JP5804401B2 - Reflective display device - Google Patents
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Description
本発明は、電子ペーパー等に応用されている反射型表示装置に関する。 The present invention relates to a reflective display device applied to electronic paper and the like.
反射型表示装置として、最近、表示媒体に含まれる電気応答性材料として電気泳動体を用いた電気泳動表示装置が広く用いられている。電気泳動表示装置とは、空気中または溶媒中の電気泳動体(通常は電気泳動する粒子)の電気的な泳動、すなわち粒子移動を利用して情報を表示する装置である。通常、2枚の基板間に電界を与えることで電気的な泳動の状態が制御され、それによって所望の表示が実現されるように構成される。電気泳動体としては、荷電粒子の他、荷電粉体をも利用され得る。その場合、当該荷電粉体は気体中を電気的に泳動する。 Recently, as a reflective display device, an electrophoretic display device using an electrophoretic material as an electroresponsive material contained in a display medium has been widely used. An electrophoretic display device is a device that displays information by using electrophoretic migration, that is, particle movement, of an electrophoretic body (usually electrophoretic particles) in air or in a solvent. In general, an electrophoretic state is controlled by applying an electric field between two substrates, thereby realizing a desired display. As the electrophoretic body, charged powder as well as charged particles can be used. In that case, the charged powder electrophoreses in the gas.
電気泳動表示装置は、近年では特に、電子ペーパーとしての応用が注目されている。電子ペーパーとして応用する場合には、印刷物レベルの視認性(目にやさしい)、情報書き換えの容易性、低消費電力、軽量といった利点を享受できる。 In recent years, the electrophoretic display device has attracted attention especially as an electronic paper. When applied as an electronic paper, it is possible to enjoy advantages such as visibility at the printed matter level (easy for eyes), ease of information rewriting, low power consumption, and light weight.
電気泳動表示装置では、しかし、粒子や粉体の沈降や偏在に起因して、表示の不良、特にコントラストの低下が生じることがある。この現象を防止するべく、上下の電極基板間に隔壁を形成して、電気泳動する粒子や粉体の泳動空間、すなわち移動空間を微小な空間に分割することが採用されている。この微小な空間は、セルと呼ばれている。各セルの中に、電気泳動体を含むインキやガス(表示媒体)が封入されている。例えば特開2005−24868号公報及び特表2011−524548号公報には、そのようなタイプの電気泳動表示装置の従来例が開示されている。 However, in an electrophoretic display device, display defects, particularly a decrease in contrast, may occur due to sedimentation or uneven distribution of particles or powder. In order to prevent this phenomenon, it is used to form partition walls between the upper and lower electrode substrates and divide the migration space of the particles and powder to be electrophoresed, that is, the movement space into minute spaces. This minute space is called a cell. In each cell, ink or gas (display medium) containing an electrophoretic body is enclosed. For example, JP 2005-24868 A and JP 2011-524548 A disclose a conventional example of such an electrophoretic display device.
本件発明者は、隔壁の形成方法について鋭意研究を重ねるうち、以下のような知見を得るに至った。 The present inventor has obtained the following knowledge while earnestly studying the method of forming the partition wall.
前述のような反射型表示装置において、一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられている。そして、各セル毎に、表示媒体に含まれる電気応答性材料の電気的な泳動の状態を制御することで、所望の表示を実現している。画素電極のパターンは、一般的には全体として長方形を成すような、マトリクス状の周期的な整列パターンである。そして、隔壁も、一般的には周期性を有するパターンで形成されている。 In the reflective display device as described above, a common translucent electrode that covers at least the display region, a partition wall that partitions a plurality of cells, and a periodic pattern are arranged between one substrate and the other substrate. The plurality of pixel electrodes formed are provided in this order when viewed from the one substrate side toward the other substrate side. And the desired display is implement | achieved by controlling the electrophoretic state of the electroresponsive material contained in a display medium for every cell. The pixel electrode pattern is a matrix-like periodic alignment pattern that generally forms a rectangle as a whole. The partition walls are also generally formed in a pattern having periodicity.
ここで、複数の周期的なパターンが互いに対して回転されて重ね合わされると、図11に示すように、パターンの重なりが疎である領域と密である領域とが形成され、これによって視覚的に縞模様が発生してしまうことがある。このような複数の周期的なパターンが重ね合わされて発現する縞模様は、モアレあるいは干渉縞と呼ばれている。 Here, when a plurality of periodic patterns are rotated and superimposed with respect to each other, as shown in FIG. 11, an area where the pattern overlap is sparse and a area where the pattern overlap is formed are formed. A striped pattern may occur. Such a striped pattern in which a plurality of periodic patterns are superimposed is called moire or interference fringe.
本件の発明者は、隔壁越しに画素電極を観察する反射型表示装置において、隔壁のパターンと画素電極のパターンとが重なってモアレが発現することにより、表示装置の表示品質が損なわれることが実用上問題となり得ることを知見した。 The inventor of the present application is that in a reflective display device that observes a pixel electrode through a partition wall, it is practical that the display quality of the display device is impaired due to the moire appearing when the partition wall pattern and the pixel electrode pattern overlap. It was found that this could be a problem.
本発明は、このような事情に基づいて行われたものであり、その目的は、モアレの発現が抑制された反射型表示装置及びその製造方法を提供することにある。 The present invention has been made based on such circumstances, and an object of the present invention is to provide a reflective display device in which the occurrence of moire is suppressed and a method for manufacturing the same.
本発明は、各々電極が形成されている対向する2枚の基板間に少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記2枚の基板間に所定の電界が与えられる際に所望の表示をする、反射型表示装置であって、一方の基板が透光性を有しており、前記一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、周期的なパターンで複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、前記隔壁のパターンは、六角形の単位パターンを規則的に配列したパターンであり、前記画素電極のパターンは、矩形の単位パターンを規則的に配列したパターンであり、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記隔壁で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが、各画素電極の縁部のいずれかに平行に延びる線に対して10°〜20°回転されて配置された関係にあることを特徴とする反射型表示装置である。 In the present invention, a display medium containing at least one kind of electrically responsive material is sealed between two opposing substrates each having an electrode formed thereon, and a predetermined electric field is applied between the two substrates. A reflective display device that displays a desired display when the one substrate has a light-transmitting property, and a common area that covers at least a display region between the one substrate and the other substrate. A translucent electrode, a partition partitioning a plurality of cells in a periodic pattern, and a plurality of pixel electrodes arranged in a periodic pattern are directed from the one substrate side to the other substrate side. The barrier rib pattern is a pattern in which hexagonal unit patterns are regularly arranged, and the pixel electrode pattern is regularly arranged in rectangular unit patterns. The one substrate is a pattern One of the lines connecting the opposing corners of each cell partitioned by the partition wall extends in parallel to one of the edge portions of each pixel electrode when viewed from the side toward the other substrate side It is a reflection type display device characterized by having a relationship of being rotated by 10 ° to 20 ° with respect to the substrate.
好ましくは、前記隔壁のパターンは、正六角形の単位パターンを規則的に配列したパターンである。 Preferably, the partition pattern is a pattern in which regular hexagonal unit patterns are regularly arranged.
あるいは、本発明は、各々電極が形成されている対向する2枚の基板間に少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記2枚の基板間に所定の電界が与えられる際に所望の表示をする、反射型表示装置であって、一方の基板が透光性を有しており、前記一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、前記画素電極のパターンは、矩形の単位パターンを規則的に配列したパターンであり、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記隔壁の少なくとも一部の分岐点は、六角形の単位パターンを規則的に配列して基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっておらず、前記隔壁と前記画素電極とは、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記隔壁の前記基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかが前記画素電極の縁部のいずれかに平行に延びる線に対して5°〜25°回転されて配置された関係にあることを特徴とする反射型表示装置である。 Alternatively, in the present invention, a display medium containing at least one kind of electrically responsive material is sealed between two opposing substrates each having an electrode formed thereon, and a predetermined electric field is interposed between the two substrates. Is a reflective display device that displays a desired display when given, and one substrate has translucency, and covers at least a display region between the one substrate and the other substrate. A common translucent electrode, partition walls that partition a plurality of cells, and a plurality of pixel electrodes arranged in a periodic pattern are viewed in a direction from the one substrate side toward the other substrate side. The pixel electrode pattern is a pattern in which rectangular unit patterns are regularly arranged, and viewed from the one substrate side toward the other substrate side, At least some of the branch points of the partition wall are six When the unit pattern of the shape is regularly arranged as a reference pattern, it exists within a predetermined distance starting from the branch point of the reference pattern, and does not overlap with the branch point of the reference pattern, The partition wall and the pixel electrode are any one of lines connecting opposing branch points in each unit pattern of the reference pattern of the partition wall when viewed from the one substrate side toward the other substrate side. Is a reflection type display device characterized by being arranged so as to be rotated by 5 ° to 25 ° with respect to a line extending in parallel with one of the edge portions of the pixel electrode.
好ましくは、前記基準パターンは、正六角形の単位パターンを規則的に配列したパターンである。 Preferably, the reference pattern is a pattern in which regular hexagonal unit patterns are regularly arranged.
また、本発明は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する2枚の基板間に少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記2枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置であって、一方の基板が透光性を有しており、前記一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、前記隔壁は、少なくとも一部が非周期的なパターンで形成されていることを特徴とする反射型表示装置である。 In the present invention, a display medium including at least one or more kinds of electrically responsive materials is sealed between two opposing substrates on which at least one of them has a light-transmitting property and each has electrodes formed thereon. A reflective display device in which the display medium displays a desired display when a predetermined electric field is applied between the two substrates, wherein one of the substrates has translucency, A common translucent electrode that covers at least the display region, a partition wall that partitions a plurality of cells, and a plurality of pixel electrodes arranged in a periodic pattern between the substrate and the other substrate, A reflective display characterized in that it is provided in this order when viewed from the side of the substrate toward the side of the other substrate, and at least a part of the partition is formed in an aperiodic pattern. Device.
本発明は、特に、前記隔壁と前記透光性電極または前記一方の基板上の他の要素または前記一方の基板とは、互いに当接しており、前記隔壁と前記画素電極または前記他方の基板上の他の要素または前記他方の基板とも、互いに当接している場合において、モアレ現象の発現の抑制効果が顕著である。 In particular, the partition and the translucent electrode or the other element on the one substrate or the one substrate are in contact with each other, and the partition and the pixel electrode or the other substrate are in contact with each other. When other elements or the other substrate are in contact with each other, the effect of suppressing the occurrence of the moire phenomenon is remarkable.
好ましくは、前記隔壁の各分岐点から延出する隔壁の数は、3または4である。 Preferably, the number of partition walls extending from each branch point of the partition walls is 3 or 4.
好ましくは、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、前記隔壁の少なくとも一部の分岐点は、同一形状の単位パターンを規則的に配列して基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっていない。 Preferably, when viewed in the direction from the one substrate to the other substrate, at least a part of the branch points of the partition wall is the reference pattern when unit patterns having the same shape are regularly arranged as a reference pattern. It exists within the range of a predetermined distance starting from the branch point of the pattern, and does not overlap with the branch point of the reference pattern.
好ましくは、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、前記隔壁の少なくとも一部の分岐点は、同一形状の単位パターンを規則的に配列して基準パターンとした時、当該基準パターンの各分岐点と、当該基準パターンに対応するピッチを有する格子パターンの各格子点と、を関連づけ、前記格子パターンの各行ないし各列を当該行の方向ないし列の方向に拡大ないし縮小させることにより当該格子パターンの格子点を移動させると共に、当該格子点の移動に対応させて当該格子点に関連づけられた各分岐点をも移動させた位置に存在している。 Preferably, when viewed in the direction from the one substrate to the other substrate, at least a part of the branch points of the partition wall is the reference pattern when unit patterns having the same shape are regularly arranged as a reference pattern. Associating each branch point of the pattern with each lattice point of the lattice pattern having a pitch corresponding to the reference pattern, and expanding or reducing each row or each column of the lattice pattern in the direction of the row or the direction of the column Accordingly, the grid points of the grid pattern are moved, and the branch points associated with the grid points are also moved in correspondence with the movement of the grid points.
好ましくは、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、前記隔壁の少なくとも一部の分岐点は、同一形状の単位パターンを規則的に配列して第1基準パターンとした時、当該第1基準パターンの各分岐点と、当該第1基準パターンに対応するピッチを有する格子パターンの各格子点と、を関連づけ、前記格子パターンの各行ないし各列を当該行の方向ないし列の方向に拡大ないし縮小させることにより当該格子パターンの格子点を移動させると共に、当該格子点の移動に対応させて当該格子点に関連づけられた各分岐点をも移動させることにより得られる第2基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、前記第2基準パターンの分岐点とは重なっていない。 Preferably, when viewed in the direction from the one substrate to the other substrate, at least some of the branch points of the partition walls, when unit patterns having the same shape are regularly arranged as a first reference pattern, Each branch point of the first reference pattern is associated with each lattice point of the lattice pattern having a pitch corresponding to the first reference pattern, and each row or each column of the lattice pattern is defined as the direction of the row or the direction of the column. The grid point of the grid pattern is moved by enlarging or reducing the grid point, and each branch point associated with the grid point is also moved corresponding to the movement of the grid point. It exists within the range of a predetermined distance starting from the branch point, and does not overlap with the branch point of the second reference pattern.
図1は、本発明の第1の実施の形態による反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。本実施の形態による反射型表示装置は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極111,161が形成されている対向する2枚の基板間11,16に少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体13が封入されていて、2枚の基板11,16間に所定の電界が与えられる際に表示媒体13が所望の表示をするようになっている。ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲において「透光性」とは、光を透過する性質、という程度の意味である。本実施の形態においては、視認側に配置される基板(一方の基板11)は、全光透過率が50%以上、好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上となるような透光性を有している。 FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a reflective display device according to a first embodiment of the present invention. In the reflective display device according to the present embodiment, at least one of the electrical responses is provided between the two opposing substrates 11 and 16 on which at least one of them has translucency and the electrodes 111 and 161 are respectively formed. A display medium 13 containing a conductive material is enclosed, and the display medium 13 performs a desired display when a predetermined electric field is applied between the two substrates 11 and 16. Here, in the specification and claims of the present application, “translucent” means a property of transmitting light. In the present embodiment, the substrate (one substrate 11) arranged on the viewing side has a light-transmitting property such that the total light transmittance is 50% or more, preferably 80% or more, more preferably 90% or more. have.
図2乃至図7において、一方の基板11の面上には、電極111が設けられているが、電極111の図示は省略されている。本実施の形態においては、一方の基板11が視認側に配置され、他方の基板16が非視認側に配置される。 2 to 7, an electrode 111 is provided on the surface of one substrate 11, but the illustration of the electrode 111 is omitted. In the present embodiment, one substrate 11 is disposed on the viewing side, and the other substrate 16 is disposed on the non-viewing side.
一方の基板11としては、ポリエチレン(PE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等の透光性フィルムや透光性ガラスに、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等の透光性を有する電極(透光性電極)を一方の基板11の少なくとも表示領域を覆うように付したものが、典型的に用いられ得る。ここで、「表示領域」とは、反射型表示装置における所望の表示に利用される領域をいう。 One substrate 11 includes a light-transmitting film such as polyethylene (PE), polyethylene terephthalate (PET), polyethersulfone (PES), polyethylene naphthalate (PEN), or light-transmitting glass, and indium tin oxide (ITO). ), Zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), or the like having a translucent electrode (translucent electrode) so as to cover at least the display region of one substrate 11 is typically used. obtain. Here, the “display area” refers to an area used for desired display in the reflective display device.
透光性電極111は、塗工法やスパッタリング、真空蒸着法、CVD法等によって形成され得る。透光性電極111は、本実施の形態では、アクティブマトリクス駆動用の共通電極として形成されている。 The translucent electrode 111 can be formed by a coating method, sputtering, a vacuum deposition method, a CVD method, or the like. In the present embodiment, the translucent electrode 111 is formed as a common electrode for driving an active matrix.
一方の基板11の厚みは、10μm〜1mmが好適である。10μmよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、1mmよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、50μm〜300μm程度である。 The thickness of one substrate 11 is preferably 10 μm to 1 mm. If it is thinner than 10 μm, the strength as a panel cannot be obtained and the risk of breakage increases. On the other hand, if it is thicker than 1 mm, the panel weight becomes too heavy and the handling becomes inconvenient and the cost also increases. Because. A suitable thickness range that is difficult to break and easy to handle is about 50 μm to 300 μm.
一方の基板11は、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。 One substrate 11 can be applied in either a roll shape or a sheet shape.
他方の基板16としては、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス(ガラエポ)等の基材が用いられ得る。また他方の基板16は、透光性を有する基材が用いられてもよい。さらに透光性を有しているが不透明な基材であってもよく、電極面とは異なるもう一方の面を粗面化した不透明なガラス基材、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス(ガラエポ)等が用いられ得る。本実施の形態では、他方の基板16は、視認側と反対側の位置に配置されるため、透光性を有している必然性はない。しかし、熱膨張特性など一方の基板11と同じ物性が必要とされる場合は、一方の基板11と同様の透光性の部材が使用され得る。 As the other substrate 16, a substrate such as a resin film, a resin plate, glass, epoxy glass (glass epoxy) or the like can be used. The other substrate 16 may be a translucent base material. Furthermore, it may be an opaque base material that is translucent, but an opaque glass base material, resin film, resin plate, glass, epoxy glass with the other surface different from the electrode surface roughened. (Garaepo) or the like can be used. In the present embodiment, since the other substrate 16 is disposed at a position opposite to the viewing side, there is no necessity of having translucency. However, when the same physical properties as the one substrate 11 such as thermal expansion characteristics are required, a light-transmitting member similar to the one substrate 11 can be used.
他方の基板16の表示媒体側の面には、後の工程において、複数の画素電極161が設けられる。画素電極161としては、本実施の形態では、アクティブマトリクス駆動用のTFT(Thin Film Transistor)層に対応する画素電極が用いられる。 In the later step, a plurality of pixel electrodes 161 are provided on the surface of the other substrate 16 on the display medium side. In this embodiment, a pixel electrode corresponding to a TFT (Thin Film Transistor) layer for driving an active matrix is used as the pixel electrode 161.
他方の基板16の厚みも、一方の基板11の厚みと同様に、10μm〜1mmが好適である。10μmよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、1mmよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、50μm〜300μm程度である。 The thickness of the other substrate 16 is preferably 10 μm to 1 mm, similarly to the thickness of the one substrate 11. If it is thinner than 10 μm, the strength as a panel cannot be obtained and the risk of breakage increases. On the other hand, if it is thicker than 1 mm, the panel weight becomes too heavy and the handling becomes inconvenient and the cost also increases. Because. A suitable thickness range that is difficult to break and easy to handle is about 50 μm to 300 μm.
他方の基板16も、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。 The other substrate 16 can be applied in either a roll shape or a sheet shape.
<反射型表示装置の製造方法>
図2は、本発明の第1の実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。<Method for manufacturing reflective display device>
FIG. 2 is a flowchart schematically showing a manufacturing method of the reflective display device according to the first embodiment of the present invention.
図3は、隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。図3に示すように、まず、一般には水平方向に載置される一方の基板11の上面に、例えばフォトリソグラフィ法(紫外線(UV)照射による露光→現像→焼成)によって、隔壁12が形成される(隔壁形成工程:図2の工程(1))。隔壁12は、後述する複数のセルを規定する部材である。 FIG. 3 is a diagram schematically showing an example of the partition wall forming step. As shown in FIG. 3, first, a partition wall 12 is formed on the upper surface of one substrate 11 generally placed in a horizontal direction by, for example, photolithography (exposure by ultraviolet (UV) irradiation → development → firing). (Partition wall forming step: step (1) in FIG. 2). The partition wall 12 is a member that defines a plurality of cells to be described later.
なお、本件の明細書及び特許請求の範囲においては、「セル」とは、粒子や粉体の沈降や偏在に起因して表示の不良、特にコントラストの低下を防止するべく一方の基板11、他方の基板16間に形成された隔壁12によって分割された、電気泳動する粒子や粉体の微小な泳動空間、すなわち移動空間を意味する。隔壁12は、後述する画素電極形成工程の後に、他方の基板16の画素電極161が形成されている側に形成されてもよい。 In the specification and claims of the present application, the “cell” means one substrate 11 and the other to prevent a display defect, particularly a decrease in contrast, due to sedimentation or uneven distribution of particles or powder. This means a minute migration space of electrophoretic particles or powder divided by the partition walls 12 formed between the substrates 16, that is, a movement space. The partition wall 12 may be formed on the side of the other substrate 16 on which the pixel electrode 161 is formed after a pixel electrode formation step described later.
隔壁12は、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂等によって構成可能であり、隔壁12の形成方法は、フォトリソグラフィ法の他、エンボス加工などの型転写方法も採用され得る。さらに、所望のパターンの構造物を隔壁として製造しておいて、それを一方の基板11に貼り付けるという方法も採用され得る。開口率は、70%以上が好ましく、特に90%以上が好ましい。高開口率であるほど、表示可能エリアが広くなるため、高コントラストを得ることができる。 The partition wall 12 can be composed of an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, a room temperature curable resin, or the like. As a method for forming the partition wall 12, a mold transfer method such as embossing can be adopted in addition to the photolithography method. Further, a method of manufacturing a structure having a desired pattern as a partition and sticking the structure to one substrate 11 may be employed. The aperture ratio is preferably 70% or more, and particularly preferably 90% or more. The higher the aperture ratio, the wider the displayable area, so that high contrast can be obtained.
隔壁12は、仮想の基準軸125に対して周期的なパターンで複数のセルを区画するように形成されており、隔壁12のパターンは、六角形の単位パターンを規則的に配列したパターンである。ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲においては、「単位パターン」とは、全体のパターンによって分割された個々の領域を囲む個々のパターンである。また、「仮想の基準軸」とは、隔壁12や後述する画素電極161、あるいは隔壁12の基準パターンを形成する時に基準とされる軸のことであり、例えば各基板11,16の長手方向軸に沿った軸や、当該基板の平面視において当該長手方向軸に対して任意の角度だけ回転された位置関係となるように規定された軸である。隔壁12や画素電極161のパターン、あるいは隔壁12の基準パターンは、このような仮想の基準軸に対して単位パターンを規則的に配列することにより形成される。 The partition wall 12 is formed so as to partition a plurality of cells in a periodic pattern with respect to the virtual reference axis 125, and the pattern of the partition wall 12 is a pattern in which hexagonal unit patterns are regularly arranged. . Here, in the present specification and claims, the “unit pattern” is an individual pattern surrounding individual regions divided by the entire pattern. The “virtual reference axis” is an axis that is used as a reference when forming the partition 12, the pixel electrode 161 described later, or a reference pattern of the partition 12. For example, the longitudinal axis of each of the substrates 11 and 16. And an axis defined so as to have a positional relationship rotated by an arbitrary angle with respect to the longitudinal axis in a plan view of the substrate. The pattern of the partition wall 12 and the pixel electrode 161 or the reference pattern of the partition wall 12 is formed by regularly arranging unit patterns with respect to such a virtual reference axis.
本実施の形態では、隔壁12のパターンは、図4(a)に示すように、正六角形の単位パターンを規則的に配列した周期的なハニカムパターンで形成される。もっとも、単位パターンの形状としては、正六角形以外の六角形も採用可能である。また、隔壁12のパターンは、正六角形の各単位パターンの対向する2つの角部を結ぶ線が隔壁12の仮想の基準軸125に平行になるように配列されて形成されたパターンである。このため、隔壁12は、図4(b)に示すように、隔壁12で区画された各セルの対向する2つの角部を結ぶ線が隔壁12の仮想の基準軸125に平行になるように形成される。 In the present embodiment, the pattern of the partition walls 12 is formed as a periodic honeycomb pattern in which regular hexagonal unit patterns are regularly arranged as shown in FIG. However, hexagons other than regular hexagons can be adopted as the shape of the unit pattern. The pattern of the partition wall 12 is a pattern formed by arranging the lines connecting two opposing corner portions of each regular hexagonal unit pattern so as to be parallel to the virtual reference axis 125 of the partition wall 12. For this reason, as shown in FIG. 4B, the partition wall 12 is arranged so that the line connecting the two opposing corners of each cell partitioned by the partition wall 12 is parallel to the virtual reference axis 125 of the partition wall 12. It is formed.
セルのサイズ(ピッチ)は、表示パネルの大きさにもよるが、0.05mm〜1mmピッチ、好ましくは0.1mm〜0.5mmピッチである。ここで、ピッチとは、隣接するセルの中心点の距離を意味している。 The cell size (pitch) depends on the size of the display panel, but is 0.05 mm to 1 mm pitch, preferably 0.1 mm to 0.5 mm pitch. Here, the pitch means the distance between the center points of adjacent cells.
隔壁12の頂面の幅は、9μm〜50μm、好ましくは9μm〜20μmである。9μmというのは、隔壁12が倒れることなくパターニングできる線幅の下限である。隔壁12の頂面の幅が9μm未満である場合、隔壁12の長さが60μm以上に亘るようなパターンでは、少なくとも隔壁12の一部が倒れたり、剥がれたり、剥がれた隔壁12が基板上を移動したりする。そうなった場合には、隔壁12による粒子の移動を防ぐという機能が失われ、表示品質が劣化してしまう。一方、好適な範囲の上限である50μmというのは、目視したときに隔壁12が目立ち過ぎない上限である。 The width of the top surface of the partition wall 12 is 9 μm to 50 μm, preferably 9 μm to 20 μm. 9 μm is the lower limit of the line width at which the partition wall 12 can be patterned without falling down. When the width of the top surface of the partition wall 12 is less than 9 μm, in a pattern in which the length of the partition wall 12 is 60 μm or more, at least a part of the partition wall 12 falls, peels off, or the separated partition wall 12 moves over the substrate. Or move. In that case, the function of preventing the movement of particles by the partition wall 12 is lost, and the display quality is deteriorated. On the other hand, the upper limit of 50 μm, which is the upper limit of the preferred range, is an upper limit at which the partition wall 12 is not too conspicuous when visually observed.
ここで、隔壁12の頂面の幅の定義を、図5に示す。頂面の角が丸まっていなければ、図5(a)や図5(b)に示すように、頂面の幅はそのまま定義される。一方、頂面の角が丸まっている場合には、図5(c)や図5(d)に示すように、頂面の延長面と壁面の延長面との交線間の幅として理解される。評価のための測定方法としては、隔壁12が形成された一方の基板11を硬化性樹脂にて包埋し、ミクロートーム(大和光機工業株式会社製:FX−801)により隔壁12の断面を切り出し、走査電子顕微鏡(SEM)によって撮影した画像に基づいて各幅を測定することができる。 Here, the definition of the width of the top surface of the partition wall 12 is shown in FIG. If the corners of the top surface are not rounded, the width of the top surface is defined as it is, as shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b). On the other hand, when the corner of the top surface is rounded, it is understood as the width between the intersection lines of the extended surface of the top surface and the extended surface of the wall surface, as shown in FIG. 5 (c) and FIG. 5 (d). The As a measuring method for evaluation, one substrate 11 on which the partition wall 12 was formed was embedded in a curable resin, and a cross section of the partition wall 12 was cut out by a microtome (Daiwa Kogyo Kogyo Co., Ltd .: FX-801). Each width can be measured based on an image taken by a scanning electron microscope (SEM).
隔壁12の高さは、5〜50μm、好ましくは10〜50μmである。5μm以下では、充填するインキ量が少なく、十分な表示特性、特にコントラストが得られない一方、50μm以上では、パネルの厚みが厚すぎて、駆動電圧が上昇し過ぎてしまう。低駆動電圧で良好な表示特性が得られるという観点から、10〜50μmの範囲の高さが好適である。 The height of the partition wall 12 is 5 to 50 μm, preferably 10 to 50 μm. If the thickness is 5 μm or less, the amount of ink to be filled is small, and sufficient display characteristics, in particular, contrast cannot be obtained. On the other hand, if the thickness is 50 μm or more, the panel is too thick and the drive voltage increases excessively. From the viewpoint that good display characteristics can be obtained at a low driving voltage, a height in the range of 10 to 50 μm is preferable.
次に、隔壁12上に接着層22が形成される(接着層形成工程:図2の工程(2))。この接着層形成工程では、例えば転写法や印刷法により、ポリエステル系熱可塑性接着剤のような熱可塑性樹脂が、1μm〜100μmの厚みで形成される。好ましくは、1μm〜50μmの厚みで形成され、特に好ましくは、1μm〜20μmの厚みで形成される。 Next, the adhesive layer 22 is formed on the partition wall 12 (adhesive layer forming step: step (2) in FIG. 2). In this adhesive layer forming step, a thermoplastic resin such as a polyester-based thermoplastic adhesive is formed with a thickness of 1 μm to 100 μm by, for example, a transfer method or a printing method. Preferably, it is formed with a thickness of 1 μm to 50 μm, particularly preferably with a thickness of 1 μm to 20 μm.
転写法として典型的な熱転写法の一例について具体的な説明を補足すれば、図6に示すように、例えば基材21としてのPETフィルム上に20μmの厚みでポリエステル系熱可塑性接着剤のような接着剤221を形成した転写シート20を用意する。次に、この転写シート20を、接着剤221の面が一方の基板11の隔壁12の頂面上に配置されるように、一方の基板11と対向して配置する。この状態で、一方の基板11と転写シート20とを、常温で1kPaの圧力でラミネートする。ラミネートの後で、一方の基板11を、一方の基板11側の隔壁12の端部が一方の基板11とは反対の側の当該隔壁12の頂面よりも高い位置となるように向けられた状態にして、一方の基板11と転写シート20とを接着剤221の軟化点または融点より高い温度で一方の基板11と転写シート20とを1分間加熱し、その後転写シート20を剥離する。これにより、隔壁12上に例えば6μm程度の接着層22が形成される。 Supplementing a specific description of an example of a typical thermal transfer method as a transfer method, as shown in FIG. 6, for example, a polyester-based thermoplastic adhesive having a thickness of 20 μm on a PET film as a substrate 21. A transfer sheet 20 on which an adhesive 221 is formed is prepared. Next, the transfer sheet 20 is arranged to face the one substrate 11 so that the surface of the adhesive 221 is arranged on the top surface of the partition wall 12 of the one substrate 11. In this state, one substrate 11 and the transfer sheet 20 are laminated at a normal temperature and a pressure of 1 kPa. After laminating, one substrate 11 was oriented such that the end of the partition wall 12 on the one substrate 11 side was positioned higher than the top surface of the partition wall 12 on the side opposite to the one substrate 11. In this state, the one substrate 11 and the transfer sheet 20 are heated for one minute at a temperature higher than the softening point or melting point of the adhesive 221, and then the transfer sheet 20 is peeled off. Thereby, an adhesive layer 22 of about 6 μm, for example, is formed on the partition wall 12.
接着層22を形成するための接着剤221としては、熱可塑性材料を用いた接着剤が好ましく、加熱により軟化して、冷却すると固化する性質を有し、冷却と加熱を繰り返した場合に、塑性が可逆的に保たれる材料である。 As the adhesive 221 for forming the adhesive layer 22, an adhesive using a thermoplastic material is preferable. It has a property of softening by heating and solidifying when cooled, and is plastic when repeated cooling and heating. Is a material that is reversibly maintained.
熱可塑性材料からなる接着剤を接着層として用いた場合には、転写シート基材21上の固化している接着剤221をその軟化温度を超える温度にまで加熱することにより軟化させて、隔壁22頂面のみに確実に接着剤221を熱転写することもできる。また、熱転写後の接着剤221は常温まで冷却して再び固化することにより、タック、すなわちねばつきが無くなるため、取り扱いの便宜が極めて良い。また、タック、すなわちねばつきが無いことによって、セル内に充填された表示媒体13が接着剤221と接着してしまうことがない。そして、再び隔壁22頂面の接着剤221をその軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることにより、タック、すなわちねばつきを有するようになるため、他方の基板16に確実に接着される。他方の基板16との接着後の接着剤221は、再び常温においてはタック、すなわちねばつきが無いため、やはり表示媒体13が接着剤221と接着してしまうことがなく、表示品質の低下のおそれもない。 When an adhesive made of a thermoplastic material is used as an adhesive layer, the solidified adhesive 221 on the transfer sheet substrate 21 is softened by heating to a temperature exceeding the softening temperature, and the partition 22 The adhesive 221 can be reliably thermally transferred only to the top surface. Further, since the adhesive 221 after thermal transfer is cooled to room temperature and solidified again, tackiness, i.e., stickiness, is eliminated. Further, since there is no tack, that is, stickiness, the display medium 13 filled in the cell does not adhere to the adhesive 221. Then, the adhesive 221 on the top surface of the partition wall 22 is heated again to a temperature exceeding the softening temperature to be softened, so that it has tack, that is, stickiness, so that it is securely bonded to the other substrate 16. . Since the adhesive 221 after being bonded to the other substrate 16 is not tacked again at room temperature, that is, has no stickiness, the display medium 13 is not bonded to the adhesive 221 again, and the display quality may be deteriorated. Nor.
具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリウレタンなどの熱可塑性ベースポリマーや、天然ゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレン共重合体などの熱可塑性エラストマーを主成分とし、粘着性付与樹脂や可塑剤を配合した樹脂が主に使用される。 Specifically, thermoplastic base polymers such as ethylene-vinyl acetate copolymer, polyester, polyamide, polyolefin, polyurethane, natural rubber, styrene-butadiene block copolymer, styrene-isoprene block copolymer, styrene-ethylene. A resin mainly composed of a thermoplastic elastomer such as a butylene-styrene block copolymer or a styrene-ethylene-propylene-styrene copolymer, and a tackifier resin or a plasticizer is mainly used.
隔壁12と接着剤221との密着性を上げるために、隔壁12に紫外線照射やプラズマ処理などにより表面処理が施されてもよいし、プライマーが形成されてもよい。あるいは、接着剤221の方にシランカップリング剤が添加されてもよい。 In order to improve the adhesion between the partition wall 12 and the adhesive 221, the partition wall 12 may be subjected to a surface treatment by ultraviolet irradiation, plasma treatment, or the like, or a primer may be formed. Alternatively, a silane coupling agent may be added to the adhesive 221.
次に、一方の基板11上に表示媒体としてのインキ13が配置される(表示媒体配置工程:図2の工程(3))。図7は、表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。ここでは、(1)ディスペンサ31あるいはインクジェット、ダイコートからインキ13が滴下され(インキ滴下工程)、(2)アプリケータ32あるいはドクターブレード、ドクターナイフ、中央スキージによって面内均一となるようにインキ13が塗布される(インキ塗布工程)。なお、インキ13は、他方の基板16上に配置されてもよい。 Next, the ink 13 as a display medium is placed on one substrate 11 (display medium placement step: step (3) in FIG. 2). FIG. 7 is a diagram schematically showing an example of the display medium arranging step. Here, (1) the ink 13 is dropped from the dispenser 31 or the inkjet or die coat (ink dropping step), and (2) the ink 13 is made uniform in the surface by the applicator 32 or doctor blade, doctor knife, and central squeegee. It is applied (ink application process). The ink 13 may be disposed on the other substrate 16.
表示媒体13としては、少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が用いられ得る。電気応答性材料としては、電荷粒子材料、液晶材料があり、電荷粒子材料には白や黒、カラーなどの色づけされた粒子が電場に応答して移動するいわゆる電気泳動材料、または、粒子が二色に色分けされ電場により回転するツイストボールに代表される材料、または、電場により移動するナノ粒子材料等がある。一方、液晶材料は、PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal)で知られる透過と散乱を電気的に制御する材料や、液晶に色素を混合した材料、コレステリック液晶材料などがある。これらの電気応答性を有し光学特性を変化させる材料は、種類を問わずセルに隔離する必要があり、本発明の適用対象である。 As the display medium 13, a display medium containing at least one or more kinds of electrically responsive materials can be used. Examples of the electroresponsive material include a charged particle material and a liquid crystal material, and the charged particle material includes a so-called electrophoretic material in which colored particles such as white, black, and color move in response to an electric field, or two particles. There are materials typified by twist balls that are color-coded and rotated by an electric field, or nanoparticle materials that move by an electric field. On the other hand, the liquid crystal material includes a material for electrically controlling transmission and scattering known as PDLC (Polymer Dispersed Liquid Crystal), a material in which a liquid crystal is mixed with a dye, a cholesteric liquid crystal material, and the like. These materials that have electrical responsiveness and change optical characteristics need to be isolated into cells regardless of the type, and are subject to application of the present invention.
図2に戻って、表示媒体配置工程の後で、導電性ペースト塗布工程が実施される(導電性ペースト塗布工程:図2の工程(4))。図8は、導電性ペーストの機能を説明するための概略図である。導電性ペースト14は、例えば銀ペーストのような金属ペーストであり、例えばディスペンサ41あるいはインクジェット、タンポ印刷、パット印刷、スタッピング印刷によって所定位置に塗布される。導電性ペースト14は、図8に示すように、他方の基板16に電圧をかけるための配線として機能する。一方の基板11の透光性電極111と他方の基板16の画素電極161との間に所定の電界(電圧)が与えられる際、表示媒体であるインキ13中の電気応答性材料が駆動され、文字パターン等の所望の情報が表示される。その後、電界が与えられなくなっても、新たな電界が両基板間に与えられるまで、当該情報表示状態が維持される。 Returning to FIG. 2, after the display medium placement step, a conductive paste application step is performed (conductive paste application step: step (4) in FIG. 2). FIG. 8 is a schematic view for explaining the function of the conductive paste. The conductive paste 14 is a metal paste such as a silver paste, and is applied to a predetermined position by, for example, a dispenser 41 or ink jet, tampo printing, pad printing, or stacking printing. As shown in FIG. 8, the conductive paste 14 functions as a wiring for applying a voltage to the other substrate 16. When a predetermined electric field (voltage) is applied between the translucent electrode 111 of one substrate 11 and the pixel electrode 161 of the other substrate 16, the electrically responsive material in the ink 13 as a display medium is driven, Desired information such as a character pattern is displayed. Thereafter, even if the electric field is no longer applied, the information display state is maintained until a new electric field is applied between the two substrates.
次に、他方の基板16上に、画素電極161の仮想の基準軸165に対して周期的なパターンで複数の画素電極161が形成される(画素電極形成工程:図2の工程(5))。本実施の形態では、画素電極161のパターンは、図9に示すような、矩形の単位パターンをマトリクス状に規則的に配列したパターンである。また、画素電極161のパターンは、各単位パターンの対向する2つ辺161a及び161bが仮想の基準軸165に平行になるように配列されたパターンである。このため、複数の画素電極161は、各画素電極161の対向する2つの縁部が画素電極161の仮想の基準軸165に平行になるように形成される。 Next, a plurality of pixel electrodes 161 are formed on the other substrate 16 in a periodic pattern with respect to the virtual reference axis 165 of the pixel electrode 161 (pixel electrode formation step: step (5) in FIG. 2). . In the present embodiment, the pattern of the pixel electrode 161 is a pattern in which rectangular unit patterns are regularly arranged in a matrix as shown in FIG. The pattern of the pixel electrode 161 is a pattern in which two opposing sides 161 a and 161 b of each unit pattern are arranged so as to be parallel to the virtual reference axis 165. For this reason, the plurality of pixel electrodes 161 are formed such that two opposing edges of each pixel electrode 161 are parallel to the virtual reference axis 165 of the pixel electrode 161.
図2に戻って、一方の基板11と他方の基板16とが、一方の基板11の隔壁12の頂面と他方の基板16の画素電極161とが対向するように配置される。その後、隔壁12の頂面上の接着層22と他方の基板16とが、隔壁12内のセル容積を超える余剰のインキを押し出しながら接着される(対向基板配置工程:図2の工程(6))。これにより、表示媒体(インキ13)が各セル内に封止される。 Returning to FIG. 2, one substrate 11 and the other substrate 16 are arranged such that the top surface of the partition wall 12 of one substrate 11 and the pixel electrode 161 of the other substrate 16 face each other. Thereafter, the adhesive layer 22 on the top surface of the partition wall 12 and the other substrate 16 are bonded while extruding excess ink exceeding the cell volume in the partition wall 12 (opposing substrate placement step: step (6) in FIG. 2). ). Thereby, the display medium (ink 13) is sealed in each cell.
さらに、本実施の形態の対向基板配置工程では、図10に示すように、接着層22として転写された接着剤221を加熱させて接着力を得るようになっている。具体的には、ラミネータ91によって所定の熱圧着圧力(ラミネート圧力)を付与しながら、接着剤221を周辺からその軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることによって、隔壁12と他方の基板16とを接着する。もっとも、他の熱圧着の態様が採用されてもよい。 Furthermore, in the counter substrate arrangement step of the present embodiment, as shown in FIG. 10, the adhesive 221 transferred as the adhesive layer 22 is heated to obtain an adhesive force. Specifically, the partition wall 12 and the other substrate are softened by heating the adhesive 221 from the periphery to a temperature exceeding the softening temperature while applying a predetermined thermocompression bonding pressure (laminating pressure) by the laminator 91. 16 is bonded. However, other thermocompression bonding modes may be employed.
ここで、本実施の形態の対向基板配置工程では、一方の基板11と他方の基板16とは、隔壁12の周期的なパターンと画素電極161の周期的なパターンとによるモアレの発現が抑制されるように配置される。図11乃至図13を参照して、モアレの発現が抑制されるような一方の基板11と他方の基板16との配置関係について説明する。 Here, in the counter substrate placement step of the present embodiment, the occurrence of moire due to the periodic pattern of the partition walls 12 and the periodic pattern of the pixel electrodes 161 is suppressed between the one substrate 11 and the other substrate 16. Arranged so that. With reference to FIG. 11 thru | or FIG. 13, the arrangement | positioning relationship of the one board | substrate 11 and the other board | substrate 16 which the expression of a moire is suppressed is demonstrated.
図11は、モアレの発現のメカニズムを説明するための図である。図12は、画素電極の縁部に平行に延びる線と、隔壁で区画されたセルにおける対向する角部を結ぶ線と、の間の回転の角度の違いによる、画素電極のパターンと隔壁のパターンの重なりの疎密の形成のされ方の違いを説明するための図である。詳しくは、隔壁で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線が画素電極の縁部に平行に延びる線に対して、図12(a)が0°、図12(b)が5°、図12(c)が10°、図12(d)が15°、図12(e)が20°、図12(f)が25°、図12(g)が30°回転されて配置された状態を示す図である。ここで、各セルにおける対向する角部とは、六角形の3つおきの角部同士を意味する。また、図13は、画素電極の縁部に平行に延びる線と、隔壁で区画されたセルにおける対向する角部を結ぶ線と、の間の回転の角度の違いによる、モアレの発現の様子の違いを説明するための図である。詳しくは、隔壁で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線が画素電極の縁部に平行に延びる線に対して、図13(a)が0°または30°、図13(b)が5°、図13(c)が10°、図13(d)が15°、図13(e)が20°、図13(f)が25°回転されて配置された状態のモアレの発現の様子を説明するための図である。 FIG. 11 is a diagram for explaining the mechanism of moiré expression. FIG. 12 shows the pattern of the pixel electrode and the pattern of the partition wall due to the difference in the rotation angle between the line extending in parallel with the edge of the pixel electrode and the line connecting the opposing corners in the cell partitioned by the partition wall. It is a figure for demonstrating the difference in the way of the formation of the density of the overlap. Specifically, FIG. 12A shows 0 ° and FIG. 12B shows 5 ° with respect to a line connecting parallel corners of each cell partitioned by the partition walls extending in parallel with the edge of the pixel electrode. 12 (c) is rotated by 10 °, FIG. 12 (d) is rotated by 15 °, FIG. 12 (e) is rotated by 20 °, FIG. 12 (f) is rotated by 25 °, and FIG. FIG. Here, the opposite corners in each cell mean every third corner of the hexagon. FIG. 13 shows the appearance of moiré due to the difference in the rotation angle between the line extending in parallel with the edge of the pixel electrode and the line connecting the opposing corners in the cell partitioned by the partition walls. It is a figure for demonstrating a difference. Specifically, FIG. 13A shows 0 ° or 30 ° with respect to a line connecting parallel corners of each cell partitioned by the partition walls extending in parallel with the edge of the pixel electrode, and FIG. Of moiré in a state where the angle is 5 °, FIG. 13 (c) is 10 °, FIG. 13 (d) is 15 °, FIG. 13 (e) is 20 °, and FIG. It is a figure for demonstrating the mode of.
まず、モアレまたはモワレは、干渉縞ともいい、規則正しい繰り返し模様が複数重ね合わされた時に、それらの周期のズレにより視覚的に発生する縞模様のことである。図11に示すように、複数の周期的なパターンが互いに対して回転された状態で重ね合わされると、当該複数のパターンの重なりが疎である領域と密である領域とが形成される。複数のパターンの重なりが疎である領域と密である領域とが存在することにより、視覚的な縞模様、すなわちモアレが発生してしまうことがある。 First, moire or moire is also referred to as interference fringe, and is a striped pattern that is visually generated due to a shift in the period when a plurality of regularly repeated patterns are superimposed. As shown in FIG. 11, when a plurality of periodic patterns are overlapped with each other while being rotated with respect to each other, a region where the overlap of the plurality of patterns is sparse and a region where the overlap is dense are formed. Due to the presence of a region where the overlapping of a plurality of patterns is sparse and a region where the pattern is dense, a visual striped pattern, that is, moire may occur.
複数のパターンの重ね合わせによるモアレの発現を抑制するためには、その重なりが疎である領域と密である領域とが十分に細かく形成されるように重ね合わされればよい。したがって、本実施の形態では、一方の基板11と他方の基板16とは、隔壁12のパターンと画素電極161のパターンとの重なりが疎である領域と密である領域とが十分に細かく形成されるように配置される。 In order to suppress the appearance of moire due to the superposition of a plurality of patterns, it is only necessary that the regions where the overlap is sparse and the regions where the overlap is dense are formed so as to be sufficiently fine. Therefore, in the present embodiment, the one substrate 11 and the other substrate 16 are formed with sufficiently fine areas where the overlap of the pattern of the partition wall 12 and the pattern of the pixel electrode 161 is sparse and dense. Arranged so that.
図12及び図13を参照して、隔壁12のパターンと画素電極161のパターンとの重なりが疎である領域と密である領域とが十分に細かく形成されるような、一方の基板11と他方の基板16との配置関係について説明する。 Referring to FIG. 12 and FIG. 13, one substrate 11 and the other in which the region where the pattern of the partition wall 12 and the pattern of the pixel electrode 161 are sparse and the region where the pattern is dense are formed are sufficiently fine. The arrangement relationship with the substrate 16 will be described.
図12(a)及び図12(g)並びに図13(a)に示すように、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12の基準軸125が画素電極161の基準軸165に対して0°または30°回転されて配置された時、すなわち、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線に対して0°または30°回転されて配置された関係にある時、隔壁12のパターンと画素電極161のパターンとの重なりによるモアレの発現が最も抑制される。しかし、この場合、隔壁12のパターンと画素電極161のパターンとは、高精度にアライメントされる必要がある。 As shown in FIG. 12A, FIG. 12G, and FIG. 13A, the reference axis 125 of the partition wall 12 is a pixel when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. When the electrode 161 is rotated by 0 ° or 30 ° with respect to the reference axis 165, that is, one of the lines connecting the opposite corners in each cell partitioned by the partition 12 is the edge of each pixel electrode 161. When there is a relationship of being rotated by 0 ° or 30 ° with respect to a line extending parallel to one of the portions, the occurrence of moire due to the overlap between the pattern of the partition wall 12 and the pattern of the pixel electrode 161 is most suppressed. . However, in this case, the pattern of the partition wall 12 and the pattern of the pixel electrode 161 need to be aligned with high accuracy.
隔壁12のパターンと画素電極161のパターンとが互いに対して回転されて配置された場合にあっては、図12(b)乃至図12(f)並びに図13(b)乃至図13(f)に示すように、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12の基準軸125の画素電極161の基準軸165に対する回転が15°の時、すなわち、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して15°回転されて配置された関係にある時、当該2つのパターンの重なりが疎である領域と密である領域とが最も細かく形成される。また、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、当該回転が10°〜20°の範囲内であれば、すなわち、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して10°〜20°回転されて配置された関係にある時、当該2つのパターンの重なりが疎である領域と密である領域とは十分に細かく形成され、モアレの発現が実用上問題のない程度にまで抑制される。 In the case where the pattern of the partition wall 12 and the pattern of the pixel electrode 161 are arranged so as to be rotated with respect to each other, FIGS. 12 (b) to 12 (f) and FIGS. 13 (b) to 13 (f). As shown in FIG. 4, when the rotation of the reference axis 125 of the partition 12 relative to the reference axis 165 of the pixel electrode 161 is 15 ° when viewed from the side of one substrate 11 toward the other substrate 16, that is, the partition When any of the lines connecting the opposing corners in each cell partitioned by 12 is in a relationship of being rotated by 15 ° with respect to a line 165 extending parallel to any of the edges of each pixel electrode 161. The area where the overlap of the two patterns is sparse and the area where the two patterns are dense are formed most finely. Further, when viewed in the direction from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side, if the rotation is within a range of 10 ° to 20 °, that is, the cells facing each other partitioned by the partition walls 12 are opposed. When one of the lines connecting the corners is arranged to be rotated by 10 ° to 20 ° with respect to the line 165 extending in parallel to one of the edges of each pixel electrode 161, the two patterns overlap. The sparse region and the dense region are formed sufficiently finely, and the occurrence of moire is suppressed to such a level that there is no practical problem.
したがって、本実施の形態においては、対向基板配置工程において、一方の基板11と他方の基板16とは、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12の基準軸125が画素電極161の基準軸165に対して、すなわち、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して、10°〜20°回転されて配置される。 Therefore, in the present embodiment, in the counter substrate placement step, the one substrate 11 and the other substrate 16 have the partition wall 12 as viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. The reference axis 125 is parallel to the reference axis 165 of the pixel electrode 161, that is, one of the lines connecting the opposing corners in each cell partitioned by the partition 12 is parallel to one of the edges of each pixel electrode 161. The extended line 165 is rotated by 10 ° to 20 °.
なお、隔壁形成工程が画素電極形成工程の後に実施され、隔壁12が他方の基板16の画素電極161が形成されている側に形成される場合には、隔壁12は、隔壁12の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12の基準軸125が画素電極の基準軸165に対して、すなわち、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して、10°〜20°回転されて形成される。 In the case where the partition wall formation step is performed after the pixel electrode formation step and the partition wall 12 is formed on the side of the other substrate 16 where the pixel electrode 161 is formed, the partition wall 12 extends from the partition wall 12 side to the other side. As viewed in the direction toward the substrate 16, the reference axis 125 of the partition wall 12 is one of the lines connecting the reference axes 165 of the pixel electrodes, that is, the connecting corners of each cell partitioned by the partition wall 12. Is formed by being rotated by 10 ° to 20 ° with respect to a line 165 extending parallel to one of the edges of each pixel electrode 161.
対向基板配置工程の後、図2に示すように、ギロチン、上刃スライド装置、レーザカット装置、レーザーカッター等の断裁装置51によって所定のサイズに断裁され(断裁工程:図2の工程(7))、所望の反射型表示装置の製造が完了する。 After the counter substrate placement step, as shown in FIG. 2, the sheet is cut into a predetermined size by a cutting device 51 such as a guillotine, an upper blade slide device, a laser cutting device, or a laser cutter (cutting step: step (7) in FIG. 2). ), The manufacture of the desired reflective display device is completed.
以上のように、本実施の形態によれば、隔壁12も画素電極161も周期的なパターンで形成されているが、隔壁12で区画された各セルにおける角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極161の縁部いずれかに平行に延びる線165に対して10°〜20°回転されて配置された関係にあるため、隔壁12及び画素電極161のパターンの重なりが疎である領域と密である領域とが十分に細かく形成され得る。この結果、隔壁12及び画素電極161のパターンの重なりが疎である領域と密である領域とによって、視覚的な縞模様、すなわちモアレが発現してしまう、ということが抑制され得る。 As described above, according to the present embodiment, both the partition wall 12 and the pixel electrode 161 are formed in a periodic pattern, but any one of the lines connecting the corners of each cell partitioned by the partition wall 12 Because of the relationship of being rotated by 10 ° to 20 ° with respect to a line 165 extending in parallel to one of the edge portions of the pixel electrode 161, the pattern of the partition wall 12 and the pixel electrode 161 and the region where the overlap of the pattern is sparse are dense. Can be formed sufficiently finely. As a result, it is possible to suppress the appearance of a visual striped pattern, that is, moiré, due to the sparse region and the dense region where the partition 12 and the pixel electrode 161 overlap.
また、隔壁12のパターンは、正六角形の単位パターンを規則的に配列したパターンである。したがって、モアレの発現が、効果的に抑制される。 Moreover, the pattern of the partition 12 is a pattern in which regular hexagonal unit patterns are regularly arranged. Therefore, the expression of moire is effectively suppressed.
なお、図12について、隔壁のピッチと画素電極のピッチとが同じ場合で説明されているが、隔壁のピッチと画素電極のピッチとが異なる場合でも、同様に当てはまる。 Note that FIG. 12 has been described in the case where the partition pitch and the pixel electrode pitch are the same, but the same applies even when the partition pitch and the pixel electrode pitch are different.
次に、図14を参照して、本発明による第2の実施の形態による反射型表示装置の製造方法について説明する。本実施の形態では、第1の実施の形態に対して、隔壁12の形成方法が異なる。 Next, with reference to FIG. 14, the manufacturing method of the reflective display apparatus by 2nd Embodiment by this invention is demonstrated. In the present embodiment, the method of forming the partition wall 12 is different from that of the first embodiment.
図14を参照して、本実施の形態による隔壁12の形成方法について説明する。図14は、本発明の第2の実施の形態による隔壁12の形成方法を説明するための図である。詳しくは、図14(a)が、基準パターンを示す図であり、図14(b)が、図14(a)に示す基準パターンを基礎として形成された隔壁12のパターンを示す図である。 With reference to FIG. 14, the formation method of the partition 12 by this Embodiment is demonstrated. FIG. 14 is a diagram for explaining a method of forming the partition wall 12 according to the second embodiment of the present invention. Specifically, FIG. 14 (a) is a diagram showing a reference pattern, and FIG. 14 (b) is a diagram showing a pattern of partition walls 12 formed on the basis of the reference pattern shown in FIG. 14 (a).
本実施の形態の隔壁形成工程において、まず、隔壁12の仮想の基準軸125に対して六角形の単位パターンが規則的に配列された基準パターンが用意される。ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲において「基準パターン」とは、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見た隔壁12の形状を決定する際に基準(基礎)とされるパターンであり、あるいは、その分岐点の位置が、隔壁12の分岐点の位置との比較対象とされるパターンである。 In the partition forming step of the present embodiment, first, a reference pattern in which hexagonal unit patterns are regularly arranged with respect to the virtual reference axis 125 of the partition 12 is prepared. Here, in the present specification and claims, the “reference pattern” refers to a reference (when determining the shape of the partition wall 12 as viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side). Or a position where the branch point is compared with the position of the branch point of the partition wall 12.
本実施の形態では、基準パターンは、図14(a)に示すように、正六角形の単位パターンを規則的に配列した周期的なハニカムパターンで形成される。もっとも、基準パターンの単位パターンの形状としては、正六角形以外の六角形も採用可能である。また、基準パターンは、正六角形の各単位パターンの対向する2つの角部を結ぶ線が隔壁12の仮想の基準軸125に平行になるように配列されて形成されたパターンである。基準パターンのピッチは、0.05mm〜1mmピッチ、好ましくは0.1mm〜0.5mmピッチである。ここで、基準パターンの「ピッチ」とは、隣接する単位パターンを重ねるべく移動させるのに必要な距離を意味している。 In this embodiment, the reference pattern is formed as a periodic honeycomb pattern in which regular hexagonal unit patterns are regularly arranged as shown in FIG. However, hexagons other than regular hexagons can be adopted as the unit pattern shape of the reference pattern. Further, the reference pattern is a pattern formed by arranging a line connecting two opposing corner portions of each regular hexagonal unit pattern so as to be parallel to the virtual reference axis 125 of the partition wall 12. The pitch of the reference pattern is 0.05 mm to 1 mm, preferably 0.1 mm to 0.5 mm. Here, the “pitch” of the reference pattern means a distance necessary for moving adjacent unit patterns to overlap each other.
次に、基準パターンの各分岐点Kを起点として所定距離の範囲R内に隔壁12の分岐点を位置決めする。このように位置決めされた隔壁12の分岐点の位置に基づいて、隔壁12が形成される。本実施の形態においては、隔壁12の分岐点は、前述の所定距離の範囲R内においてランダムに位置決めされるが、当該所定距離の範囲R内において規則的に位置決めされてもよい。このようにして、図14(b)に示すような、隔壁12のパターンが形成される。なお、本実施の形態では、所定距離の範囲Rは、正六角形の単位パターンが配列されて形成された基準パターンの各分岐点Kを起点として、当該分岐点から延出される辺の長さの半分以下の距離の範囲である。 Next, the branch point of the partition wall 12 is positioned within a predetermined distance range R starting from each branch point K of the reference pattern. The partition wall 12 is formed based on the position of the branch point of the partition wall 12 positioned in this way. In the present embodiment, the branch points of the partition walls 12 are randomly positioned within the predetermined distance range R described above, but may be regularly positioned within the predetermined distance range R. In this way, a pattern of the partition walls 12 as shown in FIG. 14B is formed. In the present embodiment, the range R of the predetermined distance is a length of a side extending from the branch point starting from each branch point K of the reference pattern formed by arranging regular hexagonal unit patterns. The distance range is less than half.
本件発明者が得た知見によれば、隔壁12のパターンが図14(b)に示すようなパターンである場合、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12と画素電極161とが、隔壁12の基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかが画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して5°〜25°回転されて配置された関係にある、というように互いに対して配置されている時、当該2つのパターンの重なりが疎である領域と密である領域とは十分に細かく形成され、モアレの発現が実用上問題のない程度にまで抑制される。 According to the knowledge obtained by the present inventors, when the pattern of the partition wall 12 is a pattern as shown in FIG. 14B, when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side, The partition 12 and the pixel electrode 161 are 5 ° with respect to a line 165 in which any of the lines connecting the opposing branch points in each unit pattern of the reference pattern of the partition 12 extends parallel to any of the edges of the pixel electrode 161. When the two patterns are arranged relative to each other such that the two patterns are arranged in a relationship of being rotated by -25 °, the area where the overlap of the two patterns is sparse and the area where the density is dense are formed sufficiently finely, and moire is formed. Is suppressed to such an extent that there is no practical problem.
そして、対向基板配置工程において、一方の基板11と他方の基板16とは、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12の基準軸125が画素電極161の基準軸165に対して5°〜25°回転されて配置される。これにより、隔壁12と画素電極161とは、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12の基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかが画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して5°〜25°回転されて配置された関係となるように配置される、というように互いに対して配置される。 Then, in the counter substrate placement step, when the one substrate 11 and the other substrate 16 are viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side, the reference axis 125 of the partition wall 12 is the pixel electrode 161. The reference axis 165 is rotated by 5 ° to 25 °. Thereby, the partition wall 12 and the pixel electrode 161 are connected to each other in the unit pattern of the reference pattern of the partition wall 12 as viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. Any one of them is arranged so as to have a relationship of being rotated by 5 ° to 25 ° with respect to a line 165 extending parallel to any of the edges of the pixel electrode 161, and so on. .
なお、隔壁形成工程が画素電極形成工程の後に実施され、隔壁12が他方の基板16の画素電極161が形成されている側に形成される場合には、隔壁12の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12の基準軸125が画素電極161の基準軸165に対して5°〜25°回転されているというように形成されればよい。具体的には、隔壁12が形成される側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、画素電極161の基準軸165に対して5°〜25°回転された仮想の基準軸を隔壁12の基準軸125とし、当該基準軸125と、六角形の各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかと、が平行となるように当該単位パターンが規則的に配列されたパターンを基準パターンとし、当該基準パターンに基づいて、他方の基板16の画素電極161が形成される側に隔壁12を形成すればよい。このようにして、隔壁12の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12の基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかが画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して5°〜25°回転されて配置された関係となるように、隔壁12が形成される。 In the case where the partition wall formation step is performed after the pixel electrode formation step and the partition wall 12 is formed on the side of the other substrate 16 where the pixel electrode 161 is formed, the partition wall 12 side to the other substrate 16 side. The reference axis 125 of the partition wall 12 may be formed so as to be rotated 5 ° to 25 ° with respect to the reference axis 165 of the pixel electrode 161 when viewed in the direction toward the side. Specifically, the virtual reference axis rotated by 5 ° to 25 ° with respect to the reference axis 165 of the pixel electrode 161 when viewed in the direction from the side where the partition wall 12 is formed toward the other substrate 16 side. 12 reference axes 125, and a pattern in which the unit patterns are regularly arranged so that the reference axis 125 and one of the lines connecting opposing branch points in each hexagonal unit pattern are parallel A partition 12 may be formed on the side of the other substrate 16 on which the pixel electrode 161 is formed based on the reference pattern. In this way, when viewed in the direction from the partition 12 side toward the other substrate 16, one of the lines connecting the opposing branch points in each unit pattern of the reference pattern of the partition 12 is the edge of the pixel electrode 161. The partition wall 12 is formed so as to have a relationship of being rotated by 5 ° to 25 ° with respect to the line 165 extending in parallel with any of the above.
以上のように、本実施の形態によれば、複数の画素電極161が周期的なパターンで配列されるのに対し、隔壁12は、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12の少なくとも一部の分岐点は、六角形の単位パターンを規則的に配列して基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっていない、というように形成される。これにより、モアレの発現が抑制され得る。 As described above, according to the present embodiment, the plurality of pixel electrodes 161 are arranged in a periodic pattern, whereas the partition wall 12 is directed from one substrate 11 side to the other substrate 16 side. When viewed in the direction, at least a part of the branch points of the partition wall 12 exists within a predetermined distance starting from the branch point of the reference pattern when the hexagonal unit patterns are regularly arranged as a reference pattern. In addition, it is formed such that it does not overlap with the branch point of the reference pattern. Thereby, the expression of moire can be suppressed.
また、本件発明者が得た知見によれば、本実施の形態においては、隔壁12の基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかと、画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線と、の間の回転の角度の範囲が5°〜25°の時、隔壁12及び画素電極161のパターンの重なりが疎である領域と密である領域とが細かく形成され、隔壁12及び画素電極161のパターンの重なりが疎である領域と密である領域とによる視覚的な縞模様、すなわちモアレの発現を実用上問題のない程度にまで抑制し得る。この角度の範囲は、隔壁12のパターンが六角形の単位パターンを規則的に配列したパターンである場合における、モアレの発現を実用上問題のない程度にまで抑制し得るような、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかと、各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線と、の間の回転の角度の範囲(10°〜20°)よりも広い。換言すれば、本実施の形態においては、モアレの発現を実用上問題のない程度にまで抑制し得る隔壁12の基準軸125と画素電極161の基準軸165との間の回転の角度の範囲が、前述の実施の形態1の場合と比較してより広範囲となり得る。 Further, according to the knowledge obtained by the present inventors, in the present embodiment, any one of the lines connecting the opposing branch points in each unit pattern of the reference pattern of the partition wall 12 and any one of the edges of the pixel electrode 161. When the range of the angle of rotation between the line extending in parallel with the line is 5 ° to 25 °, a region where the overlap of the pattern of the partition wall 12 and the pixel electrode 161 is sparse and a region where the pattern is dense are formed finely, It is possible to suppress the appearance of a visual stripe pattern, that is, moire, due to a region where the overlapping pattern of the partition wall 12 and the pixel electrode 161 is sparse and a region where the pattern overlaps is not problematic. This angle range is defined by the partition 12 so that the occurrence of moire can be suppressed to a practically no problem when the pattern of the partition 12 is a pattern in which hexagonal unit patterns are regularly arranged. More than the range of rotation angles (10 ° to 20 °) between any one of the lines connecting the opposite corners of each cell and a line extending in parallel with one of the edges of each pixel electrode 161. wide. In other words, in this embodiment, the range of the angle of rotation between the reference axis 125 of the partition wall 12 and the reference axis 165 of the pixel electrode 161 that can suppress the occurrence of moire to a practically no problem level. Compared with the case of the first embodiment, the range can be wider.
そして、一方の基板11と他方の基板16とが、隔壁12の基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかが画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して5°〜25°回転されて配置された関係となるように配置されることにより、モアレの発現が、より効果的に抑制され得る。 A line 165 in which one of the lines connecting one of the substrates 11 and the other substrate 16 connecting the opposing branch points in each unit pattern of the reference pattern of the partition wall 12 extends in parallel to one of the edges of the pixel electrode 161. The arrangement of the moiré can be more effectively suppressed by being arranged so as to have a relationship of being rotated by 5 ° to 25 ° with respect to the arrangement.
また、基準パターンは、正六角形の単位パターンを規則的に配列したパターンであるため、モアレの発現が、効果的に抑制される。 In addition, since the reference pattern is a pattern in which regular hexagonal unit patterns are regularly arranged, the occurrence of moire is effectively suppressed.
次に、実際に行われた実施例について説明する。 Next, practical examples actually performed will be described.
<反射型表示装置の実施例>
<実施例1−1>
一方の基板11として、300mm×400mm×厚さ0.1mmのPET基板(東洋紡A4100)の一方の面に透光性電極111として酸化インジウムスズ(ITO)蒸着膜(厚さ0.2μm)が設けられた基板が用意された。透光性電極111は、スパッタリング、真空蒸着法、CVD法などの一般的な成膜方法によって形成され、酸化インジウムスズ(ITO)の他に、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等によっても形成され得る。<Example of Reflective Display Device>
<Example 1-1>
As one substrate 11, an indium tin oxide (ITO) vapor deposition film (thickness 0.2 μm) is provided as a translucent electrode 111 on one surface of a 300 mm × 400 mm × 0.1 mm thick PET substrate (Toyobo A4100). A prepared substrate was prepared. The translucent electrode 111 is formed by a general film forming method such as sputtering, vacuum evaporation, or CVD, and in addition to indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), or the like. Can also be formed.
次に、当該一方の基板11に、ネガ型感光性樹脂材料(デュポンMRCドライフィルムレジスト(株)製のドライフィルムレジスト)を20μmの厚さにラミネートして100℃、1分間の条件で加熱し、次いで露光マスクを使用して露光(露光量500mJ/cm2 )し、その後、1%KOH水溶液を用いた現像を30秒行い、200℃、60分間の条件で焼成することで、線幅が20μmの隔壁12が形成された。隔壁12のパターンは、正六角形の単位パターンを規則的に配列したハニカムパターン(ピッチ300μm)であった。また、隔壁12は、当該正六角形の単位パターンの対向する角部を結ぶ線が、一方の基板11の平面視において、一方の基板11の長手方向軸に対して15°回転されて配置された関係にある仮想の基準軸125に対して平行に配置されるように形成された。 Next, a negative photosensitive resin material (a dry film resist manufactured by DuPont MRC Dry Film Resist Co., Ltd.) is laminated on the one substrate 11 to a thickness of 20 μm and heated at 100 ° C. for 1 minute. Then, exposure is performed using an exposure mask (exposure amount: 500 mJ / cm 2), and thereafter development using a 1% KOH aqueous solution is performed for 30 seconds, followed by baking under the conditions of 200 ° C. and 60 minutes. The partition wall 12 was formed. The pattern of the partition walls 12 was a honeycomb pattern (pitch 300 μm) in which regular hexagonal unit patterns were regularly arranged. The partition wall 12 is arranged such that a line connecting opposing corner portions of the regular hexagonal unit pattern is rotated by 15 ° with respect to the longitudinal axis of one substrate 11 in a plan view of the one substrate 11. It was formed so as to be arranged in parallel to the virtual reference axis 125 in the relationship.
そして、転写フィルム基材21として厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム21(帝人・デュポン社製)が用いられ、これにヒートシール剤221(東洋紡製バイロン630)が厚さ20μmでダイコータにて塗布され、乾燥された。これにより、10μmの接着層を有するロール状の転写シート20が作製された。なお、ヒートシール剤221の軟化温度は約110℃であった。 A polyethylene terephthalate (PET) film 21 (manufactured by Teijin DuPont) having a thickness of 50 μm is used as the transfer film substrate 21, and a heat sealant 221 (Byron 630 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 20 μm is used with a die coater. Applied and dried. Thereby, a roll-shaped transfer sheet 20 having a 10 μm adhesive layer was produced. The softening temperature of the heat sealant 221 was about 110 ° C.
そして、転写シート20の上に、一方の基板11が、その隔壁12が形成されている側の面を下にした状態で載せられ、この状態で、1kPa程度の押圧力で常温でラミネートされた。その後、ヒートシール剤221の周辺がその軟化温度を超える温度、例えば130℃程度にまで加熱され、その状態で一方の基板11が、転写シート20から剥離された。その結果、ヒートシール剤221が隔壁12の頂面の全面に熱転写された。隔壁12の頂面に転写されたヒートシール剤221の高さ、すなわち、隔壁12の頂面からヒートシール剤221の頭頂部までの高さは、すなわち、接着層22の厚さは、約7μmであった。 Then, one substrate 11 was placed on the transfer sheet 20 with the surface on which the partition wall 12 was formed facing down, and was laminated at room temperature with a pressing force of about 1 kPa in this state. . Thereafter, the periphery of the heat sealant 221 was heated to a temperature exceeding its softening temperature, for example, about 130 ° C., and one substrate 11 was peeled from the transfer sheet 20 in that state. As a result, the heat sealant 221 was thermally transferred to the entire top surface of the partition wall 12. The height of the heat sealant 221 transferred to the top surface of the partition wall 12, that is, the height from the top surface of the partition wall 12 to the top of the heat sealant 221, that is, the thickness of the adhesive layer 22 is about 7 μm. Met.
続いて、表示媒体として、以下の成分を有するインキ13が用いられ、ディスペンサ31から滴下されて、中央スキージ32(ニューロング製のスキージ1:ウレタン樹脂製)にてスキージ処理されて、各セル内に充填された。基板幅方向にはみ出した余剰インキは、別の両端スキージ33a、33b(ニューロング製のスキージ2:ウレタン樹脂製)にて掻き取られ、さらにロールワイパ34にて拭き取られた。
<インキ成分>
・電気泳動粒子(二酸化チタン)・・・60重量部
・分散液 ・・・40重量部Subsequently, an ink 13 having the following components is used as a display medium, dropped from the dispenser 31, and squeezed with a central squeegee 32 (Neurong squeegee 1: made of urethane resin), and then in each cell. Filled. Excess ink that protruded in the substrate width direction was scraped off by another squeegee 33a, 33b (Nelogue Squeegee 2: made of urethane resin), and further wiped off by a roll wiper 34.
<Ink component>
・ Electrophoretic particles (titanium dioxide): 60 parts by weight ・ Dispersion liquid: 40 parts by weight
続いて、隔壁パターン外周の一部(2mm×2mmの正方形領域)に、銀ペースト(藤倉化成製)がディスペンサ41によって点塗布された。 Subsequently, a silver paste (manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) was spot-coated by a dispenser 41 on a part of the outer periphery of the partition wall pattern (2 mm × 2 mm square region).
次いで、他方の基板16として、300mm×400mm×厚さ0.5mmの無アルカリガラス(日本電気硝子製OA−10G)の一方の面に、300μm×300μmの正方形の画素電極161が600個×800個、行列方向に整列されて成るアモルファスTFTアクティブマトリクスが設けられた基板が用意された。アモルファスTFTアクティブマトリクスは、液晶ディスプレイなどで一般的に用いられているものであり、画素電極161の材質は、アルミニウム合金であった。複数の画素電極161は、他方の基板16の平面視において、他方の基板16の長手方向軸に平行な仮想の基準軸165に対して各画素電極161の対向する2つの縁部が平行になるように形成された。 Next, 600 × 800 square pixel electrodes 161 of 300 μm × 300 μm are formed on one surface of non-alkali glass (OA-10G manufactured by Nippon Electric Glass) having a size of 300 mm × 400 mm × 0.5 mm as the other substrate 16. A substrate provided with an amorphous TFT active matrix arranged in a matrix direction was prepared. The amorphous TFT active matrix is generally used in a liquid crystal display or the like, and the material of the pixel electrode 161 is an aluminum alloy. In the plurality of pixel electrodes 161, two opposing edge portions of each pixel electrode 161 are parallel to a virtual reference axis 165 parallel to the longitudinal axis of the other substrate 16 in a plan view of the other substrate 16. Formed as follows.
そして、大気中にて、一方の基板11の隔壁12上の接着層22の上に他方の基板16を、一方の基板11及び他方の基板16の長手方向軸が一致するように、すなわち一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て隔壁12の基準軸125が画素電極161の基準軸165に対して15°回転されて配置された。これにより、一方の基板11と他方の基板16とは、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して15°回転されて配置された関係となるように配置された。そして、この状態で、ラミネータ91で一定の熱圧着圧力をさらに付与しつつ、隔壁12内のセル容積を超える余剰のインクを押し出しながら、一方の基板11の隔壁12と他方の基板16とが密着された。 Then, in the atmosphere, the other substrate 16 is placed on the adhesive layer 22 on the partition wall 12 of one substrate 11 so that the longitudinal axes of the one substrate 11 and the other substrate 16 coincide, that is, The reference axis 125 of the partition wall 12 is rotated by 15 ° with respect to the reference axis 165 of the pixel electrode 161 when viewed from the substrate 11 side toward the other substrate 16 side. As a result, the one substrate 11 and the other substrate 16 connect opposite corners in each cell partitioned by the partition wall 12 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. Any of the lines is arranged so as to have a relationship of being rotated by 15 ° with respect to the line 165 extending in parallel with any of the edges of each pixel electrode 161. In this state, the partition 12 of one substrate 11 and the other substrate 16 are in close contact with each other while extruding excess ink exceeding the cell volume in the partition 12 while further applying a constant thermocompression pressure with the laminator 91. It was done.
