JP6060059B2 - 離型フィルム - Google Patents
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そして、離型フィルムは銅張り積層板と加圧成形後は容易に離型フィルムを除去する必要があることから、作業性を向上させる為に、離型性(低剥離強度)に優れる離型フィルムへの要求が高まっている。
そこで、本発明者らは、その原因を調べたところ、図2に示すように、カバーレイフィルムと離型フィルムが奇麗に剥がすことができない要因は、加熱・加圧成形時にカバーレイフィルムの窓部(端部)に、エポキシ樹脂系接着剤が軟化溶融してカバーレイフィルムフィルムの端部から流れ出て、流れ出したエポキシ樹脂系接着剤と離型フィルムが接触しており、その結果、エポキシ樹脂系接着剤と離型フィルムとが接着して、奇麗に剥がすことができないことが判った。
しかしながら、従来から離型フィルムとして用いられているフッ素系フィルムは、耐熱性、離型性、非汚染性には優れているが、高価である上、使用後の廃棄焼却処理において燃焼しにくく、かつ、有毒ガスを発生するという問題点があった。また、シリコーン塗布ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメチルペンテンフィルムは、シリコーンやフィルム組成に含まれる低分子量体の移行によってプリント配線基板、とりわけ銅回路の汚染を引き起こし、品質を損なうおそれがあった。そして、ポリプロピレンフィルムは耐熱性に劣り離型性が不充分である。
これら離型層として提案あるいは実用化されているポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステルフィルムは、無延伸フィルムである。
なお、下記[1]から[4]は、本発明の一形態又は一態様であり得る。
[1]
ポリブチレンテレフタレート延伸フィルムからなる離型フィルム。
[2]
離型フィルムが、複屈折ΔNxz(=Nx−Nz)及びΔNyz(=Ny−Nz)の値がいずれも1.0×10 −2 〜2.0×10 −1 であることを特徴とする[1]記載の離型フィルム。
[3]
離型フィルムが、ポリブチレンテレフタレート100質量部に対して、核剤(B)を0.01〜3質量部含んでなることを特徴とする[1]または[2]に記載の離型フィルム。
[4]
プリント配線基板にエポキシ樹脂系接着層を介して保護フィルムを加熱・加圧して熱接着する工程において、保護フィルムと加圧板との間に[1]乃至[3]のいずれかに記載の離型フィルムを介在させて加熱・加圧して熱接着を行い、熱接着後に当該離型フィルムを剥離する工程を含むことを特徴とするプリント配線基板の製造方法。
本発明のポリブチレンテレフタレート延伸フィルムからなる離型フィルムを構成するポリブチレンテレフタレート(A)は、1.4−ブタンジオールとテレフタル酸から得られるエステルである。
本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)は、好ましくは、固有粘度(IV)が1.0〜1.3、より好ましくは1.0〜1.2の範囲にある。
本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)の固有粘度(IV)は、フェノール/テトラクロロエタン(重量比1/1)の混合溶媒を用いて、30℃で測定した溶液粘度から求められる。
本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)は、1,4−ブタンジオールとテレフタル酸との重合体を骨格に有する限り、1,4−ブタンジオールとテレフタル酸とからなる、所謂、PBTと称されるポリブチレンテレフタレートであっても、ポリブチレンテレフタレートとポリエーテル、ポリエステル、あるいはポリカプロラクタムなどとのブロック共重合体であってもよい。
本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)のガラス転移点と融点は、示差走査型熱量計(DSC)を用いて280℃で5分間加熱溶融した後、液体窒素で急冷して得たサンプル約10mgを精評し、窒素気流中、10℃/分の昇温速度で280℃まで昇温して熱融解曲線を得、得られた熱融解曲線から、ガラス転移点(Tg)(℃)と融点(Tm)(℃)を求められる。
本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)に配合して使用される核剤(B)としては、公知の有機系結晶核剤や無機系結晶核剤を用いることができる。
無機系結晶核剤としては、タルク、カオリン、モンモリロナイト、合成マイカ、クレー、ゼオライト、シリカ、グラファイト、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化チタン、硫化カルシウム、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化アルミニウム、酸化ネオジウム、第2リン酸アルミニウム、第3リン酸カルシウム及びフェニルホスホネートの金属塩等を挙げることができる。これらの無機系結晶核剤は、組成物中での分散性を高めるために、有機物で修飾されていてもよい。
その他の有機系結晶核剤としては、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、安息香酸カルシウム、安息香酸マグネシウム、安息香酸バリウム、テレフタル酸リチウム、テレフタル酸ナトリウム、テレフタル酸カリウム、シュウ酸カルシウム、ラウリン酸ナトリウム、ラウリン酸カリウム、ミリスチン酸ナトリウム、ミリスチン酸カリウム、ミリスチン酸カルシウム、オクタコサン酸ナトリウム、オクタコサン酸カルシウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸バリウム、モンタン酸ナトリウム、モンタン酸カルシウム、トルイル酸ナトリウム、サリチル酸ナトリウム、サリチル酸カリウム、サリチル酸亜鉛、アルミニウムジベンゾエート、カリウムジベンゾエート、リチウムジベンゾエート、ナトリウムβ−ナフタレート、ナトリウムシクロヘキサンカルボキシレート等の有機カルボン酸金属塩、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、スルホイソフタル酸ナトリウム等の有機スルホン酸塩、ステアリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、パルチミン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸アミド、エルカ酸アミド、トリメシン酸トリス(t−ブチルアミド)等のカルボン酸アミド、エチレン−アクリル酸又はメタクリル酸コポリマーのナトリウム塩、スチレン−無水マレイン酸コポリマーのナトリウム塩等のカルボキシル基を有する重合体のナトリウム塩又はカリウム塩(いわゆるアイオノマー)、ベンジリデンソルビトール及びその誘導体、ナトリウム−2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)フォスフェート等のリン化合物金属塩、及び2,2−メチルビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)ナトリウム等を挙げることができる。
これら核剤の中では、ビス(4−メチルベンジリデン)ソルビトール、ナトリウム−2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)フォスフェート、ステアリン酸マグネシウム、エチレン・ビスステアリン酸アミドなどが好ましい。
本発明のポリブチレンテレフタレート延伸フィルムからなる離型フィルムは、好ましくは離型層の複屈折ΔNxz及びΔNyzの値がいずれも1.0×10−2〜2.0×10−1であり、更に好ましくは5.0×10−2〜1.8×10−1、より好ましくは8.0×10−2〜1.6×10−1の範囲にある。
複屈折ΔNxz及びΔNyzの値が1.0×10−2より低いと、ポリブチレンテレフタレートのフィルム面方向の配向性が低く、カバーレイフィルム貼り付け工程で、離型性不十分による搬送異常や基板折れ曲がり痕が生じたり、フィルム中に含まれる副生成物がフィルム表面にブリードし基板を汚染させる恐れがある。また、2.0×10−1より高いと離型性は優れたものとなるが、延伸時にフィルムが破断しやすくなったり厚み精度が得られ難くなるなどの生産上の問題が生じやすくなる恐れがある。
本発明のポリブチレンテレフタレート延伸フィルムからなる離型フィルムは単層フィルムとして離型フィルムとして使用し得るが、離型フィルムとして使用する際に、プリント配線の凹凸に追従できる他の層と積層して使用することができる。
本発明のポリブチレンテレフタレート延伸フィルムからなる離型フィルムは、種々公知の延伸フィルムの成形方法により製造し得る。例えば、前記ポリブチレンテレフタレート(A)をT−ダイを用いて溶融押出してフィルム(シート)を得た後、70〜150℃の温度で縦方向あるいは横方向に1〜5倍一軸延伸する方法、縦方向に1〜5倍延伸した後、横方向に1〜5倍延伸する方法(逐次二軸延伸)、縦及び横方向に1〜5倍延伸する方法(同時二軸延伸)、あるいは、環状ダイを用いて環状フィルムを得た後、二軸延伸する方法などにより製造し得る。
テンター法による延伸方法としては、通常の同時二軸延伸法や逐次二段延伸法を用いることができる。核剤などで無機添加剤が高添加されたポリブチレンテレフタレート(A)を用いる場合には、延伸時にフィルムが破断しやすくなるが、二軸延伸においては、同時二軸延伸法を用いることにより、離型フィルム中の空隙の発生を抑えるとともに破断の発生を低減することができるので、同時二軸延伸法がより好適である。
本発明のポリブチレンテレフタレート延伸フィルムからなる離型フィルムを加熱処理する方法は、種々公知の方法、具体的には、テンター法で成形して得たロール状の離型フィルムを加熱された熱風オーブンにロール巻取り方式で通す方法、または、ロール巻取り方式で通しているライン上に、IRヒーターなどのヒーターを設置して離型フィルムを加熱する方法、ロール状の離型フィルムをシート状にカットした枚葉フィルムで、熱風オーブンで加熱処理する方法、テンター法で成形したロール状の離型フィルムをロール巻取り方式で加熱したロールに接触させる方法などを例示できる。
離型フィルムを加熱する熱源としては特に限定されないが、遠赤外線ヒーターや短波長赤外線ヒーター、中波長赤外線ヒーター、カーボンヒーターなどが好ましい。
中でも、テンター法で成形したロール状の離型フィルムをロール巻取り方式で加熱したロールに接触させる方法は、加熱したロールに直接離型フィルムが接触するため、離型フィルム表面の熱伝達が早くて済むため、加熱処理時間が比較的短時間にできるため生産性が高い。
本発明の実施例及び比較例で用いたポリブチレンテレフタレート及び結晶核剤を以下に示す。
(A−1)Tg=52℃、Tm=223℃、IV=1.1、〔ポリプラスチックス(株)製、商品名:ジュラネックス700FP〕
(A−2)Tg=46℃、Tm=223℃、IV=1.1、〔三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、商品名:ノバデュラン 5010CS〕
(A−3)Tg=47℃、Tm=222℃、IV=1.2、〔三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、商品名:ノバデュラン 5020〕
(A−4)Tg=46℃、Tm=219℃、IV=1.2、〔三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、商品名:ノバデュラン 5505S〕
(3)結晶核剤
(B−1)ビス(4−メチルベンジリデン)ソルビトール、Tm=260℃〔新日本理化(株)製、商品名: ゲルオールMD〕
(B−2)ナトリウム2,2’−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェニル)ホスフェート〔(株)アデカ製 商品名:アデカスタブNA−11〕
(B−3)ステアリン酸マグネシウム、Tm=125℃、〔堺化学工業(株)製〕
上記記載のポリブチレンテレフタレート:100質量部と上記記載の各結晶核剤:5質量部の組成比でブレンド後、二軸押出機を使用し、250℃のシリンダー温度で溶融混練しペレット化し、結晶核剤の濃度が5質量%である結晶核剤マスターバッチを造粒した。
表1に示すPBT及び結晶核剤マスターバッチ原料をドライブレンド後、40mmφの押出機で押出しT−ダイ法により樹脂温度250℃程度、キャスティングロール温度20℃程度で冷却して厚さ135μmの単層シートを製膜した。得られたシートをバッチ式二軸延伸機を用いて、75℃で1分間予熱した後、75℃で延伸速度50mm/sで、表1に示す延伸倍率で、縦方向(MD)、横方向(TD)に同時二軸延伸し、続いて190℃に加熱した熱風オーブン炉にて10秒間熱セットし、厚さ15μmの離型フィルムを得た。
表1に示すPBT及び結晶核剤マスターバッチ原料を用いて、実施例1と同様にして単層シートを製膜し、さらに、表1に示す延伸倍率で同時二軸延伸した以外は実施例1と同様にして、厚さ15μmの離型フィルムを得た。
表1に示すPBT及び結晶核剤マスターバッチ原料を用いて、実施例1と同様にして単層シートを製膜し、さらに、表1に示す延伸倍率で縦方向(MD)に一軸延伸した以外は実施例1と同様にして、厚さ15μmの離型フィルムを得た。
表1に示すPBT及び結晶核剤マスターバッチ原料を用いて、延伸処理を行わないこと以外は実施例1と同様に製膜し、厚さ15μmの離型フィルムを得た。
(1)屈折率、複屈折
離型フィルムの屈折率をアッベ(abbe)屈折計DR−M2((株)アタゴ製)を用いて下記のNx、Ny、NzをJIS K 7142に準拠して測定した。
すなわち、測定光としてD線(波長589nm)を使用して、離型フィルムの直交3方向の屈折率Nx、Ny、Nzを測定し、その測定で得られた数値から以下の屈折率、複屈折を求めた。
Nx:離型フィルムの長手方向(MD)の屈折率
Ny:離型フィルムの幅方向(TD)の屈折率
Nz:離型フィルムの厚み方向の屈折率
複屈折であるΔNxz(=Nx−Nz)及びΔNyz(=Ny−Nz)の値
図1に示すようにカバーレイフィルム(保護フィルム)2〔商品名:カバーレイCISV1215(ニッカン工業(株)製 ポリイミド層2-1厚さ:12μm、エポキシ樹脂系接着剤層2-2厚さ:25μm)〕のエポキシ樹脂系接着剤層2-2と離型フィルム1を同じ縦方向(MD)になるようにして重ね合わせ、更に、その外側にアルミ板とSUS板で挟みこみ(図示せず)、加熱プレス機にセットした。温度180℃、圧力4MPa、加圧時間120秒の条件で加熱プレスし、プレス圧を解放し冷却した後、カバーレイフィルム2と離型フィルム1が重なり合った試験片を得た。これを横方向(TD)15mmの短冊状の試験片を切出し、引張り試験機を用い、室温下、引張速度300mm/分でカバーレイフィルムを180度剥離で引張り、エポキシ樹脂系接着剤層と離型フィルム間の剥離強度を測定した。
エポキシ離型性の判定は、1.5N/15mm以下が使用可能な範囲で(判定:△)、好ましくは1.0N/15mm以下(判定:○)、より好ましくは0.1〜0.5N/15mm以下(判定:◎)が望ましい。1.6N/15mm以上は剥離不良など不具合が発生しやすくなるので、判定:×とした。
ポリイミド層とエポキシ樹脂系接着剤層からなるカバーレイフィルム〔ニッカン工業(株)製、商品名:CISV1215)を用いた。このカバーレイフィルムにはプリント配線基材の端子部分に相当する窓部4が打ち抜かれている。打ち抜き部の大きさは4mm×20mmで1枚のカバーレイフィルムに複数箇所に形成されている。一方配線プリント配線基板3は厚さ25μmのポリイミドに厚さ12μmの銅箔で配線パターンが形成されている200mm×200mmの大きさを用いた。このプリント配線基板3の銅箔面とカバーレイフィルム2を位置決めして重ね合わせ、その両面側を離型フィルム1で挟み込んだ状態で(図2)、加熱プレス機にセットした。温度180℃、圧力4MPa、加圧時間120秒の条件で加熱プレスし、プレス板開放し冷却した後、離型フィルムをカバーレイフィルムが接着したプリント配線基板から離型させた。離型の際に離型性が悪いためにプリント配線基板が離型フィルムに引張られ、プリント配線基板に部分的に折れ曲がり痕が1箇所でも発生した場合を×とし、折れ曲がれ痕が発生しなかった場合を○と判定した。
2:カバーレイフィルム(保護フィルム)
2−1:ポリイミドフィルム
2−2:エポキシ樹脂系接着剤層
3:プリント配線基板
4:窓部
Claims (3)
- ポリブチレンテレフタレート延伸フィルムからなる離型フィルムであって、複屈折ΔNxz(=Nx−Nz)及びΔNyz(=Ny−Nz)の値がいずれも1.0×10 −2 〜2.0×10 −1 であることを特徴とする上記離型フィルム。
- 離型フィルムが、ポリブチレンテレフタレート100質量部に対して、核剤(B)を0.01〜3質量部含んでなることを特徴とする請求項1に記載の離型フィルム。
- プリント配線基板にエポキシ樹脂系接着層を介して保護フィルムを加熱・加圧して熱接着する工程において、保護フィルムと加圧板との間に請求項1または2に記載の離型フィルムを介在させて加熱・加圧して熱接着を行い、熱接着後に当該離型フィルムを剥離する工程を含むことを特徴とするプリント配線基板の製造方法。
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