JP5076295B2 - 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 - Google Patents

Description

本発明は、膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置に関するものである。

近年、有機蛍光材料等の機能性材料をインク化し、該インク（機能液）を基体上に吐出する液滴吐出法により、機能性材料のパターニングを行う方法を採用して、一対の電極間に該機能性材料からなる機能層が挟持された構成の有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、有機ＥＬ装置という）、特に機能性材料として有機発光材料を用いた有機ＥＬ装置の開発が行われている（例えば特許文献１〜４を参照）。

上述した機能性材料のパターニング法として、基体上に形成したＩＴＯ等からなる画素電極の周囲にバンクと呼ばれる隔壁を形成し、次に画素電極及びこの画素電極に隣接する前記バンクの一部を親液性に処理するとともにバンクの残りの部分を撥液性に処理した後、機能層の構成材料を含むインクを画素電極に吐出して乾燥することにより、該画素電極上に機能層を形成する方法が採用されている。具体的には、複数のノズルが副走査方向に沿って配列されてなるノズル列を有する液滴吐出ヘッドを用い、この液滴吐出ヘッドを基体に対して主走査方向に走査しつつ、前記ノズルからインクを吐出することにより、画素電極上に機能層を形成する方法が知られている。このような方法は、マイクロオーダーの液滴を画素領域に配することが可能なため、材料の利用効率を考えると、スピンコートなどの方法に比べて有効である。

しかしながら、画素電極が配された表示領域（有効領域）のうち周辺部では、インクから蒸発する溶媒蒸気の分圧が該表示領域の中央部よりも少なくなる場合がある。このような現象が生じると、周辺部において溶媒の蒸発速度が極端に速くなり、その結果、製造される有機ＥＬ装置において機能層の膜厚むらや１画素内での膜の偏り（膜の断面形状が斜めに傾いた状態）が生じる惧れがある。このような膜厚むらが生じた有機ＥＬ装置は、その特性が低下し、これを表示装置等として用いた場合には、表示むらを生じることもある。そこで、これを解決するために、例えば特許文献５のような技術が開示されている。
特開平１１−５４２７０号公報 特開２００１−２９１５８７号公報 特開２００４−３１３６０号公報 特開２００４−１２７８９７号公報 特開２００２−２２２６９５号公報

上記特許文献５に開示された技術は、表示領域の外側に表示に寄与しないダミー領域（非有効領域）を形成し、該ダミー領域にも機能層と同一のインクを塗布することで、表示領域内における溶媒蒸気の分圧のばらつきを小さくするものである。通常は、ダミー領域に表示領域と同様のパターンのバンクを形成し、該バンクの開口部にインクを塗布するものとしている。この方法によれば、表示領域の中央部と周辺部で溶媒の乾燥が等しく進行するので、機能層の膜厚むらや膜の偏りのない高品質な膜を形成することが可能となる。

ダミー領域に吐出されるインクは表示用の画素を形成するものではないので、表示領域に形成される画素（有効画素）と区別して、ダミー画素と呼ばれることがある。上記のような膜厚むらの発生を防止するためには、少なくとも数列から数十列分のダミー画素を形成する必要があるが、従来は全てのダミー画素を有効画素と同じピッチ、同じパターンで形成していたため、インクを表示領域と同様に塗布するのみでは、必ずしも十分な膜厚むらの解消には至らない場合があった。つまり、基体に吐出されたインクの乾燥は同心円状に周辺から進行するため、例えば矩形に設けられた表示領域の角部では、それ以外の部分よりも溶媒の乾燥が速くなる場合があり、これにより膜厚むらの発生を十分に回避できない場合があった。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、基板面内で均一な膜厚のパターンを形成することが可能な膜パターンの形成方法及びデバイスの製造方法を提供することを目的とする。また、このような方法により形成された均一な膜パターンを備えた有機ＥＬ装置を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するため、本発明の膜パターンの形成方法は、機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液から溶媒を除去することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを形成する方法であって、前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域、及び前記有効領域の周囲の非有効領域に、液体受容部を形成する工程と、前記有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液を配置する工程と、前記非有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液又は溶媒を配置する工程とを有し、前記非有効領域における前記液体受容部の配置密度を、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくすることを特徴とする。
この方法によれば、非有効領域における液体受容部の配置密度を有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくしているので、配置した機能液から蒸発する溶媒の分圧の低くなり易い有効領域の角部等においても溶媒の分圧が急激に低下することがなく、有効領域全体で蒸発した溶媒分子の分圧を均一化することが可能である。溶媒蒸気の分圧は、配置された溶媒の表面積に依存し、配置された溶媒の表面積が大きいほど蒸発した溶媒分子の分圧は大きくなる。本発明においては、配置する溶媒の表面積を液体受容部の配置密度によって調節し、これにより有効領域内で溶媒の分圧に偏りが生じないようにしているので、有効領域全体で機能液から溶媒が蒸発する速度、すなわち乾燥速度が均一になり、膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜を形成することができる。特に膜厚むらや膜の偏りなどが発生し易い有効領域の角部等においても、均一で高品質な膜を形成することが可能となる。

本発明においては、前記非有効領域における前記液体受容部の配置密度を、前記有効領域の中心部からの距離に応じて３段階以上で変化させるものとすることができる。
この方法によれば、より乾燥むらの少ない膜パターンを形成することができる。また、液滴吐出法で機能液を吐出する場合には、液体受容部の配置密度を複数段階で変化させる方が連続的に変化させる場合に比べて吐出が容易になる。すなわち、マルチヘッドの液滴吐出装置では、液滴吐出ノズルを回転させることによって機能液の吐出ピッチを変えるが、液体受容部の配置密度を連続的に変化させた場合には、この吐出ピッチの変化も連続的に変化させなければならず、操作が複雑になる。一方、配置密度を３段階、４段階…のように段階的に変化させた場合には、吐出ピッチの変化も３段階、４段階…で変化させればよいので、操作が容易であり効率的に吐出を行うことができる。また、吐出ミスによる不良も防止することができる。

本発明においては、前記非有効領域における前記液体受容部の配置密度を、矩形に設けられた前記有効領域の角部において最も大きくするものとすることができる。
この方法によれば、従来最も問題となっていた有効領域の角部近傍における膜厚むらや膜の偏りなどの不均一性を解消し、有効領域全体にわたって均一な膜を形成することができる。

本発明においては、前記液体受容部を、隔壁によって区画された領域として形成するものとすることができる。
この方法によれば、隔壁によって膜パターンの形状が規定されることから、例えば隣接する隔壁間の幅を狭くするなど、隔壁を適切に形成することにより、膜パターンの微細化や細線化を図ることができる。

本発明においては、前記有効領域における前記液体受容部のサイズと前記非有効領域における前記液体受容部のサイズとを概ね同じサイズで形成するものとすることができる。
この方法によれば、非有効領域への機能液又は溶媒の配置を有効領域に配置する場合と同じ条件で行なうことができる。

本発明においては、前記非有効領域における前記液体受容部を、前記有効領域の外周に沿って少なくとも２列以上形成するものとすることができる。
この方法によれば、より確実に乾燥むらを防止することができる。

本発明においては、前記機能液又は前記溶媒の配置を液滴吐出法により行なうものとすることができる。
この方法によれば、液滴吐出法を用いることにより、スピンコート法などの他の塗布技術に比べて、液体材料の消費に無駄が少なく、基体上に配置する液体材料の量や位置の制御を行ないやすい。

本発明のデバイスの製造方法は、膜パターンを有するデバイスの製造方法であって、前記膜パターンの形成工程が、前述した本発明の膜パターンの形成方法により行なわれることを特徴とする。
この方法によれば、有効領域全体にわたって均一な膜を有する高性能なデバイスを提供することができる。
本発明のデバイスとしては、例えば、有機エレクトロルミネッセンス装置やカラーフィルタ基板等があり、これら有機エレクトロルミネッセンス装置の有機機能層（発光層、電荷輸送層等）や画素電極のパターン、又はカラーフィルタ基板のカラーフィルタパターンの形成工程等に、本発明の膜パターンの形成方法を好適に適用することができる。

本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、隔壁によって区画された有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が設けられた有効領域と、前記有効領域の周囲の非有効領域に設けられた液体受容部とを有し、前記非有効領域における前記液体受容部の配置密度が、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きいことを特徴とする。
この構成によれば、有効領域の液体受容部に有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層等を液体プロセスで形成する場合に、非有効領域の液体受容部にダミーの溶媒を塗布しておけば、該発光層等において膜厚むらが発生することを防止ないし抑制することができる。つまり、非有効領域の液体受容部にダミーの溶媒を塗布しておくことで、有効領域において蒸発する溶媒分子の分圧が該有効領域の中央部と周辺部とで略同一となり、その結果、有効領域全体で発光層等の膜厚を均一化することができるようになるのである。
特に、本発明では、前記液体受容部の配置密度を前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくしているので、有効領域全体で蒸発した溶媒の分圧を均一化することができ、発光層等の膜厚むらや膜の偏りなどがない高性能且つ信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス装置を提供することができる。

