JP5062231B2 - アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂及びその製造方法 - Google Patents
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- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 54
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 54
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 title claims description 39
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 title claims description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- -1 cyclic organosilicon compound Chemical class 0.000 claims description 24
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 10
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 9
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 9
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 8
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 7
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 6
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Chemical group 0.000 claims description 5
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 4
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical group [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 16
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 5
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- GHFHFNDKTYBBNZ-UHFFFAOYSA-N oxasilolane Chemical class C1CO[SiH2]C1 GHFHFNDKTYBBNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WGGNJZRNHUJNEM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexamethyl-1,3,5,2,4,6-triazatrisilinane Chemical compound C[Si]1(C)N[Si](C)(C)N[Si](C)(C)N1 WGGNJZRNHUJNEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTMHXGGSWMFQNX-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethyl-3,3-dimethyloxasilolane Chemical compound CC[Si]1(CC)OCCC1(C)C RTMHXGGSWMFQNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRWFFDJQZODCGS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethoxy(methyl)silane Chemical compound COCCO[SiH2]C HRWFFDJQZODCGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVHIREZHTRULPT-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-trimethylsilylpropan-2-amine Chemical compound CC(C)(C)N[Si](C)(C)C GVHIREZHTRULPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKIHJUUXHCZCAG-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropoxy(methyl)silane Chemical compound COCCCO[SiH2]C VKIHJUUXHCZCAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWFZAAGYIJTNNS-UHFFFAOYSA-N CCCO[Si](C)OCCC Chemical compound CCCO[Si](C)OCCC KWFZAAGYIJTNNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJWAPAVRQYYSTK-UHFFFAOYSA-N [(dimethyl-$l^{3}-silanyl)amino]-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)N[Si](C)C GJWAPAVRQYYSTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSVGQVZAZSZEEX-UHFFFAOYSA-N [C].[Pt] Chemical compound [C].[Pt] DSVGQVZAZSZEEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYUIWUCVZCRTRH-UHFFFAOYSA-N [[[ethenyl(dimethyl)silyl]amino]-dimethylsilyl]ethene Chemical compound C=C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C=C WYUIWUCVZCRTRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEGHITPVRNZWSI-UHFFFAOYSA-N [[bis(trimethylsilyl)amino]-dimethylsilyl]methane Chemical compound C[Si](C)(C)N([Si](C)(C)C)[Si](C)(C)C PEGHITPVRNZWSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPAIXTZQWAGRPZ-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-phenylsilicon Chemical compound C[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 IPAIXTZQWAGRPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- AWQTZFCYSLRFJO-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methoxy)silane Chemical compound CCO[SiH](OC)OCC AWQTZFCYSLRFJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKONWUJRLPUUJT-UHFFFAOYSA-N dimethyl-phenyl-triphenylsilyloxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C)(C)O[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 OKONWUJRLPUUJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- DMSVKKSBEJFTSD-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dipropoxy)silane Chemical compound CCCO[SiH](OCC)OCCC DMSVKKSBEJFTSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- QBCNIGWTXULERZ-UHFFFAOYSA-N methoxy(dipropoxy)silane Chemical compound CCCO[SiH](OC)OCCC QBCNIGWTXULERZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSMNRKGGHXLZEC-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(trimethylsilyl)methanamine Chemical compound C[Si](C)(C)N(C)[Si](C)(C)C ZSMNRKGGHXLZEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDSUYTOTVCEJPO-UHFFFAOYSA-N n-(dimethylamino-methyl-phenylsilyl)-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)[Si](C)(N(C)C)C1=CC=CC=C1 BDSUYTOTVCEJPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIFOKLGEKUNZTI-UHFFFAOYSA-N n-[diethylamino(dimethyl)silyl]-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)[Si](C)(C)N(CC)CC XIFOKLGEKUNZTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QULMGWCCKILBTO-UHFFFAOYSA-N n-[dimethylamino(dimethyl)silyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)[Si](C)(C)N(C)C QULMGWCCKILBTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTURFVPIEOKJBC-UHFFFAOYSA-N n-[dimethylamino(diphenyl)silyl]-n-methylmethanamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](N(C)C)(N(C)C)C1=CC=CC=C1 FTURFVPIEOKJBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013112 stability test Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N trimethylsilanol Chemical compound C[Si](C)(C)O AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVZTVZJLMIHPEY-UHFFFAOYSA-N triphenyl(triphenylsilyloxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)O[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 IVZTVZJLMIHPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N tripropoxysilane Chemical compound CCCO[SiH](OCCC)OCCC OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGJPWUZGPMLVDT-UHFFFAOYSA-N tris(ethenyl)-tris(ethenyl)silyloxysilane Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)O[Si](C=C)(C=C)C=C IGJPWUZGPMLVDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N vinyl-ethylene Natural products C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1892—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
- C08G77/16—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to hydroxyl groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
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Description
本発明の有機ケイ素系樹脂は、リソグラフィー用材料及び有機―無機ハイブリッド材料等の原料として有用である。
アルコール性水酸基を含有する有機ケイ素樹脂は各種のものが知られている。従来の有機ケイ素樹脂は、骨格を構成する高分子の有機ケイ素樹脂にアルコール性水酸基を導入して得られるものである(例えば、特許文献1〜4)。
また、アルコール性水酸基を有するポリメチルシルセスキオキサン係微粒子についても報告されている(例えば、特許文献6)。
また、これらの樹脂は、シリル化剤と容易に反応するため、各種の機能性材料の原料となりえる。
加えて、アルコール性水酸基は樹脂中に残存するシラノールと反応し易く、アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂は容易にゲル化し易い。
本発明者らは、組成の制御が容易であり、かつ経時変化の無い安定な、アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂及びその製造法を構築することを課題とした。
本発明の有機ケイ素樹脂は、下記一般式(1)で表されるオレフィン類および下記一般式(2)で表されるアルコキシシランを、遷移金属触媒の存在下で反応させて得られた下記一般式(3)で表される環状有機ケイ素化合物(以下、環状有機ケイ素化合物[3]と略す)、又はこれと多官能アルコキシシランとの混合物を加水分解及び縮合してなり、アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂である。
Z’:エチレン基
R:メチル基
R1:エトキシ基
R2:エチル基
この化合物の加水分解・縮合を行うことにより、組成の制御が容易で、経時変化の無い安定な、アルコール性水酸基を有するケイ素樹脂を容易に得ることができる。
好ましい製造方法は、以下の4段階の工程からなる。
工程(1):有機溶媒中、環状有機ケイ素化合物[3]、又はこれと多官能アルコキシシランからなる混合物を加水分解し、更に有機溶媒を加えた後、脱水剤を加え脱水する。
工程(2):脱水剤をろ過後、シリル化剤を用いて樹脂末端シラノールを封止する。
工程(3):溶媒を留去後、有機溶媒、水を加え、アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂を水洗する。
工程(4):脱水剤を加え、樹脂を脱水後、溶媒を留去し、アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂を得る。
本発明の製造法によれば、アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂を、組成の制御を容易に行いつつ、分子量変化が無く安定に製造することができる。
これらの反応を瞬時に行わせることができるため、副反応が殆ど起こらず、極めて高純度且つ高収率で目的化合物を得ることができる。
水酸基を有するオレフィン類は、下記一般式(1)で表される。
これらの中では、原料が得易いことから、1−ブテン−3−メチル−3−オールが最も好ましい。
オレフィン類(1)として、水酸基のα位にメチル基を有しない化合物を用いると、副生成物が多量に生成し、目的化合物の収率が著しく低下する。
アルコキシシラン類は、下記一般式(2)で表される。
上記一般式(1)のオレフィン類と上記一般式(2)のアルコキシシランを遷移金属触媒の存在下で、ハイドロシリレーション反応及び閉環縮合反応(脱アルコール反応)を行わせる。
触媒は、ハイドロシリレーション反応を促進するものとして知られているものであれば、特に制限はなく、好ましい触媒として、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、白金等の第8属から第10属金属の単体、有機金属錯体、金属塩、金属酸化物等がある。
通常、白金系の触媒が使用され、好ましい白金系触媒としては、塩化白金酸六水和物(H2PtCl6・6H2O)、cis−PtCl2(PhCN)2、白金カーボン、ジビニルシロキサンが配位した白金錯体(Pt−dvds)等が例示される。なお、Phはフェニル基を表わす。
触媒の使用量は、上記一般式(1)のオレフィン類に対して、0.1ppmから1,000ppmであることが好ましい。
オレフィン類(1)とアルコキシシラン(2)の好ましい仕込み比は、これらの原料化合物の内、高沸点を有する化合物の100モルを基準として、低沸点を有する化合物を110〜120モルとする割合である。
これは、合成後の蒸留による精製を容易に行うためである。
通常、アルコキシシラン(2)がオレフィン類(1)より低沸点を有する化合物であることから、アルコキシシラン(2)をオレフィン類(1)より過剰に用いる。
また、反応温度の制御操作は、外部からの加熱およびアルコキシシランの供給速度に依存するため、一概に決められないが、通常、反応温度を40〜120℃の範囲に保持することで、ハイドロシリレーション反応及び閉環縮合反応(脱アルコール反応)を円滑に継続させることができる。
上記の反応により得られる生成物は、適宜蒸留等の精製工程により未反応の原料を除去することにより、更に高純度化され、容易に90%以上の純度とすることができる。
上記のようにして合成された環状有機ケイ素化合物[3]は、酸または塩基性条件下で加水分解し、有機ケイ素樹脂の骨格を形成すると同時に、樹脂骨格に水酸基を導入することができる。
加水分解・縮合による生成物は、以下の繰り返し単位を有する重合体である。
即ち、上記一般式(3)におけるR1が炭素数1〜3のアルキル基である場合、繰り返し単位は下記[A]であり、
好ましい多官能アルコキシシランとしては、3〜4官能のアルコキシシランがあり、炭素数1〜3のアルキル基および/または炭素数1〜3のアルコキシ基からなるものが好ましい。好ましい3〜4官能のアルコキシシランとしては、例えばトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン等がある。
多官能アルコキシシランの好ましい割合は、環状有機ケイ素化合物[3]の1モル当たり10モル以下となる割合である。
本発明の有機ケイ素系樹脂の好ましい数平均分子量は、1000〜100万であり、GPCで測定される好ましい平均分子量は1000〜10万である。
好ましい塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドキシド、トリエチルアミン、ピリジン等が例示される。
加水分解に使用する水の好ましい量は、理論量以上であり、望ましくは理論量の1.5〜2倍である。
加水分解時に用いる好ましい有機溶媒としては、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエン、ヘキサン等が例示され、単独でも、2種以上混合して用いてもよい。
好ましい分子量調整剤としては、ヘキサメチルジシロキサン、テトラメチルジシロキサン、ヘキサフェニルジシロキサン、ヘキサビニルジシロキサン、テトラフェニルジメチルジシロキサン、テトライソプロピルジシロキサン等が例示される。
好ましいシリル化剤としては、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン、1,1,3,3−テトラメチルジシラザン、ヘプタメチルジシラザン、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルシクロトリシラザン、トリス(トリメチルシリル)アミン、ビス(ジエチルアミノ)ジメチルシラン、ビス(ジメチルアミノ)ジメチルシラン、ビス(ジメチルアミノ)ジフェニルシラン、ビス(ジメチルアミノ)メチルフェニルシラン、トリメチルシラノール及びt−ブチルアミノトリメチルシラン等のアミノシラン類並びにシラノール類、トリメチルクロロシラン、ジメチルクロロシラン、フェニルメチルクロロシラン等のクロロシラン類が例示される。また、トリエチルアミン、ピリジン等の塩基と併用してもよい。
水洗時に用いる好ましい有機溶媒としては、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエン、ヘキサン等が例示され、単独でも、2種以上混合して用いてもよい。
水洗には、一般的に超純水を用いるが、塩酸水溶液等の酸性水溶液、水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリ性水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液等を用いてもよい。水洗は、水層が中性になるまで行う方が好ましい。
[参考例]
冷却管、滴下ロート、磁気撹拌子を備え、オイルバス中に入れた反応器(フラスコ)に1−ブテン−3−メチル−3−オール(30g、348mmol)を仕込み攪拌した。滴下ロートにトリエトキシシラン(62.9g、383mmol)を仕込んだ。滴下ロートに仕込んだトリエトキシシラン(11.2mL)をフラスコに注入し、オイルバスを80℃にセットする。内温が70℃になったら、0.1MPt−dvdsキシレン溶液(13μL、0.0013mmol)をフラスコに入れ、反応を開始させる。反応を継続させ、ガスクロマトグラフィーにより、閉環反応によるエタノールの生成量が、原料から予想される量に達したことを確認した。反応終了後、減圧蒸留により無色透明の液体(58.2g)を得た(沸点:13300Pa、117−120℃、収率:82%。ガスクロマトグラフィーによる測定で純度98%以上を確認。)。
δ値とその帰属は第2表のとおりであった。これにより得られた化合物は、下記構造であることが確認できた。
(有機ケイ素樹脂の合成)
滴下ロート、磁気撹拌子を備えた反応器にDESMBO(49g、240mmol)、メチルトリエトキシシラン(78.6g、441mmol)、ヘキサメチルジシロキサン(19.5g、120mmol)、アセトン(91g)を仕込み攪拌した。滴下ロートに1.5wt%塩酸水溶液(37.4g)を仕込み、ゆっくり滴下した。滴下終了後、室温で1.5時間攪拌した。続けて、ジイソプロピルエーテル(200g)を加えた後、無水硫酸マグネシウムを加え2時間脱水させた。無水硫酸マグネシウムをろ別し、攪拌させながらヘキサメチルジシラザン(38.7g、240mmol)をゆっくり加え、室温で2時間攪拌後、減圧下溶媒を留去する。メチルエチルケトン(200g)、1N−塩酸水溶液を加え洗浄後、水層が中性になるまで水洗を繰り返す。無水硫酸マグネシウムで脱水後、減圧下溶媒を留去し、有機ケイ素樹脂を得た(73.3g、89%)。
この有機ケイ素樹脂について、270MHzの1H−NMRの測定を行ったところ、第3図のスペクトルを得た。
δ値とその帰属は第3表のとおりであった。これにより得られた化合物は、下記構造であることが確認できた。
溶媒として、0.5wt%の水を含有したプロピレングリコールメチルエーテルアセテートを調製した。実施例1で調製した有機ケイ素樹脂を10wt%の濃度で溶媒に溶かし、サンプルとした。本サンプルを60℃3日間放置し分子量変化を追跡した。結果を表5に示す。
(樹脂末端シラノールを封止しない場合)
滴下ロート、磁気撹拌子を備えた反応器に1,1−ジエチル−5,5−ジメチル−1−シラ−2−オキサシクロペンタン(49g、240mmol)、メチルトリエトキシシラン(78.6g、441mmol)、ヘキサメチルジシロキサン(19.5g、120mmol)、アセトン(91g)を仕込み攪拌した。滴下ロートに1.5wt%塩酸水溶液(37.4g)を仕込み、ゆっくり滴下した。滴下終了後、室温で1.5時間攪拌した。減圧下、溶媒を留去したところ、ゲル化した。
Claims (4)
- 下記一般式(1)で表されるオレフィン類および下記一般式(2)で表されるアルコキシシランを、遷移金属触媒の存在下で反応させて得られた下記一般式(3)で表される環状有機ケイ素化合物、又は、これと多官能アルコキシシランとからなる混合物を加水分解及び縮合してなる、アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂。
[式中、Zは、水酸基が結合する炭素原子から遠い末端炭素原子CEが炭素−炭素不飽和結合を形成している炭素数2〜5のアルケニル基を示し、Rはメチル基または水素を示し、Meはメチル基を示す。]
[式中、R1は、炭素数1〜3のアルキル基又はアルコキシル基を示し、R2は炭素数1〜3のアルキル基を示し、複数のR2は互いに同一でも異なっていてもよい。]
[式中、Z’は、Zの炭素−炭素不飽和結合を飽和結合にし、Zの末端炭素原子CEがSi原子と結合する炭素数2〜5のアルキレン基を示し、Rはメチル基または水素を示し、R1は炭素数1〜3のアルキル基又はアルコキシル基を示し、R2は炭素数1〜3のアルキル基を示す。] - 上記縮合の後、シリル化剤により樹脂末端シラノールが封止されてなる請求項1に記載の、アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂。
- 請求項1記載の一般式(3)で表される環状有機ケイ素化合物又はこれと多官能アルコキシシランからなる混合物を、生成する重合体の濃度を30質量%以下に維持しつつ、有機溶媒中で加水分解及び縮合することを特徴とするアルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂の製造方法。