熱圧着時の温度は、接着層22のヒートシール剤221の軟化点または融点付近の温度であって、インクの蒸発が促進しない温度が好ましく、80℃〜150℃、好ましくは80℃〜90℃であり、本実施例では80℃であった。また、熱圧着圧力は、0.01MPa〜0.7MPaが好ましく、特には0.1MPa〜0.4MPaが好ましく、本実施例では0.3MPaであった。 The temperature at the time of thermocompression bonding is a temperature near the softening point or melting point of the heat sealant 221 of the adhesive layer 22 and is preferably a temperature at which ink evaporation does not accelerate, preferably 80 ° C. to 150 ° C., preferably 80 ° C. to 90 ° C. It was 80 ° C. in this example. The thermocompression bonding pressure is preferably 0.01 MPa to 0.7 MPa, particularly preferably 0.1 MPa to 0.4 MPa, and 0.3 MPa in this example.
その後、断裁装置51によって所定のサイズに断裁され、両方の基板11,16の周辺にディスペンサ(不図示)を用いて紫外線硬化樹脂(イー・エッチ・シー(株)製:LCB−610)を塗工して封止し、紫外線を露光(露光量700mJ/cm2 )して硬化させた(外周封止処理)。以上により表示パネルが作製された。 Thereafter, the sheet is cut into a predetermined size by the cutting device 51, and a UV curable resin (LCB-610, manufactured by E-Heat Sea Co., Ltd.) is applied to the periphery of both substrates 11 and 16 using a dispenser (not shown). Then, it was cured by exposure to ultraviolet rays (exposure amount 700 mJ / cm 2) (peripheral sealing treatment). Thus, a display panel was produced.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。 The display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, but there was no unevenness due to the moire phenomenon.
<実施例1−2>
前記実施例1−1に対して、隔壁12の仮想の基準軸125を、一方の基板11の平面視において当該一方の基板11の長手方向軸に対して10°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁12の基準軸125は、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、画素電極161の基準軸165に対して10°回転されて配置されていた。すなわち、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが、各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して10°回転されて配置されていた。<Example 1-2>
With respect to Example 1-1, the virtual reference axis 125 of the partition wall 12 is arranged so as to be rotated by 10 ° with respect to the longitudinal axis of the one substrate 11 in a plan view of the one substrate 11. The display panel was manufactured in the same process as specified. In the display panel, the reference axis 125 of the partition wall 12 is arranged by being rotated by 10 ° with respect to the reference axis 165 of the pixel electrode 161 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. It was. That is, as viewed in the direction from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side, one of the lines connecting the opposing corners in each cell partitioned by the partition walls 12 is the edge of each pixel electrode 161. It was rotated by 10 ° with respect to a line 165 extending in parallel with any of the above.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。 The display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, but there was no unevenness due to the moire phenomenon.
<実施例1−3>
前記実施例1−1に対して、隔壁12の仮想の基準軸125を、一方の基板11の平面視において当該一方の基板11の長手方向軸に対して20°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁12の基準軸125は、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、画素電極161の基準軸165に対して20°回転されて配置されていた。すなわち、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが、各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して20°回転されて配置されていた。<Example 1-3>
With respect to Example 1-1, the virtual reference axis 125 of the partition wall 12 is disposed so as to be rotated by 20 ° with respect to the longitudinal axis of the one substrate 11 in plan view of the one substrate 11. The display panel was manufactured in the same process as specified. In the display panel, the reference axis 125 of the partition wall 12 is rotated 20 ° with respect to the reference axis 165 of the pixel electrode 161 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. It was. That is, as viewed in the direction from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side, one of the lines connecting the opposing corners in each cell partitioned by the partition walls 12 is the edge of each pixel electrode 161. It was rotated 20 ° with respect to a line 165 extending in parallel with any of the above.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。 The display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, but there was no unevenness due to the moire phenomenon.
<比較例1−1>
前記実施例1−1に対して、隔壁12の仮想の基準軸125を、一方の基板11の平面視において当該一方の基板11の長手方向軸に対して5°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁12の基準軸125は、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、画素電極161の基準軸165に対して5°回転されて配置されていた。すなわち、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが、各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して5°回転されて配置されていた。<Comparative Example 1-1>
With respect to Example 1-1, the virtual reference axis 125 of the partition wall 12 is arranged so as to be rotated by 5 ° with respect to the longitudinal axis of the one substrate 11 in a plan view of the one substrate 11. The display panel was manufactured in the same process as specified. In the display panel, the reference axis 125 of the partition wall 12 is rotated by 5 ° with respect to the reference axis 165 of the pixel electrode 161 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. It was. That is, as viewed in the direction from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side, one of the lines connecting the opposing corners in each cell partitioned by the partition walls 12 is the edge of each pixel electrode 161. It was rotated 5 ° with respect to a line 165 extending in parallel with any of the above.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したところ、モアレ現象によるムラが発生した。 When the display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, unevenness due to the moire phenomenon occurred.
<比較例1−2>
前記実施例1−1に対して、隔壁12の仮想の基準軸125を、一方の基板11の平面視において当該一方の基板11の長手方向軸に対して25°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁12の基準軸125は、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、画素電極161の基準軸165に対して25°回転されて配置されていた。すなわち、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが、各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して25°回転されて配置されていた。<Comparative Example 1-2>
With respect to Example 1-1, the virtual reference axis 125 of the partition wall 12 is arranged so as to be rotated by 25 ° with respect to the longitudinal axis of the one substrate 11 in a plan view of the one substrate 11. The display panel was manufactured in the same process as specified. In the display panel, the reference axis 125 of the partition wall 12 is arranged by being rotated by 25 ° with respect to the reference axis 165 of the pixel electrode 161 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. It was. That is, as viewed in the direction from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side, one of the lines connecting the opposing corners in each cell partitioned by the partition walls 12 is the edge of each pixel electrode 161. It was rotated by 25 ° with respect to a line 165 extending in parallel with any of the above.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したところ、モアレ現象によるムラが発生した。 When the display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, unevenness due to the moire phenomenon occurred.
<実施例2−1>
前記実施例1−1に対して、隔壁12を以下のように形成し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。<Example 2-1>
With respect to Example 1-1, the partition 12 was formed as follows, and the other processes were the same and a display panel was manufactured.
すなわち、まず、一方の基板11の平面視において一方の基板11の長手方向軸に対して15°回転されて配置された仮想の線を、隔壁12の仮想の基準軸125として規定した。次に、複数の正六角形の単位パターンを、各正六角形の単位パターンにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが当該仮想の基準軸125に平行になるように配列し、これにより得られたパターンを隔壁12の基準パターンとした。そして、隔壁12を、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12の少なくとも一部の分岐点が当該基準パターンの分岐点を起点として、当該分岐点から延出される辺の長さの4分の1に等しい距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっていない、というように形成した。 That is, first, a virtual line arranged by being rotated by 15 ° with respect to the longitudinal axis of one substrate 11 in a plan view of one substrate 11 was defined as a virtual reference axis 125 of the partition wall 12. Next, a plurality of regular hexagonal unit patterns are arranged so that any of the lines connecting opposing corners in each regular hexagonal unit pattern is parallel to the virtual reference axis 125, and thus obtained. The pattern was used as a reference pattern for the partition wall 12. Then, when the partition wall 12 is viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side, at least a part of the branch points of the partition wall 12 starts from the branch point of the reference pattern. It was formed so as to exist within a distance equal to one-fourth of the length of the extended side and not overlap with the branch point of the reference pattern.
当該表示パネルにおいて、隔壁12の基準軸125は、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、画素電極161の基準軸165に対して15°回転されて配置されていた。すなわち、隔壁12と画素電極161とは、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して15°回転されて配置された関係にある、というように互いに対して配置されていた。 In the display panel, the reference axis 125 of the partition wall 12 is rotated by 15 ° with respect to the reference axis 165 of the pixel electrode 161 when viewed in the direction from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. It was. That is, the partition wall 12 and the pixel electrode 161 are either one of lines connecting corners facing each other in each cell partitioned by the partition wall 12 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. Are arranged relative to each other such that they are rotated by 15 ° with respect to a line 165 extending parallel to one of the edges of each pixel electrode 161.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。 The display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, but there was no unevenness due to the moire phenomenon.
<実施例2−2>
前記実施例2−1に対して、隔壁12の仮想の基準軸125を、一方の基板11の平面視において当該一方の基板11の長手方向軸に対して10°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁12の基準軸125は、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、画素電極161の基準軸165に対して10°回転されて配置されていた。すなわち、隔壁12と画素電極161とは、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して10°回転されて配置された関係にある、というように互いに対して配置されていた。<Example 2-2>
With respect to Example 2-1, the virtual reference axis 125 of the partition wall 12 is arranged so as to be rotated by 10 ° with respect to the longitudinal axis of the one substrate 11 in a plan view of the one substrate 11. The display panel was manufactured in the same process as specified. In the display panel, the reference axis 125 of the partition wall 12 is arranged by being rotated by 10 ° with respect to the reference axis 165 of the pixel electrode 161 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. It was. That is, the partition wall 12 and the pixel electrode 161 are either one of lines connecting corners facing each other in each cell partitioned by the partition wall 12 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. Are arranged with respect to each other such that they are rotated by 10 ° with respect to a line 165 extending parallel to one of the edges of each pixel electrode 161.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。 The display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, but there was no unevenness due to the moire phenomenon.
<実施例2−3>
前記実施例2−1に対して、隔壁12の仮想の基準軸125を、一方の基板11の平面視において当該一方の基板11の長手方向軸に対して20°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁12の基準軸125は、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、画素電極161の基準軸165に対して20°回転されて配置されていた。すなわち、隔壁12と画素電極161とは、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して20°回転されて配置された関係にある、というように互いに対して配置されていた。<Example 2-3>
With respect to Example 2-1, the virtual reference axis 125 of the partition wall 12 is arranged so as to be rotated by 20 ° with respect to the longitudinal axis of the one substrate 11 in a plan view of the one substrate 11. The display panel was manufactured in the same process as specified. In the display panel, the reference axis 125 of the partition wall 12 is rotated 20 ° with respect to the reference axis 165 of the pixel electrode 161 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. It was. That is, the partition wall 12 and the pixel electrode 161 are either one of lines connecting corners facing each other in each cell partitioned by the partition wall 12 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. Are arranged with respect to each other such that they are rotated by 20 ° with respect to a line 165 extending parallel to one of the edges of each pixel electrode 161.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。 The display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, but there was no unevenness due to the moire phenomenon.
<実施例2−4>
前記実施例2−1に対して、隔壁12の仮想の基準軸125を、一方の基板11の平面視において当該一方の基板11の長手方向軸に対して5°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁12の基準軸125は、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、画素電極161の基準軸165に対して5°回転されて配置されていた。すなわち、隔壁12と画素電極161とは、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して5°回転されて配置された関係にある、というように互いに対して配置されていた。<Example 2-4>
With respect to Example 2-1, the virtual reference axis 125 of the partition wall 12 is arranged to be rotated by 5 ° with respect to the longitudinal axis of the one substrate 11 in a plan view of the one substrate 11. The display panel was manufactured in the same process as specified. In the display panel, the reference axis 125 of the partition wall 12 is rotated by 5 ° with respect to the reference axis 165 of the pixel electrode 161 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. It was. That is, the partition wall 12 and the pixel electrode 161 are either one of lines connecting corners facing each other in each cell partitioned by the partition wall 12 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. Are arranged with respect to each other such that they are rotated by 5 ° with respect to a line 165 extending parallel to one of the edges of each pixel electrode 161.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。 The display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, but there was no unevenness due to the moire phenomenon.
<実施例2−5>
前記実施例2−1に対して、隔壁12の仮想の基準軸125を、一方の基板11の平面視において当該一方の基板11の長手方向軸に対して25°回転されて配置されるように規定し、その他は同じ工程で、表示パネルが作製された。当該表示パネルにおいて、隔壁12の基準軸125は、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、画素電極161の基準軸165に対して25°回転されて配置されていた。すなわち、隔壁12と画素電極161とは、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線165に対して25°回転されて配置された関係にある、というように互いに対して配置されていた。<Example 2-5>
With respect to Example 2-1, the virtual reference axis 125 of the partition wall 12 is arranged so as to be rotated by 25 ° with respect to the longitudinal axis of the one substrate 11 in a plan view of the one substrate 11. The display panel was manufactured in the same process as specified. In the display panel, the reference axis 125 of the partition wall 12 is arranged by being rotated by 25 ° with respect to the reference axis 165 of the pixel electrode 161 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. It was. That is, the partition wall 12 and the pixel electrode 161 are either one of lines connecting corners facing each other in each cell partitioned by the partition wall 12 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. Are arranged relative to each other such that they are rotated by 25 ° with respect to a line 165 extending parallel to one of the edges of each pixel electrode 161.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。 The display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, but there was no unevenness due to the moire phenomenon.
各実施例及び各比較例の作成条件と評価結果について、図15に纏めて示す。 The creation conditions and evaluation results of each example and each comparative example are summarized in FIG.
図15に示された結果から分かるように、画素電極161のパターンが矩形の単位パターンを規則的に配列したマトリクス状のパターンであって、隔壁12のパターンが正六角形の単位パターンを規則的に配列したハニカムパターンである場合、隔壁12で区画された各セルにおける対向する角部を結ぶ線のいずれかが、各画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線に対して10°〜20°回転されて配置される時、モアレの発現は、実用上問題のない程度にまで抑制された。 As can be seen from the results shown in FIG. 15, the pattern of the pixel electrode 161 is a matrix pattern in which rectangular unit patterns are regularly arranged, and the pattern of the partition walls 12 is a regular hexagonal unit pattern. In the case of the arranged honeycomb pattern, any one of the lines connecting the opposing corners in each cell partitioned by the partition walls 12 is 10 ° to a line extending in parallel with any one of the edge portions of each pixel electrode 161. When it was rotated 20 °, the occurrence of moire was suppressed to an extent that there was no practical problem.
また、画素電極161のパターンが矩形の単位パターンを規則的に配列したマトリクス状のパターンであって、隔壁12が、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12の少なくとも一部の分岐点が正六角形の単位パターンを規則的に配列したハニカムパターンを基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっていない、というように形成されている場合、隔壁12と画素電極161とが、隔壁12の基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかが画素電極161の縁部のいずれかに平行に延びる線に対して5°〜25°回転されて配置された関係にある、というように互いに対して配置された時、モアレの発現は、実用上問題のない程度にまで抑制された。 Further, the pattern of the pixel electrode 161 is a matrix pattern in which rectangular unit patterns are regularly arranged, and the partition wall 12 is viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side, When the honeycomb pattern in which at least some branch points of the partition walls 12 are regularly arranged regular hexagonal unit patterns is used as a reference pattern, the branch pattern 12 exists within a predetermined distance from the branch point of the reference pattern, and When formed so as not to overlap with the branch point of the reference pattern, the partition wall 12 and the pixel electrode 161 are either of the lines connecting the opposing branch points in each unit pattern of the reference pattern of the partition wall 12. Are arranged with respect to each other such that they are arranged rotated by 5 ° to 25 ° with respect to a line extending parallel to one of the edges of the pixel electrode 161. As a result, the occurrence of moiré was suppressed to a level where there was no practical problem.
このように、隔壁12のパターンが正六角形の単位パターンを規則的に配列したハニカムパターンである場合と、隔壁12が、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、隔壁12の少なくとも一部の分岐点が正六角形の単位パターンを規則的に配列したハニカムパターンを基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっていない、というように形成されている場合と、を比較すると、後者の場合のほうが、モアレの発現を実用上問題のない程度にまで抑制し得る隔壁12の仮想の基準軸125と画素電極161の仮想の基準軸165との間の回転の角度の範囲が広範囲となった。 Thus, when the pattern of the partition wall 12 is a honeycomb pattern in which regular hexagonal unit patterns are regularly arranged, the partition wall 12 is viewed in a direction from one substrate 11 side to the other substrate 16 side. When the honeycomb pattern in which at least some branch points of the partition walls 12 are regularly arranged regular hexagonal unit patterns is used as the reference pattern, the branch pattern 12 exists within a predetermined distance from the branch point of the reference pattern, and Compared with the case where the branch point of the reference pattern does not overlap, the latter case can suppress the occurrence of moire to the extent that there is no practical problem. The range of the angle of rotation between the virtual reference axis 125 and the virtual reference axis 165 of the pixel electrode 161 is wide.
なお、隔壁12は、その一部が非周期的なパターン、すなわち画素電極161の周期的なパターンに対してモアレ現象を発生させないようなパターン、で形成されてもよい。隔壁12の非周期的なパターンの具体例としては、例えば、隔壁12によって区画された複数のセルの互いの形状が異なっている、という隔壁12のパターンが挙げられる。全てのセルについて互いの形状が異なっていてもよいし、一部のセルについてのみ互いの形状が異なっていてもよい。また、形状の変化の仕方については、周期性があってもよいし、周期性が無くてもよい。 Note that the partition wall 12 may be formed with a non-periodic pattern, that is, a pattern that does not cause a moire phenomenon with respect to the periodic pattern of the pixel electrode 161. As a specific example of the non-periodic pattern of the partition wall 12, for example, there is a pattern of the partition wall 12 in which a plurality of cells partitioned by the partition wall 12 have different shapes. The shape may be different for all the cells, or the shape may be different for only some of the cells. Moreover, about the method of a shape change, there may exist periodicity and it may not have periodicity.
<反射型表示装置の製造方法3−1>
図16乃至図23を参照して、本実施の形態による隔壁12のパターンの形成方法について説明する。本実施の形態においては、隔壁12のパターンは、一方の基板11から他方の基板16に向かう方向に見て、当該パターンに基づいて形成される隔壁12の少なくとも一部の分岐点が、同一形状の単位パターンを規則的に配列して基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重ならないように形成される。<Production Method 3-1 of Reflective Display Device>
With reference to FIG. 16 thru | or FIG. 23, the formation method of the pattern of the partition 12 by this Embodiment is demonstrated. In the present embodiment, when the pattern of the partition 12 is viewed in the direction from one substrate 11 to the other substrate 16, at least some of the branch points of the partition 12 formed based on the pattern have the same shape. When the unit pattern is regularly arranged as a reference pattern, the unit pattern is formed within a predetermined distance from the branch point of the reference pattern as a starting point, and does not overlap with the branch point of the reference pattern. The
なお、「単位パターン」とは、全体のパターンによって分割された個々の領域を囲む個々のパターンである。また、「基準パターン」とは、最終のパターンを形成する際に基準(基礎)とされるパターンであり、あるいは、その分岐点の位置が、本発明による反射型表示装置の隔壁のパターンの分岐点の位置との比較対象とされるパターンである。 The “unit pattern” is an individual pattern surrounding individual areas divided by the entire pattern. The “reference pattern” is a pattern used as a reference (basic) when forming the final pattern, or the position of the branch point is a branch of the partition pattern of the reflective display device according to the present invention. This is a pattern to be compared with the position of a point.
本実施の形態では、図16(a)に示すように、単位パターンは正六角形のパターンであり、基準パターンは、当該正六角形の単位パターンを規則的に配列してなるハニカム状のパターンである。 In the present embodiment, as shown in FIG. 16A, the unit pattern is a regular hexagonal pattern, and the reference pattern is a honeycomb-shaped pattern in which regular hexagonal unit patterns are regularly arranged. .
単位パターン及び基準パターンの形状としては、他の形状も採用可能である。例えば、図16(b)に示すように、単位パターンは、正方形のパターンであってもよく、この場合、基準パターンは、正方形のパターンを規則的に配列してなる正方格子状のパターンであってよい。また、単位パターンは、正六角形以外の六角形のパターンであってもよいし、正方形以外の矩形のパターンであってもよいし、他の多角形のパターンであってもよい。 Other shapes can be employed as the shape of the unit pattern and the reference pattern. For example, as shown in FIG. 16B, the unit pattern may be a square pattern. In this case, the reference pattern is a square lattice pattern in which square patterns are regularly arranged. It's okay. The unit pattern may be a hexagonal pattern other than a regular hexagon, a rectangular pattern other than a square, or another polygonal pattern.
しかし、当該単位パターン及び基準パターンに基づいて形成される隔壁12の各分岐点から延出される隔壁12の数が、3または4となるような単位パターン及び基準パターンを採用することが好ましい。なぜなら、1つの分岐点から延出される隔壁12の数が多いほど、後述する接着層形成工程において当該分岐点の隔壁12頂面上に接着材221が厚く盛られてしまう傾向にあり、厚く盛られた接着材221は、後述する対向基板配置工程において他方の基板16上を隔壁12の幅を大きく超えて拡がって、セルの開口率を低下させてしまうからである。 However, it is preferable to adopt a unit pattern and a reference pattern in which the number of partition walls 12 extending from each branch point of the partition walls 12 formed based on the unit pattern and the reference pattern is 3 or 4. This is because as the number of partition walls 12 extending from one branch point increases, the adhesive 221 tends to be thickened on the top surface of the partition wall 12 at the branch point, which will be described later. This is because the adhesive material 221 spreads over the other substrate 16 so as to greatly exceed the width of the partition wall 12 in the counter substrate disposing step described later, thereby reducing the cell aperture ratio.
例えば、ハニカムパターンに類似のパターンでは、隔壁12の各分岐点から延出する隔壁12の数は3であるし、格子パターンに類似のパターンでは、隔壁12の各分岐点から延出する隔壁12の数は4である。もっとも、両者が混合したようなパターンが採用されてもよく、その場合には、隔壁12の各分岐点から延出する隔壁12の数は、分岐点毎に異なる。 For example, in the pattern similar to the honeycomb pattern, the number of the partition walls 12 extending from each branch point of the partition wall 12 is 3, and in the pattern similar to the lattice pattern, the partition wall 12 extending from each branch point of the partition wall 12. Is four. However, a pattern in which both are mixed may be employed. In this case, the number of the partition walls 12 extending from each branch point of the partition wall 12 is different for each branch point.
本実施の形態では、基準パターンのピッチは、300μmである。ここで、「ピッチ」とは、隣接する単位パターンを重ねるべく移動させるのに必要な距離を意味している。 In the present embodiment, the pitch of the reference pattern is 300 μm. Here, “pitch” means a distance required to move adjacent unit patterns to overlap each other.
本実施の形態では、隔壁12のパターンは、前述の正六角形のハニカム状の基準パターンに一致するように仮形成される。次に、仮形成された隔壁12のパターン(以下「仮形成パターン」という。)の少なくとも一部の分岐点について、当該分岐点を起点として所定距離の範囲内で変位させて、最終の隔壁のパターンを形成する。本実施の形態では、仮形成パターンの全ての分岐点について、当該分岐点を起点として所定距離の範囲内でランダムに変位させる。 In the present embodiment, the pattern of the partition walls 12 is temporarily formed so as to match the regular hexagonal honeycomb-shaped reference pattern described above. Next, at least a part of branch points of the temporarily formed partition wall 12 pattern (hereinafter referred to as “temporarily formed pattern”) is displaced within a predetermined distance from the branch point as a starting point. Form a pattern. In the present embodiment, all the branch points of the temporarily formed pattern are randomly displaced within a predetermined distance from the branch point.
例えば、図16(a)の仮形成パターンの分岐点Kは、図17に示すように、前述の所定距離がR1の場合、中心がKかつ半径がR1の円であって、外縁がA1で示される円で囲まれる領域内において変位される。 For example, as shown in FIG. 17, the branch point K of the temporary formation pattern shown in FIG. 16A is a circle having a center K and a radius R1 when the predetermined distance is R1, and the outer edge is A1. It is displaced within the area enclosed by the circle shown.
分岐点Kが変位され得る範囲は、図17に示すように、前述の所定距離が大きいほど大きい。本実施の形態では、分岐点Kは分岐点Kを起点として所定距離の範囲内でランダムに変位されるため、当該所定距離が大きいほど、分岐点Kのランダムな変位の程度が大きい。したがって、以下では、当該所定距離を、分岐点Kのランダムな変位の程度、すなわちランダム度を表す指標として用いる。 As shown in FIG. 17, the range in which the branch point K can be displaced is larger as the predetermined distance is larger. In the present embodiment, the branch point K is randomly displaced within a predetermined distance range starting from the branch point K. Therefore, the greater the predetermined distance, the greater the degree of random displacement of the branch point K. Therefore, hereinafter, the predetermined distance is used as an index representing the degree of random displacement of the branch point K, that is, the degree of randomness.
図18を参照して、前述の所定距離の違いによる、仮形成パターンの変形の程度の違いを説明する。 With reference to FIG. 18, the difference in the degree of deformation of the temporary formation pattern due to the difference in the predetermined distance will be described.
図18(a)は、仮形成パターンの分岐点が図17に示す所定距離R1の範囲内でランダムに変位されることにより形成された最終の隔壁のパターンを示す図であり、図18(b)は、仮形成パターンの分岐点が図17に示すランダム度R1よりも大きいランダム度R2の範囲内でランダムに変位されることにより形成された最終の隔壁のパターンを示す図である。また、図18(c)は、仮形成パターンの分岐点が図17に示すランダム度R2よりも大きいランダム度R3の範囲内でランダムに変位されることにより形成された最終の隔壁のパターンを示す図であり、図18(d)は、仮形成パターンの分岐点が図17に示すランダム度R3よりも大きいランダム度R4の範囲内でランダムに変位されることにより形成された最終の隔壁のパターンを示す図である。 FIG. 18A is a diagram showing a final partition pattern formed by randomly displacing the branch point of the temporary formation pattern within the predetermined distance R1 shown in FIG. FIG. 18 is a diagram showing a pattern of a final partition formed by randomly displacing a branch point of the temporary formation pattern within a range of randomness R2 larger than randomness R1 shown in FIG. FIG. 18C shows a final partition pattern formed by randomly displacing a branch point of the temporary formation pattern within a range of randomness R3 larger than randomness R2 shown in FIG. FIG. 18D is a final partition pattern formed by randomly displacing the branch point of the temporary formation pattern within the range of the randomness R4 larger than the randomness R3 shown in FIG. FIG.
図18(a)乃至図18(d)から分かるように、ランダム度が大きいほど、得られる最終の隔壁のパターンと、図16(a)に示す周期的な基準パターンと、の違いが顕著になる。 As can be seen from FIGS. 18A to 18D, the larger the degree of randomness, the more the difference between the final partition pattern obtained and the periodic reference pattern shown in FIG. Become.
ここで、図19及び図20を参照して、モアレ現象の発現を効果的に抑制するための、分岐点Kの最低変位範囲について説明する。図19は、モアレ現象の発現のメカニズムを説明するための図である。本件発明者による知見によれば、モアレ現象は、周期的なパターンで隔壁12が形成されていることにより一方の基板11側から他方の基板16に向かう方向に見て、一方の基板11上に視認される隔壁12の周期的なパターン、あるいは、隔壁12が光透過率の高い材料で形成されている場合には一方の基板11に隔壁12が形成する周期的なパターンの高透光率部分、が存在することと、他方の基板16上に画素電極161が周期的なパターンで形成されていることにより、一方の基板11側から他方の基板16に向かう方向に見て、他方の基板16上に画素電極161が形成する周期的なパターンの高反射率部分が存在することと、により生じる。すなわち、一方の基板11の高透光率部分の周期的なパターンと他方の基板16の高反射率部分の周期的なパターンとが、異なる周期及び回転ズレを伴って重なり合うことにより、一方の基板11側から見て周期的な濃淡が発生し、これがモアレ現象の発現の原因となっていると考えられる。したがって、モアレ現象の発現を効果的に抑制するためには、このような周期的な濃淡の発生を抑制することができるように、隔壁12のパターンの周期性が崩されている必要がある。 Here, the minimum displacement range of the branch point K for effectively suppressing the occurrence of the moire phenomenon will be described with reference to FIGS. 19 and 20. FIG. 19 is a diagram for explaining the mechanism of the occurrence of the moire phenomenon. According to the knowledge of the present inventors, the moire phenomenon is caused on the one substrate 11 when viewed in the direction from the one substrate 11 side to the other substrate 16 because the partition walls 12 are formed in a periodic pattern. The periodic pattern of the partition wall 12 that is visually recognized, or the high transmittance portion of the periodic pattern that the partition wall 12 forms on one substrate 11 when the partition wall 12 is formed of a material having high light transmittance. , And the pixel electrode 161 is formed in a periodic pattern on the other substrate 16, so that the other substrate 16 is viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16. This is caused by the presence of the high reflectance portion of the periodic pattern formed by the pixel electrode 161 on the top. That is, the periodic pattern of the high transmissivity portion of one substrate 11 and the periodic pattern of the high reflectivity portion of the other substrate 16 overlap with each other with different periods and rotation deviations, so that one substrate As seen from the 11th side, periodic shading occurs, which is considered to be the cause of the occurrence of the moire phenomenon. Therefore, in order to effectively suppress the occurrence of the moire phenomenon, it is necessary that the periodicity of the pattern of the partition walls 12 be broken so that the occurrence of such periodic shading can be suppressed.
図20は、モアレ現象の発現を効果的に抑制するための隔壁12の平均的な最低変位範囲を説明するための図である。 FIG. 20 is a diagram for explaining an average minimum displacement range of the partition wall 12 for effectively suppressing the occurrence of the moire phenomenon.
まず、モアレ現象の発現を抑制する隔壁12の平均的な最低変位範囲を考えるために、隔壁12が互いに隣り合う画素電極161a及び161bの間の領域(画素電極間領域165)と重なり合う状態(図20(a)参照)から当該間隙と重なり合わない状態(図20(b)参照)まで変位させるために必要な、隔壁12の平均的な最低変位量について考える。具体的には、隔壁12の線幅を等分する隔壁中心線lwが、互いに隣り合う画素電極161a及び161bの間の画素電極間領域165の幅を等分する電極間中心線lsと一致するような位置(図20(a)参照)から、隔壁12の一方の画素電極161b側の縁部が他方の画素電極161aの画素電極間領域165側の縁部と一致するような位置(図20(b)参照)まで変位させることができるような、隔壁12の変位量について考える。 First, in order to consider the average minimum displacement range of the partition wall 12 that suppresses the occurrence of the moire phenomenon, the partition wall 12 overlaps the region between the adjacent pixel electrodes 161a and 161b (inter-pixel electrode region 165) (see FIG. The average minimum displacement amount of the partition wall 12 necessary for the displacement from the state (see FIG. 20 (a)) to the state where the gap does not overlap (see FIG. 20 (b)) will be considered. Specifically, the partition wall center line lw that equally divides the line width of the partition wall 12 coincides with the inter-electrode center line ls that equally divides the width of the inter-pixel electrode region 165 between the adjacent pixel electrodes 161a and 161b. From such a position (see FIG. 20A), the edge of the partition wall 12 on the one pixel electrode 161b side coincides with the edge of the other pixel electrode 161a on the inter-pixel electrode region 165 side (FIG. 20). Consider the amount of displacement of the partition wall 12 that can be displaced to (b).
隔壁12の線幅がWであり、画素電極間領域165の幅(互いに隣り合う画素電極161a及び161bの対向する縁部の距離)がSであるとすると、隔壁12の平均的な最低変位距離は、(W/2)+(S/2)である。 Assuming that the line width of the partition wall 12 is W and the width of the inter-pixel electrode region 165 (distance between the opposing edges of the pixel electrodes 161a and 161b adjacent to each other) is S, the average minimum displacement distance of the partition wall 12 Is (W / 2) + (S / 2).
仮形成パターンで形成される隔壁に対して変位量(W/2)+(S/2)で変位される隔壁12が存在するように最終の隔壁12のパターンが形成されれば、モアレ現象の発現を効果的に抑制することができる。したがって、少なくとも、仮形成パターンの分岐点のうち最も大きく変位された分岐点Kの変位によって当該分岐点Kを起点として延出される辺が変位量(W/2)+(S/2)だけ変位されるように、当該分岐点Kの変位範囲、すなわちランダム度を、決定すればよい。 If the pattern of the final partition wall 12 is formed such that the partition wall 12 is displaced by a displacement amount (W / 2) + (S / 2) with respect to the partition wall formed by the temporary formation pattern, the moire phenomenon is caused. Expression can be effectively suppressed. Therefore, at least the side extending from the branch point K as the starting point is displaced by the displacement amount (W / 2) + (S / 2) due to the displacement of the branch point K that has been displaced the largest among the branch points of the temporary formation pattern. As described above, the displacement range of the branch point K, that is, the randomness may be determined.
次に、図21乃至図23を参照して、ザラツキムラの発生を効果的に抑制するための、分岐点Kの最大変位範囲、すなわちランダム度について説明する。 Next, the maximum displacement range of the branch point K, that is, the degree of randomness, for effectively suppressing the occurrence of roughness unevenness will be described with reference to FIGS.
まず、図21を参照してザラツキムラの発生のメカニズムについて説明する。ザラツキムラは、表示媒体13の電気応答性材料の濃度がセルによって大きく異なることに起因して生じる。表示媒体13に含まれる電気応答性材料の粒径のバラツキが大きいと、表示媒体13のセルへの封入方法によっては、表示媒体13の電気応答性材料の濃度がセルによって大きく異なってしまうという現象が生じることがある。 First, with reference to FIG. 21, the mechanism of occurrence of rough unevenness will be described. The rough unevenness is caused by the fact that the concentration of the electrically responsive material of the display medium 13 varies greatly from cell to cell. If the variation in the particle size of the electrically responsive material contained in the display medium 13 is large, the concentration of the electrically responsive material in the display medium 13 varies greatly depending on the cell depending on the method of encapsulating the display medium 13 in the cell. May occur.
本実施の形態においては、セル内に気泡を発生させないように表示媒体13を当該セル内に封入するために、後述の表示媒体配置工程において、セルの容積を超える量の表示媒体13を一方の基板11上に配置し、後述の対向基板配置工程において、図21に示すように、基板11,16の一方の縁部から当該縁部に対向する他方の縁部に向けて(図21のセルAからセルBの方向に)セルから余剰の表示媒体13を追い出しながら、他方の基板16が、一方の基板11の隔壁12の頂面上にラミネートされて貼り合わされる。この時、セルAの余剰の表示媒体13がセルAとセルBとの間の隔壁12を乗り越えてセルBの方向へ流れるが、当該隔壁12の頂面と他方の基板16との距離がある程度以下になると、粒径の大きな電気応答性材料は当該隔壁12の頂面と他方の基板16との間を通過することができなくなってしまい、セルAからセルBに流れる表示媒体13の電気応答性材料の濃度は、平均的な電気応答性材料の濃度より低くなる。これにより、セルA内の表示媒体13の電気応答性材料の濃度が変化する。 In the present embodiment, in order to enclose the display medium 13 in the cell so as not to generate bubbles in the cell, in the display medium arrangement process described later, the display medium 13 having an amount exceeding the volume of the cell As shown in FIG. 21, the substrate 11 is placed on the substrate 11 and, as shown in FIG. 21, from the one edge of the substrates 11 and 16 toward the other edge facing the edge (the cell of FIG. 21). The other substrate 16 is laminated and bonded onto the top surface of the partition wall 12 of the one substrate 11 while expelling the excess display medium 13 from the cell (in the direction from A to the cell B). At this time, the surplus display medium 13 of the cell A passes over the partition wall 12 between the cell A and the cell B and flows in the direction of the cell B, but the distance between the top surface of the partition wall 12 and the other substrate 16 is somewhat. In the following, the electrically responsive material having a large particle size cannot pass between the top surface of the partition wall 12 and the other substrate 16, and the electrical response of the display medium 13 flowing from the cell A to the cell B. The concentration of the conductive material is lower than the average concentration of the electrically responsive material. Thereby, the density | concentration of the electroresponsive material of the display medium 13 in the cell A changes.
セルAにおける表示媒体13中の電気応答性材料の濃度変化は、セルAの容積、したがってセル面積が小さいほど大きい。また、セル間の表示媒体13の電気応答性材料の濃度の違いが大きいほど、セル間の反射率や色変化速度などの違いが大きい。 The change in concentration of the electrically responsive material in the display medium 13 in the cell A is larger as the volume of the cell A, and hence the cell area, is smaller. In addition, the greater the difference in the concentration of the electrically responsive material of the display medium 13 between cells, the greater the difference in reflectance, color change rate, etc. between cells.
以上より、セル面積のバラツキが大きい表示パネルでは、図22に示すようにセル毎の表示の濃淡のバラツキが大きくなってしまって、ザラツキムラが発生してしまうことがある。 As described above, in a display panel having a large variation in cell area, as shown in FIG. 22, the variation in shading of each cell may increase, resulting in unevenness in roughness.
本件の明細書及び特許請求の範囲においては、セル面積のバラツキの大きさは、図23を参照して、以下の式で表されるセル面積分布率により表される。
セル面積分布率(%)={(S2−S1)/Sa}×100
ここで、Saは、セル面積の最頻値であり、S1は、セル面積Saより小さく、セル面積Saを有するセルの数をNとした場合に、セル面積S1を有するセルの数がN/2となるようなセル面積であり、S2は、セル面積Saより大きく、セル面積S2を有するセルの数がN/2となるようなセル面積である。In the present specification and claims, the size of the variation in cell area is represented by a cell area distribution ratio represented by the following equation with reference to FIG.
Cell area distribution ratio (%) = {(S2-S1) / Sa} × 100
Here, Sa is the mode value of the cell area, S1 is smaller than the cell area Sa, and when the number of cells having the cell area Sa is N, the number of cells having the cell area S1 is N / S2 is a cell area that is larger than the cell area Sa and the number of cells having the cell area S2 is N / 2.
そして、セル面積分布率は、本実施の形態においては、仮形成パターンの分岐点Kの変位範囲、すなわちランダム度、に依存する。図18からも分かるように、例えばランダム度がR1の場合とランダム度がR4の場合とを比較すると、ランダム度がR4の場合の方がセル面積のバラツキが大きい。したがって、セル面積分布率は、ランダム度を制御することにより制御され得る。 In the present embodiment, the cell area distribution rate depends on the displacement range of the branch point K of the temporary formation pattern, that is, the randomness. As can be seen from FIG. 18, for example, when the randomness is R1 and the randomness is R4, the cell area variation is larger when the randomness is R4. Accordingly, the cell area distribution rate can be controlled by controlling the randomness.
ここで、本件発明者が得た知見によれば、セル面積分布率が38.4%未満であれば、ザラツキムラの発生が十分に抑制される。 Here, according to the knowledge obtained by the present inventors, when the cell area distribution rate is less than 38.4%, occurrence of rough unevenness is sufficiently suppressed.
最終の隔壁のパターンを形成した後、最終の隔壁12のパターンを構成する線を、隔壁12の線幅を等分する隔壁中心線lwとして、隔壁12の輪郭線を決定する。すなわち、図24に示すように、最終の隔壁のパターンの分岐点K'及びK1'を結ぶ隔壁中心線lw1 に平行な線であって隔壁中心線lw1 から一方の側にW/2(隔壁12の線幅の半分の距離)だけ離れた線lw1 aが、隔壁12の当該一方の側の輪郭線として決定される。同様に、最終の隔壁のパターンの分岐点K'及びK2'を結ぶ隔壁中心線lw2 に平行な線であって隔壁中心線lw2 から当該一方の側にW/2だけ離れた線lw2 aが、隔壁12の当該一方の輪郭線として決定される。そして、線lw1 aと線lw2 aとの交点K'aが、当該一方の側のセルの頂点として決定される。このようにして、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て、互いの形状が異なる複数のセルを区画する隔壁12の形状が決定される。図25及び図26は、本実施の形態の隔壁形成工程によって実際に形成された隔壁12を示す平面図である。After the final barrier rib pattern is formed, the contour lines of the barrier ribs 12 are determined with the lines constituting the final barrier rib 12 pattern as the barrier rib center line lw that equally divides the line width of the barrier ribs 12. That is, FIG. As shown in 24, the final barrier rib pattern of the branch point K 'and K1' a line parallel to the partition centerline lw 1 connecting to one side of the partition wall central line lw 1 and W / 2 ( A line lw 1 a separated by a distance half the line width of the partition wall 12 is determined as the contour line on the one side of the partition wall 12. Similarly, the final barrier rib pattern lines away from the partition wall center line lw 2 a line parallel to the partition wall central line lw 2 on one side of the just W / 2 connecting the branch point K 'and K2' of lw 2 a is determined as the one outline of the partition wall 12. Then, an intersection K′a between the line lw 1 a and the line lw 2 a is determined as the vertex of the cell on the one side. In this way, the shape of the partition wall 12 defining a plurality of cells having different shapes from each other when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side is determined. 25 and 26 are plan views showing the partition 12 actually formed by the partition formation step of the present embodiment.
セルの開口率は、70%以上が好ましく、特に90%以上が好ましい。高開口率であるほど、表示可能エリアが広くなるため、高コントラストを得ることができる。本実施の形態では、コントラストと隔壁12の強度の観点から、開口率は、80%〜98%の範囲内であることが好ましい。 The cell aperture ratio is preferably 70% or more, and particularly preferably 90% or more. The higher the aperture ratio, the wider the displayable area, so that high contrast can be obtained. In the present embodiment, the aperture ratio is preferably in the range of 80% to 98% from the viewpoint of contrast and the strength of the partition 12.
本実施の形態によれば、周期的なパターンで配列された複数の画素電極161に対して、隔壁12の少なくとも一部が非周期的なパターンで形成されていることにより、両者の重なり具合、すなわち、両者のアライメント精度に拘わらず、モアレ現象の発現を抑制することができる。 According to the present embodiment, at least a part of the partition wall 12 is formed in a non-periodic pattern with respect to the plurality of pixel electrodes 161 arranged in a periodic pattern. That is, the occurrence of the moire phenomenon can be suppressed regardless of the alignment accuracy between the two.
また、隔壁12と透光性電極11または一方の基板11上の他の要素または一方の基板11とは、互いに当接しており、隔壁12と画素電極161または他方の基板16上の他の要素または他方の基板16とも、互いに当接している場合において、モアレ現象の発現の抑制効果が顕著である。この場合、隔壁12の基板11,16等との当接面上を電気応答性材料が移動できないようになっているため、隔壁12のパターンの視認性が低減されることが無く、従来、モアレ現象の発現が実用上問題となってしまうことがあった。しかしながら、本実施の形態の反射型表示装置においては、当該隔壁12の基板11,16等と当接面上を電気応答性材料が移動できないようになっているものの、隔壁12の少なくとも一部が非周期的なパターン、すなわち画素電極161の周期的なパターンに対してモアレ現象の発現を抑制するようなパターン、で形成されているため、モアレ現象の発現が顕著に抑制される。 Further, the partition wall 12 and the translucent electrode 11 or the other element on one substrate 11 or the one substrate 11 are in contact with each other, and the partition wall 12 and the pixel electrode 161 or another element on the other substrate 16 are in contact with each other. Or when the other board | substrate 16 is mutually contact | abutting, the suppression effect of the expression of a moire phenomenon is remarkable. In this case, since the electrically responsive material cannot move on the contact surface of the partition wall 12 with the substrates 11, 16, etc., the visibility of the pattern of the partition wall 12 is not reduced. The occurrence of the phenomenon sometimes becomes a problem in practice. However, in the reflective display device according to the present embodiment, although the electrically responsive material cannot move on the contact surface with the substrates 11 and 16 of the partition wall 12, at least a part of the partition wall 12 is included. Since the non-periodic pattern, that is, the pattern that suppresses the occurrence of the moire phenomenon with respect to the periodic pattern of the pixel electrode 161 is formed, the occurrence of the moire phenomenon is remarkably suppressed.
また、隔壁12によって区画された複数のセルの開口率が、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て各画素電極161に対応する領域において、80%〜98%であるため、表示エリアが広くなって高コントラストを得ることができ、且つ、十分に高い隔壁12強度を確保し得る。 Further, the aperture ratio of the plurality of cells partitioned by the partition wall 12 is 80% to 98% in the region corresponding to each pixel electrode 161 when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. Therefore, the display area can be widened to obtain high contrast, and a sufficiently high partition 12 strength can be ensured.
また、隔壁12の各分岐点から延出する隔壁12の数が3である。したがって、1つの分岐点から延出する隔壁12の数が多過ぎて接着層形成工程において当該分岐点の隔壁頂面上に接着材22が厚く盛られてしまう虞が低減され、厚く盛られた接着材221が対向基板配置工程において他方の基板16上を隔壁12の幅を大きく超えて拡がってセルの開口率を低下させる、という虞も低減される。なお、本実施の形態の隔壁12のパターンのようにハニカムパターンに類似のパターンでは隔壁の各分岐点から延出する隔壁の数は3であるが、格子パターンに類似のパターンでは、隔壁の各分岐点から延出する隔壁の数は4である。この場合も、1つの分岐点から延出する隔壁12の数が多過ぎて接着層形成工程において当該分岐点の隔壁頂面上に接着材22が厚く盛られてしまう、という虞が低減されるため、当該厚く盛られた接着材221がセルの開口率を低下させる、という虞も低減される。もっとも、隔壁12のパターンとしては、ハニカムパターンに類似のパターンと格子パターンに類似のパターンとが混合したようなパターンが採用されてもよく、その場合には、隔壁の各分岐点から延出する隔壁の数は、分岐点毎に異なる。 The number of partition walls 12 extending from each branch point of the partition walls 12 is three. Accordingly, the number of the partition walls 12 extending from one branch point is too large, and the possibility that the adhesive 22 is thickly deposited on the top surface of the partition wall at the branch point in the adhesive layer forming step is reduced and thickened. The risk that the adhesive 221 spreads over the other substrate 16 so as to greatly exceed the width of the partition wall 12 in the counter substrate placement step and the cell aperture ratio is reduced is also reduced. In addition, in the pattern similar to the honeycomb pattern like the pattern of the partition wall 12 of the present embodiment, the number of partition walls extending from each branch point of the partition wall is 3, but in the pattern similar to the lattice pattern, each partition wall The number of partition walls extending from the branch point is four. Also in this case, the risk that the number of the partition walls 12 extending from one branch point is too large and the adhesive 22 is thickly deposited on the partition top surface of the branch point in the adhesive layer forming step is reduced. Therefore, the possibility that the thick adhesive material 221 reduces the aperture ratio of the cell is also reduced. However, as the pattern of the partition wall 12, a pattern in which a pattern similar to the honeycomb pattern and a pattern similar to the lattice pattern are mixed may be employed. In that case, the pattern extends from each branch point of the partition wall. The number of partition walls differs for each branch point.
また、一方の基板11から他方の基板16に向かう方向に見て、隔壁12の少なくとも一部の分岐点は、同一形状の単位パターンを規則的に配列して基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっていない。このような隔壁12のパターンは、少なくとも当該分岐点の近傍の領域において非周期的なパターンとなっている一方で、隔壁によって区画された複数のセルの開口率を所望に調整することが容易である。 Further, when viewed in the direction from one substrate 11 to the other substrate 16, at least a part of the branch points of the partition wall 12 is a reference pattern when unit patterns having the same shape are regularly arranged as a reference pattern. It exists within the range of a predetermined distance starting from this branch point and does not overlap with the branch point of the reference pattern. Such a pattern of the barrier ribs 12 is an aperiodic pattern at least in a region near the branch point, but it is easy to adjust the aperture ratios of a plurality of cells partitioned by the barrier ribs as desired. is there.
<反射型表示装置の製造方法3−2>
図27は、本発明の第3−2の実施の形態による反射型表示装置の製造方法における、一方の基板11から他方の基板16に向かう方向に見た隔壁12のパターンの形成方法を説明するための図である。<Production Method 3-2 of Reflective Display Device>
FIG. 27 illustrates a method of forming the pattern of the barrier ribs 12 as viewed from the one substrate 11 toward the other substrate 16 in the manufacturing method of the reflective display device according to the third to second embodiments of the present invention. FIG.
本実施の形態における反射型表示装置の製造方法は、第3−1の実施の形態による反射型表示装置の製造方法に対して、隔壁形成工程における一方の基板11から他方の基板16に向かう方向に見た隔壁12のパターンの形成方法が異なるのみであり、その他の工程は、略同一である。 The manufacturing method of the reflective display device in the present embodiment is a direction from one substrate 11 toward the other substrate 16 in the partition formation step, compared to the manufacturing method of the reflective display device according to the 3-1 embodiment. The method for forming the pattern of the partition walls 12 is different, and the other steps are substantially the same.
図27を参照して、本実施の形態の隔壁形成工程における一方の基板11から他方の基板16に向かう方向に見た隔壁12のパターンの形成方法について、説明する。 With reference to FIG. 27, a method of forming a pattern of the partition 12 viewed in the direction from one substrate 11 to the other substrate 16 in the partition formation step of the present embodiment will be described.
まず、図16に示すような同一形状の単位パターンが規則的に配列されてなる基準パターンが用意される。本実施の形態においては、基準パターンは、図16(a)に示す正六角形のハニカムパターンである。基準パターンのピッチは、300μmである。 First, a reference pattern in which unit patterns having the same shape as shown in FIG. 16 are regularly arranged is prepared. In the present embodiment, the reference pattern is a regular hexagonal honeycomb pattern shown in FIG. The pitch of the reference pattern is 300 μm.
次に、基準パターンに対応するピッチ、すなわち300μmのピッチを有する格子パターンが用意される。本実施の形態では、当該格子パターンは、正方格子パターンである。次に、当該正方格子パターンの各格子点と、基準パターンの各分岐点K,K1,K2,・・,K6と、を関連づける。そして、正方格子パターンの各行ないし各列を当該行の方向ないし列の方向に拡大ないし縮小させることにより当該正方格子パターンの格子点を移動させると共に、当該格子点の移動に対応させて当該格子点に関連づけられた各分岐点K,K1,K2,・・,K6をも移動させる。図27は、正方格子パターンの各格子点の移動に対応させて移動された基準パターンの分岐点K,K1,K2,・・,K6の移動後の位置を示す図である。 Next, a lattice pattern having a pitch corresponding to the reference pattern, that is, a pitch of 300 μm is prepared. In the present embodiment, the lattice pattern is a square lattice pattern. Next, each lattice point of the square lattice pattern is associated with each branch point K, K1, K2,. The grid points of the square grid pattern are moved by enlarging or reducing each row or column of the square grid pattern in the direction of the row or column, and the grid points corresponding to the movement of the grid points The branch points K, K1, K2,..., K6 associated with are also moved. FIG. 27 is a diagram showing the positions after movement of the branch points K, K1, K2,..., K6 of the reference pattern moved in correspondence with the movement of each lattice point of the square lattice pattern.
本実施の形態では、正方格子パターンの図27のx軸方向(行方向)の拡大ないし縮小は、所定距離の範囲内においてランダムになされる。同様に、正方格子パターンの図27のy軸方向(列方向)の拡大ないし縮小も、所定距離の範囲内においてランダムになされる。本実施の形態では、正方格子パターンの行方向及び列方向の拡大ないし縮小による各格子線の最大変位を50μmとする。 In the present embodiment, the square lattice pattern is randomly expanded or reduced in the x-axis direction (row direction) in FIG. 27 within a predetermined distance. Similarly, enlargement or reduction of the square lattice pattern in the y-axis direction (column direction) in FIG. 27 is also randomly performed within a predetermined distance. In the present embodiment, the maximum displacement of each lattice line due to enlargement or reduction in the row direction and column direction of the square lattice pattern is set to 50 μm.
次に、このようにして行方向ないし列方向に拡大ないし縮小された正方格子パターンの格子点の移動に対応させて、基準パターンの各分岐点K,K1,K2,・・,K6が移動され、各分岐点K,K1,K2,・・,K6の移動後の位置が、隔壁12の分岐点K',K1',K2',・・,K6'の位置として決定される。 Next, the branch points K, K1, K2,..., K6 of the reference pattern are moved in correspondence with the movement of the lattice points of the square lattice pattern expanded or reduced in the row direction or the column direction in this way. The positions after the movement of the respective branch points K, K1, K2,..., K6 are determined as the positions of the branch points K ′, K1 ′, K2 ′,.
例えば、図27に示すように、図16(a)の分岐点K6が格子点p43及びp53に関連付けられ、格子点p43及びp53の変位後の位置ベクトルがそれぞれ(x3 ,y4 )及び(x3 ,y5 )である場合、当該分岐点K6は、当該分岐点K6の変位後の点の位置ベクトル、すなわち図27の点K6'の位置ベクトルが(x3,ya )となるように変位される。ここで、ya は、
(y5 −ya ):(ya −y4 )=√3:1を満たす値である。For example, as shown in FIG. 27, the branch point K6 shown in FIG. 16 (a) is associated with the grid point p 43 and p 53, the position vector after displacement of the grid points p 43 and p 53 each (x 3, y 4 ) and (x 3 , y 5 ), the branch point K6 has the position vector of the point after displacement of the branch point K6, that is, the position vector of the point K6 ′ in FIG. 27 is (x 3 , y a ). Where ya is
It is a value satisfying (y 5 −y a ) :( y a −y 4 ) = √3: 1.
また、図16(a)の分岐点K2が格子点p52及びp53に関連付けられ、格子点p52の変位後の位置ベクトルがそれぞれ(x2 ,y5 )及び(x3 ,y5 )である場合、当該分岐点K2は、当該分岐点K2の変位後の点の位置ベクトル、すなわち図27の点K2'の位置ベクトルが((x2 +x3 )/2,yb )となるように変位される。ここで、yb は、
(y5 −yb ):(yb −y4 )=1:2を満たす値である。Further, the branch point K2 in FIG. 16A is associated with the lattice points p 52 and p 53 , and the position vectors after displacement of the lattice point p 52 are (x 2 , y 5 ) and (x 3 , y 5 ), respectively. , The branch point K2 is such that the position vector of the point after displacement of the branch point K2, that is, the position vector of the point K2 ′ in FIG. 27 is ((x 2 + x 3 ) / 2, y b ). Is displaced. Where y b is
(Y 5 −y b ) :( y b −y 4 ) = 1: 2 is satisfied.
次に、隔壁12の各分岐点K',K1',K2',・・,K6'の位置として決定された位置を隔壁12の分岐点K',K1',K2',・・,K6'の位置として、隔壁12の各分岐点K',K1',K2',・・,K6'から延出する複数の分岐延出部122を有する分岐パターン部121を位置決めし、分岐パターン部121の分岐延出部122の端部123の間に接続部124を位置決めする。 Next, the positions determined as the positions of the branch points K ′, K1 ′, K2 ′,..., K6 ′ of the partition wall 12 are the branch points K ′, K1 ′, K2 ′,. , A branch pattern portion 121 having a plurality of branch extension portions 122 extending from the respective branch points K ′, K1 ′, K2 ′,..., K6 ′ of the partition wall 12 is positioned. The connecting portion 124 is positioned between the end portions 123 of the branch extending portion 122.
このようにして形成された隔壁12のパターンは、画素電極161の周期的なパターンに対してモアレ現象を発生させる虞が低い。 The pattern of the partition wall 12 formed in this way is less likely to cause a moire phenomenon with respect to the periodic pattern of the pixel electrode 161.
<反射型表示装置の製造方法3−3>
本実施の形態における反射型表示装置に製造方法は、第3−1及び第3−2の実施の形態による反射型表示装置の製造方法に対して、隔壁形成工程における一方の基板11から他方の基板16に向かう方向に見た隔壁12の形状の決定方法が異なるのみであり、その他の工程は、略同一である。<Method for Manufacturing Reflective Display Device 3-3>
The manufacturing method of the reflective display device in the present embodiment is different from the manufacturing method of the reflective display device according to the 3-1 and 3-2 embodiments from the one substrate 11 to the other in the partition forming step. The only difference is the method of determining the shape of the partition wall 12 as viewed in the direction toward the substrate 16, and the other steps are substantially the same.
本実施の形態の隔壁形成工程における一方の基板11から他方の基板16に向かう方向に見た隔壁12の形状の決定方法について、説明する。 A method for determining the shape of the partition 12 viewed in the direction from one substrate 11 to the other substrate 16 in the partition formation step of the present embodiment will be described.
まず、図16に示すような同一形状の単位パターンが規則的に配列されてなる基準パターンを用意する。本実施の形態においては、基準パターンは、図16(a)に示す正六角形のハニカムパターンである。基準パターンのピッチは、300μmである。 First, a reference pattern in which unit patterns having the same shape as shown in FIG. 16 are regularly arranged is prepared. In the present embodiment, the reference pattern is a regular hexagonal honeycomb pattern shown in FIG. The pitch of the reference pattern is 300 μm.
次に、基準パターンに対応するピッチ、すなわち300μmのピッチを有する格子パターンを用意する。本実施の形態では、当該格子パターンは、正方格子パターンである。次に、当該正方格子パターンの各格子点と、基準パターンの各分岐点と、を関連づける。そして、正方格子パターンの各行ないし各列を当該行の方向ないし列の方向に拡大ないし縮小させることにより当該正方格子パターンの格子点を移動させると共に、当該格子点の移動に対応させて当該格子点に関連づけられた各分岐点をも移動させて、図27に示すような第2基準パターンを形成する。 Next, a lattice pattern having a pitch corresponding to the reference pattern, that is, a pitch of 300 μm is prepared. In the present embodiment, the lattice pattern is a square lattice pattern. Next, each lattice point of the square lattice pattern is associated with each branch point of the reference pattern. The grid points of the square grid pattern are moved by enlarging or reducing each row or column of the square grid pattern in the direction of the row or column, and the grid points corresponding to the movement of the grid points Each branch point associated with is also moved to form a second reference pattern as shown in FIG.
次に、当該第2基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲Rmax 内に隔壁12の分岐点K',K1',K2',・・,K6'を位置決めする。Next, the branch points K ′, K1 ′, K2 ′,..., K6 ′ of the partition wall 12 are positioned within a predetermined distance range Rmax starting from the branch point of the second reference pattern.
次に、このようにして位置決めされた隔壁12の分岐点K',K1',K2',・・,K6'に、当該分岐点K',K1',K2',・・,K6'から延出する複数の分岐延出部122を有する分岐パターン部121を位置決めし、分岐パターン部121の分岐延出部122の端部123の間に接続部124を位置決めする。 Next, the branch points K ′, K1 ′, K2 ′,..., K6 ′ of the partition wall 12 thus positioned are extended from the branch points K ′, K1 ′, K2 ′,. The branch pattern part 121 having a plurality of branch extension parts 122 to be output is positioned, and the connection part 124 is positioned between the end parts 123 of the branch extension part 122 of the branch pattern part 121.
このようにして形成された隔壁12のパターンは、画素電極161の周期的なパターンに対してモアレ現象を発生させる虞が低い。
次に、実際に行われた実施例について説明する。The pattern of the partition wall 12 formed in this way is less likely to cause a moire phenomenon with respect to the periodic pattern of the pixel electrode 161.
Next, practical examples actually performed will be described.
<反射型表示装置の実施例>
<実施例3−1>
一方の基板11として、300mm×400mm×厚さ0.1mmのPET基板(東洋紡A4100)の一方の面に透光性電極111として酸化インジウムスズ(ITO)蒸着膜(厚さ0.2μm)が設けられた基板が用意された。透光性電極111は、スパッタリング、真空蒸着法、CVD法などの一般的な成膜方法によって形成され、酸化インジウムスズ(ITO)の他に、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等によっても形成され得る。<Example of Reflective Display Device>
<Example 3-1>
As one substrate 11, an indium tin oxide (ITO) vapor deposition film (thickness 0.2 μm) is provided as a translucent electrode 111 on one surface of a 300 mm × 400 mm × 0.1 mm thick PET substrate (Toyobo A4100). A prepared substrate was prepared. The translucent electrode 111 is formed by a general film forming method such as sputtering, vacuum evaporation, or CVD, and in addition to indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), or the like. Can also be formed.
次に、当該一方の基板11に、ネガ型感光性樹脂材料(デュポンMRCドライフィルムレジスト(株)製のドライフィルムレジスト)を20μmの厚さにラミネートして100℃、1分間の条件で加熱し、次いで露光マスクを使用して露光(露光量500mJ/cm2 )し、その後、1%KOH水溶液を用いた現像を30秒行い、200℃、60分間の条件で焼成することで、線幅が20μmの隔壁12が形成された。隔壁12のパターンは、正六角形のハニカムパターン(ピッチ300μm)を基準パターンとして仮形成された仮形成パターンの全ての分岐点についてランダムに変位させることにより、図18(b)に示すパターンのように形成された。隔壁12頂面の幅は、20μmであった。隔壁12によって区画されたセルの、平均的なセルの直径は300μmであり、セル面積分布率は26.8%であった。ここで、セルの直径は、隣り合うセル間におけるセル中心間の距離として定義される。また、各セルのセル中心の位置は、当該セルが六角形であれば、当該セルの6つの頂点の座標を平均することにより求められる。 Next, a negative photosensitive resin material (a dry film resist manufactured by DuPont MRC Dry Film Resist Co., Ltd.) is laminated on the one substrate 11 to a thickness of 20 μm and heated at 100 ° C. for 1 minute. Then, exposure is performed using an exposure mask (exposure amount: 500 mJ / cm 2), and thereafter development using a 1% KOH aqueous solution is performed for 30 seconds, followed by baking under the conditions of 200 ° C. and 60 minutes. The partition wall 12 was formed. The pattern of the partition walls 12 is like the pattern shown in FIG. 18B by randomly displacing all branch points of the temporarily formed pattern that is temporarily formed using a regular hexagonal honeycomb pattern (pitch 300 μm) as a reference pattern. Been formed. The width of the top surface of the partition wall 12 was 20 μm. The average cell diameter of the cells partitioned by the partition walls 12 was 300 μm, and the cell area distribution ratio was 26.8%. Here, the diameter of a cell is defined as the distance between cell centers between adjacent cells. In addition, if the cell is a hexagon, the position of the cell center of each cell can be obtained by averaging the coordinates of the six vertices of the cell.
そして、転写フィルム基材21として厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム21(帝人・デュポン社製)が用いられ、これにヒートシール剤221(東洋紡製バイロン630)が厚さ20μmでダイコータにて塗布され、乾燥された。これにより、10μmの接着層を有するロール状の転写シート20が作製された。なお、ヒートシール剤221の軟化温度は約110℃であった。 A polyethylene terephthalate (PET) film 21 (manufactured by Teijin DuPont) having a thickness of 50 μm is used as the transfer film substrate 21, and a heat sealant 221 (Byron 630 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 20 μm is used with a die coater. Applied and dried. Thereby, a roll-shaped transfer sheet 20 having a 10 μm adhesive layer was produced. The softening temperature of the heat sealant 221 was about 110 ° C.
そして、転写シート20の上に、一方の基板11が、その隔壁12が形成されている側の面を下にした状態で載せられ、この状態で、1kPa程度の押圧力で常温でラミネートされた。その後、ヒートシール剤221の周辺がその軟化温度を超える温度、例えば130℃程度にまで加熱され、その状態で一方の基板11が、転写フィルム20から剥離された。その結果、ヒートシール剤221が隔壁12の頂面の全面に熱転写された。隔壁12の頂面からヒートシール剤221の頭頂部までの高さは、約7μmであった。 Then, one substrate 11 was placed on the transfer sheet 20 with the surface on which the partition wall 12 was formed facing down, and was laminated at room temperature with a pressing force of about 1 kPa in this state. . Thereafter, the periphery of the heat sealant 221 was heated to a temperature exceeding its softening temperature, for example, about 130 ° C., and one substrate 11 was peeled from the transfer film 20 in that state. As a result, the heat sealant 221 was thermally transferred to the entire top surface of the partition wall 12. The height from the top surface of the partition 12 to the top of the heat sealant 221 was about 7 μm.
続いて、表示媒体として、以下の成分を有するインキ13が用いられ、ディスペンサ31から滴下されて、中央スキージ32(ニューロング製のスキージ1:ウレタン樹脂製)にてスキージ処理されて、各セル内に充填された。基板幅方向にはみ出した余剰インキは、別の両端スキージ33a、33b(ニューロング製のスキージ2:ウレタン樹脂製)にて掻き取られ、さらにロールワイパ34にて拭き取られた。
<インキ成分>
・電気泳動粒子(二酸化チタン)・・・60重量部
・分散液 ・・・40重量部Subsequently, an ink 13 having the following components is used as a display medium, dropped from the dispenser 31, and squeezed with a central squeegee 32 (Neurong squeegee 1: made of urethane resin), and then in each cell. Filled. Excess ink that protruded in the substrate width direction was scraped off by another squeegee 33a, 33b (Nelogue Squeegee 2: made of urethane resin), and further wiped off by a roll wiper 34.
<Ink component>
・ Electrophoretic particles (titanium dioxide): 60 parts by weight ・ Dispersion liquid: 40 parts by weight
続いて、隔壁パターン外周の一部(2mm×2mmの正方形領域)に、銀ペースト(藤倉化成製)がディスペンサ41によって点塗布された。 Subsequently, a silver paste (manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) was spot-coated by a dispenser 41 on a part of the outer periphery of the partition wall pattern (2 mm × 2 mm square region).
次いで、他方の基板16として、300mm×400mm×厚さ0.5mmの無アルカリガラス(日本電気硝子製OA−10G)の一方の面に、200μm×200μmの正方形電極が600個×800個、行列方向に整列されて成るアモルファスTFTアクティブマトリックスが設けられた基板が用意された。アモルファスTFTアクティブマトリックスは、液晶ディスプレイなどで一般的に用いられているものであり、正方形電極の材質は、アルミニウム合金であった。 Next, 600 × 800 square electrodes of 200 μm × 200 μm are formed on one surface of non-alkali glass (OA-10G manufactured by Nippon Electric Glass) as the other substrate 16 in a matrix of 300 mm × 400 mm × thickness 0.5 mm. A substrate provided with an amorphous TFT active matrix arranged in a direction was prepared. The amorphous TFT active matrix is generally used in a liquid crystal display or the like, and the material of the square electrode is an aluminum alloy.
そして、大気中にて、一方の基板11の隔壁12上の接着層22の上に他方の基板16を重ね合わせて、ラミネータ91で一定の熱圧着圧力をさらに付与しつつ、隔壁12内のセル容積を超える余剰のインクを押し出しながら、一方の基板11の隔壁12と他方の基板16とが密着された。 Then, in the atmosphere, the other substrate 16 is overlaid on the adhesive layer 22 on the partition wall 12 of one substrate 11, and a certain thermocompression pressure is further applied by the laminator 91, while the cells in the partition wall 12 are placed. The partition 12 of one substrate 11 and the other substrate 16 were brought into close contact with each other while extruding excess ink exceeding the volume.
熱圧着時の温度は、ヒートシール剤221の軟化点または融点付近の温度であって、インクの蒸発が促進しない温度が好ましく、80℃〜150℃、好ましくは80℃〜90℃であり、本実施例では80℃であった。また、熱圧着圧力は、0.01MPa〜0.7MPaが好ましく、特には0.1MPa〜0.4MPaが好ましく、本実施例では0.3MPaであった。 The temperature at the time of thermocompression bonding is a temperature in the vicinity of the softening point or melting point of the heat sealant 221, and is preferably a temperature at which the evaporation of ink is not accelerated, and is 80 ° C to 150 ° C, preferably 80 ° C to 90 ° C. In the examples, the temperature was 80 ° C. The thermocompression bonding pressure is preferably 0.01 MPa to 0.7 MPa, particularly preferably 0.1 MPa to 0.4 MPa, and 0.3 MPa in this example.
その後、断裁装置51によって所定のサイズに断裁され、両方の基板11,16の周辺にディスペンサ(不図示)を用いて紫外線硬化樹脂(イー・エッチ・シー(株)製:LCB−610)を塗工して封止し、紫外線を露光(露光量700mJ/cm2 )して硬化させた(外周封止処理)。以上により表示パネルが作製された。Thereafter, the sheet is cut into a predetermined size by the cutting device 51, and a UV curable resin (LCB-610, manufactured by E-Heat Sea Co., Ltd.) is applied to the periphery of both substrates 11 and 16 using a dispenser (not shown). Then, it was cured by exposure to ultraviolet rays (exposure amount 700 mJ / cm 2 ) (peripheral sealing treatment). Thus, a display panel was produced.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなく、セル間の粒子濃度も一様でありザラツキムラはなかった。 The display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, but there was no unevenness due to the moire phenomenon, the particle concentration between the cells was uniform, and there was no roughness unevenness.
<比較例3−1>
前記実施例3−1に対して、隔壁12のパターンを正六角形の単位パターンを規則的に配列してなるハニカム状のパターン(ピッチ300μm)とし、その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。<Comparative Example 3-1>
A display panel was fabricated in the same process as in Example 3-1, except that the pattern of the partition walls 12 was a honeycomb pattern (pitch 300 μm) in which regular hexagonal unit patterns were regularly arranged.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したところ、モアレ現象によるムラが発生した。 When the display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, unevenness due to the moire phenomenon occurred.
<実施例3−2>
前記実施例3−1に対して、隔壁12のパターンを、正方形の単位パターンを規則的に配列してなる正方格子状の基準パターン(ピッチ300μm)に基づいて仮形成し、当該仮形成されたパターンの全ての分岐点についてランダムに変位させることにより図28に示すパターンとし、その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。<Example 3-2>
With respect to Example 3-1, the pattern of the partition wall 12 was temporarily formed based on a square lattice-shaped reference pattern (pitch 300 μm) formed by regularly arranging square unit patterns, and the temporary formation was performed. A display panel was manufactured in the same process as shown in FIG. 28 by randomly displacing all branch points of the pattern.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。 The display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, but there was no unevenness due to the moire phenomenon.
<比較例3−2>
前記実施例3−2に対して、隔壁12のパターンを、図29に示す正方形の単位パターンを規則的に配列してなる正方格子状のパターン(ピッチ300μm)とし、その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。<Comparative Example 3-2>
Compared to Example 3-2 above, the pattern of the partition walls 12 is a square lattice pattern (pitch 300 μm) formed by regularly arranging square unit patterns shown in FIG. A panel was produced.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したところ、モアレ現象によるムラが発生した。 When the display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, unevenness due to the moire phenomenon occurred.
<比較例3−3>
前記実施例3−1に対して、隔壁12のパターンを、図30に示すペンローズパターン(辺の長さ100μm)とし、その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。<Comparative Example 3-3>
With respect to Example 3-1, the pattern of the partition wall 12 was changed to the Penrose pattern (side length 100 μm) shown in FIG.
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したところ、モアレ現象によるムラが発生した。また、隔壁12の分岐点から延出される隔壁12の数が5以上の分岐点付近において、隔壁12上に形成された接着層22が他方の基板16上を当該隔壁12の幅を大きく超えて拡がっており、セルの開口率を低下させていた。 When the display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, unevenness due to the moire phenomenon occurred. Further, in the vicinity of the branch point where the number of the partition walls 12 extending from the branch point of the partition wall 12 is 5 or more, the adhesive layer 22 formed on the partition wall 12 greatly exceeds the width of the partition wall 12 on the other substrate 16. It spreads, reducing the aperture ratio of the cell.
11 一方の基板
111 透光性電極
12 隔壁
125 隔壁の基準軸
13 インキ(表示媒体)
16 他方の基板
161 画素電極
165 画素電極の基準軸
22 接着層
221 ヒートシール剤
31 ディスペンサ
32 アプリケータ
51 断裁装置
91 ラミネータ11 One substrate 111 Translucent electrode 12 Partition 125 Reference axis 13 of partition wall Ink (display medium)
16 Other substrate 161 Pixel electrode 165 Pixel electrode reference axis 22 Adhesive layer 221 Heat seal agent 31 Dispenser 32 Applicator 51 Cutting device 91 Laminator
Claims (1)
一方の基板が透光性を有しており、
前記一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、
前記画素電極のパターンは、矩形の単位パターンを規則的に配列したパターンであり、
前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記隔壁の少なくとも一部の分岐点は、正六角形の単位パターンを規則的に配列して基準パターンとした時、当該基準パターンの分岐点を起点として所定距離の範囲内に存在し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重なっておらず、
前記所定距離の範囲とは、前記基準パターンの各分岐点を起点として、当該分岐点から延出される辺の長さの半分以下の距離の範囲であり、
前記隔壁と前記画素電極とは、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記隔壁の前記基準パターンの各単位パターンにおける対向する分岐点を結ぶ線のいずれかが前記画素電極の縁部のいずれかに平行に延びる線に対して5°〜25°回転されて配置された関係にある
ことを特徴とする反射型表示装置。 Desirable when a display medium containing at least one or more kinds of electrically responsive materials is sealed between two opposing substrates on which electrodes are formed, and a predetermined electric field is applied between the two substrates. A reflective display device that displays
One substrate has translucency,
Between the one substrate and the other substrate, a common translucent electrode covering at least a display region, a partition partitioning a plurality of cells, and a plurality of pixel electrodes arranged in a periodic pattern, Provided in that order as viewed from the one substrate side toward the other substrate side,
The pattern of the pixel electrode is a pattern in which rectangular unit patterns are regularly arranged.
When viewed from the side of the one substrate toward the side of the other substrate, at least some of the branch points of the partition walls are arranged when regular hexagonal unit patterns are regularly arranged as a reference pattern. It exists within a predetermined distance starting from the branch point of the reference pattern, and does not overlap with the branch point of the reference pattern,
The range of the predetermined distance is a range of distances equal to or less than half the length of the side extending from the branch point starting from each branch point of the reference pattern,
The partition wall and the pixel electrode are any one of lines connecting opposing branch points in each unit pattern of the reference pattern of the partition wall when viewed from the one substrate side toward the other substrate side. Is in a relationship of being rotated and arranged by 5 ° to 25 ° with respect to a line extending in parallel with one of the edge portions of the pixel electrode.
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