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JP5690321B2 - プローブ装置および試験装置 - Google Patents

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Description

本発明は、プローブ装置および試験装置に関する。
従来、ウエハを一枚ずつ搬送して固定し、当該ウエハに形成された複数の半導体集積回路と電気的に接続して試験する試験装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1 特開2010−204096号公報
しかしながら、一枚のウエハに形成される半導体集積回路の数、電気的に接続すべき電極の数および密度等は、増加の傾向にある。これによって、試験装置本体およびウエハの間を電気的に接続するプローブ装置において、部品の実装密度が増加してしまい、電子回路素子を配置する空間的な設計が困難になっていた。
本発明の第1の態様においては、被試験デバイスと試験装置本体との間を電気的に接続するプローブ装置であって、可撓性を有するシートと、シートを貫通して被試験デバイスと接続される複数のデバイス側接続端子を有するデバイス側端子ユニットと、デバイス側端子ユニットに対して試験装置本体側に設けられ、複数のデバイス側接続端子と電気的に接続される複数のデバイス側中間電極と、試験装置本体に電気的に接続される複数のテスタ側中間電極とを有する中間基板と、中間基板に対して試験装置本体側に設けられ、試験装置本体へと電気的に接続される複数のテスタ側電極を中間基板側に有するテスタ側基板と、中間基板およびテスタ側基板の間に設けられ、複数のテスタ側中間電極に接続される複数の第1ピンおよび複数のテスタ側電極に接続される複数の第2ピンを有するコンタクト部と、を備えるプローブ装置および試験装置を提供する。
なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。
本実施形態に係る試験装置100の正面図を示す。 本実施形態に係る試験装置100の部分縦断面図を示す。 本実施形態に係る試験装置100の部分水平断面図を示す。 本実施形態に係るアライメントユニット400の部分縦断面図を示す。 本実施形態に係るテストヘッド200の断面図を示す。 本実施形態に係るプローブ装置300の断面図を示す。 本実施形態に係るデバイス側端子ユニット370の部分拡大断面図を示す。 本実施形態に係る異方性導電膜360の部分拡大断面図を示す。 本実施形態に係る中間基板350の部分断面図を示す。 本実施形態に係るコンタクト部340の平面図を示す。 本実施形態に係るプローブ装置300に、ウエハ101が固定された状態の断面図を示す。 本実施形態に係る中間基板350の変形例の部分断面図を示す。
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
図1は、本実施形態に係る試験装置100の全体を示す正面図を示す。試験装置100は、複数の被試験デバイスが形成された半導体ウエハを装置内部に搬入して、当該半導体ウエハをコンタクト先の適切な位置にコンタクトさせ、当該複数の被試験デバイスを試験する。
ここで、試験装置100は、アナログ回路、デジタル回路、メモリ、およびシステム・オン・チップ(SOC)等の被試験デバイスを試験する。試験装置100は、被試験デバイスを試験するための試験パターンに基づく試験信号を被試験デバイスに入力して、試験信号に応じて被試験デバイスが出力する出力信号に基づいて被試験デバイスの良否を判定する。試験装置100は、EFEM110、操作部120、ロードユニット130、チラー140を備える。
EFEM110(Equipment Front End Module)は、試験対象となる基板を試験装置100の内部で搬送する機構を内蔵する。試験装置100のなかでEFEM110は寸法が最も大きいので、試験装置100の動作状態を示すシグナルランプ112と、試験装置100を非常停止させる場合に操作するEMO114(EMergency Off)とが、EFEM110前面の高い位置に配される。
操作部120も、EFEM110に支持される。操作部120は、ディスプレイ122、アーム124および入力装置126を有する。アーム124は、一端をEFEM110に結合され、他端においてディスプレイ122および入力装置126を移動自在に支持する。
ディスプレイ122は、例えば、液晶表示装置等を含み、試験装置100の動作状態、入力装置126からの入力内容のエコーバック等を表示する。入力装置126は、例えば、キーボード、マウス、トラックボール、および/またはジョグタイヤル等を含み、試験装置100の設定、操作等を受け付ける。
ロードユニット130は、ロードテーブル132およびロードゲート134を有する。ロードテーブル132は、試験の対象となる半導体ウエハを収容した容器が載せられる。ロードゲート134は、試験装置100に半導体ウエハを搬入または搬出する場合に開閉する。これにより、試験装置100内部の清浄度を低下させることなく、外部から半導体ウエハをロードできる。
チラー140は、試験装置100の試験時において、ウエハの周囲温度を目標温度に加熱する場合等に、試験装置100内を循環する熱媒を加熱して供給する。また、チラー140は、試験装置100における試験動作により温度が上昇したウエハを搬出前に冷却する場合等に、冷却された冷媒を供給する。このため、チラー140は、熱交換器を有して、試験を実行するテストヘッドの近傍に配される。なお、チラー140は、冷却または加熱された熱媒の供給源が試験装置100の外部に別途用意されている場合は、チラー140が試験装置100から省かれる場合もある。
図2は、本実施形態に係る試験装置100の部分縦断面図を示す。図2において、図1と共通の要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。試験装置100は、ロードユニット130、EFEM110、メインフレーム160、アライメントユニット400、プローブ装置300およびテストヘッド200を備える。図2において、チラー140の図示は省いた。
この試験装置100においては、ロードユニット130、EFEM110およびメインフレーム160が、前面(図中の左側)から後方(図中の右側)に向かって順次隣接して配される。また、アライメントユニット400、プローブ装置300およびテストヘッド200は、一例として、メインフレーム160の上に積層される。
ロードユニット130のロードテーブル132には、FOUP150(Front Opening Unified Pod)が搭載される。FOUP150は、試験対象となる半導体ウエハ101を複数格納する。また、試験終了後の半導体ウエハ101を回収する場合にも、FOUP150にウエハが収納される。
EFEM110は、ロボットアーム116を内蔵する。ロボットアーム116は、レール115に沿って走行するコラム117に搭載され、ロードユニット130およびアライメントユニット400の間で半導体ウエハ101を搬送する。このため、ロードユニット130とEFEM110、アライメントユニット400とEFEM110は、それぞれ内部で気密に連通し、これらの内部は高い清浄度を保たれる。
メインフレーム160は、試験装置100全体の動作を制御する。例えば、メインフレーム160は、テストヘッド200、プローブ装置300、およびアライメントユニット400に接続され、各部を同期させつつ、試験を実行させる。また、操作部120に接続されて、入力装置126から入力を受け付け、それを試験装置100の各部に反映させる。また、試験装置100の動作状態を反映させた表示内容を生成して、ディスプレイ122に表示させる。
更に、メインフレーム160は、ロードユニット130、EFEM110およびアライメントユニット400の動作を同期させて、半導体ウエハ101を相互に受け渡しさせる。また更に、EMO114が操作された場合は、試験装置100各部の動作を直ちに停止させる。
アライメントユニット400は、対象物を搬送し、搬送先の位置ずれを補正する。アライメントユニット400は、複数の対象物を、複数の搬送先にそれぞれ搬送する。ここで、対象物は、例えば、半導体基板、ガラス基板、またはチップ化された半導体デバイス等である。また、対象物は、ステージまたはロボット等の搬送装置によって搬送され、搬送先において予め定められた位置に保持される基板、デバイス、部品、装置、筐体等であってよい。
本実施例は、対象物の一例として、半導体ウエハ101およびウエハトレイ450を説明する。アライメントユニット400による位置ずれの補正動作については後述する。アライメントユニット400は、アライメントステージ410を有する。
アライメントステージ410は、ウエハトレイ450および半導体ウエハ101を搭載してレール402に沿って走行する。また、アライメントステージ410は、垂直方向に移動して、搭載した半導体ウエハ101を上昇または降下させることができる。これにより、プローブ装置300に対して半導体ウエハ101を位置合わせした後、半導体ウエハ101を上方のプローブ装置300に押し付ける。
プローブ装置300は、半導体半導体ウエハ101に形成された複数の電極と電気的に接続される。プローブ装置300は、試験装置100において試験を実行する場合に、テストヘッド200と半導体ウエハ101との間に介在して、テストヘッド200および半導体ウエハ101を電気的に接続する。これにより、テストヘッド200と半導体ウエハ101との間に電気的な信号経路が形成される。
ここで、プローブ装置300は、半導体ウエハ101に形成される複数の電極の配置に対応して、当該電極と電気的に接続されるプローブが配置される。換言すれば、試験装置100は、プローブ装置300を交換することにより、レイアウトの異なる半導体ウエハ101に対応することができる。
テストヘッド200は、複数のピンエレクトロニクス210を格納する。ピンエレクトロニクス210は、試験の対象および試験の内容に応じて求められる電気回路が実装される。また、テストヘッド200は、下面に装着されたコンタクタを介して、プローブ装置300に対して電気的に接続される。即ち、半導体ウエハ101は、ピンエレクトロニクス210と電気的に接続されて、当該ピンエレクトロニクス210と電気信号を授受する。
上記のような試験装置100において、試験に供する半導体ウエハ101は、FOUP150に収容された状態で、ロードテーブル132に搭載される。ロボットアーム116は、ロードゲート134を通して半導体ウエハ101を1枚ずつ取り出して、アライメントユニット400に搬送する。
アライメントユニット400において、半導体ウエハ101は、アライメントステージ410上のウエハトレイ450に搭載される。アライメントステージ410は、搭載された半導体ウエハ101をプローブ装置300に対して位置合わせした後、プローブ装置300に対して下方から押し付ける。
図3は、本実施形態に係る試験装置100の部分水平断面図を示す。図3において、図1および図2と共通の要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。試験装置100は、4基のロードユニット130と、4基のテストヘッド200とを備える。また、ロードユニット130の各々には、FOUP150が装填される。
EFEM110およびアライメントユニット400は、一例として1基ずつ配される。また、アライメントユニット400は、単一のアライメントステージ410を備える。
EFEM110において、ロボットアーム116を支持するコラム117は、一例として、レール115に沿って、EFEM110の略全幅にわたって移動する。従って、ロボットアーム116は、4基のロードユニット130および4基のテストヘッドの全てに半導体ウエハ101を搬送できる。
なお、EFEM110内部の、チラー140と反対側の端部に、一例としてプリアライナ118が配される。プリアライナ118は、ロボットアーム116に対する半導体ウエハ101の搭載位置を、予め定められた精度で調整する。一例として、プリアライナ118は、テストヘッド200の位置決め精度程度未満の精度で調整する。
これにより、ロボットアーム116がウエハトレイ450に半導体ウエハ101を搭載する場合の初期位置精度が向上され、プローブ装置300に対する位置合わせに要する時間が短縮される。また、試験装置100のスループットを向上させることができる。
アライメントユニット400は、レール402、422、ステージキャリア420、アライメントステージ410、ウエハカメラ430、およびステージカメラ432を有する。レール402は、筐体401底面の略全幅にわたって配される。ステージキャリア420は、レール402に沿って、筐体401の長手方向に移動する。
ステージキャリア420は、筐体401のレール402に直行するレール422を上面に有する。アライメントステージ410は、レール422の上を筐体401の短手方向に移動する。
ウエハカメラ430は、テストヘッド200の各々に対応して、プローブ装置300の各々の直近に複数配される。これらのウエハカメラ430は、筐体401の天井面に、下方に向かって配される。
ステージカメラ432は、アライメントステージ410と共に、ステージキャリア420に搭載され、アライメントステージ410と共に移動する。ステージカメラ432は、上方に向かって配される。
ウエハカメラ430およびステージカメラ432を用いることにより、プローブ装置300に対してアライメントステージ410上のウエハ101を位置合わせすることができる。即ち、アライメントステージ410上の上に搭載された段階では、ウエハ101の位置は、プリアライメントの精度で位置決めされている。そこで、下方を向いたウエハカメラ430でウエハ101の例えば予め定められたアライメントマークまたは縁部等を検出することにより、アライメントステージ410上のウエハ101の位置を正確に検出することができる。
一方、アライメントステージ410に配されたステージカメラ432のアライメントステージ410に対する相対位置は既知である。そこで、筐体401のプローブ装置300に対する予め定められた相対位置に基準マークを備え、アライメントステージ410を移動させつつステージカメラ432で当該基準マークを検出する。これにより、ウエハ101の位置とプローブ装置300の位置との差分を検出することができ、当該差分が補償されるようにアライメントステージ410を移動させて、ウエハ101およびプローブ装置300を位置合わせすることができる。
また、筐体401に配されたウエハカメラ430のプローブ装置300に対する相対位置は既知である。そこで、ウエハ101の位置とプローブ装置300の位置との差分を算出し、それが補償されるようにアライメントステージ410を移動させて、ウエハ101およびプローブ装置300を位置合わせしてもよい。
なお、ウエハ101の検出において、ディスプレイ122にウエハカメラ430の映像を表示して、手動で位置合わせしてもよい。また、ウエハトレイ450等に設けたフュディシャルマークを参照して、試験装置100が自動的に位置合わせしてもよい。
以上の説明のように、本実施例の試験装置100は、FOUP150に収容された複数の半導体ウエハ101から、ロボットアーム116を用いて半導体ウエハ101を1枚ずつアライメントユニット400内に搬送する。試験装置100は、アライメントユニット400内において、半導体ウエハ101の位置決めを実行しつつ、半導体ウエハ101をプローブ装置300に押しつけ、半導体ウエハ101とプローブ装置300とを電気的に接続した状態にして保持する。
また、試験装置100は、試験が終了した半導体ウエハ101をプローブ装置300から離間させ、当該半導体ウエハ101をアライメントユニット400からFOUP150に搬送する。試験装置100は、このような動作を繰り返して、FOUP150に収容された複数の半導体ウエハ101の試験を順次実行する。
試験装置100は、例えば、テストヘッド200が有するプローブ装置300毎に半導体ウエハ101をそれぞれ保持させて、複数の半導体ウエハ101と電気信号をそれぞれ授受して試験を実行する。本実施例において、試験装置100は、最大で4枚の半導体ウエハ101を4基のテストヘッド200に対応する4つのプローブ装置300にそれぞれ保持して、当該4枚の半導体ウエハ101にそれぞれ形成された複数のデバイスを、それぞれ試験する。
図4は、本実施形態に係るアライメントユニット400の部分縦断面図を示す。図4において、図1から図3と共通の要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。アライメントユニット400は、筐体401、アライメントステージ410およびハンガフック440を備える。
筐体401は、複数のテストヘッド200、例えば4基のテストヘッド200に応じた幅を有する。また、筐体401の上面には、テストヘッド200の各々に対応して4枚のプローブ装置300が装着される。更に、筐体401内部の天井面には、テストヘッド200の各々に対応する位置に、開閉するハンガフック440がそれぞれ配される。
ハンガフック440は、閉じた場合にはウエハトレイ450を懸下して、プローブ装置300の直下に保持する。ハンガフック440が開いた場合、ウエハトレイ450は開放される。これにより、アライメントユニット400は、テストヘッド200およびプローブ装置300の各々の直下に、それぞれウエハトレイ450を待機させる。
アライメントステージ410は、筐体401の底面に配されたレール402に沿って、いずれのテストヘッド200の下方にも移動できる。また、アライメントステージ410は、垂直方向に伸縮して、搭載したウエハトレイ450等を上昇または降下させることができる。
上記のような構造を有するアライメントユニット400において、ハンガフック440に保持されたウエハトレイ450は、下方からアライメントステージ410を上昇させることにより、いったん、単独でアライメントステージ410に搭載される。続いて、ハンガフック440を開いて開放した状態でアライメントステージ410を降下させることにより、ウエハトレイ450をハンガフック440から開放する。
更に、アライメントステージ410の降下により上面を開放されたウエハトレイ450に、EFEM110のロボットアーム116がウエハ101を搭載する。こうして、アライメントステージ410は、ウエハトレイ450に載せられた状態でウエハ101を搭載できる。
