JP5675121B2 - 遠心圧縮機、および洗浄方法 - Google Patents

Description

この発明は、洗浄液噴射装置を備えた遠心圧縮機、およびこの遠心圧縮機の洗浄液噴射装置を用いた洗浄方法に関するものである。

従来から、各種プラントでプロセスガスを圧送するための遠心圧縮機が用いられている。遠心圧縮機としては、この内部に形成されている流路に洗浄液を噴射するものがある。この種の遠心圧縮機では、洗浄液によって流路に付着・堆積した汚れや熱反応生成物を除去することができるので、付着物・堆積物によって低下した性能を良好に回復できる。

このような洗浄液を噴射する遠心圧縮機では、例えば、洗浄液を噴射するための噴射装置としてスプレー式のノズルを用いたものがある。噴射装置は、例えば、流路中に配置されたリターンベーンの頂上部、すなわちリターンベーンの径方向外側に設置され、流路に向けて洗浄液を微粒化して噴射するようになっている場合が多い（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４参照）。

特開平５−１４１３９７号公報 特開平５−２２３０９９号公報 特開平６−３３８９９号公報 特開平８−３３８３９７号公報

ところで、各種プラントでは、遠心圧縮機の他にさまざまな装置が取り付けられているが、これら装置のエロージョン防止やエネルギー伝達効率を高めるために、圧送されるプロセスガスに含まれる洗浄液の量が制限される場合が多い。つまり、単位時間あたりの洗浄液の流量が制限される場合が多い。
しかしながら、上述の従来技術にあっては、洗浄液の流量が制限された状況下では、遠心圧縮機の流路全体に対する洗浄液の量が不十分になってしまい、流路全体をくまなく洗浄することが困難になるという課題がある。

そこで、この発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、洗浄液の流量が制限された状況下であっても流路全体を十分洗浄することが可能な遠心圧縮機、および洗浄方法を提供するものである。

上記の課題を解決するために、本発明に係る遠心圧縮機は、ケーシングと、このケーシング内に支持された回転軸と、この回転軸に設けられ回転して流体を圧縮するインペラと、このインペラと前記ケーシングとにより形成される流路に洗浄液を噴射する洗浄液噴射装置とを備えた遠心圧縮機であって、前記洗浄液噴射装置は、前記回転軸の周方向に沿って設けられ、前記流路内に前記洗浄液を噴射させる複数のノズルと、これら複数のノズルのうち、対応するノズルと連通し、この対応するノズルに前記洗浄液を供給する複数のチャンバとを有し、各チャンバの前記ノズルとは反対側の上流に、それぞれ前記チャンバへ供給する前記洗浄液の流量を制御する流量調整弁を設けたことを特徴とする。
また、本発明に係る遠心圧縮機は、ケーシングと、このケーシング内に支持された回転軸と、この回転軸に設けられ回転して流体を圧縮するインペラと、このインペラと前記ケーシングとにより形成される流路に洗浄液を噴射する洗浄液噴射装置とを備えた遠心圧縮機であって、前記洗浄液噴射装置は、前記回転軸の周方向に沿って設けられ、前記流路内に前記洗浄液を噴射させる複数のノズルと、これら複数のノズルのうち、対応するノズルと連通し、この対応するノズルに前記洗浄液を供給する複数のチャンバとを有し、前記ノズルの数は、前記回転軸の径方向外側から内側に向かって前記流体を流した後、該流体の向きを前記インペラの直前で前記回転軸の軸方向に変換させる吸込通路に設けられたリターンベーンの翼の数と同数とされることを特徴とする。

このように構成することで、複数のチャンバのうち、所望のチャンバに選択的に洗浄液を供給し、このチャンバに連通するノズルから洗浄液を噴射させて流路全体のうち、洗浄液が噴射されたノズルに対応する一部の流路だけを洗浄することが可能になる。そして、これを順次繰り返すことによって、流量の限られた洗浄液で流路全体を十分洗浄することができる。

また、各チャンバの前記ノズルとは反対側の上流に、それぞれ前記チャンバへ供給する前記洗浄液の流量を制御する流量調整弁を設けたことで、流量の限られた洗浄液を、所望のチャンバへと確実に供給することができる。このため、効率よく流路全体を洗浄することが可能になる。

本発明に係る遠心圧縮機は、前記ケーシングにおける前記複数のノズルの近傍に、前記複数のチャンバを前記回転軸の周方向に沿って設けたことを特徴とする。

このように構成することで、各チャンバから対応する複数のノズルに至る間の距離、および構造を同一に設定しやすくなる。このため、チャンバ内の圧力を均一化することができ、各洗浄液噴射口から噴射される噴射量を均一にすることができる。よって、さらに効率よく流路全体を洗浄することが可能になる。

本発明に係る遠心圧縮機は、前記流路中のディフューザを形成するディフューザ前壁とディフューザ後壁との少なくとも何れか一方に、前記複数のノズルを形成したことを特徴とする。

このように構成することで、ノズルから洗浄液を、流路を流れる主流に対して交差するように噴射させることができる。このように噴射された洗浄液は、一旦、対向するディフューザの他方側に向かって流れ、ディフューザ前壁とディフューザ後壁との間のスパン方向（回転軸方向）に広がる。
また、同時に流路内を流れる主流の剪断力によって、洗浄液が微粒化されて周方向にも広がると共に主流に乗ってディフューザの下流側に流される。このため、噴射された洗浄液は比較的長い距離を通って、リターンベーン側に到達するようになる。
よって、洗浄液はディフューザ通路からリターン通路、およびリターンベーンまでの広い範囲において衝突・付着するようになり、これによって所望の流路の一部を確実に洗浄することが可能になる。

本発明に係る遠心圧縮機は、前記回転軸の軸方向に沿って前記洗浄液を噴射可能に、前記複数のノズルを設けたことを特徴とする。

このように構成することで、複数のノズルから噴射された洗浄液が、回転軸方向に沿って対向するディフューザの他方側に向けて良好に流れるようになる。このため、ディフューザ前壁とディフューザ後壁との間のスパン方向（回転軸方向）により確実に広がり、ディフューザの両壁を洗浄し易くなる。

本発明に係る遠心圧縮機は、前記複数のノズルは、前記流路中のディフューザを形成するディフューザ前壁とディフューザ後壁との何れか一方に設けられ、他方に向かって前記洗浄液を噴射可能に形成された第一ノズルと、前記流路中のディフューザの径方向外側であって、かつ径方向に沿って設けられ、前記ディフューザに向けて前記洗浄液を噴射可能に形成されると共に、この洗浄液の少なくとも一つの噴射方向が前記インペラの回転方向と同じになるように形成された第二ノズルとで構成されていることを特徴とする。

このように構成することで、第一ノズルにより、洗浄液がディフューザ通路からリターン通路、およびリターンベーンまでの広い範囲において衝突・付着するようになる。このため、所望の流路の一部を確実に洗浄することが可能になる。
また、第二ノズルによっても洗浄液をディフューザ通路からリターン通路、およびリターンベーンまでの広い範囲に衝突・付着させることができる。このため、所望の流路の一部をさらに確実に洗浄することが可能になる。

すなわち、第二ノズルは、流路中のディフューザの径方向外側であって、かつ径方向に沿って設けられ、ディフューザに向けて洗浄液を噴射可能に形成されている。このため、複数の第二ノズルから噴射された洗浄液は、一旦、ディフューザの径方向内側に向けて流れた後、流路内を流れる主流によって押し戻され、ディフューザの下流側のリターンベンドを通ってリターンベーン側に流れる。したがって、噴射された洗浄液は比較的長い距離を通って、リターンベーン側に到達するようになる。

また、第二ノズルは、洗浄液の少なくとも一つの噴射方向が前記インペラの回転方向と同じになるように形成されているので、洗浄液はインペラの回転方向に沿う主流の流れを受けてこれに乗り、しかも比較的長い距離を通ってリターンベーン側に到達する。これにより、洗浄液はディフューザ通路からリターン通路、およびリターンベーンまでの広い範囲に衝突・付着するようになる。このため、所望の流路の一部を確実に洗浄することが可能になる。

したがって、これら第一ノズル、および第二ノズルによってスパン方向、および周方向に効率良く洗浄液を噴射することができ、これにより所望の流路の一部を確実に洗浄することができる。すなわち、インペラの出口近傍では、例えば、ディフューザ後壁側の方が主流の流速が速くなるが、スパン方向（回転軸方向）に洗浄液を噴射することにより、スパン方向（回転軸方向）により広がり易くなる。一方、ディフューザ前壁側の方では主流の流速が相対的に遅くなる分、周方向へより広がり易くなるからである。

本発明に係る遠心圧縮機は、前記第一ノズルは、前記ディフューザ後壁に設けられ、かつ前記ディフューザ前壁に向けて前記洗浄液を噴射可能に配置される一方、前記第二ノズルは、前記ディフューザ前壁に沿って配置されていることを特徴とする。

インペラの出口近傍では、ディフューザ後壁側の方が主流の流速が速くなるが、スパン方向（回転軸方向）に洗浄液を噴射することにより、スパン方向（回転軸方向）により広がり易くなる。一方、ディフューザ前壁側の方では主流の流速が相対的に遅くなる分、周方向へより広がり易くなる。このため、第一ノズル、および第二ノズルにより、スパン方向、および周方向に効率良く洗浄液を噴射して広げることが可能になり、所望の流路の一部を確実に洗浄することが可能になる。

本発明に係る洗浄方法は、上記の遠心圧縮機に設けられている洗浄液噴射装置を用い、前記流路に付着・堆積した汚れや熱反応生成物を除去する洗浄方法であって、前記複数のチャンバのうち、所望のチャンバに選択的に前記洗浄液を供給する洗浄液供給工程と、この洗浄液供給工程により、前記洗浄液が供給された前記チャンバに連通する前記ノズルを介し、前記流路に向かって前記洗浄液を噴射する洗浄液噴射工程と、この洗浄液噴射工程により噴射された前記ノズルに対応する前記流路の一部を洗浄する一部洗浄工程とを有し、これら洗浄液供給工程、洗浄液噴射工程、および一部洗浄工程とを順次繰り返すことにより、前記流路の全体を洗浄することを特徴とする。

このように構成することで、流量の限られた洗浄液で流路全体を十分洗浄することが可能になる。

本発明によれば、複数のチャンバのうち、所望のチャンバに選択的に洗浄液を供給し、このチャンバに連通するノズルから洗浄液を噴射させて流路全体のうち、洗浄液が噴射されたノズルに対応する一部の流路だけを洗浄することが可能になる。そして、これを順次繰り返すことによって、流量の限られた洗浄液で流路全体を十分洗浄することができる。

本発明の第一実施形態における遠心圧縮機の概略構成図である。 図１の要部拡大図である。 図１のＡ−Ａ線に沿う断面図である。 本発明の第一実施形態における洗浄液噴射装置の使用状態を示す模式図である。 本発明の第一実施形態におけるノズルの概略構成を示し、（ａ）は概略断面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図、（ｃ）は他の形態の概略断面図である。 （ａ）は図１のＣ−Ｃ線に沿う断面図、（ｂ）は（ａ）の他の形態を示す説明図である。 本発明の第一実施形態における洗浄液の状態を示す模式図である。 図１のＡ−Ａ線に沿う断面図であって、図３の他の形態を示す構成図である。 本発明の第二実施形態における遠心圧縮機の簡略側断面図である。 本発明の第三実施形態における遠心圧縮機の簡略側断面図である。 本発明の第四実施形態における遠心圧縮機の簡略側断面図である。 図１１のＤ−Ｄ線に沿う断面図である。 本発明の第四実施形態におけるノズルの概略構成を示し、（ａ）は断面図、（ｂ）は（ａ）のＥ−Ｅ線に沿う断面図である。 本発明の第四実施形態における洗浄液の状態を示す模式図である。 本発明の第四実施形態における洗浄液の状態を示す模式図である。

（第一実施形態）
（遠心圧縮機）
次に、この発明の第一実施形態を図１〜図８に基づいて説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
図１は、遠心圧縮機１の概略構成図である。
同図に示すように、遠心圧縮機１は、インペラを６つ備えた多段式の遠心圧縮機である。遠心圧縮機１は、軸線Ｏ回りに回転させられるシャフト（回転軸）２と、このシャフト２に取り付けられ、遠心力を利用してプロセスガス（気体）Ｇを圧縮するインペラ３と、シャフト２を回転可能に支持すると共にプロセスガスＧを上流側から下流側に流す流路４が形成されたケーシング５とを備え、さらに流路４に洗浄液Ｗを噴射する洗浄液噴射装置３０を備えている。

ケーシング５は、略円柱状の外郭をなすように形成されたもので、中心を貫くようにシャフト２が配置されている。ケーシング５の両側には、それぞれジャーナル軸受５ａ、およびスラスト軸受５ｂが設けられており、シャフト２を回転可能に支持している。つまり、シャフト２は、これらジャーナル軸受５ａ、およびスラスト軸受５ｂを介してケーシング５に支持されている。

また、ケーシング５の一端側には、プロセスガスＧが外部から流入する吸入口５ｃが設けられている一方、他端側には、プロセスガスＧが外部に流出する排出口５ｄが設けられている。ケーシング５内には、これら吸入口５ｃ、および排出口５ｄにそれぞれ連通し、縮径、および拡径を繰り返す内部空間が設けられている。
この内部空間は、インペラ３を収容する空間として機能すると共に、流路４としても機能する。つまり、吸入口５ｃと排出口５ｄは、インペラ３、および流路４を介して連通している。

図２は、図１の要部拡大図である。
図１、図２に示すように、インペラ３は、シャフト２の軸方向に間隔を開けて６つ設けられている。各インペラ３は、排出口５ｄ側に進むにつれて漸次拡径した略円盤状のハブ３ａと、ハブ３ａに放射状に取り付けられ、周方向に並んだ複数の羽根３ｂと、これら複数の羽根３ｂの先端側を周方向に覆うように取り付けられたシュラウド３ｃとにより主に構成されている。
なお、図２は、一段目、および二段目のインペラ３の周辺を示している。

流路４は、プロセスガスＧが段階的に圧縮されるように各インペラ３間を繋ぐように形成されている。
より詳しくは、この流路４は吸込通路１０と、圧縮通路１１と、ディフューザ通路（ディフューザ）１２と、リターンベンド通路（リターンベンド）１３と、リターン通路１４とにより主に構成されている。

吸込通路１０は、径方向外側から径方向内側に向かってプロセスガスＧを流した後、このプロセスガスＧの向きをインペラ３の直前でシャフト２の軸方向に変換させる通路である。具体的には、後述するリターン通路１４を備えている。
圧縮通路１１は、ハブ３ａの羽根取付面とシュラウド３ｃの内壁面とで囲まれた通路であり、吸込通路１０から送られてきたプロセスガスＧをインペラ３内で圧縮させるための通路である。

ディフューザ通路（ディフューザ）１２は、ケーシング５のディフューザ前壁１２ａと、隔壁部材５ｅのディフューザ後壁１２ｂとで囲まれた通路であり、径方向内側が圧縮通路１１に連通している。このディフューザ通路１２は、インペラ３によって圧縮されたプロセスガスＧを径方向外側に流している。そして、このディフューザ通路１２のディフューザ後壁１２ｂには、後述する洗浄液噴射装置３０が設けられている。

なお、ディフューザ通路１２の径方向外側には、リターンベンド通路１３を介してリターン通路１４に連通している。しかしながら、六段目のインペラ３に繋がるディフューザ通路１２に関しては、排出口５ｄに連通するようになっている。
また、このディフューザ通路１２には、周方向に並ぶように軸線Ｏを中心として放射状に配置される、複数のディフューザベーン（図示せず）が設けられていてもよい。

リターンベンド通路１３は、ケーシング５の反転壁１３ａと隔壁部材５ｅの外周壁１３ｂとで囲まれた湾曲してなる通路（流路）である。リターンベンド通路１３は、一端側がディフューザ通路１２に連通する一方、他端側がリターン通路１４に連通している。このリターンベンド通路１３は、ディフューザ通路１２を通って径方向外側に流れてきたプロセスガスＧの向きを径方向内側に向くように反転させ、リターン通路１４に送り出している。

なお、ディフューザ通路１２とリターンベンド通路１３との境界は、図２中において直線状に延在している部分と湾曲している部分との境界とされている。したがって、直線状に延在している部分がディフューザ通路１２となり、湾曲している部分がリターンベンド通路１３となる。

リターン通路１４は、前述したように吸込通路１０の一部を構成するもので、ケーシング５に一体的に取り付けられた隔壁部材５ｅの下流側側壁２０ａと、ケーシング５に一体的に取り付けられ、径方向内側に延伸した延伸部５ｆの上流側側壁２０ｂとで囲まれた通路である。リターン通路１４は、径方向外側にてリターンベンド通路１３の他端側に連通している。ただし、一段目のインペラ３にプロセスガスＧを送り出す吸込通路１０は、径方向外側が吸入口５ｃに連通するようになっている。

また、このリターン通路１４には、周方向に並ぶように軸線Ｏを中心として放射状に配置された、複数のリターンベーン２５が設けられている。なお、リターン通路１４とリターンベンド通路１３との境界は、図２中において直線状に延在している部分と湾曲している部分との境界とされている。したがって、直線状に延在している部分がリターン通路１４となり、湾曲している部分がリターンベンド通路１３となる。

このような構成のもと、プロセスガスＧは、吸入口５ｃから流路４内に流入し、一段目のインペラ３の吸込通路１０（リターン通路１４を含む）、圧縮通路１１、ディフューザ通路１２、リターンベンド通路１３の順に流れた後、二段目のインペラ３の吸込通路１０（リターン通路１４）、圧縮通路１１…という順に流れていく。
そして、六段目のインペラ３のディフューザ通路１２まで流れたプロセスガスＧは、排出口５ｄから外部に流出するようになっている。

また、プロセスガスＧは、前述した順で流れる途中、各インペラ３によって圧縮される。つまり、本実施形態の遠心圧縮機１では、プロセスガスＧを６つのインペラ３によって段階的に圧縮し、これによって大きな圧縮比を得るようになっている。
ここで、遠心圧縮機１には、ディフューザ通路１２のディフューザ後壁１２ｂに、洗浄液噴射装置３０が設けられている。

（洗浄液噴射装置）
図３は、図１のＡ−Ａ線に沿う断面図、図４は、洗浄液噴射装置３０の使用状態を示す模式図である。なお、図３では、シャフト２の記載を省略している。
図１〜図４に示すように、洗浄液噴射装置３０は、洗浄液Ｗを噴射する複数（例えば、この第一実施形態では１６個）のノズル３１と、これらノズル３１に連通するチャンバ５０と、このチャンバ５０に配管５１を介して洗浄液Ｗを供給する洗浄液供給源（不図示）と、配管５１の途中に設けられた流量調整弁５２とを備えたものである。

ノズル３１は、インペラ３の周方向に沿って、このインペラ３の外周と同心円状に複数配置（配列）されている。これらノズル３１は、インペラ３の周方向において等間隔に配置されたもので、この洗浄液噴射口（ノズル口３３）が、ディフューザ後壁１２ｂの内壁面にほぼ面一となるように配置されたものである。ノズル３１の数については、例えばリターンベーン２５の翼の数と同数とされる。

このように、リターンベーン２５の翼の数と同数のノズル３１をインペラ３の周方向に沿って配列すれば、一つのノズル３１では、リターンベーン２５に対して、対応する位置にある隣り合う翼の間を洗浄すればよくなる。したがって、ノズル３１から噴射した洗浄液Ｗの、流路内における周方向への広がりを大きくする必要が少なくなり、この分、スパン方向への広がりを大きくすることが可能になる。

チャンバ５０は、インペラ３とシャフト（回転軸）２とを囲繞して略円環状に形成された流路、または管体からなるものであって、ケーシング５の隔壁部材５ｅ内に設けられている。そして、チャンバ５０からディフューザ後壁１２ｂの内壁面に向け、この内壁面と直交するようにしてノズル３１が配置されている。つまり、チャンバ５０は、ノズル３１の近傍に設けられている状態になる。

また、チャンバ５０の内部には、４つの隔壁５３が周方向に等間隔に設けられている。すなわち、チャンバ５０は、４つの隔壁５３によって、４つの分割チャンバ５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，５４ｄが画成された状態になっている。
各ノズル３１は、対応する分割チャンバ５４ａ〜５４ｄと連通している。つまり、この第一実施形態においては、周方向に隣接する４つのノズル３１が、それぞれ対応する４つの分割チャンバ５４ａ〜５４ｄのうちの１つに連通していることになる。

ここで、図４、図５（ａ）、図５（ｂ）、図５（ｃ）に基づいて、ノズル３１について詳述する。
図５は、ノズル３１の概略構成を示し、（ａ）は概略断面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図、（ｃ）は他の形態の概略断面図である。
図５（ａ）に示すように、ノズル３１は、不図示の洗浄液供給源に通じる内部孔３２と、この内部孔３２に連通して洗浄液Ｗを噴射するノズル口３３とを有したものである。そして、ノズル３１は、ディフューザ後壁１２ｂからディフューザ前壁１２ａに向けてシャフト（回転軸）２と略平行となるようにして、洗浄液Ｗをディフューザ通路１２内に噴射するように配置されている。

内部孔３２は、ノズル３１の先端面３４に形成されたノズル口３３を開口端として、このノズル口３３と同じ内径に形成された直線状の整流部３５と、この整流部３５に連通して整流部３５より内径が大きく形成された大径部３６とを備えて形成されている。
整流部３５は、この流路長Ｌが、ノズル口３３の内径ｄの３倍以上に設定されている。具体的には、ノズル口３３の内径ｄは０．１ｍｍ程度から１０ｍｍ程度、好ましくは１ｍｍ以上５ｍｍ以下程度に設定されている。このように、ノズル口３３の内径ｄに対して３倍以上の流路長を有する整流部３５を設けることにより、ノズル３１から噴射される洗浄液Ｗは、図４に示すように連続した液柱状に流れる。

すなわち、ノズル３１の内部孔３２を流れる洗浄液Ｗは、整流部３５によって整流された状態でノズル口３３から噴射されるので、噴射された洗浄液Ｗには、ほとんど旋回ベクトルが与えられなくなる。
したがって、図４に示すように、噴射された洗浄液Ｗは、旋回ベクトルにより液の流れが寸断されて微粒化を起こすことなく、連続した液柱状で流れるようになる。ただし、洗浄液Ｗはこのようにして液柱状に噴射された後、主流の流れ（プロセスガスＧの流れ）による剪断力を受けることにより、その一部は微粒化を起こし、少しずつ微粒化した液滴Ｕを生じる。

また、図５（ａ）に示すように、大径部３６に整流板３７が配置されていることが望ましい。
図５（ｂ）に示すように、この整流板３７は、多数の板が縦横に配置されて格子状に設けられたものである。なお、縦横に配置された板間に形成された正方形状の一辺の長さは、ノズル口３３の内径ｄより大きく設定されている。

このような整流板３７を大径部３６に設けることにより、整流部３５に流入する洗浄液Ｗには旋回ベクトルが与えられることなく、直進ベクトルのみが与えられるようになる。したがって、さらに整流部３５を流れることで、ノズル３１から噴射される洗浄液Ｗはより良好に連続し、図４に示すように液柱状になる。
このような構成によって、ノズル３１は、ディフューザ後壁１２ｂからディフューザ前壁１２ａに至るスパン方向において、洗浄液Ｗをより広い範囲に亘って噴射することができる。

なお、図５（ｃ）に示すように、整流部３５と大径部３６により内部孔３２を形成することに限定されることはなく、整流部３５のみで形成される内部孔３２をノズル３１として、ディフューザ後壁１２ｂの内壁面に直接孔加工してもよい。この場合、ディフューザ後壁１２ｂの内壁面とチャンバ５０とにより区画される壁厚を流路長Ｌとして、この流路長Ｌをノズル口３３の内径ｄの３倍以上に形成する。これにより、十分な整流効果を得ることができるので、ノズル３１から噴射される洗浄液Ｗも良好に連続した液柱状となる。

図６（ａ）は、図１のＣ−Ｃ線に沿う断面図、図６（ｂ）は図６（ａ）の他の形態を示す説明図である。
図１〜図３、および図６（ａ）、図６（ｂ）に示すように、配管５１は、チャンバ５０の各分割チャンバ５４ａ〜５４ｄにそれぞれ一端が接続されている枝配管５５ａ〜５５ｄと、これら枝配管５５ａ〜５５ｄの他端に接続され、各枝配管５５ａ〜５５ｄを連結する連結配管５６とを有している。

各枝配管５５ａ〜５５ｄは、リターン通路１４内に設けられたリターンベーン２５、２５間を貫通し、さらに延伸部５ｆを通ってケーシング５の外側に引き出されている。あるいは、各枝配管５５ａ〜５５ｄをリターン通路１４内ではなく、リターンベンド通路１３内を貫通してもよい。

ただし、リターン通路１４内に各枝配管５５ａ〜５５ｄを横断させるにあたっては、図６（ａ）に示すようにリターンベーン２５、２５間を貫通させることなく、図６（ｂ）に示すように、リターンベーン２５中を貫通させてもよい。このようにすれば、各枝配管５５ａ〜５５ｄによる主流への影響を無くすことができる。また、この場合には、リターンベーン２５中に形成する貫通孔を、この部分での各枝配管５５ａ〜５５ｄに代えて流路として用いてもよい。

また、各枝配管５５ａ〜５５ｄには、流量調整弁５２が取り付けられている。つまり、各分割チャンバ５４ａ〜５４ｄには、それぞれノズル３１とは反対側の上流である洗浄液供給源（不図示）側に、流量調整弁５２が取り付けられている。この流量調整弁５２は、不図示の制御部からの信号に基づいて、チャンバ５０の各分割チャンバ５４ａ〜５４ｄに供給される洗浄液Ｗの流量を調整するためのものである。各流量調整弁５２は、不図示の制御部に電気的に接続されている。

各枝配管５５ａ〜５５ｄの他端同士を連結する連結配管５６の一部には、補助管５７を介して不図示の洗浄液供給源が接続されている。すなわち、連結配管５６は、洗浄液供給源から供給される洗浄液Ｗを各枝配管５５ａ〜５５ｄに分配する役割を有している。
補助管５７には、洗浄液供給源の洗浄液Ｗを連結配管５６に送出するための液送ポンプ５８が設けられている。この液送ポンプ５８は、不図示の制御部からの信号に基づいて作動し、これによって、洗浄液供給源の洗浄液Ｗが補助管５７を介して連結配管５６に送出される。

（洗浄方法）
次に、図２〜図４、および図７に基づいて、洗浄液噴射装置３０を用いた洗浄方法について説明する。
図７は、洗浄液Ｗが流路４内を流れる状態を示す模式図である。なお、図７においては、各分割チャンバ５４ａ〜５４ｄを介して噴射される洗浄液Ｗの挙動がそれぞれ同一であるので、分割チャンバ５４ａを介して噴射される洗浄液Ｗが流路４内を流れる状態のみ示し、他の分割チャンバ５４ｂ〜５４ｄを介して噴射される洗浄液Ｗの流路４を流れる状態の模式図を省略する。

図２、図３、図７に示すように、洗浄液噴射装置３０のノズル３１から洗浄液Ｗを噴射するにあたって、まず、チャンバ５０の４つの分割チャンバ５４ａ〜５４ｂに接続されている枝配管５５ａ〜５５ｄのうち、任意の枝配管、例えば、枝配管５５ａに取り付けられている流量調整弁５２を開放させると共に、他の枝配管、例えば、枝配管５５ｂ〜５５ｄに取り付けられている流量調整弁５２を遮断させる。

この状態で液送ポンプ５８が作動すると、４つの分割チャンバ５４ａ〜５４ｄのうち、分割チャンバ５４ａに接続されている枝配管５５ａのみ、不図示の洗浄液供給源から供給された洗浄液Ｗが流通される。そして、分割チャンバ５４ａに洗浄液Ｗが充填される（洗浄液供給工程）。
分割チャンバ５４ａに洗浄液Ｗが充填されると、この洗浄液Ｗが分割チャンバ５４ａからノズル３１を介して噴射される（洗浄液噴射工程）。

このとき、ノズル３１は、ディフューザ後壁１２ｂに設けられ、かつディフューザ前壁１２ａに向けて洗浄液Ｗを噴射するように配置されているので、洗浄液Ｗが、一旦シャフト２の長さ方向（回転軸方向）に沿ってディフューザ通路１２の反対側に向けて流れ、ディフューザ後壁１２ｂとディフューザ前壁１２ａとの間のスパン方向（回転軸方向）に広がる（図４参照）。

また、図４、図７に示すように、ノズル口３３から噴射された洗浄液Ｗは、一旦ディフューザ通路１２のスパン方向に広がった後、ディフューザ通路１２内を流れる主流（プロセスガスＧ）によってディフューザ通路１２の下流側に流される。このため、噴射された洗浄液Ｗは比較的長い距離を通って、リターン通路１４側に到達するようになる。

すると、洗浄液Ｗは、主流の流れ（プロセスガスＧの流れ）による剪断力を受けて少しずつ微粒化して液滴Ｕとなる。そして、ディフューザ通路１２やリターンベンド通路１３のうち、チャンバ５０の分割チャンバ５４ａに対応する部位、つまり、ディフューザ通路１２やリターンベンド通路１３の内壁面のうち、約１／４程度の内壁面に洗浄液Ｗが衝突・付着して洗浄する。さらに、主流の流れに乗ってリターン通路１４、およびリターンベーン２５側に到達した後、リターンベーン２５の翼面やリターン通路１４のうち、チャンバ５０の分割チャンバ５４ａに対応する部位、つまり、リターンベーン２５の翼面やリターン通路１４の内壁面のうち、約１／４程度の内壁面に洗浄液Ｗが衝突・付着して洗浄する（一部洗浄工程）。

一部洗浄工程が終了した後、枝配管５５ａに取り付けられている流量調整弁５２を遮断すると共に、他の枝配管５５ｂ〜５５ｄのうちの１つ、例えば、枝配管５５ｂに取り付けられている流量調整弁５２を開放する。すると、上述の洗浄液供給工程、洗浄液噴射工程を経てディフューザ通路１２やリターンベンド通路１３のうち、チャンバ５０の分割チャンバ５４ｂに対応する部位、およびリターンベーン２５の翼面やリターン通路１４のうち、チャンバ５０の分割チャンバ５４ｂに対応する部位が洗浄される。

そして、これを順次、各チャンバ５０の分割チャンバ５４ｃ，５４ｄごとに繰り返し行うことにより、ディフューザ通路１２からリターン通路１４、およびリターンベーン２５までの広い範囲全体を確実に洗浄できる。
ここで、各枝配管５５ａ〜５５ｄに取り付けられている流量調整弁５２の開閉動作、および開度の調整は、不図示の制御部からの信号に基づいて行われるようになっている。

（効果）
したがって、上述の第一実施形態によれば、チャンバ５０を隔壁５３を用いて４つの分割チャンバ５４ａ〜５４ｄに画成しているので、不図示の洗浄液供給源からの洗浄液Ｗの供給量が制限されている場合であっても、限られた範囲、つまり、ディフューザ通路１２からリターン通路１４、およびリターンベーン２５の各分割チャンバ５４ａ〜５４ｄに対応する部位を順次洗浄することにより、ディフューザ通路１２からリターン通路１４、およびリターンベーン２５全体を確実に洗浄できる。

また、各枝配管５５ａ〜５５ｄに流量調整弁５２が取り付けられているので、この流量調整弁５２を制御することにより、所望の分割チャンバ５４ａ〜５４ｄのみに洗浄液Ｗを確実に供給させることができる。このため、供給量の制限された洗浄液Ｗで効率よく流路全体を洗浄することが可能になる。

また、ケーシング５の隔壁部材５ｅ内にチャンバ５０を設けると共に、このチャンバ５０からディフューザ後壁１２ｂの内壁面に向け、この内壁面と直交するようにしてノズル３１を配置している。このため、各チャンバ５０から対応する複数のノズル口３３に至る間の距離、および構造をほぼ同一に設定することができる。このため、チャンバ５０内の圧力を均一化することができ、各ノズル口３３から噴射される噴射量を均一にすることができる。よって、さらに効率よく流路全体を洗浄することが可能になる。

ここで、洗浄液Ｗを一旦分割チャンバ５４ａ〜５４ｄに充填させてからノズル３１を介して噴射させることにより、この分割チャンバ５４ａ〜５４ｄから下流側、つまり、液送ポンプ５８から各分割チャンバ５４ａ〜５４ｄに至る間の圧力をほぼ等圧にすることができ、チャンバに設置された洗浄孔から均一に噴射できる。このため、さらに効率よくディフューザ通路１２からリターン通路１４、およびリターンベーン２５全体を洗浄できる。

さらに、シャフト（回転軸）２と略平行に洗浄液Ｗを噴射するようにしているので、洗浄液Ｗが、シャフト２の長さ方向に沿ってディフューザ通路１２の反対側に向けて良好に流れるようになる。このため、洗浄液Ｗをディフューザ前壁１２ａとディフューザ後壁１２ｂとの間のスパン方向に十分に広がらせることができる。

なお、上述の第一実施形態では、チャンバ５０は、インペラ３とシャフト（回転軸）２とを囲繞して略円環状に形成された流路、または管体からなるものであって、内部に設けられた４つの隔壁５３によって、４つの分割チャンバ５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，５４ｄが画成されている場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、例えば、図８に示すように、隔壁５３を設けずに直接ケーシング５の隔壁部材５ｅに４つの分割チャンバ５４ａ〜５４ｄを形成してもよい。

また、チャンバ５０を構成する分割チャンバ、および隔壁５３の数は４つに限られるものではなく、少なくとも２つの複数であればよい。この場合、分割チャンバの数に応じて、対応するノズル３１を分割チャンバに連通させる。さらに、各分割チャンバそれぞれに枝配管を接続し、この枝配管に流量調整弁５２を取り付ける。このとき、流量調整弁５２の開放時間や開度は、分割チャンバの数に応じて決定される。また、分割チャンバ、および隔壁５３の配置は必ずしも等間隔でなくてもよい。

（第二実施形態）
次に、この発明の第二実施形態を図９に基づいて説明する。
図９は、本発明の遠心圧縮機の第二実施形態を示す図であり、第一実施形態における図２に対応する側断面図を簡略化した図である。なお、第一実施形態と同一態様には、同一符号を付して説明する（以下の実施形態についても同様）。
この第二実形態において、遠心圧縮機１は、インペラを６つ備えた多段式の遠心圧縮機である点、遠心圧縮機１は、軸線Ｏ回りに回転させられるシャフト（回転軸）２と、このシャフト２に取り付けられ、遠心力を利用してプロセスガス（気体）Ｇを圧縮するインペラ３と、シャフト２を回転可能に支持すると共にプロセスガスＧを上流側から下流側に流す流路４が形成されたケーシング５とを備え、さらに流路４に洗浄液Ｗを噴射する洗浄液噴射装置１３０を備えている点、洗浄液噴射装置１３０は、洗浄液を噴射する複数のノズル３１と、これらノズル３１に連通するチャンバ５０と、このチャンバ５０に配管５１を介して洗浄液を供給する洗浄液供給源（不図示）と、配管５１の途中に設けられた流量調整弁５２とを備えたものである点、チャンバ５０は、４つの分割チャンバ５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，５４ｄが画成された状態になっており、各ノズル３１は、対応する分割チャンバ５４ａ〜５４ｄと連通している点等の基本的構成は前述した第一実施形態と同様である（以下の実施形態についても同様）。

ここで、図９に示すように、第二実施形態と第一実施形態との相違点は、第一実施形態ではディフューザ後壁１２ｂにノズル３１（洗浄液噴射装置３０）を配置したのに対し、第二実施形態ではディフューザ前壁１２ａにノズル３１（洗浄液噴射装置１３０）を配置した点にある。

すなわち、この第二実施形態では、延伸部５ｆのディフューザ前壁１２ａ側に配管５１、チャンバ５０、ノズル３１を配設すると共に、ノズル３１の洗浄液噴射口（ノズル口３３）をディフューザ前壁１２ａの内壁面に配置している。このように構成することで、洗浄液Ｗをディフューザ後壁１２ｂに向けて噴射するようにしている。
そして、チャンバ５０を構成する分割チャンバ５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，５４ｄごとに洗浄液Ｗを供給し、ディフューザ通路１２やリターンベンド通路１３のうち、各分割チャンバ５４ａ〜５４ｄに対応する部位を順次洗浄していく。

したがって、上述の第二実施形態によれば、前述の第一実施形態と同様の効果に加え、リターン通路１４（リターンベーン２５）内に配管５１を貫通させる必要がないため、洗浄液噴射装置３０の取り付けを容易にすることができると共に、配管５１による主流への影響を防止することができる。

（第三実施形態）
次に、この発明の第三実施形態を図１０に基づいて説明する。
図１０は、本発明の遠心圧縮機の第三実施形態を示す図であり、第一実施形態における図２に対応する側断面図を簡略化した図である。
ここで、同図に示すように、第三実施形態と第一実施形態との相違点は、第一実施形態ではディフューザ後壁１２ｂにのみノズル３１（洗浄液噴射装置３０）を配置したのに対し、第三実施形態では、このディフューザ後壁１２ｂに加えて、ディフューザ前壁１２ａにもノズル３１（洗浄液噴射装置２３０）を配置した点である。

すなわち、この第三実施形態では、第一実施形態と同様にして、ディフューザ後壁１２ｂにノズル３１を設け、かつディフューザ前壁１２ａに向かって洗浄液Ｗを噴射するように配置し、さらに、第二実施形態と同様にして、ディフューザ前壁１２ａにノズル３１を設け、かつディフューザ後壁１２ｂに向かって洗浄液Ｗを噴射するように配置している。
なお、ディフューザ後壁１２ｂ側とディフューザ前壁１２ａ側に設けられたノズル３１の周方向位置は、互いの位相を同じにしてもよいし、ずらしてもよい。例えば、半ピッチずつずれた位相に配置してもよい。

したがって、上述の第三実施形態によれば、前述の第一実施形態と同様の効果に加え、とりわけ、主流の流速が速い場合において、つまり、ノズル３１から噴射した洗浄液Ｗがスパン方向（回転軸方向）に十分に広がらないおそれがある場合において、ディフューザ前壁１２ａ、およびディフューザ後壁１２ｂの両方に、それぞれ他方の側に向けてノズル３１を配置している分、両方のノズル３１からそれぞれに洗浄液Ｗを噴射させることにより、流路４内にそのスパン方向（回転軸方向）の全長に亘って、洗浄液Ｗを確実に行き渡らせることができる。

（第四実施形態）
次に、この発明の第四実施形態を図１１〜図１５に基づいて説明する。
図１１は、本発明の遠心圧縮機の第四実施形態を示す図であり、第一実施形態における図２に対応する側断面図を簡略化した図である。図１２は、図１１のＤ−Ｄ線に沿う断面図である。
ここで、図１１、図１２に示すように、第四実施形態と第一実施形態との相違点は、第一実施形態では多数のノズル３１とチャンバ５０と配管５１とを備えた洗浄液噴射装置３０をディフューザ後壁１２ｂに設けたのに対し、第四実施形態では、この洗浄液噴射装置３０に加えて別の洗浄液噴射装置４０を設け、これら洗浄液噴射装置３０と洗浄液噴射装置４０とにより、本発明の洗浄液噴射装置を構成した点にある。

洗浄液噴射装置４０は、ノズル（第二ノズル）４１と、このノズル４１に配管（不図示）等を介して洗浄液を供給する洗浄液供給源（不図示）とを備えたものである。なお、図１２では、シャフト２の記載を省略している。

ノズル４１は、ディフューザ通路１２の径方向外側であって、かつ径方向に沿って設けられていると共に、ディフューザ通路１２側に向かって設けられている。そして、例えば、ケーシング５を貫通した状態で設けられている。
また、ノズル４１は、ディフューザ前壁１２ａに沿って配置されており、周方向に等間隔で複数（例えば、この第四実施形態では各分割チャンバ５４ａ〜５４ｄに対応するように４つ）設けられている。

すなわち、矢印Ｐで示す洗浄液Ｗの噴射方向が、インペラ３におけるノズル４１に対向する位置（最短距離となる位置）において、流体の流れ方向（図１２における矢印Ｒで示す方向）とほぼ直角に交差するように、ノズル４１が配置されている。
さらに、ノズル４１は、図１２における矢印Ｐで示す洗浄液Ｗの噴射方向が、矢印Ｑで示すインペラ３の回転方向と同じ方向になり、かつ、インペラ３にあたることなくその外側になるように配置されている。

図１３は、ノズル４１の概略構成を示し、（ａ）は断面図、（ｂ）は（ａ）のＥ−Ｅ線に沿う断面図である。図１４は、洗浄液Ｗが液柱状に流れる状態を示す模式図である。
ここで、図１３（ａ）、図１３（ｂ）に示すように、ノズル４１は、例えば、不図示の洗浄液供給源に通じる内部孔６２と、この内部孔６２に連通して洗浄液Ｗを噴射するノズル口６３とを備えている。ノズル４１の先端部には、斜面（または湾曲面）６４が形成されており、この斜面６４にノズル口６３が形成されている。

内部孔６２は、ノズル口６３を開口端としてこのノズル口６３と同じ内径を有する直線状の整流部６５と、この整流部６５に連通して整流部６５より内径が大きく形成された大径部６６とを備えて形成されている。
なお、図１３（ａ）に示した例では、先端部の斜面６４に合わせて、大径部６６の先端側にも斜面（または湾曲面）が形成されており、この斜面に整流部６５の一端側が開口している。

整流部６５は、この流路長Ｌが、ノズル口６３の内径ｄの３倍以上に設定されている。具体的には、ノズル口６３の内径ｄは０．１ｍｍ程度から１０ｍｍ程度、好ましくは１ｍｍ以上５ｍｍ以下程度に設定されている。このように、ノズル口６３の内径ｄに対して３倍以上の流路長を有する整流部６５を設けることにより、ノズル６１から噴射される洗浄液Ｗは、図１４に示すように連続した液柱状に流れる。

すなわち、ノズル６１の内部孔６２を流れる洗浄液Ｗは、整流部６５によって整流された状態でノズル口６３から噴射されるので、噴射された洗浄液Ｗには、ほとんど旋回ベクトルが与えられなくなる。したがって、噴射された洗浄液Ｗは、旋回ベクトルにより液の流れが寸断されて微粒化を起こすことなく、図１４に示すように連続した液柱状で流れるようになる。
ただし、洗浄液Ｗはこのようにして液柱状に噴射された後、主流の流れ（プロセスガスＧの流れ）による剪断力を受けることにより、その一部は微粒化を起こし、少しずつ微粒化した液滴Ｕを生じる。

また、図１３（ａ）に示すように、大径部６６には、整流板６７が配置されているのが望ましい。
図１３（ｂ）に示すように、整流板６７は、多数の板が縦横に配置されて格子状に設けられたものである。なお、縦横に配置された板間に形成された正方形状の一辺は、ノズル口６３の内径ｄより大きく設定されている。このような整流板６７を大径部３６に設けることで、整流部６５に流入する洗浄液Ｗには旋回ベクトルが与えられることなく、直進ベクトルのみが与えられるようになる。したがって、さらに整流部６５を流れることで、ノズル３１から噴射される洗浄液はより良好に連続し、図１４に示すように液柱状になる。

このような構成のもと、洗浄液噴射装置４０にあっては、ノズル口６３から噴射された洗浄液Ｗは、一旦ディフューザ通路１２の径方向内側に向けて流れた後、図７に示す場合と同様、主流によって押し戻され、ディフューザ通路１２の下流側のリターンベンド通路１３を通り、リターン通路１４内のリターンベーン２５側に流れる。

したがって、噴射された洗浄液Ｗは、洗浄液噴射装置３０から噴射された洗浄液Ｗと同様に、比較的長い距離を通って比較的長い時間をかけて、リターンベーン２５側に到達するようになる。そして、主流の流れ（プロセスガスＧの流れ）による剪断力を受けて少しずつ微粒化した液滴Ｕは、ディフューザ通路１２やリターンベンド通路１３の内壁面に衝突・付着して洗浄するとともに、主流の流れに乗ってリターン通路１４、およびリターンベーン２５側に到達した後、リターンベーン２５やリターン通路１４の内壁面に衝突・付着してここを洗浄するようになる。

また、洗浄液Ｗの噴射方向Ｐを、図１２に示したようにインペラ３の回転方向Ｑと同じ方向で、かつ、回転軸の直角断面内において流体の流れ方向とほぼ直角に交差するようにしているので、洗浄液Ｗはインペラ３の回転方向に沿う主流の流れを受けてこれに乗る。すなわち、洗浄液Ｗは回転軸の直角断面内において流体の流れ方向とほぼ直角に交差することにより、主流に押されるようにして、これに乗るようになる。このように主流の流れに乗ると、洗浄液Ｗはその噴射方向Ｐより主流の流れ方向に近づくように、流れる方向が湾曲する。この結果、洗浄液Ｗはインペラ３の回転方向Ｑにおいて、より広い範囲を流れるようになる。

すると、洗浄液Ｗは、前述したように比較的長い距離を通って、かつ比較的長い時間をかけてリターンベーン２５側に到達し、少しずつ微粒化した液滴Ｕがリターンベーン２５やリターン通路１４の内壁面に衝突・付着するので、図１５に示すように、洗浄液Ｗはリターンベーン２５側の広い範囲Ｓに、衝突・付着するようになる。

したがって、上述の第四実施形態によれば、前述の第一実施形態と同様の効果を奏することができる。
また、洗浄液噴射装置４０のノズル４１（第二ノズル）によっても、洗浄液Ｗをディフューザ通路１２からリターン通路１４、およびリターンベーン２５までの広い範囲において衝突・付着させることができ、これによって流路全体を広い範囲に亘って洗浄することができる。

さらに、洗浄液Ｗの噴射方向を、インペラ３の回転方向と同じ方向で、かつ、インペラ３の、洗浄液噴射装置に対向する位置でのシャフト（回転軸）２の直角断面内において流体の流れ方向とほぼ直角に交差するようにしているので、洗浄液Ｗがインペラ３の回転方向に沿う主流の流れを受けてこれに乗り、しかも比較的長い距離を通ってリターンベーン２５側に到達する。これにより、洗浄液Ｗは、ディフューザ通路１２からリターン通路１４、およびリターンベーン２５までの広い範囲に衝突・付着するようになり、これによって流路全体を広い範囲に亘って洗浄することができる。

また、洗浄液噴射装置３０のノズル３１（第一ノズル）をディフューザ後壁１２ｂに設けて、洗浄液Ｗをディフューザ前壁１２ａに向けて噴射するように配置し、洗浄液噴射装置４０のノズル４１（第二ノズル）をディフューザ前壁１２ａに沿って配置している。このため、これらノズル３１、４１によってスパン方向、および周方向に効率良く洗浄液を噴射することができる。よって、流路全体をより広い範囲に亘って洗浄することができる。
これは、インペラ３の出口近傍では、ディフューザ後壁１２ｂ側の方が主流の流速が速くなり、その分、ノズル３１から噴射した洗浄液の微粒化が進み、スパン方向（回転軸方向）により広がり易くなるからである。一方、ディフューザ前壁１２ａ側の方では、主流の流速が相対的に遅くなる分、周方向へより広がり易くなるからである。

なお、本発明は上述の実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述の実施形態に種々の変更を加えたものを含む。
例えば、上述の実施形態では、洗浄液噴射装置３０，１３０，２３０のノズル３１は、洗浄液Ｗの噴射方向がインペラ３の回転軸（シャフト２）と略平行になるように配置されている場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、必要に応じて、洗浄液Ｗの噴射方向を主流の上流側、または下流側に傾けてもよく、あるいは、流路の径方向内側、または径方向外側に傾けてもよい。

また、上述の第四実施形態では、第一実施形態の洗浄液噴射装置３０に加え、洗浄液噴射装置４０を配置した場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、第二実施形態の洗浄液噴射装置１３０、および第三実施形態の洗浄液噴射装置２３０に加え、洗浄液噴射装置４０を配置してもよい。
さらに、上述の第四実施形態では、洗浄液噴射装置３０のノズル３１（第一ノズル）をディフューザ後壁１２ｂに設けると共に、洗浄液噴射装置４０のノズル４１（第二ノズル）をディフューザ前壁１２ａに沿って配置した。しかしながらこれに限られるものではなく、逆に、洗浄液噴射装置３０のノズル３１（第一ノズル）をディフューザ前壁１２ａに設け、洗浄液噴射装置４０のノズル４１（第二ノズル）をディフューザ後壁１２ｂに沿って配置してもよい。

そして、上述の第四実施形態では、チャンバ５０の分割チャンバ５４ａ〜５４ｄに対応するように、ノズル４１を４つ設けた場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、分割チャンバの数に応じてノズル４１の設置個数を変えてもよいし、各分割チャンバ５４ａ〜５４ｄにそれぞれ２つ以上の複数のノズル４１を設けるように構成してもよい。また、ノズル４１を等間隔に環状配置させたが、必ずしも等間隔でなくてもよい。

また、上述の実施形態では、遠心圧縮機１は、インペラを６つ備えた多段式の遠心圧縮機である場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、単段式の遠心圧縮機にも上述の洗浄液噴射装置３０，４０，１３０，２３０を適用することが可能である。

１ 遠心圧縮機
２ シャフト（回転軸）
３ インペラ
４ 流路
５ ケーシング
５ｅ 隔壁部材
５ｆ 延伸部
１２ ディフューザ通路（ディフューザ）
１２ａ ディフューザ前壁
１２ｂ ディフューザ後壁
１３ リターンベンド通路
１４ リターン通路
３０，４０，１３０，２３０ 洗浄液噴射装置
３１ ノズル（第一ノズル）
３３，６３ ノズル口
４１ ノズル（第二ノズル）
５０ チャンバ
５１ 配管
５２ 流量調整弁
５４ａ〜５４ｄ 分割チャンバ
５５ａ〜５５ｄ 枝配管
５６ 連結配管
５７ 補助配管
Ｇ プロセスガス
Ｐ 噴射方向
Ｑ インペラの回転方向
Ｗ 洗浄液

Claims (10)

1. ケーシングと、
   このケーシング内に支持された回転軸と、
   この回転軸に設けられ回転して流体を圧縮するインペラと、
   このインペラと前記ケーシングとにより形成される流路に洗浄液を噴射する洗浄液噴射装置とを備えた遠心圧縮機であって、
   前記洗浄液噴射装置は、
   前記回転軸の周方向に沿って設けられ、前記流路内に前記洗浄液を噴射させる複数のノズルと、
   これら複数のノズルのうち、対応するノズルと連通し、この対応するノズルに前記洗浄液を供給する複数のチャンバとを有し、
   各チャンバの前記ノズルとは反対側の上流に、それぞれ前記チャンバへ供給する前記洗浄液の流量を制御する流量調整弁を設けたことを特徴とする遠心圧縮機。
2. ケーシングと、
   このケーシング内に支持された回転軸と、
   この回転軸に設けられ回転して流体を圧縮するインペラと、
   このインペラと前記ケーシングとにより形成される流路に洗浄液を噴射する洗浄液噴射装置とを備えた遠心圧縮機であって、
   前記洗浄液噴射装置は、
   前記回転軸の周方向に沿って設けられ、前記流路内に前記洗浄液を噴射させる複数のノズルと、
   これら複数のノズルのうち、対応するノズルと連通し、この対応するノズルに前記洗浄液を供給する複数のチャンバとを有し、
   前記ノズルの数は、前記回転軸の径方向外側から内側に向かって前記流体を流した後、該流体の向きを前記インペラの直前で前記回転軸の軸方向に変換させる吸込通路に設けられたリターンベーンの翼の数と同数とされることを特徴とする遠心圧縮機。
3. 前記ケーシングにおける前記複数のノズルの近傍に、前記複数のチャンバを前記回転軸の周方向に沿って設けたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遠心圧縮機。
4. 前記流路中のディフューザを形成するディフューザ前壁とディフューザ後壁との少なくとも何れか一方に、前記複数のノズルを形成したことを特徴とする請求項１〜請求項３の何れか一項に記載の遠心圧縮機。
5. 前記回転軸の軸方向に沿って前記洗浄液を噴射可能に、前記複数のノズルを設けたことを特徴とする請求項４に記載の遠心圧縮機。
6. 前記複数のノズルは、
   前記流路中のディフューザを形成するディフューザ前壁とディフューザ後壁との何れか一方に設けられ、他方に向かって前記洗浄液を噴射可能に形成された第一ノズルと、
   前記流路中のディフューザの径方向外側であって、かつ径方向に沿って設けられ、前記ディフューザに向けて前記洗浄液を噴射可能に形成されると共に、この洗浄液の少なくとも一つの噴射方向が前記インペラの回転方向と同じになるように形成された第二ノズルとで構成されていることを特徴とする請求項１〜請求項３の何れか一項に記載の遠心圧縮機。
7. 前記第一ノズルは、
   前記ディフューザ後壁に設けられ、かつ前記ディフューザ前壁に向けて前記洗浄液を噴射可能に配置される一方、
   前記第二ノズルは、
   前記ディフューザ前壁に沿って配置されていることを特徴とする請求項６に記載の遠心圧縮機。
8. ケーシングと、
   このケーシング内に支持された回転軸と、
   この回転軸に設けられ回転して流体を圧縮するインペラと、
   このインペラと前記ケーシングとにより形成される流路に洗浄液を噴射する洗浄液噴射装置とを備えた遠心圧縮機であって、
   前記洗浄液噴射装置は、
   前記回転軸の周方向に沿って設けられ、前記流路内に前記洗浄液を噴射させる複数のノズルと、
   これら複数のノズルのうち、対応するノズルと連通し、この対応するノズルに前記洗浄液を供給する複数のチャンバとを有し、
   前記複数のノズルは、
   前記流路中のディフューザを形成するディフューザ前壁とディフューザ後壁との何れか一方に設けられ、他方に向かって前記洗浄液を噴射可能に形成された第一ノズルと、
   前記流路中のディフューザの径方向外側であって、かつ径方向に沿って設けられ、前記ディフューザに向けて前記洗浄液を噴射可能に形成されると共に、この洗浄液の少なくとも一つの噴射方向が前記インペラの回転方向と同じになるように形成された第二ノズルとで構成されていることを特徴とする遠心圧縮機。
9. 前記第一ノズルは、
   前記ディフューザ後壁に設けられ、かつ前記ディフューザ前壁に向けて前記洗浄液を噴射可能に配置される一方、
   前記第二ノズルは、
   前記ディフューザ前壁に沿って配置されていることを特徴とする請求項８に記載の遠心圧縮機。
10. 請求項１〜請求項９の何れか一項に記載の遠心圧縮機に設けられている洗浄液噴射装置を用い、前記流路に付着・堆積した汚れや熱反応生成物を除去する洗浄方法であって、
    前記複数のチャンバのうち、所望のチャンバに選択的に前記洗浄液を供給する洗浄液供給工程と、
    この洗浄液供給工程により、前記洗浄液が供給された前記チャンバに連通する前記ノズルを介し、前記流路に向かって前記洗浄液を噴射する洗浄液噴射工程と、
    この洗浄液噴射工程により噴射された前記ノズルに対応する前記流路の一部を洗浄する一部洗浄工程とを有し、
    これら洗浄液供給工程、洗浄液噴射工程、および一部洗浄工程とを順次繰り返すことにより、前記流路の全体を洗浄することを特徴とする洗浄方法。

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