JP5210060B2 - 剥離装置および剥離方法 - Google Patents
剥離装置および剥離方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5210060B2 JP5210060B2 JP2008173842A JP2008173842A JP5210060B2 JP 5210060 B2 JP5210060 B2 JP 5210060B2 JP 2008173842 A JP2008173842 A JP 2008173842A JP 2008173842 A JP2008173842 A JP 2008173842A JP 5210060 B2 JP5210060 B2 JP 5210060B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support plate
- peeling
- suction
- wafer
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H10P72/0428—
-
- H10P72/04—
-
- H10P72/78—
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/11—Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
- Y10T156/1111—Using solvent during delaminating [e.g., water dissolving adhesive at bonding face during delamination, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/11—Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
- Y10T156/1111—Using solvent during delaminating [e.g., water dissolving adhesive at bonding face during delamination, etc.]
- Y10T156/1116—Using specified organic delamination solvent
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/11—Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
- Y10T156/1126—Using direct fluid current against work during delaminating
- Y10T156/1132—Using vacuum directly against work during delaminating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/11—Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
- Y10T156/1126—Using direct fluid current against work during delaminating
- Y10T156/1137—Using air blast directly against work during delaminating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/19—Delaminating means
- Y10T156/1928—Differential fluid pressure delaminating means
- Y10T156/1933—Spraying delaminating means [e.g., atomizer, etc.
- Y10T156/1939—Air blasting delaminating means]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/19—Delaminating means
- Y10T156/1928—Differential fluid pressure delaminating means
- Y10T156/1944—Vacuum delaminating means [e.g., vacuum chamber, etc.]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
(剥離装置1)
本発明の一実施形態に係る剥離装置1について、図1から図3までを参照して以下に説明する。図1は、第1の実施形態に係る剥離装置1の上面図であり、図2は、図1の剥離装置1のA−A’線における矢視断面図である。また、図3(a)〜(f)は、本実施形態に係る剥離方法の各工程を示す断面図である。図1および図2に示すように、剥離装置1は、吸着プレート(吸着手段)2を備えている。吸着プレート2には、吸着口(開口部)3と、気体供給口4を有する気体供給手段とが設けられている。剥離装置1は、図2に示すように、処理対象となるウエハ(基板)5に貼着されたサポートプレート(支持板)6に対向する位置に設けられている。
吸着プレート2は、サポートプレート6との接触面を有し、サポートプレート6を吸着保持して、ウエハ5からサポートプレート6を剥離するものである。吸着プレート2の上記接触面の平面形状は、サポートプレート6の平面形状とほぼ同一であることが好ましい。図1および図2に示すように、吸着プレート2には、吸着プレート2とサポートプレート6との間の気体を排気するための吸着口3・3’が設けられている。
本実施形態に係る剥離方法について、図3(a)〜(f)を参照して以下に説明する。図3(a)〜(f)は、本実施形態に係る剥離方法の各工程を示す断面図である。本実施形態に係る剥離方法は、ウエハ5にサポートプレート6を貼着している接着剤を溶解する溶解工程と、サポートプレート6を吸着し、溶解工程の後に、ウエハ5からサポートプレート6を剥離する剥離工程とを、少なくとも含んでいる。またサポートプレート6を吸着した後に、若しくは吸着と同時に、ウエハ5とサポートプレート6との間に気体を供給する気体供給工程をさらに含んでいることが好ましく、この場合、ウエハ5とサポートプレート6との間に気体を供給した後に、ウエハ5からサポートプレート6を剥離する。
(剥離装置10)
本発明の他の実施形態に係る剥離装置10について、図4および図5を参照して以下に説明する。図4は、第2の実施形態に係る剥離装置10の断面図であり、図5は、図4のB−B’線における矢視断面図である。図4および図5に示すように、剥離装置10は、第1の実施形態と同様に吸着プレート2を備えている。また剥離装置10は、サポートプレート6の外周側端部を把持するクランプ11を備えている。剥離装置10は、図5に示すように、処理対象となるウエハ5に貼着されたサポートプレート6に対向する位置に設けられている。本実施形態において、吸着プレート2は第1の実施形態と同様のものであるため、その詳細な説明は省略する。
クランプ11は、ウエハ5に貼着されているサポートプレート6の外周側端部のみを把持するようになっており、ウエハ5には接しない。クランプ11は、サポートプレート6の外周側端部を把持するようになっていればよいが、特に、サポートプレート6外周側端部の面取り部位を把持するようになっていることが好ましい。ウエハ5を支持するサポートプレート6としては通常、ガラスプレート等が用いられるが、このようなプレートの外周側端部はR形状に面取りされている。クランプ11は、この面取り部位を把持することによって、より確実にサポートプレート6を把持するようになっている。また、クランプ11は、サポートプレート6の面取り部位に接するツメ部を備えており、ツメ部を面取り部位に引っ掛けるように、サポートプレート6を把持するようになっていてもよい。
本実施形態に係る剥離装置10を用いた剥離方法は、クランプ11によるサポートプレート6の把持工程以外は、第1の実施形態の剥離方法と同様に行われるものであるため、サポートプレート6の把持工程以外の工程については、詳細な説明を省略する。
