JP5983158B2 - 光学用積層フィルム - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 19
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 224
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 135
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 118
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 117
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 117
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 99
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 99
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 83
- -1 1-methyltridecyl Chemical group 0.000 claims description 64
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 64
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 claims description 47
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 44
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 28
- SLDNVUVZBYSKLC-UHFFFAOYSA-N pentatriacontyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C SLDNVUVZBYSKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 16
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 claims description 8
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 claims description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 5
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 claims description 3
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000002511 behenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000002463 lignoceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000001802 myricyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 266
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 165
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 65
- 238000000034 method Methods 0.000 description 58
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 49
- LKEDKQWWISEKSW-UHFFFAOYSA-N nonyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C LKEDKQWWISEKSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 23
- OAYMNBMXGBFHKX-UHFFFAOYSA-N hexatriacontyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C OAYMNBMXGBFHKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- GTBGXKPAKVYEKJ-UHFFFAOYSA-N decyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GTBGXKPAKVYEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 16
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 7
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 6
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 6
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 5
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 3
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 3
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 3
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 3
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 3
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 3
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 3
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 2
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 2
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQBSIHIZDSHADD-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound C=CC1=NCCO1 BQBSIHIZDSHADD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBYIFPWEHGSUEY-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-4-methyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC1COC(C=C)=N1 PBYIFPWEHGSUEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMEVYZZCEGUONQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-5-methyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC1CN=C(C=C)O1 HMEVYZZCEGUONQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylhex-1-en-3-yne Chemical compound CCC#CC(C)=C IXPWKHNDQICVPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical group OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPIQIQPLUVLISR-UHFFFAOYSA-N 2-prop-1-en-2-yl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC(=C)C1=NCCO1 LPIQIQPLUVLISR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical group N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSQZNZLOZXSBHA-UHFFFAOYSA-N 3,8-dioxabicyclo[8.2.2]tetradeca-1(12),10,13-triene-2,9-dione Chemical compound O=C1OCCCCOC(=O)C2=CC=C1C=C2 WSQZNZLOZXSBHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLLVZDVNHNWSDS-UHFFFAOYSA-N 4-methylidene-3,5-dioxabicyclo[5.2.2]undeca-1(9),7,10-triene-2,6-dione Chemical compound C1(C2=CC=C(C(=O)OC(=C)O1)C=C2)=O LLLVZDVNHNWSDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRHWINGBSHBXAD-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-2-prop-1-en-2-yl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CCC1CN=C(C(C)=C)O1 IRHWINGBSHBXAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFHBJXIEBWOOFA-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-3,6-dioxabicyclo[6.2.2]dodeca-1(10),8,11-triene-2,7-dione Chemical compound O=C1OC(C)COC(=O)C2=CC=C1C=C2 SFHBJXIEBWOOFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 208000023514 Barrett esophagus Diseases 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QYBQWJGBJVIJAQ-UHFFFAOYSA-N C(=C)(C)C=1OCC(N1)C.C(=C)(C)C=1OCCN1 Chemical compound C(=C)(C)C=1OCC(N1)C.C(=C)(C)C=1OCCN1 QYBQWJGBJVIJAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMRDSWJXRLDPBB-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C1CCCCC1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.C1CCCCC1 OMRDSWJXRLDPBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100215634 Yarrowia lipolytica (strain CLIB 122 / E 150) XPR2 gene Proteins 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N allyl isocyanate Chemical compound C=CCN=C=O HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical group CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N carbodiimide group Chemical group N=C=N VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N decyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C=C FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- WARQUFORVQESFF-UHFFFAOYSA-N isocyanatoethene Chemical compound C=CN=C=O WARQUFORVQESFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C(C)=C WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOZHLACIXDCHPV-UHFFFAOYSA-N n-(methoxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound COCNC(=O)C(C)=C YOZHLACIXDCHPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULYOZOPEFCQZHH-UHFFFAOYSA-N n-(methoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound COCNC(=O)C=C ULYOZOPEFCQZHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N n-methylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C=C YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- YGPZXPHFJSYIKP-UHFFFAOYSA-N nonadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C YGPZXPHFJSYIKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
