JP6182065B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

開示の実施形態は、基板処理装置に関する。

従来、半導体ウェハやガラス基板等の基板に対して洗浄や成膜といった各種の処理を行う基板処理装置が知られている。

たとえば、特許文献１には、上下２段に積層される複数の液処理ユニットと、上段の処理ユニットに対して基板の搬入出を行う上段の搬送アームと、下段の処理ユニットに対して基板の搬入出を行う下段の搬送アームとを備えた基板処理装置が開示されている。

特開２０１１−０８２２７９号公報

しかしながら、特許文献１に記載の技術には、スループットの向上を図るという点でさらなる改善の余地があった。

たとえば、特許文献１に記載の基板処理装置において、上段の搬送アームの可動範囲は、上段の処理ユニットの高さ範囲内に限定され、下段の搬送アームの可動範囲も、下段の処理ユニットの高さ範囲内に限定されている。このため、たとえば上段の搬送アームに不具合が生じた場合、上段の処理ユニットが使用できなくなり、スループットが低下するおそれがある。

実施形態の一態様は、スループットの向上を図ることのできる基板処理装置を提供することを目的とする。

実施形態の一態様に係る基板処理装置は、複数の処理ユニットと、基板搬送装置とを備える。複数の処理ユニットは、鉛直方向に並べて配置され、基板を処理する。基板搬送装置は、鉛直方向に移動可能であり、処理ユニットに対して基板の搬入出を行う。また、基板搬送装置は、鉛直方向に並べて配置され、かつ、鉛直方向への可動範囲が互いに重複し、独立して鉛直方向へ移動する第１搬送アームと第２搬送アームと、第１搬送アームおよび第２搬送アームの両側に配置される２つの支柱部材と、２つの支柱部材のうちの一方の内部に設けられ、第１搬送アームを鉛直方向に移動させる第１昇降機構と、２つの支柱部材のうちの他方の内部に設けられ、第２搬送アームを鉛直方向に移動させる第２昇降機構と、２つの支柱部材の各々の内部に、２つの支柱部材の並び方向と直交する方向に第１昇降機構および第２昇降機構と並べて設けられ、第１搬送アームおよび第２搬送アームの鉛直方向への移動を案内する２つのガイドレールとを備える。また、実施形態の一態様に係る基板処理装置は、最上段に配置される処理ユニットよりも上方に第１搬送アームを収容可能な第１退避空間を有するとともに、最下段に配置される処理ユニットよりも下方に第２搬送アームを収容可能な第２退避空間を有する。また、第１搬送アームは、第２搬送アームの上方に配置され、第２搬送アームを第２退避空間まで移動させた場合に、最下段に配置される処理ユニットに対する基板の搬入出が可能であり、第２搬送アームは、第１搬送アームを第１退避空間まで移動させた場合に、最上段に配置される処理ユニットに対する基板の搬入出が可能である。

実施形態の一態様によれば、スループットの向上を図ることができる。

図１は、本実施形態に係る基板処理装置の構成を示す模式平面図である。 図２は、本実施形態に係る基板処理装置の構成を示す模式側面図である。 図３は、本実施形態に係る基板処理装置の構成を示す模式背面図である。 図４は、第２搬送装置の構成を示す模式平面図である。 図５は、第２搬送装置の構成を示す模式正面図である。 図６は、従来の基板搬送装置の構成を示す模式正面図である。 図７は、制御装置の構成を示すブロック図である。 図８は、異常対応処理の動作例を示す図である。 図９は、異常対応処理の動作例を示す図である。 図１０は、第１搬送アームおよび第２搬送アームに対する処理ユニットの割り当ての例を示す図である。 図１１は、変形例に係る基板処理装置の構成を示す模式平面図である。 図１２は、第１搬送アームおよび第２搬送アームに対する処理ユニットの割り当ての他の例を示す図である。

以下、添付図面を参照して、本願の開示する基板処理装置の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態によりこの発明が限定されるものではない。

図１は、本実施形態に係る基板処理装置の構成を示す模式平面図である。以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする。

図１に示すように、基板処理装置１は、搬入出ブロック２と、処理ブロック３とを備える。

搬入出ブロック２は、載置ステーション１１と、第１搬送領域１２とを備える。載置ステーション１１には、複数枚の基板、本実施形態では複数枚の半導体ウェハ（以下ウェハＷ）を水平状態で収容する複数のカセットＣが載置される。

第１搬送領域１２は、載置ステーション１１に隣接して配置される。第１搬送領域１２には、第１搬送装置２０が配置される。第１搬送装置２０は、カセットＣと処理ブロック３の後述する収容部３０との間でウェハＷの搬送を行う。

処理ブロック３は、受渡ステーション１３と、２つの処理ステーション１４と、第２搬送領域１５とを備える。

受渡ステーション１３は、搬入出ブロック２の第１搬送領域１２に隣接して配置される。受渡ステーション１３には、ウェハＷを収容する収容部３０が配置される。

第２搬送領域１５は、受渡ステーション１３の収容部３０に隣接して配置され、２つの処理ステーション１４は、第２搬送領域１５のＹ軸正方向側およびＹ軸負方向側に隣接して配置される。

各処理ステーション１４には、複数の処理ユニット４０が鉛直方向に並べて配置される。複数の処理ユニット４０の各々は、ウェハＷに対して所定の基板処理を行う。ここでは、ブラシを接触させることによる洗浄処理をウェハＷに対して行うものとするが、処理ユニット４０が行う基板処理の内容は、上記の例に限定されない。たとえば、複数の処理ユニット４０の各々は、ＳＣ１（アンモニアと過酸化水素水の混合液）などの薬液を用いた洗浄処理を行ってもよいし、成膜処理など洗浄処理以外の基板処理を行ってもよい。

第２搬送領域１５には、第２搬送装置５０が配置される。第２搬送装置５０は、収容部３０と処理ユニット４０との間でウェハＷの搬送を行う。

また、基板処理装置１は、制御装置４を備える。制御装置４は、たとえばコンピュータであり、制御部１６と記憶部１７とを備える。記憶部１７には、基板処理装置１において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部１６は、記憶部１７に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって基板処理装置１の動作を制御する。

なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御装置４の記憶部１７にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。

次に、処理ブロック３の構成について図２および図３を参照して具体的に説明する。図２は、本実施形態に係る基板処理装置１の構成を示す模式側面図であり、図３は、同模式背面図である。なお、図２および図３では、処理ユニット４０を「ＳＣＲ」と記載する。

図２に示すように、収容部３０は、第１収容部３１と第２収容部３２とを備える。第１収容部３１および第２収容部３２は、鉛直方向に並べて配置される。

第１搬送装置２０は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、カセットＣと第１収容部３１または第２収容部３２との間でウェハＷを搬送する。第１搬送装置２０は、複数（ここでは、２つ）のウェハ保持部を備えており、複数のウェハＷを同時に搬送することができる。

複数の処理ユニット４０は、鉛直方向に４つ並べて配置される。ここでは、上から順に処理ユニット４１、処理ユニット４２、処理ユニット４３および処理ユニット４４と記載する。また、処理ブロック３には、図２に示す４つの処理ユニット４１〜４４と同様の処理ユニット４５〜４８が他方の処理ステーション１４にも配置されている（図３参照）。したがって、処理ブロック３は、合計８つの処理ユニット４１〜４８を備えている。

図３に示すように、第２搬送装置５０は、第１搬送アーム５１と、第２搬送アーム５２とを備える。第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２は、上から第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２の順番で鉛直方向に並べて配置される。このように、基板処理装置１は、８つの処理ユニット４１〜４８に対してウェハＷの搬入出を行う２つの搬送アーム（第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２）を備える。言い換えれば、基板処理装置１には、搬送アームの総数よりも多くの処理ユニット４１〜４８が配置される。

第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２は、各々独立して水平方向へのアームの伸縮、鉛直方向への移動および鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、収容部３０（第１収容部３１または第２収容部３２）と処理ユニット４１〜４８との間でウェハＷを搬送する。

第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２の両側には、一対の支柱部材５３ａ，５３ｂが配置される。一対の支柱部材５３ａ，５３ｂは、第２搬送領域１５の下部から上部まで鉛直に延在する。そして、第２搬送領域１５の上部および下部には、それぞれ第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２を収容可能な退避空間Ｓ１，Ｓ２が設けられる。退避空間Ｓ１は、最上段の処理ユニット４１，４５よりも上方に設けられ、退避空間Ｓ２は、最下段の処理ユニット４４，４８よりも下方に設けられる。

ここで、本実施形態に係る第２搬送装置５０は、第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２の鉛直方向への可動範囲が互いに重複するように構成される。

かかる第２搬送装置５０の構成について図４および図５を参照して具体的に説明する。図４は、第２搬送装置５０の構成を示す模式平面図であり、図５は、同模式正面図である。

図４および図５に示すように、第２搬送装置５０は、第１搬送アーム５１と、第２搬送アーム５２と、一対の支柱部材５３ａ，５３ｂと、第１昇降機構５４ａと、第２昇降機構５４ｂと、第１駆動源５５ａと、第２駆動源５５ｂと、第１接続部５６ａと、第２接続部５６ｂとを備える。

第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２は、鉛直軸まわりに旋回する旋回部と、水平方向へ進退可能なアーム部と、アーム部の先端に設けられるウェハ保持部とを備える。第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２は、複数（ここでは、２つ）のウェハ保持部を備える。具体的には、第１搬送アーム５１は、２つのアーム部５１ａ，５１ｂを備え、第２搬送アーム５２も、２つのアーム部５２ａ，５２ｂを備える。

第１昇降機構５４ａは、一方の支柱部材５３ａに設けられ、第２昇降機構５４ｂは、他方の支柱部材５３ｂに設けられる。第１昇降機構５４ａには、第１接続部５６ａを介して第１搬送アーム５１が接続され、第２昇降機構５４ｂには、第２接続部５６ｂを介して第２搬送アーム５２が接続される。

具体的には、図５に示すように、第１昇降機構５４ａは、支柱部材５３ａの上部に配置される第１プーリ５４１ａと、支柱部材５３ａの下部に配置される第２プーリ５４２ａと、第１プーリ５４１ａおよび第２プーリ５４２ａに掛け渡されるベルト５４３ａとを備える。

第２プーリ５４２ａには、図４に示す第１駆動源５５ａが接続され、ベルト５４３ａには、第１接続部５６ａが接続される。第１昇降機構５４ａは、上記のように構成され、第１駆動源５５ａによる回転運動を直動運動に変換することで、第１搬送アーム５１を鉛直方向に移動させる。

第２昇降機構５４ｂも第１昇降機構５４ａと同様の構成を有する。具体的には、第２昇降機構５４ｂは、図５に示すように、第１プーリ５４１ｂと第２プーリ５４２ｂとベルト５４３ｂとを支柱部材５３ｂ内に備える。第２プーリ５４２ｂには、図４に示す第２駆動源５５ｂが接続され、ベルト５４３ｂには、第２接続部５６ｂが接続される。第２昇降機構５４ｂは、上記のように構成され、第２駆動源５５ｂによる回転運動を直動運動に変換することで、第２搬送アーム５２を鉛直方向に移動させる。

なお、第１駆動源５５ａ、第２駆動源５５ｂは、たとえばモータである。また、第１昇降機構５４ａおよび第２昇降機構５４ｂは、たとえばボールネジを用いて構成されてもよい。

また、第２搬送装置５０は、一対のガイドレール５７ａ，５７ｂと、連結部材５８ａとを備える。

一対のガイドレール５７ａ，５７ｂは、鉛直方向に延在するレール部材である。一方のガイドレール５７ａは、一方の支柱部材５３ａに設けられ、他方のガイドレール５７ｂは、他方の支柱部材５３ｂに設けられる。

第１搬送アーム５１は、かかる一対のガイドレール５７ａ，５７ｂに対して連結部材５８ａを介して連結される。また、第２搬送アーム５２も、連結部材５８ａと同様の連結部材を介して一対のガイドレール５７ａ，５７ｂに連結される。これにより、第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２は、一対のガイドレール５７ａ，５７ｂに案内されながら、それぞれ第１昇降機構５４ａおよび第２昇降機構５４ｂによって昇降する。