2 吸着プレート(吸着手段)
3,3’ 吸着口(開口部)
4 気体供給口
5 ウエハ(基板)
6 サポートプレート(支持板)
7 ダイシングテープ
8 ステージ
11 クランプ
Claims (7)
- 厚さ方向に貫通する複数の貫通孔を全面に有した支持板が貼着された基板から、当該支持板を剥離する剥離装置であって、
前記支持板を吸着する吸着手段を備え、前記吸着手段は、当該吸着手段と支持板との間の気体を排気するための開口部を有し、当該開口部の直径は、0.3mm以上、前記支持板の外周径未満であり、
前記開口部は、前記支持板に複数ある前記貫通孔の少なくとも一部と重なり得る位置に形成されており、
前記吸着手段は当該吸着手段と上記支持板との間の気体を排気するときの吸引力により当該支持板を吸着するものであることを特徴とする剥離装置。 - 前記開口部の直径は、0.3mm以上、20mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の剥離装置。
- 前記吸着手段は、前記開口部を複数有していることを特徴とする請求項1又は2に記載の剥離装置。
- 前記支持板と前記基板との間に前記貫通孔を介して気体を供給する気体供給手段をさらに備えていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の剥離装置。
- 前記吸着手段が前記支持板を吸着した後、若しくは吸着と同時に、前記気体供給手段が気体の供給を開始するようになっていることを特徴とする請求項4に記載の剥離装置。
- 厚さ方向に貫通する複数の貫通孔を全面に有した支持板が貼着された基板から、当該支持板を剥離する剥離方法であって、
前記基板に前記支持板を貼着している接着剤を溶解する溶解工程と、
前記支持板を吸着するための吸着手段であって、前記支持板に複数ある前記貫通孔の少なくとも一つと重なり得る位置に形成されている開口部を有する前記吸着手段と前記支持板との間の気体を排気するときの吸引力により前記支持板を吸着し、前記溶解工程の後に、前記基板から前記支持板を剥離する剥離工程とを包含していることを特徴とする剥離方法。 - 前記剥離工程において前記支持板を吸着した後、若しくは吸着と同時に、前記基板と前記支持板との間に気体を供給する気体供給工程をさらに包含していることを特徴とする請求項6に記載の剥離方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008173842A JP5210060B2 (ja) | 2008-07-02 | 2008-07-02 | 剥離装置および剥離方法 |
| US12/492,620 US8297331B2 (en) | 2008-07-02 | 2009-06-26 | Separating apparatus and separating method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008173842A JP5210060B2 (ja) | 2008-07-02 | 2008-07-02 | 剥離装置および剥離方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010016125A JP2010016125A (ja) | 2010-01-21 |
| JP5210060B2 true JP5210060B2 (ja) | 2013-06-12 |
Family
ID=41463442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008173842A Expired - Fee Related JP5210060B2 (ja) | 2008-07-02 | 2008-07-02 | 剥離装置および剥離方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8297331B2 (ja) |
| JP (1) | JP5210060B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5740550B2 (ja) * | 2011-01-07 | 2015-06-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| KR101638655B1 (ko) * | 2011-05-24 | 2016-07-11 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 박리용 조성물 및 박리 방법 |
| US8470129B1 (en) * | 2012-05-08 | 2013-06-25 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Method and machine for separating liquid crystal panel and liner pad |
| JP5639617B2 (ja) * | 2012-05-11 | 2014-12-10 | 東京応化工業株式会社 | 貼付装置および貼付方法 |
| JP5926700B2 (ja) | 2013-04-30 | 2016-05-25 | 東京応化工業株式会社 | 支持体分離装置及び支持体分離方法 |
| JP6120748B2 (ja) * | 2013-10-11 | 2017-04-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| JP6283573B2 (ja) | 2014-06-03 | 2018-02-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| WO2017026279A1 (ja) * | 2015-08-11 | 2017-02-16 | 東京応化工業株式会社 | 支持体分離装置及び支持体分離方法 |
| JP6612589B2 (ja) * | 2015-11-06 | 2019-11-27 | 東京応化工業株式会社 | 支持体分離装置及び支持体分離方法 |
| CN109551650A (zh) * | 2017-09-26 | 2019-04-02 | 天津环鑫科技发展有限公司 | 一种硅片水中分片机构 |
| KR102191517B1 (ko) * | 2018-11-27 | 2020-12-15 | 코스텍시스템(주) | 임시접합필름 라미네이션 장치 및 방법 |
| CN110116836A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-08-13 | 深圳市天瑞达科技有限公司 | 一种卷盘标签撕除机构 |
| JP7403057B2 (ja) * | 2021-12-22 | 2023-12-22 | 日亜化学工業株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4721462A (en) * | 1986-10-21 | 1988-01-26 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Active hold-down for heat treating |
| JPH11111824A (ja) | 1997-09-30 | 1999-04-23 | Enya System:Kk | ウエ−ハ剥離装置 |
| JPH11116046A (ja) | 1997-10-20 | 1999-04-27 | Mecs Corp | ウェハ搬送ロボットにおけるロボットハンド |
| US6173648B1 (en) * | 1997-10-24 | 2001-01-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Manufacturing method of liquid crystal display element and manufacturing apparatus of the same |
| US6491083B2 (en) * | 2001-02-06 | 2002-12-10 | Anadigics, Inc. | Wafer demount receptacle for separation of thinned wafer from mounting carrier |
