JP5428145B2 - トリクロロシラン製造装置 - Google Patents
トリクロロシラン製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5428145B2 JP5428145B2 JP2007259445A JP2007259445A JP5428145B2 JP 5428145 B2 JP5428145 B2 JP 5428145B2 JP 2007259445 A JP2007259445 A JP 2007259445A JP 2007259445 A JP2007259445 A JP 2007259445A JP 5428145 B2 JP5428145 B2 JP 5428145B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- gas
- trichlorosilane
- reaction vessel
- supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
- C01B33/1071—Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J12/00—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor
- B01J12/007—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor in the presence of catalytically active bodies, e.g. porous plates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/02—Apparatus characterised by being constructed of material selected for its chemically-resistant properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J19/2415—Tubular reactors
- B01J19/243—Tubular reactors spirally, concentrically or zigzag wound
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00051—Controlling the temperature
- B01J2219/00132—Controlling the temperature using electric heating or cooling elements
- B01J2219/00135—Electric resistance heaters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00051—Controlling the temperature
- B01J2219/0015—Controlling the temperature by thermal insulation means
- B01J2219/00155—Controlling the temperature by thermal insulation means using insulating materials or refractories
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/02—Apparatus characterised by their chemically-resistant properties
- B01J2219/025—Apparatus characterised by their chemically-resistant properties characterised by the construction materials of the reactor vessel proper
- B01J2219/0272—Graphite
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
4SiHCl3 → Si+3SiCl4+2H2 ・・・(2)
SiCl4+H2 → SiHCl3+HCl ・・・(3)
このトリクロロシランを製造する装置として、例えば特許文献1には、発熱体に囲まれた反応室が、同心配置の2つの管によって形成された外室と内室をもった二重室設計とされ、この反応室の下部に設けられた熱交換器を介して反応室に下方から水素とテトラクロロシランとの供給ガスを供給すると共に反応室の下方から反応生成ガスを排出する反応器が提案されている。この反応器では、外室に導入された供給ガスが発熱体により加熱されて反応生成ガスに転換されつつ、ダイバータを介して内側の内室に通された後に排出されるようになっている。
Claims (4)
- テトラクロロシランと水素とを含む供給ガスが内部に供給されてトリクロロシランと塩化水素とを含む反応生成ガスが生成される反応容器と、
前記反応容器の内部を加熱する加熱機構と、
前記反応容器内に前記供給ガスを供給するガス供給部と、
前記反応容器から前記反応生成ガスを外部に排出するガス排気部とを備え、
前記反応容器の内部には、ほぼ同心配置された内径の異なる複数の反応筒壁が下部支持円板によって支持されるとともに、これら反応筒壁によって仕切られた複数の小空間を、これら反応筒壁の下部と上部とに交互に形成した流通用貫通部によって内側から順に連通状態としてなる反応流路が形成され、
該反応流路に前記下部支持円板を貫通して前記ガス供給部及びガス排気部が接続され、
前記ガス排気部は複数備えられており、
前記複数の小空間のうち最も内側の小空間に前記ガス供給部が連通されていると共に、最も外側の小空間に複数の前記ガス排気部が接続され、
前記下部支持円板は、その下方に配置される断熱材から浮かされた状態に設置されていることを特徴とするトリクロロシラン製造装置。 - 請求項1に記載のトリクロロシラン製造装置において、
前記反応容器及び前記加熱機構を収納する収納容器を備え、
前記収納容器内にアルゴンを供給するアルゴン供給機構を備えていることを特徴とするトリクロロシラン製造装置。 - 請求項1または2に記載のトリクロロシラン製造装置において、
前記反応容器を構成する部材が、カーボンで形成されていることを特徴とするトリクロロシラン製造装置。 - 請求項3に記載のトリクロロシラン製造装置において、
前記カーボンの表面が、炭化珪素でコーティングされていることを特徴とするトリクロロシラン製造装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007259445A JP5428145B2 (ja) | 2006-10-31 | 2007-10-03 | トリクロロシラン製造装置 |
| US12/226,202 US20090202404A1 (en) | 2006-10-31 | 2007-10-23 | Apparatus for Producing Trichlorosilane |
| CN2007800126968A CN101421188B (zh) | 2006-10-31 | 2007-10-23 | 三氯硅烷制造装置 |
| EP07830378A EP2014618A4 (en) | 2006-10-31 | 2007-10-23 | APPARATUS FOR PRODUCING TRICHLOROSILANE |
| PCT/JP2007/070644 WO2008053750A1 (en) | 2006-10-31 | 2007-10-23 | Trichlorosilane production apparatus |
| US14/929,873 US9416014B2 (en) | 2006-10-31 | 2015-11-02 | Method for producing trichlorosilane |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006297034 | 2006-10-31 | ||
| JP2006297034 | 2006-10-31 | ||
| JP2007259445A JP5428145B2 (ja) | 2006-10-31 | 2007-10-03 | トリクロロシラン製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008133168A JP2008133168A (ja) | 2008-06-12 |
| JP5428145B2 true JP5428145B2 (ja) | 2014-02-26 |
Family
ID=39344093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007259445A Expired - Fee Related JP5428145B2 (ja) | 2006-10-31 | 2007-10-03 | トリクロロシラン製造装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US20090202404A1 (ja) |
| EP (1) | EP2014618A4 (ja) |
| JP (1) | JP5428145B2 (ja) |
| CN (1) | CN101421188B (ja) |
| WO (1) | WO2008053750A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010087001A1 (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-05 | 電気化学工業株式会社 | 炭素含有材料からなる反応容器を備える反応装置、その反応装置の腐食防止方法およびその反応装置を用いたクロロシラン類の生産方法 |
| DE102010000978A1 (de) * | 2010-01-18 | 2011-07-21 | Evonik Degussa GmbH, 45128 | Strömungsrohrreaktor zur Umsetzung von Siliciumtetrachlorid zu Trichlorsilan |
| CN102134079B (zh) * | 2010-01-27 | 2014-07-09 | 三菱综合材料株式会社 | 三氯硅烷制造装置 |
| JP5482687B2 (ja) | 2010-02-17 | 2014-05-07 | 三菱マテリアル株式会社 | トリクロロシラン製造装置および製造方法 |
| CN102190305B (zh) | 2010-03-15 | 2014-10-29 | 三菱综合材料株式会社 | 三氯硅烷制造装置 |
| DE102011089695A1 (de) * | 2011-12-22 | 2013-06-27 | Schmid Silicon Technology Gmbh | Reaktor und Verfahren zur Herstellung von Reinstsilizium |
| DE102012218941A1 (de) * | 2012-10-17 | 2014-04-17 | Wacker Chemie Ag | Reaktor und Verfahren zur endothermen Gasphasenreaktion in einem Reaktor |
| MY179882A (en) * | 2013-09-30 | 2020-11-18 | Lg Chemical Ltd | Method for producing trichlorosilane |
| DE102014205001A1 (de) | 2014-03-18 | 2015-09-24 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR656254A (fr) * | 1926-06-22 | 1929-05-06 | Appareil pour l'exécution de réactions entre fluides, s'accomplissant à température élevée | |
| US2145084A (en) * | 1936-02-12 | 1939-01-24 | Hersey John Cronin | Heat exchange apparatus |
| DE3024320A1 (de) * | 1980-06-27 | 1982-04-01 | Wacker-Chemitronic Gesellschaft für Elektronik-Grundstoffe mbH, 8263 Burghausen | Vorrichtung zur hochtemperaturbehandlung von gasen |
| JPS57156318A (en) * | 1981-03-16 | 1982-09-27 | Koujiyundo Silicon Kk | Production of trichlorosilane |
| US4668493A (en) * | 1982-06-22 | 1987-05-26 | Harry Levin | Process for making silicon |
| US4737348A (en) | 1982-06-22 | 1988-04-12 | Harry Levin | Apparatus for making molten silicon |
| JPS60122714A (ja) | 1983-12-06 | 1985-07-01 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 四塩化珪素の製造方法及びその製造装置 |
| JPS6221706A (ja) * | 1985-07-22 | 1987-01-30 | Nippon Steel Corp | トリクロルシランを介する珪素または珪素化合物の循環的製造方法 |
| JPH0649569B2 (ja) * | 1985-11-25 | 1994-06-29 | 高純度シリコン株式会社 | トリクロルシランの製造方法およびその装置 |
| US5906799A (en) * | 1992-06-01 | 1999-05-25 | Hemlock Semiconductor Corporation | Chlorosilane and hydrogen reactor |
| JP3286817B2 (ja) | 1993-01-28 | 2002-05-27 | 松下電器産業株式会社 | 多室型空気調和装置 |
| JP3529070B2 (ja) * | 1995-12-01 | 2004-05-24 | 電気化学工業株式会社 | カーボン製反応容器 |
| US20040173597A1 (en) * | 2003-03-03 | 2004-09-09 | Manoj Agrawal | Apparatus for contacting gases at high temperature |
| JP4232758B2 (ja) | 2005-04-25 | 2009-03-04 | 信隆 中村 | ズボン掛け付きハンガー |
| DE102005046703A1 (de) * | 2005-09-29 | 2007-04-05 | Wacker Chemie Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Hydrierung von Chlorsilanen |
| JP2007259445A (ja) | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Fujitsu Ltd | Ofdm通信システムにおける送信装置及び方法 |
-
2007
- 2007-10-03 JP JP2007259445A patent/JP5428145B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-10-23 US US12/226,202 patent/US20090202404A1/en not_active Abandoned
- 2007-10-23 CN CN2007800126968A patent/CN101421188B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-10-23 EP EP07830378A patent/EP2014618A4/en not_active Ceased
- 2007-10-23 WO PCT/JP2007/070644 patent/WO2008053750A1/ja not_active Ceased
-
2015
- 2015-11-02 US US14/929,873 patent/US9416014B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20090202404A1 (en) | 2009-08-13 |
| EP2014618A4 (en) | 2011-02-16 |
| EP2014618A1 (en) | 2009-01-14 |
| US20160052791A1 (en) | 2016-02-25 |
| CN101421188B (zh) | 2011-07-06 |
| JP2008133168A (ja) | 2008-06-12 |
| WO2008053750A1 (en) | 2008-05-08 |
| US9416014B2 (en) | 2016-08-16 |
| CN101421188A (zh) | 2009-04-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5205910B2 (ja) | トリクロロシラン製造装置 | |
| JP5428146B2 (ja) | トリクロロシラン製造装置 | |
| JP5428145B2 (ja) | トリクロロシラン製造装置 | |
| JP5205906B2 (ja) | トリクロロシラン製造装置 | |
| KR20120127413A (ko) | 사염화규소를 트리클로로실란으로 전환시키기 위한 플랜트의 통합 부분으로서의 가압 세라믹 열 교환기의 용도 | |
| JP2008150277A (ja) | 耐熱耐食性部材及びトリクロロシラン製造装置 | |
| JP5083004B2 (ja) | トリクロロシラン製造装置 | |
| JP5160181B2 (ja) | トリクロロシラン製造装置 | |
| US8372346B2 (en) | Apparatus for producing trichlorosilane | |
| JP5316284B2 (ja) | トリクロロシラン製造装置 | |
| KR101079340B1 (ko) | 열변환반응에 의한 트리클로로실란 제조장치 | |
| JP2011207746A (ja) | トリクロロシラン製造装置 | |
| JP2011157223A (ja) | トリクロロシラン製造装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100929 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130312 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130426 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131105 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131118 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5428145 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |