JP4943361B2 - 光学補償フィルム、偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents
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Description
ここで、前記液晶表示装置は、偏光板と液晶セルとから主に構成されており、例えば、現在主流であるTwisted Nematicモード(TNモード)の薄膜トランジスタ(TFT)液晶表示装置においては、光学補償フィルムを偏光板と液晶セルの間に挿入し、表示品位の高い液晶表示装置を実現している。しかし、この方法によると液晶表示装置自体が厚くなる問題がある。
そこで、液晶表示装置を厚くすることなく、視野角に関する問題を解決するため、即ち表示品位の低下を防ぐため、特許文献2及び特許文献3では、透明支持体上にディスコティック(円盤状)化合物から形成された光学異方性層を塗設した光学補償フィルムを直接偏光板の保護フィルムとして用いる提案がされている。
このムラを改良するために、特許文献4では、重合性液晶にレベリング剤なるものを含有させた提案がされている。しかし、この提案は、重合性液晶がホモジニアス配向の場合にのみ有効であり、ハイブリッド配向をはじめとした複雑な配向には適用できない。
しかしながら、前記光学補償フィルムにおいては、光学異方性層の液晶化合物を配向させるために設けられる配向膜が水分を吸収しやすいため、前記光学補償フィルムと偏光子を貼りあわせた偏光板を搭載した液晶表示装置を高温高湿度下に置いた場合、偏光板が吸水し、伸縮して液晶セルのガラス基板との間で歪みが生じる。
そして、支持体や偏光子と比べて薄くて硬い前記光学異方性層は、その歪みに耐えられず亀裂を生じ、結果として表示品位を損なうことがあるため、耐久性の向上に改善の余地があった。
本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
<1> 支持体上に、ラジカル重合性基を有する高分子化合物と前記ラジカル重合性基と反応可能な重合開始剤とを含む配向膜層と、液晶化合物の少なくとも1種とフルオロ脂肪族基を有するポリマーの少なくとも1種とを含む光学異方性層とが少なくともこの順に積層され、前記重合開始剤が、前記配向膜層に含まれる高分子化合物の全固形分に対して、0.05〜30.0質量%含まれることを特徴とする光学補償フィルムである。
<2> 前記ラジカル重合性基を有する高分子化合物がポリビニルアルコール及び/又は変性ポリビニルアルコールを主成分として含む高分子化合物であって、前記配向膜層が固形分濃度0.5〜3.0質量%の配向膜形成用組成物を塗布、乾燥してなる硬化膜である前記<1>に記載の光学補償フィルムである。
<3> 前記重合開始剤の水への溶解度が、25℃において0.05〜5.00である前記<1>から<2>に記載の光学補償フィルムである。
<4> 前記重合開始剤の最大吸収波長が、200nm〜350nmである前記<1>から<3>のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
<5> 前記配向膜層の厚みは、0.07〜0.4μmである前記<1>から<4>のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
<6> 前記配向膜が、前記光学異方性層を積層する前に、前記ラジカル重合性基を有する高分子化合物を架橋させる前処理工程を経て形成されたものである前記<1>から<5>のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
<7> 前記<1>から<6>のいずれかに記載の光学補償フィルムと、偏光子とを貼合わせてなることを特徴とする偏光板である。
<8> 前記<7>に記載の偏光板と液晶セルとを備えたことを特徴とする液晶表示装置である。
本発明の光学補償フィルムは、支持体上に、ラジカル重合性基を有する高分子化合物と前記ラジカル重合性基と反応可能な重合開始剤とを含む配向膜層と、液晶化合物の少なくとも1種とフルオロ脂肪族基を有するポリマーの少なくとも1種とを含む光学異方性層とが少なくともこの順に積層してなる。
前記支持体は、ガラス、もしくは透明なポリマーフイルムであることが好ましく、光透過率が80%以上であることが好ましい。
前記ポリマーフイルムを構成するポリマーとしては、例えば、セルロースエステル、ノルボルネン系ポリマー、ポリメチルメタクリレートなどが挙げられる。前記セルロースエステルとしては、例えば、セルロースアセテート、セルロースジアセテートなどが挙げられる。
前記ポリマーとしては、市販のポリマーを用いてもよい。前記市販のポリマーとしては、ノルボルネン系ポリマーでは、例えば、アートン、ゼオネックス(いずれも商品名)などが挙げられる。
前記ポリマーとしては、以上例示したものの中でも、セルロースエステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがより好ましい。
ここで、低級脂肪酸とは、炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味し、セルロースアセテート(炭素原子数2)、セルロースプロピオネート(炭素原子数3)、又はセルロースブチレート(炭素原子数4)が好ましく、セルロースアセテートがより好ましい。
偏光板に用いられる保護フィルム、もしくは位相差フィルムに本発明の光学補償フィルムを使用する場合は、前記支持体のポリマーフイルムとしては、酢化度が、55.0〜62.5%であるセルロースアセテートを使用することが好ましく、57.0〜62.0%であるセルロースアセテートを使用することがより好ましい。
セルロースアセテートの粘度平均重合度(DP)は、250以上であることが好ましく、290以上であることがより好ましい。また、前記セルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるMw/Mn(Mwは質量平均分子量、Mnは数平均分子量)の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的には、Mw/Mnの値は、1.0〜1.7であることが好ましく、1.0〜1.65であることがより好ましく、1.0〜1.6であることが特に好ましい。
前記セルロースアセテートの、2位、3位、6位の置換度の合計に対する、6位の置換度の割合は、30〜40%であることが好ましく、31〜40%であることがより好ましく、32〜40%であることが特に好ましい。前記6位の置換度は、0.88以上であることが好ましい。なお、これら各位置の置換度は、NMRによって測定することできる。
6位置換度が高いセルロースアセテートは、例えば、特開平11−5851号公報の、段落番号0043〜0044に記載の合成例1、段落番号0048〜0049に記載の合成例2、段落番号0051〜0052に記載の合成例3の方法を参照して合成することができる。
支持体であるポリマーフィルムは、後述する配向膜との密着性の観点から、フィルム表面が親水化されていることが好ましい。親水化の手段としては、アルカリ鹸化処理が好ましい。
本発明において、支持体であるポリマーフィルムのアルカリ鹸化方法は、ポリマーフィルムにアルカリ溶液を塗布する工程、並びにアルカリ溶液をポリマーフィルムから洗い落とす工程を有することが好ましい。また、本発明では、これらの工程に加えてポリマーフィルムを予め室温以上に加熱する工程、及びポリマーフィルムの温度を室温以上に維持する工程を備えてなるのが好ましい。すなわち、ポリマーフィルムを予め室温以上に加熱する工程、ポリマーフィルムにアルカリ溶液を塗布する工程、ポリマーフィルムの温度を室温以上に維持する工程、並びにアルカリ溶液をポリマーフィルムから洗い落とす工程を有するのが好ましい。
アルカリ鹸化としては、アルカリ溶液中に光学フィルムを浸漬する方法、又は光学フィルム表面にアルカリ溶液を吹き付けもしくは塗布する方法等のいずれの方法も用いることができる。本発明においては、光学フィルムの片面のみをムラなく均一に鹸化できる、塗布方式によるアルカリ鹸化を行うこと、すなわちポリマーフィルムにアルカリ溶液を塗布する工程によって鹸化することがより好ましい。一方浸漬方法による鹸化は、特に有機溶媒を含むアルカリ鹸化では、有機溶媒を含まないものと比較し、格段に処理速度を早くすることが可能となる。
また、鹸化時間は、アルカリ溶液、鹸化の際の温度により適宜調整して決定するが、1秒から60秒の範囲で行われるのが好ましい。
尚、「ポリマーフィルムを、所定の温度にする」「温度が室温以上のポリマーフィルム」「ポリマーフィルムの温度を室温以上に維持する」とは、ポリマーフィルム全体の温度を所定の温度とする必要はなく、鹸化により処理される表面、すなわち鹸化反応が起こる
ポリマーフィルム表面が所定の温度となっていればよい。
ここで、ポリマーフィルムを室温以上の温度に加熱する手段としては、熱風の衝突(吹き付け)による直接加熱、加熱ロールによる接触伝熱、マイクロ波による誘導加熱、あるいは赤外線ヒーターによる輻射熱加熱等が好ましく利用できる。特に加熱ロールによる接触伝熱は、熱伝達効率が高く小さな設置面積で行える点、搬送開始時のフィルム温度の立上りが速い点で好ましい。一般の2重ジャケットロールや電磁誘導ロール(トクデン社製)が利用できる。加熱後のフィルム表面温度は、25〜120℃であることが好ましく、25〜100℃がさらに好ましい。
また、ポリマーフィルムの温度を維持する手段は、フィルムの片面がアルカリ溶液により濡れている状態であることを考慮して選択する。塗布の反対面への熱風の衝突(吹き付け)、加熱ロールによる接触伝熱、マイクロ波による誘導加熱、赤外線ヒーターによる輻射熱加熱等が好ましく利用できる。赤外線ヒーターは、非接触、かつ空気の流れを伴わずに加熱できるため、アルカリ溶液塗布面への影響を最小にできるため好ましい。赤外線ヒーターは、電気式、ガス式、オイル式あるいはスチーム式の遠赤外セラミックヒーターが利用できる。市販の赤外線ヒーター(例えば(株)ノリタケカンパニーリミテド製)を用いてもよい。熱媒体が、オイルまたはスチームを用いるオイル式またはスチーム式の赤外ヒーターは、有機溶剤が共存する雰囲気における防爆の観点で好ましい。ポリマーフィルムの温度は、アルカリ溶液塗布前に加熱した温度と同じでも異なっていてもよい。また、鹸化反応中に温度を連続的、または段階的に変更してもよい。フイルム温度は、20℃〜120℃、好ましくは25℃〜100℃である。フィルム温度の検出には、一般に市販されている非接触式の赤外線温度計が利用でき、上記温度範囲に制御するために、加熱手段に対してフィードバック制御を行ってもよい。
アルカリ溶液を塗布してから洗い落とすまでに上記温度範囲に保持する時間は、後述する搬送速度にもよるが、1秒〜5分に保つことが好ましく、2〜100秒間保つことがより好ましく、3〜50秒間保つことが特に好ましい。
これらの手段は、フィルム表面上のアルカリ溶液を室温以上に調整することもでき好ましい。
本発明においてアルカリ鹸化に用いられるアルカリ溶液は、pH11以上のアルカリ溶液が好ましい。より好ましくはpH12〜14である。
これらのアルカリ剤の中でも、アルカリ金属の水酸化物が好ましく、特に水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムの使用が、これらの量の調整により広い領域でのpH調整が可能となるため好ましい。
媒としては、水と混和可能な有機溶媒であればいずれも用いることができるが、沸点が120℃以下、更には60〜120℃、特には60〜100℃以下のものが好ましい。
水と有機溶媒の混合比は、3/97〜85/15質量比が好ましい。より好ましくは5/95〜60/40質量比であり、更に好ましくは15/85〜40/60質量比である。この範囲において、アシレートフィルムの光学特性を損なうことなく容易にフィルム全面が均一に鹸化される。
本発明に用いるアルカリ溶液は、界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤を添加することによって、表面張力を下げて塗布を容易にしたり、塗膜の均一性を上げてハジキ故障を防止したり、且つ有機溶媒が存在すると起こり易いヘイズを抑止したり、さらには鹸化反応が均一に進行するなどの利点がある。その効果は、後述する相溶化剤の共存によって特に顕著となる。用いられる界面活性剤には特に制限はなく、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン界面活性剤、フッ素系界面活性剤等のいずれであってもよい。すなわち、アルカリ溶液が、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤および両性界面活性剤から選ばれる少なくとも1つを含有するのが好ましい。特に、ノニオン界面活性剤が好ましい。
ノニオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド等が挙げられる。
本発明においては、特に、該界面活性剤が下記一般式(1)で表されるノニオン界面活性剤であるのが好ましい。
一般式(1) :R1−L1−Q1
式中、R1は炭素数8以上の(単独または修飾された)アルキル基を表し、L1はR1とQ1を連結する基を表し、直接結合または2価の連結基を表し、Q1は、ポリオキシエチレンユニット(重合度5〜150)、ポリグリセリンユニット(重合度3〜30)、親水性糖鎖ユニットから選ばれるノニオン親水性基を表す。
このようなノニオン界面活性剤の具体例としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルアミン、ポリオキシエチレンオレイルアミン、等が挙げられる。これらのノニオン性界面活性剤の質量平均分子量は、300〜50,000が好ましく、500〜5,000が特に好ましい。
一般式(2):
R11−O(CH2CHR12O)l−(CH2CHR13O)m−(CH2CHR14O)n−R15
一般式(2)中、R11〜R15は、それぞれ、水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、カルボニル基、カルボキシレート基、スルホニル基、スルホネート基を表す。
前記アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ヘキシル基等が挙げられ、前記アルケニル基の具体例としては、ビニル基、プロペニル基等が挙げられ、前記アルキニル基の具体例としては、アセチル基、プロピニル基等が挙げられ、前記アリール基の具体例としては、フェニル基、4−ヒドロキシフェニル基等が挙げられる。
l,m,nは0以上の整数を表す。但し、l,m,nの総てが0であることはない。
一般式(2)で表される化合物の具体例としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のホモポリマー、エチレングリコール、プロピレングリコールの共重合体等が挙げられる。前記共重合体の比率は、10/90〜90/10がアルカリ水溶液への溶解性の点から好ましい。また、共重合体の中でもグラフトポリマー、ブロックポリマーが、アルカリ鹸化溶液に対する溶解性とアルカリ鹸化処理の容易性の点から好ましい。
本発明に用いられるアルカリ溶液には、相溶化剤を含有させることも好ましい。本発明において、「相溶化剤」とは、温度25℃において、相溶化剤100gに対して水の溶解度が50g以上となるような親水性化合物をいう。相溶化剤への水の溶解度は、相溶化剤100gに対して、水80g以上であるのが好ましく、100g以上であるのがより好ましい。また、相溶化剤が液状化合物である場合は、沸点が100℃以上であるのが好ましく、120℃以上であるのがより好ましい。
例えば、サッカロース、トレハロース、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体、D,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット、アロズルシット、還元水あめが挙げられる。これらの糖類は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
中でも、アルキレンポリオール、ポリアルキレンオキシポリオール、糖アルコール等のポリオール化合物が好ましい。
その他の添加剤の含有量は、アルカリ溶液全体中0.001〜30質量%であるのが好ましく、0.005〜25質量%であるのがより好ましい。
上記のアルカリ溶液を用いたポリマーフィルムのアルカリ鹸化は、前記のとおり、フィルムの片面のみを処理できる塗布方式で実施することが好ましい。塗布方式としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、バーコーティング法、ロッドコーティング法(細い金属線を巻いたロッド)、ロールコーティング法(順転ロールコーター、逆転ロールコーター、グラビアコーター)、カーテンコーティング法、ダイコーティング法(エクストルージョンコーター(スロットコーター)、スライドコーター、スリットダイコーター)等の塗布法を挙げることができる。塗布方式に関しては、各種文献{例えば、“Modern Coating and Drying Technology”,E.Cohen and E.B.Gutoff編、VCH Publishers, Inc.刊(1992年)}に記載されている。アルカリ溶液の塗布量は、その後、水洗除去するため廃液処理を考慮して、極力抑制することが望ましく、1〜100cc/m2が好ましく、1〜50cc/m2がより好ましい。少ない塗布量域でも安定に操作できるロッドコーター、グラビアコーター、ブレードコーター、ダイコーターなどの塗工手段を用いることが好ましい。特に、少ない塗布量域で塗布スジのムラを発生することなく高速で塗布でき、塗布装置部と塗布液が塗布される表面が非接触の方法であるダイコーターが好ましい。
鹸化反応後は、水洗、希釈(または中和)後水洗等によりフィルム表面からアルカリ溶液及び鹸化処理反応物とを洗浄し除去することが好ましい。具体的には、例えば国際公開第02/46809号パンフレット等に記載の内容が挙げられる。
塗布されたアルカリ溶液を洗浄するためには、アルカリ希釈液を塗布する方法、アルカリ希釈液を吹き付ける方法が採用できる。これらの方法は、ポリマーフィルムを連続搬送しながら実施する上で好ましい方法である。アルカリ希釈液を吹き付ける方法は、後述する水の吹きつけ方法において、水の代わりにアルカリ希釈液を用いることによって実施することができる。アルカリ希釈液を塗布する方法は、後述する。アルカリ希釈液を塗布する方法は、必要最小限のアルカリ希釈液量を用いて実施できるためにより好ましい方法である。
本発明においては、水または水及び有機溶媒を含むアルカリ希釈液を用いてポリマーフィルム上に存在するアルカリ溶液を希釈する。本発明においてアルカリ溶液の希釈には、以下に述べるアルカリ濃度を低下させる目的の水または水及び有機溶媒を含むアルカリ希釈液を用いる。水または水及び有機溶媒を含むアルカリ希釈液の替わりに、pHを低下させる目的の酸溶液(後述)を用いることも可能である。
アルカリ希釈液は、アルカリ濃度を低下させることが目的であるため、アルカリ溶液中のアルカリ剤を溶解する溶媒でなければならない。よって、水、または有機溶媒と水との混合液を用いる。この際、二種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。前述したアルカリ溶液に用いた有機溶媒を優位に用いることができる。アルカリ希釈液には、水、及び炭素原子数が1〜4の1価もしくは多価アルコール、ケトン、カルボン酸から選ばれる1種、または2種以上の化合物からなる溶媒を用いることが好ましい。炭素原子数が5より大きい化合物は、水と相分離を起こす可能性があり、また後述する水洗工程で洗浄不良となり、作製したポリマーフィルムやそれを用いる光学フィルムで故障を起こす可能性があり、好ましくない。
以下、「水または水及び有機溶媒を含むアルカリ希釈液」を「アルカリ希釈液」とも言う。
アルカリ希釈液の塗布は、既にアルカリ溶液が塗布されたポリマーフィルム上にアルカリ希釈液を再度適用できる連続塗布可能な方式であることが望ましい。塗布は、前記アルカリ溶液の塗布工程で説明と同様のロールコーター(順転ロールコーター、逆転ロールコーター、グラビアコーター)、ロッドコーターが好ましく利用できる。ポリマーフィルム上に存在するアルカリ溶液とアルカリ希釈液とを速やかに混合してアルカリ濃度を低下させるためには、アルカリ希釈液が塗布される微小領域(塗布ビードと呼ぶこともある)において、流れが層流であるダイコーターよりも、流れが一様とならないロールコーターやロッドコーターが好ましい。これらコーターを用いることにより、アルカリ溶液を希釈しつつ、フィルム表面に存在する液量を減少させることができる。
アルカリ希釈液の塗布に用いられるコーター1次側(すなわち、鹸化反応後のアルカリ溶液がコーターに進入してくる側)へのアルカリ希釈液の供給量は、アルカリ溶液の濃度及びアルカリ希釈液の塗布速度に応じて決定する。塗布ビードにおける流れが層流であるダイコーターの場合、供給量は、元のアルカリ濃度を1.5〜10倍に希釈する量が好ましく、2〜5倍に希釈する量がさらに好ましい。ロールコーターやロッドコーターの場合は、塗布ビード内の流動が一様でないため、アルカリ溶液とアルカリ希釈液との混合が発生し、この混合した液がコーター2次側に再塗布される。したがって、この場合はアルカリ希釈液の供給量によって希釈率を特定することができないため、アルカリ希釈液塗布後のアルカリ濃度を測定する必要がある。ロールコーターやロッドコーターにおいても、供給量は、元のアルカリ濃度を1.5〜10倍に希釈する量が好ましく、2〜5倍に希釈する量がさらに好ましい。
アルカリ希釈液は、表面張力が35℃で72mN/m以下であるのが好ましく、35〜72mN/mであることがより好ましい。表面張力がこの範囲であるとアルカリ溶液を塗布したポリマーフィルム表面上に濡れ広がりやすくなり、塗布ビードが安定化するからである。希釈液の表面張力が72mN/mより高い場合は、塗布ビードが不安定となり(場合によってはコーター1次側で液切れを起こし、)鹸化したフィルムやそれを用いる光学フィルムにおいて光学的な故障(ムラ等)を起こすことがある。また35mN/mより低い場合は、希釈液によりポリマーフィルムからそれが含む疎水的成分を抽出、表面に付着させ、鹸化したフィルムやそれを有する光学フィルムにおいて光学的な故障(ブツ等)を起こすことがある。
アルカリによる鹸化反応を迅速に停止するため、酸溶液を用いることもできる。少ない量で中和するため、強酸を用いることが好ましい。さらに、水洗の容易さを考慮すると、アルカリと中和反応後に生成する塩が水に対する溶解度が高い酸を選定することが好ましい。塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、酢酸が特に好ましい。
また、アルカリ希釈液、酸溶液は、上記にあるようにポリマーフィルム上に存在するアルカリ溶液と混合され、混合した液が、コーター2次側のフィルム表面上に再塗布される。すなわち、希釈(または中和)され、再塗布される液量の減少によって、希釈洗浄工程が好適に行われる。希釈後に再塗布されるアルカリ混和溶液の量は3mL/m2以下であることが好ましい。更に好ましくは、1.5mL/m2以下である。さらにまた、後述のように希釈洗浄工程を2以上のコーターで行う場合、1つめのコーター(希釈洗浄工程における最初のコーター)における再塗布の量であることが好ましい。
そして、本発明においては、上記の希釈洗浄工程の後、希釈(または中和)洗浄によっても落としきれなかったアルカリ溶液をポリマーフィルムから洗い落とす工程を行う。
水洗浄工程は、アルカリ溶液を除去するために実施する。アルカリ溶液が残っていると、鹸化反応が進行するばかりでなく、後に塗布する配向膜ならびに液晶性分子層の塗膜形成や液晶分子の配向に影響を及ぼす。洗浄は、洗浄水を塗布する方法、洗浄水を吹き付ける方法、あるいは、洗浄水の入った容器にポリマーフィルムごと浸漬する方法で実施できる。洗浄水を塗布する方法と吹き付ける方法が、ポリマーフィルムを連続搬送しながら実施するために好ましい。洗浄水を吹き付ける方法では、噴流によってポリマーフィルム上の洗浄水とアルカリ性塗布液との乱流混合が得られるために、特に好ましい。
ーノズルを用いる方法で実施できる。塗布方式に関しては、「コーティングのすべて」荒木正義編集、(株)加工技術研究会(1999年)に記載がある。円錐状あるいは扇状のスプレーノズルをポリマーフィルムの幅方向に配列して、全幅に水流が衝突するように配置することができる。市販のスプレーノズル(例えば、(株)いけうち製、スプレーイングシステムズ社製)を用いてもよい。
理論希釈倍率=水洗水の使用量[cc/m2]÷アルカリ溶液の塗布量[cc/m2]
すなわち、水洗に使用される水の全てがアルカリ性塗布液の希釈混合に寄与したという仮定の理論希釈率を定義する。実際には、完全混合は起こらないので、理論希釈率を上回る水洗水量を使用することとなる。用いたアルカリ性塗布液のアルカリ濃度や副次添加物、溶媒の種類にもよるが、少なくとも100〜1000倍、好ましくは500〜1万倍、さらに好ましくは1000〜十万倍の理論希釈が得られる水洗水を使用する。
本発明の表面鹸化セルロースアシレートフィルムは、上述のようにアルカリ鹸化処理を行うことにより得られる。
(燐元素量の幅方向での変化量)
上記アルカリ鹸化方法による鹸化処理終了後のポリマーフィルム表面の幅方向での燐元素量をESCAで測定した場合の変化量は、0.005より小さいのが好ましい。より好ましくは、幅方向での変化量が0.004より小さい場合である。理由は未確定であるが、フィルム成分である燐を有する可塑剤が光学補償フィルムの光学特性を変化させる可能性がある。よって、燐の変化量が小さい場合、ムラが少なくなると推定している。
変化量の測定は、ポリマーフィルム鹸化方向に対する幅方向で9点サンプリングを行い、光電子分光スペクトロメーター{(株)島津製作所製、“ESCA750”型}を用いて、鹸化処理フィルム表面の炭素原子及び燐原子量を、各々C1s及びP2pの基準線に対するピーク値として測定し、その面積比をP量(P/C)として算出した。その最大値
と最小値差を燐元素量の幅方向での変化量とした。
本発明の配向膜(層)は、ラジカル重合性基を有する高分子化合物を含み、前記ラジカル重合性基と反応可能であって、ビニル基を2つ以上有する化合物が、前記配向膜層に含まれる高分子化合物の全固形分に対して、0.10〜30質量%含まれる。
上記高分子化合物の中でも、水溶性高分子化合物のポリ(N−メチロールアクリルアミド)、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、及び後述する変性ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーが好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール、及び変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビルアルコールが更に好ましく、変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
ルが好ましい。
前記配向膜には、前記配向膜に含まれる反応性基(例えば、(メタ)アクリロイル基)の重合反応を促進するために、重合開始剤が含まれている。重合開始剤は生産効率の点から光ラジカル重合開始剤が好ましいが、熱ラジカル重合開始剤を用いてもよい。
このような重合開始剤としては、最大吸収波長が、200nm〜350nmであることが好ましい。200nm未満であると光源の選定に制限があり、350nmを超えると光学補償フィルムに色味を生じて品質上好ましくないからである。下記一般式(II―A)、(III―A)で表されるIrgacure2959(チバスペシャルティーケミカルズ社製、最大吸収波長λmax:274nm)、WSトリアジン(三和ケミカル社製、最大吸収波長λmax:241nmが好ましい。
前記重合開始剤は、配向膜中に、ポリマーと架橋して取り込まれていてもよいし、分子としてそのまま含まれていてもよい。
上記ポリビニルアルコール、及び変性ポリビニルアルコールとしては、例えば鹸化度70〜100%のものであり、一般に鹸化度80〜100%のものであり、より好ましくは鹸化度85〜95%のものである。重合度としては、100〜3,000の範囲が好ましい。
前記配向膜に使用するポリマー(好ましくは水溶性ポリマー、より好ましくはポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコール)の架橋剤の例には、アルデヒド、N−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシ基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉が含まれる。2種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開2002−62426号公報の段落番号[0023]〜[0024]記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
前記架橋剤の添加量は、ポリマーに対して0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜15質量%が更に好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、1.0質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以下であることが更に好ましい。配向膜中の架橋剤の残存量が該上限値以下であれば、充分な耐久性が得られるので好ましい。そのような配向膜を液晶表示装置に使用したときには、長期使用、または高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合にもレチキュレーションの発生がないので好ましい。
本発明における配向膜形成用組成物は、特定のカルボン酸化合物を含有することが好ましい。これにより、形成された配向膜を配向手段により配向した後、光学異方性層を塗設して得られた光学補償シートの塗布面状が良好で、白抜け等の光学的欠陥を軽減、又は解消する改善効果を発現する。
この発現理由としては、配向膜に含有する特定のカルボン酸化合物が、配向膜の膜表面水素イオン濃度等を安定にして、光学異方性層塗設した時に、液晶分子の配向状態への影響を小さくすることが1つの要因と推測される。
また、透明支持体表面をアルカリ鹸化処理で親水化した場合には、該フィルム表面に僅かに残存した処理液があっても、安定して良好な光学的性能の配向膜が形成されると思われる。このとき、添加量により効果は異なってくるため、量を適宜調整する必要がある。特定のカルボン酸化合物の具体例としては、特開2005−115341号公報の段落番号[0162]〜[0176]に記載のもの等を使用できる。
前記ラビング処理は、液晶表示装置の液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴム、ナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法が用いられる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
該偏光膜としては、主に使用されているものとして延伸染色PVA(ポリビニルアルコール)がある。この直線偏光紫外線照射装置としては、例えば、特開平10−90684号公報に開示されているものが挙げられる。
前記光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するように設計することが好ましい。黒表示における液晶セル中の液晶化合物の配向状態は、液晶表示装置のモードにより異なる。この液晶セル中の液晶化合物の配向状態に関しては、IDW’00、FMC7−2、P.411〜414に記載されている。
前記棒状液晶性分子及びディスコティック液晶化合物(以下、ディスコティック化合物ということがある。)は、高分子液晶でもよいし、低分子液晶でもよく、更に、低分子液晶が架橋されて液晶性を示さなくなったものも含まれる。
前記光学異方性層は、液晶性分子、必要に応じて重合性開始剤、その他の成分を含む塗布液を、前記配向膜の上に塗布することで形成できる。
本発明に使用可能な棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーが挙げられる。言い換えると、棒状液晶化合物は、(液晶)ポリマーと結合していてもよい。
前記棒状液晶化合物については、季刊化学総説第22巻「液晶の化学(1994)日本化学会編」の第4章、第7章、及び第11章、及び液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第142委員会編の第3章に記載がある。
前記棒状液晶化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、不飽和重合性基又はエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基が更に好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。
前記ディスコティック液晶化合物には、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.71巻、111頁(1981年)に記載されているベンゼン誘導体、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.122巻、141頁(1985年)、Physics lett,A,78巻、82頁(1990)に記載されているトルキセン誘導体、B.Kohneらの研究報告、Angew.Chem.96巻、70頁(1984年)に記載されたシクロヘキサン誘導体及びJ.M.Lehnらの研究報告、J.Chem.Commun.,1794頁(1985年)、J.Zhangらの研究報告、J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁(1994年)に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
ディスコティック液晶化合物から光学異方性層を形成した場合、最終的に光学異方性層に含まれる化合物は、もはや液晶性を示す必要はない。
例えば、低分子のディスコティック液晶化合物が熱、又は光で反応する基を有しており、熱又は光によって該基が反応して、重合又は架橋し、高分子量化することによって光学異方性層が形成される場合などは、光学異方性層中に含まれる化合物は、もはや液晶性を失っていてもよい。
前記ディスコティック液晶化合物の好ましい例は、特開平8−50206号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶化合物の重合については、特開平8−27284号公報に記載がある。
従って、重合性基を有するディスコティック液晶化合物は、下記一般式(IV)で表わされる化合物であることが好ましい。
二価の連結基(L)は、アルキレン基、アリーレン基、−CO−、−NH−、−O−及び−S−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが更に好ましい。
二価の連結基(L)は、アルキレン基、アリーレン基、−CO−及び−O−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが特に好ましい。
前記アルキレン基の炭素原子数は、1〜12であることが好ましい。前記アルケニレン基の炭素原子数は、2〜12であることが好ましい。前記アリ−レン基の炭素原子数は、6〜10であることが好ましい。
L2:−AL−CO−O−AL−O−
L3:−AL−CO−O−AL−O−AL−
L4:−AL−CO−O−AL−O−CO−
L5:−CO−AR−O−AL−
L6:−CO−AR−O−AL−O−
L7:−CO−AR−O−AL−O−CO−
L8:−CO−NH−AL−
L9:−NH−AL−O−
L10:−NH−AL−O−CO−
L12:−O−AL−O−
L13:−O−AL−O−CO−
L14:−O−AL−O−CO−NH−AL−
L15:−O−AL−S−AL−
L16:−O−CO−AL−AR−O−AL−O−CO−
L17:−O−CO−AR−O−AL−CO−
L18:−O−CO−AR−O−AL−O−CO−
L19:−O−CO−AR−O−AL−O−AL−O−CO−
L20:−O−CO−AR−O−AL−O−AL−O−AL−O−CO−
L21:−S−AL−
L22:−S−AL−O−
L23:−S−AL−O−CO−
L24:−S−AL−S−AL−
L25:−S−AR−AL−
傾斜角の変化としては、例えば、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加及び減少を含む間欠的変化などが挙げられる。前記間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。このような角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加又は減少していればよい。ただし、前記傾斜角は連続的に変化することが好ましい。
表面側(空気側)のディスコティック化合物の長軸(円盤面)方向は、一般にディスコティック化合物あるいはディスコティック化合物と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。
前記ディスコティック化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、含フルオロ脂肪族基を含有するポリマー、重合性モノマー、ポリマー、配向剤、傾斜角制御剤などの成分を併用して、塗布膜の均一性、膜の強度、ディスコティック化合物の前記長軸の配向性などを向上できる。
前記重合性モノマーとしては、例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基、又はメタクリロイル基を有する化合物が挙げられる。
これらの添加成分の添加量は、ディスコティック化合物に対し、通常1〜50質量%であり、5〜30質量%であることが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が4以上のモノマーを混合して用いると、配向膜と光学異方性層との間の密着性を高めることができる。
前記ポリマーとしては、例えば、セルロースエステルなどが挙げられる。前記セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース、セルロースアセテートブチレートなどが挙げられる。
前記ポリマーの添加量は、ディスコティック化合物の配向を阻害しないように、ディスコティック化合物に対し、0.1〜10質量%が好ましく、0.1〜8質量%がより好ましく、0.1〜5質量%が特に好ましい。
前記ディスコティック化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、70〜300℃が好ましく、70〜170℃がより好ましい。
を挙げるが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。
(連結基群)
単結合、−O−、−CO−、−NR4−(R4は水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す)、−S−、−SO2−、−P(=O)(OR5)−(R5はアルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す)、アルキレン基およびアリーレン基。
(置換基群)
アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基などが挙げられる)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、3−ペンチニル基などが挙げられる)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12のアリール基であり、例えば、フェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる)、アラルキル基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜12のアラルキル基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基などが挙げられる)、置換もしくは無置換のアミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる)、
いかにLの具体的構造を例示するが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
m1及びm2はそれぞれ、1〜4であるのが好ましく、1〜2であるのがより好ましい。
n1は、0〜2であるのが好ましく、0又は1であるのがより好ましく、0であるのが最も好ましい。
メリゼーション法とは、ヨウ化物等の連鎖移動常数の大きいアルキルハライドをテローゲンとして、テトラフルオロエチレン等のフッ素含有ビニル化合物のラジカル重合を行い、テロマーを合成する方法である(Scheme1に例を示した)。
(連結基群)
単結合、−O−、−CO−、−NR4−、−S−、−SO2−、−P(=O)(OR5)−、アルキレン基、アリーレン基(R4は水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す。R5はアルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す。)
Lとしては、単結合、−O−、−CO−、−NR4−、−S−、−SO2−、アルキレン基、アリーレン基を含むことが好ましく、−CO−、−O−、−NR4−、アルキレン基、またはアリーレン基を含んでいることが特に好ましい。また、−O−とアルキレン基の双方を含む、アルキレンオキシ基を含んでいるのも好ましく、アルキレンオキシ基の繰り返を含むポリアルキレンオキシ基を含んでいるのも好ましい。
Lが、アルキレン基を含む場合、アルキレン基の炭素数は、好ましくは1〜10、より好ましくは1〜8、特に好ましくは1〜6である。特に好ましいアルキレン基の具体例として、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラブチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。また、アルキレン基(アルキレンオキシ基に含まれるアルキレン基も含む意味)は、分岐構造を有していてもよく、分岐部分のアルキレン鎖の炭素数は1〜3であるのが好ましい。
Lが、アルキレン基とアリーレン基を組み合わせて得られる2価の連結基(即ちアラルキレン基)を含む場合、アラルキレン基の炭素数は、好ましくは7〜34、より好ましくは7〜26、特に好ましくは7〜16である。特に好ましいアラルキレン基の具体例として、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基、メチレンフェニレン基等が挙げられる。
Lとして挙げられた基は、適当な置換基を有していても良い。このような置換基としては先にR1〜R3における置換基として挙げた置換基と同様なものを挙げることができる。
以下にLの具体的構造を例示するが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
より好ましくは水酸基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホ基であり、さらに好ましいのは水酸基またはカルボキシル基であり、特に好ましいのは水酸基である。
以下に、繰り返し単位Mを誘導するエチレン性不飽和モノマーの具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
例えば、前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、下記モノマー群から選ばれるモノマーから誘導される繰り返し単位を1種含有していてもよいし、2種以上含有していてもよい。
(1)アルケン類