このように、本実施形態に係る第２搬送装置５０は、少なくとも処理ユニット４１〜４８の高さ範囲をカバーする一対の支柱部材５３ａ，５３ｂを備え、一方の支柱部材５３ａに第１搬送アーム５１を昇降させる第１昇降機構５４ａを設け、他方の支柱部材５３ｂに第２搬送アーム５２を昇降させる第２昇降機構５４ｂを設けることとした。かかる構成により、第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２の昇降範囲を互いに重複させることができる。

なお、ここでは、第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２の双方が、処理ユニット４１〜４８の全てに対してウェハＷの搬入出が可能であるものとするが、たとえば第１搬送アーム５１は処理ユニット４１〜４３，４５〜４７に対してウェハＷの搬入出が可能であり、第２搬送アーム５２は処理ユニット４２〜４４，４６〜４８に対してウェハＷの搬入出が可能であってもよい。

また、本実施形態に係る第２搬送装置５０では、一対の支柱部材５３ａ，５３ｂを第１搬送アーム５１と第２搬送アーム５２とで共用している。このため、第２搬送装置５０のコストを抑えることができるとともに、基板処理装置１のフットプリントの増大を抑えることができる。

ここで、従来の基板搬送装置の構成について図６を参照して説明する。図６は、従来の基板搬送装置の構成を示す模式正面図である。

図６に示すように、従来の基板搬送装置５０’は、１つの搬送アーム５１’と、一対の支柱部材５３’，５３’と、１つの搬送機構５４’を備える。そして、従来の基板処理装置では、かかる基板搬送装置５０’が上下２段に積層されていた。

このように、従来の基板処理装置では、２つの搬送アーム５１’の昇降範囲が搬送領域の上段側と下段側とに分断されているため、たとえば上段側の搬送アーム５１’に不具合が生じた場合、上段側に配置される処理ユニットが全て使用できなくなり、スループットが低下するおそれがあった。

これに対し、本実施形態に係る基板処理装置１では、２つの搬送アーム５１，５２の昇降範囲が互いに重複しており、一方の搬送アーム５１，５２の作業範囲に他方の搬送アーム５１，５２を移動させることができるため、一方の搬送アーム５１，５２に不具合が生じた場合であっても、スループットの低下を抑えることができる。

次に、制御装置４の構成について図７を参照して説明する。図７は、制御装置４の構成を示すブロック図である。なお、図７では、制御装置４の特徴を説明するために必要な構成要素のみを示しており、一般的な構成要素についての記載を省略している。

図７に示すように、制御装置４は、制御部１６と、記憶部１７とを備える。制御部１６は、搬送制御部１６ａと、異常対応処理部１６ｂとを備える。また、記憶部１７は、作業データ１７ａを記憶する。

なお、制御部１６は、たとえばＣＰＵ（Central Processing Unit）であり、記憶部１７に記憶された図示しないプログラムを読み出して実行することにより、搬送制御部１６ａおよび異常対応処理部１６ｂとして機能する。なお、制御部１６は、プログラムを用いずにハードウェアのみで構成されてもよい。

また、基板処理装置１は、異常検出部８０を備える。本実施形態において、異常検出部８０は、第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２の駆動系の異常を検出する。具体的には、異常検出部８０は、第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２のアームの伸縮動作、鉛直方向への移動動作および鉛直軸を中心とする旋回動作の異常を検出する。また、異常検出部８０は、異常を検出した場合にその旨を制御部１６の異常対応処理部１６ｂへ出力する処理も行う。

なお、ここでは、異常検出部８０が制御装置４の外部に設けられる場合の例を示したが、異常検出部８０と同様の処理を制御部１６に行わせてもよい。具体的には、制御部１６は、第２搬送装置５０に対して出力する動作指令と、第２搬送装置５０から入力される動作結果の情報との差分に基づき、第２搬送装置５０が指令通りに動作したか否かを判定し、指令通りに動作していない場合に異常を検出するように構成してもよい。