次に、アライメントステージ410は、プローブ装置300に対してウエハ101を位置合わせしつつ、ウエハトレイ450を上昇させて、プローブ装置300の下面に押し付ける。ウエハトレイ450は、プローブ装置300を吸着してウエハ101およびプローブ装置300の電気的な接続を確実にする。これに代えて、プローブ装置300は、押し付けられたウエハトレイ450およびウエハ101を吸着してもよい。
アライメントステージ410は、ウエハ101およびウエハトレイ450を残して移動し、他のウエハ101を搬送する。こうして、ウエハ101を、テストヘッド200に対して装填できる。
なお、試験を終えたウエハ101を回収する場合は、上記の一連の操作を逆の順序で実行すればよい。これにより、ロボットアーム116によりウエハ101を搬出できると共に、ウエハトレイ450は、テストヘッド200の直下で待機する。
図示の例では、図上で右側のテストヘッド200の直下で、ウエハトレイ450およびウエハ101が、プローブ装置300aに固定されている。ハンガフック440は閉じているが、ウエハトレイ450がプローブ装置300を吸着している場合、ハンガフック440はウエハトレイ450に接していなくてもよい。
右から2番目のテストヘッド200の直下では、アライメントステージ410が、搭載したウエハトレイ450およびウエハ101を押し上げて、プローブ装置300bの下面に密着させている。他のテストヘッド200の下方では、ハンガフック440がウエハトレイ450を保持して待機している。
このように、アライメントユニット400においては、4基のテストヘッド200の各々に対応してウエハトレイ450が装備される。これにより、テストヘッド200の各々が個別にウエハ101を試験できる。
なお、複数のテストヘッド200は、互いに同じ種類の試験を実行してもよいし、互いに異なる種類の試験を実行してもよい。また、後者の場合、時間のかかる試験を複数のテストヘッドに担わせることにより、試験装置100のスループットを向上させることもできる。
このように、試験装置100においては、単一のアライメントステージ410およびロボットアーム116を、複数のテストヘッド200に対して用いる。これにより、試験を実行している期間は不要なアライメントステージ410およびロボットアーム116の利用効率を向上させることができる。
図5は、本実施形態に係るテストヘッド200の断面図を示す。図5において、図1から図4と共通の要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。テストヘッド200は、筐体201、コンタクタ202、ピンエレクトロニクス210、マザーボード220およびフラットケーブル230を備える。
筐体201の内部には、複数の中継コネクタ224を有するマザーボード220が水平に配される。中継コネクタ224は、マザーボード220の上面側および下面側にそれぞれレセプタクルを有し、マザーボード220を貫通する信号経路を形成する。
マザーボード220の上面において、中継コネクタ224の各々には、アングルコネクタ222を介してピンエレクトロニクス210が装着される。このような構造により、試験対象の仕様および試験内容に応じてピンエレクトロニクス210を交換することができる。
複数のピンエレクトロニクス210は、ウエハ101に形成された複数の被試験デバイスとの間で電気信号を授受して当該複数の被試験デバイスを試験する試験部として動作する。例えば、試験部は、複数の被試験デバイスを試験するための試験パターンに基づく試験信号を複数の被試験デバイスのそれぞれに入力する。また、試験部は、試験信号に応じて複数の被試験デバイスのそれぞれが出力する出力信号に基づいて、複数の被試験デバイスのそれぞれの良否を判定する。
複数のピンエレクトロニクス210は、互いに同じ仕様である場合も、互いに異なる仕様である場合もある。また、一部の中継コネクタ224に、ピンエレクトロニクス210が装着されない場合もある。
マザーボード220の下面において、中継コネクタ224の各々には、アングルコネクタ226を介して小基板228が接続される。小基板228には、フラットケーブル230の一端が接続される。これにより、筐体201内部のピンエレクトロニクス210と、後述するコンタクタ202とを、フラットケーブル230等を介して接続できる。
筐体201の下面には、コンタクタ202が装着される。コンタクタ202は、プローブ装置300が接続され、ウエハ101に形成された複数の被試験デバイスと試験装置本体との間が電気的に接続される。
図6は、本実施形態に係るプローブ装置300の断面図を示す。プローブ装置300は、試験部とウエハ101に形成された複数の被試験デバイスがそれぞれ有する電極とを電気的に接続する。プローブ装置300は、テスタ側基板320、コンタクタ330、コンタクト部340、中間基板350、異方性導電膜360、およびデバイス側端子ユニット370を備える。
テスタ側基板320は、中間基板350に対して試験装置本体側に設けられ、試験装置本体へと電気的に接続される複数のテスタ側電極326を中間基板350側に有する。本実施例において、試験装置本体側は、テストヘッド200側を示す。即ち、テスタ側基板320は、テストヘッド200方向を向くテスタ側の面と、ウエハ101側を向くデバイス側の面に、電気配線が形成されてテスタ側電極326がそれぞれ接続される。また、テスタ側基板320は、テスタ側の面およびデバイス側の面の部品が実装されていない領域に、抵抗、コンデンサ、コイル、および/または半導体デバイス等の電子部品500が実装される。
テスタ側基板320は、一例として、多層基板で形成される。テスタ側基板320は、比較的機械強度の高い絶縁基板、例えばポリイミド板により形成される。テスタ側基板320の周縁部は、一例として、上部フレーム322および下部フレーム324に挟まれる。これにより、テスタ側基板320の機械的強度は更に向上される。ここで、下部フレーム324は、一例として、流路328が形成される。流路328は、プローブ装置300の内部領域に一端を開口する。流路328の他端は、バルブ等を介して減圧ポンプ等に結合される。
また、テスタ側基板320は、テスタ側の面にコンタクタ330を有する。コンタクタ330は、テストヘッド200のコンタクタ202と結合されて、複数の電気的配線を接続する。また、コンタクタ330は、コンタクタ202がテスタ側基板320に当接する場合に、当該コンタクタ202を案内して位置決めしてよい。
コンタクト部340は、テスタ側の面において、テスタ側基板320と電気的に接続される。また、コンタクト部340は、テスタ側の面からデバイス側の面へと貫通する、貫通電極640を有する。
中間基板350は、テスタ側の面において、コンタクト部340と電気的に接続されるテスタ側中間電極620を有する。また、中間基板350は、デバイス側の面に、テスタ側中間電極620とは配置されるピッチが異なるデバイス側中間電極353を有する。デバイス側中間電極353は、対応するテスタ側中間電極620と電気的に接続される。中間基板350は、一例として、デバイス側中間電極353の配線ピッチよりも広い配線ピッチのテスタ側中間電極620を有する、ピッチ変換基板である。
異方性導電膜360は、テスタ側の面において、中間基板350と電気的に接続される。異方性導電膜360は、テスタ側およびデバイス側の面を貫通する貫通電極361を有する。貫通電極361は、中間基板350のデバイス側の面のデバイス側中間電極353と同じレイアウトを有する。これにより、中間基板350と異方性導電膜360とが密接して積層された場合、デバイス側中間電極353および貫通電極361は、互いに電気的に接続される。
デバイス側端子ユニット370は、テスタ側の面において、異方性導電膜360と電気的に接続される。また、デバイス側端子ユニット370は、デバイス側の面において、ウエハ101と電気的に接続される。
図7は、本実施形態に係るデバイス側端子ユニット370の部分拡大断面図を示す。デバイス側端子ユニット370は、可撓性を有する弾性シート372と、当該弾性シートを貫通して被試験デバイスと接続される複数のデバイス側接続端子374を有する。また、デバイス側端子ユニット370は、フレーム377を有する。
弾性シート372は、弾性を有する絶縁材料により形成される。デバイス側接続端子374は、一例として、デバイス側の面において、先端部が半球状のバンプ形状を有する。これに代えて、デバイス側接続端子374の先端部は、突起を有する形状、突部のない平面、または先端を丸めた針状の形状を有してもよい。
デバイス側接続端子374の先端部は、試験対象となるウエハ101に形成された被試験デバイスにおいて、試験に供されるデバイスパッドと同じレイアウトに配される。また、デバイス側接続端子374は、個々の被試験デバイスに対応して複数設けられる。即ち、デバイス側接続端子374は、プローブ装置300のデバイス側の面において、ウエハ101に対するプローブ端子として機能する。
また、デバイス側接続端子374は、テスタ側の面において、コンタクトパッド375が形成される。ここで、コンタクトパッド375は、ウエハ101に形成されたデバイスパッドと略同一のレイアウトに配されることになる。
フレーム377は、弾性シート372の周縁部を把持して、弾性シート372を平坦な状態に維持する。デバイス側端子ユニット370は、一例として、フレーム377側から押し付けられ、接続部376を介して中間基板350に固定される。ここで、接続部376は、弾性を有する材料により形成され、中間基板350およびデバイス側端子ユニット370の外縁部に気密に取り付けられる。これにより、中間基板350およびデバイス側端子ユニット370の間の空間は気密に封止される。接続部376は、例えば、リング状のゴムシートである。これに代えて、接続部376は、外縁部が内側よりも厚く形成された円形のゴムシートであってもよい。この場合、接続部376は、内側に開口を有し、当該開口において異方性導電膜360およびデバイス側端子ユニット370は電気的に接続される。
図8は、本実施形態に係る異方性導電膜360の部分拡大断面図を示す。異方性導電膜360は、デバイス側端子ユニット370および中間基板350の間に配置され、複数のデバイス側接続端子374および複数のデバイス側中間電極353との間を接続する。異方性導電膜360は、貫通電極361、フレーム362、および弾性支持部363を有する。
フレーム362は、金属等の比較的剛性の高い材料で形成され、貫通電極361の外径よりも大きな内径を有する貫通穴366を複数有する。貫通電極361の各々は、貫通穴366の内側において、弾性支持部363を介してフレーム362から支持される。
弾性支持部363は、シリコンゴム等の柔軟な材料により形成される。また、貫通電極361は、フレーム362の厚さよりも大きな長さを有する。これにより、異方性導電膜360がデバイス側端子ユニット370および中間基板350の間に挟まれた場合、各部材の凹凸のばらつきを吸収して、良好な電気的接合を形成する。
貫通電極361は、デバイス側端子ユニット370のコンタクトパッド375と略同一のレイアウトに配される。これによって、異方性導電膜360とデバイス側端子ユニット370とが密接して積層された場合、デバイス側接続端子374と当該デバイス側接続端子374に対応する貫通電極361とを、互いに電気的に接続することができる。
これに代えて、異方性導電膜360は、弾性のある絶縁物質中に、略均等に導電性物質が分散されて形成され、圧力が加わった部分に導電性が生じる膜であってもよい。異方性導電膜360は、一例として、加圧導電ゴムである。これにより、異方性導電膜360がデバイス側端子ユニット370および中間基板350の間に挟まれた場合、コンタクトパッド375およびデバイス側中間電極353間に圧力が加わって電気的に接続され、また、弾性によって各部材の凹凸のばらつきを吸収して、良好な電気的接合を形成する。
図9は、本実施形態に係る中間基板350の部分断面図を示す。中間基板350は、デバイス側端子ユニット370に対して試験装置本体側に設けられ、複数のデバイス側接続端子374と電気的に接続される複数のデバイス側中間電極353と、試験装置本体に電気的に接続される複数のテスタ側中間電極620とを有する。
