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JP5210060B2 - 剥離装置および剥離方法 - Google Patents

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JP5210060B2 JP2008173842A JP2008173842A JP5210060B2 JP 5210060 B2 JP5210060 B2 JP 5210060B2 JP 2008173842 A JP2008173842 A JP 2008173842A JP 2008173842 A JP2008173842 A JP 2008173842A JP 5210060 B2 JP5210060 B2 JP 5210060B2
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Description

本発明は、支持板が貼着された基板から、当該支持板を剥離する剥離装置および剥離方法に関する。
携帯電話、デジタルAV機器およびICカード等の高機能化に伴い、搭載される半導体シリコンチップ(以下、チップ)を小型化および薄板化することによって、パッケージ内にチップを高集積化する要求が高まっている。パッケージ内のチップの高集積化を実現するためには、チップの厚さを25〜150μmの範囲にまで薄くする必要がある。
しかしながら、チップのベースとなる半導体ウエハ(以下、ウエハ)は、研削することにより肉薄となるため、その強度は弱くなり、ウエハにクラックまたは反りが生じやすくなる。また、薄板化することによって強度が弱くなったウエハを自動搬送することは困難であるため、人手によって搬送しなければならず、その取り扱いが煩雑であった。
そのため、研削するウエハにサポートプレートと呼ばれる、ガラス、硬質プラスチック等からなるプレートを貼り合わせることによって、ウエハの強度を保持し、クラックの発生およびウエハの反りを防止するウエハサポートシステムが開発されている。ウエハサポートシステムによりウエハの強度を維持することができるため、薄板化した半導体ウエハの搬送を自動化することができる。
ウエハとサポートプレートとは、粘着テープ、熱可塑性樹脂、接着剤等を用いて貼り合わせられている。サポートプレートが貼り付けられたウエハを薄板化した後、ウエハをダイシングする前にサポートプレートを基板から剥離する。ウエハをサポートプレートから剥離する場合には、通常、ウエハをサポートプレートから引き剥がしたり、ウエハとサポートプレートとを貼り合わせている樹脂や接着剤を溶解させたりして、ウエハをサポートプレートから剥離する。
例えば、特許文献1には、ウエハとサポートプレートとの間にスクレーパの刃先を入れ込み、ウエハとサポートプレートとを貼り付けている接着剤を剥がすように、スクレーパの刃先をサポートプレート面に沿って移動させることによって、ウエハをサポートプレートから剥離する方法が記載されている。また、特許文献2においては、ウエハとサポートプレートとを貼着している貼着材に刃を挿入し、ウエハをサポートプレートから剥離する方向へ付勢しながら貼着材に振動を加えることによって、剥離界面が閉じてウエハとサポートプレートとがくっつくことを防止しつつ、ウエハをサポートプレートから剥離する方法が記載されている。
特開平11−116046号公報(1999年4月27日公開) 特開2006−32506号公報(2006年2月2日公開)
サポートプレートを薄板化したウエハから剥離するとき、薄板化したウエハが破損しないように注意する必要がある。しかしながら、特許文献1および2に記載の方法は、何れもウエハとサポートプレートとの間に刃を挿入するため、刃の挿入時にウエハが破損する可能性が高い。また、薄板化したウエハとサポートプレートとの間に確実に刃を挿入するためには、極めて高度な位置精度が要求される。そのため、ウエハを破損することなく、ウエハをサポートプレートから容易に剥離することができる装置の開発が求められている。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ウエハを破損することなく、サポートプレートが貼着されたウエハからサポートプレートを剥離することが可能な剥離装置、および剥離方法を提供することにある。
本発明に係る剥離装置は、支持板が貼着された基板から、当該支持板を剥離する剥離装置であって、前記支持板を吸着する吸着手段を備え、前記吸着手段は当該吸着手段と支持板との間の気体を排気するための開口部を有し、当該開口部の直径は、0.3mm以上、前記支持板の外周径以下であることを特徴としている。