搬送制御部１６ａは、記憶部１７に記憶される作業データ１７ａに基づいて、第２搬送装置５０の動作を制御する。

搬送制御部１６ａは、第１搬送アーム５１または第２搬送アーム５２に対し、同一の高さに配置される処理ユニット４１〜４８ごとに処理ユニット４１〜４８を割り当てる。たとえば、本実施形態では、複数の処理ユニット４１〜４８のうち、上側４つの処理ユニット４１，４２，４５，４６が第１搬送アーム５１に割り当てられ、残りの処理ユニット４３，４４，４７，４８が第２搬送アーム５２に割り当てられるものとする。なお、第１搬送アーム５１は、２つのアーム部５１ａ，５１ｂを用いてウェハＷを一枚ずつ処理ユニット４１，４２，４５，４６へ搬入出することができる。同様に、第２搬送アーム５２は、２つのアーム部５２ａ，５２ｂを用いてウェハＷを一枚ずつ処理ユニット４３，４４，４７，４８へ搬入出することができる。

そして、搬送制御部１６ａは、第１搬送アーム５１に対して処理ユニット４１，４２，４５，４６に対するウェハＷの搬入出を行わせ、第２搬送アーム５２に対して処理ユニット４３，４４，４７，４８に対するウェハＷの搬入出を行わせる。

異常対応処理部１６ｂは、異常検出部８０から所定の異常が発生した旨の通知を受けた場合に、異常対応処理を実行する。ここで、異常対応処理の内容について図８および図９を参照して説明する。

図８および図９は、異常対応処理の動作例を示す図である。なお、図８および図９では、第１搬送アーム５１に異常が発生した場合の異常対応処理の動作例を示している。

図８に示すように、異常対応処理部１６ｂは、異常検出部８０によって第１搬送アーム５１の異常が検出された場合、第２搬送装置５０を制御して、第１搬送アーム５１を退避空間Ｓ１まで移動させる。

ここで、第１搬送アーム５１を退避空間Ｓ１まで移動させる処理は、第１搬送アーム５１のアーム伸縮動作または鉛直軸を中心とする旋回動作の異常が検出された場合に行われる。これは、第１搬送アーム５１の鉛直方向への移動動作の異常が検出された場合、すなわち、第１昇降機構５４ａまたは第１駆動源５５ａに不具合が生じた場合、第１搬送アーム５１を退避空間Ｓ１まで移動させることができないためである。

つづいて、異常対応処理部１６ｂは、第１搬送アーム５１を退避空間Ｓ１まで移動させた後、作業データ１７ａに基づいて第２搬送装置５０を制御して、第２搬送アーム５２に対して第１搬送アーム５１が行うべき作業を行わせる。すなわち、異常対応処理部１６ｂは、第１搬送アーム５１が行うべき処理ユニット４１，４２，４５，４６に対するウェハＷの搬入出を第２搬送アーム５２に行わせる（図９参照）。

このとき、第１搬送アーム５１が退避空間Ｓ１に退避した状態となっているため、第２搬送アーム５２は、処理ユニット４１，４２，４５，４６に対するウェハＷの搬入出を第１搬送アーム５１に阻害されることなく行うことができる。

なお、異常対応処理部１６ｂは、第１搬送アーム５１の鉛直方向への移動動作の異常が検出された場合、第１搬送アーム５１よりも下方の処理ユニット４１〜４８（たとえば、第１搬送アーム５１が処理ユニット４１の正面で停止した場合には、処理ユニット４２〜４４，４６〜４８）に対するウェハＷの搬入出を第２搬送アーム５２に行わせてもよい。

ところで、本実施形態に係る基板処理装置１は、処理ユニット４１〜４８の割り当て数を第１搬送アーム５１と第２搬送アーム５２とで異ならせることができる。かかる点について図１０を参照して説明する。図１０は、第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２に対する処理ユニット４１〜４８の割り当ての例を示す図である。