［第１の実施の形態］
図１は、本発明の膜パターンの形成方法を示す概念図である。
本発明の膜パターンの形成方法は、基体Ｐ上に機能性材料を含む機能液を配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記基体Ｐ上に前記機能性材料からなる膜パターンを形成するものである。膜パターンが形成される領域のうち、膜本来の機能が有効に発揮される一群の膜パターンによって構成される領域を有効領域Ｔ_Ｅといい、膜パターンは形成されるが、膜本来の機能を発揮しない一群の膜パターンによって構成される領域を非有効領域Ｔ_Ｄという。ただし、非有効領域Ｔ_Ｄには必ずしも膜パターンが形成される必要はなく、機能性材料を含まない溶媒のみを配置する領域、又は溶媒のみを配置する領域とダミーの膜パターンを形成する領域との双方を含む領域を非有効領域という場合もある。本発明では、これらを総称して非有効領域という。

例えば、有機ＥＬ表示装置等の表示装置においては、有効領域Ｔ_Ｅとは、表示に用いられる一群の画素によって構成される１つのまとまった領域をいい、液晶表示装置等に使用されるカラーフィルタ基板においては、有効領域Ｔ_Ｅとは、表示に用いられる一群のカラーフィルタによって構成される１つのまとまった領域をいう。また、複数の電極や配線が形成される基板にあっては、当該複数の電極や当該複数の配線によって構成される１つのまとまった領域をいう。本発明の膜パターンの形成方法は、このような有効領域Ｔ_Ｅに前記機能液を選択的に配置することにより、所望の形状及び機能を有する一群の膜パターンを形成するものである。

図１では、有効領域Ｔ_Ｅを例えば複数の表示用の画素（有効画素）Ｐ_Ｅからなる有効光学領域とし、この有効光学領域Ｔ_Ｅの複数の有効画素Ｐ_Ｅに対して、それぞれ機能性材料を含む機能液を液滴吐出法により選択的に吐出する例を示している。

図１において、符号ＩＪは液滴吐出装置、符号２０は当該液滴吐出装置に備えられる液滴吐出ヘッド、符号８１は当該液滴吐出ヘッドに設けられたノズルをそれぞれ示している。図１では、ノズル８１の配列方向Ｊは有効画素Ｐ_Ｅの配列方向Ｘに対して傾いた状態とされているが、配列方向Ｊにおけるノズル８１の配列ピッチ（隣り合うノズル８１の中心の間隔）がＸ方向における有効画素Ｐ_Ｅの配列ピッチ（隣り合う有効画素Ｐ_Ｅの中心の間隔）と同じであれば、配列方向Ｊは有効画素Ｐ_Ｅの配列方向Ｘと一致した方向に設定される。液滴吐出ヘッド２０は、有効光学領域Ｔ_Ｅと平行な面内において角度θを回転可能に構成されており、ノズル８１のＸ方向における配列ピッチ（すなわち、ノズル８１をＸ軸に投影したときのノズル８１の配列ピッチ）と有効画素Ｐ_ＥのＸ方向における配列ピッチとが一致するように、ノズル８１の配列方向Ｊが制御される。そして、このような配列方向Ｊを規定した状態で、液滴吐出ヘッド２０と基体ＰとをＸ方向又はＹ方向に相対移動できるように構成されている。

なお、本実施形態に係る液滴吐出装置ＩＪに備えられた液滴吐出ヘッド２０は、圧電体素子に体積変化を生じさせて液滴を吐出させる構成であるが、発熱体により液体材料に熱を加えその膨張によって液滴を吐出させるような構成であってもよい。

図２は、有効光学領域Ｔ_Ｅを含む基体Ｐの平面構成を示す模式図であり、図２（ａ）は有効光学領域Ｔ_Ｅの周辺部の構成を示す模式図、図２（ｂ）はその周辺部のうち有効光学領域Ｔ_Ｅの角部の領域Ｋを拡大して示す模式図である。

図２に示すように、本発明の膜パターンの形成方法では、有効光学領域（有効領域）Ｔ_Ｅの周囲に、非有効領域であるダミー領域Ｔ_Ｄを形成し、このダミー領域Ｔ_Ｄにダミーの液体材料を吐出することにより、有効光学領域Ｔ_Ｅの周囲にも有効光学領域Ｔ_Ｅと同じ溶媒雰囲気を形成する。ダミーの液体材料としては、通常は、有効光学領域Ｔ_Ｅに吐出するのと同じ機能液を吐出するが、溶媒のみを吐出することも可能である。この場合の溶媒としては、該機能液に含まれる溶媒や、該機能液に含まれる溶媒に近い沸点を有する他の溶媒を用いることができる。

ダミー領域Ｔ_Ｄは、有効光学領域Ｔ_Ｅの周囲を囲むように設けられている。ダミー領域Ｔ_Ｄには、液体材料を配置するための複数の領域Ｐ_Ｄが設けられている。これらの領域Ｐ_Ｄは、有効光学領域Ｔ_Ｅに形成される有効画素Ｐ_Ｅに対して、ダミー画素と呼ばれる場合がある。ダミー画素Ｐ_Ｄは、表示に寄与しない画素であり、通常は画素電極やスイッチング素子は形成されないが、専ら検査を行なうために画素電極やスイッチング素子を形成し、有効画素Ｐ_Ｅに準じた機能を持たせる場合もある。

液滴吐出法においては、吐出された液滴を精度良く所定の画素に配置するために、画素と画素との間に、画素を仕切るための隔壁（バンク）を形成する場合がある。この場合には、隔壁によって区画された個々の領域が、液体材料を配置するための領域Ｐ_Ｄ、すなわち液体受容部であり、これら複数の液体受容部のうち、有効光学領域Ｔ_Ｅに配置された液体受容部が有効画素Ｐ_Ｅとなり、ダミー領域Ｔ_Ｄに配置された液体受容部がダミー画素Ｐ_Ｄとなる。

また、隔壁を形成せずに、基体Ｐを表面処理するのみで、液体材料の配置される領域と配置されない領域とを区画する場合もある。すなわち、基体Ｐの特定の領域に機能液に対して親和性（親液性）が低くなるような処理（撥液処理）を施し、有効画素Ｐ_Ｅ及びダミー画素Ｐ_Ｄとなる領域を機能液に対して相対的に親和性の高い領域（親液領域）とする場合がある。この場合には、親液領域として形成された個々の領域が液体受容部となる。さらに、配置精度が要求されない場合には、上述のような表面処理を行なわずに、そのまま基体Ｐ上に液体材料を吐出する場合もあり、この場合には、液体材料の塗膜が形成される個々の領域が液体受容部となる。

本実施形態では、隔壁Ｂを形成することによって、有効画素Ｐ_Ｅ及びダミー画素Ｐ_Ｄを区画するものとする。この場合、隔壁Ｂによって膜パターンの形状が規定されることから、例えば隣接する隔壁Ｂ、Ｂ間の幅を狭くするなど、隔壁Ｂを適切に形成することにより、膜パターンの微細化や細線化が図られる。特に、隔壁Ｂの表面に撥液処理を施した場合には、隔壁Ｂの開口部にのみ確実に液滴を配置することが可能になる。

図２（ｂ）に示すように、本発明においては、ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度（すなわち、Ｘ方向又はＹ方向における配列ピッチ）が、有効光学領域Ｔ_Ｅの中心部Ｃから遠い領域ほど大きくなるように構成されている。例えば図２では、ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度は中心部Ｃからの距離に応じて３段階に分かれており、中心部Ｃから最も近い有効光学領域Ｔ_Ｅの縁辺中央部の領域Ｔ１では最も配置密度が小さく、中心部Ｃから最も遠い有効光学領域Ｔ_Ｅの角部の領域Ｔ３では最も配置密度が大きくなっており、さらに、それらの中間の領域Ｔ２では、それらの中間の配置密度となっている。最も配置密度が小さい領域Ｔ１におけるダミー画素Ｐ_ＤのＸ方向及びＹ方向の配列ピッチ（隣り合うダミー画素Ｐ_Ｄの中心の間隔）は、有効光学領域Ｔ_Ｅにおける有効画素Ｐ_ＥのＸ方向及びＹ方向の配列ピッチと同じである。なお、各領域Ｔ１〜Ｔ３におけるダミー画素Ｐ_Ｄの形状及びサイズ（すなわち、隔壁Ｂの開口部の形状及び面積）は、有効光学領域Ｔ_Ｅにおける有効画素Ｐ_Ｅのサイズと同じである。

基体Ｐに吐出された機能液の乾燥は同心円状に有効光学領域Ｔ_Ｅの周辺から進行するため、矩形に設けられた有効光学領域Ｔ_Ｅの角部Ｔ３又はその近傍Ｔ２では、それ以外の部分よりも溶媒の乾燥が速くなる場合がある。このため、従来のように単にダミー領域を設けるのみでは膜厚むらの発生を十分に回避できない場合があったが、本発明では、ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度を有効光学領域Ｔ_Ｅの中心部Ｃから遠い領域ほど大きくしているので、乾燥が速く進む有効光学領域Ｔ_Ｅの角部においても溶媒蒸気の分圧が急激に低下することがなく、有効光学領域全体で蒸発した溶媒蒸気の分圧を均一化することが可能である。すなわち、溶媒蒸気の分圧は、吐出された溶媒の表面積に依存し、表面積が大きいほど蒸発した溶媒蒸気の分圧は大きくなるが、本発明では、溶媒の表面積をダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度によって調節し、これにより有効光学領域Ｔ_Ｅ内で溶媒蒸気の分圧に偏りが生じないようにしているので、有効光学領域全体で乾燥速度が均一になり、膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜を形成することができる。

ダミー領域Ｔ_Ｄに占める領域Ｔ１〜Ｔ３の割合や、領域Ｔ１〜Ｔ３におけるダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度は、これらの領域Ｔ１〜Ｔ３における機能液の乾燥速度に基づいて定められる。例えば、有効光学領域Ｔ_Ｅの中心部、有効光学領域Ｔ_Ｅの縁辺中央部及び有効光学領域Ｔ_Ｅの角部において乾燥時間を測定しておき、それらの部分における乾燥時間の差が十分に小さくなるように、各領域Ｔ１〜Ｔ３のダミー画素Ｐ_Ｄの密度に分布を持たせるようにする。この場合、乾燥時間は、使用する溶媒や機能液の粘度等によって変わるので、ダミー画素Ｐ_Ｄの密度分布を定める場合には、これらの要素も十分に考慮するものとする。

次に、図３を用いて、本発明の膜パターンの形成方法を説明する。
まず、図３（ａ）に示すように、基体Ｐの有効光学領域Ｔ_Ｅ及びダミー領域Ｔ_Ｄ（Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３）に隔壁Ｂを形成する。
基体Ｐとしては、ガラス、石英ガラス、Ｓｉウエハ、プラスチックフィルム、金属板など各種のものが挙げられる。さらに、これら各種の素材基板の表面に半導体膜、金属膜、誘電体膜、有機膜などが下地層として形成されたものも含む。

隔壁Ｂの形成は、フォトリソグラフィ法や印刷法等、任意の方法で行うことができる。例えば、スピンコート法等により基体Ｐ全体に隔壁の材料を形成し、これをフォトリソグラフィ技術によりパターニングすることにより、単層の隔壁を形成することができる。また、図３（ａ）に示すように、下層Ｂ１が無機物層、上層Ｂ２が有機物層とされた２層以上で隔壁Ｂを形成してもよい。この場合、ダミー画素Ｐ_Ｄでは、下層Ｂ１のパターニングを行なってもよいし、図３（ａ）に示すように下層Ｂ１のパターニングを行なわない構成としてもよい。パターニングを行なわない場合は、上層Ｂ２よって区画された領域がダミー画素Ｐ_Ｄとなる。なお、隔壁Ｂの材料は、耐熱性、撥液性、溶剤耐性、下地基板との密着性に優れたものであれば、特に限定されない。

隔壁Ｂには、必要に応じて、撥液処理や親液処理が施される。
親液処理としては、酸素を処理ガスとしたプラズマ処理（Ｏ_２プラズマ処理等）や、酸素雰囲気中での紫外線照射処理等を用いることができる。
撥液処理としては、ＣＦ_４、ＳＦ_６、ＣＨＦ_３等のフッ素成分を有するガス（フッ素含有ガス）を用いたプラズマ処理を用いることができる。撥液処理に代えて、隔壁Ｂの素材自体（例えば有機物層Ｂ２の形成材料）に予めフッ素基等の撥液成分を充填しておいてもよい。隔壁Ｂの表面を撥液化することにより、隔壁Ｂの開口部にのみ膜を形成し、隔壁Ｂの上面に不要な膜が形成されるのを防ぐことができる。

隔壁Ｂにより形成される開口部は、有効画素Ｐ_Ｅ及びダミー画素Ｐ_Ｄのパターンに対応している。ダミー画素Ｐ_Ｄに対応する開口部は、有効光学領域Ｔ_Ｅの中心部から遠い領域ほど高い密度で形成する。特に、有効光学領域Ｔ_Ｅの角部の領域Ｔ３（図２参照）において最も密度が大きくなるようにする。図２では、ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度を３段階で変化させたが、２段階又は４段階以上で変化させることも可能である。

隔壁Ｂを形成したら、図３（ｂ）に示すように、隔壁Ｂによって区画された領域Ｐ_Ｅ，Ｐ_Ｄに機能液Ｌを吐出する。機能液Ｌは、膜パターンＦを構成する材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる液体材料である。

膜パターンＦを構成する材料としては、電気的機能や光学的機能等の種々の機能を持った材料（機能性材料）を用いることができる。例えば、有機ＥＬ素子の発光層を形成する場合には、機能性材料として蛍光あるいはリン光を有する材料を用いればよく、カラーフィルタを形成する場合には、顔料等の微粒子着色材料を用いればよい。また、液晶装置等の透明画素電極を形成する場合には、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）等の微粒子導電材料を用いればよい。

溶媒としては、上記の機能性材料を溶解ないし分散できるもので、凝集を起こさないものであれば特に限定されない。例えば、水、アルコール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好適である。

機能液Ｌの吐出には、前述した液滴吐出装置ＩＪを用いる。
ダミー画素Ｐ_Ｄのサイズは有効画素Ｐ_Ｅのサイズと同じとされているため、ダミー画素Ｐ_Ｄに吐出する液滴の量は、有効画素Ｐ_Ｅに吐出する液滴の量と同一とすることができる。ただし、有効光学領域Ｔ_Ｅの中心部Ｃから遠い領域では、液滴の乾燥時間も短くなるため、当該領域において十分な持続時間を確保したい場合には、その乾燥時間に応じて、吐出する液滴の量を変えることも可能である。液滴の配置量は、例えば液滴のショット数を変えることによって調節することができる。

本発明の膜パターンの形成方法では、ダミー画素Ｐ_Ｄのピッチが場所によって異なるように形成されているため、液滴吐出ヘッド２０からの機能液Ｌの吐出も、ダミー画素Ｐ_Ｄのピッチに合わせた状態で行なう必要がある。

図４は、液滴吐出ヘッド２０を用いて１回の走査で３つの画素に対して機能液Ｌを吐出する工程を示す平面図である。図４（ａ）は、有効光学領域Ｔ_Ｅの有効画素Ｐ_Ｅに対して機能液Ｌを吐出する工程を示す図であり、図４（ｂ）は、ダミー領域Ｔ２又はＴ３のダミー画素Ｐ_Ｄに対して機能液Ｌを吐出する工程を示す図である。

図４（ａ）に示すように、有効画素Ｐ_Ｅは相互の間隔が比較的広く形成されているため、液滴吐出ヘッド２０のノズル８１の配列方向Ｊと有効画素Ｐ_Ｅの配列方向Ｘとを概ね一致させた状態で走査することができる。一方、図４（ｂ）に示すように、ダミー領域Ｔ２又はＴ３に設けられるダミー画素Ｐ_Ｄは相互の間隔が有効画素Ｐ_Ｅに比べて相対的に狭く形成されているので、ノズル８１の配列方向Ｊを有効画素Ｐ_Ｅの配列方向Ｘに対して傾けた状態で走査する必要がある。すなわち、液滴吐出ヘッド２０を基体Ｐ上で走査させる場合には、有効光学領域Ｔ_Ｅ又はダミー領域Ｔ１からダミー領域Ｔ２又はダミー領域Ｔ３に移動する際に、液滴吐出ヘッド２０の配列方向Ｊを回転させる必要がある。

機能液Ｌを吐出したら、図３（ｃ）に示すように、機能液Ｌの溶媒を乾燥により除去し、有効画素Ｐ_Ｅに前記機能性材料からなる膜パターンＦを形成する。

前述のように、本発明では、有効光学領域Ｔ_Ｅの周囲にダミーの液体材料を吐出しているので、機能液Ｌを乾燥するときに、有効光学領域Ｔ_Ｅにおける蒸発溶媒蒸気の分圧が、ダミー領域Ｔ_Ｄにおける蒸発溶媒蒸気の分圧に比して過剰に大きくなることはない。特に、ダミー領域Ｔ_Ｄに配置される単位面積当たりの機能液Ｌの量（特に表面積）が、有効光学領域Ｔ_Ｅの中心部から遠い領域ほど大きくなっているので、有効光学領域Ｔ_Ｅにおいて蒸発する溶媒蒸気の分圧が該有効光学領域Ｔ_Ｅの中央部と周辺部とで略同一となり、その結果、有効光学領域全体で膜パターンＦの膜厚が均一化されるようになる。

［第２の実施の形態］
次に、本発明のデバイスの製造方法の一実施の形態として、本発明の膜パターンの形成方法を有機ＥＬ装置の製造方法に適用した例について説明する。この有機ＥＬ装置は、有機ＥＬ素子を画素として基体上に配列してなる有機ＥＬ装置であり、例えば電子機器等の表示手段として好適に用いることができるものである。

図５は、有機ＥＬ装置７０の回路構成図、図６は、同有機ＥＬ装置７０の平面模式図である。また図７は、同有機ＥＬ装置７０に備えられた各画素Ｐ_Ｅの平面構造を示す図であって、（ａ）は画素Ｐ_Ｅのうち、主にＴＦＴ等の画素駆動部分を示す図、（ｂ）は画素間を区画するバンク（隔壁）Ｂ等を示す図である。また図８は、図７（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面構成を示す図である。

図５に示すように、有機ＥＬ装置７０は、ガラス等からなる基体上に、複数の走査線（配線、電力導通部）１３１と、これら走査線１３１に対して交差する方向に延びる複数の信号線（配線、電力導通部）１３２と、これら信号線１３２に並列に延びる複数の共通給電線（配線、電力導通部）１３３とがそれぞれ配線されたもので、走査線１３１及び信号線１３２の各交点毎に、画素Ｐ_Ｅが設けられて構成されたものである。

信号線１３２に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、及びアナログスイッチ等を備えるデータ側駆動回路７２が設けられている。一方、走査線１３１に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフタ等を備える走査側駆動回路７３が設けられている。また、画素Ｐ_Ｅの各々には、走査線１３１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１４２と、このスイッチング用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１４２を介して信号線１３２から供給される画像信号（電力）を保持する保持容量ｃａｐと、保持容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ１４３と、この駆動用ＴＦＴ１４３を介して共通給電線１３３に電気的に接続したときに共通給電線１３３から駆動電流が流れ込む画素電極１４１と、この画素電極１４１と共通電極１５４との間に挟み込まれる発光部１４０と、が設けられている。そして、前記画素電極（第１電極）１４１と共通電極（第２電極）１５４と、有機機能層からなる発光部１４０とによって構成される素子が、有機ＥＬ素子である。

このような構成のもとに、走査線１３１が駆動されてスイッチング用ＴＦＴ１４２がオンとなると、そのときの信号線１３２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐの状態に応じて、駆動用ＴＦＴ１４３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用ＴＦＴ１４３のチャネルを介して共通給電線１３３から画素電極１４１に電流が流れ、さらに発光部１４０を通じて共通電極１５４に電流が流れることにより、発光部１４０は、これを流れる電流量に応じて発光するようになる。

次に、平面構造を見ると、図６に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置７０は、基体Ｐの中央部に、マトリックス状に配置された有機ＥＬ素子２００を具備している。

基体Ｐは、例えばガラス等の透明基板であり、基体Ｐの中央に位置し、有機ＥＬ素子２００が機能する有効光学領域（有効領域）Ｔ_Ｅと、基体Ｐの周縁に位置して有効光学領域Ｔ_Ｅの外周に配置され、有機ＥＬ素子２００が機能しないダミー領域（非有効領域）Ｔ_Ｄとに区画されている。有効光学領域Ｔ_Ｅは、マトリックス状に配置された有機ＥＬ素子２００によって形成される領域であり、有効表示領域とも言う。また、ダミー領域Ｔ_Ｄは、有効光学領域Ｔ_Ｅに隣接して形成され、表示に寄与しない領域として構成されている。有効光学領域Ｔ_Ｅ及びダミー領域Ｔ_Ｄには、有効画素及びダミー画素を区画するバンクＢ（図７参照）が形成されており、バンクＢによって区画される領域が、機能液を配置するための液体受容部を構成し、この液体受容部に機能液を配置することにより、後述の有機ＥＬ素子の有機機能層が形成される。すなわち、バンクＢによって区画された領域が画素であり、有効光学領域Ｔ_Ｅには、個々の画素に有機ＥＬ素子２００が形成されている。

共通電極１５４（図５及び図８参照）は、その一端が基体Ｐ上に形成された図示略の陰極用配線に接続されており、図６に示すように、この配線の一端部１５４ａがフレキシブル基板７５上の配線７７に接続されている。なお、この配線７７は、フレキシブル基板７５上に備えられた駆動ＩＣ７６（駆動回路）に接続されている。

また、図６に示すように、基体Ｐのダミー領域Ｔ_Ｄには、前述の共通給電線１３３（１３３Ｒ、１３３Ｇ、１３３Ｂ）が配線されている。さらに、図６において、有効光学領域Ｔ_Ｅの図示両横側には、前述の走査側駆動回路７３、７３が配置されている。この走査側駆動回路７３、７３はダミー領域Ｔ_Ｄの下側の回路素子部に設けられている。さらに回路素子部には、走査側駆動回路７３、７３に接続される駆動回路用制御信号配線７３ａと駆動回路用電源配線７３ｂとが設けられている。また、図６において、有効光学領域Ｔ_Ｅの図示上側には検査回路７４が配置されている。この検査回路７４により、製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥の検査を行うことができる。

次に、図７（ａ）に示す画素Ｐ_Ｅの平面構造をみると、画素Ｐ_Ｅは、平面視略矩形状の画素電極１４１の四辺が、信号線１３２、共通給電線１３３、走査線１３１及び図示しない他の画素電極用の走査線によって囲まれた配置となっている。また図８に示す画素Ｐ_Ｅの断面構造をみると、基体Ｐ上に、駆動用ＴＦＴ１４３が設けられており、駆動用ＴＦＴ１４３を覆って形成された複数の絶縁膜を介した基体Ｐ上に、有機ＥＬ素子２００が形成されている。有機ＥＬ素子２００は、基体Ｐ上に立設されたバンクＢに囲まれる領域内に設けられた有機機能層１４０を主体として構成され、この有機機能層１４０を、画素電極１４１と共通電極１５４との間に挟持した構成を備える。

ここで、図７（ｂ）に示す平面構造をみると、バンクＢは、画素電極１４１の形成領域に対応した平面視略矩形状の開口部１４９ｂ，１５１を有しており、この開口部１４９ｂ，１５１に先の有機機能層１４０が形成されるようになっている。

図８に示すように、駆動用ＴＦＴ１４３は、半導体膜２１０に形成されたソース領域１４３ａ、ドレイン領域１４３ｂ、及びチャネル領域１４３ｃと、半導体層表面に形成されたゲート絶縁膜２２０を介してチャネル領域１４３ｃに対向するゲート電極１４３Ａとを主体として構成されている。半導体膜２１０及びゲート絶縁膜２２０を覆う第１層間絶縁膜２３０が形成されており、この第１層間絶縁膜２３０を貫通して半導体膜２１０に達するコンタクトホール２３２，２３４内に、それぞれドレイン電極２３６、ソース電極２３８が埋設され、各々の電極はドレイン領域１４３ｂ、ソース領域１４３ａに導電接続されている。第１層間絶縁膜２３０には、第２層間絶縁膜２４０が形成されており、この第２層間絶縁膜２４０に貫設されたコンタクトホールに画素電極１４１の一部が埋設されている。そして画素電極１４１とドレイン電極２３６とが導電接続されることで、駆動用ＴＦＴ１４３と画素電極１４１（有機ＥＬ素子２００）とが電気的に接続されている。画素電極１４１の周縁部に一部乗り上げるようにして無機絶縁材料からなる無機バンク（第１隔壁層）１４９が形成されている。無機バンク１４９上には、有機材料からなる有機バンク（第２隔壁層）１５０が積層され、これら無機バンク１４９及び有機バンク１５０によって、有機ＥＬ装置７１における隔壁部材が形成されている。

上記有機ＥＬ素子２００は、画素電極１４１上に、電荷輸送層としての正孔注入層１４０Ａと、発光層１４０Ｂとを積層し、この発光層１４０Ｂと有機バンク１５０とを覆う共通電極１５４を形成することにより構成されている。正孔注入層１４０Ａは、画素電極１４１を覆って形成されており、その周端部は、有機バンク１５０の下層側に設けられた無機バンク１４９のうち、有機バンク１５０から画素電極１４１中央側に突出して配置された部分も覆って形成されている。

基体Ｐとしては、いわゆるボトムエミッション型の有機ＥＬ装置の場合、基体Ｐ側から光を取り出す構成であるので、ガラス等の透明基板が用いられる。一方、いわゆるトップエミッション型の有機ＥＬ装置の場合には、有機ＥＬ素子２００が配設された側から光を取り出す構成であるので、ガラス等の透明基板のほか、不透明基板も用いることができる。不透明基板としては、例えばアルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、また熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂、さらにはそのフィルム（プラスチックフィルム）などが挙げられる。

画素電極１４１は、基体Ｐを介して光を取り出すボトムエミッション型の場合には、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透光性導電材料により形成されるが、トップエミッション型の場合には透光性である必要はなく、金属材料等の適宜な導電材料によって形成できる。

共通電極１５４は、発光層１４０ＢとバンクＢの上面、さらにはバンクＢの側面部を形成する壁面を覆った状態で基体Ｐ上に形成される。この共通電極１５４を形成するための材料としては、トップエミッション型の場合、透明導電材料が用いられる。透明導電材料としてはＩＴＯが好適であるが、他の透光性導電材料であっても構わない。ボトムエミッション型の場合には、透明導電材料のほか、アルミニウム等の不透明若しくは光反射性を有する導電材料を用いることができる。

共通電極１５４の上層側には、陰極保護層を形成してもよい。係る陰極保護層を設けることで、製造プロセス時に共通電極１５４が腐食されるのを防止する効果が得られ、無機化合物、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン窒酸化物等のシリコン化合物により形成できる。共通電極１５４を無機化合物からなる陰極保護層で覆うことにより、無機酸化物からなる共通電極１５４への酸素等の侵入を良好に防止することができる。なお、このような陰極保護層は、共通電極１５４の平面領域の外側の基体上まで、１０ｎｍから３００ｎｍ程度の厚みに形成される。