| JP4482243B2 (ja) * | 2001-03-13 | 2010-06-16 | 株式会社新川 | ダイのピックアップ方法及びピックアップ装置 |
| JP3911174B2 (ja) * | 2002-03-01 | 2007-05-09 | シャープ株式会社 | 半導体素子の製造方法および半導体素子 |
| JP4090416B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2008-05-28 | 日東電工株式会社 | 粘着テープ付ワークの離脱方法及び離脱装置 |
| JP2006032506A (ja) | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Taiyo Yuden Co Ltd | 半導体ウェハの剥離方法および剥離装置 |
| JP4721828B2 (ja) * | 2005-08-31 | 2011-07-13 | 東京応化工業株式会社 | サポートプレートの剥離方法 |
| JP3859682B1 (ja) * | 2005-09-08 | 2006-12-20 | 東京応化工業株式会社 | 基板の薄板化方法及び回路素子の製造方法 |
| JP4607748B2 (ja) * | 2005-12-02 | 2011-01-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板のパーティクル除去方法、その装置及び塗布、現像装置 |
| JP2007281053A (ja) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Miraial Kk | 薄板収納容器 |
| JP4668833B2 (ja) * | 2006-04-26 | 2011-04-13 | 三菱電機株式会社 | 半導体ウエハ分離装置及び分離方法 |
| JP2008021929A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-01-31 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | サポートプレート、搬送装置、剥離装置及び剥離方法 |
| JP4761381B2 (ja) * | 2006-08-01 | 2011-08-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 薄膜除去装置及び薄膜除去方法 |
| JP4771893B2 (ja) * | 2006-08-24 | 2011-09-14 | 東京応化工業株式会社 | 基板保持装置 |
-
2008
- 2008-07-02 JP JP2008173842A patent/JP5210060B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-06-26 US US12/492,620 patent/US8297331B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2010016125A (ja) | 2010-01-21 |
| US8297331B2 (en) | 2012-10-30 |
| US20100000680A1 (en) | 2010-01-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5210060B2 (ja) | 剥離装置および剥離方法 | |
| JP2010010207A (ja) | 剥離装置および剥離方法 | |
| JP4266106B2 (ja) | 粘着性テープの剥離装置、粘着性テープの剥離方法、半導体チップのピックアップ装置、半導体チップのピックアップ方法及び半導体装置の製造方法 | |
| TW202333198A (zh) | 接合薄基板的方法 | |
| JP5196838B2 (ja) | 接着剤付きチップの製造方法 | |
| CN101802999B (zh) | 固定夹具以及工件的处理方法 | |
| JP5663126B2 (ja) | ワーク搬送方法及びワーク受渡し機構を有する装置 | |
| TW200805546A (en) | Support plate, transfer apparatus, peeling apparatus and peeling method | |
| JP2008103494A (ja) | 固定ジグおよびチップのピックアップ方法並びにピックアップ装置 | |
| JP2009182256A (ja) | 基板の処理装置および基板の処理方法 | |
| JP2001093864A (ja) | 半導体ウェーハ固定治具及び半導体装置の製造方法 | |
| JP5074940B2 (ja) | 基板の処理方法 | |
| JP2018006487A (ja) | 支持体分離方法、および基板処理方法 | |
| JP2004273639A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| WO2008004270A1 (en) | Method of pickup and pickup apparatus | |
| JP2007165351A (ja) | ダイボンディング方法 | |
| TWI656587B (zh) | 接合裝置及方法 | |
| JP4801644B2 (ja) | 基板保持装置、基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP2003086540A (ja) | 半導体装置の製造方法及びその製造装置 | |
| TW201027606A (en) | Chip-stripping method, chip-stripping device and fabricating method of semiconductor device | |
| JP2018006486A (ja) | 支持体分離装置、および支持体分離方法 | |
| JP5227554B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP2007149832A (ja) | ダイボンディング方法 | |
| JP2005039114A (ja) | 半導体ウェーハ移し替え装置 | |
| JP5773372B2 (ja) | ワーク受渡し機構を有する装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110421 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120314 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120417 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120524 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20121113 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130118 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130128 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130219 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130222 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160301 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5210060 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |