JP5348521B2 - 液晶表示パネル - Google Patents

Description

本発明は、横電界方式の液晶表示パネルに関し、特にスリット状開口を有する上電極が共通電極として作動する横電界方式の液晶表示パネルに関するものである。

液晶表示パネルはＣＲＴ（陰極線管）と比較して軽量、薄型、低消費電力という特徴があるため、表示用として多くの電子機器に使用されている。液晶表示パネルは、配向膜に対してラビング処理することにより所定方向に整列した液晶分子の向きを電界により変えて、光の透過量ないし反射量を変化させて画像を表示させるものである。

液晶表示パネルの液晶層に電界を印加する方法として、縦電界方式のものと横電界方式のものとがある。縦電界方式の液晶表示パネルは、液晶層を挟んで配置される一対の電極により、概ね縦方向の電界を液晶分子に印加するものである。この縦電界方式の液晶表示パネルとしては、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Vertical Alignment）モード、ＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）モード等のものが知られている。横電界方式の液晶表示パネルは、液晶層を挟んで配設される一対の基板のうちの一方の内面側に一対の電極を互いに絶縁して設け、概ね横方向の電界を液晶分子に対して印加するものである。この横電界方式の液晶表示パネルとしては、一対の電極が平面視で重ならないＩＰＳ（In-Plane Switching）モードのものと、重なるＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードのものとが知られている。

このうち、ＦＦＳモードの液晶表示パネルは、絶縁膜を介して共通電極と画素電極とからなる一対の電極をそれぞれ異なる層に配置し、液晶層側の共通電極又は画素電極にスリット状の開口を設け、このスリット状開口を通る概ね横方向の電界を液晶層に印加するものである。このＦＦＳモードの液晶表示パネルは、広い視野角を得ることができると共に画像コントラストを改善できるという効果があるので、近年、多く用いられるようになってきている。このＦＦＳモードの液晶表示パネルには、画素電極がスイッチング素子としてのＴＦＴ（Thin Film Transistor）と同じ平面に形成されたもの（下記特許文献１参照）と、共通電極及び画素電極が共にＴＦＴの上方に配置されたもの（下記特許文献２参照）とが知られている。

このうち、共通電極及び画素電極が共にＴＦＴの上方に配置された液晶表示パネルは、ＴＦＴ等の表面が樹脂層から形成される層間膜で被覆され、この層間膜の表面に透明導電性材料からなる下電極が形成されている。この下電極は画素電極及び共通電極の何れとしても作動させることが可能である。この下電極を画素電極として作動させる場合、層間膜にコンタクトホールが形成され、画素電極はコンタクトホールを介してスイッチング素子と電気的に接続されている。そして、下電極の表面には絶縁膜を介して画素毎に複数のスリット状開口が形成された透明導電性材料からなる上電極が複数の画素に跨ってベタ状に形成されている。この上電極は、表示領域の周囲に形成されたコモン配線に電気的に接続され、共通電極として作動する。このような上電極及び下電極が共にＴＦＴの上方に配置された液晶表示パネルのうち、下電極が画素電極として作動すると共に上電極が共通電極として作動するＦＦＳモードの液晶表示パネルは、ＴＦＴや画素間の境界近傍での開口が広くなり、また、表示領域内に共通電極の配線がないために開口率が高くなるという利点を有している。
特開２００７−３２７９９７号公報 特開２００８− ３２８９９号公報 特開２００５−２５８４０８号公報

しかしながら、上述のような従来のＦＦＳモードの液晶表示パネルは、スリット状開口を有する共通電極が複数の画素にまたがって形成されると、共通電極の外部への電気的接続は表示領域の周縁部で行われるために、共通電極の抵抗値が大きくなり、フリッカやクロストークの不良をもたらすという問題があった。一方、ＩＰＳモードの液晶表示パネルにおいては、たとえば上記特許文献３に開示されているように、画素電極及び共通電極共に透明導電性材料で形成した際の各電極の電気抵抗が大きくなることを防止する目的で、画素電極及び共通電極共に透明電極と金属電極との二重構造とすることが知られている。しかしながら、ＦＦＳモードの液晶表示パネルの場合、画素電極と共通電極とが平面視で重畳していることから、画素電極及び共通電極共に透明電極と金属電極との二重構造とすることは開口率の低下に繋がるため、採用することができない。

本発明は上記問題点を解決すべくなされたものであって、本発明の目的は共通電極の電気抵抗値を小さくすることによりフリッカやクロストークを低減したＦＦＳモードの液晶表示パネルを提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明の液晶表示パネルは、液晶層を挟持して対向配置された一対の基板を有し、一対の基板のうちの一方には、表示領域にマトリクス状に配置された複数の走査線及び信号線と、表示領域の周縁部に沿って形成された共通配線と、少なくとも表示領域の全体に亘って形成された層間膜と、層間膜の表面に複数の走査線及び信号線で区画された画素領域毎に形成された透明導電性材料からなる画素電極と、表示領域の画素電極上及び層間膜上に形成された電極間絶縁膜と、電極間絶縁膜上の全面に形成され、画素領域毎に複数のスリットが形成されていると共に共通配線と電気的に接続された透明導電性材料からなる共通電極と、を備えた液晶表示パネルである。共通電極の表面又は共通電極と電極間絶縁膜との間であって、平面視で走査線及び信号線と重畳する位置に、共通電極を構成する透明導電性材料よりも導電性が良好な導電性層を有し、共通電極は、表示領域を覆うように表示領域の周縁部まで延在され、第１のコンタクトホールを介して共通配線と電気的に接続され、導電性層は、表示領域の周縁部まで延在され、第２のコンタクトホールを介して共通配線と電気的に接続される。

本発明の液晶表示パネルは、層間膜の表面に複数の走査線及び信号線で区画された画素領域毎に形成された透明導電性材料からなる画素電極と、表示領域の画素電極上及び層間膜上に形成された電極間絶縁膜と、電極間絶縁膜上の全面に形成され、画素領域毎に複数のスリットが形成されていると共に共通配線と電気的に接続された透明導電性材料からなる共通電極を備えている。係る構成によって本発明の液晶表示パネルはＦＦＳモードで作動するものとなる。なお、絶縁膜としては酸化ケイ素ないし窒化ケイ素等の無機絶縁膜を使用し得る。また、層間膜としては、透明性が良好で、電気絶縁性に優れた感光性又は非感光性の樹脂材料を適宜選択して使用し得る。更に、画素電極及び共通電極としてはＩＴＯ（Indium Tin Oxide）ないしＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の透明導電性材料が使用される。

更に、本発明の液晶表示パネルにおいては、共通電極の表面又は共通電極と電極間絶縁膜との間であって、平面視で走査線及び信号線と重畳する位置に、共通電極を構成する透明導電性材料よりも導電性が良好な導電性層が形成されている。ＦＦＳモードの液晶表示パネルにおいて、スリット状開口を有する共通電極が複数の画素にまたがって形成されると、その外部への配線は表示領域の周縁部で行われるために、共通電極の抵抗値が大きくなる。共通電極の抵抗値が大きくなると、共通電極の電位が変動するため、フリッカやクロストークの原因となる。しかしながら、共通電極の表面又は共通電極と電極間絶縁膜との間に、平面視で走査線及び信号線と重畳する位置に共通電極を構成する透明導電性材料よりも導電性が良好な導電性層が形成されていると、見かけ上共通電極の電気抵抗が小さくなる。そのため、本発明の液晶表示パネルによれば、フリッカやクロストークが抑制された表示画質が良好な液晶表示パネルが得られる。

なお、共通電極を構成する透明導電性材料よりも導電性が良好な導電性層は、平面視で走査線及び信号線と重畳する位置に形成されるので、液晶表示パネルの明るさに影響を与えることがない。そのため、共通電極を構成する透明導電性材料よりも導電性が良好な導電性層は、透明であっても不透明であってもよく、金属薄膜、金属フィラーを樹脂に混合分散させた導電性樹脂材料からなる薄膜、導電性炭素薄膜等を使用することができる。
共通配線は、通常金属材料である走査線形成材料又は信号線形成材料と同一の材料で形成される。また、透明導電性材料と金属材料との間の接触抵抗は、金属材料と金属材料との間の接触抵抗よりも大きい。そのため、係る態様の液晶表示パネルによれば、導電性層と共通配線との間の接触抵抗をより小さくすることができるので、よりフリッカやクロストークが少なく、表示画質が良好な液晶表示パネルが得られる。

また、本発明に係る液晶表示パネルにおいては、導電性層は遮光性であることが好ましい。

液晶表示パネルにおいては、走査線及び信号線の近傍からの光漏れ防止及びコントラストの向上の目的で、特に平面視で走査線及び信号線と重畳する位置のカラーフィルタ基板側にブラックマトリクスが形成されている。そのため、係る態様の液晶表示パネルによれば、遮光性の導電性層が平面視で走査線及び信号線と重畳する位置に形成されているので、特にカラーフィルタ層にブラックマトリクスを形成しなくても光漏れ防止の機能を奏させることができるようになる。

また、本発明に係る液晶表示パネルにおいては、導電性層は金属材料からなることが好ましい。

金属材料は、透明導電性材料に比すると、導電性が極めて良好であると共に遮光性である。従って、係る態様の液晶表示パネルによれば、金属材料からなる導電性層の厚さが薄くても見かけ上共通電極の電気抵抗を小さくすることができる上、金属材料の厚さが液晶の配向特性に影響を与え難くなるので、表示画質が良好な液晶表示パネルが得られる。なお、係る態様の液晶表示パネルにおいて使用し得る金属材料としては、アルミニウム、アルミニウム合金、モリブデン、タングステン、チタン、銅等を使用することができ、また、１層構造であっても複層構造であってもよい。

また、本発明に係る液晶表示パネルにおいては、導電性層の幅は走査線及び信号線の幅と同じか或いは細いことが好ましい。

係る態様の液晶表示パネルによれば、導電性層の幅を走査線及び信号線の幅と同じか或いは細くしたので、開口度の低下が小さくなり、明るい表示の液晶表示パネルが得られる。特に導電性層の幅を走査線及び信号線の幅よりも細くすると、製造時のマスクずれ等によって導電性層が走査線や信号線からはみ出して開口率が低下することを防止することができるようになる。

また、本発明に係る液晶表示パネルにおいては、導電性層の幅は走査線及び信号線の幅よりも太くすることができる。

係る態様の液晶表示パネルによれば、走査線及び信号線の近傍からの光漏れをより少なくすることができるので、導電性層をブラックマトリクスとして使用できると共に、よりコントラストが良好な液晶表示パネルが得られる。

以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態は、本発明の技術思想を具体化するための液晶表示パネルの一例を示すものであって、本発明をこの液晶表示パネルに特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものにも等しく適応し得るものである。なお、この明細書における説明のために用いられた各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に比例して表示されているものではない。

図１は第１実施形態の液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して表した１画素分の平面図である。図２は図１のII−II線に沿った断面図である。図３は図１のIII−III線に沿った断面図である。図４は第１実施形態の液晶表示パネルの共通電極における金属配線部分の一部を示す平面図である。図５は第２実施形態の液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して表した１画素分の平面図である。図６は図５のVI−VI線に沿った断面図である。図７は図５のVII−VII線に沿った断面図である。

［第１実施形態］
第１実施形態に係る液晶表示パネル１０Ａを図１〜図４を用いて説明する。第１実施形態に係る液晶表示パネル１０Ａは、液晶層１１をアレイ基板１２及びカラーフィルタ基板１３との間に挟持している。液晶層１１の厚みは図示しない柱状スペーサによって均一に維持される。アレイ基板１２の背面及びカラーフィルタ基板１３の前面にはそれぞれ偏光板（いずれも図示省略）が貼付されており、また、アレイ基板１２の背面側には光を照射するバックライト（図示省略）が配設されている。

まず、アレイ基板１２の構成について説明する。アレイ基板１２は、ガラスや石英、プラスチック等からなる第１基板本体１８の液晶層１１側に、複数の走査線１９が平行に形成されており、走査線１９を覆ってゲート絶縁膜２０が形成されている。この走査線１９は、アルミニウム金属、アルミニウム合金、モリブデン等の不透明な金属で形成され、図１におけるＸ軸方向に延在している。また、ゲート絶縁膜２０は酸化ケイ素ないし窒化ケイ素等の無機絶縁膜から形成されている。

ゲート絶縁膜２０上に、例えば、アモルファスシリコンからなる半導体層２１が形成されており、半導体層２１に一部乗り上げるようにしてソース電極Ｓと、ドレイン電極Ｄとが形成されている。半導体層２１はゲート絶縁膜２０を介して走査線１９から分岐した部分と対向配置されており、この走査線１９から分岐した部分がＴＦＴのゲート電極Ｇを構成している。ソース電極Ｓは信号線２２から分岐した部分からなる。信号線２２及びドレイン電極Ｄは、それぞれアルミニウム金属、アルミニウム合金、モリブデン等の不透明な金属で形成され、信号線２２は図１のＹ軸方向に延在している。

半導体層２１、ソース電極Ｓ、ドレイン電極Ｄを覆って、酸化ケイ素ないし窒化ケイ素等の無機絶縁膜からなるパッシベーション膜２３が形成され、そのパッシベーション膜２３を覆って樹脂材料からなる層間膜２４が形成されている。層間膜２４としては、透明性が良好で、電気絶縁性に優れた感光性又は非感光性の樹脂材料を適宜選択して使用し得る。層間膜２４を覆うように、ＩＴＯ、ＩＺＯ等の透明導電材料からなる画素電極２５が形成されている。パッシベーション膜２３及び層間膜２４を貫通してドレイン電極Ｄに達するように第１コンタクトホール２６が形成されており、この第１コンタクトホール２６を介して画素電極２５とドレイン電極Ｄとが電気的に接続されている。

画素電極２５を覆って酸化ケイ素ないし窒化ケイ素等の無機絶縁膜からなる電極間絶縁膜２７が形成されている。この電極間絶縁膜２７は、画素電極２５及び層間膜２４の表面が荒れないようにするため、パッシベーション膜２３よりも低温成膜条件で形成される。また、画素電極２５及びこの電極間絶縁膜２７の液晶層１１側の表面には、ＩＴＯないしＩＺＯからなる透明導電材料からなる共通電極２８が形成されている。この共通電極２８は、表示領域３８の周辺部で第２コンタクトホール４１を介して共通配線４０（図４参照）と電気的に接続されている。また、共通電極２８の液晶層１１側には、透明導電性材料からなる共通電極２８よりも導電性が良好な材料からなる導電性層２９ａが、平面視で走査線１９及び信号線２２と重畳する位置に形成されている。なお、共通電極２８及びこの共通電極２８上に形成された導電性層２９ａの詳細については後述する。そして、電極間絶縁膜２７、共通電極２８、導電性層２９を覆って例えばポリイミドからなる第１配向膜３０が形成されている。第１配向膜３０には走査線１９方向のラビング処理が施される。

次にカラーフィルタ基板１３について説明する。カラーフィルタ基板１３は、ガラスや石英、プラスチック等からなる第２基板本体３３を基体としており、第２基板本体３３には、サブ画素毎に異なる色光（Ｒ、Ｇ、Ｂあるいは無色）を透過するカラーフィルタ層３４とブラックマトリクス３５が形成される。カラーフィルタ層３４とブラックマトリクス３５を覆うようにしてトップコート層３６が形成され、トップコート層３６を覆うようにして例えばポリイミドからなる第２配向膜３７が形成されている。そして、第２配向膜３７には第１配向膜３０と逆方向のラビング処理が施されている。

そして、上述のように形成されたアレイ基板１２とカラーフィルタ基板１３と対向配置させ、周縁部をシール材（図示せず）によってシールし、液晶層１１をアレイ基板１２とカラーフィルタ基板１３の間に形成された密封エリア内に封止することにより第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａが得られる。この第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａにおいては、アレイ基板１２側の偏光板の透過軸とカラーフィルタ基板１３側の偏光板の透過軸とは互いに直交するように配置されており、カラーフィルタ基板１３側の偏光板の透過軸は図１のＹ軸と平行になるように配置されている。このような構成を備えていると、第１配向膜３０のラビング方向は共通電極２８と画素電極２５との間に生じる電界の主方向と交差する方向となる。そして、初期状態ではラビング方向に沿って平行に配向している液晶は、共通電極２８と画素電極２５との間への電圧印加によって、上記電界の主方向側へ回転して再配向する。この初期配向状態と電圧印加時の配向状態との差異に基づいて各サブ画素の明暗表示が行われる。

次に共通電極２８及び導電性層２９ａの具体的構成について説明する。共通電極２８は、図１でＸ軸方向に延びる複数本の「く」字状のスリット状開口３１によって形成された帯状電極部分３２を備えている。そして、画素電極２５及び共通電極２８の帯状電極部分３２がコンデンサの一対の電極として機能し、画素電極２５及び共通電極２８の間に挟持された電極間絶縁膜２７が誘電体膜として機能することにより、蓄積容量が形成される。

スリット状開口３１は共通電極２８をフォトリソグラフィー法によって露光及びエッチングすることによって形成される。第１配向膜３０のラビング方向は、スリット状開口３１の形成状態から、走査線１９の延在方向に向いており、ラビング方向に対してスリット状開口３１の延在方向は約３度〜約２５度傾いているようになされる。これにより、画素電極２５と共通電極２８との間に電界が印加されたとき、液晶が同じ方向に回転することができるようになるので、良好な表示画質が得られるようになる。なお、スリット状開口３１の形状は、図１に示したような走査線１９に沿った横方向の「く」字状とする場合だけでなく、信号線２２に沿った縦方向に「く」字状となるようにしてもよく、或いは、屈曲部が存在しないバー状であってもよい。特に、屈曲部が存在しないバー状の場合、走査線に沿って平行ないし傾いて延在する状態としても、信号線に沿って縦方向に平行ないし傾いて延在する状態としてもよく、更には、複数の方向に傾いて延在する状態としてもよい。

上述のように、共通電極２８の表面にスリット状開口３１を形成すると、その分だけ共通電極２８の面積が減少するので、共通電極２８の電気抵抗が増大する。そこで、第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａでは、平面視で全ての走査線１９及び信号線２２と重畳するように、共通電極２８を構成する透明導電性材料よりも導電性が良好な導電性層２９ａをマトリクス状に形成している。この導電性層２９ａは、平面視で走査線１９及び信号線２２と重畳する位置に形成されているので、液晶表示パネル１０Ａの明るさに影響を与えることがないため、本来、透明であっても不透明であってもよい。しかしながら、液晶表示パネルにおいては、走査線及び信号線の近傍からの光漏れ防止及びコントラストの向上の目的で、特に平面視で走査線及び信号線と重畳する位置のカラーフィルタ基板側にブラックマトリクスが形成されている。そのため、導電性層２９ａを遮光性の材料で形成すると、この導電性層２９ａによって光漏れ防止の機能を奏させることができるようになる。このような遮光性の導電性層２９ａとしては、金属薄膜、金属フィラーを樹脂に混合分散させた導電性樹脂材料からなる薄膜、導電性炭素薄膜等を使用することができる。金属薄膜の場合、例えば、モリブデン、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、クロム、タングステン、チタニウム等を使用し得る。

また、第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａにおいては、導電性層２９ａの幅は、走査線１９及び信号線２２の幅と同じであっても、細くても、或いは太くてもよい。導電性層２９ａの幅が走査線１９及び信号線２２の幅と同じか或いは細くした場合、開口度の低下が小さくなるので、明るい表示が可能な液晶表示パネル１０Ａが得られる。特に導電性層２９ａの幅を走査線１９及び信号線２２の幅よりも細くすると、製造時のマスクずれ等によって導電性層２９ａが走査線１９や信号線２２からはみ出して開口率が低下することを防止することができるようになる。また、導電性層２９ａの幅を走査線１９及び信号線２２の幅よりも太くすると、走査線１９及び信号線２２の近傍の液晶の配向の乱れに起因する光漏れを少なくすることができると共に、この導電性層２９ａをブラックマトリクスとしても使用することができるようになるので、特にレイヤーを増加させることなくコントラストが良好な液晶表示パネル１０Ａが得られる。なお、第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａにおいては、導電性層２９ａを走査線１９及び信号線２２の両方と平面視で重畳するようにマトリクス状に形成した例を示したが、いずれか一方に重畳するように形成しても、或いは適宜間引いて形成してもよい。

次に共通電極２８及び導電性層２９ａと共通配線４０との間の電気的接続形態を、図４を用いて説明する。第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａのアレイ基板１２の表面には、共通電極２８が平面視で表示領域３８を覆うように全画素にまたがって形成されている。表示領域３８の周縁には、表示領域３８内より延在された走査線１９及び信号線２２に接続された引き回し配線３９が形成され、更にこの外周側に共通配線４０が形成されている。この共通配線４０は、走査線１９又は信号線２２と同じ金属材料で形成されている。そして、共通電極２８は表示領域３８の周縁の引き回し配線３９の上層を経て共通配線４０まで延在し、複数の第２コンタクトホール４１を経て共通配線４０と電気的に接続されている。また、マトリクス状に形成された導電性層２９ａは、共通電極２８の表面上を共通配線４０まで延在され、第３コンタクトホール４２を介して共通配線４０と直接電気的に接続されている。

共通配線４０は、走査線１９又は信号線２２と同一の金属材料で形成されているため、電気抵抗は小さい。しかし、透明導電性層からなる共通電極２８との間の接触抵抗は、金属材料と金属材料との間の接触抵抗と比すると非常に大きい。そのため、第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａにおいては、共通電極２８と導電性層２９ａとをそれぞれ第２コンタクトホール４１及び第３コンタクトホール４２を介して個別に共通配線４０と電気的に接続されるようにした。このような構成を採用すれば、導電性層２９ａと共通配線４０との間の接触抵抗をより小さくすることができるので、よりフリッカやクロストークが少なく、表示画質が良好な液晶表示パネル１０Ａが得られる。

［第２実施形態］
第１実施形態では導電性層２９ａを共通電極２８の表面に形成した例を示したが、この導電性層２９ａは共通電極２８と電極間絶縁膜２７との間に形成することもできる。このような構成の第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂを図５〜図７を用いて説明する。ただし、図５〜図７においては、図１〜図３に示した構成と同一の構成部分には同一の参照符号を付与してその詳細な説明は省略する。また、第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂにおける共通電極２８及び導電性層２９ｂと共通配線４０との間の電気的接続形態は、図４に示した第１の実施形態の液晶表示パネル１０Ａの場合と同様であるので、図示省略する。

第２実施形態の液晶表示パネル１０Ｂは、導電性層２９ｂが共通電極２８と電極間絶縁膜２７との間に形成された以外は第１実施形態の液晶表パネル１０Ａの構成と同一である。すなわち、液晶表示パネル１０Ｂは、層間膜２４の表面に形成された画素電極２５及び電極間絶縁膜２７を備えているが、この電極間絶縁膜２７の表面の平面視でアレイ基１２の走査線１９及び信号線２２と重畳する位置には、導電性層２９ｂが形成されている。この導電性層２９ｂの形成材料は、第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａにおける導電性層２９ａの場合と同様のものを使用し得る。

また、画素電極２５、電極間絶縁膜２７及び導電性層２９ｂの液晶層１１側の表面には、ＩＴＯないしＩＺＯからなる透明導電材料からなり、スリット状開口３１が形成された共通電極２８が形成されている。そして、電極間絶縁膜２７及び共通電極２８を覆って例えばポリイミドからなる第１配向膜３０が形成されており、この第１配向膜３０には走査線１９方向のラビング処理が施されている。かかる構成の液晶表示パネル１０Ｂにおいても、第１実施形態の液晶表示パネル１０Ａと同様の効果を奏することができるようになる。

第１実施形態の液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して表した１画素分の平面図である。 図１のII−II線に沿った断面図である。 図３は図１のIII−III線に沿った断面図である。 第１実施形態の液晶表示パネルの共通電極における金属配線部分の一部を示す平面図である。 第２実施形態の液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して表した１画素分の平面図である。 図５のVI−VI線に沿った断面図である。 図５のVII−VII線に沿った断面図である。

符号の説明

１０Ａ、１０Ｂ：表示パネル １１：液晶層 １２：アレイ基板 １３：カラーフィルタ基板 １８：第１基板本体 １９：走査線 ２０：ゲート絶縁膜 ２１：半導体層 ２２：信号線 ２３：パッシベーション膜 ２４：層間膜 ２５：画素電極 ２６：第１コンタクトホール ２７：電極間絶縁膜 ２８：共通電極 ２９ａ，２９ｂ：導電性層 ３０：第１配向膜 ３１：スリット状開口 ３２：帯状電極部分 ３３：第２基板本体 ３４：カラーフィルタ層 ３５：ブラックマトリクス ３６：トップコート層 ３７：第２配向膜 ３８：表示領域 ３９：引き回し配線 ４０：共通配線 ４１：第２コンタクトホール１９ ４２：第３コンタクトホール

Claims (6)

1. 液晶層を挟持して対向配置された一対の基板を有し、前記一対の基板のうちの一方には、
   表示領域にマトリクス状に配置された複数の走査線及び信号線と、
   前記表示領域の周縁部に沿って形成された共通配線と、
   少なくとも前記表示領域の全体に亘って形成された層間膜と、
   前記層間膜の表面に複数の前記走査線及び前記信号線で区画された画素領域毎に形成された透明導電性材料からなる画素電極と、
   前記表示領域の前記画素電極上及び前記層間膜上に形成された電極間絶縁膜と、
   前記電極間絶縁膜上の全面に形成され、前記画素領域毎に複数のスリットが形成されていると共に前記共通配線と電気的に接続された前記透明導電性材料からなる共通電極と、を備えた液晶表示パネルにおいて、
   前記共通電極の表面又は前記共通電極と前記電極間絶縁膜との間であって、平面視で前記走査線及び前記信号線と重畳する位置に、前記共通電極を構成する前記透明導電性材料よりも導電性が良好な導電性層を有し、
   前記共通電極は、前記表示領域を覆うように前記表示領域の周縁部まで延在され、第１のコンタクトホールを介して前記共通配線と電気的に接続され、
   前記導電性層は、前記表示領域の周縁部まで延在され、第２のコンタクトホールを介して前記共通配線と電気的に接続される、
   液晶表示パネル。
2. 前記導電性層は遮光性である、請求項１に記載の液晶表示パネル。
3. 前記導電性層は金属材料からなる、請求項２に記載の液晶表示パネル。
4. 前記導電性層の幅は前記走査線及び前記信号線の幅と同じか或いは細い、請求項２に記載の液晶表示パネル。
5. 前記導電性層の幅は前記走査線及び前記信号線の幅よりも太い、請求項２に記載の液晶表示パネル。
6. 前記導電性層は、前記走査線及び前記信号線に沿って前記共通配線まで延在する直線形状を有し、該直線形状のそれぞれの端部と前記共通配線とが重なる領域に形成された前記第２のコンタクトホールを介して前記共通配線と電気的に接続される、
   請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示パネル。

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