを連携制御する。放射線発生装置103は、先の第1の実施形態、第2の実施形態で説明した本発明のマルチ放射線発生装置であり、放射線発生管100と制御部102とを備えている。制御装置104は放射線発生管100に各種の制御信号を出力し、該制御信号により、放射線発生装置103から放出される放射線の放出状態が制御される。放射線発生装置103から放出された放射線は、被検体107を透過して放射線検出装置106で検出される。放射線検出装置106は、検出した放射線を画像信号に変換して制御装置104に出力する。制御装置104は、画像信号に基づいて、表示装置105に画像を表示させるための表示信号を、表示装置5に出力する。表示装置105は、表示信号に基づく画像を、被検体の撮影画像としてスクリーンに表示する。
以上の実施形態では、透過型のマルチ放射線発生装置について説明したが、本発明は、反射型のマルチ放射線発生装置にも適用可能である。
1,1a,1b,1c,1d:カソード、2:引き出し電極、3:中間電極、4:ターゲット、11,11a,11b,11c,11d,12,12a,12b,12c,12d:スイッチ、18,18a,18b,18c,18d:電子放出電圧発生部、19:カットオフ電圧発生部、100:放射線発生管、102:制御部、103:マルチ放射線発生装置、104:制御装置、106:放射線検出装置、107:被検体

Claims (6)

  1. 電子を放出する複数のカソードと、前記カソードの各々に対応して配置され、電子の照射により放射線を発生する複数のターゲットと、前記複数のカソードと前記複数のターゲットの間に配置された引き出し電極と、を有する放射線発生管と、前記放射線発生管からの放射線の放出を制御する制御部と、を備えた放射線発生装置であって、
    前記制御部、前記引き出し電極の電位より高いカットオフ電位と、前記引き出し電極の電位より低い電子放出電位とを、選択的に切り換えて、前記複数のカソードの各々に印加する手段を有し、
    前記手段は、前記複数のカソードに対し共通する前記カットオフ電位を印加するためのカットオフ電圧を発生するカットオフ電圧発生部と、前記複数のカソードの各々に対応して設けられ、前記カットオフ電位に負の電圧を重畳し前記複数のカソードを選択的に切り替えて前記電子放出電位とする複数の電子放出電圧発生部と、を備えることを特徴とする放射線発生装置。
  2. 前記引き出し電極、前記複数のカソード及び前記複数のターゲットに対応して配置された複数の開口を備え、
    前記手段は、前記引き出し電極の電位を一定に設定する電圧源を備えていることを特徴とする請求項1に記載の放射線発生装置。
  3. 前記手段は、前記複数のターゲットと前記引き出し電極との間に加速電圧を印加して前記引き出し電極に前記ターゲットの電位より低い電位を印加する電圧源を備えていることを特徴とする請求項1又は2に記載の放射線発生装置。
  4. 前記複数のターゲットと前記引き出し電極との間に配置された中間電極を備え、
    前記手段は、前記中間電極に、前記引き出し電極の電位より高く、前記複数のターゲットの電位より低い電位を印加する電圧源を備えていることを特徴とする請求項3に記載の放射線発生装置。
  5. 前記放射線発生管、前記複数のターゲットを含む真空容器内に前記複数のカソードと前記引き出し電極とを収納してなることを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の放射線発生装置。
  6. 請求項1乃至のいずれか1項に記載の放射線発生装置と、
    記放射線発生装置から放出され、被検体を透過した放射線を検出する放射線検出装置と、
    記放射線発生装置と前記放射線検出装置とを連携制御する制御装置とを備えていることを特徴とする放射線撮影システム。
JP2013153198A 2013-07-24 2013-07-24 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影システム Expired - Fee Related JP6188470B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013153198A JP6188470B2 (ja) 2013-07-24 2013-07-24 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影システム
US14/337,590 US9412552B2 (en) 2013-07-24 2014-07-22 Multi-source radiation generating apparatus and radiographic imaging system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013153198A JP6188470B2 (ja) 2013-07-24 2013-07-24 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影システム

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015023013A JP2015023013A (ja) 2015-02-02
JP2015023013A5 JP2015023013A5 (ja) 2016-08-25
JP6188470B2 true JP6188470B2 (ja) 2017-08-30

Family

ID=52390537

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013153198A Expired - Fee Related JP6188470B2 (ja) 2013-07-24 2013-07-24 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影システム

Country Status (2)

Country Link
US (1) US9412552B2 (ja)
JP (1) JP6188470B2 (ja)

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150117599A1 (en) 2013-10-31 2015-04-30 Sigray, Inc. X-ray interferometric imaging system
US10295485B2 (en) 2013-12-05 2019-05-21 Sigray, Inc. X-ray transmission spectrometer system
US10297359B2 (en) 2013-09-19 2019-05-21 Sigray, Inc. X-ray illumination system with multiple target microstructures
US9448190B2 (en) 2014-06-06 2016-09-20 Sigray, Inc. High brightness X-ray absorption spectroscopy system
US9449781B2 (en) 2013-12-05 2016-09-20 Sigray, Inc. X-ray illuminators with high flux and high flux density
US10269528B2 (en) 2013-09-19 2019-04-23 Sigray, Inc. Diverging X-ray sources using linear accumulation
US9570265B1 (en) 2013-12-05 2017-02-14 Sigray, Inc. X-ray fluorescence system with high flux and high flux density
USRE48612E1 (en) 2013-10-31 2021-06-29 Sigray, Inc. X-ray interferometric imaging system
US10304580B2 (en) 2013-10-31 2019-05-28 Sigray, Inc. Talbot X-ray microscope
US9823203B2 (en) 2014-02-28 2017-11-21 Sigray, Inc. X-ray surface analysis and measurement apparatus
US9594036B2 (en) 2014-02-28 2017-03-14 Sigray, Inc. X-ray surface analysis and measurement apparatus
US10401309B2 (en) 2014-05-15 2019-09-03 Sigray, Inc. X-ray techniques using structured illumination
JP6441015B2 (ja) * 2014-10-06 2018-12-19 キヤノンメディカルシステムズ株式会社 X線診断装置及びx線管制御方法
GB2536930B (en) * 2015-03-31 2020-03-25 Teledyne E2V Uk Ltd A modulator system
US10352880B2 (en) 2015-04-29 2019-07-16 Sigray, Inc. Method and apparatus for x-ray microscopy
US10295486B2 (en) 2015-08-18 2019-05-21 Sigray, Inc. Detector for X-rays with high spatial and high spectral resolution
JP6525941B2 (ja) * 2016-10-28 2019-06-05 キヤノン株式会社 X線発生装置及び、x線撮影システム
DE102016222365B3 (de) * 2016-11-15 2018-04-05 Siemens Healthcare Gmbh Verfahren, Computerprogrammprodukt, computerlesbares Medium und Vorrichtung zur Erzeugung von Röntgenpulsen bei einer Röntgenbildgebung
US10247683B2 (en) 2016-12-03 2019-04-02 Sigray, Inc. Material measurement techniques using multiple X-ray micro-beams
WO2018175570A1 (en) 2017-03-22 2018-09-27 Sigray, Inc. Method of performing x-ray spectroscopy and x-ray absorption spectrometer system
US10578566B2 (en) 2018-04-03 2020-03-03 Sigray, Inc. X-ray emission spectrometer system
US20190341219A1 (en) 2018-05-07 2019-11-07 Washington University Multi-pixel x-ray source with tungsten-diamond transmission target
DE112019002822T5 (de) 2018-06-04 2021-02-18 Sigray, Inc. Wellenlängendispersives röntgenspektrometer
GB2591630B (en) 2018-07-26 2023-05-24 Sigray Inc High brightness x-ray reflection source
US10656105B2 (en) 2018-08-06 2020-05-19 Sigray, Inc. Talbot-lau x-ray source and interferometric system
DE112019004433B4 (de) 2018-09-04 2024-09-12 Sigray, Inc. System und verfahren für röntgenstrahlfluoreszenz mit filterung
CN112823280B (zh) 2018-09-07 2024-11-05 斯格瑞公司 用于深度可选x射线分析的系统和方法
US11020066B2 (en) * 2018-12-10 2021-06-01 KUB Technologies, Inc. System and method for cabinet x-ray systems with stationary x-ray source array
WO2021011209A1 (en) 2019-07-15 2021-01-21 Sigray, Inc. X-ray source with rotating anode at atmospheric pressure
DE112023000574T5 (de) 2022-01-13 2024-10-24 Sigray, Inc. Mikrofokus-röntgenquelle zur erzeugung von röntgenstrahlen mit hohem fluss und niedriger energie
US12360067B2 (en) 2022-03-02 2025-07-15 Sigray, Inc. X-ray fluorescence system and x-ray source with electrically insulative target material
US12181423B1 (en) 2023-09-07 2024-12-31 Sigray, Inc. Secondary image removal using high resolution x-ray transmission sources
WO2026005025A1 (ja) * 2024-06-28 2026-01-02 浜松ホトニクス株式会社 電子銃駆動電源

Family Cites Families (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5968200A (ja) 1982-10-08 1984-04-18 Yokogawa Hokushin Electric Corp X線ct装置
FR2778757B1 (fr) * 1998-05-12 2001-10-05 Commissariat Energie Atomique Systeme d'inscription d'informations sur un support sensible aux rayons x
JP4220589B2 (ja) * 1998-05-26 2009-02-04 株式会社東芝 X線撮影装置
US6215850B1 (en) * 1998-12-22 2001-04-10 General Electric Company X-ray beam control for an imaging system
US6456691B2 (en) * 2000-03-06 2002-09-24 Rigaku Corporation X-ray generator
US6553096B1 (en) * 2000-10-06 2003-04-22 The University Of North Carolina Chapel Hill X-ray generating mechanism using electron field emission cathode
US7826595B2 (en) * 2000-10-06 2010-11-02 The University Of North Carolina Micro-focus field emission x-ray sources and related methods
US7082182B2 (en) * 2000-10-06 2006-07-25 The University Of North Carolina At Chapel Hill Computed tomography system for imaging of human and small animal
US7085351B2 (en) * 2000-10-06 2006-08-01 University Of North Carolina At Chapel Hill Method and apparatus for controlling electron beam current
CN1279795C (zh) * 2001-08-29 2006-10-11 株式会社东芝 X射线产生装置
US7120222B2 (en) * 2003-06-05 2006-10-10 General Electric Company CT imaging system with multiple peak x-ray source
JP2006086001A (ja) 2004-09-15 2006-03-30 Shimadzu Corp X線管装置
US7440547B2 (en) * 2005-04-15 2008-10-21 Kabushiki Kaisha Toshiba CT scanner
DE112006000713T5 (de) * 2005-04-25 2008-05-29 The University Of North Carolina At Chapel Hill Röntgenstrahl-Bildgebungssysteme und -verfahren unter Verwendung einer zeitlichen digitalen Signalverarbeitung zum Verringern von Rauschen und zum gleichzeitigen Erzeugen mehrfacher Bilder
WO2008020886A2 (en) * 2006-02-09 2008-02-21 L-3 Communications Security And Detection Systems, Inc. Radiation scanning systems and methods
US20070189459A1 (en) * 2006-02-16 2007-08-16 Stellar Micro Devices, Inc. Compact radiation source
JP4878311B2 (ja) * 2006-03-03 2012-02-15 キヤノン株式会社 マルチx線発生装置
WO2008063695A2 (en) * 2006-04-21 2008-05-29 American Science And Engineering, Inc. X-ray imaging of baggage and personnel using arrays of discrete sources and multiple collimated beams
WO2007142999A2 (en) * 2006-05-31 2007-12-13 L-3 Communications Security And Detection Systems, Inc. Dual energy x-ray source
US7852979B2 (en) * 2007-04-05 2010-12-14 General Electric Company Dual-focus X-ray tube for resolution enhancement and energy sensitive CT
US7627087B2 (en) * 2007-06-28 2009-12-01 General Electric Company One-dimensional grid mesh for a high-compression electron gun
US7496180B1 (en) * 2007-08-29 2009-02-24 General Electric Company Focal spot temperature reduction using three-point deflection
US7646852B2 (en) * 2007-12-31 2010-01-12 Ge Security, Inc. Method, a processor, and a system for tracking a focus of a beam
US7809114B2 (en) * 2008-01-21 2010-10-05 General Electric Company Field emitter based electron source for multiple spot X-ray
US7826594B2 (en) * 2008-01-21 2010-11-02 General Electric Company Virtual matrix control scheme for multiple spot X-ray source
JP4886713B2 (ja) * 2008-02-13 2012-02-29 キヤノン株式会社 X線撮影装置及びその制御方法
JP5294653B2 (ja) * 2008-02-28 2013-09-18 キヤノン株式会社 マルチx線発生装置及びx線撮影装置
US7801277B2 (en) 2008-03-26 2010-09-21 General Electric Company Field emitter based electron source with minimized beam emittance growth
JP4693884B2 (ja) * 2008-09-18 2011-06-01 キヤノン株式会社 マルチx線撮影装置及びその制御方法
US7792241B2 (en) * 2008-10-24 2010-09-07 General Electric Company System and method of fast KVP switching for dual energy CT
EP2370991A1 (en) * 2008-11-26 2011-10-05 Philips Intellectual Property & Standards GmbH Auxiliary grid electrode for x-ray tubes
JP5604443B2 (ja) * 2008-12-17 2014-10-08 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ X線検査装置及び方法
DE102009007217B4 (de) * 2009-02-03 2012-05-24 Siemens Aktiengesellschaft Röntgenröhre
JP5416426B2 (ja) * 2009-02-03 2014-02-12 富士フイルム株式会社 放射線画像撮影装置
DE102009037688B4 (de) * 2009-08-17 2011-06-16 Siemens Aktiengesellschaft Vorrichtung und Verfahren zur Steuerung eines Elektronenstrahls für die Erzeugung von Röntgenstrahlung sowie Röntgenröhre
WO2011119629A1 (en) * 2010-03-22 2011-09-29 Xinray Systems Llc Multibeam x-ray source with intelligent electronic control systems and related methods
US8487534B2 (en) * 2010-03-31 2013-07-16 General Electric Company Pierce gun and method of controlling thereof
US8396185B2 (en) * 2010-05-12 2013-03-12 General Electric Company Method of fast current modulation in an X-ray tube and apparatus for implementing same
JP5661432B2 (ja) * 2010-11-17 2015-01-28 キヤノン株式会社 X線発生装置
JP5804777B2 (ja) * 2011-06-01 2015-11-04 キヤノン株式会社 X線発生管及び、x線発生装置
JP2013020792A (ja) * 2011-07-11 2013-01-31 Canon Inc 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置
JP5791401B2 (ja) * 2011-07-11 2015-10-07 キヤノン株式会社 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置
JP5713832B2 (ja) * 2011-08-03 2015-05-07 キヤノン株式会社 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置

Also Published As

Publication number Publication date
US9412552B2 (en) 2016-08-09
JP2015023013A (ja) 2015-02-02
US20150030127A1 (en) 2015-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6188470B2 (ja) 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影システム
JP2015023013A5 (ja)
US3250916A (en) Stereo x-ray device
US20060056595A1 (en) Compact X-ray source and panel
CN102804325B (zh) 用于产生两个焦斑的x射线管和包括这种x射线管的医疗装置
JP2011198712A (ja) X線発生装置及びその制御方法
CA2505263A1 (en) X-ray unit for the generation of brief x-ray pulses and inspection device operating with such an x-ray unit
JP2011060756A5 (ja)
JP2015019987A (ja) マルチ放射線発生装置及び放射線撮影システム
CN103858203A (zh) 多x射线能量的生成
JP5984367B2 (ja) 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影システム
CN105125226B (zh) X射线设备
US3389253A (en) X-ray apparatus for selectively producing a stereoscopic or monoscopic X-ray beam
JP2005038825A5 (ja)
US8625743B1 (en) Inverse pulse control for eddy current abatement
JP6115638B2 (ja) X線管装置およびフィラメントの調整方法
Bogdan Neculaes et al. Design and characterization of electron beam focusing for X-ray generation in novel medical imaging architecture
US20220406555A1 (en) Constant discharge current bleeder
US20030210764A1 (en) Pulsed power application for x-ray tube
JP2017016772A (ja) X線発生装置及びx線撮影システム
JP6099938B2 (ja) マルチx線発生管及びそれを用いたx線撮影システム
US9530608B2 (en) X-ray generation from a super-critical field
JP2002324507A (ja) X線発生装置およびそれを用いたx線装置
JPH0514452Y2 (ja)
JP2013065486A (ja) 電子銃の脱ガス方法、電子銃、並びに電子線照射装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160707

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160707

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170221

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170419

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170704

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170801

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6188470

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees