JP5786295B2 - 核酸等温増幅反応用マイクロチップ及びその製造方法並びに核酸等温増幅方法 - Google Patents
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Description
この核酸増幅反応用マイクロチップでは、反応に必要な物質の少なくとも一部を被覆する前記薄膜上に、反応に必要な他の物質の少なくとも一部が固着されて存在することが好適となる。
この核酸等温増幅反応用マイクロチップにおいて、前記反応領域内に存在する物質は、オリゴヌクレオチドプライマー及び酵素、核酸モノマーから選択される一以上とすることができる。
この核酸等温増幅反応用マイクロチップでは、予め反応領域内に収容された物質を被覆する薄膜を、残りの物質と標的核酸鎖を含むサンプル溶液を反応領域内に供給した後に加熱融解させることによって、任意のタイミングで反応を開始できる。
また、核酸等温増幅反応用マイクロチップでは、酵素を被覆する前記薄膜上に、オリゴヌクレオチドプライマーが固着されて存在することが好適となる。
この核酸等温増幅反応用マイクロチップにおいて、前記薄膜は、ステアリン酸又はパラフィンワックスの材料の蒸着によって形成することが好適となる。
また、この核酸等温増幅反応用マイクロチップは、外部から液体が導入される導入口と、複数の前記反応領域と、導入口から導入される液体を各反応領域内に供給する流路と、が配設されることが好適となる。
1.核酸増幅反応用マイクロチップと核酸等温増幅方法
2.核酸増幅反応用マイクロチップの製造方法
(2−1)基板層a1の成形
(2−2)ウェルへの物質の収容
(2−3)薄膜による被覆
(2−4)基板層a1,a2の表面活性化と貼り合せ
3.本実施形態の変形例に係る核酸増幅反応用マイクロチップ及びその製造方法
[核酸等温増幅反応用マイクロチップ]
本発明に係る核酸等温増幅反応用マイクロチップ(以下、単に「マイクロチップ」とも称する)の上面模式図を図1に、断面模式図を図2に示す。図2は、図1中P−P断面に対応する。
各材料の融点は、ステアリン酸69℃、パラミチン酸63℃、ミリスチン酸54℃、ヘベニルアルコール65〜73℃、アガロース65℃、パラフィンワックス40〜70℃、マイクロクリスタリンワックス60〜90℃、ゼラチン40〜50℃である。
各材料の融点は、カルナバワックス80〜86℃、キャンデリラワックス66〜71℃、木蝋50〜56℃であり、植物性硬化油脂には融点が48〜70℃のものが多くある。
次に、マイクロチップAを用いた核酸等温増幅方法について説明する。
続いて、図4に示すフローチャートを参照して、本発明に係るマイクロチップの製造方法を説明する。以下、上述のマイクロチップAを例に説明する。
図4中、符号S1は、基板層a1の成形工程である。本工程では、基板層a1に、導入口1、主流路2、分岐流路3、ウェル41,42,43及び排出口5を成形する。基板層a1への導入口1等の成形は、例えば、ガラス製基板層のウェットエッチングやドライエッチングによって、あるいはプラスチック製基板層のナノインプリントや射出成型、切削加工によって行うことができる。
符号S2は、反応に必要な物質をウェル内へ収容する工程である。本工程では、ウェル41,42,43内にそれぞれプライマーP1,P2,P3の溶液を滴下し乾燥させることにより、プライマーをウェル内に収容する。既に説明したように、ウェル内に収容する物質は、オリゴヌクレオチドプライマーに限定されず、dNTP、酵素、バッファー溶質などであってもよい。
符号S3は、ウェル内に収容した物質を薄膜6により被覆する工程である。
符号S4は、基板層a1,a2表面の活性化工程である。また、符号S5は、基板層a1,a2の貼り合せ工程である。
次に、上述した本実施形態の変形例に係る核酸増幅反応用マイクロチップ及びその製造方法について説明する。なお、本変形例において、本実施形態と実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
本変形例に係るマイクロチップA2(図示せず)に設けられる、導入口1、主流路2、分岐流路3、ウェル41、42、43、排出口5、及び薄膜6は、上述した本実施形態に係るマイクロチップAと同一の機能構成を有するものである。本変形例に係るマイクロチップA2において、反応に必要な物質の少なくとも一部が被覆された薄膜上に、反応に必要な他の物質の少なくとも一部が固着されている点以外は、本実施形態に係るマイクロチップAと実質的に同一である。そのため、ここでは、ウェル内において反応に必要な物質の少なくとも一部が被覆された薄膜上に、反応に必要な他の物質の少なくとも一部が固着されている点についてのみ説明する。
本変形例に係るマイクロチップA2を用いた核酸等温増幅方法は、反応に必要な物質の少なくとも一部が被覆された薄膜上に、反応に必要な他の物質の少なくとも一部が固着されている点以外は、本実施形態に係る核酸等温増幅方法と実質的に同一である。
次に、図6に示すフローチャートを参照して、本変形例に係るマイクロチップの製造方法を説明する。以下、上述のマイクロチップA2を例に説明する。ただし、符号S1、S3、S4、S5における工程は、本実施形態に係る核酸増幅反応用マイクロチップAの製造方法と実質的に同一である。そのため、ここでは、符合S6、S7における工程についてのみ説明する。
1.核酸等温増幅反応用マイクロチップの作製
(1)プライマーの固着化
鋳型核酸鎖に対して、「表1」に示す6種のLAMP用プライマーを設計した。PDMS製基板に形成したウェル内にプライマー溶液を0.5μl滴下し、真空乾燥(室温、0.1Pa、5分)によりウェル内に固着させた。
タングステン製の蒸着ボートにステアリン酸をのせ、熱電ヒーターを接続し、真空蒸着槽内に配置した。ウェル内にプライマーを固着させた基板を真空蒸着槽内に入れて、真空(1.0×10-6Torr)とし、熱電ヒーターに電流を流してタングステンボードを加熱した。ステアリン酸が蒸着ボート上で溶液化し始めた時点でシャッターを開け、蒸着を開始した。
鋳型核酸鎖と酵素、インターカレーター蛍光色素(SYBR Green I, Molecular Probes Inc.)、核酸モノマー、バッファーを混合し、反応液を調製した。実施例1で作製したマイクチップの流路に反応液を注入し、ウェル内に導入した。ウェル毎に蛍光検出部や加熱部を備えた蛍光検出装置にマイクチップをセットし、反応を開始した。蛍光色素の蛍光強度に基づいて、標的核酸鎖の増幅量をリアルタイムで測定した。
2.薄膜材料の検討
(1)LAMP反応
マイクロチューブに「表1」に示したプライマーの溶液を分注し、真空乾燥(室温、0.1Pa、5分)によりチューブ内に固着させた。ステアリン酸あるいはパラフィンワックス(Paraffin 115, 125, 130, 135, 140)をマイクロチューブに分注した後、反応液を添加した。
Claims (7)
- 核酸の等温増幅反応の反応場となる反応領域内に、反応に必要な第一の物質の少なくとも一部が、常温より高く前記反応の反応温度より低い温度で融解する薄膜により被覆された状態で存在し、
前記反応に必要な第一の物質の少なくとも一部を被覆する前記薄膜上に、前記反応に必要な第二の物質の少なくとも一部が固着されて存在し、更に、
前記第一の物質と第二の物質以外に前記反応に必要な物質と標的核酸鎖とを含む液体を前記反応領域内に供給する流路が配設される核酸等温増幅反応用マイクロチップ。 - 前記薄膜が、ステアリン酸又はパラフィンワックスの蒸着によって形成された請求項1記載の核酸等温増幅反応用マイクロチップ。
- 前記反応領域内に存在する第一の物質が、オリゴヌクレオチドプライマー及び酵素、核酸モノマーから選択される一以上である請求項2記載の核酸等温増幅反応用マイクロチップ。
- 前記薄膜が被覆された第一の物質は酵素であり、前記第二の物質はオリゴヌクレオチドプライマーである請求項1記載の核酸等温増幅反応用マイクロチップ。
- 外部から液体が導入される導入口と、複数の前記反応領域と、が配設された請求項1に記載の核酸等温増幅反応用マイクロチップ
- 核酸の等温増幅反応の反応場となる反応領域内に収容された、反応に必要な第一の物質の少なくとも一部を、常温より高く前記反応の反応温度より低い温度で融解する薄膜により被覆する工程と、
前記薄膜上に反応に必要な第二の物質を固着させる工程と、
を含む核酸等温増幅反応用マイクロチップの製造方法。 - 核酸の等温増幅反応に必要な第一の物質の少なくとも一部が、常温より高く前記反応の反応温度より低い温度で融解する薄膜により被覆されて存在すると共に前記反応に必要な第一の物質の少なくとも一部を被覆する前記薄膜上に、前記反応に必要な第二の物質の少なくとも一部が固着されて存在する反応領域内に、第一の物質及び第二の物質以外の前記反応に必要な物質と標的核酸鎖とを含む液体を導入して当該液体に第二の物質を溶解させ、反応温度まで昇温する手順を含む核酸等温増幅方法。
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