JP6012245B2 - 粒子線回転照射装置 - Google Patents

Description

本発明は、加速器で加速した荷電粒子を任意の角度方向から照射することを目的とした粒子線回転照射装置（回転ガントリ）に関する。

シンクロトロン等の加速器（円形加速器）で荷電粒子を周回加速させ、高エネルギーまで加速された荷電粒子（主に陽子や炭素イオン）をその周回軌道から取り出し、ビーム状となった荷電粒子（荷電粒子ビーム、粒子線とも称する）は、ビーム輸送系で輸送して所望の対象物に照射する物理実験や、癌の治療などの粒子線治療に利用されている。加速した荷電粒子による癌治療、所謂、粒子線治療においては、治療する際、重要臓器を避けるためや、正常組織に損傷を与えることを防ぐために、照射方向を変えることが一般的に行われている。荷電粒子ビームの照射方向を変更する変更手段の一つとして、患者の回りで回転する構造体に照射ノズルを搭載し、所望の角度から照射できる粒子線回転照射装置（回転ガントリ）が一般に使われている。

特許文献１の図７には、ガントリフレーム及びマグネットサポートによって連結されたフロントリングとリアリングを有する第１の回転ガントリが示されている。回転ガントリは、ガントリ駆動モータによって駆動され、３６０°回転し、任意の角度にすることができる。この際にサポートリングの内側に設けられた移動側リングレールはサポートリングの内面を回転できるように構成されており、回転ガントリの回転に同期して逆方向に回転する。これにより移動側リングレールの位置は常に一定に保たれ、固定側リングレールの案内と伴ってリンクで屈曲自在に連結された移動床はかまぼこ型の形状を維持し、治療用ベッドの下側に水平なアクセスフロアを形成している。

また、特許文献２には、特許文献１の第１の回転ガントリと比較して入射位置と照射位置の距離が小さく、コンパクトに構成できる回転ガントリが記載されている。特許文献２の回転ガントリは、回転ガントリ入口から照射装置（照射ノズル）まで荷電粒子ビームを輸送するビーム輸送ラインが、回転ガントリの回転軸に対して垂直になるように２個の偏向電磁石（上流偏向電磁石）で一度偏向し、その後、ガントリの中心軸に対して垂直な面内で荷電粒子ビームがアイソセンタ（ガントリ回転軸とビーム軸の交点であり、照射目標の基準である）を向くよう２個の偏向電磁石（下流偏向電磁石）で再度荷電粒子ビームを偏向させて、回転ガントリ内に設けられた照射室に荷電粒子ビームを導いている。このようなビーム輸送ラインは、回転軸方向に対しての回転ガントリの長さが最短となるため、結果的に敷地面積が狭い範囲に回転ガントリを設置することが可能である。このようなビーム輸送ラインを備えた回転ガントリはコークスクリュー（corkscrew）型ガントリと呼ばれることもある。

近年、粒子線治療の普及に伴い、粒子線治療のスループット向上が求められている。粒子線治療では、患者に荷電粒子ビームを照射する前に、治療の補助を行う人、例えば放射線技師が、患者台や照射装置の近くへ行き、患者の体を固定したり、照射装置につける照射系機器の調整を行ったりする。この際、照射装置付近での上記作業の容易さが、上記調整時間の短縮化を図るために、すなわち、治療のスループット向上を図るために、重要である。照射装置付近での作業を容易にする回転ガントリの例が、例えば特許文献１の図６に記載されている。特許文献１の図６のように、照射装置の先端が照射室側に出ている構造（以下、開放型と呼ぶ）にすることにより、照射装置付近での作業の容易化を実現することができる。また、照射中の臓器の動きや呼吸による体の動きをリアルタイムに監視しながらより高精度に照射する動体追跡も注目を集めつつあり、照射ノズル周りに監視用機
器を設置するため十分なスペースを確保することが望まれている。特許文献１の図６の回転ガントリを、特許文献１の第１の回転ガントリと区別するために、特許文献１の第２の回転ガントリと呼ぶことにする。

特許文献１の第２の回転ガントリは、フレームと、フレームに設けられた回転リングと、回転リングを受けるローラーと回転駆動するモータや減速機が設けられた回転駆動装置と、回転リングを受けるリングとブレーキや減速機が設けられたブレーキ装置と、回転ガントリに導入された荷電粒子ビームを照射装置にまで輸送するビーム輸送機器とを備える。フレームはビーム輸送機器の外側に設けられ、ビーム輸送機器の先端に位置する照射装置がフレームに対してオーバーハングして取り付けられている。また、回転リングはフレームの両端に設けられておりそれぞれ回転駆動装置、ブレーキ装置が設けられている。

特開２００６―１９２２９７号公報（図６、図７） 米国特許第４９１７３４４号公報（図１ａ、図１ｂ）

特許文献１の第１の回転ガントリの構造では、フロントリングとリアリング（支持リング）は、回転ガントリ内部に設けられた治療室での作業空間を確保するため、直径を３ｍ以上とする必要がある。しかし、フロントリングとリアリングは、回転時の位置ずれを抑制するためにφ０．５ｍｍ以内の真円度、及び回転時に歪まない剛性が要求され、製作が難しいため、高コストとなる。

特許文献２の回転ガントリの構成は、特許文献１の第１の回転ガントリと比較して入射位置と照射位置の距離が小さく、コンパクトに構成できるが、照射装置に荷電粒子ビームを輸送する２個の下流側偏向電磁石を含むビーム輸送ラインの下流部が、最上流側の偏向電磁石に荷電粒子ビームが入射するビーム入射軸及び、照射装置からアイソセンタに向かうビーム照射軸を含む平面に対して垂直になるため、照射装置のみを回転ガントリの外側に配置することができず、照射装置周りに監視用機器を設置する空間や、照射装置付近での作業が容易となるような空間を十分に確保することができない。したがって、２個の偏向電磁石と照射装置を回転ガントリのフレームで支えることは困難なこともあり、回転ガントリ内部に照射室を構成することになる。回転ガントリ内部に照射室を構成することになるので、特許文献１の第１の回転ガントリと同じく支持リングが大型になり、高コストとなる。なお、ビーム入射軸とビーム照射軸は必ず交差するように配置されるため、この２軸を含む平面が１つに決まる。

特許文献１の第２の回転ガントリの構造では、特許文献１の第１の回転ガントリよりも、フレーム及び回転リング（支持リング）を有する回転部が回転軸の径方向に大きくなっている。特許文献１の第２の回転ガントリは、特許文献１の第１の回転ガントリよりも、回転リングの真円度、及び回転時に歪まない剛性が要求され、さらに製作が難しくなり、高コストとなる。

上記３つの従来の回転ガントリは、いずれも支持リングが大きいので、支持リングが高コストになるという問題がある。さらに、上記３つの従来の回転ガントリは、大きな支持リングを有する回転部を回転可能に支持する回転部支持構造も大きくなり、高コストになるという問題がある。また、特許文献１の第１の回転ガントリ及び特許文献２の回転ガントリは、回転ガントリ内部に治療室が設けられているため、治療に使える空間が狭くなるという問題もある。

開放型の回転ガントリの利点、すなわち治療空間を大きくでき、照射装置付近での作業を容易にでき、粒子線治療のスループット向上できる利点や照射装置周りに監視用機器を設置する空間を十分に確保することができる利点と、特許文献２の回転ガントリのように回転軸方向に小型できる利点を兼ね備えた回転ガントリを実現したいと考えた。この場合も、上記３つの従来の回転ガントリの問題、すなわち、大きな支持リングを有する回転部を回転可能に支持する回転部支持構造も大きくなり、高コストになるという問題がある。

本発明は、粒子線治療のスループットを向上することができ、かつ回転部支持構造を小型にできる粒子線回転照射装置を実現することを目的としている。

本発明に係る粒子線回転照射装置は、荷電粒子ビームを照射する照射ノズル及び荷電粒子ビームを照射ノズルへ輸送するビーム輸送部を有し、アイソセンタを中心に回転可能な回転部と、回転部を回転可能に支持する回転部支持ベースを備える。本発明に係る粒子線回転照射装置によれば、回転部は、ビーム輸送部を支持すると共に照射ノズルを回転部の前面側にて支持するビーム輸送部支持ベースを有し、回転部支持ベースは、回転部の重心から重力が働く方向に延伸して配置された支持架台を有し、ビーム輸送部は、回転部の回転軸に沿って入射される荷電粒子ビームを一旦外周側へ偏向し、その後回転軸の方向に偏向して照射ノズルへ輸送する複数の偏向電磁石を有し、ビーム輸送部の最下流側の偏向電磁石は、そのビーム入射軸が回転軸及び照射ノズルのビーム照射軸を含む平面を斜めに通過するように配置されたことを特徴とする。

本発明に係る粒子線回転照射装置によれば、ビーム輸送部の最下流側の偏向電磁石を回転軸及び照射ノズルのビーム照射軸を含む平面に対して斜めに配置したので、回転部の重心から重力が働く方向に延伸して支持架台を配置でき、粒子線治療のスループットを向上することができ、かつ回転部支持構造を小型にできる。

本発明による粒子線回転照射装置を示す斜視図である。 本発明による粒子線回転照射装置を示す側面図である。 本発明による粒子線回転照射装置を示す正面図である。 図２の粒子線回転照射装置の上面図である。 図２の回転部が９０°回転した粒子線回転照射装置を示す正面図である。 図５の粒子線回転照射装置の上面図である。 図２の回転部が１８０°回転した粒子線回転照射装置を示す正面図である。 図７の粒子線回転照射装置の上面図である。

実施の形態１．
図１は本発明による粒子線回転照射装置を示す斜視図であり、図２は本発明による粒子線回転照射装置を示す側面図である。図３は本発明による粒子線回転照射装置を示す正面図であり、図４は本発明による粒子線回転照射装置の上面図である。粒子線回転照射装置３０は、アイソセンタ（回転軸１とビーム照射軸５の交点であり、照射目標の基準である）の周りを回転する回転部２０と、回転部２０を回転可能に支持する回転部支持ベース２５とを備える。回転部２０は、荷電粒子ビーム１８を輸送するビーム輸送部２と、荷電粒子ビーム１８を照射対象２７に照射する照射ノズル４と、ビーム輸送部２を支持するビーム輸送部支持ベース１３と、ビーム輸送部支持ベース１３に搭載されてビーム輸送部２と重量バランスをとるためのカウンターウェイト１０を備える。

ビーム輸送部２は、ビーム輸送ダクト１７と、複数の偏向電磁石３、例えば３個の偏向電磁石３ａ、３ｂ、３ｃを有する。ビーム輸送部２は、ビーム輸送部支持ベース１３によって支持され、回転摺動部２１の外側に置かれている。なお、図１〜図４では、ビーム輸送部２をビーム輸送部支持ベース１３に接続する支持部材は、ビーム輸送部支持ベース１３の構造を明快にするため、省略されている。ビーム輸送部支持ベース１３は、照射ノズル４と偏向電磁石３ｃを支持するフロント支持部８と、偏向電磁石３ａ、３ｂを支持するリア支持部９と、フロント支持部８とリア支持部９とを接続する接続部材１１と、回転部支持ベース２５の軸受部１５により回転可能に支持される回転摺動部２１を備える。なお、偏向電磁石の符号は、総括的に３を用い、区別して説明する場合に３ａ、３ｂ、３ｃを用いる。

回転部支持ベース２５は、支持架台１２と、回転摺動部２１を回転可能に支持する軸受部１５を備える。回転摺動部２１は、フロントリング２２と、リアリング２３と、フロントリング２２とリアリング２３とを接続するリング接続体２４を備える。軸受部１５は、フロントリング２２を回転可能に支持するフロントベアリング６と、リアリング２３を回転可能に支持するリアベアリング７を備える。

図２に示すように、粒子線回転照射装置３０の背面から回転軸１の方向に入射した荷電粒子ビーム１８は、ビーム輸送部２により照射ノズル４に導かれる。荷電粒子ビーム１８は、照射ノズル４において、治療台２６に固定された照射対象２７である患者の患部の形状に合わせて整形され、ビーム照射軸５に沿って患部に照射される。

回転部２０について説明する。前述したように、照射ノズル４とビーム輸送部２の偏向電磁石３ｃは、ビーム輸送部支持ベース１３のフロント支持部８により支持される。照射ノズル４は、フロント支持部８により回転部２０の前面側にて支持される。ビーム輸送部２の偏向電磁石３ａ、３ｂは、ビーム輸送部支持ベース１３のリア支持部９により支持される。フロント支持部８及びリア支持部９は、回転摺動部２１を回転軸方向に挟み込むように配置されている。すなわち、フロント支持部８及びリア支持部９は、回転軸１方向において回転摺動部２１の外側に配置されている。図１〜図４に示すように、荷電粒子ビーム１８は、回転軸１の方向から回転部２０に入射され、偏向電磁石３ａ（最上流側の偏向電磁石）により外周側へ偏向され、偏向電磁石３ｂ（中間偏向電磁石）により回転軸１の方向に偏向され、ビーム入射軸１４の向きに偏向電磁石３ｃへ入射される。荷電粒子ビーム１８は、偏向電磁石３ｃ（最下流側の偏向電磁石）によりビーム照射軸５の方向に偏向され、照射ノズル４へ入射される。

ビーム輸送部２の偏向電磁石３ａは、その上流側がリアリング２３の孔部から見えるように、かつその下流側が回転摺動部２１のリング接続体２４の開口部２８から出るように、回転摺動部２１に配置される。ビーム輸送部２の偏向電磁石３ｂは、回転部２０の回転軸１から径方向へ延伸して配置される。ビーム輸送部２のビーム輸送ダクト１７における偏向電磁石３ｂと偏向電磁石３ｃとを結ぶ部分（ビーム輸送ダクト外周部）は、フロント支持部８の外周部を越えるように配置される。フロント支持部８とリア支持部９は、回転部２０の外周側にて接続部材１１によって接続される。

回転部２０の回転の際に、重量のある照射ノズル４及びビーム輸送部２と重量バランスを取るため、回転部２０の回転軸１に対して反対側にカウンターウェイト１０が配置されている。また、回転部２０の重心が回転軸１上における回転摺動部２１のほぼ中心にくるように、カウンターウェイト１０は、リア支持部９における回転部２０の回転軸１に対してビーム輸送部２と反対側に接続されている。回転部２０の重心が回転軸１上における回転摺動部２１のほぼ中心にくるようにしたので、柱を有する支持架台１２を、回転部２０
の重心から重力が働く方向に延伸して配置することができる。すなわち、支持架台１２を回転部２０の真下に配置することができる。このような柱を有する支持架台１２は、構造がシンプル（簡略）であり、小型にできる。

実施の形態１の粒子線回転照射装置３０は、照射ノズル４を回転部２０の正面側に配置した開放型の回転ガントリとしたので、従来とは異なり治療室を回転ガントリ内部に設ける必要がなく、従来のような径の大きな支持リングとローラー等からなる支持リング保持部に変えて、小さな径の回転摺動部２１を適用することができる。小さな径の回転摺動部２１を適用することで、ベアリングを用いた軸受部１５が実現でき、高価な支持リングを廃することができる。

回転部２０の回転可能範囲について説明する。粒子線回転照射装置３０により癌治療を行う上で、よく使われる照射角度は、照射ノズル４を治療台２６の真上に配置した状態（図１〜図４の状態）にして、荷電粒子ビーム１８を照射する真上照射の角度を０°として、＋９０°〜−９０°と、１８０°である。＋９０°〜−９０°の照射は、上半分の照射である。１８０°の照射は、照射ノズル４を治療台２６の真下に配置した状態にし、荷電粒子ビーム１８を真下から照射を行う照射（真下照射）である。

フロント支持部８とリア支持部９は、接続部材１１によって接続されるので、回転部２０の回転可能範囲は、ビーム輸送部２及び接続部材１１と、回転部２０の真下に置かれた支持架台１２との間の干渉で決まる。図４で回転部２０が左方向に回転し、真下照射を行う場合を考える。この場合、ビーム輸送部２側に配置されている接続部材１１が支持架台１２に当たるところが左方向への最大回転角となる。他方、回転部２０の右方向への回転では、偏向電磁石３ｂが支持架台１２に当たるところが右方向への最大回転角となる。このため、回転部２０の回転の際に支持架台１２を極力避けるように、接続部材１１を配置するのが望ましい。また、回転部２０の回転可能範囲を広くするためには、支持架台１２と干渉するビーム輸送部２の干渉部と、支持架台１２と干渉するビーム輸送部支持ベース１３の干渉部を極力近づける、すなわち偏向電磁石３ｂと接続部材１１を極力近づけることが望ましい。

なお、前述したように、ビーム輸送部２とビーム輸送部支持ベース１３をつなぐ支持部材は、ビーム輸送部支持ベース１３の機構を明快にするため、図では省略されているが、実際にはビーム輸送部支持ベース１３からパイプや棒などの梁を伸ばしてビーム輸送部２を支持する。

次に回転部２０を、９０°または１８０°回転させた場合を説明する。図５は回転部が９０°回転した粒子線回転照射装置を示す正面図であり、図６はこの場合の粒子線回転照射装置の上面図である。図７は回転部が１８０°回転した粒子線回転照射装置を示す正面図であり、図８はこの場合の粒子線回転照射装置の上面図である。図５及び図６に示すように、回転部２０を９０°回転させても、ビーム輸送部２及び接続部材１１は支持架台１２に干渉することがない。また、図７及び図８に示すように、回転部２０を１８０°回転させても、ビーム輸送部２及び接続部材１１は支持架台１２に干渉することがない。なお、図５及び図６では、回転部２０を正面から見て右回転における９０°の場合を示したが、回転部２０を正面から見て左回転における９０°の場合でも、ビーム輸送部２及び接続部材１１は支持架台１２に干渉することがない。

図１〜図８に示されるように、実施の形態１の粒子線回転照射装置３０は、ビーム輸送部２が回転軸１及びビーム照射軸５を含む平面に対して斜めに配置されるため、すなわち、ビーム輸送部２における最下流側の偏向電磁石３ｃのビーム入射軸１４が回転軸１及びビーム照射軸５を含む平面を斜めに通過するため、荷電粒子ビーム１８を治療台２６の真下から照射する真下照射の場合でも、ビーム輸送部２の偏向電磁石３ｂ及びビーム輸送ダクト外周部が回転軸１の真下、すなわち回転軸１を含む面であって粒子線回転照射装置３０が設置される床に垂直な面を通過することがない。したがって、実施の形態１の粒子線回転照射装置３０は、真下照射をする場合でも、ビーム輸送部２及び接続部材１１が支持架台１２に干渉することなく、回転軸１の真下に支持架台１２を配置できる。

このため、実施の形態１の粒子線回転照射装置３０は、支持架台１２の柱を回転部２０の重心から重力が働く方向に配置することができ、支持架台１２をコンパクトで、安価に構成できる。さらに、実施の形態１の粒子線回転照射装置３０は、支持架台１２をコンパクトに構成できることで、回転部２０の回転の際に、ビーム輸送部２及び接続部材１１と干渉する領域が小さくすることができ、回転部２０を３６０°回転させることはできないものの、回転部２０の回転可能範囲を広げ、粒子線回転照射装置３０の付加価値を大きくすることができる。

実施の形態１の粒子線回転照射装置３０では、ビーム輸送部支持ベース１３における主な構造物、すなわちフロント支持部８及びリア支持部９を、回転摺動部２１の外側に配置している。この構造を取ることで、ビーム輸送部２の支持に必要な構造物はフロント支持部８及びリア支持部９から外周側に延伸させることができるので、フロントリング２２及びフロントベアリング６とベアリングとリアリング２３及びリアベアリング７との間、すなわち回転摺動部２１の範囲に、ビーム輸送部２の支持に必要な構造物の一部のみを配置するだけでよく、回転摺動部２１の範囲に、ビーム輸送部２の支持に必要な構造物の大多数を配置する必要がない。一方、回転部２０の回転の際に、回転部２０の重心から重力が働く方向に延伸して配置された支持架台１２と干渉するのは、フロントリング２２及びフロントベアリング６とベアリングとリアリング２３及びリアベアリング７との間に配置される構造物に限られるため、フロント支持部８及びリア支持部９を回転摺動部２１の外側に配置することで、ビーム輸送部２及び接続部材１１と支持架台１２との干渉を回避でき、回転部２０の回転可能範囲を広げ、粒子線回転照射装置３０の付加価値を大きくするという効果がある。

実施の形態１の粒子線回転照射装置３０は、大きな支持リング及び大きな回転部支持構造を有する従来と異なり、小さなフロントリング２２及び小さなリアリング２３を有する回転摺動部２１を、回転軸１を包含するように配置したので、回転部支持構造を小型にした開放型の回転ガントリを実現できる。実施の形態１の粒子線回転照射装置３０は、開放型の回転ガントリなので、治療空間を大きくでき、照射ノズル４（照射装置）付近での作業を容易にでき、粒子線治療のスループット向上でき、また、照射ノズル４（照射装置）周りに監視用機器を設置する空間を十分に確保することができる。

実施の形態１の粒子線回転照射装置３０は、ビーム輸送部２及び接続部材１１が支持架台１２に干渉することなく、回転軸１の真下に支持架台１２を配置できるので、支持架台１２の構造が簡単になり、安価に製作できる。実施の形態１の粒子線回転照射装置３０は、小さなフロントリング２２及び小さなリアリング２３を有する回転摺動部２１が小さいので、回転摺動部２１を回転可能に支持するために、フロントベアリング６及びリアベアリング７等のベアリングを用いることがでる。実施の形態１の粒子線回転照射装置３０は、回転摺動部２１と回転摺動部２１を回転可能に支持する軸受部１５とが、従来の大きな支持リング及び大きな回転部支持構造に比べて、小型であり構造が簡略化でき、安価な装置を実現できる。