デバイス側中間電極353は、デバイス側端子ユニット370のコンタクトパッド375と略同一のレイアウトに配される。即ち、本実施例のデバイス側中間電極353は、被試験デバイスのデバイスパッドと同じレイアウトに配されることになる。
一方、複数のテスタ側中間電極620は、複数のデバイス側中間電極353より広い間隔で設けられる。図9は、テスタ側中間電極620の配線ピッチの間隔Pが、デバイス側中間電極353の配線ピッチの間隔Pよりも広い間隔で形成された例を示す。
これによって、中間基板350は、被試験デバイスに形成されるデバイスパッドに対応して形成されるデバイス側中間電極353の配線ピッチを、デバイスパッドの配線ピッチよりも広い間隔に変換する。中間基板350は、一例として、100μm間隔程度の狭ピッチで形成されるデバイスパッドに対応しつつ、1mm間隔程度の配線ピッチにテスタ側中間電極620の配線ピッチを変換する。
中間基板350は、基板本体352と、接続モジュール部600とを有する。基板本体352は、一例として、セラミックを含む基板である。基板本体352は、スルーホール355、配線層357、およびコンタクトパッド359を含む。スルーホール355は、基板本体352を貫通して導電材料が形成される。
スルーホール355の各々は、デバイス側の面において、配線層357を介してデバイス側中間電極353に接続される。また、スルーホール355の各々は、テスタ側の面において、コンタクトパッド359に接続される。即ち、デバイス側中間電極353は、コンタクトパッド359と電気的に接続される。このように、スルーホール355の各々は、配線層357を介在させてデバイス側中間電極353およびコンタクトパッド359と電気的に接続するので、コンタクトパッド359の配線ピッチをデバイス側中間電極353の配線ピッチと異ならせることができる。
接続モジュール部600は、基板本体352における試験装置本体側の面上に実装され、基板本体352側に2以上の基板側端子610を有し、基板本体352と反対側に2以上のテスタ側中間電極620を有する。即ち、接続モジュール部600は、デバイス側の面において、基板側端子610と対応するコンタクトパッド359とが電気的にそれぞれ接続される。ここで、基板側端子610およびコンタクトパッド359は、一例として、はんだ等によって固定される。この場合、基板側端子610は、半球状のはんだで形成されるBGA(Ball Grid Array)電極であってよい。
また、接続モジュール部600は、テスタ側の面において、テスタ側中間電極620と対応するコンタクト部340とが電気的にそれぞれ接続される。中間基板350は、格子状に配列した複数の接続モジュール部600を搭載してよく、これに代えて、被試験デバイスのデバイスパッドに対応して、予め定められた配列で複数の接続モジュール部600を搭載してよい。
接続モジュール部600は、基板側端子610およびテスタ側中間電極620の間の配線に接続される電子部品630を含む。即ち、接続モジュール部600の基板側端子610およびテスタ側中間電極620は、電子部品630を介して電気的に接続される。
ここで、電子部品630は、例えば、抵抗素子を含む。これに代えて、またはこれに加えて、電子部品630は、容量素子および/またはインダクタを含んでもよい。これに代えて、またはこれに加えて、電子部品630は、アンプ、発振器等のアクティブ・デバイスを含んでもよい。これに加えて、電子部品630は、基板側端子610およびテスタ側中間電極620を接続する配線を備えるダミー回路であってもよい。
このように、中間基板350は、電子部品630を含む接続モジュール部600を実装するので、プローブ装置300内に配置すべき電子回路素子を配置する領域を拡大することができる。また、中間基板350は、基板本体352と接続モジュール部600とを別部品で構成するので、それぞれの設計自由度を増すことができる。また、基板本体352および接続モジュール部600に対して、確実に動作するか否かの試験をそれぞれ実行してから実装することによって、中間基板350の歩留まりを向上させることができる。
また、中間基板350は、被試験デバイスのデバイスパッドの配線ピッチに比べて広い配線ピッチに変換してから電子回路素子を配置させるので、電子回路素子を含む接続モジュール部600等を容易に形成させることができる。また、中間基板350は、テストヘッド200に比べて、被試験デバイスに近い位置に電子回路素子を配置させることができ、また、広い配線ピッチに変換した直後に電子回路素子を配置させることもできる。これにより、中間基板350は、高速信号を伝送させる場合に信号品質の劣化等を低減させることができる。
図10は、本実施形態に係るコンタクト部340の平面図を示す。コンタクト部340は、中間基板350およびテスタ側基板320の間に設けられ、複数のテスタ側中間電極620に接続される複数の第1ピン642および複数のテスタ側電極326に接続される複数の第2ピン644を有する。ここで、第1ピン642は、貫通電極640のデバイス側の端子であり、第2ピン644は、貫通電極640のテスタ側の端子である。
貫通電極640は、バネ等を含み、第1ピン642および第2ピン644の間が伸縮するプローブピンである。貫通電極640は、例えば、ポゴピン、スプリングピン、またはスプリングプローブ等である。
これによって、中間基板350がテスタ側基板320の方向に向けて移動した場合に、テスタ側中間電極620と対応する第1ピン642とが押し付けられて電気的にそれぞれ接続され、かつ、テスタ側電極326と対応する第2ピン644とが押し付けられて電気的にそれぞれ接続される。この場合、中間基板350は、一例として、流路328からプローブ装置300内が減圧されることによって、テスタ側基板320方向に移動する。
コンタクト部340は、2以上の第1ピン642および2以上の第2ピン644を有する複数のコンタクトブロック646を有し、複数のコンタクトブロック646のそれぞれと複数の接続モジュール部600のそれぞれとが接続される。即ち、コンタクト部340は、複数の接続モジュール部600に対応する複数のコンタクトブロック646を有し、コンタクトブロック646のそれぞれは、対応する接続モジュール部600とそれぞれ電気的に接続される。
このように、コンタクト部340は、中間基板350およびテスタ側基板320の間において、複数の第1ピン642および複数の第2ピン644を用いてテスタ側中間電極620とテスタ側電極326とを電気的に接続する。これによって、異方性導電膜等とは異なり、例えば、テスタ側基板320のデバイス側の面において、テスタ側電極326が形成されない領域には、部品が配置されることがない。
したがって、コンタクト部340は、テスタ側基板320のデバイス側の面の部品が配置されない領域に、抵抗、コンデンサ、コイル、および/または半導体デバイス等の電子部品500を実装できる空間を生じさせることができる。即ち、本実施形態に係るプローブ装置300は、電子回路素子を配置する空間的な設計自由度を増加させることができる。
以上の本実施形態に係るプローブ装置300は、テスタ側基板320、コンタクト部340、中間基板350、異方性導電膜360、およびデバイス側端子ユニット370が組み合わされて一体となる。この場合、プローブ装置300は、一例として、流路328からの減圧と、フレーム377側からの押し付けとによって固定される。
また、プローブ装置300は、一体となって固定されると、被試験デバイスのデバイスパッドに接続されるデバイス側接続端子374から対応するテスタ側電極326に至る電気的接続が形成される。これによって、テストヘッド200のピンエレクトロニクス210は、対応するテスタ側電極326を介して、被試験デバイスとの間で電気信号を授受することができ、当該被試験デバイスを試験することができる。
図11は、本実施形態に係るプローブ装置300に、ウエハ101が固定された状態の断面図を示す。図11において、図6と共通の要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。ウエハ101は、ウエハトレイ450に搭載された状態でプローブ装置300に固定される。
ウエハトレイ450は、流路452、454と、ダイヤフラム456とを有する。流路452は、ウエハトレイ450のプローブ装置300側である上面においてウエハ101を搭載する領域に一端を開口する。流路452の他端は、バルブ等を介して減圧ポンプ等に結合される。これにより、ウエハトレイ450は、ウエハ101を搭載した状態でウエハ101を吸着して保持する。
ウエハトレイ450の流路454は、ウエハトレイ450の上面においてウエハ101を搭載する領域の外側に開口する。流路454の他端は、バルブ等を介して減圧ポンプ等に結合される。
ダイヤフラム456は、弾性を有する材料により形成され、流路454の開口の更に外側でウエハトレイ450の周縁部に気密に取り付けられる。アライメントステージ410が上昇してウエハ101がプローブ装置300の下面に押し付けられた場合、ダイヤフラム456の上端もプローブ装置300の下面に接して、ウエハトレイ450およびプローブ装置300の間を気密に封止する。これにより、ウエハ101を搭載した状態で流路454から減圧させると、ウエハトレイ450はプローブ装置300の下面に吸いついて、保持したウエハ101をプローブ装置300に押し付ける。
ここで、プローブ装置300の最下面に位置するデバイス側端子ユニット370の弾性シート372には、貫通穴が設けられていてよい。これによって、プローブ装置300およびウエハトレイ450の間の空間が減圧された場合、プローブ装置300の内部も減圧される。これにより、プローブ装置300の中間基板350、異方性導電膜360、およびデバイス側端子ユニット370は相互に押し付けられ、ウエハ101からテストヘッド200に至る信号経路を確実に形成する。
ここで、本実施形態に係るプローブ装置300の内部空間は、中間基板350によってテスタ側の空間とデバイス側の空間とを分かれ、それぞれの空間を別個独立に減圧することを説明した。これにより、例えば、中間基板350を先に安定に固定した状態で、ウエハトレイ450を脱着することができる。これに代えて、中間基板350をガイドレール等を用いて安定に固定できる場合は、プローブ装置300は、減圧する空間を分けずに1つの空間にしてもよい。
以上のように、プローブ装置300と、ウエハトレイ450に搭載されたウエハ101とが重ね合わされて、ウエハ101に形成された複数のデバイスパッドと、対応する複数のテスタ側電極326とが電気的にそれぞれ接続されることにより、複数の被試験デバイスを試験する試験装置100が形成される。
図12は、本実施形態に係る中間基板350の変形例の部分断面図を示す。図12において、図9と共通の要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。中間基板350は、基板本体352と、基板本体352のテスタ側の面に接続層604を有する。
接続層604は、基板本体352における試験装置本体側の面上に積層され、基板本体352と反対側の面に複数のテスタ側中間電極620が形成され、複数のテスタ側中間電極620と対応する複数のデバイス側中間電極353とを電気的に接続する接続部633を有する。接続部633は、テスタ側の面において、対応するテスタ側中間電極620と電気的にそれぞれ接続される。また、接続部633は、デバイス側の面において対応するスルーホール355と電気的にそれぞれ接続される。
接続層604は、絶縁材料で形成される。また、接続部633は、接続層604を形成する材料とは異なる材料を含む。接続部633の少なくとも一部は、電子部品が形成される。即ち、本変形例の中間基板350のテスタ側中間電極620およびデバイス側中間電極353は、図9で説明した中間基板350と同様に、電子部品を介して電気的に接続される。当該電子部品は、図9で説明した電子部品と略同一である。
接続層604は、格子状に配列した複数の接続部633が形成されてよく、これに代えて、被試験デバイスのデバイスパッドに対応して、予め定められた配列で形成されてよい。このように、本変形例の中間基板350は、接続部633を有する接続層604を形成させるので、一例として、半導体プロセス等の微細加工技術を用いることで、安定に接続層604を形成させることができる。
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
特許請求の範囲、明細書、および図面中において示した装置、システム、プログラム、および方法における動作、手順、ステップ、および段階等の各処理の実行順序は、特段「より前に」、「先立って」等と明示しておらず、また、前の処理の出力を後の処理で用いるのでない限り、任意の順序で実現しうることに留意すべきである。特許請求の範囲、明細書、および図面中の動作フローに関して、便宜上「まず、」、「次に、」等を用いて説明したとしても、この順で実施することが必須であることを意味するものではない。
100 試験装置、101 ウエハ、110 EFEM、112 シグナルランプ、114 EMO、115、402、422 レール、116 ロボットアーム、117 コラム、118 プリアライナ、120 操作部、122 ディスプレイ、124 アーム、126 入力装置、 130 ロードユニット、132 ロードテーブル、134 ロードゲート、140 チラー、150 FOUP、160 メインフレーム、200 テストヘッド、201、401 筐体、202、330 コンタクタ、210 ピンエレクトロニクス、220 マザーボード、222、226 アングルコネクタ、224 中継コネクタ、228 小基板、230 フラットケーブル、300 プローブ装置、320 テスタ側基板、322 上部フレーム、324 下部フレーム、326 テスタ側電極、328 流路、340 コンタクト部、350 中間基板、352 基板本体、353 デバイス側中間電極、355 スルーホール、357 配線層、359 コンタクトパッド、360 異方性導電膜、361 貫通電極、362 フレーム、363 弾性支持部、366 貫通穴、370 デバイス側端子ユニット、372 弾性シート、374 デバイス側接続端子、375 コンタクトパッド、376 接続部、377 フレーム、400 アライメントユニット、410 アライメントステージ、420 ステージキャリア、430 ウエハカメラ、432 ステージカメラ、440 ハンガフック、450 ウエハトレイ、452、454 流路、456 ダイヤフラム、500 電子部品、600 接続モジュール部、604 接続層、610 基板側端子、620 テスタ側中間電極、630 電子部品、633 接続部、640 貫通電極、642 第1ピン、644 第2ピン、646 コンタクトブロック

Claims (11)

  1. 被試験デバイスと試験装置本体との間を電気的に接続するプローブ装置であって、
    可撓性を有するシートと、前記シートを貫通して前記被試験デバイスと接続される複数のデバイス側接続端子を有するデバイス側端子ユニットと、
    前記デバイス側端子ユニットに対して前記試験装置本体側に設けられ、前記複数のデバイス側接続端子と電気的に接続される複数のデバイス側中間電極と、前記試験装置本体に電気的に接続される複数のテスタ側中間電極とを有する中間基板と、
    前記中間基板に対して前記試験装置本体側に設けられ、前記試験装置本体へと電気的に接続される複数のテスタ側電極を前記中間基板側に有するテスタ側基板と、
    前記中間基板および前記テスタ側基板の間に設けられ、前記複数のテスタ側中間電極に接続される複数の第1ピンおよび前記複数のテスタ側電極に接続される複数の第2ピンを有するコンタクト部と、
    を備え、
    前記複数の第1ピンのそれぞれは、複数の貫通電極の前記被試験デバイス側のそれぞれの端子であり、前記複数の第2ピンのそれぞれは、前記複数の貫通電極の前記試験装置本体側のそれぞれの端子であり、
    前記複数の貫通電極のそれぞれは、前記第1ピンおよび前記第2ピンの間が伸縮するプローブ装置。
  2. 前記中間基板の前記複数のテスタ側中間電極は、前記複数のデバイス側中間電極より広い間隔で設けられる請求項1に記載のプローブ装置。
  3. 前記中間基板は、セラミックを含む請求項1または2に記載のプローブ装置。
  4. 前記中間基板は、
    基板本体と、
    前記基板本体における前記試験装置本体側の面上に実装され、前記基板本体側に2以上の基板側端子を有し、前記基板本体と反対側に2以上の前記テスタ側中間電極を有する接続モジュール部と、
    を有する請求項1から3のいずれか一項に記載のプローブ装置。
  5. 前記中間基板は、格子状に配列した複数の前記接続モジュール部を搭載する請求項4に記載のプローブ装置。
  6. 前記コンタクト部は、前記複数の第1ピンおよび前記複数の第2ピンを有する複数のコンタクトブロックを有し、前記複数のコンタクトブロックのそれぞれと複数の前記接続モジュール部のそれぞれとが接続される請求項4または5に記載のプローブ装置。
  7. 前記接続モジュール部は、前記基板側端子および前記テスタ側中間電極の間の配線に接続される電子部品を含む請求項4から6のいずれか一項に記載のプローブ装置。
  8. 前記中間基板は、
    基板本体と、
    前記基板本体における前記試験装置本体側の面上に積層され、前記基板本体と反対側の面に前記複数のテスタ側中間電極が形成され、前記複数のテスタ側中間電極と対応する前記複数のデバイス側中間電極とを電気的に接続する接続部を有する接続層と、
    を有し、
    前記接続部の少なくとも一部は、電子部品が形成される請求項1から3のいずれか一項に記載のプローブ装置。
  9. 前記電子部品は、抵抗素子を含む請求項7または8に記載のプローブ装置。
  10. 前記デバイス側端子ユニットおよび前記中間基板の間に配置され、前記複数のデバイス側接続端子および前記複数のデバイス側中間電極との間を接続する異方性導電膜を更に備える請求項1から9のいずれか一項に記載のプローブ装置。
  11. 半導体ウエハに形成された複数の被試験デバイスを試験する試験装置であって、
    前記複数の被試験デバイスとの間で電気信号を授受して前記複数の被試験デバイスを試験する試験部と、
    前記試験部と前記複数の被試験デバイスがそれぞれ有する電極とを電気的に接続する請求項1から10のいずれか一項に記載のプローブ装置と、
    を備える試験装置。
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