図１０に示すように、制御部１６の搬送制御部１６ａは、たとえば、第１搬送アーム５１に対して処理ユニット４１〜４３，４５〜４７を割り当て、第２搬送アーム５２に対して処理ユニット４４，４８を割り当てることもできる。

ここで、従来の基板処理装置でも、処理時間が長いウェハと短いウェハとで処理ユニットの割り当て数を異ならせることは可能である。しかしながら、従来の基板処理装置では、２つの搬送アームの昇降範囲が上段と下段とに分かれているため、処理時間が長いウェハと短いウェハとで処理ユニットの割り当て数を異ならせた場合、一方の搬送アームが処理時間の長いウェハと短いウェハの双方を扱うこととなる。この結果、搬送スケジュールが煩雑化したり、処理時間の短いウェハの搬送が処理時間の長いウェハの搬送によって待たされたりするおそれがある。

これに対し、本実施形態に係る第２搬送装置５０では、第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２の昇降範囲が互いに重複している。このため、処理時間が長いウェハＷと短いウェハＷとで処理ユニット４１〜４８の割り当て数を異ならせたとしても、第１搬送アーム５１には処理時間の長いウェハＷの搬送のみを行わせ、第２搬送アーム５２には処理時間の短いウェハＷの搬送のみを行わせることができる。

このため、本実施形態に係る基板処理装置１によれば、処理時間の短いウェハＷの搬送が処理時間の長いウェハＷの搬送によって待たされたり、逆に、処理時間の長いウェハＷの搬送が処理時間の短いウェハＷの搬送によって待たされたりすることが少なくなる。したがって、処理時間が異なる２種類のウェハＷが混在する場合のスループットを向上させることができる。また、搬送スケジュールの煩雑化を防止することもできる。

また、本実施形態に係る基板処理装置１は、処理ブロック３（図１参照）に対してさらに処理ブロック３を連結させることが可能である。そして、基板処理装置１は、複数の処理ブロック３を備えることにより、各搬送アーム５１，５２に対する処理ユニット４１〜４８の割り当て数をより細かく設定することが可能となる。

かかる点について図１１および図１２を参照して説明する。図１１は、変形例に係る基板処理装置の構成を示す模式平面図である。なお、以下の説明では、既に説明した部分と同様の部分については、既に説明した部分と同一の符号を付し、重複する説明を省略する。

図１１に示すように、変形例に係る基板処理装置１Ａは、搬入出ブロック２と、２つの処理ブロック３を備える。これらは、搬入出ブロック２、処理ブロック３および処理ブロック３の順に連結される。前段側（Ｘ軸負方向側）の処理ブロック３が備える第２搬送装置５０は、前段側の収容部３０および前段側の処理ユニット４０間でウェハＷの搬送を行うとともに、前段側の処理ユニット４０および後段側（Ｘ軸正方向側）の収容部３０間でもウェハＷの搬送を行う。なお、基板処理装置１Ａのように複数の処理ブロック３が連結される場合、ウェハＷは、最も奥側の処理ブロック３（ここでは、後段側の処理ブロック３）の処理ユニット４１〜４８から順に搬送される。

図１２は、第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２に対する処理ユニット４１〜４８の割り当ての他の例を示す図である。ここで、図１２には、第１搬送アーム５１に割り当てられる処理ユニットをハッチング付きで示している。

図１２に示すように、制御部１６の搬送制御部１６ａは、前段側の処理ブロック３が備える処理ユニット４１〜４８のうち、処理ユニット４１〜４３，４５〜４７を前段側の第１搬送アーム５１に割り当て、残りの処理ユニット４４，４８を前段側の第２搬送アーム５２に割り当てる。また、搬送制御部１６ａは、後段側の処理ブロック３が備える処理ユニット４１〜４８のうち、処理ユニット４１，４２，４５，４６を後段側の第１搬送アーム５１に割り当て、残りの処理ユニット４３，４４，４７，４８を後段側の第２搬送アーム５２に割り当てる。

かかる場合、第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２に対する処理ユニット４１〜４８の割り当て数の割合は５対３となる。そして、基板処理装置１Ａは、処理ブロック３の連結数をさらに増やすことにより、処理ユニット４１〜４８の割り当て数をより細かく設定することが可能となる。したがって、たとえば処理時間が異なる２種類のウェハＷが混在する場合に、処理時間に応じて最適な割り当て数を設定することができるため、スループットをより向上させることができる。

上述してきたように、実施形態に係る基板処理装置１は、複数の処理ユニット４１〜４８と、第２搬送装置５０とを備える。複数の処理ユニット４１〜４８は、鉛直方向に並べて配置され、ウェハＷを処理する。第２搬送装置５０は、鉛直方向に移動可能であり、処理ユニット４１〜４８に対してウェハＷの搬入出を行う。また、第２搬送装置５０は、鉛直方向に並べて配置され、かつ、鉛直方向への可動範囲が互いに重複し、独立して鉛直方向へ移動する第１搬送アーム５１と第２搬送アーム５２とを備える。したがって、本実施形態に係る基板処理装置１によれば、スループットの向上を図ることができる。

なお、上述した実施形態では、第１搬送アーム５１と第２搬送アーム５２とで一対の支柱部材５３ａ，５３ｂを共用する場合の例を示したが、一対の支柱部材５３ａ，５３ｂは、必ずしも共用されることを要しない。すなわち、一対の支柱部材５３ａ，５３ｂを２つ用意し、一方に第１搬送アーム５１と第１昇降機構５４ａを、他方に第２搬送アーム５２と第２昇降機構５４ｂを設けてもよい。

また、上述した実施形態では、第１搬送アーム５１または第２搬送アーム５２に対し、同一の高さに配置される処理ユニット４１〜４８ごとに処理ユニット４１〜４８を割り当てる場合の例について説明した。しかし、これに限らず、搬送制御部１６ａは、同一の高さに配置される異なる処理ユニット４１〜４８を第１搬送アーム５１と第２搬送アーム５２とにそれぞれ割り当ててもよい。

たとえば、搬送制御部１６ａは、処理ユニット４１〜４８のうち、処理ユニット４１〜４３，４５，４６を第１搬送アーム５１に割り当て、残りの処理ユニット４４，４７，４８を第２搬送アーム５２に割り当ててもよい。かかる場合、同一の高さに配置される処理ユニット４３，４７のうち、処理ユニット４３は第１搬送アーム５１に割り当てられ、処理ユニット４７は第２搬送アーム５２に割り当てられることとなる。

このように、同一の高さに配置される異なる処理ユニット４１〜４８を第１搬送アーム５１と第２搬送アーム５２とに割り当てるようにすれば、処理ユニット４１〜４８の割り当て数をより細かく設定することが可能となる。

また、上述した実施形態では、第１搬送アーム５１および第２搬送アーム５２の双方を用いて処理ユニット４１〜４８に対するウェハＷの搬入出を行う場合の例について説明した。しかし、これに限らず、搬送制御部１６ａは、たとえば搬送時間に比べて処理時間が極端に長い場合には、一方の搬送アームに割り当てる処理ユニット４１〜４８の数を０とし、他方の搬送アームに対して全ての処理ユニット４１〜４８を割り当ててもよい。この場合、他方の搬送アームだけが処理ユニット４１〜４８に対するウェハＷの搬入出を行うこととなるため、２つの搬送アームを用いる場合と比較して消費電力を削減することができる。

なお、搬送制御部１６ａは、記憶部１７に記憶される作業データ１７ａを参照し、各処理ユニット４１〜４８での処理時間が予め決められた閾値を超える場合に、２つの搬送アームを用いてウェハＷの搬入出を行うモードから１つの搬送アームを用いてウェハＷの搬入出を行うモードへ切り替えるようにしてもよい。

さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。このため、本発明のより広範な態様は、以上のように表しかつ記述した特定の詳細および代表的な実施形態に限定されるものではない。したがって、添付の特許請求の範囲およびその均等物によって定義される総括的な発明の概念の精神または範囲から逸脱することなく、様々な変更が可能である。

