JP5002291B2 - 解析装置、プログラム、欠陥検査装置、レビュー装置、解析システム及び解析方法 - Google Patents
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Description
110、210 欠陥検査装置
120、320 レビュー装置
130 解析装置
131 記憶部
132 欠陥情報記憶領域
133 論理和情報記憶領域
134 レビュー結果情報記憶領域
135 距離情報記憶領域
136 制御部
137 論理和情報生成部
138 サンプリング情報生成部
139 解析指定受付部
140 レシピ解析部
141 入力部
142 出力部
143 送受信部
Claims (17)
- 検査対象上の欠陥を検査する欠陥検査装置の検査レシピを設定するに際して、事前に準備された複数の検査レシピの中から、前記検査対象上のユーザが望む種別の欠陥を最も多く検出可能な検査レシピ、または、ユーザが望まない種別の欠陥を最も少なく検出可能な検査レシピ、を選出する解析装置であって、
前記複数の検査レシピのそれぞれを前記欠陥検査装置に設定して、前記同一の検査対象を前記欠陥検査装置により検査した結果である、少なくとも欠陥ID、欠陥座標、欠陥の特徴量よりなる欠陥情報を受信して記憶する欠陥情報記憶部と、
前記欠陥情報よりサンプリング情報を生成するサンプリング情報生成部と、
前記サンプリングされた各欠陥の画像情報より、各欠陥の種別情報を作成するレビュー装置からレビュー結果情報を受信して記憶するレビュー結果情報記憶部と、
ユーザより解析を行う欠陥の種別情報を受け付ける解析指定受付部と、
前記ユーザより指定された欠陥の種別に該当する前記レビュー結果情報に含まれる欠陥の特徴量を前記欠陥情報から取得し、取得した前記特徴量から基準値を検査レシピ毎に算出し、前記欠陥情報に含まれる欠陥の前記基準値からの距離を各検査レシピ毎に算出し、予め定められたしきい値以下となる類似欠陥の個数を集計するレシピ解析部と、
前記検査レシピ毎の類似欠陥の個数をユーザへ提示する出力部と、
を備えたことを特徴とする解析装置。 - 請求項1に記載の解析装置であって、
前記レシピ解析部は、前記ユーザより指定された欠陥の種別に該当する前記レビュー結果情報より、各検査レシピによって検出された欠陥の各特徴量の統計的基準値を求め、前記統計的基準値を基準として、前記欠陥情報の各欠陥の特徴量を取得して、各検査レシピ毎の類似欠陥の個数を集計すること、
を特徴とする解析装置。 - 請求項2に記載の解析装置であって、
前記レシピ解析部は、前記各特徴量の統計的基準値から前記欠陥情報の各欠陥の特徴量までの距離を求め、前記距離が予め定められたしきい値以下となる欠陥の個数を類似欠陥の個数として集計すること、
を特徴とする解析装置。 - 請求項2又は3に記載の解析装置であって、
前記統計的基準値は、前記欠陥情報に含まれる全ての欠陥の特徴量を、前記ユーザより指定された欠陥の種別に該当する前記レビュー結果情報に含まれる欠陥の各特徴量の平均値および標準偏差を用いて規準化したものであり、
前記距離は、マハラノビス距離又はユークリッド距離であること、
を特徴とする解析装置。 - コンピュータを、
欠陥検査装置に設定する複数の検査レシピを解析する解析装置として機能させるプログラムであって、
記憶手段及び制御手段として前記コンピュータを機能させ、
前記記憶手段は、
前記検査レシピ毎に、基板における欠陥の位置、および、当該欠陥の特徴量、を対応させた欠陥情報と、
前記欠陥情報に含まれている欠陥のうちから選択された欠陥について、選択された欠陥の種別を特定するレビュー結果情報と、を記憶し、
前記制御手段は、
解析を行う欠陥の種別の入力を受け付ける処理と、
前記レビュー結果情報に含まれる欠陥であって、入力された前記欠陥の種別に対応する欠陥の特徴量を前記欠陥情報から取得し、取得した当該特徴量から基準値を前記検査レシピ毎に算出する処理と、
前記欠陥情報に含まれている全ての欠陥につき、前記基準値からの距離を前記検査レシピ毎に算出する処理と、
前記基準値からの距離が、予め定められたしきい値以下の個数を前記検査レシピ毎に集計する処理と、
を行うこと、を特徴とするプログラム。 - 請求項5に記載のプログラムであって、
前記制御手段は、前記基準値からの距離が、予め定められたしきい値以下の個数が最も多い検査レシピを、入力された前記欠陥の種別を検出するのに適したものと判定すること、
を特徴とするプログラム。 - 請求項5に記載のプログラムであって、
前記制御手段は、前記基準値からの距離が、予め定められたしきい値以下の個数が最も少ない検査レシピを、入力された前記欠陥の種別を検出しないのに適したものと判定すること、
を特徴とするプログラム。 - 請求項5に記載のプログラムであって、
前記基準値は、前記特徴量の平均値および標準偏差であり、
前記距離は、マハラノビス距離又はユークリッド距離であること、
を特徴とするプログラム。 - 検査対象上の欠陥を検査するための検査レシピを設定するに際して、事前に準備された複数の検査レシピの中から、前記検査対象上のユーザが望む種別の欠陥を最も多く検出可能な検査レシピ、または、ユーザが望まない種別の欠陥を最も少なく検出可能な検査レシピ、を選出する欠陥検査装置であって、
前記複数の検査レシピのそれぞれを設定して、前記同一の検査対象を検査して作成した、少なくとも欠陥ID、欠陥座標、欠陥の特徴量よりなる欠陥情報を記憶する欠陥情報記憶部と、
前記欠陥情報よりサンプリング情報を生成するサンプリング情報生成部と、
前記サンプリングされた各欠陥の画像情報より、各欠陥の種別情報を作成するレビュー装置からレビュー結果情報を受信して記憶するレビュー結果情報記憶部と、
ユーザより解析を行う欠陥の種別情報を受け付ける解析指定受付部と、
前記ユーザより指定された欠陥の種別に該当する前記レビュー結果情報に含まれる欠陥の特徴量を前記欠陥情報から取得し、取得した前記特徴量から基準値を検査レシピ毎に算出し、前記欠陥情報に含まれる欠陥の前記基準値からの距離を各検査レシピ毎に算出し、予め定められたしきい値以下となる類似欠陥の個数を集計するレシピ解析部と、
前記検査レシピ毎の類似欠陥の個数をユーザへ提示する出力部と、
を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項9に記載の欠陥検査装置であって、
前記レシピ解析部は、前記ユーザより指定された欠陥の種別に該当する前記レビュー結果情報より、各検査レシピによって検出された欠陥の各特徴量の統計的基準値を求め、前記統計的基準値を基準として、前記欠陥情報の各欠陥の特徴量を取得して、各検査レシピ毎の類似欠陥の個数を集計すること、
を特徴とする欠陥検査装置。 - 検査対象上の欠陥を検査する欠陥検査装置の検査レシピを設定するに際して、事前に準備された複数の検査レシピの中から、前記検査対象上のユーザが望む種別の欠陥を最も多く検出可能な検査レシピ、または、ユーザが望まない種別の欠陥を最も少なく検出可能な検査レシピ、を選出するレビュー装置であって、
前記複数の検査レシピのそれぞれを前記欠陥検査装置に設定して、前記同一の検査対象を前記欠陥検査装置により検査した結果である、少なくとも欠陥ID、欠陥座標、欠陥の特徴量よりなる欠陥情報を受信して記憶する欠陥情報記憶部と、
前記欠陥情報よりサンプリング情報を生成するサンプリング情報生成部と、
前記サンプリングされた各欠陥の画像情報より、各欠陥の種別を特定して作成したレビュー結果情報を記憶するレビュー結果情報記憶部と、
ユーザより解析を行う欠陥の種別情報を受け付ける解析指定受付部と、
前記ユーザより指定された欠陥の種別に該当する前記レビュー結果情報に含まれる欠陥の特徴量を前記欠陥情報から取得し、取得した前記特徴量から基準値を検査レシピ毎に算出し、前記欠陥情報に含まれる欠陥の前記基準値からの距離を各検査レシピ毎に算出し、予め定められたしきい値以下となる類似欠陥の個数を集計するレシピ解析部と、
前記検査レシピ毎の類似欠陥の個数をユーザへ提示する出力部と、
を備えたことを特徴とするレビュー装置。 - 請求項11に記載のレビュー装置であって、
前記レシピ解析部は、前記ユーザより指定された欠陥の種別に該当する前記レビュー結果情報より、各検査レシピによって検出された欠陥の各特徴量の統計的基準値を求め、前記統計的基準値を基準として、前記欠陥情報の各欠陥の特徴量を取得して、各検査レシピ毎の類似欠陥の個数を集計すること、
を特徴とするレビュー装置。 - 欠陥検査装置と、レビュー装置と、解析装置と、を備える解析システムであって、
前記欠陥検査装置は、複数の検査レシピで一の基板の欠陥検査を行い、検査レシピ毎に、基板における欠陥の位置、および、当該欠陥の特徴量、を対応させた欠陥情報を生成し、
前記レビュー装置は、前記欠陥情報に含まれている欠陥のうちから選択された欠陥について、選択された欠陥の種別を特定するレビュー結果情報を生成し、
前記解析装置は、
解析を行う欠陥の種別の入力を受け付ける処理と、
前記レビュー装置から取得した前記レビュー結果情報に含まれる欠陥であって、入力された前記欠陥の種別に対応する欠陥の特徴量を前記欠陥情報から取得し、取得した当該特徴量から基準値を前記検査レシピ毎に算出する処理と、
前記欠陥検査装置から取得した前記欠陥情報に含まれている全ての欠陥につき、前記基準値からの距離を前記検査レシピ毎に算出する処理と、
前記基準値からの距離が、予め定められたしきい値以下の個数を前記検査レシピ毎に集計する処理と、
を行う処理部を備えること、
を特徴とする解析システム。 - 請求項13に記載の解析システムであって、
前記制御部は、前記基準値からの距離が、予め定められたしきい値以下の個数が最も多い検査レシピを、入力された前記欠陥の種別を検出するのに適したものと判定すること、
を特徴とする解析システム。 - 請求項13に記載の解析システムであって、
前記制御部は、前記基準値からの距離が、予め定められたしきい値以下の個数が最も少ない検査レシピを、入力された前記欠陥の種別を検出しないのに適したものと判定すること、
を特徴とする解析システム。 - 請求項13に記載の解析システムであって、
前記基準値は、前記特徴量の平均値および標準偏差であり、
前記距離は、マハラノビス距離又はユークリッド距離であること、
を特徴とする解析システム。 - 検査レシピ毎に、基板における欠陥の位置、および、当該欠陥の特徴量、を対応させた欠陥情報と、前記欠陥情報に含まれている欠陥のうちから選択された欠陥について、選択された欠陥の種別を特定するレビュー結果情報と、を記憶する記憶部と、
制御部と、
を備える解析装置において、欠陥検査装置に設定する複数の検査レシピを解析する解析方法であって、
前記制御部が、解析を行う欠陥の種別の入力を受け付ける処理を行う過程と、
前記制御部が、前記レビュー結果情報に含まれる欠陥であって、入力された前記欠陥の種別に対応する欠陥の特徴量を前記欠陥情報から取得し、取得した当該特徴量から基準値を前記検査レシピ毎に算出する処理を行う過程と、
前記制御部が、前記欠陥情報に含まれている全ての欠陥につき、前記基準値からの距離を前記検査レシピ毎に算出する処理を行う過程と、
前記基準値からの距離が、予め定められたしきい値以下の個数を前記検査レシピ毎に集計する処理を行う過程と、
を行うこと、を特徴とする解析方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007067849A JP5002291B2 (ja) | 2007-03-16 | 2007-03-16 | 解析装置、プログラム、欠陥検査装置、レビュー装置、解析システム及び解析方法 |
| TW097106828A TWI411774B (zh) | 2007-03-16 | 2008-02-27 | 解析裝置、程式、缺陷檢測裝置、評估裝置、解析系統及解析方法 |
| US12/039,255 US8290241B2 (en) | 2007-03-16 | 2008-02-28 | Analyzing apparatus, program, defect inspection apparatus, defect review apparatus, analysis system, and analysis method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007067849A JP5002291B2 (ja) | 2007-03-16 | 2007-03-16 | 解析装置、プログラム、欠陥検査装置、レビュー装置、解析システム及び解析方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008224638A JP2008224638A (ja) | 2008-09-25 |
| JP2008224638A5 JP2008224638A5 (ja) | 2009-09-17 |
| JP5002291B2 true JP5002291B2 (ja) | 2012-08-15 |
Family
ID=39762744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007067849A Active JP5002291B2 (ja) | 2007-03-16 | 2007-03-16 | 解析装置、プログラム、欠陥検査装置、レビュー装置、解析システム及び解析方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8290241B2 (ja) |
| JP (1) | JP5002291B2 (ja) |
| TW (1) | TWI411774B (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4629118B2 (ja) * | 2008-03-03 | 2011-02-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査装置およびこの欠陥検査装置に用いるパラメータ調整方法。 |
| JP2009272497A (ja) * | 2008-05-08 | 2009-11-19 | Hitachi High-Technologies Corp | レシピパラメータ管理装置およびレシピパラメータ管理方法 |
| JP5145116B2 (ja) * | 2008-05-21 | 2013-02-13 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 表面欠陥データ表示管理装置および表面欠陥データ表示管理方法 |
| JP5287178B2 (ja) * | 2008-11-27 | 2013-09-11 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 欠陥レビュー装置 |
| US9418413B1 (en) * | 2009-07-06 | 2016-08-16 | Camtek Ltd. | System and a method for automatic recipe validation and selection |
| TWI497623B (zh) * | 2009-07-06 | 2015-08-21 | Camtek Ltd | 用於自動秘方驗證及選擇之系統及方法 |
| US8224623B2 (en) * | 2010-04-09 | 2012-07-17 | Delphi Technologies, Inc. | Method to determine a quality acceptance criterion using force signatures |
| JP5783953B2 (ja) * | 2012-05-30 | 2015-09-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン評価装置およびパターン評価方法 |
| JP6985210B2 (ja) * | 2018-05-29 | 2021-12-22 | 株式会社 日立産業制御ソリューションズ | 検査機能診断装置、検査機能診断方法及び検査機能診断プログラム |
| IL269566B (en) | 2019-09-23 | 2021-04-29 | Elbit Systems Electro Optics Elop Ltd | Systems and methods for controlling light emission towards objects |
| JP7408516B2 (ja) * | 2020-09-09 | 2024-01-05 | 株式会社東芝 | 欠陥管理装置、方法およびプログラム |
| US11846979B1 (en) * | 2022-06-01 | 2023-12-19 | Sas Institute, Inc. | Anomaly detection and diagnostics based on multivariate analysis |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07201946A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Hitachi Ltd | 半導体装置等の製造方法及びその装置並びに検査方法及びその装置 |
| JP4077951B2 (ja) * | 1998-01-14 | 2008-04-23 | 株式会社ルネサステクノロジ | 欠陥解析方法、記録媒体及び工程管理方法 |
| US6177287B1 (en) * | 1998-09-28 | 2001-01-23 | Advanced Micro Devices, Inc. | Simplified inter database communication system |
| US6476913B1 (en) * | 1998-11-30 | 2002-11-05 | Hitachi, Ltd. | Inspection method, apparatus and system for circuit pattern |
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| JP3784603B2 (ja) * | 2000-03-02 | 2006-06-14 | 株式会社日立製作所 | 検査方法及びその装置並びに検査装置における検査条件設定方法 |
| US6959251B2 (en) * | 2002-08-23 | 2005-10-25 | Kla-Tencor Technologies, Corporation | Inspection system setup techniques |
| JP2004177139A (ja) * | 2002-11-25 | 2004-06-24 | Renesas Technology Corp | 検査条件データ作成支援プログラム及び検査装置及び検査条件データ作成方法 |
| JP4230838B2 (ja) * | 2003-06-27 | 2009-02-25 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査装置における検査レシピ設定方法および欠陥検査方法 |
| JP4599980B2 (ja) * | 2003-10-15 | 2010-12-15 | パナソニック株式会社 | 多層配線構造の不良解析方法および不良解析装置 |
| JP4374303B2 (ja) * | 2004-09-29 | 2009-12-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査方法及びその装置 |
| JP4750444B2 (ja) * | 2005-03-24 | 2011-08-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 外観検査方法及びその装置 |
| JP2006310551A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査支援システム、及び方法 |
| JP4652917B2 (ja) * | 2005-07-07 | 2011-03-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥データ処理方法、およびデータの処理装置 |
-
2007
- 2007-03-16 JP JP2007067849A patent/JP5002291B2/ja active Active
-
2008
- 2008-02-27 TW TW097106828A patent/TWI411774B/zh active
- 2008-02-28 US US12/039,255 patent/US8290241B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2008224638A (ja) | 2008-09-25 |
| US20080226153A1 (en) | 2008-09-18 |
| TW200907336A (en) | 2009-02-16 |
| US8290241B2 (en) | 2012-10-16 |
| TWI411774B (zh) | 2013-10-11 |
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