［有機ＥＬ装置の製造方法］
次に、有機ＥＬ装置７０の製造方法について図面を参照しながら説明する。本実施形態では、図５から図８に示した構成を備えた有機ＥＬ装置を液体プロセスである液滴吐出法を用いて製造する例について説明する。
なお、以下に示す手順や液体材料の材料構成は一例であってこれに限定されるものではない。また、液滴吐出装置については前述のものを用いることができる。

以下、上記有機ＥＬ装置７０に備えられる有機ＥＬ素子２００の製造方法について図９及び図１０を参照しながら説明する。図９及び図１０には、有効光学領域Ｔ_Ｅとダミー領域Ｔ_Ｄの境界部分が図示されている。

まず、図９（ａ）に示すように、基体Ｐ上に画素電極１４１、該画素電極１４１を駆動するための駆動用ＴＦＴ１４３等を形成する。これらは公知の方法により形成することができる。図９（ａ）では、有効光学領域Ｔ_Ｅのみに画素電極１４１を形成しているが、ダミー領域Ｔ_Ｄに対しても同様の画素電極を形成することができる。この場合、ダミー領域Ｔ_Ｄに形成される画素（ダミー画素）は、検査用の素子として用いることが可能である。

次に、画素電極１４１の周縁部と一部平面的に重なるように、酸化シリコン等の無機絶縁材料からなる無機バンク１４９を形成する。具体的には、画素電極１４１及び平坦化絶縁膜２４０を覆うように酸化シリコン膜を形成した後、公知のフォトリソグラフィ技術を用いて酸化シリコン膜をパターニングし、画素電極１４１の表面を部分的に開口させることで形成できる。図９（ａ）では、無機バンク１４９のパターニングを有効光学領域Ｔ_Ｅのみで行なっているが、ダミー領域Ｔ_Ｄに対しても同様のパターニングを行なうことができる。

次に、図９（ｂ）に示すように、無機バンク１４９上に、アクリル、ポリイミド等の有機絶縁材料からなる有機バンク１５０を形成する。

有機バンク１５０は、無機バンク１４９と共に、有機ＥＬ素子２００を区画するバンク（隔壁）Ｂを形成するものである。すなわち、有効光学領域Ｔ_Ｅにあっては、無機バンク１４９及び有機バンク１５０によって区画された各々の領域が本発明の液体受容部であり、これらの液体受容部がそれぞれ有効画素Ｐ_Ｅとなる。一方、ダミー領域Ｔ_Ｄにあっては、無機バンク１４９がパターニングされていないため、有機バンク１５０によって区画された各々の領域が本発明の液体受容部であり、これらの液体受容部がそれぞれダミー画素Ｐ_Ｄとなる。

ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度（すなわち、図６におけるＸ方向又はＹ方向の配列ピッチ）は、有効光学領域Ｔ_Ｅの中心部Ｃからの距離に応じて異なっており、中心部Ｃに最も近い領域ではダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度は最も小さく、中心部Ｃから遠くなるに従ってダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度は大きくなっている。すなわち、単位面積当たりに配置されるダミーの機能液（特に溶媒）の表面積の大きさが、有効光学領域Ｔ_Ｅの中心部から遠い領域ほど大きくなるように構成されており、これにより、有効光学領域全体で機能液の乾燥が均一に進行するものとされている。

ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度は、有効光学領域Ｔ_Ｅの縁辺中央部から角部に向けて複数段階で変化しているものとされる。すなわち、有効光学領域Ｔ_Ｅの縁辺に沿ってダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度が異なる複数の領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３が設けられており、それぞれの領域においてはダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度は一定であり、このように構成された前記複数の領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３が、ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度が大きいものほど有効光学領域Ｔ_Ｅの中心部から遠い領域に配置されたものとなっている。各領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３におけるダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度や、各領域がダミー領域Ｔ_Ｄ内に占める割合は、有効光学領域内で機能液の乾燥速度が一定となる条件の範囲内で適切に定められる。

有機バンク１５０の高さは、例えば１μｍ〜２μｍ程度に設定され、基体Ｐ上で有機ＥＬ素子２００の仕切部材として機能する。このような構成のもと、有機ＥＬ素子２００の正孔注入層や発光層の形成場所、すなわちこれらの形成材料の塗布位置とその周囲の有機バンク１５０との間に十分な高さの段差からなる開口部１５１が形成される。有機バンク１５０の開口部１５１と無機バンク１４９の開口部１４９ｂとは互いに連通しており、画素電極１４１はこれらの開口部内において露出した状態となっている。

有機バンク１５０の開口部１５１の面積は、有効画素Ｐ_Ｅとダミー画素Ｐ_Ｄとで同じ大きさとされる。すなわち、有効画素Ｐ_Ｅのサイズとダミー画素Ｐ_Ｄのサイズは同じサイズとされるが、ダミー画素のサイズは領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３によって異ならせてもよい。

有機バンク１５０を形成するに際しては、有機バンク１５０の開口部１５１の壁面を、無機バンク１４９の開口部１４９ｂから若干外側へ後退させて形成するのがよい。このように有機バンク１５０の開口部１５１内に無機バンク１４９を一部露出させておくことで、有機バンク１５０内での液体材料の濡れ広がりを良好なものとすることができる。

有機バンク１５０を形成したら、有機バンク１５０及び画素電極１４１を含む基体上の領域に対して撥液処理を施す。有機バンク１５０は、有機ＥＬ素子２００を区画する仕切部材として機能するので、液滴吐出ヘッド２０から吐出される機能液に対して非親和性（撥液性）を示すものであることが好ましい。撥液処理としては、第１実施形態で説明したものを用いることができ、このような撥液処理により、有機バンク１５０に選択的に非親和性を発現させることができる。

このような撥液処理では、基体Ｐの一面側全体に処理を施したとしても、ＩＴＯ膜や金属膜からなる無機材料の画素電極１４１の表面は有機材料からなる有機バンク１５０の表面よりも撥液化されにくく、有機バンク１５０の表面のみが選択的に撥液化され、有機バンク１５０に囲まれる領域内に機能液に対する親和性の異なる複数の領域が形成される。

なお、撥液処理に先立って、無機バンク１４９及び画素電極１４１の表面に親液処理を施しても良い。親液処理としては、第１実施形態で説明したものを用いることができる。親液処理としてＯ_２プラズマ処理を行なった場合には、画素電極１４１であるＩＴＯ上の洗浄，仕事関数の調整も兼ねることができる。なお、親液処理の後に撥液処理を行なった場合には、画素電極１４１や無機バンク１４９の表面も撥液処理の影響を多少受けるが、有機バンク１５０に比べてこれらの影響は小さく、濡れ性に影響を与える事は少ない。

基体Ｐ上にバンクＢを形成したら、図９（ｃ）に示すように、液滴吐出ヘッドにより、正孔注入層１４０Ａを形成するための機能液Ｌ１をバンクＢによって区画された塗布位置（ダミー領域Ｔ_Ｄにあっては、有機バンク１５０に囲まれた領域）に選択的に塗布する。機能液Ｌ１は、正孔注入層形成材料を溶媒に溶解ないし分散させたものである。

正孔注入層形成材料としては、ポリマー前駆体がポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン、トリス（８−ヒドロキシキノリノール）アルミニウム、ポリスチレンスルフォン酸、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォン酸との混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）等を例示することができる。また、溶媒としては、イソプロピルアルコール、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−イミダゾリノン等の極性溶媒を例示することができる。

ダミー画素Ｐ_Ｄのサイズは有効画素Ｐ_Ｅのサイズと同じとされているため、ダミー画素Ｐ_Ｄに吐出する液滴の量は、有効画素Ｐ_Ｅに吐出する液滴の量と同一とすることができる。ただし、有効光学領域Ｔ_Ｅの中心部Ｃから遠い領域Ｔ２，Ｔ３では、液滴の乾燥時間も短くなるため、当該領域において十分な持続時間を確保したい場合には、その乾燥時間に応じて、吐出する液滴の量を変えることも可能である。

機能液Ｌ１が液滴吐出ヘッドより基体Ｐ上に吐出されると、機能液Ｌ１は流動性によって水平方向に広がろうとするが、塗布された位置を囲んでバンクＢが形成されているので、機能液Ｌ１はバンクＢを越えてその外側に広がらない。また、画素電極１４１や無機バンク１４９の表面は良好な親液性を保った状態であるので、吐出された機能液Ｌ１は画素電極等の表面全体に塗れ広がり、均一な塗膜を形成する。

基体Ｐ上に機能液Ｌ１を配置したら、図９（ｄ）に示すように、加熱あるいは光照射により機能液Ｌ１の溶媒を蒸発させて画素電極１４１上に固形の正孔注入層１４０Ａ（膜パターン）を形成する。または、大気環境下又は窒素ガス雰囲気下において所定温度及び時間で焼成するようにしてもよい。あるいは大気圧より低い圧力環境下（減圧環境下）に配置することで溶媒を除去するようにしてもよい。

この際、単位面積当たりに吐出されるダミーの機能液Ｌ１の表面積の大きさが、有効光学領域Ｔ_Ｅの中心部から遠い領域ほど大きくなっているので、乾燥が速く進む有効光学領域Ｔ_Ｅの角部においても溶媒蒸気の分圧が急激に低下することがなく、有効光学領域全体で乾燥速度が均一になる。このため、得られる正孔注入層１４０Ａも膜厚、膜質が均一であり、その表面の平坦性にも優れたものとなる。

続いて、図１０（ａ）に示すように、液滴吐出ヘッドより、発光層１４０Ｂを形成するための機能液Ｌ２をバンクＢ内の正孔注入層１４０Ａ上に選択的に塗布する。機能液Ｌ２は、発光層形成材料を溶媒に溶解ないし分散させたものである。

発光層形成材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の高分子発光材料である、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリジアルキルフルオレン（ＰＤＡＦ）、ポリフルオレンベンゾチアジアゾール（ＰＦＢＴ）、ポリアルキルチオフェン（ＰＡＴ）や、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等のポリシラン系などを好適に用いることができる。また、これらの発光材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。

前記発光層形成材料については、非極性溶媒に溶解ないし分散させて液体材料とし、この液体材料を液滴吐出ヘッドから吐出するのが好ましい。非極性溶媒は、前記発光材料等を容易に溶解または均一に分散させることができるため、液滴吐出ヘッドのノズル孔での発光層形成材料中の固型分が付着したり目詰りを起こしたりするのを防止することができる。

このような溶媒として具体的には、キシレン、シクロヘキシルベンゼン、２，３−ジヒドロベンゾフラン等が挙げられ、これらの溶媒を２種以上適宜混合したものであってもよい。

発光層１４０Ｂの形成は、赤色の発色光を発光する発光層形成材料を含む機能液、緑色の発色光を発光する発光層形成材料を含む機能液、青色の発色光を発光する発光層形成材料を含む機能液を、それぞれ対応する有効画素Ｐ_Ｅに吐出することによって行う。

図１０（ａ）では、赤色有効画素に機能液Ｌ２を吐出する工程が示されている。この工程では、正孔注入層１４０Ａを形成したのと同じように、ダミー画素Ｐ_Ｄにも同様の機能液Ｌ２を吐出する。なお、図１０（ａ）では、機能液Ｌ２を全てのダミー画素Ｐ_Ｄに吐出しているが、一部のダミー画素Ｐ_Ｄのみに吐出するものとしてもよい。

機能液Ｌ２を吐出したら、機能液Ｌ２中の溶媒を蒸発させる。この工程により、図１０（ｂ）に示すように、赤色有効画素Ｐ_Ｅの正孔注入層１４０Ａ上に固形の赤色の発光層１４０Ｂ（膜パターン）が形成され、これにより正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとからなる有機機能層１４０が得られる。

この際、ダミー領域Ｔ_Ｄに配置する機能液の量（すなわち表面積）が有効光学領域Ｔ_Ｅの中心部からの距離に応じて適切に制御されているので、有効光学領域Ｔ_Ｅ全体で乾燥速度が均一になり、膜厚及び膜質が均一なものとなる。しかも、機能液Ｌ２が配置される正孔注入層１４０Ａの表面が良好に平坦化されているので、その上に形成される発光層１４０Ｂも良好な平坦性を持って形成され、より均一かつ良好な発光特性、信頼性を備えた発光層となる。

全ての有効画素Ｐ_Ｅに発光層１４０Ｂを形成したら、図１０図１０図１０（ｃ）に示すように、基体Ｐの表面全体にＩＴＯ或いはマグネシウム・アルミニウム合金等からなる共通電極１５４を形成し、さらに必要に応じて、共通電極１５４の表面に保護膜１５５を形成する。これにより、有機ＥＬ素子２００が完成する。
なお、ダミー画素Ｐ_Ｄには、赤色、緑色及び青色の３つの発光層形成材料が形成されることになるが、図１０（ｃ）では、これらを纏めて符号１４０Ｄで示している。

本実施形態の有機ＥＬ装置の製造方法では、ダミー領域Ｔ_Ｄに保持される単位面積当たりの機能液の量（特に表面積の大きさ）を、有効光学領域Ｔ_Ｅの中心部から遠い領域ほど大きくしているので、機能液の乾燥工程においてダミー領域Ｔ_Ｄにおける溶媒の蒸発速度を有効光学領域Ｔ_Ｅにおける溶媒の蒸発速度に近づけることができ、その結果、有効光学領域Ｔ_Ｅの外周部と中央部とにおいて均一な膜厚の正孔注入層又は発光層を形成できるようになる。本実施形態では、このような構成をダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度を調節することによって実現しており、これにより、容易に素子特性（表示特性）にむらの少ない信頼性に優れた有機ＥＬ装置を提供することができる。

［第３の実施の形態］
次に、本発明のデバイスの製造方法の一実施の形態として、本発明の膜パターンの形成方法をカラーフィルタ基板の製造方法に適用した例について説明する。このカラーフィルタ基板は、例えば液晶表示パネルの色表示手段として好適に適用可能なものである。

図１１は、本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を示す概念図である。
このカラーフィルタ基板の製造方法では、ガラスやプラスチック等からなる基体Ｐ上に、前述の液滴吐出ヘッド２０を用いて複数のカラーフィルタＦ（Ｆ_Ｒ，Ｆ_Ｇ，Ｆ_Ｂ）を形成する。生産性を向上させる観点から、基体Ｐとしてはガラスやプラスチック等からなる大面積の基板（大型基板）を用い、この大型基板Ｐ上に形成された複数のパネル領域Ｔ_Ｅの内部に、ドット状に配列した複数のカラーフィルタＦを形成する。

パネル領域Ｔ_Ｅは、表示用のカラーフィルタＦが形成される領域であり、本発明の有効領域に相当するものである。大型基板Ｐにおいてパネル領域Ｔ_Ｅの外側の領域は、表示に寄与しないダミー領域（非有効領域）Ｔ_Ｄである。パネル領域Ｔ_Ｅ及びダミー領域Ｔ_Ｄにはバンク（隔壁）Ｂが形成されており、バンクＢによって区画される各々の領域が本発明の液体受容部であり、これらの液体受容部のうち、パネル領域Ｔ_Ｅに配置された液体受容部が有効画素Ｐ_Ｅとなり、ダミー領域Ｔ_Ｄに配置された液体受容部がダミー画素Ｐ_Ｄとなる。カラーフィルタＦは、有効画素Ｐ_Ｅである液体受容部に、顔料等の微粒子着色材料を含む機能液を配置することにより形成される。

各パネル領域Ｔ_Ｅは、後で大型基板Ｐを切断することにより、表示パネルに適合するカラーフィルタ基板として用いることができる。パネル領域Ｔ_Ｅには、赤色着色材料を含む赤色カラーフィルタＦ_Ｒ、緑色着色材料を含む緑色カラーフィルタＦ_Ｇ、及び青色着色材料を含む青色カラーフィルタＦ_Ｂが設けられており、これらのカラーフィルタＦ_Ｒ，Ｆ_Ｇ，Ｆ_Ｂは、例えば、図１１（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッド２０を矢印Ａ１及び矢印Ａ２で示す方向に複数回主走査させながら、それらの主走査の間に、赤色着色材料を含む機能液、緑色着色材料を含む機能液、及び青色着色材料を含む機能液をそれぞれ複数のノズル８１から所定の有効画素Ｐ_Ｅに選択的に吐出することにより形成される。

ここで、カラーフィルタ基板は、赤、緑、青の各色のカラーフィルタをストライプ配列、デルタ配列又はモザイク配列等の形態で配列することによって製造される。すなわち、図１１（ｂ）に示す液滴吐出ヘッド２０によるカラーフィルタＦの形成は、赤、緑、青のうちの１色だけを吐出する液滴吐出ヘッド２０を赤、緑、青の３色に対応して予め３種類用意しておき、これらの液滴吐出ヘッド２０を前記３色に対応して順繰りに用いて、１枚の大型基板Ｐ上に赤、緑、青の３色の配列を形成することによって行なわれる。

図１２に具体的な製造工程を示す。
図１２には、パネル領域Ｔ_Ｅとダミー領域Ｔ_Ｄの境界部分が図示されている。パネル領域Ｔ_Ｅには、赤色カラーフィルタＦ_Ｒが形成される赤色有効画素が示されている。

まず、図１２（ａ）に示すように、大型基板Ｐの一方の面にバンクＢを形成する。
バンクＢは、カラーフィルタＦが形成される領域を仕切る仕切り部材として機能するものである。バンクＢは、パネル領域Ｔ_Ｅ、及び該パネル領域Ｔ_Ｅの周辺の領域（非有効領域）に形成される。パネル領域Ｔ_Ｅに形成されるバンクＢは、表示パネルの画素パターンに対応する開口部を有している。本発明のカラーフィルタ基板の製造方法では、バンクＢによって区画された領域に着色材料を含む機能液が配置され、この機能液が乾燥することにより、大型基板Ｐ上にカラーフィルタ（膜パターン）Ｆが形成される。この場合、バンクＢによってカラーフィルタＦの形状が規定されることから、例えば隣接するバンクＢの幅を狭くするなど、バンクＢを適切に形成することにより、カラーフィルタＦの微細化が図られる。

バンクＢの形成方法は、第２実施形態の有機バンク１５０の形成方法と同じである。すなわち、大型基板Ｐ上にアクリル、ポリイミド等の有機絶縁材料を形成し、これをフォトリソグラフィ技術によりパターニングすることにより、所望の形状のバンクＢを形成する。有機絶縁材料として透光性のない材料（例えば黒色樹脂）を用いた場合には、バンクＢをブラックマトリクスとして機能させることができる。バンクＢの表面には、必要に応じて撥液処理を施すことができる。

図１１に示したように、ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度（図１１におけるＸ方向又はＹ方向の配列ピッチ）は、パネル領域Ｔ_Ｅの中心部Ｃからの距離Ｒ１，Ｒ２に応じて異なっており、中心部Ｃに最も近い領域Ｔ１ではダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度は最も小さく、中心部Ｃから離れるに従ってダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度は大きくなっている。すなわち、ダミー領域Ｔ_Ｄに保持される単位面積当たりの機能液の量（特に表面積の大きさ）は、パネル領域Ｔ_Ｅの中心部Ｃから遠い領域ほど大きくなるように構成されており、これにより、パネル領域全体で機能液の乾燥が均一に進行するものとされている。

ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度は、パネル領域Ｔ_Ｅの縁辺中央部から角部に向けて複数段階で変化しているものとされる。すなわち、パネル領域Ｔ_Ｅの縁辺に沿ってダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度が異なる複数の領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３が設けられており、それぞれの領域においてはダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度は一定であり、このように構成された前記複数の領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３が、ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度が大きいものほどパネル領域Ｔ_Ｅの中心部から遠い領域に配置されたものとなっている。各領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３におけるダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度や、各領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３がダミー領域Ｔ_Ｄ内に占める割合は、パネル領域内で機能液の乾燥速度が一定となる条件の範囲内で適切に定められる。

なお、図１２では、バンクＢを有機物層からなる単層構造としたが、第１実施形態のバンクＢのように無機物層と有機物層の２層構造とすることも可能である。

バンクＢを形成したら、図１２（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッドにより、着色材料を含む機能液ＬをバンクＢに区画された領域に選択的に吐出する。機能液Ｌは、顔料等の着色材料を溶媒に溶解ないし分散させたものである。

機能液の吐出は、赤色着色材料を含む機能液、緑色着色材料を含む機能液、青色着色材料を含む機能液を、それぞれ対応する有効画素Ｐ_Ｅに吐出することにより行なう。

図１２（ｂ）では、赤色有効画素に機能液Ｌを吐出する工程が示されている。この工程では、ダミー画素Ｐ_Ｄにも同様の機能液Ｌを吐出する。なお、図１２（ｂ）では、機能液Ｌを全てのダミー画素Ｐ_Ｄに吐出しているが、一部のダミー画素Ｐ_Ｄのみに吐出するものとしてもよい。

機能液Ｌを吐出したら、機能液Ｌ中の溶媒を蒸発させる。この工程により、図１２（ｃ）に示すように、赤色有効画素Ｐ_Ｅに固形の赤色のカラーフィルタＦ_Ｒが形成される。この際、ダミー領域Ｔ_Ｄに配置する機能液の量（すなわち表面積）がパネル領域Ｔ_Ｅの中心部Ｃからの距離に応じて適切に制御されているので、パネル領域Ｔ_Ｅ全体で乾燥速度が均一になり、膜厚及び膜質が均一なものとなる。

赤色有効画素に赤色カラーフィルタＦ_Ｒを形成したら、同様の手順で、緑色有効画素に緑色カラーフィルタＦ_Ｇを形成し、さらに青色有効画素に青色カラーフィルタＦ_Ｂを形成する。図１２（ｄ）は、各色の有効画素Ｐ_Ｅにカラーフィルタを形成した状態を示している。なお、ダミー画素Ｐ_Ｄには、赤色、緑色及び青色の３つの着色材料が形成されることになるが、図１２（ｄ）では、これらを纏めて符号Ｆ_Ｄで示している。

全ての有効画素Ｐ_ＥにカラーフィルタＦが形成されたら、必要に応じてカラーフィルタＦの表面に保護膜Ｆ_Ｐを形成する。
その後、大型基板Ｐをパネル領域Ｔ_Ｅ，Ｔ_Ｅの間に設けたスクライブラインに沿って切断し、個々のカラーフィルタ基板を得る。これにより、カラーフィルタ基板が完成する。

本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法では、ダミー領域Ｔ_Ｄに保持される単位面積当たりの機能液の量（表面積の大きさ）をパネル領域Ｔ_Ｅの中心部から遠い領域ほど大きくしているので、パネル領域Ｔ_Ｅの外周部と中央部において乾燥速度にばらつきが生じることがなく、パネル領域全体にわたって均一な膜厚のカラーフィルタＦを形成することができる。このため、色むらが少なく、表示特性に優れたカラーフィルタ基板を提供することが可能である。また、カラーフィルタＦを平坦に形成することができるので、この上に電極を形成する場合には、断線等が生じにくい、信頼性に優れたカラーフィルタ基板となる。

［実施例］
次に、本発明の膜パターンの形成方法の実施例について説明する。
図１３は、サンプル基板Ｐに形成した有効画素Ｐ_Ｅ及びダミー画素Ｐ_Ｄの配置を示す平面模式図である。図１３（ａ）は、ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度を有効領域Ｔ_Ｅの縁辺中央部から角部に向けて３段階で変化させた場合の模式図（サンプル１）、図１３（ｂ）は、ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度を有効領域Ｔ_Ｅの縁辺中央部と角部の２段階で変化させた場合の模式図（サンプル２）、図１３（ｃ）は、ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度を有効画素Ｐ_Ｅと同じ密度で形成した場合の模式図（サンプル３）である。いずれのサンプルにおいても、有効画素の形状及びサイズとダミー画素の形状及びサイズは、同じものとされている。

サンプル１〜サンプル３のいずれについても、有効領域Ｔ_ＥはＸ方向にライン状に形成されており、有効領域Ｔ_ＥのＹ方向とＸ方向のアスペクト比（Ｙ方向：Ｘ方向）は１：６００である。有効画素Ｐ_Ｅは直径５０μｍの円形の画素であり、そのＸ方向及びＹ方向の配列ピッチはいずれも１００μｍである。ダミー画素Ｐ_Ｄの形状及びサイズは有効画素Ｐ_Ｅと同じである。

ダミー領域Ｔ_Ｄは、有効領域Ｔ_Ｅの上下にそれぞれ６列分、有効領域Ｔ_Ｅの左右にそれぞれ２０列分の幅を有して形成されている。ここで、６列分又は２０列分とは、有効画素Ｐ_Ｅの配列状態（Ｘ方向及びＹ方向のピッチ）を基準とした場合の６列分又は２０列分をいい、ダミー画素Ｐ_Ｄのピッチが有効画素Ｐ_Ｅのピッチよりも狭い場合には、ダミー画素Ｐ_Ｄの配列数は６列又は２０列よりも多くなる。なお、本実施例の説明においては、有効画素Ｐ_Ｅの配列状態を基準状態という。

サンプル１では、ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度は、有効領域Ｔ_Ｅの縁辺中央部から角部に向けて３段階で変化している。有効領域Ｔ_Ｅの中心部Ｃに近い領域Ｔ１では、Ｘ方向及びＹ方向とも有効画素Ｐ_Ｅと同じピッチで配列しており、有効領域Ｔ_Ｅの中心部Ｃから最も遠い領域Ｔ３では、Ｘ方向及びＹ方向とも有効画素Ｐ_Ｅの２倍のピッチで配列している。また、領域Ｔ１と領域Ｔ３の中間の領域Ｔ２では、Ｙ方向のピッチは有効画素Ｐ_Ｅと同じだが、Ｘ方向のピッチは有効画素Ｐ_Ｅの２倍となっている。すなわち、領域Ｔ１、領域Ｔ２及び領域Ｔ３のダミー画素Ｐ_Ｄの密度は、基準状態の密度を１として、それぞれ１、２．５及び４となっている。基体Ｐの中心部（すなわち有効領域Ｅの中心部Ｃ）から基体Ｐの端部までに占める領域Ｔ１、領域Ｔ２及び領域Ｔ３の割合は、それぞれ２／３、１／４及び１／１２となっている。

サンプル２では、ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度は、有効領域Ｔ_Ｅの縁辺中央部から角部に向けて２段階で変化している。有効領域Ｔ_Ｅの中心部Ｃに近い領域Ｔ１では、Ｘ方向及びＹ方向とも有効画素Ｐ_Ｅと同じピッチで配列しており、それ以外の領域Ｔ２では、Ｙ方向のピッチは有効画素Ｐ_Ｅと同じだが、Ｘ方向のピッチは有効画素Ｐ_Ｅの２倍となっている。すなわち、領域Ｔ１及び領域Ｔ２のダミー画素Ｐ_Ｄの密度は、基準状態の密度を１として、それぞれ１及び２、５となっている。基体Ｐの中心部から基体Ｐの端部までに占める領域Ｔ１及び領域Ｔ２の割合は、それぞれ２／３及び１／３となっている。