Ｗ ウェハ
Ｓ１，Ｓ２ 退避空間
１，１Ａ 基板処理装置
２ 搬入出ブロック
３ 処理ブロック
４ 制御装置
１３ 受渡ステーション
１４ 処理ステーション
１５ 第２搬送領域
４０，４１〜４８ 処理ユニット
５０ 第２搬送装置
５１ 第１搬送アーム
５２ 第２搬送アーム
５３ａ，５３ｂ 支柱部材
５４ａ 第１昇降機構
５４ｂ 第２昇降機構
５５ａ 第１駆動源
５５ｂ 第２駆動源
５６ａ 第１接続部
５６ｂ 第２接続部
５７ａ，５７ｂ ガイドレール
５８ａ 連結部材

Claims (6)

1. 鉛直方向に並べて配置され、基板を処理する複数の処理ユニットと、
   鉛直方向に移動可能であり、前記処理ユニットに対して前記基板の搬入出を行う基板搬送装置と
   を備え、
   前記基板搬送装置は、
   鉛直方向に並べて配置され、かつ、鉛直方向への可動範囲が互いに重複し、独立して鉛直方向へ移動する第１搬送アームと第２搬送アームと、
   前記第１搬送アームおよび前記第２搬送アームの両側に配置される２つの支柱部材と、
   前記２つの支柱部材のうちの一方の内部に設けられ、前記第１搬送アームを鉛直方向に移動させる第１昇降機構と、
   前記２つの支柱部材のうちの他方の内部に設けられ、前記第２搬送アームを鉛直方向に移動させる第２昇降機構と、
   前記２つの支柱部材の各々の内部に、前記２つの支柱部材の並び方向と直交する方向に前記第１昇降機構および前記第２昇降機構と並べて設けられ、前記第１搬送アームおよび前記第２搬送アームの鉛直方向への移動を案内する２つのガイドレールと
   を備え、
   最上段に配置される前記処理ユニットよりも上方に前記第１搬送アームを収容可能な第１退避空間を有するとともに、最下段に配置される前記処理ユニットよりも下方に前記第２搬送アームを収容可能な第２退避空間を有し、
   前記第１搬送アームは、
   前記第２搬送アームの上方に配置され、前記第２搬送アームを前記第２退避空間まで移動させた場合に、最下段に配置される前記処理ユニットに対する前記基板の搬入出が可能であり、
   前記第２搬送アームは、
   前記第１搬送アームを前記第１退避空間まで移動させた場合に、最上段に配置される前記処理ユニットに対する前記基板の搬入出が可能であること
   を特徴とする基板処理装置。
2. 前記基板搬送装置の異常を検出する異常検出部と、
   前記第１搬送アームの水平方向への伸縮動作または鉛直軸を中心とする旋回動作の異常が検出された場合に、前記第１搬送アームを前記第１退避空間まで移動させた後、前記第２搬送アームに対して前記第１搬送アームが行うべき作業を行わせ、前記第１搬送アームの鉛直方向への移動動作の異常が検出された場合には、前記第１搬送アームが停止した位置よりも下方の前記処理ユニットに対する前記基板の搬入出を前記第２搬送アームに行わせる制御部と
   を備えることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記第１搬送アームおよび前記第２搬送アームの総数よりも前記処理ユニットの総数が多いこと
   を特徴とする請求項１または２に記載の基板処理装置。
4. 前記第１搬送アームおよび前記第２搬送アームは、割り当てられた前記処理ユニットに対して前記基板の搬入出を行い、
   同一の高さに配置される異なる前記処理ユニットが前記第１搬送アームと前記第２搬送アームとにそれぞれ割り当てられること
   を特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の基板処理装置。
5. 前記第１搬送アームおよび前記第２搬送アームは、割り当てられた前記処理ユニットに対して前記基板の搬入出を行い、
   割り当てられた前記処理ユニットの処理時間に応じて、前記第１搬送アームと前記第２搬送アームとで前記処理ユニットの割り当て数を異ならせること
   を特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の基板処理装置。
6. 前記複数の処理ユニットと前記基板搬送装置とを含み、互いに連結可能な複数の処理ブロック
   を備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の基板処理装置。

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