JP5668899B1 - 消泡剤、界面活性剤組成物、コーティング組成物及びレジスト組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
Rf(CH2)mZH (1)
〔式中、mは0〜20の整数であり、Rfは−CnF2n+1(nは1〜20の整数である。)であり、Zは水素原子若しくは炭素数1〜24のアルキル基を有する窒素原子、酸素原子、硫黄原子、又は−SO2−NR−(Rは水素原子、又は炭素数1〜24のアルキル基である。)である。〕で表される化合物、又は下記一般式(2)
C4F9SO2N(CH3)H (a2−1)
C4F9SO2N(C3H7)H (a2−2)
C4F9CH2CH2N(C8H17)H (a2−3)
C4F9CH2CH2SH (a2−4)
C6F13CH2CH2SO2N(C8H17)H (a2−5)
C6F13CH2CH2SH (a2−6)
C6F13CH2CH2N(C4H9)H (a2−7)
C8F17CH2CH2SH (a2−8)
C8F17CH2N(C3H7)H (a2−9)
C9F19CH2CH2SH (a2−10)
C10F21CH2CH2CH2N(C3H7)H (a2−11)
C12F25CH2CH2SH (a2−12)
[GPC測定条件]
測定装置:東ソー株式会社製「HLC−8220 GPC」、
カラム:東ソー株式会社製ガードカラム「HHR−H」(6.0mmI.D.×4cm)+東ソー株式会社製「TSK−GEL GMHHR−N」(7.8mmI.D.×30cm)+東ソー株式会社製「TSK−GEL GMHHR−N」(7.8mmI.D.×30cm)+東ソー株式会社製「TSK−GEL GMHHR−N」(7.8mmI.D.×30cm)+東ソー株式会社製「TSK−GEL GMHHR−N」(7.8mmI.D.×30cm)
検出器:ELSD(オルテック製「ELSD2000」)
データ処理:東ソー株式会社製「GPC−8020モデルIIデータ解析バージョン4.30」
測定条件:カラム温度 40℃
展開溶媒 テトラヒドロフラン(THF)
流速 1.0ml/分
試料:樹脂固形分換算で1.0質量%のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの(5μl)。
標準試料:前記「GPC−8020モデルIIデータ解析バージョン4.30」の測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の下記の単分散ポリスチレンを用いた。
東ソー株式会社製「A−500」
東ソー株式会社製「A−1000」
東ソー株式会社製「A−2500」
東ソー株式会社製「A−5000」
東ソー株式会社製「F−1」
東ソー株式会社製「F−2」
東ソー株式会社製「F−4」
東ソー株式会社製「F−10」
東ソー株式会社製「F−20」
東ソー株式会社製「F−40」
東ソー株式会社製「F−80」
東ソー株式会社製「F−128」
東ソー株式会社製「F−288」
東ソー株式会社製「F−550」
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール40gおよびトリエチルアミン1gを加えた。ここにジペンタエリスリトールヘキサアクリレート10gを1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で6時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(1)を得た。消泡剤(1)の数平均分子量は3,022で重量平均分子量は3,107であった。また、フッ素含有率は51.8質量%であった。
[13C−NMR測定条件]
装置:日本電子(株)製AL−400
溶媒:クロロホルム-d1
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール40gおよびトリエチルアミン1gを加えた。ペンタエリスリトールトリアクリレート10gを1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で6時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(2)を得た。消泡剤(2)の数平均分子量は1,713で、重量平均分子量は1,773であった。また、フッ素含有率は51.5質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール41gおよびトリエチルアミン1gを加えた。ペンタエリスリトールテトラアクリレート9gを1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で6時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(3)を得た。消泡剤(3)の数平均分子量は2,048で、重量平均分子量は2,084であった。また、フッ素含有率は52.8質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール38gおよびトリエチルアミン1gを加えた。ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート12gを1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で6時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(4)を得た。消泡剤(4)の数平均分子量は2,260で、重量平均分子量は2,299であった。また、フッ素含有率は49.7質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール59gおよびトリエチルアミン2gを加えた。繰り返し単位数7のポリオキシプロピレンジアクリレート41gを滴下装置にセットし、1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で12時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(5)を得た。消泡剤(5)の数平均分子量は1、354で、重量平均分子量1,393であった。また、フッ素含有率は35.9質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール36gおよびトリエチルアミン1gを加えた。