JP5294365B1 - Radiation curable adhesive tape for dicing - Google Patents
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Abstract
【課題】貫通電極が設けられた半導体チップ等に対しても、ピックアップ工程において糊残りが発生することなく容易にピックアップすることができる放射線硬化型ダイシング用粘着テープを提供する。
【解決手段】本発明の放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1は、基材シート2上に放射線硬化型の粘着剤層3が設けられた放射線硬化型粘着テープ1であって、放射線硬化後におけるヤング率の放射線硬化前におけるヤング率に対する比が1.8以下であることを特徴とする。
【選択図】図1Disclosed is a radiation-curing dicing pressure-sensitive adhesive tape that can be easily picked up on a semiconductor chip or the like provided with a through electrode without causing adhesive residue in a pick-up process.
A radiation curable dicing pressure-sensitive adhesive tape 1 of the present invention is a radiation curable pressure-sensitive adhesive tape 1 in which a radiation curable pressure-sensitive adhesive layer 3 is provided on a base sheet 2 and is a Young after radiation curing. The ratio of the ratio to the Young's modulus before radiation curing is 1.8 or less.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、半導体ウエハ等を素子小片化するため切断分離(ダイシング)する際に、当該半導体ウエハ等の被切断体を固定するために用いる粘着テープに関する。 The present invention relates to an adhesive tape used for fixing a workpiece such as a semiconductor wafer when the semiconductor wafer or the like is cut and separated (diced) in order to make an element into small pieces.
従来の半導体装置は、基板上に設置した半導体チップをワイヤボンディングにより導電接続して製造されていた。近年、機器のさらなる小型化・薄型化・軽量化の要求に対して、これらの機器の内部に使用される半導体装置をはじめとする電子部品についても同様の要求がされている。電子部品の小型化を図るために、例えば半導体チップを積層して高密度実装を実現する三次元実装技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。さらに三次元実装技術を行う方法として、例えば、チップを貫通する電極(貫通電極)を形成し、該電極を介してインターポーザと呼ばれる実装用のチップが積層された半導体パッケージ構造が提案されている(例えば、特許文献2参照)。 Conventional semiconductor devices have been manufactured by conductively connecting semiconductor chips installed on a substrate by wire bonding. In recent years, in response to demands for further downsizing, thinning, and weight reduction of devices, similar requirements have been made for electronic components including semiconductor devices used in these devices. In order to reduce the size of electronic components, for example, a three-dimensional mounting technique that realizes high-density mounting by stacking semiconductor chips has been proposed (see, for example, Patent Document 1). Further, as a method for performing a three-dimensional mounting technique, for example, a semiconductor package structure in which an electrode (penetrating electrode) penetrating a chip is formed and a mounting chip called an interposer is stacked via the electrode is proposed ( For example, see Patent Document 2).
貫通電極が形成されたウエハを素子小片(半導体チップ)に切断分離し(ダイシング工程)、これらの半導体チップをピックアップする工程(ピックアップ工程)に、放射線硬化型の粘着層を有するウエハダイシング加工用粘着テープを使用することが検討されている。 The wafer with through electrodes formed is cut and separated into element pieces (semiconductor chips) (dicing process), and the process for picking up these semiconductor chips (pickup process) has a radiation-curing adhesive layer for wafer dicing processing. The use of tape is being considered.
放射線硬化型の粘着層を有するウエハダイシング用粘着テープを使用する場合には、ダイシング工程において、ウエハを十分に保持しなければならない。しかし、貫通電極が設けられたウエハでは、通常、一方または両方の面に3〜数十μmの高さの貫通電極の突起部がある。このため、従来のダイシング加工用粘着テープを貼合しても、この突起部に追従できず、ウエハを保持することができないことが多い。さらにこの結果、貫通電極の突起周辺部に空隙が生じてしまうことがある。通常ダイシング工程においては、ブレードと呼ばれる回転刃によりチップに個片化される。粘着剤層と貫通電極の突起周辺部との間に空隙があり十分に保持できていないと、切削時の衝撃によりチップが振動し、ブレードとチップの衝突を引き起こしてしまい、チップ欠け(チッピング)が発生してチップの歩留まりを低下させる。 When using an adhesive tape for wafer dicing having a radiation curable adhesive layer, the wafer must be sufficiently retained in the dicing process. However, in a wafer provided with through electrodes, there are usually protrusions of through electrodes having a height of 3 to several tens of μm on one or both surfaces. For this reason, even if the conventional adhesive tape for dicing processing is bonded, it is often impossible to follow the protrusions and hold the wafer. As a result, a gap may be generated around the protrusion of the through electrode. Usually, in a dicing process, it is divided into chips by a rotary blade called a blade. If there is a gap between the adhesive layer and the periphery of the protrusion of the through-electrode, the chip vibrates due to impact during cutting, causing a collision between the blade and the chip, and chipping (chipping) Occurs to reduce the yield of chips.
ダイシング工程における不具合解消のため、粘着剤層のゲル分率および10℃における貯蔵弾性率を特定の範囲内とした放射線硬化型ダイシング用粘着テープが提案されている(例えば、特許文献3参照)。特許文献3に放射線硬化型ダイシング用粘着テープでは、ゲル分率と貯蔵弾性率が特定の範囲内の粘着剤層を有することにより、ダイシング工程での上記不具合は解消されている。
In order to eliminate problems in the dicing process, a radiation-curing dicing pressure-sensitive adhesive tape in which the gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer and the storage elastic modulus at 10 ° C. are within a specific range has been proposed (for example, see Patent Document 3). In the radiation curing type dicing pressure-sensitive adhesive tape disclosed in
しかしながら、上記特許文献3の放射線硬化型ダイシング用粘着テープでは、ダイシングを行った後、粘着剤層に放射線を照射して硬化させることにより粘着力を低下させる際に、粘着剤層が硬化収縮するため、貫通電極等のウエハ表面の突起に粘着剤層が噛みこんで、ダイシングされた半導体チップを良好にピックアップできないという問題があった。上記特許文献3の放射線硬化型ダイシング用粘着テープでは、刺激により気体が発生する気体発生剤を含む粘着剤を用いている。しかし、粘着剤中で気体が発生するメカニズムでは、粘着剤が脆くなってしまうため、チップへの粘着剤屑の付着(糊残り)が発生し、歩留まりを低下させる恐れがあった。
However, in the radiation curing type dicing pressure-sensitive adhesive tape of
そこで、本発明は、貫通電極が設けられた半導体チップ等に対しても、ピックアップ工程において糊残りが発生することなく容易にピックアップすることができる放射線硬化型ダイシング用粘着テープを提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a radiation curable dicing adhesive tape that can be easily picked up without causing adhesive residue in a pick-up process even for a semiconductor chip or the like provided with a through electrode. And
上記課題を解決するために、本願発明による放射線硬化型ダイシング用粘着テープは、基材シート上に放射線硬化型の粘着剤層が設けられた放射線硬化型粘着テープであって、放射線硬化後におけるヤング率の放射線硬化前におけるヤング率に対する比が1.8以下であることを特徴とする。 In order to solve the above problems, a radiation curable dicing adhesive tape according to the present invention is a radiation curable adhesive tape in which a radiation curable adhesive layer is provided on a base sheet, and is a Young after radiation curing. The ratio of the ratio to the Young's modulus before radiation curing is 1.8 or less.
上記放射線硬化型ダイシング用粘着テープは、前記粘着剤層の放射線硬化前における貯蔵弾性率G’が2.0×104〜4.5×104Paであることが好ましい。 The radiation curable dicing adhesive tape preferably has a storage elastic modulus G ′ of 2.0 × 10 4 to 4.5 × 10 4 Pa before radiation curing of the pressure-sensitive adhesive layer.
また、上記放射線硬化型ダイシング用粘着テープは、前記粘着剤層の放射線硬化前の損失係数tanδが0.25以上であることが好ましい。 The radiation curable dicing pressure-sensitive adhesive tape preferably has a loss coefficient tan δ before radiation curing of the pressure-sensitive adhesive layer of 0.25 or more.
また、上記放射線硬化型ダイシング用粘着テープは、半導体ウエハをダイシングする際に好適に使用することができる。 Moreover, the said radiation-curing-type dicing adhesive tape can be used conveniently when dicing a semiconductor wafer.
また、上記放射線硬化型ダイシング用粘着テープは、前記半導体ウエハが、前記粘着剤層に貼合される面に突起物あるいは段差を有する場合に好適に使用することができる。 The radiation-curing dicing pressure-sensitive adhesive tape can be suitably used when the semiconductor wafer has protrusions or steps on the surface bonded to the pressure-sensitive adhesive layer.
本発明によれば、ダイシング工程におけるチッピングを低減させることができ、かつ貫通電極が設けられた半導体チップに対しても、ピックアップ工程において糊残りが発生することなく容易にピックアップすることができる。 According to the present invention, chipping in a dicing process can be reduced, and even a semiconductor chip provided with a through electrode can be easily picked up without generating adhesive residue in the pick-up process.
以下に、本発明の実施の形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
本発明の実施形態に係る放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1は、基材シート2の少なくとも片側に、少なくとも1層の粘着剤層3が形成されている。図1は、本発明の放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1の好ましい実施態様を示す概略断面図であり、放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1は基材シート2を有しており、基材シート2上に粘着剤層3が形成されている。
In the radiation curing type dicing pressure-sensitive
本発明の実施形態に係る放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1は、放射線硬化後におけるヤング率の放射線硬化前におけるヤング率に対する比(放射線硬化後におけるヤング率/放射線硬化前におけるヤング率)が1.8以下である。
The radiation curing type dicing pressure-sensitive
放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1の粘着剤層3が貼合される面にバンプ、あるいは段差を有するウエハを放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1に貼合する際、バンプ、あるいは段差が粘着剤層3にほぼ完全に埋まることが好ましい。バンプ、あるいは段差と放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1との間に空隙があると、ダイシング工程での回転刃(ブレード)の振動によりチップが大きく振動してしまい、ブレードあるいは隣接チップとの接触が起こり、チップ欠けが生じてしまう。
When a wafer having a bump or a step is bonded to the surface of the radiation curable dicing pressure-sensitive
一方、バンプ、あるいは段差が粘着剤層3にほぼ完全に埋まった場合、回転刃による振動の影響は低減できるが、粘着剤層3を構成する粘着剤に放射線硬化型粘着剤組成を用いた場合、バンプ、あるいは段差に密着した状態で粘着剤層3が硬化するため、ピックアップ工程の際に、粘着剤層3がバンプ、あるいは段差に引っかかり、ピックアップできない不具合が生じることがある。
On the other hand, when bumps or steps are almost completely embedded in the pressure-sensitive
ここで、放射線硬化型粘着剤とは、炭素−炭素の不飽和結合を分子内末端に有する化合物(a)と、開始剤と呼ばれる、放射線を受けることによってラジカルを発生させる化合物を少なくとも含む粘着組成物のことを指す。放射線が照射されることにより、開始剤が活性化し、発生したラジカルにより、末端の炭素−炭素不飽和結合が続いて活性化されることで、次々と化合物(a)が結合して、化合物(a)同士が架橋を形成する。 Here, the radiation curable pressure-sensitive adhesive is a pressure-sensitive adhesive composition containing at least a compound (a) having a carbon-carbon unsaturated bond at an intramolecular end and a compound called an initiator that generates radicals by receiving radiation. It refers to things. By irradiating with radiation, the initiator is activated, and by the generated radical, the terminal carbon-carbon unsaturated bond is subsequently activated, whereby the compound (a) is successively bonded, and the compound ( a) mutual forms a bridge.
架橋形成前は粘着剤中に分散していた複数の化合物(a)が架橋することにより集合し、結合するため、粘着剤は架橋前よりも架橋後の方が硬くなる。バンプ、あるいは段差に密着した状態で、その架橋反応が起こると、バンプ、あるいは段差に硬くなった粘着剤が引っかかり、スムーズな剥離を阻害する。特に、貫通電極を有するウエハにおいては、ウエハ内部を貫通してバンプを形成しているためチップ強度が著しく弱く、剥離の阻害があった場合はチップ破損が起きやすい。この粘着剤の硬化によって引き起こされるバンプ、あるいは段差への引っかかりは、粘着剤の硬化度合いを調整することにより、抑制することができる。 Since the plurality of compounds (a) dispersed in the pressure-sensitive adhesive before cross-linking are aggregated and bonded together, the pressure-sensitive adhesive becomes harder after cross-linking than before cross-linking. When the cross-linking reaction occurs in close contact with the bumps or steps, the hardened adhesive is caught on the bumps or steps and inhibits smooth peeling. In particular, in a wafer having a through electrode, since the bump is formed through the inside of the wafer, the chip strength is extremely weak, and chip breakage is liable to occur when peeling is inhibited. The bumps caused by the curing of the pressure-sensitive adhesive or the catching on the step can be suppressed by adjusting the degree of curing of the pressure-sensitive adhesive.
粘着剤の硬化度合いを見る指標として、放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1の引張弾性率がある。放射線硬化前の引張弾性率と、硬化後の引張弾性率の比(放射線硬化後の引張弾性率/硬化前の引張弾性率)が1に近いほど、架橋形成前から硬さの変化が小さいことを意味する。放射線硬化型の粘着剤層3は、上記のとおり、放射線照射により硬化反応が生じるため、通常、上記の比は1よりも大きくなる。この比が1.8以下の場合、バンプ、あるいは段差への引っかかりが少なく、ピックアップが容易にできる。1.8よりも大きい場合は、バンプ、あるいは段差への引っかかりが生じてしまい、ピックアップ工程の突上げの際に、チップにかかる応力が大きくなり、ピックアップできなかったり、チップ破損を生じてしまったりする。
As an index for checking the degree of curing of the pressure-sensitive adhesive, there is a tensile elastic modulus of the radiation-curing dicing pressure-sensitive
なお、ここでの引張弾性率はJIS K 7127:1999に従って得られた値である。また、一般的には粘着剤層3よりも基材シート2の方が厚く、剛性が高いが、放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1の引張弾性率の比を取ることによって、粘着剤層3のみの引張弾性率の比較ができる。
Note that the tensile modulus here is a value obtained in accordance with JIS K 7127: 1999. Moreover, although the
ここで放射線の照射量は特に制限されないが、例えば紫外線の場合、100〜1000mJ/cm2が好ましく、200〜500mJ/cm2がさらに好ましい。 But it is not limited here dose of radiation, especially, for example, in the case of UV, preferably 100~1000mJ / cm 2, more preferably 200~500mJ / cm 2.
半導体チップのチッピングを防止するためには、放射線硬化前の粘着剤層3の貯蔵弾性率G’が2.0×104〜4.5×104Paであることが好ましい。G’が2.0×104Paよりも低いと、バンプ、あるいは段差に粘着剤層3が十分に密着することはできるが、粘着剤層3が柔らかすぎるため、ダイシング工程での回転刃による振動を抑制できず、チッピングが発生してしまう。また、4.5×104Paよりも大きい場合は、バンプ、あるいは段差に粘着剤層3が十分に密着できず、空隙ができてしまうため、ダイシング工程での回転刃の振動により、チッピングが発生してしまう。
In order to prevent chipping of the semiconductor chip, the storage elastic modulus G ′ of the pressure-sensitive
また、バンプ、あるいは段差に粘着剤層3が十分に密着した状態を維持するためには、放射線硬化前の粘着剤層3の損失係数tanδが0.25以上であることが好ましい。損失係数tanδとは、貯蔵弾性率G’と損失弾性率G”の比(G”/G’)で表される。tanδが小さい場合は、バンプ、あるいは段差に粘着剤層3が十分に密着できる場合においても、反発能力が大きいため密着した状態を維持しにくい。粘着剤層3の損失係数tanδが0.25よりも小さい場合、密着した状態を維持できず、ウエハと粘着テープの間に空隙が生じてしまい、上述のメカニズムによりチッピングが悪化する恐れがある。
Further, in order to maintain the state where the
以下、本実施形態の放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1の各構成要素について詳細に説明する。
Hereinafter, each component of the radiation curing type dicing
(基材シート2)
基材シート2を構成する樹脂については、特に制限されず、シート状に形成することのできる樹脂を用いることができる。例えば、例えば、ポリプロピレン、高密度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖低密度ポリエチレン(LLDPE)、エチレン・プロピレン共重合体、プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体加硫物、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリメチルペンテン、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン、ポリアミド、アイオノマー、ニトリルゴム、ブチルゴム、スチレンイソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、天然ゴムおよびその水添加物または変性物等などを用いてもよい。これらの樹脂は単独で、又は2種以上を混合して用いることができ、さらに2層以上の複層構成とすることもできる。
(Base material sheet 2)
About resin which comprises the
基材シート2の厚さは、特に制限されないが、薄すぎると取扱いが難しく、厚すぎるとピックアップ工程の際に突き上げ冶具の応力を伝え難くなるため、50〜150μmが好ましく、70〜100μmがさらに好ましい。
The thickness of the
基材シート2の粘着剤層3に接する面には密着性を向上させるために、コロナ処理を施したり、プライマー等の処理を施してもよい。
In order to improve the adhesiveness, the surface of the
(粘着剤層3)
粘着剤層3を構成する粘着剤組成物は、例えば、特開平7−135189号公報等に記載のものが好ましく使用されるがこれらに限定されることはなく、ゴム系あるいはアクリル系のベースポリマーに対して、分子中に少なくとも2個の放射線重合性炭素−炭素二重結合を有する化合物(以下、光重合性化合物という)および光重合開始剤が配合されてなるもの、あるいは、アクリル系のベースポリマーに炭素−炭素二重結合を有する化合物を付加されてなるものを使用することができる。
(Adhesive layer 3)
As the pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-
アクリル系ポリマー中に炭素−炭素二重結合を導入する方法としては、特に制限されないが、例えば、共重合性モノマーとして官能基を有するモノマーを用いて共重合して、官能基を含有するアクリル系ポリマーを調製した後、官能基を含有するアクリル系ポリマー中の官能基と反応し得る官能基と炭素−炭素二重結合とを有する化合物を、官能基を含有するアクリル系ポリマーに、炭素−炭素二重結合の放射線硬化性(放射線重合性)を維持した状態で、縮合反応又は付加反応させることにより、分子内に炭素−炭素二重結合を有するアクリル系ポリマーを調製する方法などが挙げられる。 The method for introducing a carbon-carbon double bond into an acrylic polymer is not particularly limited. For example, an acrylic polymer containing a functional group by copolymerization using a monomer having a functional group as a copolymerizable monomer. After preparing the polymer, a compound having a functional group capable of reacting with a functional group in the acrylic polymer containing a functional group and a carbon-carbon double bond is converted into a carbon-carbon to the acrylic polymer containing the functional group. Examples thereof include a method for preparing an acrylic polymer having a carbon-carbon double bond in the molecule by carrying out a condensation reaction or an addition reaction while maintaining the radiation curing property (radiation polymerization property) of the double bond.
上記のゴム系あるいはアクリル系のベースポリマーは、天然ゴム、各種の合成ゴムなどのゴム系ポリマー、あるいはポリ(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸アルキルエステルとこれと共重合可能な他の不飽和単量体との共重合物などのアクリル系ポリマーが使用される。ベースポリマーを構成するモノマーとして、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、メトキシエチルアクレートを用いると、ピックアップ性がさらに向上するため、好ましい。 The above rubber-based or acrylic base polymer is a rubber-based polymer such as natural rubber or various synthetic rubbers, or poly (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid alkyl ester. And an acrylic polymer such as a copolymer of the above and other unsaturated monomer copolymerizable therewith. Use of ethyl acrylate, butyl acrylate, or methoxyethyl acrylate as the monomer constituting the base polymer is preferable because the pickup property is further improved.
光重合性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸と、多価アルコールとのエステル化物;エステルアクリレートオリゴマー;2−プロペニル−ジ−3−ブテニルシアヌレート等の炭素−炭素二重結合含有基を有しているシアヌレート系化合物;トリス(2−アクリロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−メタクリロキシエチル)イソシアヌレート、2−ヒドロキシエチル ビス(2−アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ビス(2−アクリロキシエチル) 2−[(5−アクリロキシヘキシル)−オキシ]エチルイソシアヌレート、トリス(1,3−ジアクリロキシ−2−プロピル−オキシカルボニルアミノ−n−ヘキシル)イソシアヌレート、トリス(1−アクリロキシエチル−3−メタクリロキシ−2−プロピル−オキシカルボニルアミノ−n−ヘキシル)イソシアヌレート、トリス(4−アクリロキシ−n−ブチル)イソシアヌレート等の炭素−炭素二重結合含有基を有しているイソシアヌレート系化合物などが挙げられる。これらの光重合性化合物は単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることもできる。 Examples of the photopolymerizable compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and neopentyl glycol. Esterified product of (meth) acrylic acid such as di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate and polyhydric alcohol; ester acrylate oligomer; 2-propenyl-di-3- Cyanurate compounds having a carbon-carbon double bond-containing group such as butenyl cyanurate; tris (2-acryloxyethyl) isocyanurate, tris (2-methacryloxyethyl) isocyanurate, 2-hydroxyethyl Bis (2-acryloxyethyl) isocyanurate, bis (2-acryloxyethyl) 2-[(5-acryloxyhexyl) -oxy] ethyl isocyanurate, tris (1,3-diaacryloxy-2-propyl-oxycarbonyl Amino-n-hexyl) isocyanurate, tris (1-acryloxyethyl-3-methacryloxy-2-propyl-oxycarbonylamino-n-hexyl) isocyanurate, tris (4-acryloxy-n-butyl) isocyanurate, etc. Examples include isocyanurate compounds having a carbon-carbon double bond-containing group. These photopolymerizable compounds can be used alone or in combination of two or more.
放射線硬化前後の引張ヤング率比を1.8以下となれば、一分子中の炭素−炭素二重結合数は特に制限されないが、一分子中の炭素−炭素二重結合数は2〜6個が好ましい。また、配合量についても特に制限はないが、粘着剤の前記ベースポリマー100質量部に対して、10〜90質量部が好ましく、20〜70質量部がさらに好ましい。 If the tensile Young's modulus ratio before and after radiation curing is 1.8 or less, the number of carbon-carbon double bonds in one molecule is not particularly limited, but the number of carbon-carbon double bonds in one molecule is 2-6. Is preferred. Moreover, although there is no restriction | limiting in particular also about a compounding quantity, 10-90 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of said base polymers of an adhesive, and 20-70 mass parts is more preferable.
放射線硬化型粘着剤は、粘着剤中に光重合開始剤を混入することにより、放射線照射による重合硬化反応を発生させることができる。このような光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル系開始剤;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、3,3´−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ポリビニルベンゾフェノン等のベンゾフェノン系開始剤;α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、α−ヒドロキシ−α,α´−ジメチルアセトフェノン、メトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)−フェニル]−2−モルホリノプロパン−1等の芳香族ケトン系開始剤;ベンジルジメチルケタール等の芳香族ケタール系開始剤;チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−ドデシルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系開始剤、ベンジル等のベンジル系開始剤、ベンゾイン等のベンゾイン系開始剤の他、α−ケトール系化合物(2−メチル−2−ヒドロキシプロピオフェノンなど)、芳香族スルホニルクロリド系化合物(2−ナフタレンスルホニルクロリドなど)、光活性オキシム系化合物(1−フェノン−1,1−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシムなど)、カンファーキノン、ハロゲン化ケトン、アシルホスフィノキシド、アシルホスフォナートなどが挙げられる。光重合開始剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 The radiation-curable pressure-sensitive adhesive can generate a polymerization and curing reaction by radiation irradiation by mixing a photopolymerization initiator in the pressure-sensitive adhesive. Examples of such photopolymerization initiators include benzoin alkyl ether initiators such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether; benzophenone, benzoylbenzoic acid, 3,3 ′ Benzophenone initiators such as dimethyl-4-methoxybenzophenone and polyvinylbenzophenone; α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, α-hydroxy-α, α'-dimethylacetophenone, methoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) Aromatic ketone initiators such as phenyl] -2-morpholinopropane-1; aromatic ketal initiators such as benzyldimethyl ketal; thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropyl Thioxanthone initiators such as thioxanthone, 2-dodecylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, benzyl initiators such as benzyl, benzoin In addition to benzoin initiators such as α-ketol compounds (such as 2-methyl-2-hydroxypropiophenone), aromatic sulfonyl chloride compounds (such as 2-naphthalenesulfonyl chloride), and photoactive oxime compounds (1-phenone-1,1-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, etc.), camphorquinone, halogenated ketone, acyl phosphinoxide, acyl phosphonate and the like. A photoinitiator can be used individually or in combination of 2 or more types.
光重合開始剤の配合量は、特に制限されないが、粘着剤の前記ベースポリマー100質量部に対して、好ましくは1〜10質量部、さらに好ましくは2〜7質量部である。 Although the compounding quantity of a photoinitiator is not restrict | limited in particular, Preferably it is 1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of said base polymers of an adhesive, More preferably, it is 2-7 mass parts.
また上記の粘着剤中には、必要に応じてイソシアネート系硬化剤を配合することができる。イソシアネート系硬化剤としては、具体的には多価イソシアネート化合物、たとえば2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−2,4’−ジイソシアネート、3−メチルジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−2,4’−ジイソシアネート、リジンイソシアネートなどが用いられる。 In the above-mentioned pressure-sensitive adhesive, an isocyanate curing agent can be blended as necessary. Specific examples of the isocyanate curing agent include polyvalent isocyanate compounds such as 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, diphenylmethane- 4,4′-diisocyanate, diphenylmethane-2,4′-diisocyanate, 3-methyldiphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate, dicyclohexylmethane-2,4′-diisocyanate, lysine Isocyanate is used.
硬化剤の配合量は、特に制限されないが、粘着剤の前記ベースポリマー100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、さらに好ましくは0.1〜5質量部である。 Although the compounding quantity of a hardening | curing agent is not restrict | limited in particular, Preferably it is 0.01-10 mass parts with respect to 100 mass parts of said base polymers of an adhesive, More preferably, it is 0.1-5 mass parts.
放射線硬化型粘着剤を形成するための粘着剤組成物中には、必要に応じて、例えば、粘着付与剤、老化防止剤、充填剤、着色剤、難燃剤、帯電防止剤、軟化剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、可塑剤、界面活性剤等の公知の添加剤などが含まれていてもよい。 In the pressure-sensitive adhesive composition for forming the radiation-curable pressure-sensitive adhesive, for example, a tackifier, an anti-aging agent, a filler, a colorant, a flame retardant, an antistatic agent, a softening agent, an ultraviolet ray may be used as necessary. Known additives such as an absorbent, an antioxidant, a plasticizer, and a surfactant may be included.
本発明における粘着剤層3は、公知の粘着剤層3の形成方法を利用して形成することができる。例えば、上述した粘着剤組成物を、基材シート2の所定の面に塗布して形成する方法や、粘着剤組成物を、セパレータ(例えば、離型剤が塗布されたプラスチック製フィルム又はシートなど)上に塗布して粘着剤層3を形成した後、該粘着剤層3を基材シート2の所定の面に転写する方法により、基材シート2上に粘着剤層3を形成することができる。粘着剤層3の厚さは、バンプ、あるいは段差より高ければ特に制限されない。
The pressure-
なお、図1においては、粘着剤層3が単層の形態を有する放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1を示したが、複数の粘着剤層3が積層された形態を有していてもよい。複数の粘着剤層3が積層されている場合、ダイシング時にウエハが貼合される面を有する粘着剤層3が、放射線硬化型の粘着剤層3であり、放射線硬化前における貯蔵弾性率G’が2.0×104〜4.5×104Pa、放射線硬化前の損失係数tanδが0.25以上であることが好ましい。
In addition, in FIG. 1, although the
また、必要に応じて、実用に供するまでの間、粘着剤層3を保護するため通常セパレータとして用いられる合成樹脂フィルムを粘着剤層3側に貼付しておいても良い。合成樹脂フィルムの構成材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート等の合成樹脂フィルムや紙などが挙げられる。合成樹脂フィルムの表面には、粘着剤層3からの剥離性を高めるため、必要に応じてシリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理等の剥離処理が施されていても良い。合成樹脂フィルムの厚みは、通常10〜100μm、好ましくは25〜50μm程度である。
Moreover, you may stick the synthetic resin film normally used as a separator in order to protect the
<使用方法>
次に、本発明の放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1の使用方法について説明する。
<How to use>
Next, the usage method of the radiation curing type dicing
本発明の放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1は、被切断物である半導体部品へ貼り付けるマウント工程の後に、常法に従ってダイシングに供され、更に放射線照射、ピックアップ工程へと移される。半導体部品としてはシリコン半導体、化合物半導体、半導体パッケージ、ガラス、セラミックス等があげられるが、放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1は、貫通電極を有する半導体ウエハのダイシングに好適に用いることができる。
The radiation curable dicing pressure-sensitive
マウント工程では、通常、被切断物と放射線硬化型ダイシング用粘着テープ1とを、重ね合わせ、圧着ロールを用いた押圧手段などの公知の押圧手段により押圧しながら、被切断物と粘着テープとの貼り付けを行う。被切断物との密着が十分でない場合は、被切断物を加熱する方法も採用できる。
In the mounting process, the object to be cut and the pressure-sensitive
ダイシング工程は、ブレードを高速回転させ、被切断物を所定のサイズに切断する。ダイシングは、ダイシングテープの一部まで切込みを行なうフルカットと呼ばれる切断方式等を採用できる。 In the dicing process, the blade is rotated at a high speed to cut the object to be cut into a predetermined size. Dicing can employ a cutting method called full cut that cuts up to a part of the dicing tape.
ダイシング後には、紫外線の照射により粘着剤層3を硬化させ、粘着性を低下させる。紫外線照射により、粘着剤層3の粘着性が硬化により低下して剥離を容易化させることができる。ここで紫外線の照射量は特に制限されないが、100〜1000mJ/cm2が好ましく、200〜500mJ/cm2がさらに好ましい。
After dicing, the pressure-
紫外線照射の後は、ピックアップ工程に供される。ピックアップ工程には、エキスパンド工程を設けることができる。ピックアップ方法としては、特に限定されず、従来公知の種々のピックアップ方法を採用することができる。例えば、個々の切断片を、ダイシングテープからニードル等の冶具によって突き上げ、突き上げられた切断片をピックアップ装置によってピックアップする方法などが挙げられる。 After the ultraviolet irradiation, it is used for a pickup process. The pickup process can be provided with an expanding process. The pickup method is not particularly limited, and various conventionally known pickup methods can be employed. For example, there is a method of pushing up individual cut pieces from a dicing tape with a jig such as a needle and picking up the cut pieces with a pickup device.
以下、本発明を実施例に基づき、さらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further in detail based on an Example, this invention is not limited to these Examples.
<粘着剤層を構成する樹脂組成物>
粘着剤層を構成する樹脂組成物として、以下のA〜Hを調製した。
<Resin composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer>
The following A to H were prepared as the resin composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer.
(粘着剤組成物A)
アクリル系ポリマー(エチルアクリレート:23mol%、ブチルアクリレート:56mol%、メトキシエチルアクリレート:21mol%からなるアクリル系共重合体(重量平均分子量90万)100質量部に対して、ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン社製、商品名コロネートL)2質量部、光重合性化合物としてテトラメチロールメタンテトラアクリレート30質量部、および光重合開始剤(日本チバガイギー社製、商品名イルガキュアー184)2質量部を加えて混合し、放射線硬化性の粘着剤組成物Aを調製した。
(Adhesive composition A)
For 100 parts by mass of an acrylic copolymer (ethyl acrylate: 23 mol%, butyl acrylate: 56 mol%, methoxyethyl acrylate: 21 mol%) and 100 parts by mass of an acrylic copolymer (weight average molecular weight 900,000) Manufactured, trade name Coronate L) 2 parts by mass, tetramethylolmethane tetraacrylate 30 parts by weight as a photopolymerizable compound, and 2 parts by weight of a photopolymerization initiator (Ciba Geigy Japan, trade name Irgacure 184) are added and mixed. A radiation-curable pressure-sensitive adhesive composition A was prepared.
(粘着剤組成物B)
光重合性化合物をペンタエリスリトールトリアクリレート60質量部とした以外は、粘着剤組成物Aと同様にして、粘着剤組成物Bを調整した。
(Adhesive composition B)
A pressure-sensitive adhesive composition B was prepared in the same manner as the pressure-sensitive adhesive composition A, except that the photopolymerizable compound was changed to 60 parts by mass of pentaerythritol triacrylate.
(粘着剤組成物C)
アクリル系ポリマーを、2−エチルヘキシルアクリレート、メチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレートからなる共重合体(重量平均分子量50万)とした以外は粘着剤組成物Aと同様にして、粘着剤組成物Cを調整した。
(Adhesive composition C)
The pressure-sensitive adhesive composition C was prepared in the same manner as the pressure-sensitive adhesive composition A except that the acrylic polymer was a copolymer (weight average molecular weight 500,000) composed of 2-ethylhexyl acrylate, methyl acrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate. It was adjusted.
(粘着剤組成物D)
光重合性化合物を、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとし、配合量を20質量部とした以外は、粘着剤組成物Cと同様にして、粘着剤組成物Dを調整した。
(Adhesive composition D)
The pressure-sensitive adhesive composition D was prepared in the same manner as the pressure-sensitive adhesive composition C, except that the photopolymerizable compound was dipentaerythritol hexaacrylate and the blending amount was 20 parts by mass.
(粘着剤組成物E)
光重合性化合物の配合量を50質量部とした以外は、粘着剤組成物Dと同様にして、粘着剤組成物Eを調整した。
(Adhesive composition E)
A pressure-sensitive adhesive composition E was prepared in the same manner as the pressure-sensitive adhesive composition D, except that the amount of the photopolymerizable compound was 50 parts by mass.
(粘着剤組成物F)
光重合性化合物の配合量を80質量部とした以外は、粘着剤組成物Dと同様にして、粘着剤組成物Fを調整した。
(Adhesive composition F)
The pressure-sensitive adhesive composition F was prepared in the same manner as the pressure-sensitive adhesive composition D, except that the amount of the photopolymerizable compound was 80 parts by mass.
(粘着剤組成物G)
2−エチルヘキシルアクリレート、メタクリル酸、2−ヒドロキシエチルアクリレートからなるアクリル系共重合体100質量部に、光重合性炭素−炭素二重結合および官能基を有する化合物として、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工社製、商品名カレンズMOI)0.2質量部を反応させて、主鎖の繰り返し単位に対して放射線硬化性炭素−炭素二重結合含有基を有するアクリル系単量体部を有する残基を結合した重合体を得た(重量平均分子量60万)。上記重合体100質量部に対して、ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン社製、商品名コロネートL)を1質量部、および光重合開始剤(日本チバガイギー社製、商品名イルガキュアー184)を2質量部加えて混合し、放射線硬化性の粘着剤組成物Gを調製した。
(Adhesive composition G)
As a compound having a photopolymerizable carbon-carbon double bond and a functional group on 100 parts by mass of an acrylic copolymer composed of 2-ethylhexyl acrylate, methacrylic acid, and 2-hydroxyethyl acrylate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (Showa Residue having an acrylic monomer part having a radiation-curable carbon-carbon double bond-containing group with respect to the repeating unit of the main chain, by reacting 0.2 part by mass, manufactured by Denko Co., Ltd., trade name Karenz MOI) Was obtained (weight average molecular weight 600,000). 1 part by mass of a polyisocyanate compound (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd., trade name Coronate L) and 2 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Geigy Japan Inc., trade name: Irgacure 184) with respect to 100 parts by mass of the polymer. In addition, mixing was performed to prepare a radiation-curable pressure-sensitive adhesive composition G.
(粘着剤組成物H)
ポリイソシアネート化合物の配合量を、0.5質量部とした以外は、粘着剤組成物Gと同様にして、粘着剤組成物Hを調整した。
(Adhesive composition H)
The pressure-sensitive adhesive composition H was prepared in the same manner as the pressure-sensitive adhesive composition G, except that the blending amount of the polyisocyanate compound was 0.5 parts by mass.
(粘着剤組成物I)
アクリル系共重合体に反応させる2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの配合量を0.6質量部とした以外は、粘着剤組成物Gと同様にして、粘着剤組成物Iを調整した。
(Adhesive composition I)
The pressure-sensitive adhesive composition I was prepared in the same manner as the pressure-sensitive adhesive composition G, except that the amount of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate to be reacted with the acrylic copolymer was 0.6 parts by mass.
<基材シート>
基材シートとして、以下のJ〜Lを準備した。
<Base material sheet>
The following J to L were prepared as substrate sheets.
(基材シートJ)
エチレン−メタクリル酸−(アクリル酸2−メチル−プロピル)−Zn++アイオノマー樹脂(三井・デュポンポリケミカル社製、商品名ハイミランAM7316)を、2軸混練機にて約200℃でフィルム押出成形し、厚さ100μmの基材シートJを製造した。
(Base material sheet J)
Film extrusion molding of ethylene-methacrylic acid- (2-methyl-propyl acrylate) -Zn ++ ionomer resin (Mitsui / DuPont Polychemical Co., Ltd., trade name Himiran AM7316) at about 200 ° C. with a twin-screw kneader A base sheet J having a thickness of 100 μm was manufactured.
(基材シートK)
エチレン−酢酸ビニル共重合体(日本ユニカー社製、商品名NUC−3758)を、2軸混練機にて約200℃でフィルム押出成形し、厚さ100μmの基材シートKを製造した。
(Substrate sheet K)
An ethylene-vinyl acetate copolymer (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd., trade name NUC-3758) was subjected to film extrusion at about 200 ° C. with a twin-screw kneader to produce a substrate sheet K having a thickness of 100 μm.
(基材シートL)
ポリ塩化ビニル樹脂100重量部に対してフタル酸ジオクチルを30重量部含む、ポリ塩化ビニルシート(厚さ100μm)を準備した。
(Base material sheet L)
A polyvinyl chloride sheet (thickness: 100 μm) containing 30 parts by weight of dioctyl phthalate with respect to 100 parts by weight of the polyvinyl chloride resin was prepared.
<放射線硬化型ダイシング用粘着テープの作製>
表1及び表2に示すように、各々の基材シートJ〜Lに、上記の粘着剤組成物A〜Iを、それぞれ乾燥後の厚さが20μmになるように塗工して、粘着剤層を形成し、実施例1、3〜9、比較例1、2に係る放射線硬化型ダイシング用粘着テープを製造した。また、粘着組成物Aを、乾燥後の厚さが25μmになるように塗工して、粘着剤層を形成し、実施例2に係る放射線硬化型ダイシング用粘着テープを製造した。
<Preparation of radiation curable dicing adhesive tape>
As shown in Table 1 and Table 2, the adhesive compositions A to I are applied to each of the base sheet J to L so that the thickness after drying is 20 μm, respectively. The layer was formed and the radiation-curing type dicing pressure-sensitive adhesive tape according to Examples 1 and 3 to 9 and Comparative Examples 1 and 2 was produced. In addition, the pressure-sensitive adhesive composition A was applied so that the thickness after drying was 25 μm to form a pressure-sensitive adhesive layer, and a radiation-curable dicing pressure-sensitive adhesive tape according to Example 2 was produced.
<粘着テープのヤング率比>
実施例1〜9および比較例1、2の放射線硬化型ダイシング用粘着テープを用いて、JIS K7127/2/300に従い、試験片を作製し引張試験を実施し、紫外線照射前のヤング率を算出した。また、粘着テープ試験サンプルの基材シート側から、紫外線を200mJ/mm2照射して粘着剤層を硬化させた後、同様の試験を実施し、紫外線照射後のヤング率を算出した。いずれの試験も測定数n=5の平均値を試験結果とした。これらの結果からヤング率比((紫外線照射後)/(紫外線照射前))を算出した。その結果を表1及び表2に示す。
<Young's modulus ratio of adhesive tape>
Using the radiation curable dicing adhesive tapes of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 and 2, according to JIS K7127 / 2/300, test pieces were prepared and subjected to a tensile test, and the Young's modulus before ultraviolet irradiation was calculated. did. Further, from the substrate sheet side of the pressure-sensitive adhesive tape test sample, ultraviolet rays were irradiated at 200 mJ / mm 2 to cure the pressure-sensitive adhesive layer, and then the same test was performed to calculate the Young's modulus after the ultraviolet light irradiation. In each test, the average value of the number n = 5 was used as the test result. From these results, the Young's modulus ratio ((after ultraviolet irradiation) / (before ultraviolet irradiation)) was calculated. The results are shown in Tables 1 and 2.
<粘着剤層の粘弾性>
粘着剤組成物A〜Iを離型フィルム上にそれぞれ乾燥後の厚さが20μmになるように塗工して、粘着剤層を形成した後、粘着剤層を離型フィルムから剥離して総厚さが約2mmになるように重ね合わせ、試験サンプルを作製した。その試験サンプルを直径8mmの円盤状に打ち抜き、パラレルプレートで挟み込み、粘弾性測定装置(レオメトリックス社製、商品名ARES)を用い、下記の条件で測定した。取り込んだデータから貯蔵弾性率G’の最大値および最小値、および損失係数tanδの最小値を記録した。その結果を表1及び表2に示す。
(測定条件)
測定温度:23〜80℃
昇温速度:5℃/min
測定周波数:0.15Hz
<Viscoelasticity of adhesive layer>
The pressure-sensitive adhesive compositions A to I were each coated on a release film so that the thickness after drying was 20 μm, and after the pressure-sensitive adhesive layer was formed, the pressure-sensitive adhesive layer was peeled off from the release film. A test sample was prepared by superimposing such that the thickness was about 2 mm. The test sample was punched into a disk shape having a diameter of 8 mm, sandwiched between parallel plates, and measured using a viscoelasticity measuring device (trade name ARES, manufactured by Rheometrics) under the following conditions. The maximum and minimum values of the storage modulus G ′ and the minimum value of the loss coefficient tan δ were recorded from the acquired data. The results are shown in Tables 1 and 2.
(Measurement condition)
Measurement temperature: 23-80 ° C
Temperature increase rate: 5 ° C / min
Measurement frequency: 0.15 Hz
<放射線硬化型ダイシング用粘着テープの評価>
直径10μmのボールバンプ5(図2参照)が、100μm間隔で形成されている、8インチ、厚さ30μmのSiウエハを準備した。そして、実施例1〜8および比較例1、2の放射線硬化型ダイシング用粘着テープを、リングフレームとともに貼り合わせた。
<Evaluation of radiation curable adhesive tape for dicing>
An Si wafer having a thickness of 8 inches and a thickness of 30 μm in which ball bumps 5 (see FIG. 2) having a diameter of 10 μm are formed at intervals of 100 μm was prepared. And the adhesive tape for radiation hardening type dicing of Examples 1-8 and Comparative Examples 1 and 2 was bonded together with the ring frame.
(埋め込み性評価)
貼合直後の放射線硬化型ダイシング用粘着テープ面の上方から目視で、ボールバンプ周囲の気泡の有無を観察した。気泡がない場合を◎、気泡サイズが10μm以下である場合を○、気泡サイズが10μmよりも大きい場合を×とした。その結果を表1及び表2に示す。
(Embeddability evaluation)
The presence or absence of bubbles around the ball bumps was visually observed from above the adhesive tape surface for radiation curable dicing immediately after bonding. The case where there was no bubble was marked with ◎, the case where the bubble size was 10 μm or less was marked with ○, and the case where the bubble size was larger than 10 μm was marked with ×. The results are shown in Tables 1 and 2.
(貼合後の経時変化評価)
貼合した後、ダイシングカセットに1時間放置したあと、埋め込み性評価と同様の評価を実施した。埋め込み性評価から変化がない場合を○、気泡サイズの拡大幅が5μm以下である場合を△、気泡サイズの拡大幅が5μmよりも大きい場合を×とした。その結果を表1及び表2に示す。
(Evaluation of changes over time after bonding)
After pasting, it was left in a dicing cassette for 1 hour, and then the same evaluation as the embedding evaluation was performed. The case where there was no change from the evaluation of embeddability was evaluated as ◯, the case where the expansion width of the bubble size was 5 μm or less, and the case where the expansion width of the bubble size was larger than 5 μm. The results are shown in Tables 1 and 2.
その後、ダイシング装置(DISCO社製、商品名DAD−340)を使用して、図2に示すように、チップ4のサイズが10mm角となるように、以下の条件でダイシングを実施した。なお、ボールバンプ5は図2のように形成されており、スクライブライン上には形成されていない。
(ダイシング条件)
ブレード:DISCO社製「27HECC」
ブレード回転数:40000rpm
ダイシング速度:50mm/sec
ダイシング深さ:25μm
カットモード:ダウンカット
Thereafter, using a dicing apparatus (trade name DAD-340, manufactured by DISCO), dicing was performed under the following conditions so that the size of the chip 4 became 10 mm square as shown in FIG. The ball bump 5 is formed as shown in FIG. 2 and is not formed on the scribe line.
(Dicing conditions)
Blade: "27HECC" manufactured by DISCO
Blade rotation speed: 40000 rpm
Dicing speed: 50mm / sec
Dicing depth: 25μm
Cut mode: Down cut
(ピックアップ性評価)
放射線硬化型ダイシング用粘着テープの基材シート側から、紫外線を200mJ/mm2照射して粘着剤層を硬化させた後、個片化したチップを、ダイスピッカー装置(キャノンマシナリー社製、商品名CAP−300II)を用いてピックアップした。任意のチップ50個を、下記の条件Aおよび条件Bでピックアップし、ピックアップが成功したチップ数をカウントし、50個全てのチップのピックアップが成功した場合を○、45〜49個の半導体チップのピックアップが成功した場合を△とし、それ以外は×として、ピックアップ性を評価した。その結果を表1及び表2に示す。なお、ピックアップ失敗とは、剥離ができなかった場合および、ピックアップしたチップにクラックが入った場合を指す。
(ピックアップ条件A)
ピン数:5本
ピンの間隔:7.8×7.8mm
ピン先端曲率:0.25mm
ピン突き上げ量:0.30mm
(ピックアップ条件B)
ピン数:5本
ピンの間隔:7.8×7.8mm
ピン先端曲率:0.25mm
ピン突き上げ量:0.40mm
(Pickup evaluation)
After curing the pressure-sensitive adhesive layer by irradiating UV radiation at 200 mJ / mm 2 from the base sheet side of the radiation-curing pressure-sensitive adhesive tape for dicing, the separated chip is formed into a die picker device (trade name, manufactured by Canon Machinery Co., Ltd.) Pickup using CAP-300II). Pick up 50 arbitrary chips under the following conditions A and B, count the number of chips successfully picked up, and if all 50 chips have been successfully picked up, ○ The pick-up property was evaluated as △ when the pick-up was successful, and x otherwise. The results are shown in Tables 1 and 2. Note that the pickup failure refers to the case where the peeling cannot be performed and the case where the picked-up chip is cracked.
(Pickup condition A)
Number of pins: 5 Pin spacing: 7.8 x 7.8 mm
Pin tip curvature: 0.25mm
Pin push-up amount: 0.30mm
(Pickup condition B)
Number of pins: 5 Pin spacing: 7.8 x 7.8 mm
Pin tip curvature: 0.25mm
Pin push-up amount: 0.40mm
(チッピング性評価)
ピックアップ性評価で採取したチップ30枚の裏面を光学顕微鏡で観察し、チッピングの大きさを測定した。チップ端部からチッピングの最も深い箇所までの距離が、5μm以下であった場合を○、6〜15μmであった場合を△、15μmよりも大きかった場合を×とした。その結果を表1及び表2に示す。
(Chipability evaluation)
The back surface of 30 chips collected in the pickup property evaluation was observed with an optical microscope, and the size of chipping was measured. The case where the distance from the end of the chip to the deepest part of chipping was 5 μm or less was indicated as “◯”, the case where it was 6 to 15 μm as Δ, and the case where it was larger than 15 μm as “X”. The results are shown in Tables 1 and 2.
表1及び2に示すように、実施例1〜9の放射線硬化型ダイシング用粘着テープは、放射線硬化後におけるヤング率の放射線硬化前におけるヤング率に対する比が1.8以下であるため、条件Bにおけるピックアップ性が良好であった。特に、実施例1〜4は、ベースポリマーを構成するモノマーとして、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、メトキシエチルアクレートを用いているため、ピンの突きあげ量が少なくピックアップがより困難な条件Aにおいてもピックアップ性が良好であった。実施例5〜9は、ベースポリマーを構成するモノマーとして、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、メトキシエチルアクレートを用いていていないため、条件Aにおいてはピックアップに失敗したチップが発生したが、許容範囲の発生割合であった。これに対して、比較例1、2の放射線硬化型ダイシング用粘着テープは、放射線硬化後におけるヤング率の放射線硬化前におけるヤング率に対する比が1.8を超えるため、条件A,Bともに良好にピックアップすることができなかった。 As shown in Tables 1 and 2, the radiation-curable dicing pressure-sensitive adhesive tapes of Examples 1 to 9 have a ratio of Young's modulus after radiation curing to Young's modulus before radiation curing of 1.8 or less. The pickup property was good. In particular, in Examples 1 to 4, since ethyl acrylate, butyl acrylate, and methoxyethyl acrylate are used as the monomers constituting the base polymer, the pickup is performed even under the condition A where the pick-up amount of the pin is small and the pickup is more difficult The property was good. In Examples 5 to 9, since ethyl acrylate, butyl acrylate, and methoxyethyl acrylate were not used as the monomers constituting the base polymer, a chip that failed to be picked up was generated in Condition A, but an allowable range was generated. It was a ratio. On the other hand, since the ratio of the Young's modulus after radiation curing to the Young's modulus before radiation curing exceeds 1.8 in the radiation curing type dicing adhesive tapes of Comparative Examples 1 and 2, both conditions A and B are good. Could not pick up.
また、実施例1〜6の放射線硬化型ダイシング用粘着テープは、粘着剤層の放射線硬化前における貯蔵弾性率G’が2.0×104〜4.5×104Paであり、粘着剤層の放射線硬化前の損失係数tanδが0.25以上であるため、埋め込み性、チッピング性、貼合後経時変化の全てが良好であった。これに対して実施例7の放射線硬化型ダイシング用粘着テープは、粘着剤層の放射線硬化前における貯蔵弾性率G’が4.5×104Paを超えるため、実施例1〜6の放射線硬化型ダイシング用粘着テープに比べて埋め込み性が劣りチッピング性が低下したが、許容範囲であった。また、実施例8の放射線硬化型ダイシング用粘着テープは、粘着剤層の放射線硬化前における貯蔵弾性率G’が2.0×104より低いため、実施例1〜6の放射線硬化型ダイシング用粘着テープに比べてチッピング性が劣るが、許容範囲であった。また、実施例9の放射線硬化型ダイシング用粘着テープは、粘着剤層の放射線硬化前の損失係数tanδが0.25より小さいため、実施例1〜6の放射線硬化型ダイシング用粘着テープに比べて、貼合後の経時変化によりウエハの浮きが生じてチッピング性が低下したが、許容範囲であった。 In addition, the radiation curable dicing pressure-sensitive adhesive tapes of Examples 1 to 6 have a storage elastic modulus G ′ of 2.0 × 10 4 to 4.5 × 10 4 Pa before the radiation curing of the pressure-sensitive adhesive layer, and the pressure-sensitive adhesive. Since the loss coefficient tan δ before radiation curing of the layer was 0.25 or more, all of embeddability, chipping property, and change with time after bonding were good. In contrast, the radiation curing type dicing pressure-sensitive adhesive tape of Example 7 has a storage elastic modulus G ′ before the radiation curing of the pressure-sensitive adhesive layer exceeding 4.5 × 10 4 Pa. Compared to the adhesive tape for mold dicing, the embedding property was inferior and the chipping property was lowered, but it was within an allowable range. Moreover, since the storage elastic modulus G 'before the radiation curing of the pressure-sensitive adhesive layer is lower than 2.0 × 10 4 , the radiation-curable dicing pressure-sensitive adhesive tape of Example 8 is used for the radiation-curable dicing of Examples 1 to 6. Although the chipping property was inferior to that of the adhesive tape, it was within an allowable range. In addition, the radiation curing type dicing pressure-sensitive adhesive tape of Example 9 has a loss coefficient tan δ before radiation curing of the pressure-sensitive adhesive layer smaller than 0.25, and therefore, compared with the radiation curing type dicing pressure-sensitive adhesive tapes of Examples 1 to 6. The wafer floated due to the change with time after bonding, and the chipping property was lowered, but it was within an allowable range.
1:放射線硬化型ダイシング用粘着テープ
2:基材シート
3:粘着剤層
4:チップ
5:ボールバンプ
1: Radiation-curable adhesive tape for dicing 2: Substrate sheet 3: Adhesive layer 4: Chip 5: Ball bump
Claims (5)
放射線硬化後におけるヤング率の放射線硬化前におけるヤング率に対する比である放射線硬化後におけるヤング率/放射線硬化前におけるヤング率が1.0〜1.8であることを特徴とする放射線硬化型ダイシング用粘着テープ。 A radiation curable adhesive tape provided with a radiation curable adhesive layer on a substrate sheet,
Radiation-curable dicing characterized in that Young's modulus after radiation curing, which is the ratio of Young's modulus after radiation curing to Young's modulus before radiation curing / Young's modulus before radiation curing is 1.0 to 1.8 Adhesive tape.
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