JP5468931B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

Description

本発明は、潤滑剤組成物に関するものであり、詳しくは、摩擦摺動時の摩擦低減および耐磨耗性向上に寄与し得る優れた潤滑効果を有するポリエーテル化合物を含む潤滑剤組成物に関するものである。
更に本発明は、上記潤滑剤組成物からなる金属表面用潤滑膜および金属表面用摩擦低減剤、上記ポリエーテル化合物を含む層を有する磁気記録媒体、ならびに新規ポリエーテル化合物に関するものである。

近年、高密度記録へのニーズが高まり、高い電磁変換特性を有する磁気記録媒体が求められている。しかし、高密度記録化のために磁性層表面の平滑性を高めた場合、摩擦係数の増大により走行性や耐久性が低下するという問題がある。そこで、塗布型磁気記録媒体では磁性層や非磁性層に潤滑剤を添加すること（例えば特許文献１および２参照）、薄膜型磁気記録媒体では磁性層上に潤滑剤をコーティングし潤滑膜を形成すること（例えば特許文献３参照）により、摩擦係数の低減を図ることが広く行われている。

特開２００８−２３９５７５号公報 特開２００８−７４６９号公報 特開平７−１３８５８６号公報

上記特許文献１〜３には、炭酸エステル化合物が潤滑剤として提案されている。炭酸エステル化合物は、低融点である、炭酸エステル部位が耐加水分解性に寄与する、等の理由から磁気記録媒体において良好な潤滑性を示すことが知られている。

しかし、本発明者らの検討の結果、従来磁気記録媒体において広く使用されてきた炭酸エステル系潤滑剤には、以下の課題があることが判明した。
（１）炭酸エステル基は極性が低く、金属となじみにくいため金属表面上の潤滑膜として適用した際の膜強度が弱い。
（２）塗布型磁気記録媒体では、一般にポリウレタン、塩化ビニル系樹脂のような極性の高い化合物が使用される。一方、上記炭酸エステル系潤滑剤は長鎖アルキルなどの疎水性化合物が用いられるため、結合剤との相溶性に乏しい。相溶性に乏しい潤滑剤は、添加量を増やすと磁性層表面で結晶化してしまうこと、および、ヘッド部材と接触させた状態で走行を一旦停止すると、走行停止中に潤滑剤が媒体表面に徐々にブリードする結果、再走行時にヘッド部材が媒体表面と張り付き再走行時に起動摩擦が増大（走行耐久性が低下）してしまうこと、が懸念される。

そこで本発明の目的は、磁気記録媒体等の各種用途において優れた潤滑効果を発揮し得る潤滑剤組成物を提供することにある。

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、アルキレンオキサイド残基および炭酸エステル残基を有するポリエーテル化合物が、金属とのなじみがよいため、金属表面上に高強度の潤滑膜を形成可能であることを見出した。更に本発明者らの検討により、上記ポリエーテル化合物の中に、塗布型磁気記録媒体に使用される結合剤との相溶性に優れる化合物があることも、新たに見出された。
本発明者らは、以上の知見に基づき更に重ねた結果、本発明を完成するに至った。

即ち、上記目的は、下記手段により達成された。下記［１０］〜［１３］にかかる態様が本発明であり、下記［１］〜［９］および［１４］〜［１８］にかかる態様は参考態様である。
［１］アルキレンオキサイド残基および炭酸エステル残基を有するポリエーテル化合物を含むことを特徴とする潤滑剤組成物。
［２］前記アルキレンオキサイド残基は、エチレンオキサイド残基、プロピレンオキサイド残基、ポリエチレンオキサイド残基、およびポリプロピレンオキサイド残基からなる群から選ばれる少なくとも一種を含む［１］に記載の潤滑剤組成物。
［３］前記ポリエーテル化合物は、下記一般式(I)で表されるポリエーテル化合物および／または下記一般式(II)で表されるポリエーテル化合物を含む［１］または［２］に記載の潤滑剤組成物。

[一般式(I)中、Ｒは直鎖または分岐のアルキル基を表し、Ｒ'は水素原子またはメチル基を表し、ｎは１以上１００以下の整数を表す。]

[一般式(II)中、Ｒ¹は直鎖または分岐のアルキル基を表し、Ｒ²は水素原子またはメチル基を表し、ｍ¹、ｍ²およびｍ³は、それぞれ独立に１以上１００以下の整数を表す。]
［４］一般式(I)で表されるポリエーテル化合物は、下記一般式(1)で表されるポリエーテル化合物である［３］に記載の潤滑剤組成物。

[一般式(1)中、Ｒ¹¹は炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｎ１１は２以上１００以下の整数を表す。]
［５］一般式(I)で表されるポリエーテル化合物は、下記一般式(2)で表されるポリエーテル化合物である［３］に記載の潤滑剤組成物。

［一般式(2)中、Ｒ¹²は炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｎ２は２以上１００以下の整数を表す。］
［６］一般式(II)で表されるポリエーテル化合物は、下記一般式(3)で表されるポリエーテル化合物である［３］に記載の潤滑剤組成物。

[一般式(3)中、Ｒ¹³は炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｍ¹、ｍ²およびｍ³は、それぞれ一般式(II)と同義である。]
［７］磁気記録媒体用潤滑剤として使用される［１］〜［６］のいずれかに記載の潤滑剤組成物。
［８］［１］〜［６］のいずれかに記載の潤滑剤組成物からなる金属表面用潤滑膜。
［９］［１］〜［６］のいずれかに記載の潤滑剤組成物からなる金属表面用摩擦低減剤。
［１０］非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、下記一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリエーテル化合物を少なくとも一種含むことを特徴とする磁気記録媒体。

[一般式(1)中、Ｒ¹¹は炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｎ１１は２以上１００以下の整数を表す。]

［一般式(2)中、Ｒ¹²は炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｎ２は２以上１００以下の整数を表す。］

[一般式(3)中、Ｒ¹³は炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｍ¹、ｍ²およびｍ³は、それぞれ独立に１以上１００以下の整数を表す。]
［１１］非磁性支持体上に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層と、強磁性粉末および結合剤を含む磁性層と、をこの順に有する磁気記録媒体であって、
前記非磁性層は、下記一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリエーテル化合物を少なくとも一種含むことを特徴とする磁気記録媒体。

[一般式(1)中、Ｒ¹¹は炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｎ１１は２以上１００以下の整数を表す。]

［一般式(2)中、Ｒ¹²は炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｎ２は２以上１００以下の整数を表す。］

[一般式(3)中、Ｒ¹³は炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｍ¹、ｍ²およびｍ³は、それぞれ独立に１以上１００以下の整数を表す。]
［１２］前記磁性層は、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリエーテル化合物を少なくとも一種含む［１１］に記載の磁気記録媒体。
［１３］前記ポリエーテル化合物を含む層は、脂肪酸および／または脂肪酸アミドを更に含む［１０］〜［１２］のいずれかに記載の磁気記録媒体。
［１４］下記一般式(I)で表されるポリエーテル化合物。

[一般式(I)中、Ｒは直鎖または分岐のアルキル基を表し、Ｒ'は水素原子またはメチル基を表し、ｎは１以上１００以下の整数を表す。]
［１５］下記一般式(II)で表されるポリエーテル化合物。

[一般式(II)中、Ｒ¹は直鎖または分岐のアルキル基を表し、Ｒ²は水素原子またはメチル基を表し、ｍ¹、ｍ²およびｍ³は、それぞれ独立に１以上１００以下の整数を表す。]
［１６］下記一般式(1)で表されるポリエーテル化合物。

[一般式(1)中、Ｒ¹¹は炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｎ１１は２以上１００以下の整数を表す。]
［１７］下記一般式(2)で表されるポリエーテル化合物。

［一般式(2)中、Ｒ¹²は炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｎ２は２以上１００以下の整数を表す。］
［１８］下記一般式(3)で表されるポリエーテル化合物。

[一般式(3)中、Ｒ¹³は炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｍ¹、ｍ²およびｍ³は、それぞれ独立に１以上１００以下の整数を表す。]

本発明によれば、金属表面の摩擦低減、耐摩耗性向上、磁気記録媒体の摩擦低減等のために有用な潤滑剤組成物および新規ポリエーテル化合物を提供することができる。更に本発明によれば、優れた走行耐久性を有する磁気記録媒体を提供することができる。

[潤滑剤組成物、金属表面用潤滑膜、金属表面用摩擦低減剤]
本発明の潤滑剤組成物は、アルキレンオキサイド残基および炭酸エステル残基を有するポリエーテル化合物を含むものである。上記ポリエーテル化合物は、炭酸エステル残基とともにアルキレンオキサイド残基を有するため従来使用されていた炭酸エステル系潤滑剤と比べエーテル部位を多く有する。このため、金属とのなじみがよく金属表面上に強固な潤滑膜を形成することができる。これにより、金属部材同士の摺動時の摩擦低減に寄与するのみならず、磨耗低減効果を発揮することもできる。
更に、上記ポリエーテル化合物の中で、後述する一般式(1)〜(3)で表されるポリエーテル化合物は、磁気記録媒体に一般に使用される結合剤との相溶性が高い。これは、アルキレンオキサイド残基が相溶性に寄与することと、末端アルキル基の鎖長が比較的短いため、アルキレンオキサイド残基により付与された相溶性が末端アルキル基によって大きく損なわれることがないことによるものと考えられる。前述のように結合剤との相溶性に乏しい潤滑剤は、走行停止中のブリードにより再走行時の起動摩擦増大をもたらすことが懸念されるが、結合剤と高い相溶性を有する潤滑剤であれば上記起動摩擦増大を抑制することにより優れた走行耐久性を有する磁気記録媒体を提供することができる。更に、結合剤との相溶性に優れた潤滑剤であれば、従来使用されていた炭酸エステル系潤滑剤と比べて添加量を増量することができるため、高密度記録化のために薄層化された磁気記録媒体に、より多くの量を添加し潤滑性を高めることが可能となる。なお、同様にアルキレンオキサイド残基を有する化合物として、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールも存在する。例えば特許第２６０８６０４号明細書には、タイヤ硬化プラダー用潤滑剤組成物の水性乳濁液または分散液に、乳化剤としてポリエチレングリコールを添加することが記載されているが、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールは末端に水酸基を有するため、塗布型磁気記録媒体において硬化剤として使用されるポリイソシアネートと反応し硬化性を低下させることが懸念される。したがって、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールは塗布型磁気記録媒体の成分としては不適である。これに対し、本発明のポリエーテル化合物は、その末端がポリイソシアネートとの反応性に乏しい炭酸エステル基であるため、塗布型磁気記録媒体において硬化性に影響を及ぼすことなく所望の効果を発揮することができる。
以上説明したように、上記ポリエーテル化合物を含む潤滑剤組成物は、金属表面の摩擦低減、耐摩耗性向上、塗布型磁気記録媒体の走行耐久性向上に寄与することができる。
以下、本発明の潤滑剤組成物について、更に詳細に説明する。

本発明におけるアルキレンオキサイド残基とは、「−Ｙ−Ｏ−」（ここでＹはアルキレン基を表す）で表される単位構造を繰り返し数１以上で含むものである。上記繰り返し数は１以上であり、原料の入手容易性を考慮すると１００以下であることが好ましい。潤滑性の観点からは、上記繰り返し数は２〜１００の範囲であることが好ましい。Ｙで表されるアルキレン基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。上記アルキレン基の炭素数は、例えば１〜５であり、好ましくは１〜３であり、より好ましくは２または３である。潤滑効果、結合剤との相溶性および原料の入手容易性等の点からは、前記アルキレンオキサイド残基はエチレンオキサイド残基、プロピレンオキサイド残基、ポリエチレンオキサイド残基、またはポリプロピレンオキサイド残基であることが好ましい。

前記ポリエーテル化合物は、アルキレンオキサイド残基および炭酸エステル残基をそれぞれ少なくとも１つ有するものであり、上記２種類の残基が連結基を介して結合していてもよいが、潤滑効果の点からはアルキレンオキサイド鎖の末端に炭酸エステル基を有することが好ましい。そのようなポリエーテル化合物の好ましい態様としては、下記一般式(I)で表されるポリエーテル化合物および下記一般式（II）で表されるポリエーテル化合物を挙げることができる。

[一般式(I)中、Ｒは直鎖または分岐のアルキル基を表し、Ｒ’は水素原子またはメチル基を表し、ｎは１以上１００以下の整数を表す。]

[一般式(II)中、Ｒ¹は直鎖または分岐のアルキル基を表し、Ｒ²は水素原子またはメチル基を表し、ｍ¹、ｍ²およびｍ³は、それぞれ独立に１以上１００以下の整数を表す。]

以下、一般式(I)、(II)で表される化合物について説明する。

一般式(I)中、Ｒは直鎖または分岐のアルキル基を表す。直鎖アルキル基としては、潤滑性の観点から、炭素数１〜５０のものが好ましく、１〜２５のものがより好ましく、後述するように結合剤との相溶性の観点からは、１〜１２のものが好ましく、３〜１２のものがより好ましい。直鎖アルキル基の具体例としては、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられる。

優れた耐加水分解性を得るためには、Ｒで表されるアルキル基は分岐アルキル基であることが好ましい。分岐アルキル基の炭素数は、潤滑性の観点から１〜５０であることが好ましく、１〜２５であることが好ましく、３〜８であることがより好ましく、結合剤との相溶性の観点からは、１〜１２であることが好ましく、３〜１２であることがより好ましい。分岐アルキル基の具体例としては、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソプロピル基、１，１−ジメチルブチル基、１−メチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、１−メチルプロピル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−１−メチルプロピル基、２−メチルプロピル基、２−メチルブチル基、２−エチルヘキシル基を挙げることができる。

分岐アルキル基において分岐構造は、α位、β位のいずれに位置してもよいが、良好な走行耐久性を得る観点からはβ位にて分岐構造を有することが好ましい。

Ｒで表されるアルキル基は、側鎖に置換基を有することもできる。置換基としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）等を挙げることができる。なお、本発明において、ある基について炭素数とは、該基が置換基を含む場合には、置換基以外の部分の炭素数をいうものとする。

一般式(I)中、Ｒ’は水素原子またはメチル基を表す。原料としてポリエチレングリコールを使用した場合、Ｒ’は水素原子となり、ポリプロピレングリコールを使用した場合、Ｒ’はメチル基となる。

一般式(I)中、ｎは１以上１００以下の整数を表す。一般式(I)中のｎが１〜１００の範囲の整数であるポリエーテル化合物は、金属とのなじみがよく、金属表面上に高強度の潤滑膜を形成することができる。一方、ｎが１００を超えると得られるカーボネート結合含有ポリエーテルの親水性が向上し、反応時に発生する塩素イオンを取り込みやすくなり高純度品の製造が難しくなるため、一般式(I)中のｎは１００以下の整数とする。また、ｎが０では前述のエーテル部位を増やすことによる効果を得ることができないため、ｎは１以上の整数とする。結合剤との相溶性の観点からは、ｎは２〜１００の範囲の整数であることが好ましく、２〜７０の範囲の整数であることがより好ましく、２〜５０の範囲の整数であることが更に好ましい。なお、一般式（I）中、ｎが２以上の整数の場合、複数存在するＲ’は同一であっても異なっていてもよいが、合成の容易性の観点から、同一であることが好ましい。同様に一般式(I)中に２つ存在するＲは同一であっても異なっていてもよいが、合成の容易性の観点から同一であることが好ましい。

一般式(I)で表されるポリエーテル化合物の平均分子量は、潤滑性の観点から１００〜５０００の範囲であることが好ましく、揮発性の観点から、２００〜５０００の範囲であることがより好ましい。なお本発明において、平均分子量とは、質量平均分子量をいうものとする。

一般式(I)で表されるポリエーテル化合物の中で、結合剤との相溶性が高く、塗布型磁気記録媒体用潤滑剤として好適なものとしては、下記一般式(1)で表されるポリエーテル化合物および下記一般式(2)で表されるポリエーテル化合物を挙げることができる。

一般式(1)中、Ｒ¹¹は炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基を表し、好ましくは炭素数３〜１２の直鎖または分岐のアルキル基を表す。

一般式(1)中、ｎ１１は２以上１００以下の整数を表し、２以上７０以下の整数を表すことが好ましく、２以上５０以下の整数を表すことがより好ましい。

一般式(2)中、Ｒ¹²は炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表し、好ましくは炭素数３〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表す。

一般式(2)中、ｎ２は２以上１００以下の整数を表し、２以上７０以下の整数を表すことが好ましく、２以上５０以下の整数を表すことがより好ましい。

以下に、一般式(I)で表されるポリエーテル化合物の具体例を示す。ただし本発明は、下記具体例に限定されるものではない。下記例示化合物中、（Ｉ−１）、（Ｉ−３）、（Ｉ−５）、（Ｉ−７）は、一般式（１）に該当する例示化合物でもあり、（Ｉ−２）、（Ｉ−４）、（Ｉ−６）は、一般式（２）に該当する例示化合物でもある。

次に、一般式(II)で表されるポリエーテル化合物について説明する。

一般式(II)中、Ｒ¹は直鎖または分岐のアルキル基を表し、その詳細は一般式(I)中のＲと同様である。

一般式(II)中のＲ²は、水素原子またはメチル基を表す。原料としてポリエチレングリコールを使用した場合、Ｒ²は水素原子となり、ポリプロピレングリコールを使用した場合、Ｒ²はメチル基となる。なお、一般式（II）中、複数存在するＲ²は同一であっても異なっていてもよいが、合成の容易性の観点から、同一であることが好ましい。同様に一般式(II)中に３つ存在するＲ¹は同一であっても異なっていてもよいが、合成の容易性の観点から同一であることが好ましい。

一般式(II)中、ｍ¹、ｍ²およびｍ³は、それぞれ独立に１以上１００以下の整数を表す。一般式(II)中のｍ¹、ｍ²およびｍ³が１〜１００の範囲の整数であるポリエーテル化合物は、金属とのなじみおよび結合剤との相溶性において良好な性能を発揮し得る。一方、ｍ¹、ｍ²、ｍ³が１００を超えると得られるカーボネート結合含有ポリエーテルの親水性が向上し、反応時に発生する塩素イオンを取り込みやすくなり高純度品の製造が難しくなるため、一般式(I)中のｍ¹、ｍ²およびｍ³は１００以下の整数とする。また、ｍ¹、ｍ²、ｍ³が０では前述のエーテル部位を増やすことによる効果を十分に得ることができないため、ｍ¹、ｍ²およびｍ³は１以上の整数とする。結合剤との相溶性の観点からは、ｍ¹、ｍ²およびｍ³は２〜１００の範囲の整数であることが好ましく、２〜３０の範囲の整数であることがより好ましく、２〜２５の範囲の整数であることが更に好ましい。

一般式(II)で表されるポリエーテル化合物の平均分子量（質量平均分子量）は、潤滑性の観点から１００〜５０００の範囲であることが好ましく、揮発性の観点から、２００〜５０００の範囲であることがより好ましい。

一般式(II)で表されるポリエーテル化合物の中で、結合剤との相溶性が高く、塗布型磁気記録媒体用潤滑剤として好適なものとしては、下記一般式(3)で表されるポリエーテル化合物を挙げることができる。

一般式(3)中、Ｒ¹³は炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表し、好ましくは炭素数３〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表す。

一般式(3)中、ｍ¹、ｍ²およびｍ³は、それぞれ独立に２以上１００以下の整数を表し、２以上３０以下の整数であることが好ましく、２以上２５以下の整数であることが更に好ましい。

以下に、一般式(II)で表されるポリエーテル化合物の具体例を示す。ただし本発明は、下記具体例に限定されるものではない。下記例示化合物中、（ＩＩ−２）、（ＩＩ−４）、（ＩＩ−６）は、一般式(3)に該当する例示化合物でもある。

本発明の潤滑剤組成物に含まれるアルキレンオキサイド残基および炭酸エステル残基を有するポリエーテル化合物は、公知の方法で容易に合成可能であり、また市販品として入手可能なものもある。

一般式(I)、(II)で表されるポリエーテル化合物（更には一般式(1)、(2)、(3)で表されるポリエーテル化合物）は、ポリエチレングリコール（PEG）またはポリプロピレングリコール（PPG）の末端にカーボネート基を導入することにより容易に得ることができる。一般式(I)中のｎ、一般式(II)中のｍ¹、ｍ²およびｍ³は、通常、原料ＰＥＧまたはＰＰＧの重合度によって決定される。一般式(I)、(II)で表されるポリエーテル化合物は、原料となるＰＥＧおよびＰＰＧが安価であり重合度が異なる製品を容易に入手可能であるため、一般式(I)中のｎ、一般式(II)中のｍ¹、ｍ²およびｍ³が所望の値の化合物を容易に合成することができる。この点は実用上きわめて有利である。一般式(I)、（II）で表されるポリエーテル化合物の合成方法としては、ポリエチレングリコールまたはポリプロピレングリコールとクロロギ酸エステルとを反応させる方法が好適である。合成条件の詳細は、後述の実施例を参照できる。また、PEG、PPG、クロロギ酸エステル等の合成原料は、公知の方法で合成可能であるか、または市販品として容易に入手可能である。目的物が得られたことは、ＮＭＲ等の公知の同定方法によって確認することができる。

本発明の潤滑剤組成物は、アルキレンオキサイド残基および炭酸エステル残基を有するポリエーテル化合物を１種または２種以上含むことができ、該ポリエーテル化合物のみからなるものでもよく、または必要に応じて界面活性剤、極圧剤、粘性向上または低下剤等の公知の添加剤と混合することにより、金属表面用潤滑膜または金属表面用摩擦低減剤とすることができる。
即ち、本発明は、本発明の潤滑剤組成物からなる金属表面用潤滑膜、および本発明の潤滑剤組成物からなる金属表面用摩擦低減剤にも関するものである。ここで金属表面とは、金属成分を含有する表面をいい、例えば金属酸化物からなる表面も含むものとする。

本発明の潤滑剤組成物、金属表面用潤滑剤、金属表面用摩擦低減剤のいずれにおいても、アルキレンオキサイド残基および炭酸エステル残基を有するポリエーテル化合物の含有量は、例えば１〜１００質量％、好ましくは６０〜１００質量％である。

本発明の潤滑剤組成物は、各種用途において潤滑剤として優れた効果を発揮するものであり、特に、磁気記録媒体用潤滑剤として好適である。これは金属とのなじみがよいため薄膜型磁気記録媒体の磁性層表面に塗布することにより潤滑膜として機能することができるからであり、中でも一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリエーテル化合物を含む本発明の潤滑剤組成物は、結合剤との相溶性に優れるため塗布型磁気記録媒体の潤滑剤として好適だからである。例えば薄膜型磁気記録媒体に適用するには、アルキレンオキサイド残基および炭酸エステル残基を有するポリエーテル化合物を必要に応じて適当な溶剤に溶解した後、磁性層に浸漬させたり、磁性層表面に塗布または噴霧させることができる。塗布型磁気記録媒体に適用するには、磁性層塗布液または非磁性層塗布液に混合すればよい。その詳細は後述する。

本発明の潤滑剤組成物は、前記の塗布型および薄膜型磁気記録媒体用潤滑剤のほか、精密機械類の潤滑剤、各種ポリマー用滑剤、香粧品用滑剤等の合成潤滑剤として使用することができる。

本発明の潤滑剤組成物を金属表面用潤滑膜に適用する態様において、潤滑膜の厚さは特に限定されるものではなく、用途に応じて最適な厚さに設定すればよい。本発明の金属表面用潤滑膜は、アルキレンオキサイド残基および炭酸エステル残基を有するポリエーテル化合物を含むため金属とのなじみがよく、これにより強固な膜となり得るため、保護膜としても機能することができる。本発明の金属表面用摩擦低減剤の使用量も、所望の摩擦特性が得られるように用途に応じて最適な量に設定すればよい。また、本発明の金属表面用潤滑膜および金属表面用摩擦低減剤は、SUJ2、SUS、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化鉄等の各種金属表面に適用することができる。

[磁気記録媒体]
本発明の磁気記録媒体の第一の態様は、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体であって、前記磁性層に、前述の一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリエーテル化合物を少なくとも一種を含むものである。
本発明の磁気記録媒体の第二の態様は、非磁性支持体上に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層と、強磁性粉末および結合剤を含む磁性層と、をこの順に有する磁気記録媒体であって、前記非磁性層に、前述の一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリエーテル化合物を少なくとも一種含むものである。第二の態様の磁気記録媒体は、更に磁性層に一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリエーテル化合物を少なくとも一種を含むこともできる。
以下、第一および第二の態様の磁気記録媒体をあわせて、本発明の磁気記録媒体という。

本発明の磁気記録媒体において、前記ポリエーテル化合物の磁性層中の含有量は、強磁性粉末１００質量部に対して、例えば０．１〜１０質量部であり、好ましくは０．３〜６質量部、より好ましくは０．５〜３質量部である。

前記ポリエーテル化合物を非磁性層に含有させることで、走行中および保存中に非磁性層中のポリエーテル化合物が磁性層側へ徐々に移行し表面へのにじみ出し量を制御することができる。この点は、良好な走行耐久性および保存性を維持する上で有利である。この場合、例えば、非磁性層、磁性層で、沸点や極性の異なるポリエーテル化合物を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、前記ポリエーテル化合物の添加量を非磁性層で多くする、等により走行中および保存中の磁性層表面に存在する前記ポリエーテル化合物量を制御することができる。非磁性層中の前記ポリエーテル化合物の含有量は、例えば非磁性粉末１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．０５〜６質量部、より好ましくは０．１〜３質量部である。

前記ポリエーテル化合物は、磁性層中、非磁性層中に一種のみ用いてもよく、二種以上を混合して用いることもできる。また、他の潤滑剤と併用することも可能である。前記ポリエーテル化合物は磁気記録媒体に通常使用される結合剤との相溶性に優れるため、他の潤滑剤では添加量を増量すると相溶性が不十分なため表面に析出物が発生する場合に潤滑剤成分として併用することにより、潤滑効果を補うことができる。また、前述のように結合剤との相溶性に乏しい潤滑剤では、ヘッド部材と接触させた状態で一旦走行を停止した場合、再走行させると起動摩擦が増大する現象が見られるが、結合剤との相溶性が高いポリエーテル化合物を含む本発明の磁気記録媒体は、上記の再走行時の起動摩擦増大を起すことなく良好な走行耐久性を維持することができる。

磁性層
次に、本発明の磁気記録媒体における磁性層について説明する。
磁性層中の強磁性粉末としては、強磁性金属粉末および六方晶フェライト粉末を使用することができる。以下に、それらの詳細を説明する。但し、本発明において使用される強磁性粉末は、強磁性金属粉末および六方晶フェライト粉末に限定されるものではなく、例えば窒化鉄粉末等も使用可能である。

（ｉ）強磁性金属粉末
磁性層に使用する強磁性金属粉末は、特に制限されるべきものではないが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末を用いることが好ましい。これらの強磁性金属粉末には、所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくとも一つを含むことがさらに好ましい。Ｃｏの含有量はＦｅに対して０原子％以上４０原子％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１５原子％以上３５原子％以下、より好ましくは２０原子％以上３５原子％以下である。Ｙの含有量は１．５原子％以上１２原子％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３原子％以上１０原子％以下、特に好ましくは４原子％以上９原子％以下である。Ａｌは１．５原子％以上１２原子％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３原子％以上１０原子％以下、より好ましくは４原子％以上９原子％以下である。

これらの強磁性金属粉末には、あとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０号公報、特公昭４５−１８３７２号公報、特公昭４７−２２０６２号公報、特公昭４７−２２５１３号公報、特公昭４６−２８４６６号公報、特公昭４６−３８７５５号公報、特公昭４７−４２８６号公報、特公昭４７−１２４２２号公報、特公昭４７−１７２８４号公報、特公昭４７−１８５０９号公報、特公昭４７−１８５７３号公報、特公昭３９−１０３０７号公報、特公昭４６−３９６３９号公報、米国特許第３０２６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記載されている。

強磁性金属粉末には少量の水酸化物、または酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末は公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅまたはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにして得られた強磁性金属粉末には、公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施すこともできる。

磁性層に使用される強磁性金属粉末のＢＥＴ法による比表面積は、４５〜１００ｍ²／ｇであることが好ましく、より好ましくは５０〜８０ｍ²／ｇである。４５ｍ²／ｇ以上であれば低ノイズであり、１００ｍ²／ｇ以下であれば良好な表面性を得ることができる。強磁性金属粉末の結晶子サイズは８０〜１８０Åであることが好ましく、より好ましくは１００〜１８０Å、更に好ましくは１１０〜１７５Åである。強磁性金属粉末の長軸長は０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．０２μｍ以上０．１５μｍ以下であり、さらに好ましくは０．０３μｍ以上０．１２μｍ以下である。強磁性金属粉末の針状比は３以上１５以下であることが好ましく、さらには５以上１２以下であることが好ましい。強磁性金属粉末のσｓは１００〜１８０Ａ・ｍ²／ｋｇであることが好ましく、より好ましくは１１０〜１７０Ａ・ｍ²／ｋｇ、更に好ましくは１２５〜１６０Ａ・ｍ²／ｋｇである。強磁性金属粉末の抗磁力は２０００〜３５００Ｏｅ（１６０〜２８０ｋＡ／ｍ）であることが好ましく、更に好ましくは２２００〜３０００Ｏｅ（１７６〜２４０ｋＡ／ｍ）である。

強磁性金属粉末の含水率は０．０１〜２質量％とすることが好ましい。結合剤の種類によって強磁性金属粉末の含水率は最適化することが好ましい。強磁性金属粉末のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１２とすることができ、好ましくは６〜１０である。強磁性金属粉末は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性金属粉末に対し０．１〜１０質量％とすることができ、表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着量が１００ｍｇ／ｍ²以下になり好ましい。強磁性金属粉末は可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２００ｐｐｍ以下であれば特性に影響を与えることは少ない。また、本発明に用いられる強磁性金属粉末は空孔が少ないほうが好ましく、その値は２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。また形状については先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。強磁性金属粉末自体のＳＦＤは小さい方が好ましく、０．８以下であることが好ましい。強磁性金属粉末のＨｃの分布を小さくすることが好ましい。尚、ＳＦＤが０．８以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また、磁化反転がシャープでピークシフトも少なくなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃの分布を小さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲ−タイトの粒度分布を良くする、焼結を防止するなどの方法がある。

（ｉｉ）六方晶フェライト粉末
六方晶フェライト粉末には、例えば、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライト、それらのＣｏ等の置換体等がある。より具体的には、マグネトプランバイト型のバリウムフェライトおよびストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、さらに一部にスピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライトおよびストロンチウムフェライト等が挙げられる。その他、所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般には、Ｃｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加したものを使用できる。また原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。

信号を記録する領域の長さが、磁性層に含まれる磁性体の大きさと近い大きさになると明瞭な磁化遷移状態を作り出すことができないため、実質的に記録することが不可能となる。このため記録波長が短波長化するほど磁性体サイズは小さくすべきである。本発明では、短波長領域において良好な記録を行うため、六方晶フェライト粉末として、平均板径１０〜４０ｎｍのものを使用することが好ましい。より好ましくは１５〜３０ｎｍ、更に好ましくは２０〜２５ｎｍの範囲である。

六方晶フェライトの平均板状比［（板径／板厚）の算術平均］は１〜１５であることが好ましく、１〜７であることが更に好ましい。平均板状比が１〜１５であれば、磁性層で高充填性を保持しながら充分な配向性が得られ、かつ、粒子間のスタッキングによるノイズ増大を抑えることができる。また、上記粒子サイズの範囲内におけるＢＥＴ法による比表面積（Ｓ_BET）は、４０ｍ²／ｇ以上が好ましく、４０〜２００ｍ²／ｇであることがさらに好ましく、６０〜１００ｍ²／ｇであることが最も好ましい。

六方晶フェライト粉末の粒子板径・板厚の分布は、通常狭いほど好ましい。粒子板径・板厚は、粒子ＴＥＭ写真より、例えば５００粒子を無作為に測定することで測定できる。粒子板径・板厚の分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すと、σ／平均サイズ＝０．１〜１．０である。粒子サイズ分布をシャープにするには、一般に、粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。例えば、酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。

一般に、抗磁力（Ｈｃ）は、１４３．３〜３１８．５ｋＡ／ｍ（１８００〜４０００Ｏｅ）程度の六方晶フェライト粉末は作製可能である。六方晶フェライト粉末の抗磁力（Ｈｃ）は、好ましくは１５９．２〜２３８．９ｋＡ／ｍ（２０００〜３０００Ｏｅ）、更に好ましくは１９１．０〜２１４．９ｋＡ／ｍ（２２００〜２８００Ｏｅ）である。抗磁力（Ｈｃ）は、粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。

六方晶フェライト粉末の飽和磁化（σｓ）は３０〜８０Ａ・ｍ²／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）であることが好ましい。飽和磁化（σｓ）は高い方が好ましいが、微粒子になるほど小さくなる傾向がある。飽和磁化（σｓ）の改良のため、マグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合することや、含有元素の種類と添加量の選択等がよく知られている。またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。磁性体を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理してもよい。表面処理剤としては、無機化合物および有機化合物を使用することができる。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ等の酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。添加量は磁性体の質量に対して、例えば０．１〜１０質量％である。磁性体のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１１程度を選択することができる。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．０１〜２．０％が選ばれる。

六方晶フェライト粉末の製法としては、（１）酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。六方晶フェライト粉末は、必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し、例えば０．１〜１０質量％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ²以下になり好ましい。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。

磁性層、非磁性層、およびバックコート層の結合剤、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他の公知技術は、それらを互いに適宜適用することができる。特に、結合剤量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関する公知技術が適用できる。

結合剤としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を使用することができる。熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０００、重合度が約５０〜１０００程度のものを使用することができる。

このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等が挙げられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものが挙げられる。中でも、塩ビ系バインダー、ポリウレタン系バインダーが好ましい。
ポリウレタンとしては、ポリエステルウレタン、ポリエーテルウレタン、ポリカーボネートウレタン、ポリエーテルエステルウレタン、アクリル系ポリウレタン等を用いることができる。これらバインダーは、前記ポリエーテル化合物との親和性が高く表面潤滑剤量を最適な範囲に制御することができる。前記極性基としては、スルホン酸塩、スルファミン酸塩、スルホベタイン、リン酸塩、ホスホン酸塩等が好ましい。その量は１×１０⁵ｅｑ／ｇ〜２×１０^-4ｅｑ／ｇが好ましい。これらバインダーは、公知の方法で合成することができ、また市販品に適量の極性基を導入することによって得ることもできる。

ポリウレタンは、塩化ビニル系樹脂とともに結合剤として使用することもできる。但し、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも可能である。ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０℃〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ²（０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ²（０．４９〜９８ＭＰａ）のものを用いることが好ましい。

ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ，デスモジュールＨＬ、等がありこれらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とも用いることができる。

磁性層の結合剤量は、硬化剤を含めて強磁性粉末１００質量部に対し１０〜２５質量部とすることが好ましい。本発明の磁気記録媒体が磁性層と非磁性支持体との間に非磁性層を有する場合、非磁性層の結合剤量を磁性層の結合剤量より多くすることが好ましい。具体的には、非磁性層の結合剤量は、非磁性粉末１００質量部に対し２５〜４０質量部とすることが好ましい。

磁性層および非磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。添加剤としては、研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤、カーボンブラックなどを挙げることができる。潤滑剤については、磁性層、非磁性層の潤滑剤成分としては、前記ポリエーテル化合物とともに、例えば以下に示す潤滑剤成分を使用することもできる。併用する潤滑剤成分としては、摩擦係数低減や焼きつき防止のためには、ステアリン酸等の脂肪酸、ステアリン酸アミド等の脂肪酸アミドが好適である。併用する潤滑剤成分量は、強磁性粉末または非磁性粉末１００質量部あたり０．５〜３．５質量部とすることが好ましく、０．５〜１．５質量部とすることが更に好ましい。前記ポリエーテル化合物を脂肪酸と併用する場合には、併用することにより良好な潤滑性能を得るためには、脂肪酸の使用量は強磁性粉末または非磁性粉末１００質量部に対して０．３〜１．５質量部とすることが好ましい。一方、脂肪酸アミドは、比較的高融点であり磁性層表面に滲みだしやすく、多量の脂肪酸アミドの滲みだしは保存性の低下、ヘッド付着物発生等の原因となる。これに対し脂肪酸は、一般に粉末表面に吸着しやすい性質を有し、脂肪酸アミドの滲みだしを抑制する作用を発揮し得る。そこで前記ポリエーテル化合物を脂肪酸アミドと併用する場合には脂肪酸も併用することが好ましい。上記３成分を併用することにより、これら３成分の相乗効果により脂肪酸アミドの多量の滲みだしを抑制しつつ、優れた潤滑性能を得ることができる。上記３成分を併用する場合、脂肪酸アミドの使用量は、上記３成分の総量に対して５〜２０質量％とすることが好ましく、１４．２〜２０質量％とすることがより好ましい。

添加剤としては、例えば、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基を持つシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、ベンジルホスホン酸、フェネチルホスホン酸、α−メチルベンジルホスホン酸、１−メチル−１−フェネチルホスホン酸、ジフェニルメチルホスホン酸、ビフェニルホスホン酸、ベンジルフェニルホスホン酸、α−クミルホスホン酸、トルイルホスホン酸、キシリルホスホン酸、エチルフェニルホスホン酸、クメニルホスホン酸、プロピルフェニルホスホン酸、ブチルフェニルホスホン酸、ヘプチルフェニルホスホン酸、オクチルフェニルホスホン酸、ノニルフェニルホスホン酸等の芳香族環含有有機ホスホン酸およびそのアルカリ金属塩、オクチルホスホン酸、２−エチルヘキシルホスホン酸、イソオクチルホスホン酸、イソノニルホスホン酸、イソデシルホスホン酸、イソウンデシルホスホン酸、イソドデシルホスホン酸、イソヘキサデシルホスホン酸、イソオクタデシルホスホン酸、イソエイコシルホスホン酸等のアルキルホスホン酸およびそのアルカリ金属塩、リン酸フェニル、リン酸ベンジル、リン酸フェネチル、リン酸α−メチルベンジル、リン酸１−メチル−１−フェネチル、リン酸ジフェニルメチル、リン酸ビフェニル、リン酸ベンジルフェニル、リン酸α−クミル、リン酸トルイル、リン酸キシリル、リン酸エチルフェニル、リン酸クメニル、リン酸プロピルフェニル、リン酸ブチルフェニル、リン酸ヘプチルフェニル、リン酸オクチルフェニル、リン酸ノニルフェニル等の芳香族リン酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、リン酸オクチル、リン酸２−エチルヘキシル、リン酸イソオクチル、リン酸イソノニル、リン酸イソデシル、リン酸イソウンデシル、リン酸イソドデシル、リン酸イソヘキサデシル、リン酸イソオクタデシル、リン酸イソエイコシル等のリン酸アルキルエステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキルスルホン酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、エルカ酸等の炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸およびこれらの金属塩、またはステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ラウリル酸ブチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート等の炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸と、炭素数２〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい１〜６価アルコール、炭素数１２〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよいアルコキシアルコールまたはアルキレンオキサイド重合物のモノアルキルエーテルのいずれか一つとからなるモノ脂肪酸エステル、ジ脂肪酸エステルまたは多価脂肪酸エステル、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、イソステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、リノール酸アミド、リノレン酸アミド、エイコ酸アミド、エライジン酸アミド、ベヘン酸アミド等のほか、Ｎ−メチルミリスチン酸アミド、Ｎ−エチルミリスチン酸アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルステアリン酸アミド等が挙げられる。中でも、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等の炭素数２〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが使用できる。また、上記炭化水素基以外にもニトロ基およびＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＦ₃、ＣＣｌ₃、ＣＢｒ₃等の含ハロゲン炭化水素等炭化水素基以外の基が置換したアルキル基、アリール基、アラルキル基を持つものでもよい。

また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオキサイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸またはリン酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。

上記潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも純粋ではなく主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれても構わない。これらの不純分は３０質量％以下が好ましく、さらに好ましくは１０質量％以下である。

また、磁性層には、必要に応じてカーボンブラックを添加することができる。磁性層で使用可能なカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を挙げることができる。これらのカーボンブラックは単独または組み合せで使用することができる。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。カーボンブラックを使用する場合、磁性体の質量に対して０．１〜３０質量％で用いることが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。したがって本発明で使用されるこれらのカーボンブラックは、磁性層および非磁性層でその種類、量、組み合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性を基に目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。磁性層で使用できるカーボンブラックは、例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編、を参考にすることができる。

研磨剤としてはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料を単独または組合せて使用することができる。また、これらの研磨剤同士の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２μが好ましく、特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ²／ｇが好ましい。研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、板状のいずれでもよいが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添加することもできる。非磁性層に添加することで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。これら磁性層、非磁性層の添加する研磨剤の粒径、量はむろん最適値に設定すべきものである。

有機溶剤としては、公知のものが使用できる。有機溶媒としては、具体的には、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等を使用することができる。

非磁性層
次に非磁性層に関する詳細な内容について説明する。本発明の第二の態様の磁気記録媒体は、磁性層と非磁性支持体との間に、非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層を有する。非磁性層に使用できる非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物などが挙げられる。

具体的には二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α化率９０〜１００％のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＢａＣＯ₃、ＳｒＣＯ₃、ＢａＳＯ₄、炭化珪素、炭化チタンなどを単独または２種類以上を組み合わせて使用することができる。好ましいものは、α−酸化鉄、酸化チタンである。

非磁性粉末の形状は、針状、球状、多面体状、板状のいずれでもあってもよい。非磁性粉末の結晶子サイズは、４ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、４０〜１００ｎｍがさらに好ましい。結晶子サイズが４ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であれば、分散が困難になることもなく、また好適な表面粗さを有するため好ましい。これら非磁性粉末の平均粒径は、５ｎｍ〜５００ｎｍが好ましいが、必要に応じて平均粒径の異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くしたりして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましい非磁性粉末の平均粒径は、１０〜２００ｎｍである。５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であれば、分散も良好で、かつ好適な表面粗さを有するため好ましい。

非磁性粉末の比表面積は、例えば１〜１５０ｍ²／ｇであり、好ましくは２０〜１２０ｍ²／ｇであり、さらに好ましくは５０〜１００ｍ²／ｇである。比表面積が１〜１５０ｍ²／ｇの範囲内にあれば、好適な表面粗さを有し、かつ、所望の結合剤量で分散できるため好ましい。ジブチルフタレート（ＤＢＰ）を用いた吸油量は、例えば５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、さらに好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は、例えば１〜１２、好ましくは３〜６である。タップ密度は、例えば０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。タップ密度が０．０５〜２ｇ／ｍｌの範囲であれば、飛散する粒子が少なく操作が容易であり、また装置にも固着しにくくなる傾向がある。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であることが好ましく、６〜９の間が特に好ましい。ｐＨが２〜１１の範囲にあれば、高温、高湿下または脂肪酸の遊離により摩擦係数が大きくなることを防ぐことができる。非磁性粉末の含水率は、例えば０．１〜５質量％、好ましくは０．２〜３質量％、さらに好ましくは０．３〜１．５質量％である。含水量が０．１〜５質量％の範囲であれば、分散も良好で、分散後の塗料粘度も安定するため好ましい。強熱減量は、２０質量％以下であることが好ましく、強熱減量が小さいものが好ましい。

また、非磁性粉末が無機粉体である場合には、モース硬度は４〜１０のものが好ましい。モース硬度が４〜１０の範囲であれば耐久性を確保することができる。非磁性粉末のステアリン酸吸着量は、例えば１〜２０μｍｏｌ／ｍ²であり、さらに好ましくは２〜１５μｍｏｌ／ｍ²である。非磁性粉末の２５℃での水への湿潤熱は、２００〜６００ｅｒｇ／ｃｍ²（２００〜６００ｍＪ／ｍ²）の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個／１００Åが適当である。水中での等電点のｐＨは、３〜９の間にあることが好ましい。これらの非磁性粉末の表面には表面処理が施されることによりＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯが存在することが好ましい。特に分散性に好ましいものはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂であり、さらに好ましいものはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。

非磁性層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、例えば、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製ＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＢ−５５０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＲＸ、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、ＭＪ−７、α−酸化鉄Ｅ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、チタン工業製ＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、Ｔ−６００Ｂ、Ｔ−１００Ｆ、Ｔ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００Ａ、チタン工業製Ｙ−ＬＯＰおよびそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。

非磁性層には非磁性粉末と共に、カーボンブラックを混合し表面電気抵抗を下げ、光透過率を小さくすると共に、所望のマイクロビッカース硬度を得ることができる。非磁性層のマイクロビッカース硬度は、通常２５〜６０ｋｇ／ｍｍ²（２４５〜５８８ＭＰａ）、好ましくはヘッド当りを調整するために、３０〜５０ｋｇ／ｍｍ²（２９４〜４９０ＭＰａ）であり、薄膜硬度計（日本電気製ＨＭＡ−４００）を用いて、稜角８０度、先端半径０．１μｍのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端に用いて測定することができる。詳細は「薄膜の力学的特性評価技術」リアライズ社を参考にできる。光透過率は一般に波長９００ｎｍ程度の赤外線の吸収が３％以下、たとえばＶＨＳ用磁気テープでは０．８％以下であることが規格化されている。このためにはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。

非磁性層に用いられるカーボンブラックの比表面積は、例えば１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は、例えば２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は、例えば５〜８０ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。また、カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗布液に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機粉末に対して５０質量％を越えない範囲、非磁性層総質量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組み合せで使用することができる。本発明の非磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編、を参考にすることができる。

また非磁性層には目的に応じて有機質粉末を添加することもできる。このような有機質粉末としては、例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は、特開昭６２−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号公報に記されているようなものが使用できる。

非磁性層の結合剤、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は、磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。

本発明で用いられる添加剤は、いずれも市販品として容易に入手可能である。また、それらのすべてまたはその一部は、磁性層または非磁性層用の塗布液の製造時のいずれの工程で添加してもよい。例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。

非磁性支持体
非磁性支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、芳香族ポリアミド、ポリベンゾオキサゾールなどの公知のフィルムが使用できる。ガラス転移温度が１００℃以上の支持体を用いることが好ましく、ポリエチレンナフタレート、アラミドなどの高強度支持体を用いることが特に好ましい。また必要に応じ、磁性面とベース面の表面粗さを変えるため、特開平３−２２４１２７号公報に示されるような積層タイプの支持体を用いることもできる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などを行ってもよい。

層構成
本発明の磁気記録媒体の厚み構成は、非磁性支持体の厚みが、好ましくは３〜８０μｍ、より好ましくは３〜５０μｍ、特に好ましくは３〜１０μｍである。

磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化されるものであるが、一般には１０〜１５０ｎｍであり、好ましくは２０〜１２０ｎｍであり、さらに好ましくは３０〜１００ｎｍであり、特に好ましくは３０〜８０ｎｍである。また、磁性層の厚み変動率（σ／δ）は±５０％以内が好ましく、さらに好ましくは±３０％以内である。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。

非磁性層の厚みは、例えば０．１〜３．０μｍであり、０．３〜２．０μｍであることが好ましく、０．５〜１．５μｍであることが更に好ましい。なお、本発明の磁気記録媒体の非磁性層は、実質的に非磁性であればその効果を発揮するものであり、例えば不純物として、あるいは意図的に少量の磁性体を含んでいても、本発明の効果を示すものであり、本発明の磁気記録媒体と実質的に同一の構成とみなすことができる。なお、実質的に同一とは、非磁性層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下または抗磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力を持たないことを意味する。

バックコート層
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体の磁性層を有する面とは反対の面にバックコート層を有することもできる。バックコート層には、カーボンブラックと無機粉末が含有されていることが好ましい。結合剤、各種添加剤は、磁性層や非磁性層の処方を適用することができる。特に前記非磁性層の処方を適用することが好適である。バックコート層の厚みは、０．９μｍ以下が好ましく、０．１〜０．７μｍが更に好ましい。本発明の磁気記録媒体がバックコート層を有する場合、アルキレンオキサイド残基および炭酸エステル残基を有するポリエーテル化合物をバックコート層に含むこともできる。

製造方法
磁性層、非磁性層またはバックコート層を形成するための塗布液を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる強磁性粉末、非磁性粉末、本発明のポリエーテル化合物、結合剤、カーボンブラック、研磨材、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、磁性層用塗料、非磁性層用塗料またはバック層用塗料を分散させるには、ガラスビーズを用いることができる。このようなガラスビーズは、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知のものを使用することができる。塗布液の製造工程では、分散条件（分散に使用するビーズ種、ビーズ量、周速、分散時間）によって分散を強化することが好ましい。

重層構成の磁気記録媒体を塗布する場合には、非磁性層塗布液が湿潤状態にあるうちに、その上に磁性層形成用塗布液を塗布、乾燥させる方法（Ｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔ）を用いてもよく、非磁性層形成用塗布液を塗布、乾燥させた後、その上に磁性層形成用塗布液を塗布、乾燥させる方法（Ｗｅｔ ｏｎ ｄｒｙ）を用いてもよい。

非磁性層塗布液が湿潤状態にあるうちに、その上に磁性層形成用塗布液を塗布、乾燥させる方法（Ｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔ）を用いる場合には、以下のような方式を用いることが好ましい。第一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等により、まず非磁性層を塗布し、非磁性層がウェット状態のうちに特公平１−４６１８６号公報や特開昭６０−２３８１７９号公報、特開平２−２６５６７２号公報に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により磁性層を塗布する方法；第二に特開昭６３−８８０８０号公報、特開平２−１７９７１号公報、特開平２−２６５６７２号公報に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法；第三に特開平２−１７４９６５号公報に開示されているバックアップロール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２−９５１７４号公報や特開平１−２３６９６８号公報に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平３−８４７１号公報に開示されている数値範囲を満足することが好ましい。
各層用塗布液の塗布には、磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等を用いることができる。

磁性層塗布液の塗布層は、磁気テープの場合、磁性層塗布液の塗布層中に含まれる強磁性粉末にコバルト磁石やソレノイドを用いて磁場配向処理してもかまわない。ディスクの場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用いることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属粉末の場合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、垂直成分をもたせて３次元ランダムとすることもできる。また異極対向磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて円周配向することもできる。

乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御できる様にすることが好ましく、塗布速度は２０ｍ／分〜１０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい、また磁石ゾーンに入る前に適度の予備乾燥を行うこともできる。

このようにして得られた塗布原反は、一旦巻き取りロールにより巻き取られ、しかる後、この巻き取りロールから巻き出され、カレンダー処理を施すことができる。カレンダーロールとしてはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の耐熱性プラスチックロールを使用することができる。また金属ロールで処理することもできる。カレンダー処理条件としては、カレンダーロールの温度は、例えば６０〜１００℃の範囲、好ましくは７０〜１００℃の範囲、特に好ましくは８０〜１００℃の範囲であり、圧力は、例えば１００〜５００ｋｇ／ｃｍ（９８〜４９０ｋＮ／ｍ）の範囲であり、好ましくは２００〜４５０ｋｇ／ｃｍ（１９６〜４４１ｋＮ／ｍ）の範囲であり、特に好ましくは３００〜４００ｋｇ／ｃｍ（２９４〜３９２ｋＮ／ｍ）の範囲である。

得られた磁気記録媒体は、裁断機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。裁断機としては、特に制限はないが、回転する上刃（雄刃）と下刃（雌刃）の組が複数設けられたものが好ましく、適宜、スリット速度、噛み合い深さ、上刃（雄刃）と下刃（雌刃）の周速比（上刃周速／下刃周速）、スリット刃の連続使用時間等を選定することができる。

本発明の磁気記録媒体は、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができる。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当たりを良くすることができる。

本発明の磁気記録媒体において、磁性層の表面粗さは、原子間力顕微鏡で測定した表面平均粗さＲａとして、好ましくは１．０〜４．５ｎｍの範囲である。前記表面粗さＲａが４．５ｎｍ以下であれば高密度記録に好適であり、１．０ｎｍ以上であれば安定走行が可能である。前記表面粗さＲａは、より好ましくは１．０〜４．０ｎｍ、更に好ましくは２．５〜４．０ｎｍの範囲である。前記表面粗さＲａは、例えば、日本ビーコ（株）製NanoscopeIVにて、磁性層表面の４０μｍ角のＲａを測定した値として求めることができる。本発明者らの検討によれば、従来の炭酸エステル系潤滑剤は、高密度記録化のために磁性層表面の平滑性を高めた磁気記録媒体において、再走行時に貼り付きが起こることにより走行耐久性が低下する減少が見られた。これに対しアルキレンオキサイド残基および炭酸エステル残基を有するポリエーテル化合物は、上記再走行時の貼り付きを抑制することが可能である。この理由について本発明者らは、アルキレンオキサイド残基および炭酸エステル残基を有するポリエーテル化合物が結合剤との相溶性に優れることに起因するのではないかと推察している。

[ポリエーテル化合物]
更に本発明は、
一般式(I)で表されるポリエーテル化合物；および、
一般式(II)で表されるポリエーテル化合物
に関する。本発明のポリエーテル化合物の詳細は、前述の通りである。先に説明したように、本発明のポリエーテル化合物は、従来使用されていた炭酸エステル系潤滑剤と比べてエーテル部位を多く有するため、金属とのなじみがよく金属表面上に強固な潤滑膜を形成することができる。これにより、金属部材同士の摺動時の摩擦低減に寄与するのみならず、磨耗低減効果を発揮することもできる。更に、本発明のポリエーテル化合物の中でも前述の一般式(1)〜(3)で表されるポリエーテル化合物は、磁気記録媒体に一般に使用される結合剤との相溶性が高いため、再走行時の起動摩擦増大を抑制することが可能である。また、従来使用されていた炭酸エステル系潤滑剤と比べて添加量を増量することもできるため、高密度記録化のために薄層化された磁気記録媒体に、より多くの潤滑剤を添加し潤滑性を高めることが可能となる。

以下に本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。なお、ここに示す成分、割合、操作、順序等は本発明の精神から逸脱しない範囲で変更し得るものであり、下記の実施例に制限されるべきものではない。また、実施例中の「部」は、特に示さない限り質量部を示す。なお、下記の実施例における¹Ｈ ＮＭＲの測定は、４００ＭＨｚのＮＭＲ（ＢＲＵＫＥＲ社製ＡＶＡＮＣＥＩＩ−４００）を使用して重ＤＭＳＯ溶媒により行った。
また、下記ポリエーテル１〜４３のポリエチレンオキサイド部分またはポリプロピレンオキサイド部分の繰り返し単位数は、以下の方法により算出した値である。
ポリエーテル１〜１６：合成例１〜４および１６の¹Ｈ ＮＭＲチャート中の０．８５ｐｐｍ、３．５１ｐｐｍのプロトンの比率に基づき求めた。
ポリエーテル１７〜１９：合成例１７の¹Ｈ ＮＭＲチャート中の１．２５〜１．３０ｐｐｍ、４．８２−４．９１ｐｐｍのプロトンの比率に基づき求めた。
ポリエーテル２０〜２２：合成例２０の¹Ｈ ＮＭＲチャート中の１．０８〜１．１８ｐｐｍ、４．８２−４．９１ｐｐｍのプロトンの比率に基づき求めた。
ポリエーテル２３〜２５：合成例２３の¹Ｈ ＮＭＲチャート中の１．１２〜１．１５ｐｐｍ、４．８２−４．９０ｐｐｍのプロトンの比率に基づき求めた。
ポリエーテル２６〜２８：３つのポリプロピレンオキサイド部分の繰り返し単位は同一（一般式(II)中のｍ１＝ｍ２＝ｍ３）との前提の下、合成例２６の¹Ｈ ＮＭＲチャート中の１．１１〜１．４４ｐｐｍ、４．８２−４．９１ｐｐｍのプロトンの比率に基づき求めた。
ポリエーテル２９〜３１：３つのポリプロピレンオキサイド部分の繰り返し単位は同一（一般式(II)中のｍ１＝ｍ２＝ｍ３）との前提の下、合成例２９の¹Ｈ ＮＭＲチャート中の１．０９〜１．１４ｐｐｍ、４．８２−４．９１ｐｐｍのプロトンの比率に基づき求めた。
ポリエーテル３２〜３４：３つのポリプロピレンオキサイド部分の繰り返し単位は同一（一般式(II)中のｍ１＝ｍ２＝ｍ３）との前提の下、合成例３２の¹Ｈ ＮＭＲチャート中の１．２３〜１．３０ｐｐｍ、４．８２−４．９１ｐｐｍのプロトンの比率に基づき求めた。
ポリエーテル３５〜４０：３つのポリプロピレンオキサイド部分の繰り返し単位は同一（一般式(II)中のｍ１＝ｍ２＝ｍ３）との前提の下、合成例３５の¹Ｈ ＮＭＲチャート中の１．１０〜１．２０ｐｐｍ、４．８１−４．９１ｐｐｍのプロトンの比率に基づき求めた。
ポリエーテル４１：３つのプロピレンオキサイド部分の繰り返し単位は同一(一般式(II)中のｍ１＝ｍ２＝ｍ３)との前提の下、合成例４１の¹Ｈ ＮＭＲチャート中の３．３２−３．６１ｐｐｍ、４．１１ｐｐｍのプロトンの比率に基づき求めた。
ポリエーテル４２：３つのプロピレンオキサイド部分の繰り返し単位は同一(一般式(II)中のｍ１＝ｍ２＝ｍ３)との前提の下、合成例４２の¹Ｈ ＮＭＲチャート中の３．３３−３．７０ｐｐｍ、４．２６−４．２８ｐｐｍのプロトンの比率に基づき求めた。
ポリエーテル４３：３つのプロピレンオキサイド部分の繰り返し単位は同一(一般式(II)中のｍ１＝ｍ２＝ｍ３)との前提の下、合成例４３の¹Ｈ ＮＭＲチャート中の３．３０−３．６２ｐｐｍ、４．０６−４．１７ｐｐｍのプロトンの比率に基づき求めた。

[合成例１]
ポリエチレングリコール（和光純薬製ポリエチレングリコール２００）１質量部、ピリジン（東京化成製）０．９質量部を、ヘキサン１０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）２．０質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱還流させた。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（ヘキサン層）を得た。ヘキサン層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（ヘキサン層）を得た。得られたヘキサン層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色透明オイル状物質として、ポリエーテル１を得た。

合成例１で使用した原料ポリエチレングリコールおよび得られたポリエーテル１の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエチレングリコール２００：和光純薬）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 3.58 (6H, m), 3.40 (6H, m), 2.50 (4H, m).

（ポリエーテル１）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.85 (12H, m), 1.23 (16H, m), 1.54 (2H, m), 3.51 (8H, m), 3.60 (4H, m), 4.00 (4H, dd), 4.17(4H,m).

[合成例２]
ポリエチレングリコール（和光純薬製ポリエチレングリコール３００）１質量部、ピリジン（東京化成製）０．６質量部を、ヘキサン１０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）１．３質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱還流させた。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（ヘキサン層）を得た。ヘキサン層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（ヘキサン層）を得た。得られたヘキサン層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色透明オイル状物質として、ポリエーテル２を得た。

合成例２で得られたポリエーテル２の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル２）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.85 (12H, m), 1.23 (16H, m), 1.54 (2H, m), 3.51 (16H, m), 3.60 (4H, m), 4.00 (4H, dd), 4.17(4H,m).

[合成例３]
ポリエチレングリコール（和光純薬製ポリエチレングリコール４００）１質量部、ピリジン（東京化成製）０．４質量部を、ヘキサン１０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）１．０質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱還流させた。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（ヘキサン層）を得た。ヘキサン層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（ヘキサン層）を得た。得られたヘキサン層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色透明オイル状物質として、ポリエーテル３を得た。

合成例３で得られたポリエーテル３の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル３）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.85 (12H, m), 1.23 (16H, m), 1.54 (2H, m), 3.51 (24H, m), 3.60 (4H, m), 4.00 (4H, dd), 4.17(4H,m).

[合成例４]
ポリエチレングリコール（和光純薬製ポリエチレングリコール６００）１質量部、ピリジン（東京化成製）０．３質量部を、ヘキサン１０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）０．７質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱還流させた。得られた反応液に５％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（ヘキサン層）を得た。ヘキサン層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（ヘキサン層）を得た。得られたヘキサン層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色透明オイル状物質として、ポリエーテル４を得た。

合成例４で得られたポリエーテル４の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル４）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.85 (12H, m), 1.23 (16H, m), 1.54 (2H, m), 3.51 (40H, m), 3.60 (4H, m), 4.00 (4H, dd), 4.17(4H,m).

[合成例５]
ポリエチレングリコール（和光純薬製ポリエチレングリコール２００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．８７質量部を、酢酸エチル２０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）１．３質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル５を得た。

合成例５で得られたポリエーテル５の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル５）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.29 (12H, m), 3.65 (8H, m), 3.72 (4H, t), 4.28 (4H, t), 4.82-4.91(2H,m)

[合成例６]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）１．３質量部をクロロギ酸イソブチル（東京化成製）１．４質量部に変更した点以外は合成例５にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル６を得た。

合成例６で得られたポリエーテル６の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル６）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.95 (12H, m), 1.91-2.04 (2H, m), 3.66 (8H, t), 3.91 (4H, d), 3.73(4H, t), 4.21-4.29 (4H, m)

[合成例７]
ポリエチレングリコール（和光純薬製ポリエチレングリコール３００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．５８質量部を、酢酸エチル２０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．８６質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル７を得た。

合成例７で得られたポリエーテル７の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。
（ポリエーテル７）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.29 (12H, m), 3.65 (16H, m), 3.72 (4H,t), 4.26 (4H, t), 4.82-4.92(2H,m).

[合成例８]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．８６質量部をクロロギ酸イソブチル（東京化成製）０．９６質量部に変更した点以外は合成例７にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル８を得た。

合成例８で得られたポリエーテル８の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル８）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.94 (12H, m), 1.96-2.08 (2H, m), 3.64-3.66 (16H, m), 3.73 (4H, t), 3.92 (4H, t), 4.27-4.29(4H,m)

[合成例９]
ポリエチレングリコール（和光純薬製ポリエチレングリコール４００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．４４質量部を、酢酸エチル２０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．６４質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル９を得た。

合成例９で得られたポリエーテル９の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル９）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.29 (12H, m), 3.65 (24H, m), 3.72 (4H,t), 4.26 (4H, t), 4.82-4.92(2H,m).

[合成例１０]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．６４質量部をクロロギ酸イソブチル（東京化成製）０．７２質量部に変更した点以外は合成例９にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル１０を得た。

合成例１０で得られたポリエーテル１０の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル１０）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.95 (12H, m), 1.92-2.02 (2H, m), 3.65 (24H, t), 3.73 (4H, t), 3.92(4H, m), 4.27 (4H, t)

[合成例１１]
ポリエチレングリコール（和光純薬製ポリエチレングリコール６００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．２９質量部を、酢酸エチル２０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．４３質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル１１を得た。

合成例１１で得られたポリエーテル１１の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル１１）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.29 (12H, m), 3.65 (40H, m), 3.72 (4H,t), 4.26 (4H, t), 4.82-4.92(2H,m).

[合成例１２]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．４３質量部をクロロギ酸イソブチル（東京化成製）０．４８質量部に変更した点以外は合成例１１にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル１２を得た。

合成例１２で得られたポリエーテル１２の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル１２）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.95 (12H, m), 1.92-2.02 (2H, m), 3.65 (40H, m), 3.73 (4H, t), 3.92(4H, m), 4.27 (4H, t)

[合成例１３]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．４３質量部をクロロギ酸ドデシル（東京化成製）０．８７質量部に変更した点以外は合成例１１にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル１３を得た。

合成例１３で得られたポリエーテル１３の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル１３）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.25-1.37 (46H, m), 3.65 (40H, m), 3.72 (4H, t), 4.06-4.18(4H,t), 4.26-4.28 (4H,t)

[合成例１４]
ポリエチレングリコール（和光純薬製ポリエチレングリコール１０００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．１７質量部を、酢酸エチル３０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．２６質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル１４を得た。

合成例１４で得られたポリエーテル１４の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル１４）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.29 (12H, m), 3.65 (76H, m), 3.72 (4H,t), 4.26 (4H, t), 4.82-4.92(2H,m).

[合成例１５]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．４３質量部をクロロギ酸イソブチル（東京化成製）０．４８質量部に変更した点以外は合成例１４にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル１５を得た。

合成例１５で得られたポリエーテル１５の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル１５）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.95 (12H, m), 1.92-2.02 (2H, m), 3.65 (76H, m), 3.73 (4H, t), 3.92(4H, m), 4.27 (4H, t)

[合成例１６]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．４３質量部をクロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）０．４８質量部に変更した点以外は合成例１４にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル１６を得た。

合成例１６で得られたポリエーテル１６の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル１６）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.85 (12H, m), 1.23 (16H, m), １６4 (2H, m), 3.51 (76H, m), 3.60 (4H, m), 4.00 (4H, dd), 4.17(4H,m).

[合成例１７]
ポリプロピレングリコールジオール型（和光純薬製ポリプロピレングリコールジオール型４００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．４４質量部を、酢酸エチル２０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．６４質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル１７を得た。

合成例１７で得られたポリエーテル１７の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル１７）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.09-1.18 (12H, m), 1.25-1.30 (15H, m), 3.13-3.74 (15H, m), 4.82-4.91 (2H, m)

[合成例１８]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．６４質量部をクロロギ酸イソブチル（東京化成製）０．７２質量部に変更した点以外は合成例１７にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質としてポリエーテル１８を得た。

合成例１８で得られたポリエーテル１８の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル１８）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.89 (12H, m), 1.27-1.44 (15H, m), 1.59-1.62 (2H, m), 3.39-3.59 (15H, m), 4.00 (4H, m).

[合成例１９]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．６４質量部をクロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）１．０質量部に変更した点以外は合成例１７にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル１９を得た。

合成例１９で得られたポリエーテル１９の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル１９）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.85 (12H, m), 1.22-1.44 (31H, m), 1.54 (2H,m), 3.39-3.62 (19H, m)

[合成例２０]
ポリプロピレングリコールジオール型（和光純薬製ポリプロピレングリコールジオール型１０００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．１７質量部を、酢酸エチル２０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．２６質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル２０を得た。

合成例２０で得られたポリエーテル２０の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル２０）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.08-1.18 (54H, m), 3.32-3.71 (42H,m), 4.82-4.91 (2H,m).

[合成例２１]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．２６質量部をクロロギ酸イソブチル（東京化成製）０．２９質量部に変更した点以外は合成例２０にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル２１を得た。

合成例２１で得られたポリエーテル２１の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル２１）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.08-1.14 (12H, m), 1.27-1.30 (42H,m), 1.43-1.46(2H m), 3.32-3.71 (42H,m), 4.83-4.91 (4H,m).

[合成例２２]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．２６質量部をクロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）０．４０質量部に変更した点以外は合成例２０にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル２２を得た。

合成例２２で得られたポリエーテル２２の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル２２）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.87-0.91 (12H, m), 1.10-1.46 (58H, m), 1.56-1.63(2H,m), 3.28-3.67(42H,m), 3.97-4.08(4H,m).

[合成例２３]
ポリプロピレングリコールジオール型（和光純薬製ポリプロピレングリコールジオール型３０００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．０５８質量部を、酢酸エチル２０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．０９質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル２３を得た。

合成例２３で得られたポリエーテル２３の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル２３）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) =1.12-1.15(162H, m), 3.39-3.74 (150H, m), 4.82-4.90 (2H, m).

[合成例２４]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．０９質量部をクロロギ酸イソブチル（東京化成製）０．１０質量部に変更した点以外は合成例２３にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル２４を得た。

合成例２４で得られたポリエーテル２４の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル２４）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) =1.14-1.30 (208H, m), 1.59-1.62 (2H,m), 3.39-3.66 (150, m), 4.00-4.08 (4H, m).

[合成例２５]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．０９質量部をクロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）０．１３質量部に変更した点以外は合成例２３にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル２５を得た。

合成例２５で得られたポリエーテル２５の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル２５）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) =0.85 (12H,m), 1.14-1.55 (168H, m), 3.39-3.66 (150, m), 4.00-4.09 (4H, m).

[合成例２６]
ポリプロピレングリコールトリオール型（和光純薬製ポリプロピレングリコールトリオール型３００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．８７質量部を、酢酸エチル２０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）１．３質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル２６を得た。

合成例２６で得られたポリエーテル２６の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル２６）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.11-1.44 (27H, m), 3.33-3.70 (14H, m), 4.82-4.91(3H, m).

[合成例２７]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）１．３質量部をクロロギ酸イソブチル（東京化成製）１．４質量部に変更した点以外は合成例２６にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル２７を得た。

合成例２７で得られたポリエーテル２７の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル２７）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.11-1.44 (30H, m), 3.33-3.70 (14H, m), 4.27-4.29(6H, m).

[合成例２８]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）１．３質量部をクロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）２．０質量部に変更した点以外は合成例２６にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル２８を得た。

合成例２８で得られたポリエーテル２８の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル２８）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.89 (18H, t), 1.11-1.44 (33H, m), 1.59 (3H, m), 3.33-3.70 (14H, m), 3.98-4.09(6H,m).

[合成例２９]
ポリプロピレングリコールジオール型（和光純薬製ポリプロピレングリコールトリオール型７００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．３７質量部を、酢酸エチル２０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．５５質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル２９を得た。

合成例２９で得られたポリエーテル２９の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル２９）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.09-1.14 (27H, m), 1.24-1.30 (18H, m), 3.30-3.59 (32H, m), 4.82-4.91 (3H, m)

[合成例３０]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．５５質量部をクロロギ酸イソブチル（東京化成製）０．６１質量部に変更した点以外は合成例２９にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル３０を得た。

合成例３０で得られたポリエーテル３０の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル３０）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.11-1.43 (48H, m), 3.30-3.69 (32H, m), 4.27-4.30 (6H, m)

[合成例３１]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．５５質量部をクロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）０．８７質量部に変更した点以外は合成例２９にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル３１を得た。

合成例３１で得られたポリエーテル３１の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル３１）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.89 (18H, t), 1.13-1.46 (51H, m), 1.56-1.63 (3H, m), 3.33-3.66 (32H,m), 4.00-4.12 (6H, m).

[合成例３２]
ポリプロピレングリコールトリオール型（和光純薬製ポリプロピレングリコールトリオール型１５００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．１７質量部を、酢酸エチル２０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．２６質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル３２を得た。

合成例３２で得られたポリエーテル３２の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル３２）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.09-1.14 (18H, m), 1.23-1.30 (72H, m), 3.30-3.59 (77H, m), 4.82-4.91 (3H, m).

[合成例３３]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．２６質量部をクロロギ酸イソブチル（東京化成製）０．２９質量部に変更した点以外は合成例３２にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル３３を得た。

合成例３３で得られたポリエーテル３３の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル３３）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.11-1.43 (93H, m), 3.30-3.59 (77H, m), 4.27-4.30 (6H, m).

[合成例３４]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．２６質量部をクロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）０．４０質量部に変更した点以外は合成例３２にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル３４を得た。

合成例３４で得られたポリエーテル３４の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル３４）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.89 (18H, t), 1.13-1.46 (96H, m), 1.56-1.63 (3H, m), 3.33-3.66 (77H, m), 4.00-4.12 (6H, m).

[合成例３５]
ポリプロピレングリコールトリオール型（和光純薬製ポリプロピレングリコールトリオール型３０００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．０８７質量部を、酢酸エチル２０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．１３質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル３５を得た。

合成例３５で得られたポリエーテル３５の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル３５）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.09-1.30 (171H, m), 3.30-3.59 (158H, m), 4.82-4.91 (3H, m).

[合成例３６]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．１３質量部をクロロギ酸イソブチル（東京化成製）０．１４質量部に変更した点以外は合成例３５にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ｎ≒１７の例示化合物（３６）（以下、「ポリエーテル３６」と記載）を得た。

合成例３６で得られたポリエーテル３６の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル３６）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.11-1.43 (174H, m), 3.30-3.59 (158H, m), 4.27-4.30 (6H, m).

[合成例３７]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．１３質量部をクロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）０．２０質量部に変更した点以外は合成例３５にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル３７を得た。

合成例３７で得られたポリエーテル３７の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル３７）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.89 (18H, t), 1.13-1.46 (177H, m), 1.56-1.63 (3H, m), 3.33-3.66 (158H, m), 4.00-4.12 (6H, m).

[合成例３８]
ポリプロピレングリコールトリオール型（和光純薬製ポリプロピレングリコールトリオール型４０００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．０６５質量部を、酢酸エチル２０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．１０質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル３８を得た。

合成例３８で得られたポリエーテル３８の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル３８）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.10-1.20 (198H, m), 1.26-1.33 (18H, m), 3.28-3.61 (203H, m), 4.81-4.91 (3H, m).

[合成例３９]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．１０質量部をクロロギ酸イソブチル（東京化成製）０．１１質量部に変更した点以外は合成例３８にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル３９を得た。

合成例３９で得られたポリエーテル３９の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル３９）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.11-1.43 (219H, m), 3.30-3.59 (203H, m), 4.27-4.30 (6H, m).

[合成例４０]
クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）０．１０質量部をクロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）０．１５質量部に変更した点以外は合成例３８にしたがって酢酸エチル層を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル４０を得た。

合成例４０で得られたポリエーテル４０の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテ４０）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 0.89 (18H, t), 1.13-1.46 (222H, m), 1.56-1.63 (3H, m), 3.33-3.66 (203H, m), 4.00-4.12 (6H, m).

[合成例４１]
ポリプロピレングリコールジオール型（和光純薬製ポリプロピレングリコールジオール型４００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．４４質量部を、酢酸エチル２０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸ドデシル（東京化成製）１．３１質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル４１を得た。

合成例４１で得られたポリエーテル４１の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル４１）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.14 (15H, m), 1.26-1.29 (46H, m), 3.32-3.61 (15H, m), 4.11 (4H,t).

[合成例４２]
ポリプロピレングリコールトリオール型（和光純薬製ポリプロピレングリコールトリオール型３００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．８７質量部を、酢酸エチル３０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸ドデシル（東京化成製）２．６１質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル４２を得た。

合成例４２で得られたポリエーテル４２の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル４２）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.11-1.44 (78H, m), 3.33-3.70 (14H, m), 4.82-4.91(6H, m).

[合成例４３]
ポリプロピレングリコールトリオール型（和光純薬製ポリプロピレングリコールトリオール型７００）１．０質量部、ピリジン（東京化成製）０．３７質量部を、酢酸エチル２０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸イソプロピル（東京化成製）１．１２質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱した。得られた反応液に５質量％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。酢酸エチル層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（酢酸エチル層）を得た。得られた酢酸エチル層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色〜淡黄色透明オイル状物質として、ポリエーテル４３を得た。

合成例４３で得られたポリエーテル４３の¹Ｈ ＮＭＲデータおよびその帰属を以下に示す。

（ポリエーテル４３）：¹H NMR (DMSO = 3.32 ppm) δ(ppm) = 1.13-1.36 (96H, m), 3.30-3.62 (32H, m), 4.06-4.17 (6H, m).

上記で得られたポリエーテル化合物と一般式との対応関係を、下記表１に示す。

[比較合成例１]
１−オクタデカノール（和光純薬製）１質量部、ピリジン（東京化成製）０．３質量部をヘキサン１０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）０．７質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱還流させた。得られた反応液に５％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（ヘキサン層）を得た。ヘキサン層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（ヘキサン層）を得た。得られたヘキサン層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色透明オイル状物質として、下記比較化合物１を得た。

[比較合成例２]
２−エチルヘキサノール（和光純薬製）１質量部、ピリジン（東京化成製）０．７質量部を、ヘキサン１０質量部に室温で溶解した。得られた溶液に、クロロギ酸−２−エチルヘキシル（東京化成製）１．６質量部を３０分かけて滴下した。反応液を８０℃のオイルバス中で３時間加熱還流させた。得られた反応液に５％重曹水３質量部を加え２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（ヘキサン層）を得た。ヘキサン層に純水３質量部を添加し２０分攪拌した。反応液を分液し、上層（ヘキサン層）を得た。得られたヘキサン層をエバポレーターを用いて濃縮し、無色透明オイル状物質として、下記比較化合物２を得た。

化合物の評価１（潤滑性能、耐磨耗性の評価）
（１）潤滑性能の評価
下記表２に示す各化合物０．０１ｍｌを、金属板（テクノス（株）製ＳＵＪ２基盤、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による測定によるRa＝約2nm）上に塗布して潤滑膜を形成した。形成した潤滑膜について、ＣＭＣ社製（スイス）トライボメーターを用いてボールオンディスク方式により、下記条件で１０分間回転させた際の平均摩擦係数を測定した。
測定条件
半径：５ｍｍ、速度：３ｃｍ／ｓ、加重：５．００Ｎ、気温：２１．７℃、湿度：４８．０％
金属ボール：テクノス（株）製ＳＵＪ２ボール
（２）耐摩耗性の評価
上記（１）における１０分間回転後のＳＵＪ２ディスク表面をＡＦＭで観測し、傷の深さを測定した。
以上の結果を表２に示す。なお、表２中、比較例１−４は化合物を塗布せず、ボールとディスクのみを回転させて評価を行った結果である。

評価結果
表２に示すように、参考例１−１〜１−１３では比較例１−４と比べて平均摩擦係数が低く、炭酸エステル系潤滑剤を使用した比較例１−１および１−３と同等以上の潤滑性能が得られていることから、参考例１−１〜１−１３で使用したポリエーテル化合物が金属表面上で優れた潤滑性能を発揮することがわかる。また、参考例１−１〜１−１３では、比較例１−１〜１−３と比べて摩擦係数測定後の基盤の傷が浅かったことから、参考例１−１〜１−１３で使用したポリエーテルが耐摩耗性向上に寄与することも確認できる。以上の結果より、本発明のポリエーテル化合物は金属に対して親和性が高く、優れた磨耗低減効果を有し、その結果摩擦を下げることが分かる。

化合物の評価２（結合剤との相溶性の評価）
下記結合剤Ａ〜Ｃのいずれか１００質量部、シクロヘキサノン１，０００質量部、表３に示す潤滑剤１質量部を混合し、マグネチックスターラーを用いて１時間攪拌した。得られた混合液を０．１ｍｌ計量しＯＨＰシートに滴下した後、７０℃、４８時間、常圧条件下で乾燥させた。乾燥したＯＨＰシート表面を目視で観察し、相溶性を確認した。透明なものを相溶性○、濁っているものを相溶性×と判断した。更に、相溶性○だったものは添加する潤滑剤量を増やし相溶性×となる点を確認した。相溶性×となった時点の潤滑剤濃度を表３に示す。

結合剤Ａ：スルホン酸基を０．７×１０^-4モル／ｇ含有するポリエステルポリウレタン。ポリウレタンはポリエステル部位にフタル酸とプロピレングリコールを含みウレタン成分として４，４‘−ジフェニルメタンジイソシアネートを使用している。０．３質量％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた質量平均分子量（Ｍｗ）は約７００００。
結合剤Ｂ：塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン製ＭＲ−１０４）。０．３質量％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた質量平均分子量（Ｍｗ）は約７００００。
結合剤Ｃ：スルホン酸基を０．６×１０^-4モル／ｇ含有するポリエーテルポリウレタン。ポリウレタンはポリエーテル部位にビスフェノールＡのプロピレングリコール付加物を含みウレタン成分として４，４‘−ジフェニルメタンジイソシアネートを使用している。０．３質量％の臭化リチウムを含有するＤＭＦ溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた質量平均分子量（Ｍｗ）は約７００００。

評価結果
表３に示す結果から、以下の事項を確認することができる。
(i)一般式(I)で表されるポリエーテル化合物の中で、一般式(1)または一般式(2)に該当するポリエーテル１〜２５は、いずれも塗布型磁気記録媒体に使用される各種結合剤樹脂に対して良好な相溶性を示す。
(ii)一般式(II)で表されるポリエーテル化合物の中で、一般式(3)に該当するポリエーテル２６〜４０も、塗布型磁気記録媒体に使用される各種結合剤樹脂に対して良好な相溶性を示す。
(iii)一般式(I)で表されるポリエーテル化合物の中で一般式(1)、(2)のいずれにも該当しないポリエーテル４１、ならびに、一般式(II)で表されるポリエーテル化合物の中で一般式(3)に該当しないポリエーテル４２および４３は、炭酸エステル系化合物である比較化合物１およびステアリン酸-secブチルエステルと同様に上記結合剤に対する相溶性が低い。

[実施例２−１〜２−４、比較例２−１、２−２]
（１）磁性層塗布液の調製
強磁性針状金属粉末：１００部
（組成：Ｆｅ／Ｃｏ／Ａｌ／Ｙ＝６７／２０／８／５（原子％）、表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、抗磁力（Ｈｃ）：１８３ｋＡ／ｍ、結晶子サイズ：１２．５ｎｍ、平均長軸長：４５ｎｍ、平均針状比：６、ＢＥＴ比表面積（Ｓ_BET ）：６０ｍ²／ｇ、飽和磁化（σｓ）：１４０Ａ・ｍ²／ｋｇ（１４０ｅｍｕ／ｇ））
塩化ビニル共重合体：１２部
ポリウレタン樹脂：８部
（分岐側鎖含有ポリエステルポリオール／ジフェニルメタンジイソシアネート系、親水性極性基：−ＳＯ₃Ｎａ＝７０ｅｑ／ｔｏｎ含有）
フェニルホスホン酸：３部
α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒子サイズ０．０６μｍ）：２部
カーボンブラック（平均粒子サイズ ２０ｎｍ）：２部
シクロヘキサノン：１１０部
メチルエチルケトン：１００部
トルエン：１００部
ステアリン酸：１部
ステアリン酸アミド：０．３部
表４に示す潤滑剤：１部

上記成分をそれぞれ連続ニーダで混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液のそれぞれに、ポリイソシアネートを３部加え、更に、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの混合溶媒を４０部加えた後、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性層塗布液を調製した。

（２）非磁性層塗布液の調製
非磁性粉末（α−Ｆｅ₂Ｏ₃）：８０部
（平均長軸長：０．１５μｍ、ＢＥＴ法による比表面積：５２ｍ²／ｇ、ｐＨ：７．６）
カーボンブラック：２０部
（平均１次粒子径：１６ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：８０ｍｌ／１００ｇ、ｐＨ：８．０、ＢＥＴ法による比表面積：２５０ｍ²／ｇ、揮発分：１．５％）
塩化ビニル共重合体：１２部
（−ＳＯ₃Ｎａ含有量：５×１０^-6モル／ｇ、重合度：２８０）
ポリエステルポリウレタン樹脂：５部
（ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ジフェニルメタンジイソシアネート＝０．９／２．６／１、−ＳＯ₃Ｎａ含有量：１×１０^-4モル／ｇ）
ステアリン酸：１部
ステアリン酸アミド：０．３部
メチルエチルケトン：１００部
シクロヘキサノン：５０部
表４に示す潤滑剤：１部

上記成分を連続ニーダで混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリイソシアネートを１部加え、更に、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの混合溶媒を４０部加えた後、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層塗布液を調製した。

（３）バックコート層塗布液の調製
１）混合物Ａ
カーボンブラック（キャボット社製ＢＰ−８００）：１００部
ニトロセルロース（ダイセル製ＲＳ１／２）：１００部
ポリウレタン樹脂（日本ポリウレタン社製Ｎ２３０１）：３０部
オレイン酸銅：５部
銅フタロシアニン：５部
沈降性硫酸バリウム：５部
メチルエチルケトン：５００部
トルエン：５００部
２）混合物Ｂ
カーボンブラック：１００部
ステアリン酸吸着量（ＳＳＡ）：８．５ｍ²／ｇ
平均粒径：２７０ｎｍ
ＤＢＰ吸油量：３６ｍｌ／１００ｇ
ｐＨ：１０
ニトロセルロース（ダイセル製ＲＳ１／２）：１００部
ポリウレタン（日本ポリウレタン社製Ｎ２３０１）：３０部
メチルエチルケトン：３００部
トルエン：３００部
上記混合物Ａをロールミルで予備混練した後、混合物Ａと混合物Ｂとをサンドグラインダーで分散し、得られた分散液１００部に対し、以下の成分を添加した。
ポリエステル樹脂（東洋紡社製バイロン３００）：５部
ポリイソシアナート：５部
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）：５部

（４）磁気記録媒体の作製
続いて、磁性層および非磁性層塗布液の塗布量を、非磁性層の乾燥後の厚みが１．０μｍになるように、更に、その上に設ける磁性層の製品時の厚みが０．１μmとなるように調整し、ベースフィルム上に同時重層塗布した。ベースフィルムには、厚みが５．０μｍで、中心線平均粗さＲａ（カットオフ値０．２５ｍｍ）が０．００５μｍのポリエチレンテレナフタレートを用いた。そして、磁性層および非磁性層がまだ湿潤状態にあるうちに、０．３Ｔの希土類磁石と０．１５Ｔのソレノイドにより配向させ、乾燥を行った。そして、磁性層が設けられた側と反対側のベースフィルム上に、乾燥後の厚みが０．５μｍになるようにバックコート層用塗布液を塗布し、乾燥した。更に、金属ロールのみから構成される７段のカレンダで、温度９０℃にて処理を行い、１／２インチ幅にスリットし、磁気テープを得た。得られた磁気テープの磁性層表面の４０μｍ角のＲａを日本ビーコ（株）Nanoscope IVにて測定したところ、３．５ｎｍであった。

摩擦評価方法
富士フイルム株式会社製摩擦評価装置を用いて、荷重１００ｇ、速度０．３ｍ／ｓ、温度４０℃、湿度８０％で５時間（１００，０００パス回数）テープを走行させた。走行停止後、ヘッド部材をテープに静止させた状態で１０時間放置した。走行を再開した際の起動摩擦を測定した。結果を表４に示す。起動摩擦２５０ｇ未満であれば、再走行時の貼り付きによる走行耐久性の低下なしと判断することができる。結果を下記表４に示す。

評価結果
表４に示すように、合成例１〜４で得たポリエーテル化合物を潤滑剤として使用した実施例２−１〜２−４の磁気テープは、比較例２−１、２−２と比べて走行を再開した際の起動摩擦が低かったことから、優れた走行耐久性を示すことが確認できる。

本発明のポリエーテル化合物は、磁気記録媒体用潤滑剤として有用であり、更に、金属部材摺動時の摩擦係数低減のために好適に使用することができる。

Claims (4)

1. 非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体であって、
   前記磁性層は、下記一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリエーテル化合物を少なくとも一種含むことを特徴とする磁気記録媒体。
   

   

   [一般式(1)中、Ｒ¹¹は炭素数１〜１０の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｎ１１は２以上１００以下の整数を表す。]
   

   

   ［一般式(2)中、Ｒ¹²は炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｎ２は２以上１００以下の整数を表す。］
   

   

   [一般式(3)中、Ｒ¹³は炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｍ¹、ｍ²およびｍ³は、それぞれ独立に１以上１００以下の整数を表す。]
2. 非磁性支持体上に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層と、強磁性粉末および結合剤を含む磁性層と、をこの順に有する磁気記録媒体であって、
   前記非磁性層は、下記一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリエーテル化合物を少なくとも一種含むことを特徴とする磁気記録媒体。
   

   

   [一般式(1)中、Ｒ¹¹は炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｎ１１は２以上１００以下の整数を表す。]
   

   

   ［一般式(2)中、Ｒ¹²は炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｎ２は２以上１００以下の整数を表す。］
   

   

   [一般式(3)中、Ｒ¹³は炭素数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基を表し、ｍ¹、ｍ²およびｍ³は、それぞれ独立に１以上１００以下の整数を表す。]
3. 前記磁性層は、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表されるポリエーテル化合物を少なくとも一種含む請求項２に記載の磁気記録媒体。
4. 前記ポリエーテル化合物を含む層は、脂肪酸および／または脂肪酸アミドを更に含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。