繰り返し単位数4のポリオキシエチレンジアクリレート14gを滴下装置にセットし、1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で12時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(6)を得た。消泡剤(6)の数平均分子量は1,157で、重量平均分子量は1,165であった。また、フッ素含有率は46.2質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール35gおよびトリエチルアミン1gを加えた。繰り返し単位数4のポリオキシブチレンジアクリレート15gを滴下装置にセットし、1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で12時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(7)を得た。消泡剤(7)の数平均分子量は1,283で、重量平均分子量は1,306であった。また、フッ素含有率は44.9質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール38gおよびトリエチルアミン1gを加えた。繰り返し単位数2のポリオキシプロピレンジアクリレート12gを滴下装置にセットし、1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で12時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(8)を得た。消泡剤(8)の数平均分子量は1,080で、重量平均分子量は1,084であった。また、フッ素含有率は49.3質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール97gおよびトリエチルアミン3gを加えた。ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3gを1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で6時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(9)を得た。消泡剤(9)の数平均分子量は3,022で重量平均分子量は3,107であった。また、フッ素含有率は51.8質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール99gおよびトリエチルアミン3gを加えた。ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート1gを1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で6時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(10)を得た。消泡剤(10)の数平均分子量は3,022で重量平均分子量は3,107であった。また、フッ素含有率は51.8質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール39gおよびトリエチルアミン1gを加えた。1,6−ヘキサンジオールジアクリレート11gを1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で6時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(11)を得た。消泡剤(11)の数平均分子量は978で、重量平均分子量は982であった。また、フッ素含有率は50.1質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール37gおよびトリエチルアミン1gを加えた。1,10−デカンジオールジアクリレート13gを1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で6時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(12)を得た。消泡剤(12)の数平均分子量は1,119で、重量平均分子量は1,123であった。また、フッ素含有率は47.4質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール36gおよびトリエチルアミン1gを加えた。トリシクロデカンジメタノールジアクリレート14gを1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で6時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(13)を得た。消泡剤(13)の数平均分子量は988で、重量平均分子量は992であった。また、フッ素含有率は46.4質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール29gおよびトリエチルアミン1gを加えた。9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン21gを1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で6時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(14)を得た。消泡剤(14)の数平均分子量は1,256で、重量平均分子量は1,261であった。また、フッ素含有率は37.8質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール38.5gおよびトリエチルアミン1gを加えた。ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート11.5gを1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で6時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である本発明の消泡剤(15)を得た。消泡剤(15)の数平均分子量は2,759で重量平均分子量は2,861であった。また、フッ素含有率は50.1質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール25gおよびトリエチルアミン1gを加えた。繰り返し単位数6のポリオキシプロピレンアクリレート26gを滴下装置にセットし、1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で12時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である比較対照用消泡剤(1´)を得た。消泡剤(1´)の数平均分子量は1,126で重量平均分子量は1,205であった。また、フッ素含有率は30.9質量%であった。
撹拌装置、コンデンサー、温度計を備えたガラスフラスコに、空気気流中、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタンチオール20gおよびトリエチルアミン0.1gを加えた。ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート30gを滴下装置にセットし、1時間かけて滴下した。滴下終了後、85℃で12時間撹拌した。反応終了後、減圧下で未反応原料を留去することにより、固形分100%である比較対照用消泡剤(2´)を得た。消泡剤(2´)の数平均分子量は1,157で、重量平均分子量は1,165であった。また、フッ素含有率は質量25.8%であった。
撹拌装置、温度計を備えたガラスフラスコに、1,3−プロパンジアミン4g、トルエン51gを加えて5℃で撹拌した。3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチルスルホニルクロライド46gをトルエン102gに溶解して滴下装置にセットし、2時間かけて滴下した。滴下終了後、5℃で2時間撹拌した。反応終了後、イオン交換水50g、n−ブタノール50gを加え、1時間撹拌した。溶液をろ過し、得られた固体を真空乾燥することで固形分100%である比較対照用消泡剤(3´)を得た。消泡剤(3´)の数平均分子量は968で、重量平均分子量は967であった。また、フッ素含有率は55.2質量%であった。
得られた消泡剤とフッ素系界面活性剤を含む溶剤溶液を第1表に示す配合で調製し、この溶剤溶液の消泡性を評価した。溶剤溶液の調製方法と評価方法を下記に示す。また、この評価の結果を第1表表に示す。
消泡剤を固形分換算で質量換算による含有率が0.1%となるように、また、フッ素系界面活性剤を固形分換算で質量換算による含有率が1.0%となるようにそれぞれプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下PGMEAと略記する)に加え、溶剤溶液を得た。この溶剤溶液を100mlのガラス瓶に50g加え密封し、このガラス瓶を25℃の恒温層で30分間放置した。その後、このガラス瓶を20cm幅で10回振とうすることにより、溶剤溶液の液面上に泡を発生させた。泡を発生させたあとすぐにガラス瓶を静置し、静置した時を起点として泡の消失により溶剤溶液の液面が露出し始めるまでの時間(T0)を測定した。これらの時間が短い程、消泡性に優れる溶剤溶液が得られる界面活性剤であることを示す。
フッ素系界面活性剤(1):DIC株式会社製のメガファックF−554
フッ素系界面活性剤(2):DIC株式会社製のメガファックF−560
フッ素系界面活性剤(3):DIC株式会社製のメガファックF−561
消泡剤(4´):ビックケミージャパン株式会社製の非シリコーン系ポリマ型消泡剤(BYK−1790)
2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンとo−ナフトキシジアジド−5−スルホニルクロライドとの縮合物27部と、クレゾ−ルとホルムアルデヒドとを縮合してなるノボラック樹脂100部をプロピレングリコールメチルエーテルアセテート400重量部に溶解して溶液を調整し、これに消泡剤(1)を固形分換算で質量換算による含有率が0.05%となるように、また、フッ素系界面活性剤(F−554)を固形分換算で質量換算による含有率が0.5%となるように配合し混合溶液を得た。この混合溶液を孔径0.2μmのポリテトラフルオロエチレン製のフィルターで精密濾過し本発明のコーティング組成物(1)〔レジスト組成物(1)〕を得た。
○:塗膜表面上にハジキ、ブツがほとんど観察されない。
△:塗膜表面上にハジキ、ブツが一部観察される。
×:塗膜表面上にハジキ、ブツが多く観測される。
第2表に示す消泡剤及び界面活性剤を用いた以外は実施例11と同様にして本発明のコーティング組成物(2)〔レジスト組成物(2)〕〜コーティング組成物(15)〔レジスト組成物(15)〕及び比較対照用コーティング組成物(比較対照用レジスト組成物)(1´)〜(7´)を得た。実施例11と同様にして塗膜表面の平滑性を評価し、その結果を第2表に示す。
Claims (8)
- 1分子中にk個(ここで、kは2以上である。)の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(a1)1モルに、フッ素化アルキル基と活性水素とを有する化合物(a2)2〜kモルをマイケル付加させて得られ、前記kが2〜40であることを特徴とする消泡剤。
- 前記フッ素化アルキル基と活性水素とを有する化合物(a2)が下記一般式(1)
Rf(CH2)mZH (1)
〔式中、mは0〜20の整数であり、Rfは−CnF2n+1(nは1〜20の整数である。)であり、Zは炭素数1〜24のアルキル基を有する窒素原子、酸素原子、硫黄原子、又は−SO2−NR−(Rは水素原子、又は炭素数1〜24のアルキル基である。)である。〕で表される化合物、又は下記一般式(2)
〔式中、Yは酸素原子または硫黄原子であり、pとqはそれぞれ1〜4の整数であり、RfとRf1はそれぞれ−CnF2n+1(nは1〜20の整数である。)であり、LとL1はそれぞれカルボニル基、カルボニル基を有する炭素原子数1〜4のアルキル基または炭素原子数1〜4のアルキル基である〕で表される化合物である請求項1記載の消泡剤。 - 前記一般式(1)中のZが水素原子若しくは炭素数1〜6のアルキル基を有する窒素原子、硫黄原子、又は−SO2−NR−(Rは炭素数1〜6のアルキル基である。)である請求項2記載の消泡剤。
- 前記1分子中にk個(ここで、kは2以上である。)の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(a1)が下記一般式(3)
〔式中、R’は炭素原子数1〜24のアルキル基、炭素原子数1〜24のアルキルカルボニルオキシ基、CH2=CHCO2CH2−、CH2=C(CH3)CO2CH2−、繰り返し数が1以上で末端が水素原子或いは炭素原子数1〜18のアルキル基で封鎖された(ポリ)オキシアルキレン基、炭素原子数1〜12のアルキロール基、カルボキシル基、又は下記一般式(4)
(式中、R3は(メタ)アクリロイル基であり、R4は水素原子、炭素原子数1〜18アルキル基、炭素原子数1〜18のアルキルエステル基又はカルボキシル基であり、tは0〜3の整数であり、uは0〜3の整数であって且つt+u=3である。)で表される基であり、R1は(メタ)アクリロイル基であり、R2は水素原子又は炭素原子数1〜18のアルキルカルボニル基であり、rは2又は3であり、sは0又は1であって且つr+s=3である。〕で表される化合物(a1−1)、下記一般式(5)
〔式中、R6、R7はそれぞれ(メタ)アクリロイル基であり、Lは炭素原子数1〜18のアルキル基、繰り返し単位数が1〜30である炭素原子数1〜4のアルキレンオキシ基、炭素原子数3〜100の環状炭化水素基または炭素原子数6〜100の芳香族炭化水素基である。〕で表される化合物(a1−2)、ウレタン(メタ)アクリレート(a1−3)、シアヌレート環含有トリ(メタ)アクリレート(a1−4)及びリン酸トリ(メタ)アクリレート(a1−5)からなる群から選ばれる1種以上の化合物である請求項1記載の消泡剤。 - 前記1分子中にk個(ここで、Kは2以上である。)の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(a1)が、前記一般式(3)〔但し、R’が炭素数1〜4の直鎖状のアルキル基、CH2=CHCO2CH2−、CH2=C(CH3)CO2CH2−、若しくは炭素数1〜3のアルキロール基である、または前記一般式(4)で表される基であって且つR3が水素原子若しくは炭素数1〜12のアルキルカルボニル基である。〕で表される化合物、又は2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する水酸基含有(メタ)アクリレート(x1)とイソシアネート化合物(x2)とを反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレートである請求項4記載の消泡剤。
- 請求項1〜5のいずれか1項記載の消泡剤とフッ素系界面活性剤とを含むことを特徴とする界面活性剤組成物。
- 請求項1〜5のいずれか1項記載の消泡剤とフッ素系界面活性剤とを含むことを特徴とするコーティング組成物。
- 請求項1〜5のいずれか1項記載の消泡剤とフッ素系界面活性剤とを含むことを特徴とするレジスト組成物。
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| CN116546754A (zh) * | 2023-07-06 | 2023-08-04 | 深圳市锐舞数码科技有限公司 | 电子设备保护壳及其制造方法 |
| CN117106268B (zh) * | 2023-09-07 | 2024-04-16 | 杭州管康塑业有限公司 | 一种高抗冲高耐候pvc增强管材及其制备方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005170936A (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-30 | Dainippon Ink & Chem Inc | フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートの製造方法 |
| JP2007246696A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Dainippon Ink & Chem Inc | コーティング用硬化性組成物 |
| JP2007262286A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Dainippon Ink & Chem Inc | コーティング組成物 |
| JP2007262287A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Dainippon Ink & Chem Inc | コーティング組成物 |
| JP2012521472A (ja) * | 2009-03-25 | 2012-09-13 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | 改善された生物付着防止コーティング |
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005170936A (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-30 | Dainippon Ink & Chem Inc | フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートの製造方法 |
| JP2007246696A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Dainippon Ink & Chem Inc | コーティング用硬化性組成物 |
| JP2007262286A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Dainippon Ink & Chem Inc | コーティング組成物 |
| JP2007262287A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Dainippon Ink & Chem Inc | コーティング組成物 |
| JP2012521472A (ja) * | 2009-03-25 | 2012-09-13 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | 改善された生物付着防止コーティング |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015120861A (ja) * | 2013-12-25 | 2015-07-02 | Dic株式会社 | 界面活性剤組成物、コーティング組成物及びレジスト組成物 |
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