JP5381029B2 - 露光装置 - Google Patents

Description

本発明は、マスクに形成されたマスク・アライメントマーク（マスクマーク）と、基板（ワーク）に形成されたワーク・アライメントマーク（ワークマーク）とを検出して、両者が、あらかじめ設定した位置関係になるように位置合せ（アライメント）を行い、マスクを介してワークを露光する露光装置に関し、特に、位置合せと露光を合わせた露光処理全体の時間を短縮できる露光装置に関するものである。

半導体素子、プリント基板、液晶基板等のパターンをフォトリソグラフィにより製造する工程においては、露光装置が使用される。露光装置は、マスクパターンを形成したマスクと、そのパターンが転写される基板（以下ワークとも言う）を所定の位置関係に位置合わせし、その後、マスクを介して露光光を含む光を照射する。これにより、マスクパターンがワークに転写（露光）される。
図８、図９に、ワーク（プリント基板）を複数の露光領域に分割し、このワークを分割した領域ごとに移動させながら逐次露光を行なう露光装置を示す。
なお、ワークは、図１０に示すように、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの４つの露光領域に分割され、１つの露光領域に対して４個のワークマーク（領域Ａに対してはａ，ｂ，ｃ，ｄ、領域Ｂに対してはｂ，ｄ，ｇ，ｈ）を利用して位置合せを行うものとする。

マスクとワークは、平面内の２方向（Ｘ方向とＹ方向）及び回転方向（θ方向）の位置を合わせなければならない。そのため、マスクマーク（マスク・アライメントマーク）とワークマーク（ワーク・アライメントマーク）は、それぞれ少なくとも２ヶ所必要である。しかし、ワークが持にプリント基板である場合は前工程の処理によって縦横方向に伸縮することもあり、最近は位置合せ精度を上げるために４個のアライメントマークを利用することが多い。なお、この場合には、例えば、マスクマークとワークマークの各座標のずれ量の総和が最も小さくなるように位置合わせを行う。
露光装置は、図８、図９に示すように、主として、光照射部１、マスクＭ、マスクを保持するマスクステージＭＳ、投影レンズ２、ワークＷ（図９参照）を載置して逐次移動しながら露光処理を行う露光ステージＷＳ、マスクマークとワークマークを検出するアライメント顕微鏡１０、露光装置全体の動作を制御する制御部１１から構成される。

光照射部１は、露光光を放射するランプ（不図示）を内蔵している。
マスクＭには、ワークに露光（転写）されるマスクパターンＭＰと、ワークとの位置合せに使うマスクマークＭＡＭが形成されている。マスクステージＭＳはマスクＭを保持するステージである。
投影レンズ２はマスクパターンＭＰをワークＷ上に投影するレンズである。
露光ステージＷＳは、露光処理を行うワークＷを保持するステージで、表面に真空吸着溝（不図示）等が形成されている。また、マスクマークＭＡＭの位置を検出する際に使用する反射部材ＭＭ（ミラー）が取り付けられている。
また、露光ステージＷＳには、ワークＷを移動させてマスクＭとワークの位置合せを行うために、ＸＹθ移動機構（不図示）が取り付けられている。なお、ＸＹθ移動機構は、露光中にワークを分割した領域ごとに移動させるため、Ｘ方向とＹ方向にはワークの幅分移動できるストロークを有している。

アライメント顕微鏡１０は、マスクマークＭＡＭとワークマークを検出する顕微鏡であり、１回の露光において検出するアライメントマークの数（この場合は４個）に応じて設けられるが、図８、図９では２個のみ示している。アライメント顕微鏡１０で検出されたマスクマークＭＡＭやワークマークは、制御部１１にて画像処理されその位置座標が演算される。アライメント顕微鏡１０は、投影レンズ２と露光ステージＷＳの間に、アライメント顕微鏡移動機構（不図示）により挿入退避可能に構成されている。
アライメント顕微鏡１０は、ハーフミラー１０ａ、レンズＬ１、Ｌ２とＣＣＤカメラ１０ｂから構成されている。また、制御部１１には、アライメント顕微鏡１０で受像した画像等が表示されるモニタ１２が設けられている。

次に、図８と図９を使ってその露光手順について説明する。
（１）図８に示すように、露光ステージＷＳにワークが載せられていない状態で、光照射部１からマスクＭに露光光を照射する。
マスクに形成されているマスクマークＭＡＭが、露光ステージの反射ミラーＭＭ上に投影される。反射ミラーＭＭはマスクマークＭＡＭが投影される位置に設けられている。
（２）投影レンズ２と露光ステージＷＳの間にアライメント顕微鏡１０を挿入する。反射ミラーＭＭにより反射されたマスクマークＭＡＭの投影像は、アライメント顕微鏡１０のハーフミラー１０ａにより反射され、ＣＣＤカメラ１０ｂに入射する。
ＣＣＤカメラ１０ｂに写し出されたマスクマークＭＡＭ像は、制御部１１に送られ、画像処理されてその位置座標が求められ記憶される。
（３）図９に示すように、露光ステージＷＳに、露光処理を行うワークＷが、不図示の搬送装置により搬送され載置される。

（４）アライメント顕微鏡１０が投影レンズ２と露光ステージＷＳの間に挿入され、ワークマークＷＡＭを検出する。検出したワークマークＷＡＭが、上記（２）で記憶したマスクマークＭＡＭと、所定の位置関係になるように露光ステージＷＳを移動させて位置合せ（アライメント）を行う。
（５）位置合せ終了後、アライメント顕微鏡１０が退避し、光照射部１から露光光が照射される。マスクパターンＭＰが投影レンズ２によりワークＷ上に投影されて露光（転写）される。
（６）露光終了後、露光ステージＷＳがＸ方向またはＹ方向に移動し、次に露光される領域が投影レンズ２の下に来る。
上記（４）（５）の手順が繰り返される。即ち、アライメント顕微鏡１０が挿入され、ワークマークＷＭＡが検出されて位置合せされ、露光される。
同様に、上記（４）〜（６）の手順が繰り返され、ワーク上の、分割されたすべての領域が露光されると、そのワークの露光処理は修了である。ワークは露光装置外に搬出される。

最近は、ワークであるプリント基板が大型化し、後述する図４に示すように、ワークＷの露光領域も、従来の４分割から１６分割と数が増えてきた。分割された露光領域の数が増えると、上記のように、露光ステージにおいてワークマークの検出と位置合せを行う露光方法では、位置合せと露光が直列の手順に行われるため、一枚のワークの露光処理時間が長くなる。
この問題を解決するため、特許文献１に記載の露光装置は、露光処理を行うための第１のステージと、この第１のステージとは独立に動作可能な、アライメント計測を行うための第２のステージを備えている。そして、第１のステージにおいてワークの露光処理を行っている最中に、第２のステージにおいて、次に露光処理を行うワークの位置情報を取得（ワークマークの検出）する。
このような装置構成をとれば、あるワークの露光処理を行っている間に、次のワークの位置合せを行うので、一枚のワークの露光処理が開始されてから終わるまでの時間を短くすることができる。
特開２００５−８６０９３号公報

図８、図９に示した従来の露光装置を、特許文献１に記載された露光装置のように、露光処理を行う第１のステージ（以下露光ステージという）を含む露光処理部と、アライメント計測を行う、即ち、ワークマークの検出を行う第２のステージ（以下アライメントステージという）を含むアライメントステージ部に分けるとすると、アライメントステージ部には、アライメントステージと、このステージを互いに直交する２方向（ＸＹ方向）にワークの幅分移動するステージ移動機構と、４個のアライメント顕微鏡が取り付けられることになる。
即ち、図４に示すように，ワークに分割して形成された１６の露光領域を、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ・・・Ｎ，Ｏ，Ｐとすると、アライメントステージは露光領域Ａから順番にＸＹ方向への移動を繰り返しながら、各領域に対応するアライメントマークがアライメント顕微鏡によって検出されていく。

露光ステージは、上記したように、分割された各露光領域を露光するために、ＸＹ方向にワークの幅分移動しなければならない。これに加えて、アライメントステージもワークの幅分ＸＹ方向に移動するとなると、大型のワークの幅分がＸＹ方向に移動するためのスペースを、露光処理部とアライメントステージ部の２ヶ所において確保する必要がある。装置は大変に大型になる。
この問題を防ぐために、アライメントステージを移動しないものとすると、今度は、アライメント顕微鏡が、全てのワークマークに対応して、図４の場合であれば２５個必要となる。アライメント顕微鏡は精密な光学機器であり高価であるので、これを２５個使用することは装置のコストアップにつながる。
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであって、本発明の目的は、位置合せと、露光を合わせた露光処理全体の時間を短縮するために、露光処理を行う露光処理部と位置合せを行うアライメントステージ部とを備えた露光装置において、アライメントステ一ジをできるだけ小型化、低コスト化することである。

上記課題を、本発明においては、次のように解決する。
（１）ワーク・アライメントマークの位置を検出するアライメントステージ部と、マスク・アライメントマークを検出するマスク・アライメントマーク検出用顕微鏡と、ワーク・アライメントマークの位置が検出されたワークを保持する露光ステージを具備する露光処理部と、アライメントステージ部から露光処理部にワークを移動させるワーク移動機構から構成される露光装置において、アライメントステージ部を次の（イ）〜（ハ）から構成する。
（イ）ワーク・アライメントマーク（ワークマーク）が形成されたワークを載せるアライメントステージ。
（ロ）基板に形成されているワーク・アライメントマーク（ワークマーク）を検出する複数のアライメント顕微鏡。
（ハ）アライメントステージとアライメント顕微鏡を、相対的に一軸方向にワークの幅分移動させるステージ／顕微鏡移動機構。
そして、上記露光処理部のマスク・アライメントマーク検出用顕微鏡で、マスクのマスク・アライメントマークを検出し、上記アライメントステージ部のワーク・アライメントマーク検出用アライメント顕微鏡で、ワークのワーク・アライメントマークを検出し、上記検出されたワークのワーク・アライメントマークの位置座標と、マスク・アライメントマークの位置座標とを用いて、露光処理部において、上記マスクと露光処理部へ搬送されたワークとの位置合わせを行う。
また、アライメント顕微鏡を移動させる第２の移動機構を設け、この移動機構により、ステージ／顕微鏡移動機構がステージまたはアライメント顕微鏡を１軸方向に移動させる方向に対して直交する方向にアライメント顕微鏡を移動させるように構成する。
なお、真空吸着等によりワークを吸着して動かないように保持するワーク保持部材を設け、上記ワーク保持部材によりワークを保持させた状態で、ワーク保持部材すなわちワークを、アライメントステージの所定位置から、露光ステージの所定位置に移動させるようにしてもよい。
ここで、アライメントステージと露光ステージに、はめ合い等により上記ワーク保持部材を機械的に所定位置に位置決めする位置決め手段を設け、上記ワーク保持部材をアライメントステージ部から露光処理部へ移動させるとき、上記ワーク保持部材をアライメントステージと露光ステージ上で、上記位置決め手段により位置決めするように構成すれば、変形し易いワーク等を扱う場合であっても、位置再現性よくワークをアライメントステージ部から露光処理部へ移動させることができる。これにより、アライメントステージ部で検出されたワーク・アライメントマークの位置に基づき、露光処理部で精度よくアライメントを行うことが可能となる。

本発明においては、以下の効果を得ることができる。
（１）ステージ／顕微鏡移動機構を設け、アライメントステージとアライメント顕微鏡を、相対的に一軸方向にワークの幅分移動させるようにしたので、アライメントステージをＸＹ方向（２軸方向）には移動させる必要はなく、装置の小型化を図ることができる。
（２）アライメント顕微鏡の数を比較的少なくすることができるので、装置のコストダウンを図ることができる。

図１は、本発明の実施例の露光装置の構成を示す図である。
前記図８に示した従来例と同じ構成の部分については、同一の符号が付されており、光照射部１、マスクＭ、マスクを保持するマスクステージＭＳ、投影レンズ２、ワークＷを載置して逐次移動しながら露光処理を行う露光ステージＷＳ、マスクマークを検出するアライメント顕微鏡１０、露光装置全体の動作を制御する制御部１１から構成され、その動作は前述したのと同様である。図１では図示していないが、アライメント顕微鏡１０は、図８に示したように、ハーフミラー１０ａ、レンズＬ１、Ｌ２とＣＣＤカメラ１０ｂから構成されている。
本実施例においては、さらに図１に示すように、露光ステージＷＳを含む露光処理部２１とは別に、新たにアライメントステージＡＳを含む、ワークマークの位置検出を行なうためのアライメントステージ部２２が設けられている。
アライメントステージ部２２には、ワークマークＷＡＭを形成したワークＷを載置するアライメントステージＡＳと、ワークマークＷＡＭを検出するアライメント顕微鏡４を設ける。
また、アライメントステージＡＳとアライメント顕微鏡４を相対的に１軸方向にワークの幅分移動させるステージ／顕微鏡移動機構であるアライメントステージ移動機構２２ａを設ける。なお、図１は、アライメントステージＡＳを移動させるためのアライメントステージ移動機構２２ａを設けた場合を示し、アライメント顕微鏡４を移動させる機構については示されていない。

アライメントステージ部２２と露光処理部２１の間には、アライメントステージ部ＡＳから露光処理部２１にワークＷを搬送するワーク搬送機構２３を設ける。ワーク搬送機構２３は、アライメントステージ部２２で検出し記憶したワークマークＷＡＭの位置座標（ワークＷとステージＡＳとの位置関係）が、露光処理部２１におけるワークマークＷＡＭの位置座標（ワークＷとステージＷＳとの位置関係）と一致するように（位置ずれが生じないように）、高い精度でアライメントステージ部２２から露光処理部２１に搬送する。 すなわち、アライメントステージ部２２で検出されたアライメントステージＡＳに対するワークマークＷＡＭの位置座標の関係が、露光ステージ２１においても維持されるように（露光処理部２１におけるステージＷＳに対するワークマークＷＡＭの位置座標が、アライメントステージ部２２におけるステージＡＳに対するワークマークＷＡＭの位置座標に一致するように）、ワークＷをアライメントステージ部２２から露光処理部２１に搬送する。

アライメントステージ部２２で検出したワークマークＷＡＭの位置座標が、露光処理部２１におけるワークマークＷＡＭの位置座標と一致するように搬送するには、搬送機構２３として、高精度でワークを所定位置に位置決めをすることができるものを用いることも考えられるが、例えば、以下のように構成することもできる。
すなわち、アライメントステージＡＳと露光ステージＷＳを、上下に分割できるように構成し、上側の部分をワーク保持部材で構成し、はめ合い等により上記ワーク保持部材を、機械的にアライメントステージ本体と露光ステージ本体の所定位置に位置決めする位置決め手段を設ける。
ワーク保持部材３には、真空吸着手段などの、ワークを固定して保持する手段を設け、真空吸着手段によりワークを吸着したまま、ワーク保持部材３をアライメントステージ部２２から露光処理部２１へ移動させる。
このとき、上記位置決め手段により、上記ワーク保持部材が、アライメントステージ本体ＡＳ１と露光ステージ本体上で、ステージ本体に対して所定の関係になるように位置決めする。
このように構成すれば、伸び縮みや反りなどの変形を生じ易いワーク等を扱う場合であっても、位置再現性よくワークＷをアライメントステージ部２２から露光処理部２１へ移動させることができる。

図２に、上記位置決め手段として嵌め合いを用い、位置ずれが生じないように高精度で搬送する方法の一例を示す。
同図に示すように、アライメントステージＡＳと露光ステージＷＳを、上下に分割できるように構成し、上部分をワークを真空吸着するワーク保持部材３、下部分をアライメントステージ本体ＡＳ１、露光ステージ本体ＷＳ１とし、その上下で，凹凸の嵌め合いを形成しておく。
アライメントステージ部２２で、ワークＷが載せたワーク保持部材３をアライメントステージ本体ＡＳ１に置き、ワークマークＷＡＭの位置の検出と記憶を行う。

ワーク搬送機構２３は、ワークＷをワーク保持部材３に保持した状態で、ワーク保持部材３ごと露光処理部２１に搬送し、ワーク保持部材３を露光ステージ本体ＷＳ１に嵌め合わせる。
ワーク保持部材３とアライメントステージ本体ＡＳ１および露光ステージＷＳ１の位置関係が変わらないので、アライメントステージ部２２で記憶したワークマークＷＡＭの位置座標と、露光処理部２１の露光ステージ本体ＷＳ１の位置座標が一致する（即ち、アライメントステージで検出したワークマークの位置（Ｘｎ，Ｙｍ）が、そのまま露光ステージの（Ｘｎ，Ｙｍ）の位置に搬送できる）。

図３は、本発明の露光装置のアライメントステージ部の構成例を示す斜視図であり、図４は前述したワークＷの露光領域の一例を示す図である。
図３に示すようにアライメントステージ部２２には、ワークマークＷＡＭを形成したワークＷを載せるアライメントステージＡＳがある。このステージＡＳは、ワークＷを吸着保持するための真空吸着機構を備えたワーク保持部材３とステージ本体ＡＳ１から構成されるが、図３においては省略している。また、アライメントステージＡＳには、載置したワークＷのワークマークが、後述するアライメント顕微鏡の視野内に入るようにワークの位置を調整するためのＹθ移動機構も取り付けられているが、これも省略している。
アライメントステージＡＳには、ステージ移動機構２２ａとしての直進ガイド２２１が取り付けられており、アライメントステージＡＳは図中矢印方向の一軸方向（Ｘ方向）のみに移動する。
また、アライメントステージＡＳの上方には、ワークマークを検出するための複数のアライメント顕微鏡４（ワークマーク検出用アライメント顕微鏡）が配置されている。アライメント顕微鏡４は、門状のアライメント顕微鏡支持体４ａにより支持されている。
ワークＷを載せたステージＡＳは、門状のアライメント顕微鏡支持体４ａの下を、直進ガイド２２１により一方向（Ｘ方向）に移動する。

アライメント顕微鏡４の数は、ステージＡＳに載せられるワークＷの、ステージＡＳが移動する方向に対して直交する方向に形成されているワークアライメントマークＷＡＭの数に対応している。図３に示す構成例の場合は、例えば図４に示すワークＷのワークマークＷＡＭを一括して検出できるように５個設けられている。
ワークマーク検出用のアライメント顕微鏡４は、図５に示すように、レンズＬ３，Ｌ４とＣＣＤカメラ４ｂから構成されている。ＣＣＤカメラ４ｂにより受像したワークマーク像は、装置の制御部１１に送られ、画像処理されて位置座標が求められ記憶される。

図１、図３、図４を用いて、露光処理の手順について説明する。なお、ワークをアライメントステージ部のアライメントステージから露光ステージに搬送するワーク搬送機構は、上記したようにアライメントステージの位置座標と露光ステージの位置座標が一致するようにワークを搬送できるものとする。
露光処理部２１の露光ステージＷＳにワークＷが載せられていない状態で、光照射部１からマスクＭに露光光を照射する。
マスクＭに形成されているマスクマークＭＡＭが、露光ステージＷＳの反射ミラーＭＭ上に投影される。投影レンズ２と露光ステージＷＳの間に、マスクマーク検出用のアライメント顕微鏡１０を挿入する。反射ミラーＭＭにより反射されたマスクマークＭＡＭの投影像は、アライメント顕微鏡１０のハーフミラー１０ａにより反射されＣＣＤカメラ１０ｂに入射する。ＣＣＤカメラ１０ｂに写し出されたマスクマークＭＡＭ像は、制御部１１に送られ、画像処理されてその位置座標（例えば（Ｘｍ，Ｙｍ））が求められ記憶される。この部分は従来例と同じである。
なお、アライメント顕微鏡１０は、反射ミラーＭＭを設けた位置に、露光ステージＷＳに埋め込むように設けてもよい。

一方、アライメントステージ部２２のアライメントステージＡＳにワークＷが載置される。ステージＡＳは、ステージ移動機構の直進ガイド２２１に沿って、ワークマークＷＡＭの形成されている間隔でステップ送りされる。ワークマークＷＡＭの間隔は、予め制御部１１に記憶されている。直進ガイド２２ａは直動性の良いものを使用する。
ワークマーク検出用の複数のアライメント顕微鏡４は、移動する方向に対して直交する方向に形成されたアライメントマークＷＡＭを、並びで検出する。その列の検出が終わると、ステージＡＳをワークマークＷＡＭの形成されている間隔でステップ送りし、次の列のワークマークＷＡＭを検出する。
ワークＷがステップ送りされるごとに、検出されたワークマーク像は制御部１１に送られ、画像処理されてその位置座標が求められ記憶される。
すべてのワークマークＷＡＭの位置座標が求められると、ワーク搬送機構２３が、ワークＷをアライメントステージ部２２のアライメントステージＡＳから露光処理部２１の露光ステージＷＳに搬送する。上記したように、搬送機構２３は、アライメントステージＡＳにおいて検出した位置座標と、露光ステージＷＳの位置座標が−致するように（あるいは予め設定された位置関係になるように）搬送する。
なお、前述したように、ワーク保持部材３でワークＷを保持した状態でワークＷを、露光ステージＷＳに搬送してもよい。

露光ステージＷＳにワークＷが載置されると、上記で制御部１１に記憶した４つのマスクマークＭＡＭの位置と、第１の露光領域の４つのワークマークの位置が一致するように（あるいは予め設定した位置関係になるように）、露光ステージＷＳがＸＹθ方向に移動する。光照射部１から露光光が照射され、マスクパターンが投影レンズ２によりワークＷ上に投影されて、第１の露光領域が露光（転写）される。
第１の露光領域の露光が終わると、第２の露光領域の露光を行うために、露光ステージＷＳがＸＹ方向に移動する。第２の露光領域が投影レンズの下に来ると、記憶している（４つの）マスクマークの位置と、第２の露光領域の（４つの）ワークマークＷＡＭの位置が一致するように（あるいは予め設定した位置関係になるように）、露光ステージＷＳが移動し、第２の露光領域を露光する。
以下、これを繰り返し、図４に示す分割された１６の露光領域を露光する。

図６は、アライメントステージ部の他の構成例を示す図である。
図３に示した構成例においては、ステージ移動機構２２ａにより、アライメントステージＡＳがアライメント顕微鏡４に対して移動する。本構成例においては、顕微鏡移動機構２２ｂにより、アライメント顕微鏡４がアライメントステージＡＳに対して移動する。即ち、直進ガイド２２１がアライメント顕微鏡支持体４ａに取り付けられている。これにより、アライメント顕微鏡４は、ワークの幅分一軸方向（Ｘ）方向に移動する。
アライメント顕微鏡４は、移動する方向に対して直交する方向に形成されたアライメントマークを、並びで検出する。その列の検出が終わると、アライメント顕微鏡支持体４ａをワークマークの形成されている間隔でステップ送りし、次の列のワークマークを検出する。
図３の構成例、図６の構成例ともに、アライメントステージ部２２では、ワークの幅分の移動は一軸方向（Ｘ方向）しかなく、アライメントステージ部２２を小型化できる。
また、ワークマーク検出用のアライメント顕微鏡４も、ステージＡＳまたは顕微鏡４が移動する方向に対して直交する方向に形成されているアライメントマークの数のみに対応して設ければよいので、その数を比較的少なくすることができ、装置のコストダウンを図ることができる。

図７は、アライメントステージ部２２の本発明の実施例を示す図である。
本実施例においては、ワークマーク検出用の複数のアライメント顕微鏡４を、ステージＡＳと顕微鏡４が相対的に移動する方向に対して直交する方向に移動させる第２の顕微鏡移動機構２２ｃを設けたものである。
このように構成した場合、アライメント顕微鏡４は、ＸＹ方向にステップ移動を繰り返しながらアライメントマークを検出し記憶する。
第１，２の構成例に比べて、アライメント顕微鏡４を、ステージＡＳと顕微鏡４が相対的に移動するに対して直交する方向（Ｙ方向）に移動させる機構が必要になる。アライメントステージＡＳをＹ方向に移動させるわけではないので、アライメントステージ部２２の大きさは基本的には、前記構成例と同じであり、大型化しない。また、アライメント顕微鏡４がＹ方向にも移動するので、顕微鏡の数を減らすことができる。
アライメント顕微鏡の数が減り、また顕微鏡をＹ軸方向に移動させるので、前記構成例にくらべて、１枚のワークにおいてワークマークの検出に必要な時間は長くなる。しかし、それは、露光処理部２１で行われるワーク１枚あたりの露光の処理時間よりも短い時間であれば問題はない。
なお、図７においては、ステージＡＳと顕微鏡４を相対的にワークの幅分移動させる移動機構を、図６の構成例のように顕微鏡側に取り付けているが、これは、図３の構成例のようにステージ側に取り付けてもよい。

本発明の実施例の露光装置の構成を示す図である。 位置決め手段として嵌め合いを用い、位置ずれが生じないように高精度で搬送する方法の一例を示す図である。 本発明のアライメントステージ部の構成例を示す斜視図である。 ワークの露光領域の一例を示す図である。 ワークマーク検出用のアライメント顕微鏡の構成例を示す図である。 アライメントステージ部の他の構成例を示す図である。 アライメントステージ部の本発明の実施例を示す図である。 ワークの逐次露光を行う従来の露光装置の構成例を示す図（１）である。 ワークの逐次露光を行う従来の露光装置の構成例を示す図（２）である。 ４つの露光領域に分割されたワークの例を示す図である。

符号の説明

１ 光照射部
２ 投影レンズ、
３ ワーク保持部材
４ アライメント顕微鏡
４ａ アライメント顕微鏡支持体
１０ アライメント顕微鏡、
１１ 制御部
２１ 露光処理部
２２ アライメントステージ部
２２ａ ステージ移動機構
２２１ 直進ガイド
２２ｂ，２２ｃ 顕微鏡移動機構
２３ ワーク搬送機構
Ｍ マスク
ＭＳ マスクステージ
ＷＳ 露光ステージ
ＡＳ アライメントステージ
Ｗ ワーク

Claims (1)

1. マスクに形成されたマスク・アライメントマークと、ワークに形成されたワーク・アライメントマークを検出し、両者を所定の位置関係になるように位置合せを行い、位置合せ終了後マスクを介して露光光をワークに照射し、マスクに形成されたパターンをワークに露光する露光装置において、
   上記露光装置は、
   アライメントマークが形成されたワークを保持するアライメントステージと、アライメントステージに保持されたワークのワーク・アライメントマークを検出する複数のワーク・アライメントマーク検出用アライメント顕微鏡と、アライメントステージとワーク・アライメントマーク検出用アライメント顕微鏡とを、一軸方向にワークの幅分相対的に移動させるステージ／顕微鏡移動機構とを備えたアライメントステージ部と、
   マスク・アライメントマークを検出するマスク・アライメントマーク検出用アライメント顕微鏡と、アライメントステージ部でワーク・アライメントマークの位置が検出されたワークを保持する露光ステージとを備えた露光処理部と、
   アライメントステージ部から露光処理部にワークを移動させるワーク移動機構とを備え、
   上記ワーク・アライメントマーク検出用アライメント顕微鏡には、
   上記一軸方向と直交する方向に、ワーク・アライメントマーク検出用アライメント顕微鏡を移動させる第２の移動機構が取り付けられており、
   上記露光処理部のマスク・アライメントマーク検出用アライメント顕微鏡で、マスクのマスク・アライメントマークを検出し、
   上記アライメントステージ部のワーク・アライメントマーク検出用アライメント顕微鏡で、ワークのワーク・アライメントマークを検出し、
   上記検出されたワークのワーク・アライメントマークの位置座標と、マスク・アライメントマークの位置座標とを用いて、露光処理部において、上記マスクと露光処理部へ搬送されたワークとの位置合わせを行う
   ことを特徴とする露光装置。

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