- 上記縮合の後、シリル化剤により樹脂末端シラノールを封止する請求項3に記載の、アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009197359A JP5062231B2 (ja) | 2003-11-07 | 2009-08-27 | アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003377752 | 2003-11-07 | ||
| JP2003377752 | 2003-11-07 | ||
| JP2004039063 | 2004-02-16 | ||
| JP2004039063 | 2004-02-16 | ||
| JP2009197359A JP5062231B2 (ja) | 2003-11-07 | 2009-08-27 | アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂及びその製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005515324A Division JP4470886B2 (ja) | 2003-11-07 | 2004-11-05 | 環状有機ケイ素化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010013653A JP2010013653A (ja) | 2010-01-21 |
| JP5062231B2 true JP5062231B2 (ja) | 2012-10-31 |
Family
ID=34575920
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005515324A Expired - Fee Related JP4470886B2 (ja) | 2003-11-07 | 2004-11-05 | 環状有機ケイ素化合物の製造方法 |
| JP2009197359A Expired - Lifetime JP5062231B2 (ja) | 2003-11-07 | 2009-08-27 | アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂及びその製造方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005515324A Expired - Fee Related JP4470886B2 (ja) | 2003-11-07 | 2004-11-05 | 環状有機ケイ素化合物の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP4470886B2 (ja) |
| KR (2) | KR101064063B1 (ja) |
| TW (1) | TW200519120A (ja) |
| WO (1) | WO2005044828A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008239634A (ja) * | 2005-07-12 | 2008-10-09 | Toagosei Co Ltd | アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂及びその製造方法 |
| DE102012013711A1 (de) * | 2012-07-11 | 2014-01-16 | Technische Universität München | Oxasilacyclen und Verfahren zu deren Herstellung |
| DE102012013710A1 (de) | 2012-07-11 | 2014-01-16 | Technische Universität München | Vernetzbare Siloxane durch säurekatalysierte Polymerisation von Oxasilacyclen |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3173935B2 (ja) * | 1993-12-01 | 2001-06-04 | 信越化学工業株式会社 | 有機けい素化合物とその製造方法 |
| JP4739613B2 (ja) * | 2001-09-20 | 2011-08-03 | 富士通株式会社 | レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
-
2004
- 2004-11-05 KR KR1020117013078A patent/KR101064063B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 2004-11-05 JP JP2005515324A patent/JP4470886B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-11-05 WO PCT/JP2004/016445 patent/WO2005044828A1/ja not_active Ceased
- 2004-11-05 KR KR1020067008701A patent/KR101097570B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 2004-11-08 TW TW093134008A patent/TW200519120A/zh not_active IP Right Cessation
-
2009
- 2009-08-27 JP JP2009197359A patent/JP5062231B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2010013653A (ja) | 2010-01-21 |
| KR20110070928A (ko) | 2011-06-24 |
| JP4470886B2 (ja) | 2010-06-02 |
| TW200519120A (en) | 2005-06-16 |
| WO2005044828A1 (ja) | 2005-05-19 |
| KR101064063B1 (ko) | 2011-09-08 |
| KR101097570B1 (ko) | 2011-12-22 |
| KR20060111489A (ko) | 2006-10-27 |
| TWI341842B (ja) | 2011-05-11 |
| JPWO2005044828A1 (ja) | 2007-05-17 |
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