本発明に係る剥離方法は、支持板が貼着された基板から、当該支持板を剥離する剥離方法であって、前記基板に前記支持板を貼着している接着剤を溶解する溶解工程と、前記支持板を吸着し、前記溶解工程の後に、前記基板から前記支持板を剥離する剥離工程とを包含していることを特徴としている。
本発明に係る剥離装置は、支持板を吸着する吸着手段を備え、前記吸着手段は当該吸着手段と支持板との間の気体を排気するための開口部を有し、当該開口部の直径は、0.3mm以上、前記支持板の外周径以下であるので、基板を破損することなく、支持板が貼着された基板から支持板を容易に剥離することが可能である。
〔第1の実施形態〕
(剥離装置1)
本発明の一実施形態に係る剥離装置1について、図1から図3までを参照して以下に説明する。図1は、第1の実施形態に係る剥離装置1の上面図であり、図2は、図1の剥離装置1のA−A’線における矢視断面図である。また、図3(a)〜(f)は、本実施形態に係る剥離方法の各工程を示す断面図である。図1および図2に示すように、剥離装置1は、吸着プレート(吸着手段)2を備えている。吸着プレート2には、吸着口(開口部)3と、気体供給口4を有する気体供給手段とが設けられている。剥離装置1は、図2に示すように、処理対象となるウエハ(基板)5に貼着されたサポートプレート(支持板)6に対向する位置に設けられている。
(吸着プレート2)
吸着プレート2は、サポートプレート6との接触面を有し、サポートプレート6を吸着保持して、ウエハ5からサポートプレート6を剥離するものである。吸着プレート2の上記接触面の平面形状は、サポートプレート6の平面形状とほぼ同一であることが好ましい。図1および図2に示すように、吸着プレート2には、吸着プレート2とサポートプレート6との間の気体を排気するための吸着口3・3’が設けられている。
吸着口3・3’は、吸着口3から、吸着プレート2のサポートプレート6側の面に設けられた吸着口3’までが繋がるように、吸着プレート2を貫通するように設けられている。吸着口3・3’は、吸着プレート2とサポートプレート6との間の気体を吸引し、その吸引力によりサポートプレート6を吸着させるものであり、その直径は0.3mm以上、サポートプレート6の外周径以下である。また吸着口3・3’の直径は、0.3mm以上、20mm以下であることが好ましい。
吸着プレート2におけるサポートプレート6側の反対側の面に設けられた吸着口3は、イジェクター等の吸引手段(図示せず)に接続されている。具体的には、この吸引手段を作動させ、吸着プレート2とサポートプレート6との間の気体を、吸着口3’から吸引し、吸着口3から排気することによって、吸着プレート2とサポートプレート6との間の気体を脱気し、その吸引力によりサポートプレート6を吸着する。
図1に示すように、本実施形態においては、吸着プレート2におけるサポートプレート6側の反対側の面に形成された吸着口3から、吸着プレート2におけるサポートプレート6側の面に形成された3つの吸着口3’までがそれぞれ貫通するように設けられている。しかしながら、吸着プレート2におけるサポートプレート6側の反対側の面に形成された吸着口3と、吸着プレート2のサポートプレート6側の吸着口3’とがそれぞれ1つずつの貫通孔であってもよい。また、このような貫通孔を複数備えていてもよい。さらに、吸着口3・3’は、吸着プレート2の中心近傍に設けられていることが好ましいが、サポートプレート6を適切に吸着保持することができるのであれば、吸着口3・3’が設けられる位置については特に限定されない。
剥離装置1は、サポートプレート6を吸着保持した吸着プレート2を、ウエハ5から離反するように移動させることによって、ウエハ5からサポートプレート6を剥離するようになっている。これにより、ウエハ5にストレスをかけることなくサポートプレート6を容易に剥離することが可能であり、サポートプレート6の剥離時におけるウエハの破損を防止することができる。
また、剥離装置1は、ウエハ5とサポートプレート6とを貼着している接着剤を溶解する溶解液を供給する溶解液供給手段(図示せず)をさらに備えていてもよい。剥離装置1は、溶解液が供給されて接着剤が溶解したサポートプレート6を吸着プレート2により吸着し、ウエハ5からサポートプレート6を剥離するようになっている。
本実施形態において、サポートプレート6は、その厚さ方向に貫通する複数の貫通孔を有している。そして、吸着プレート2に設けられた気体供給手段の気体供給口4を介してサポートプレート6に供給される気体が、サポートプレート6の貫通孔を介してサポートプレート6とウエハ5との間に供給されるようになっている。
本実施形態において気体供給口4は、吸着プレート2の側面から吸着プレート2のサポートプレート6との接触面に貫通するように設けられている。しかしながら、吸着口3・3’による吸着を妨げることなく、気体の供給が可能な位置に設けることができるのであれば、気体供給口4は、接触面の反対側の面から接触面に貫通するように設けられてもよい。また、本実施形態において気体供給口4は、吸着プレート2の中心近傍および外周近傍から気体が供給されるように形成されている。但し、サポートプレートとウエハ5との間に適切に気体が供給されるようになっているのであれば、気体供給口4の形成位置は限定されない。
気体供給口4を介してサポートプレート6とウエハ5との間に気体を供給することによって、ウエハ5とサポートプレート6との間における接着剤の溶解液等による表面張力を取り除くことができる。剥離装置1は、吸着プレート2によりサポートプレート6を吸着保持した後、若しくは吸着保持すると同時に、気体供給手段により気体を供給し、ウエハ5からサポートプレート6を剥離するようになっていることが好ましい。これにより、サポートプレート6をウエハ5から容易に剥離することができる。
気体供給口4から供給される気体は、特に限定されず、サポートプレート6とウエハ5との間に吹き付けることによって、サポートプレート6とウエハ5との間に一定の圧力を加えることが可能な気体であればよいが、不活性ガスであることが好ましい。不活性ガスとしては、公知の不活性ガス、例えば窒素、アルゴン等を好適に使用可能である。気体供給口4からの気体の供給方法としては、ウエハ5が破損しない流量で気体を供給することが好ましい。なお、気体供給口4を有する気体供給手段は、吸着プレート2に設けられていなくてもよく、サポートプレート6とウエハ5との間に気体を供給することができれば、独立した気体供給手段として、剥離装置1に備えられていてもよい。
本実施形態に係る剥離装置1によれば、直径が0.3mm以上、サポートプレート6の外周径以下の吸着口3・3’を有する吸着プレート2によって、サポートプレート6を吸着保持し、ウエハ5からサポートプレート6を剥離するようになっている。剥離装置1によれば、吸着口3・3’を介してサポートプレート6と吸着プレート2との間の気体を排気するときの吸引力によりサポートプレート6を吸着することによって、例えば真空ポンプ等による減圧を利用してサポートプレート6を吸着保持する場合と比較して、同等以上の保持力でサポートプレート6を保持することができる。
一般に、真空ポンプ等による減圧を利用してサポートプレート6を吸着する場合、サポートプレート6を吸着する吸着手段には、サポートプレート6と吸着手段との間の気体を排気するための開口部が設けられるが、この開口部の直径は約1mm程度であり、例えば流速0.1m/sでサポートプレート6と吸着手段との間の気体を排気して減圧し、サポートプレート6を吸着する。真空ポンプは流速が小さいため、吸着手段とサポートプレート6との間に密閉空間を作り出し、密閉空間とその外部との差圧を高めなければ、サポートプレート6を吸着することが困難である。したがって真空ポンプを使用する場合には、この密閉空間を作り出すために、吸着手段に設けられた開口部に対応する部分のサポートプレート6は面一である必要があり、上述したような貫通孔が全面に形成されたサポートプレート6には適用することができない。
このように、減圧を利用してサポートプレート6を吸着する場合には、部分的に貫通孔が形成されていないサポートプレート6を使用する必要がある。このようなサポートプレート6においては、例えばサポートプレート6側から貫通孔を介して、サポートプレート6とウエハ5とを貼着している接着剤に溶解液を供給するとき、貫通孔が形成されていない部分に接している接着剤には迅速に溶解液が供給されず、溶解液の浸透に長時間を要することになる。結果として、サポートプレート6をウエハ5から剥離するのに長時間を要することになる。
一方、本発明に係る剥離装置1において、吸着プレート2には、0.3mm以上、サポートプレート6の外周径以下の吸着口3・3’が設けられており、例えば流速22.0m/sでサポートプレート6と吸着プレート2との間の気体を排気して、上述の減圧を利用した場合と比較して、同等以上の保持力でサポートプレート6を吸着保持することができる。また、本発明に係る剥離装置1においては、吸着口3・3’を介してサポートプレート6と吸着プレート2との間の気体を排気するときの吸引力によりサポートプレート6を吸着しており、吸着プレート2とサポートプレート6との間を減圧する必要がない。したがって、本発明に係る剥離装置1によれば、吸着口3・3’に対応する部分を含む全体に貫通孔が形成されたサポートプレート6をウエハ5から剥離するのに用いることができる。
このように、全体に貫通孔が形成されたサポートプレート6を用いることができるため、ウエハ5とサポートプレート6とを貼着している接着剤を溶解する溶解液を、サポートプレート6におけるウエハ5側の反対側の面から、当該貫通孔を介して接着剤に供給することによって、より効率よく接着剤に溶解液を供給することができる。この結果、接着剤の溶解を速めることが可能であり、より短時間でウエハ5からサポートプレート6を剥離することが可能である。
(剥離方法)
本実施形態に係る剥離方法について、図3(a)〜(f)を参照して以下に説明する。図3(a)〜(f)は、本実施形態に係る剥離方法の各工程を示す断面図である。本実施形態に係る剥離方法は、ウエハ5にサポートプレート6を貼着している接着剤を溶解する溶解工程と、サポートプレート6を吸着し、溶解工程の後に、ウエハ5からサポートプレート6を剥離する剥離工程とを、少なくとも含んでいる。またサポートプレート6を吸着した後に、若しくは吸着と同時に、ウエハ5とサポートプレート6との間に気体を供給する気体供給工程をさらに含んでいることが好ましく、この場合、ウエハ5とサポートプレート6との間に気体を供給した後に、ウエハ5からサポートプレート6を剥離する。
本剥離方法においては、図3(a)に示すように、サポートプレート6が貼着されたウエハ5をステージ8に設置する。このとき、ウエハ5とサポートプレート6とを貼着している接着剤は溶解液が注入されて溶解している。接着剤の溶解は、たとえば、サポートプレート6の上方側(ウエハ5とは反対側)から、サポートプレート6の貫通孔を介して溶解液を流し込むことにより実現することができる。なお、ここで接着剤の溶解とは、接着剤が完全に溶解している場合以外に、部分的に溶解している場合をも含む意味である。
また、ウエハ5のサポートプレート6に接している側と反対側の面には、ダイシングテープ7が貼り付けられている。ダイシングテープ7は、基板を保持する部材である。このダイシングテープ7がステージ8に接触し、ステージ8から最も離れた位置にサポートプレート6が位置するように、ウエハ5、サポートプレート6およびダイシングテープ7からなる積層体をステージ8上に設置する。そして、この積層体は、ステージ8上に固定されている。具体的には、ステージ8に接触しているダイシングテープ7が減圧吸着されている。
次に、図3(b)に示すように、サポートプレート6の上方に、サポートプレート6と吸着プレート2とが対向するように、吸着口3・3’を有する吸着プレート2を配置し、サポートプレート6と吸着プレート2とを接触または近接させる。ここで、吸着口3・3’の直径は、0.3mm以上、サポートプレート6の外周径以下である。
次に、図3(c)に示すように、吸着口3・3’を介して、吸着プレート2とサポートプレート6との間の気体を吸引して排気し、その吸引力によりサポートプレート6を吸着プレート2に吸着させて保持する。
次に、図3(d)に示すように、ダイシングテープ7の減圧吸着を一部解除する。具体的には、ステージ8の内周側の吸着を解除する。これにより、ステージ8の内周側に対応する位置にあるダイシングテープ7は、ステージ8から僅かに浮き上がるような状態にある。これは、ステージ8の減圧手段(例えば、真空ポンプ)の稼動を停止することにより実現することができる。このとき、ステージ8の外周側の減圧手段は稼動したままであり、ダイシングテープ7とステージ8の外周側との間は吸着されている。
次に、図3(e)に示すように、気体供給手段の気体供給口4を介して、ウエハ5とサポートプレート6との間に例えば窒素等の不活性ガスを供給する。これにより、ウエハ5とサポートプレート6との間における溶解液や接着剤による表面張力を取り除く。そして、ダイシングテープ7を再度吸着し、ステージ8に固定する。具体的には、ステージ8の内周側での吸着を開始する。この工程により、吸着プレート2に吸着保持されたサポートプレート6とウエハ5とが離間される。
次に、図3(f)に示すように、サポートプレート6を吸着保持した吸着プレート2を上昇させる。これにより、ウエハ5とサポートプレート6とが完全に離間され、ウエハ5からサポートプレート6を剥離することができる。この工程では、例えば吸着プレート2に接続されたアームにより、サポートプレート6を保持した吸着プレート2を上昇させる。
〔第2の実施形態〕
(剥離装置10)
本発明の他の実施形態に係る剥離装置10について、図4および図5を参照して以下に説明する。図4は、第2の実施形態に係る剥離装置10の断面図であり、図5は、図4のB−B’線における矢視断面図である。図4および図5に示すように、剥離装置10は、第1の実施形態と同様に吸着プレート2を備えている。また剥離装置10は、サポートプレート6の外周側端部を把持するクランプ11を備えている。剥離装置10は、図5に示すように、処理対象となるウエハ5に貼着されたサポートプレート6に対向する位置に設けられている。本実施形態において、吸着プレート2は第1の実施形態と同様のものであるため、その詳細な説明は省略する。
(クランプ11)
クランプ11は、ウエハ5に貼着されているサポートプレート6の外周側端部のみを把持するようになっており、ウエハ5には接しない。クランプ11は、サポートプレート6の外周側端部を把持するようになっていればよいが、特に、サポートプレート6外周側端部の面取り部位を把持するようになっていることが好ましい。ウエハ5を支持するサポートプレート6としては通常、ガラスプレート等が用いられるが、このようなプレートの外周側端部はR形状に面取りされている。クランプ11は、この面取り部位を把持することによって、より確実にサポートプレート6を把持するようになっている。また、クランプ11は、サポートプレート6の面取り部位に接するツメ部を備えており、ツメ部を面取り部位に引っ掛けるように、サポートプレート6を把持するようになっていてもよい。
そして、クランプ11のツメ部がサポートプレート6の面取り部位に確実に引っ掛かるように、ツメ部の面取り部位に接する面は、面取り部位のツメ部に接触する接触面に対して、45〜90度傾斜していることが好ましく、約63度傾斜していることがより好ましい。また、ツメ部の、面取り部位に接する面に対向する面、すなわちツメ部の下面と、サポートプレート6のウエハ5に貼着されている面とが同一平面上(面一)になるように構成されていることが好ましい。これによりウエハ5や、ウエハに貼着されたダイシングテープ等に、ツメ部が引っ掛かることなく、サポートプレート6のみを把持することができる。
クランプ11は、サポートプレート6のウエハ5に貼着されている面に平行な方向において、サポートプレート6の外周側端部に対して、接近および離反可能に移動するようになっている。クランプ11は、サポートプレート6を把持するときに、上記面に平行な方向において、サポートプレート6の外周側端部に接近するように移動し、外周側端部を把持するようになっている。このように構成されていることによって、様々な大きさのサポートプレート6を、適切に把持することができる。
本実施形態においては、図4に示すように、吸着プレート2上においてクランプ11を等間隔に3つ備えているが、クランプ11を2つ、または4つ以上備えていてもよく、安定してサポートプレート6を把持できればその数は限定されない。剥離装置10では、複数のクランプ11で多方向からサポートプレート6を挟み込むように、サポートプレート6の外周側端部を把持するようになっている。
本実施形態においても、サポートプレート6は、その厚さ方向に貫通する複数の貫通孔を有しており、吸着プレート2に設けられた気体供給手段の気体供給口4を介してサポートプレート6に供給される気体が、サポートプレート6の貫通孔を介してサポートプレート6とウエハ5との間に供給されるようになっている。
剥離装置10は、ウエハ5からサポートプレート6を剥離するとき、まず、吸着プレート2によってサポートプレート6を吸着保持し、吸着プレート2によって保持されたサポートプレート6の外周側端部をクランプ11により把持するようになっている。すなわち、吸着プレート2によってサポートプレート6を吸着し、さらにクランプ11によりサポートプレート6の外周側端部を把持して、サポートプレート6を保持するようになっている。これにより、サポートプレート6をより確実に保持することが可能であり、ウエハ5にストレスをかけることなくサポートプレート6を剥離することができる。
(剥離方法)
本実施形態に係る剥離装置10を用いた剥離方法は、クランプ11によるサポートプレート6の把持工程以外は、第1の実施形態の剥離方法と同様に行われるものであるため、サポートプレート6の把持工程以外の工程については、詳細な説明を省略する。
本実施形態の剥離方法においては、まず、ウエハ5、サポートプレート6およびダイシングテープ7からなる積層体をステージ8上に固定した後、サポートプレート6の上方に、サポートプレート6と吸着プレート2とが対向するように、クランプ11を備えた吸着プレート2を配置する。そして、吸着プレート2とサポートプレート6との間の気体を吸引して排気し、その吸引力によりサポートプレート6を吸着プレート2に吸着させて保持した後、若しくはこれと同時に、気体供給口4を介して気体をウエハ5とサポートプレート6との間に供給する。次いでクランプ11をサポートプレート6に接近するように移動させ、サポートプレート6の外周側端部を把持し、第1の実施形態と同様に、ウエハ5からサポートプレート6を剥離する。
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
本発明に係る剥離装置によれば、基板を、ストレスをかけることなく、基板から支持板を容易に剥離させることができるので、例えば、微細化された半導体装置の製造に好適に利用可能である。
第1の実施形態に係る剥離装置の上面図である。 図1のA−A’線における矢視断面図である。 第1の実施形態に係る剥離方法の各工程を示す断面図である。 第2の実施形態に係る剥離装置の断面図である。 図4のB−B’線における矢視断面図である。
符号の説明
1,10 剥離装置
2 吸着プレート(吸着手段)
3,3’ 吸着口(開口部)
4 気体供給口
5 ウエハ(基板)
6 サポートプレート(支持板)
7 ダイシングテープ
8 ステージ
11 クランプ

Claims (7)

  1. 厚さ方向に貫通する複数の貫通孔を全面に有した支持板が貼着された基板から、当該支持板を剥離する剥離装置であって、
    前記支持板を吸着する吸着手段を備え、前記吸着手段は当該吸着手段と支持板との間の気体を排気するための開口部を有し、当該開口部の直径は、0.3mm以上、前記支持板の外周径未満であり、
    前記開口部は、前記支持板に複数ある前記貫通孔の少なくとも一部と重なり得る位置に形成されており、
    前記吸着手段は当該吸着手段と上記支持板との間の気体を排気するときの吸引力により当該支持板を吸着するものであることを特徴とする剥離装置。
  2. 前記開口部の直径は、0.3mm以上、20mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の剥離装置。
  3. 前記吸着手段は、前記開口部を複数有していることを特徴とする請求項1又は2に記載の剥離装置。
  4. 前記支持板と前記基板との間に前記貫通孔を介して気体を供給する気体供給手段をさらに備えていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の剥離装置。
  5. 前記吸着手段が前記支持板を吸着した後、若しくは吸着と同時に、前記気体供給手段が気体の供給を開始するようになっていることを特徴とする請求項4に記載の剥離装置。
  6. 厚さ方向に貫通する複数の貫通孔を全面に有した支持板が貼着された基板から、当該支持板を剥離する剥離方法であって、
    前記基板に前記支持板を貼着している接着剤を溶解する溶解工程と、
    前記支持板を吸着するための吸着手段であって、前記支持板に複数ある前記貫通孔の少なくとも一つと重なり得る位置に形成されている開口部を有する前記吸着手段と前記支持板との間の気体を排気するときの吸引力により前記支持板を吸着し、前記溶解工程の後に、前記基板から前記支持板を剥離する剥離工程とを包含していることを特徴とする剥離方法。
  7. 前記剥離工程において前記支持板を吸着した後、若しくは吸着と同時に、前記基板と前記支持板との間に気体を供給する気体供給工程をさらに包含していることを特徴とする請求項6に記載の剥離方法。
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5740550B2 (ja) * 2011-01-07 2015-06-24 東京エレクトロン株式会社 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
KR101638655B1 (ko) * 2011-05-24 2016-07-11 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 박리용 조성물 및 박리 방법
US8470129B1 (en) * 2012-05-08 2013-06-25 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Method and machine for separating liquid crystal panel and liner pad
JP5639617B2 (ja) * 2012-05-11 2014-12-10 東京応化工業株式会社 貼付装置および貼付方法
JP5926700B2 (ja) 2013-04-30 2016-05-25 東京応化工業株式会社 支持体分離装置及び支持体分離方法
JP6120748B2 (ja) * 2013-10-11 2017-04-26 東京エレクトロン株式会社 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP6283573B2 (ja) 2014-06-03 2018-02-21 東京エレクトロン株式会社 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