以上のように、実施の形態１の粒子線回転照射装置３０によれば、荷電粒子ビーム１８を照射する照射ノズル４及び荷電粒子ビーム１８を照射ノズル４へ輸送するビーム輸送部２を有し、アイソセンタを中心に回転可能な回転部２０と、回転部２０を回転可能に支持
する回転部支持ベース２５を備え、回転部２０は、ビーム輸送部２を支持すると共に照射ノズル４を回転部２０の前面側にて支持するビーム輸送部支持ベース１３を有し、回転部支持ベース２５は、回転部２０の重心から重力が働く方向に延伸して配置された支持架台１２を有し、ビーム輸送部２は、回転部２０の回転軸１に沿って入射される荷電粒子ビーム１８を一旦外周側へ偏向し、その後回転軸の方向に偏向して照射ノズル４へ輸送する複数の偏向電磁石３を有し、ビーム輸送部２の最下流側の偏向電磁石３ｃは、そのビーム入射軸１４が回転軸１及び照射ノズル４のビーム照射軸５を含む平面を斜めに通過するように配置されたので、ビーム輸送部２の最下流側の偏向電磁石３ｃを回転軸１及び照射ノズル４のビーム照射軸５を含む平面に対して斜めに配置することで、回転部２０の重心から重力が働く方向に延伸して支持架台１２を配置でき、粒子線治療のスループットを向上することができ、かつ回転部支持構造を小型にできる。

なお、本発明は、発明の範囲内において、実施の形態１の一部を適宜、変形、省略したりすることが可能である。

１…回転軸、２…ビーム輸送部、３、３ａ、３ｂ、３ｃ…偏向電磁石、４…照射ノズル、５…ビーム照射軸、８…フロント支持部、９…リア支持部、１１…接続部材、１２…支持架台、１３…ビーム輸送部支持ベース、１４…ビーム入射軸、１５…軸受部、１８…荷電粒子ビーム、２０…回転部、２１…回転摺動部、２５…回転部支持ベース、２８…開口部、３０…粒子線回転照射装置。

Claims (5)

1. 加速器により加速された荷電粒子ビームを、アイソセンタを中心にした複数の角度方向から照射する粒子線回転照射装置であって、
   前記荷電粒子ビームを照射する照射ノズル及び前記荷電粒子ビームを前記照射ノズルへ輸送するビーム輸送部を有し、前記アイソセンタを中心に回転可能な回転部と、前記回転部を回転可能に支持する回転部支持ベースを備え、
   前記回転部は、前記ビーム輸送部を支持すると共に前記照射ノズルを前記回転部の前面側にて支持するビーム輸送部支持ベースを有し、
   前記回転部支持ベースは、前記回転部の重心から重力が働く方向に延伸して配置された支持架台を有し、
   前記ビーム輸送部は、前記回転部の回転軸に沿って入射される前記荷電粒子ビームを一旦外周側へ偏向し、その後前記回転軸の方向に偏向して前記照射ノズルへ輸送する複数の偏向電磁石を有し、
   前記ビーム輸送部の最下流側の偏向電磁石は、そのビーム入射軸が前記回転軸及び前記照射ノズルのビーム照射軸を含む平面を斜めに通過するように配置されたことを特徴とする粒子線回転照射装置。
2. 前記ビーム輸送部支持ベースは、前記回転部の前面側に配置されたフロント支持部と、前記回転部の背面側に配置されたリア支持部を備え、
   前記フロント支持部は、前記照射ノズル及び前記最下流側の偏向電磁石を前記回転部の前面側にて支持し、
   前記リア支持部は、前記最下流側の偏向電磁石の方向へ前記荷電粒子ビームを偏向する中間偏向電磁石を支持したことを特徴とする請求項１記載の粒子線回転照射装置。
3. 前記回転部は、前記フロント支持部と前記リア支持部との間に配置され、前記回転部支持ベースに回転可能に支持される回転摺動部を有し、
   前記回転部支持ベースは、前記回転摺動部を回転可能に支持する軸受部を有することを特徴とする請求項２記載の粒子線回転照射装置。
4. 前記ビーム輸送部は、最上流側の偏向電磁石が前記回転摺動部の径方向の開口部を通過
   するように配置されたことを特徴とする請求項３記載の粒子線回転照射装置。
5. 前記ビーム輸送部支持ベースは、前記フロント支持部と前記リア支持部を接続する接続部材を有し、前記接続部材は、前記回転軸に対して前記中間偏向電磁石の側に配置されたことを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の粒子線回転照射装置。

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