サンプル３では、ダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度は有効画素Ｐ_Ｅと同じ密度とされている。この構成は、全てのダミー画素Ｐ_Ｄを有効画素Ｐ_Ｅと同じピッチ、同じパターンで形成したものであり、従来用いられてきた構成と同じである。

本実施例では、これらのサンプル１〜３の有効画素Ｐ_Ｅ及びダミー画素Ｐ_Ｄに機能液を吐出し、これを乾燥することによって、有効領域内に膜パターンを形成する。使用する機能液は、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを水（蒸気圧：２３３８Ｐａ、２０℃）及びジエチレングリコール（蒸気圧：１．３Ｐａ、２０℃）の混合溶媒に溶解させたものである。機能液の乾燥は、減圧槽内で圧力を管理した状態で行なう。減圧による乾燥を行う場合の圧力減圧速度の制御の一例を、図１４に示す。本実施例では、大気圧から３０秒程度の時間をかけて２０００Ｐａ程度まで減圧し、その圧力の近傍で５００秒程度保持し、さらに低い圧力まで減圧を行っている。この様な減圧の速度の管理を行うことで、溶媒の突沸による欠陥の発生を防ぎ、より膜厚の均一性を高めることができる。

前述したサンプル１及びサンプル２におけるダミー画素Ｐ_Ｄの配置密度は、有効領域Ｔ_Ｅの中央部と角部における機能液の乾燥時間の差が十分に小さくなるような条件として規定されたものである。例えば、サンプル１では、有効領域Ｔ_Ｅの角部と中央部の乾燥時間の差は０秒であり、サンプル２では、その乾燥時間の差は３秒である。サンプル３については、ダミー画素Ｐ_Ｄのサイズを調節していないので、乾燥時間の差は３７秒であった。

図１５は、有効領域Ｔ_Ｅ内での膜厚の不均一性を示す図であり、図１５（ａ）、図１５（ｂ）、図１５（ｃ）は、それぞれサンプル１、サンプル２、サンプル３に対応している。図１５（ａ）〜図１５（ｃ）の横軸は、有効領域Ｔ_Ｅの中心部Ｃからの距離を示しており、縦軸は、１有効画素内での膜厚の不均一性を示している。膜厚の不均一性は、１有効画素内で最も膜厚が大きい部分と最も膜厚が薄い部分との膜厚差によって測定している。なお、縦軸の単位はオングストローム（Å）である。

図１５に示すように、サンプル３においては、有効領域Ｔ_Ｅの長軸側の端部において大きな膜厚の不均一性が生じており、単にダミー領域Ｔ_Ｄを設けるのみでは、十分に膜厚むらを解消できないことがわかる。一方、サンプル２では、このような端部における膜厚の不均一性は小さくなっており、ダミーの機能液の吐出密度を有効領域Ｔ_Ｅの中央部と端部で変えることが、有効領域Ｔ_Ｅ内での膜厚均一性を改善する上で効果的であることがわかる。特に、サンプル３においては有効領域Ｔ_Ｅ内での膜厚不均一性は殆ど生じておらず、ダミーの機能液の吐出密度が３段階以上で調節されれば、概ね均一な膜厚のパターンが形成できることがわかる。

［電子機器］
次に、本発明の電子機器の具体例について説明する。
図１６は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１６において、符号６００は携帯電話本体を示し、符号６０１は上記実施形態の有機ＥＬ装置又はカラーフィルタ基板を備えた表示部を示している。
図１６に示す電子機器は、上述した本発明の膜パターンの形成方法により形成された膜パターンを備えたものであるので、高い表示品質や高い性能が得られるものとなる。
なお、本発明の有機ＥＬ装置、カラーフィルタ基板等のデバイスは、前述した携帯電話機に限らず、種々の電子機器に搭載することができる。この電子機器としては例えば、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等がある。

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。

また、上記実施形態では、本発明の膜パターンの形成方法を有機ＥＬ装置の製造方法やカラーフィルタ基板の製造方法に適用した例を示したが、本発明はこれに限らず、所定の領域内に複数の膜パターンを備えるデバイスの製造方法に適用することができる。上述の有機ＥＬ装置の例では、正孔注入層１４０Ａや発光層１４０Ｂだけでなく、画素電極１４１のパターニングに本発明を適用することも可能である。また、データ線１３２、走査線１３１又は電源線１３３を含む各種の配線の形成や、フレキシブル基板７５と基体Ｐとを接続する複数の端子電極の形成にも、本発明の膜パターンの形成方法を適用することができる。

本発明の膜パターンの形成方法を示す概念図である。 ダミー領域を含む基体の平面図である。 同膜パターンの形成工程の一例を示す工程図である。 １回の液滴吐出ヘッドの走査によって複数の画素に同時に機能液を吐出する工程を示す平面図である。 本発明のデバイスの一例である有機ＥＬ装置の等価回路図である。 同有機ＥＬ装置の全体構成を示す平面図である。 同有機ＥＬ装置の１画素の構成を示す平面図である。 図７のＡ−Ａ線に沿う断面図である。 同有機ＥＬ装置の製造工程の一例を示す工程図である。 図９に続く工程図である。 本発明のデバイスの一例であるカラーフィルタ基板の製造方法を示す概念図である。 同カラーフィルタ基板の製造工程の一例を示す工程図である。 実施例に係るサンプル基板の平面図である。 同サンプル基板に吐出した機能液の乾燥レートを示す図である。 同機能液を乾燥して得られた膜パターンのプロファイルを示す図である。 本発明の膜パターンを備えた電子機器の一例を示す斜視図である。

符号の説明

７０…有機エレクトロルミネッセンス装置、１４０Ａ…正孔注入層（膜パターン）、１４０Ｂ…発光層（膜パターン）、２００…有機エレクトロルミネッセンス素子、Ｂ…隔壁、Ｆ…膜パターン、Ｌ，Ｌ１，Ｌ２…機能液、Ｐ…基体、Ｐ_Ｅ…有効画素（液体受容部）、Ｐ_Ｄ…ダミー画素（液体受容部）、Ｔ_Ｅ…有効領域、Ｔ_Ｄ…非有効領域

Claims (6)

1. 機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液から溶媒を除去することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを形成する方法であって、
   前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域に隔壁によって区画された複数の第一液体受容部を形成する工程と、
   前記有効領域の周囲の非有効領域に隔壁によって区画された複数の第二液体受容部を形成する工程と、
   前記有効領域に形成された前記複数の第一液体受容部に前記機能液を配置する工程と、
   前記非有効領域に形成された前記複数の第二液体受容部に前記機能液又は溶媒を配置する工程と、を有し、
   前記有効領域は矩形形状を有し、前記非有効領域であって、前記矩形の各辺での中央部を第一領域、前記各辺の角部を第二領域、前記第一領域と前記第二領域との間に配置され、前記角部を含まない領域を第三領域とを有し、
   前記第一領域の前記複数の第二液体受容部は第一配置密度で配置され、前記第二領域の前記複数の第二液体受容部は第二配置密度で配置され、前記第三領域の前記複数の第二液体受容部は第三配置密度で配置されており、
   前記第一配置密度は、前記第三配置密度よりも小さく、前記第三配置密度は前記第二配置密度よりも小さいことを特徴とする、膜パターンの形成方法。
2. 前記有効領域における前記液体受容部のサイズと前記非有効領域における前記液体受容部のサイズとを同じサイズで形成することを特徴とする、請求項１に記載の膜パターンの形成方法。
3. 前記非有効領域における前記液体受容部を、前記有効領域の外周に沿って少なくとも２列以上形成することを特徴とする、請求項１または２に記載の膜パターンの形成方法。
4. 前記機能液又は前記溶媒の配置を液滴吐出法により行なうことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかの項に記載の膜パターンの形成方法。
5. 膜パターンを有するデバイスの製造方法であって、
   前記膜パターンの形成工程が、請求項１〜４のいずれかの項に記載の膜パターンの形成方法により行なわれることを特徴とする、デバイスの製造方法。
6. 隔壁によって区画された有機エレクトロルミネッセンス素子と、
   前記有機エレクトロルミネッセンス素子が設けられた有効領域と、
   前記有効領域の周囲の非有効領域に設けられ、隔壁によって区画された複数の液体受容部とを有し、
   前記有効領域は矩形形状を有し、前記非有効領域であって、前記矩形の各辺での中央部を第一領域、前記各辺の角部を第二領域、前記第一領域と前記第二領域との間に配置され、前記角部を含まない領域を第三領域とを有し、
   前記第一領域の前記複数の第二液体受容部は第一配置密度で配置され、前記第二領域の前記複数の第二液体受容部は第二配置密度で配置され、前記第三領域の前記複数の第二液体受容部は第三配置密度で配置されており、
   前記第一配置密度は、前記第三配置密度よりも小さく、前記第三配置密度は前記第二配置密度よりも小さいことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス装置。

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