WO2017026279A1 (ja) * 2015-08-11 2017-02-16 東京応化工業株式会社 支持体分離装置及び支持体分離方法
JP6612589B2 (ja) * 2015-11-06 2019-11-27 東京応化工業株式会社 支持体分離装置及び支持体分離方法
CN109551650A (zh) * 2017-09-26 2019-04-02 天津环鑫科技发展有限公司 一种硅片水中分片机构
KR102191517B1 (ko) * 2018-11-27 2020-12-15 코스텍시스템(주) 임시접합필름 라미네이션 장치 및 방법
CN110116836A (zh) * 2019-06-11 2019-08-13 深圳市天瑞达科技有限公司 一种卷盘标签撕除机构
JP7403057B2 (ja) * 2021-12-22 2023-12-22 日亜化学工業株式会社 半導体装置の製造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4721462A (en) * 1986-10-21 1988-01-26 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Active hold-down for heat treating
JPH11111824A (ja) 1997-09-30 1999-04-23 Enya System:Kk ウエ−ハ剥離装置
JPH11116046A (ja) 1997-10-20 1999-04-27 Mecs Corp ウェハ搬送ロボットにおけるロボットハンド
US6173648B1 (en) * 1997-10-24 2001-01-16 Sharp Kabushiki Kaisha Manufacturing method of liquid crystal display element and manufacturing apparatus of the same
US6491083B2 (en) * 2001-02-06 2002-12-10 Anadigics, Inc. Wafer demount receptacle for separation of thinned wafer from mounting carrier
JP4482243B2 (ja) * 2001-03-13 2010-06-16 株式会社新川 ダイのピックアップ方法及びピックアップ装置
JP3911174B2 (ja) * 2002-03-01 2007-05-09 シャープ株式会社 半導体素子の製造方法および半導体素子
JP4090416B2 (ja) * 2003-09-30 2008-05-28 日東電工株式会社 粘着テープ付ワークの離脱方法及び離脱装置
JP2006032506A (ja) 2004-07-14 2006-02-02 Taiyo Yuden Co Ltd 半導体ウェハの剥離方法および剥離装置
JP4721828B2 (ja) * 2005-08-31 2011-07-13 東京応化工業株式会社 サポートプレートの剥離方法
JP3859682B1 (ja) * 2005-09-08 2006-12-20 東京応化工業株式会社 基板の薄板化方法及び回路素子の製造方法
JP4607748B2 (ja) * 2005-12-02 2011-01-05 東京エレクトロン株式会社 基板のパーティクル除去方法、その装置及び塗布、現像装置
JP2007281053A (ja) * 2006-04-04 2007-10-25 Miraial Kk 薄板収納容器
JP4668833B2 (ja) * 2006-04-26 2011-04-13 三菱電機株式会社 半導体ウエハ分離装置及び分離方法
JP2008021929A (ja) * 2006-07-14 2008-01-31 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd サポートプレート、搬送装置、剥離装置及び剥離方法
JP4761381B2 (ja) * 2006-08-01 2011-08-31 東京エレクトロン株式会社 薄膜除去装置及び薄膜除去方法
JP4771893B2 (ja) * 2006-08-24 2011-09-14 東京応化工業株式会社 基板保持装置

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