- 238000004736 wide-angle X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
また、ITOなどの材料から形成される透明導電層のパターンを見えにくくするIMフィルムとして好適に用いられる光学用積層フィルムを提供することを目的とする。
ポリエステルフィルムの少なくとも片側に樹脂層が設けられた積層フィルムであって、
該樹脂層は、少なくともシリカ粒子(B)とアクリル樹脂(D)を含有し、
該シリカ粒子が、中空粒子および/または孔を有する粒子であり、かつ、該シリカ粒子の数平均粒子径が30nm以上120nm以下であり、
該アクリル樹脂(D)が、下記式(1)で表される(メタ)アクリレートモノマー(d−1)と、下記式(2)で表される(メタ)アクリレートモノマー(d−2)を用いてなる樹脂であり、積層フィルムの樹脂層側の最小反射率が2.0%以下である光学用積層フィルムである。
本発明の積層フィルムにおける樹脂層は、少なくともシリカ粒子(B)とアクリル樹脂(D)を含有することが必要である。アクリル樹脂(D)を用いることで、樹脂層を形成する過程において、該シリカ粒子(B)の凝集を抑制せしめることが可能になり、その結果、積層フィルムの透明性を向上させることが可能となる。さらには、アクリル樹脂の屈折率は一般に低いため、樹脂層の屈折率が低くなり、該樹脂層側の反射率の最小値を低減させることが可能となる。
本発明における積層フィルムの樹脂層は、少なくとも前記アクリル樹脂(D)に加えて、シリカ粒子(B)を含有することが必要である。該シリカ粒子(B)は、中空粒子および/または孔を有する粒子であり、かつ、該シリカ粒子の数平均粒子径が30nm以上120nm以下のシリカ粒子である。かかるシリカ粒子(B)を用いることで、樹脂層の屈折率を低くすることができ、樹脂層側の最小反射率を低減させることが可能になるとともに、シリカ粒子の数平均粒子径が可視光の波長より十分小さいため、積層フィルムの透明性を高めることが可能となる。
(ii)溶媒中に、シリカ粒子(B)とアクリル樹脂を順に添加して分散する方法。
(iii)溶媒中に、シリカ粒子(B)とアクリル樹脂(D)をあらかじめ分散し、えられた分散体を混合する方法。
(iv)溶媒中に、シリカ粒子(D)を分散した後、得られた分散体に、アクリル樹脂(D)を添加する方法。
樹脂層におけるシリカ粒子(B)の含有量が、樹脂層全体に対して、15質量%以上50質量%以下であることが好ましい。より好ましくは、20質量%以上45質量%以下、さらに好ましくは25質量%以上40質量%以下である。シリカ粒子(B)の含有量を、樹脂層全体に対して、15質量%以上50質量%以下とすることで、該樹脂層の造膜性を損なうことなく、樹脂層の屈折率を低減することができる。その結果、所望の透明性、反射防止性を十分に発現させることが可能となる。
本発明における積層フィルムの樹脂層は、少なくとも前記シリカ粒子(B)、アクリル樹脂(D)を含有し、さらにオキサゾリン系化合物に由来する成分(e−1)および/またはカルボジイミド系化合物に由来する成分(e―2)を含有することが好ましい。
本発明における該樹脂層は、少なくともシリカ粒子(B)とアクリル樹脂(D)以外に、
(D)以外のアクリル樹脂を含んでいてもよい。(D)以外のアクリル樹脂としては、次のモノマーの1種もしくは2種以上を用いた共重合体が例示される。(D)以外のアクリル樹脂を構成するモノマー成分としては、例えば、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート(アルキル基としてはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、ラウリル基、ステアリル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェニルエチル基等)、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ基含有モノマー、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N,N−ジメチロールアクリルアミド、N−メトキシメチルアクリルアミド、N−メトキシメチルメタクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド等のアミド基含有モノマー、N,N−ジエチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレート等のエポキシ基含有モノマー、アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの塩(リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等)等のカルボキシル基またはその塩を含有するモノマーなどを用いることができ、これらは1種もしくは2種以上を用いて共重合される。更に、これらは他種のモノマーと併用することができる。
また、該アクリル樹脂の分子量は10万以上が好ましく、より好ましくは30万以上とするのが接着性の観点から好ましい。
本発明の積層フィルムにおいて、基材フィルムとして用いられるポリエステルフィルムについて述べる。まずポリエステルとは、エステル結合を主鎖に有する高分子の総称であって、エチレンテレフタレート、プロピレンテレフタレート、エチレン−2,6−ナフタレート、ブチレンテレフタレート、プロピレン−2,6−ナフタレート、エチレン−α,β−ビス(2−クロロフェノキシ)エタン−4,4‘−ジカルボキシレートなどから選ばれた少なくとも1種の構成成分とするものを好ましく用いることができる。
本発明にて用いられる樹脂組成物とは、少なくとも前記シリカ粒子(B)と前記アクリル樹脂(D)を含有し、該シリカ粒子が中空粒子および/または孔を有する粒子であり、かつ、該シリカ粒子の数平均粒子径が30nm以上120nm以下である樹脂を有してなる組成物である。
本発明では、少なくともシリカ粒子(B)とアクリル樹脂(D)とを含有する樹脂組成物をポリエステルフィルム上へ塗布し、樹脂組成物が溶媒を含む場合には、溶媒を乾燥させることによって、ポリエステルフィルム上に樹脂層を形成することができる。
本発明における特性の測定方法および効果の評価方法は次のとおりである。
全光線透過率および初期ヘイズの測定は、常態(23℃、相対湿度50%)において、積層フィルムサンプルを40時間放置した後、日本電色工業(株)製濁度計「NDH5000」を用いて、全光線透過率の測定はJIS「プラスチック透明材料の全光線透過率の試験方法」(K7361−1、1997年版)、初期ヘイズの測定はJIS「透明材料のヘーズの求め方」(K7136 2000年版)に準ずる方式で行った。なお、サンプルの樹脂層が積層された面側から光を照射して測定した。サンプルは一辺50mmの正方形のものを10サンプル準備し、それぞれ1回ずつ、合計10回測定した平均値をサンプルのヘイズ値とした。
積層フィルムサンプルを金属枠に4辺で固定し、150℃(風量ゲージ「7」)に設定したエスペック(株)製熱風オーブン「HIGH−TEMP−OVEN PHH−200」に金属枠に固定したサンプルを熱風オーブン内の床に対して立てて入れ1時間加熱し、その後空冷で1時間放置した。ここでポリエステルフィルムの片側にのみ樹脂層を形成させた積層フィルムサンプルは、樹脂層と反対にあるポリエステルフィルムの面を、アセトンを含ませた不織布(小津産業(株)製、ハイゼガーゼNT−4)にて拭き取り、さらにアセトンで流し常態で40時間放置乾燥させ、樹脂層とは反対にあるポリエステルフィルム面から析出したオリゴマーを除去した。その後、サンプルを前項(1)に記載の透過率・初期ヘイズ測定方法により加熱後のヘイズ値を測定し、熱処理前後の樹脂層片面のヘイズ値の差(Δ)をΔヘイズ値として評価した。またポリエステルフィルム両面に樹脂層を形成させた積層フィルムサンプルは熱風オーブンでの加熱後、サンプルを常態で40時間放置したのち前項(1)に記載の透過率・ヘイズ測定方法により加熱後のヘイズ値を測定し、熱処理前後のヘイズ値の差を半分(50%)にした値を樹脂層片面のヘイズ値の差(Δ)とし、これをΔヘイズ値として評価した。測定は、合計10回測定した平均値をサンプルのヘイズ値とした。
<Δヘイズ値>
◎:2.0%未満
○:2.0%以上2.5%未満
△:2.5%以上〜3.0%未満
×:3.0%以上
尚、加熱処理評価は「○」を良好とした。
A4カットサイズに裁断したフィルムシートを縦横それぞれ3分割し、合計9点を測定サンプルとして用いた。長辺側を長手方向とした。分光反射率の測定は、測定面(該樹脂層)の裏面に50mm幅の黒色光沢テープ(ヤマト(株)製 ビニ−ルテープNo.200−50−21:黒)を、気泡を噛みこまないようにサンプルとテープの長手方向を合わせて貼り合わせた後、約4cm角のサンプル片に切り出し、分光光度計(島津製作所(株)製 UV2450)に入射角5°での分光反射率を測定した。サンプルを測定器にセットする方向は、測定器の正面に向かって前後の方向にサンプルの長手方向を合わせた。なお反射率を基準化するため、標準反射板として付属のAl2O3板を用いた。最小反射率は、波長500nmから650nmにおける樹脂層側の最小の反射率を求めた。なお、測定値には、9点の平均値を用いた。
積層ポリエステルフィルムの樹脂層側に、下記の割合で混合したUV硬化型樹脂を、バーコーターを用いて硬化後の膜厚が2μmとなるように均一に塗布した。
・ウレタンアクリレート(新中村化学(株)製 UA122P):80重量部
・ポリエステルアクリレート(日本化薬(株)製“カヤラッド”DPHA):10重量部
・ポリエステルアクリレート(日本化薬(株)製“カヤラッド”PETA):10重量部
・シリコーンオイル(東レダウコーニングシリコーン(株)製 SH190):3重量部
・光重合開始剤(長瀬産業(株)社製“イルガキュア”184):3重量部。
◎ :90〜100個残存
○ :80〜89個残存
△ :50〜79個残存
× :0〜50個未満残存。
シリカ粒子(B)の数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)により積層フィルムの断面構造を観察することにより求めた。倍率を50万倍とし、その画面内に存在する10個の粒子の外径を、10視野について合計100個の粒子を測定し、その平均粒子径を求めた。画面内に10個の粒子が存在しない場合は、同じ条件で別の箇所を観察し、その画面内に存在する粒子の外径を測定して、合計で100個の粒子の外径を測定して平均値とした。ここで外径とは、粒子の最大の径(つまり粒子の長径であり、粒子中の最も長い径を示す)を表し、内部に空洞を有する粒子の場合も同様に、粒子の最大の径を表す。
透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて断面を観察することにより、ポリエステルフィルム上の樹脂層の厚みを測定した。樹脂層の厚みは、TEMにより20万倍の倍率で撮影した画像から樹脂層の厚みを読み取った。合計で20点の樹脂層厚みを測定して平均値とした。
樹脂層の表面を上にして積層フィルムの下にカラー写真を置き、積層フィルムを通して写真を見た場合の画像の鮮明度とムラを目視で観察し、本発明の積層フィルムを反射防止フィルムとして用いたときの反射防止特性(Anti−Refrection性(AR性))を評価した。○以上を良好と判断した。
わずかに像がぼやけるがムラがない: ○
像がぼやける部分が混在する : △
全体に像がぼやける : ×。
本発明の積層フィルムをIMフィルムとして用いた透明導電層積層体を作成し、透明導電層積層体の色調(カラーb値)と視認性評価を行い、IMフィルムとしての特性を評価した。透明導電層積層体の作製は以下のとおり行った。
[透明導電層の形成]
本発明の光学用積層フィルムの樹脂層上にインジウム−スズ複合酸化物(ITO)からなる透明導電性層を成膜した。このとき、スパッタリング前の圧力を0.0001Paとし、ターゲットとして酸化スズを36質量%含有した酸化インジウム(住友金属鉱山株式会社製、密度6.9g/cm3)を用いて、2W/cm2の直流(DC)電力を印加した。また、Arガスを130sccm、O2ガスを表面抵抗値が最小となる流速で流し、0.4Paの雰囲気下でDCマグネトロンスパッタリング法を用いて成膜した。DC電力としては、アーク放電を防止するために、日本イーエヌアイ製PRG−100を用いて5μs幅のパルスを50kHz周期で印加した。また、センターロール温度は10℃として、スパッタリングを行った。
[透明導電層積層体の透明導電層のパターニング]
透明導電層積層体の透明導電層側に、苛性ソーダ1%液で現像が可能なネガタイプのアクリル系感光層であるドライフィルムレジストを厚み10nmで設けた表面に、ストライプ状のパターンを有するマスクを静置して、メタルハライドランプにより露光し、苛性ソーダ1%液に浸して現像した。次いで、塩化第二鉄のエッチング液により、ドライフィルムレジスト層が積層されていない部分の透明導電層をエッチング除去し、平均線幅20μmの透明導電層にストライプ状パターンを形成した。
[透明導電層積層体の色調(Lab表色系におけるb値)]
透明導電層積層体の透明導電層のある部分と透明導電層のない部分の色調(Lab表色系におけるb値)を、JIS−KL7105(1981)に準拠して、色差計(日本電色工業製、ZE−2000)を用い、光源はC光源、視野は2°視野にて、透明導電層を積層した側からそれぞれ測定した。透明導電層のある部分の色調b値をb1、透明導電層の無い部分の色調b値をb0とし、b0とb1の差が1.0以下を合格とした。
[視認性評価]
透明導電層側に、屈折率1.52のアクリル系粘着層を有するポリエチレンテレフタレートフィルムを保護フィルムとして貼り合わせた。三波長蛍光灯(ナショナル 3波長形昼白色 “パルック”(登録商標)(品番:F.L 15EX−N 15W))を光源とし、この直下30cmのところに、保護フィルムを貼り合わせたフィルムを保護フィルム面が観察面側になるように置いて、正面から左右45°まで様々な角度から透明導電層のパターンの見え方を評価し、下記の判断基準で、○以上を合格とした。
はじめに、樹脂組成物1を次の通り調整した。
中空シリカであるスルーリア1420(日揮触媒化成株式会社製中空シリカ:数平均粒子径60nm)を用いた。
攪拌機、温度計、還流冷却管の備わった通常のアクリル樹脂反応槽に、溶剤としてイソプロピルアルコール100部を仕込み、加熱攪拌して100℃に保持した。
水系溶媒中に、上記シリカ粒子(B)と上記アクリル樹脂(D)を順に添加し、以下の方法で分散せしめ、粒子(BD)とアクリル樹脂(D)の混合体を得た。(前記(ii)の方法。)シリカ粒子(B)およびアクリル樹脂(D)の添加量比(質量比)は、(B)/(D)=30/70とした(なお質量比は、小数点第1位を四捨五入して求めた)。分散処理は、ホモミキサーを用いて行い、周速10m/sで5時間回転させることによって行った。また、最終的に得られた混合体における、粒子(BD)とアクリル樹脂(D)の質量比は、(BD)/(D)=30/70であった(なお、質量比は小数点第1位を四捨五入して求めた)。
水系溶媒に、上記の粒子(BD)とアクリル樹脂(D)の混合体を添加し、混合し、樹脂組成物を得た。(樹脂組成物における、粒子(BD)とアクリル樹脂(D)の質量比は、(BD)/(D)=30/70である)。
次いで、実質的に粒子を含有しないPETペレット(極限粘度0.63dl/g)を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し285℃で溶融し、T字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度25℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを90℃に加熱して長手方向に3.4倍延伸し、一軸延伸フィルム(Bフィルム)とした。
シリカ粒子(B)を、孔を有するシリカ粒子であるナノポーラスシリカFSM(太陽化学株式会社製 数平均粒子径60nm)、に変更した以外は、実施例1と同様の方法で積層フィルムを得た。
実施例1と比較して、積層フィルムは、孔を有するシリカ粒子を用いたことで、最小反射率、初期ヘイズが若干高くなり、透明性、視認性が若干低下したものの良好であり、同等の接着性、オリゴマー抑制性を示した。また、得られた透明導電積層体は、透明導電層のパターンがほとんど見えず優れた視認性を示しており、本発明の積層フィルムがIMフィルムとして好適に用いることが出来ることがわかった。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)を、表1に記載の、n=9のデシルメタクリレート(実施例3)、n=34のペンタトリアコンチルメタクリレート(実施例4)、に変更した以外は、実施例1と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
実施例1と比較して、積層フィルムは、n=9、34のメタクリレートを用いたことで、それぞれ樹脂層形成時のシリカ粒子(B)の分散性が低下(実施例3:n=9のデシルメタクリレートを用いた実施例)、アクリル樹脂同士が凝集し(実施例4:n=34のペンタトリアコンチルメタクリレートを用いた実施例)、初期ヘイズが若干高くなり、透明性、オリゴマー抑制性が若干低下したものの良好であり、同等の接着性、視認性を示した。また、透明導電積層体は、実施例1と同等の優れた視認性を示しており、本発明の積層フィルムがIMフィルムとして好適に用いることが出来ることがわかった。
シリカ粒子(B)を、孔を有するシリカ粒子であるナノポーラスシリカFSM(太陽化学株式会社製 数平均粒子径60nm)に変更した以外は、実施例4と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
実施例4と比較して、積層フィルムは、孔を有するシリカ粒子を用いたことで、最小反射率、初期ヘイズが若干高くなり、透明性、視認性、オリゴマー抑制性が若干低下したものの良好であり、同等の接着性を示した。また透明導電積層体において、パターンがほとんど見えず優れた視認性を示しており、本発明の積層フィルムがIMフィルムとして好適に用いることが出来ることがわかった。
シリカ粒子(B)を、
数平均粒子径30nmの中空シリカであるスルーリアTR113(日揮触媒化成株式会社製中空シリカ:数平均粒子径30nm)(実施例6)、
数平均粒子径120nmの中空シリカであるスルーリア1420−120(日揮触媒化成株式会社製中空シリカ:数平均粒子径120nm)シリカ粒子(B)(実施例7)に、
それぞれ変更した以外は、実施例1と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
シリカ粒子(B)を、孔を有するシリカ粒子であるナノポーラスシリカFSM−120(太陽化学株式会社製 数平均粒子径120nm)に変更した以外は、実施例7と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
シリカ粒子(B)とアクリル樹脂(D)の質量比を表1の記載の数値に変更した以外は、実施例1と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
シリカ粒子(B)を、孔を有するシリカ粒子に変更した以外は、実施例10と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)を、表1に記載の、n=9のデシルメタクリレート(実施例12)、n=34のペンタトリアコンチルメタクリレート(実施例13)、にそれぞれ変更した以外は、実施例6と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)を、表1に記載の、n=9のデシルメタクリレート(実施例14)、n=34のペンタトリアコンチルメタクリレート(実施例15)、にそれぞれ変更した以外は、実施例7と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)を、表1に記載の、n=9のデシルメタクリレート(実施例16)、n=34のペンタトリアコンチルメタクリレート(実施例17)、にそれぞれ変更した以外は、実施例9と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)を、表1に記載の、n=9のデシルメタクリレート(実施例18)、n=34のペンタトリアコンチルメタクリレート(実施例19)、にそれぞれ変更した以外は、実施例10と同様の方法で積層フィルム、IMフィルムを得た。
シリカ粒子(B)を、
数平均粒子径30nmの中空シリカであるスルーリアTR113(日揮触媒化成株式会社製中空シリカ:数平均粒子径30nm)(実施例20)、
数平均粒子径120nmの中空シリカであるスルーリア1420−120(日揮触媒化成株式会社製中空シリカ:数平均粒子径120nm)(実施例21)に、
それぞれ変更した以外は、実施例9と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
シリカ粒子(B)を、
数平均粒子径30nmの中空シリカであるスルーリアTR113(日揮触媒化成株式会社製中空シリカ:数平均粒子径30nm)(実施例22)、
数平均粒子径120nmの中空シリカであるスルーリア1420−120(日揮触媒化成株式会社製中空シリカ:数平均粒子径30nm)(実施例23)に、
それぞれ変更した以外は、実施例10と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)を、表1に記載の、n=9のデシルメタクリレート(実施例24)、n=34のペンタトリアコンチルメタクリレート(実施例25)、にそれぞれ変更した以外は、実施例20と同様の方法で積層フィルム、IMフィルムを得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)を、表1に記載の、n=9のデシルメタクリレート(実施例26)、n=34のペンタトリアコンチルメタクリレート(実施例27)、にそれぞれ変更した以外は、実施例21と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)を、表1に記載の、n=9のデシルメタクリレート(実施例28)、n=34のペンタトリアコンチルメタクリレート(実施例29)、にそれぞれ変更した以外は、実施例22と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)を、表1に記載の、n=9のデシルメタクリレート(実施例30)、n=34のペンタトリアコンチルメタクリレート(実施例31)、にそれぞれ変更した以外は、実施例23と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
はじめに、樹脂組成物2を次の通り調整した。
樹脂組成物1に、オキサゾリン系化合物(e’−1)を添加し、混合し、樹脂組成物2を得た。(樹脂組成物2における、粒子(BD)とアクリル樹脂(D)とオキサゾリン系化合物(e’−1)の質量比は、(BD)/(D)/(e’−1)=27/64/9である。)。
樹脂組成物として、オキサゾリン系化合物(e’−1)を含有した次の樹脂組成物2を用いた以外は、実施例1と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
はじめに、樹脂組成物3を次の通り調整した。
樹脂組成物1に、カルボジイミド系化合物(e’−2)を添加し、混合し、樹脂組成物3を得た。(樹脂組成物3における、粒子(BD)とアクリル樹脂(D)とカルボジイミド系化合物(e’−2)の質量比は、(BD)/(D)/(e’−2)=27/64/9である。)。
樹脂組成物として、カルボジイミド系化合物(e’―2)を含有した次の樹脂組成物3を用いた以外は、実施例1と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
はじめに、樹脂組成物4を次の通り調整した。
樹脂組成物1に、オキサゾリン系化合物(e’―1)およびカルボジイミド系化合物(e’−2)を添加し、混合し、樹脂組成物4を得た。(樹脂組成物4における、粒子(BD)とアクリル樹脂(D)とオキサゾリン系化合物(e’−1)およびカルボジイミド系化合物(e’−2)の質量比は、(BD)/(D)/(e’−1)/(e’−2)=25/59/8/8である。)。
樹脂組成物として、オキサゾリン系化合物(e’―1)およびカルボジイミド系化合物(e’−2)を含有した次の樹脂組成物4を用いた以外は、実施例1と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
実施例1におけるシリカ粒子(B)を、
中実のシリカ粒子であるスノーテックスXL(日産化学工業株式会社製:数平均粒子径60nm)に変更した以外は、実施例1と同様の方法で積層フィルム、IMフィルムを得た。
実施例4におけるシリカ粒子(B)を、
中実のシリカ粒子であるスノーテックスXL(日産化学工業株式会社製:数平均粒子径60nm)に変更した以外は、実施例4と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
実施例1におけるシリカ粒子(B)を、
中実のシリカ粒子であるスノーテックスMP(日産化学工業株式会社製:数平均粒子径120nm)に変更した以外は、実施例1と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
実施例10におけるシリカ粒子(B)を、
中実のシリカ粒子であるスノーテックスXL(日産化学工業株式会社製:数平均粒子径60nm)に変更した以外は、実施例10と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)の代わりに、
n=8のノニルメタクリレート(比較例5)、
n=35のヘキサトリアコンチルメタクリレート(比較例6)を、
それぞれ用いた以外は、実施例1と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
シリカ粒子(B)を、
中空シリカであるスルーリアTR112(日産化学工業株式会社製:数平均粒子径25nm)(比較例7)、
中空シリカであるシリナックス(日鉄鉱業株式会社製:数平均粒子径125nm)(比較例8)に、
それぞれ変更した以外は、実施例1と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
シリカ粒子(B)とアクリル樹脂(D)の質量比を表1の記載の数値に変更した以外は、実施例1と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)の代わりに、
n=8のノニルメタクリレート(比較例11)、
n=35のヘキサトリアコンチルメタクリレート(比較例12)を、
それぞれ用いた以外は、比較例7と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)の代わりに、
n=8のノニルメタクリレート(比較例13)、
n=35のヘキサトリアコンチルメタクリレート(比較例14)を、
それぞれ用いた以外は、比較例8と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)の代わりに、
n=8のノニルメタクリレート(比較例15)、
n=35のヘキサトリアコンチルメタクリレート(比較例16)を、
それぞれ用いた以外は、比較例9と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)の代わりに、
n=8のノニルメタクリレート(比較例17)、
n=35のヘキサトリアコンチルメタクリレート(比較例18)を、
それぞれ用いた以外は、比較例10と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
シリカ粒子(B)を、
中空シリカであるスルーリアTR112(日産化学工業株式会社製:数平均粒子径25nm)(比較例19)、
中空シリカであるシリナックス(日鉄鉱業株式会社製:数平均粒子径125nm)(比較例20)に、
それぞれ変更した以外は、比較例9と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
シリカ粒子(B)を、
中空シリカであるスルーリアTR112(日産化学工業株式会社製:数平均粒子径25nm)(比較例21)、
数平均粒子径125nmの中空シリカであるシリナックス(日鉄鉱業株式会社製:数平均粒子径125nm)(比較例22)に、
それぞれ変更した以外は、比較例10と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)の代わりに、
n=8のノニルメタクリレート(比較例23)、
n=35のヘキサトリアコンチルメタクリレート(比較例24)を、
それぞれ用いた以外は、比較例19と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)の代わりに、
n=8のノニルメタクリレート(比較例25)、
n=35のヘキサトリアコンチルメタクリレート(比較例26)を、
それぞれ用いた以外は、比較例20と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)の代わりに、
n=8のノニルメタクリレート(比較例27)、
n=35のヘキサトリアコンチルメタクリレート(比較例28)を、
それぞれ用いた以外は、比較例21と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)の代わりに、
n=8のノニルメタクリレート(比較例29)、
n=35のヘキサトリアコンチルメタクリレート(比較例30)を、
それぞれ用いた以外は、比較例22と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)の代わりに、n=8のノニルメタクリレート(比較例27)を、用いた以外は、実施例32と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)の代わりに、n=8のノニルメタクリレート(比較例27)を、用いた以外は、実施例33と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
(メタ)アクリレートモノマー(d−1)の代わりに、n=8のノニルメタクリレート(比較例27)を、用いた以外は、実施例34と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
樹脂層の厚みを65nm(比較例34)、155nm(比較例35)、にそれぞれ変更した以外は、実施例1と同様の方法で積層フィルム、透明導電積層体を得た。
Claims (11)
- ポリエステルフィルムの少なくとも片側に樹脂層が設けられた積層フィルムであって、
該樹脂層は、少なくともシリカ粒子(B)とアクリル樹脂(D)を含有し、
該シリカ粒子が中空粒子および/または孔を有する粒子であり、かつ、該シリカ粒子の数平均粒子径が30nm以上120nm以下であり、
該アクリル樹脂(D)が、下記式(1)で表される(メタ)アクリレートモノマー(d−1)と、下記式(2)で表される(メタ)アクリレートモノマー(d−2)を用いてなる樹脂であり、
前記式(1)で表される(メタ)アクリレートモノマー(d−1)が、デシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、1−メチルトリデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、エイコシル(メタ)アクリレート、ドコシル(メタ)アクリレート、テトラコシル(メタ)アクリレート、トリアコンチル(メタ)アクリレート、ペンタトリアコンチルメタクリレートの群より選ばれる少なくとも1種を含み、
前記式(2)で表される(メタ)アクリレートモノマー(d−2)が、イソボニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、ジシロクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ジメチルアダマンチル(メタ)アクリレートの群より選ばれる少なくとも1種を含み、
積層フィルムの樹脂層側の最小反射率が2.0%以下である光学用積層フィルム。
(上記式(1)において、R1基は、水素原子またはメチル基を表す。また上記式におけるnは、9以上34以下の整数を表す。)
(上記式(2)において、R1基は、水素原子またはメチル基を表す。また、R2基は、飽和の炭素環を2つ以上含む官能基を表す。) - シリカ粒子(B)が、その表面に前記アクリル樹脂(D)を有する粒子(BD)である、請求項1に記載の光学用積層フィルム。
- 積層フィルムの初期ヘイズが2.0%以下である請求項1または2のいずれかに記載の光学用積層フィルム。
- 樹脂層におけるシリカ粒子(B)の含有量が、樹脂層全体に対して、15質量%以上50質量%以下である請求項1〜3のいずれかに記載の光学用積層フィルム。
- 前記樹脂層の厚みが、70〜150nmである請求項1〜4のいずれかに記載の光学用積層フィルム。
- 前記樹脂層が、オキサゾリン系化合物に由来する成分(e−1)および/またはカルボジイミド系化合物に由来する成分(e−2)を含有する請求項1〜5のいずれかに記載の光学用積層フィルム。
- 前記アクリル樹脂(D)を構成する(メタ)アクリレートモノマー(d−1)と、(メタ)アクリレートモノマー(d−2)、の含有量が、樹脂層全体に対し、それぞれ5〜50質量%である請求項1〜6のいずれかに記載の光学用積層フィルム。
- ポリエステルフィルムの少なくとも片側に樹脂層が設けられてなる積層フィルムの製造方法であって、
ポリエステルフィルムの少なくとも片側に、以下の樹脂組成物が塗布され、乾燥されることによって、樹脂層が設けられ、
次いで、前記ポリエステルフィルムが少なくとも一軸方向に延伸され、
次いで、前記ポリエステルフィルムに熱処理が施される積層フィルムの製造方法。
(樹脂組成物)少なくともシリカ粒子(B)とアクリル樹脂(D)を含有し、
該シリカ粒子が中空粒子および/または孔を有する粒子であり、かつ、該シリカ粒子の数平均粒子径が30nm以上120nm以下であり、
該アクリル樹脂(D)が、下記式(1)で表される(メタ)アクリレートモノマー(d−1)と、下記式(2)で表される(メタ)アクリレートモノマー(d−2)を用いて重合されてなる樹脂であって、
前記式(1)で表される(メタ)アクリレートモノマー(d−1)が、デシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、1−メチルトリデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、エイコシル(メタ)アクリレート、ドコシル(メタ)アクリレート、テトラコシル(メタ)アクリレート、トリアコンチル(メタ)アクリレート、ペンタトリアコンチルメタクリレートの群より選ばれる少なくとも1種を含み、
前記式(2)で表される(メタ)アクリレートモノマー(d−2)が、イソボニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、ジシロクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ジメチルアダマンチル(メタ)アクリレートの群より選ばれる少なくとも1種を含む、
樹脂組成物。
(上記式(1)において、R1基は、水素原子またはメチル基を表す。また上記式におけるnは、9以上34以下の整数を表す。)
(上記式(2)において、R1基は、水素原子またはメチル基を表す。また、R2基は、飽和の炭素環を2つ以上含む官能基を表す。) - 前記シリカ粒子(B)が前記アクリル樹脂(D)によって表面処理されてなる、請求項8に記載の積層フィルムの製造方法。
- 樹脂組成物が、さらに、オキサゾリン系化合物(e’−1)および/またはカルボジイミド系化合物(e’−2)を含有する請求項8または9に記載の積層フィルムの製造方法。
- 前記アクリル樹脂(D)を構成する(メタ)アクリレートモノマー(d−1)と、(メタ)アクリレートモノマー(d−2)、の含有量が、樹脂層全体に対し、それぞれ5〜50質量%である請求項8〜10のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012170828A JP5983158B2 (ja) | 2011-08-08 | 2012-08-01 | 光学用積層フィルム |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011172560 | 2011-08-08 | ||
| JP2011172560 | 2011-08-08 | ||
| JP2012170828A JP5983158B2 (ja) | 2011-08-08 | 2012-08-01 | 光学用積層フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013052676A JP2013052676A (ja) | 2013-03-21 |
| JP5983158B2 true JP5983158B2 (ja) | 2016-08-31 |
Family
ID=48130090
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012170828A Active JP5983158B2 (ja) | 2011-08-08 | 2012-08-01 | 光学用積層フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5983158B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104159746B (zh) * | 2012-03-16 | 2016-01-27 | 东丽株式会社 | 层合膜及其制造方法 |
| JP6539954B2 (ja) * | 2013-09-12 | 2019-07-10 | 東レ株式会社 | 積層フィルム |
| JP6154833B2 (ja) * | 2015-01-07 | 2017-06-28 | 三菱ケミカル株式会社 | 積層ポリエステルフィルム |
| JP6587405B2 (ja) | 2015-03-30 | 2019-10-09 | リンテック株式会社 | 透明導電性フィルム |
| JP6628974B2 (ja) | 2015-03-30 | 2020-01-15 | リンテック株式会社 | 透明導電性フィルム |
| JP6418197B2 (ja) * | 2016-04-21 | 2018-11-07 | 三菱ケミカル株式会社 | 積層ポリエステルフィルム |
| JP6787063B2 (ja) * | 2016-11-14 | 2020-11-18 | 東レ株式会社 | 積層フィルムおよびその製造方法 |
| JP2020093388A (ja) * | 2017-03-31 | 2020-06-18 | 住友化学株式会社 | 積層体 |
| CN115991959B (zh) * | 2023-03-23 | 2023-06-16 | 富维薄膜(山东)有限公司 | 一种涂布液及其在全息猫眼防伪用聚酯薄膜中的应用 |
| JP2025156736A (ja) * | 2024-04-02 | 2025-10-15 | 東山フイルム株式会社 | 反射防止フィルム |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4805240B2 (ja) * | 2006-12-15 | 2011-11-02 | 日東電工株式会社 | 粘着型光学フィルムおよび画像表示装置 |
| JP2009198863A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Toray Ind Inc | 反射防止フィルムおよび画像表示装置 |
| JP2011093290A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-05-12 | Toray Ind Inc | 積層ポリエステルフィルム |
| JP2011122005A (ja) * | 2009-12-08 | 2011-06-23 | Sony Corp | 反射防止フィルム及びその製造方法、並びに紫外線硬化性樹脂材料組成物塗液 |
| JP2011145438A (ja) * | 2010-01-14 | 2011-07-28 | Toray Advanced Film Co Ltd | 反射防止フィルム |
-
2012
- 2012-08-01 JP JP2012170828A patent/JP5983158B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2013052676A (ja) | 2013-03-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Written amendment |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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