JP6004048B2 - Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板及びそれを用いた太陽電池 - Google Patents
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Description
(1)ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間におけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)と、ガラス基板表面からの深さ5000nmにおけるCa、Sr及びBaの合量(原子%)と、の比が0.35以下であって、
ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)のN2雰囲気下600℃1時間の熱処理前後比が1.5以上であり、
ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
SiO2を53〜72%、
Al2O3を1〜15%、
MgOを0.5〜9%、
CaOを0.1〜11%、
SrOを0〜11%、
BaOを0〜11%、
Na2Oを2〜11%、
K2Oを2〜21%、
ZrO2を0〜10.5%、
MgO+CaO+SrO+BaOを4〜25%、
CaO+SrO+BaOを2〜23%、
Na2O+K2Oを8〜22%、
Na2O/(CaO+SrO+BaO)≦1.2、
含有し、ガラス転移点温度が580℃以上、平均熱膨張係数が70×10−7〜100×10−7/℃である蒸着成膜Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
(2)前記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間におけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)と、ガラス基板表面からの深さ5000nmにおけるCa、Sr及びBaの合量(原子%)と、の比が0.17以下であって、
ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
K2Oを4〜21%、
ZrO2を0.5〜10.5%、
CaO+SrO+BaOを4〜23%、
含有する上記(1)に記載の蒸着成膜Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
(3)前記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間におけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)と、ガラス基板表面からの深さ5000nmにおけるCa、Sr及びBaの合量(原子%)と、の比が0.05以下であって、
前記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)のN2雰囲気下600℃1時間の熱処理前後比が2.0以上であり、
ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
CaO+SrO+BaOを4〜15%、
SrO+BaOを0〜8%、
含有する上記(1)又は(2)に記載の蒸着成膜Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
(4)前記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)のN2雰囲気下600℃1時間の熱処理前後比が2以上である上記(1)に記載の蒸着成膜Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
(5)前記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間におけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)と、ガラス基板表面からの深さ5000nmにおけるCa、Sr及びBaの合量(原子%)と、の比が0.17以下であって、
前記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)のN2雰囲気下600℃1時間の熱処理前後比が2.4以上であり、
ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
CaO+SrO+BaOを2〜15%
SrO+BaOを0〜10%、
含有する上記(1)又は(2)に記載の蒸着成膜Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。
(6)ガラス基板と、カバーガラスと、前記ガラス基板と前記カバーガラスとの間に配置される蒸着成膜されたCu−In−Ga−Seの光電変換層と、を有し、
前記ガラス基板と前記カバーガラスのうち少なくとも前記ガラス基板が、上記(1)〜 (5)のいずれかに記載の蒸着成膜Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板である太陽電池。
本願の開示は、2010年7月26日に出願された特願2010−167026号に記載の主題と関連しており、それらの開示内容は引用によりここに援用される。
ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
SiO2を53〜72%、
Al2O3を1〜15%、
MgOを0.5〜9%、
CaOを0.1〜11%、
SrOを0〜11%、
BaOを0〜11%、
Na2Oを2〜11%、
K2Oを2〜21%、
ZrO2を0〜10.5%、
MgO+CaO+SrO+BaOを4〜25%、
CaO+SrO+BaOを2〜23%、
Na2O+K2Oを8〜22%、
Na2O/(CaO+SrO+BaO)≦1.2、
含有し、ガラス転移点温度が580℃以上、平均熱膨張係数が70×10−7〜100×10−7/℃である蒸着成膜Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板である。
Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板は、蒸着成膜Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板であるのが好ましい。
SiO2を53〜72%、
Al2O3を1〜15%、
MgOを0.5〜9%、
CaOを0.1〜11%、
SrOを0〜11%、
BaOを0〜11%、
Na2Oを2〜11%、
K2Oを2〜21%、
ZrO2を0〜10.5%、
MgO+CaO+SrO+BaOを4〜25%、
CaO+SrO+BaOを2〜23%、
Na2O+K2Oを8〜22%、
Na2O/(CaO+SrO+BaO)≦1.2、
であるが、
なかでも、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
CaO+SrO+BaOを2〜15%
SrO+BaOを0〜10%、
の組み合わせ、または
K2Oを4〜21%、
ZrO2を0.5〜10.5%、
CaO+SrO+BaOを4〜23%
の組み合わせ、または、
CaO+SrO+BaOを4〜15%、
SrO+BaOを0〜8%
の組み合わせが好ましい。
本発明のCIGS太陽電池用ガラス基板は本質的に上記母組成からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を、典型的には合計で5%以下含有してもよい。たとえば、耐候性、溶解性、失透性、紫外線遮蔽等の改善を目的に、B2O3、ZnO、Li2O、WO3、Nb2O5、V2O5、Bi2O3、MoO3、P2O5等を含有してもよい。
洗浄の方法は特には限定されないが、水による洗浄や洗浄剤による洗浄や酸化セリウムを含有したスラリーを散布しながらブラシ等でこする洗浄等が例示される。酸化セリウム含有のスラリーで洗浄した場合は、その後に塩酸や硫酸等の酸性洗浄剤等を用いて洗浄することが好ましい。
洗浄後のガラス基板表面には、汚れや上記酸化セリウム等の付着物によるガラス基板表面の凹凸等がないことが好ましい。凹凸があると、上記電極膜やその下地層等の成膜の際に、膜表面の凹凸や膜厚偏差や膜のピンホール等が生じ、発電効率が低下するおそれがあるためである。凹凸は高低差で20nm以下が好ましい。
その後、例1〜3、7〜34のガラス基板について、上記フロート成形炉からの引出し及び徐冷炉での徐冷を模擬して、電気炉内で、下記に示すSO2処理条件のいずれかでSO2処理後、電気炉から取出して室温まで冷却した。なお、例4〜6、35〜46のガラス基板は、SO2処理を行っていない。
温度:600℃
SO2濃度:2.5体積%
処理時間:5分
(SO2処理条件B)
温度:580℃
SO2濃度:2.5体積%
処理時間:5分
(SO2処理条件C)
温度:600℃
SO2濃度:0.2体積%
処理時間:10分
(SO2処理条件D)
温度:650℃
SO2濃度:0.5体積%
処理時間:5分
(SO2処理条件E)
温度:550℃
SO2濃度:2.5体積%
処理時間:5分
(SO2処理条件F)
温度:600℃
SO2濃度:0.5体積%
処理時間:5分
(SO2処理条件G)
温度:600℃
SO2濃度:0.2体積%
処理時間:5分
(SO2処理条件H)
温度:600℃
SO2濃度:2.5体積%
処理時間:10分
(SO2処理条件I)
温度:600℃
SO2濃度:2.5体積%
処理時間:5分
ガラス基板表面からの深さ10、20、30、40、5000nmにおけるCa、Sr、Baの量(原子%)をX線光電子分光装置(アルバック・ファイ社製、ESCA5500)により測定した。ガラス基板表面から10〜40nmまでの研削は、C60イオンビームによりスパッタエッチングし、ガラス基板表面から5000nmまでの研削は、4000nmまで酸化セリウムの水スラリーで研削した後、C60イオンビームによりスパッタエッチングした。
ガラス基板表面からの深さ10、20、30、40におけるNaの量(原子%)をX線光電子分光装置(アルバック・ファイ社製、ESCA5500)により測定した。ガラス基板表面から10〜40nmまでの研削は、C60イオンビームによりスパッタエッチングした。
ガラス基板上に、スパッタにてモリブデン膜を成膜した。成膜条件は基板温度を室温として、膜厚500〜1000nmのモリブデン膜を成膜した。
その後、多元蒸着装置を用い、モリブデン膜付きガラス基板を200℃にて30分間加熱後、三段階法によってCIGS層を成膜した。成膜条件は基板温度400〜600℃とし、膜厚1.8μm以上となるように成膜した。
三段階法によるCIGS層の成膜は、具体的に次の手順で行なった。一段階目に基板温度を約400℃まで加熱し、In、Ga、Seを同時に蒸着した。その後、第二段階目は基板温度を500〜600℃に上昇させ、Cu、Seを膜全体の組成がCu過剰になるまで同時に蒸着した。さらに第三段階目としてIn、Ga、Seを再度同時蒸着し、最終的にCIGS層の組成がIn、Ga過剰(Cu/(In+Ga)比率<1)、膜厚1.8μm以上となるように成膜した。
そのCIGS層上にCBD(Chemical Bath Deposition)法にてCdS層を成膜した。CdS層は、0.015M硫酸カドミウム、1.5Mチオウレア、15Mアンモニア水溶液を使用し、50〜100nmの厚みとなるように成膜した。
CdS層上にスパッタにてZnOターゲット及びAZOターゲット(Al2O3を1.5wt%含有するZnOターゲット)を使用して、ZnO及びAZO層を成膜した。ZnOを約100nm、AZOを約200nm成膜した。
その後、尖った金属板を用いて、CIGS層までを削り、モリブデン膜を残し、セル化及び下部電極作製を行い、一定の有効面積(アルミ電極を除いた面積が約0.5cm2)のセルが両側に各4個、合計8個のセルが並んだCIGS太陽電池サンプルを作製した。
外部の光が内部に侵入することを遮断できる一辺約30cmの容器を準備し、その容器内を、容器内部における光の反射を抑えるため内部を黒く塗装し、上記容器内にCIGS太陽電池を設置した。
あらかじめInGa溶剤(オーミック接触のため)を塗布したモリブデン膜にはプラス端子、8個のセル表面のアルミ上部取り出し電極にマイナス端子を、それぞれ電圧/電流発生器に接続した。容器内の温度は25℃となるように温度調節機にて制御した。容器内において外部光を遮断し、電池上部からキセノンランプを10秒間照射した。その後、60秒保持し、電池の温度を安定させた。その後、キセノンランプの未照射時と照射時にて、電圧を−1Vから+1Vまで0.015V間隔で変化させ、電流値を測定した。この照射時の電流と電圧特性から発電効率を算出した。
発電効率とNa拡散量の具体的な計算は、下記のようにして求めた。
発電効率は、ガラス基板表層のNaの熱処理前後比と発電効率をプロットした回帰式から求めた。また、Na拡散量は、Naの熱処理前後比と発電効率をプロットした回帰式から求めた。
x:Na前後比
y:発電効率[%]
z:Na拡散量[1017atoms/cm3]
として、
<発電効率>
・SO2処理を行った場合
y=1.4×ln(x)+12.5 式(2)
・SO2処理を行わなかった場合
y=4.3×x+9.5 式(3)
<Na拡散量>
z=1.9×y−21.7 式(4)
また、比較例(例33、34)のガラスはNa2O量が0.5%で少ないため、SO2処理をしているが、Na拡散量も少なく発電効率も低い。
比較例(例41)のガラスは、SO2処理をしていないため、ガラス基板表層のNaの熱処理前後比が0.66と小さく、またNa2O量が0.5%で少ないため、Na拡散量も少なく発電効率も低い。
また、本発明の蒸着成膜Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板を用いることで、発電効率のよい太陽電池を提供できる。
なお、2010年7月26日に出願された日本特許出願2010−167026号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
5 ガラス基板
7 プラス電極
9 CIGS層
11 バッファ層
13 透明導電膜
15 マイナス電極
17 反射防止膜
19 カバーガラス
Claims (5)
- ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間におけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)と、ガラス基板表面からの深さ5000nmにおけるCa、Sr及びBaの合量(原子%)と、の比が0.35以下であって、
ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)が0.6原子%以上であり、
ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間における平均Na量(原子%)のN2雰囲気下600℃1時間の熱処理前後比が1.00超であり、
ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
Na2Oを2〜11%、
MgO+CaO+SrO+BaOを4〜21%、
含有し、ガラス転移点温度が580℃以上、50〜350℃の平均熱膨張係数が70×10−7〜100×10−7/℃である、Cu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。 - ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
Na2Oを3〜11%、
MgO+CaO+SrO+BaOを9〜21%、
含有する、請求項1に記載のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。 - 前記ガラス基板表面からの深さ10〜40nmの間におけるCa、Sr及びBaの平均合量(原子%)と、ガラス基板表面からの深さ5000nmにおけるCa、Sr及びBaの合量(原子%)と、の比が0.17以下であって、
ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
SiO2を53〜72%、
Al2O3を1〜15%、
CaOを0.1〜11%、
BaOを0〜11%、
K2Oを2〜21%、
Na2O+K2Oを8〜22%
ZrO2を0〜10.5%、
含有する、請求項1または2に記載のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。 - ガラス基板表面からの深さ5000nm以上において、下記酸化物基準の質量百分率表示で、
K2Oを4〜21%、
ZrO2を0.5〜10.5%、
CaO+SrO+BaOを4〜23%、
Na2O/(CaO+SrO+BaO)≦1.2、
含有する、請求項1から3のいずれか1項に記載のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板。 - ガラス基板と、カバーガラスと、前記ガラス基板と前記カバーガラスとの間に配置されるCu−In−Ga−Seの光電変換層と、を有し、
前記ガラス基板と前記カバーガラスのうち少なくとも前記ガラス基板が、請求項1から4のいずれか1項に記載のCu−In−Ga−Se太陽電池用ガラス基板である、太陽電池。
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