エチレン、プロピレン、1−ブテン、イソブテン、1−ヘキセン、1−ドデセン、1−オクタデセン、1−エイコセン、ヘキサフルオロプロペン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど;
1,3−ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、2−エチル−1,3−ブタジエン、2−n−プロピル−1,3−ブタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ペンタジエン、1−フェニル−1,3−ブタジエン、1−α−ナフチル−1,3−ブタジエン、1−β−ナフチル−1,3−ブタジエン、2−クロロ−1,3−ブタジエン、1−ブロモ−1,3−ブタジエン、1−クロロブタジエン、2−フルオロ−1,3−ブタジエン、2,3−ジクロロ−1,3−ブタジエン、1,1,2−トリクロロ−1,3−ブタジエンおよび2−シアノ−1,3−ブタジエン、1,4−ジビニルシクロヘキサンなど;
(3a)アルキルアクリレート類
メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、n−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−エチルへキシルアクリレート、n−オクチルアクリレート、tert−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、2−クロロエチルアクリレート、2−ブロモエチルアクリレート、4−クロロブチルアクリレート、2−シアノエチルアクリレート、2−アセトキシエチルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、2−クロロシクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート(ポリオキシエチレンの付加モル数:n=2ないし100のもの)、3−メトキシブチルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2−ブトキシエチルアクリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルアクリレート、1−ブロモ−2−メトキシエチルアクリレート、1,1−ジクロロ−2−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど);
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、n−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、n−オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アリルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、3−メトキシブチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート(ポリオキシエチレンの付加モル数:n=2ないし100のもの)、2−アセトキシエチルメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、2−ブトキシエチルメタクリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、3−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、2−イソシアナトエチルメタクリレートなど;
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、タコン酸ジブチル、クロトン酸ジブチル、クロトン酸ジヘキシル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなど;
N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−n−プロピルアクリルアミド、N−tertブチルアクリルアミド、N−tertオクチルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−(2−アセトアセトキシエチル)アクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、N−メチルマレイミドなど;
アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど;
スチレン、ビニルトルエン、エチルスチレン、p−tertブチルスチレン、p−ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、p−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、p−メトキシスチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン、p−アセトキシスチレンなど;
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニルなど;
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、tert−ブチルビニルエーテル、n−ペンチルビニルエーテル、n−ヘキシルビニルエーテル、n−オクチルビニルエーテル、n−ドデシルビニルエーテル、n−エイコシルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フルオロブチルビニルエーテル、フルオロブトキシエチルビニルエーテルなど;および
N−ビニルピロリドン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、2−ビニルオキサゾリン、2−イソプロペニルオキサゾリンなど。
り、50質量%を超えると、液晶性組成物を表面(例えばポリマーフィルム等の透明支持体の表面)に塗布したときの塗布性が十分でなくハジキ故障が発生する場合がある。(Σai+Σbj)が前記範囲であると、かかる問題がなく、初期乾燥時のムラをより軽減することができる。
また、同様の観点から、Σai+Σbjに対するΣaiの比(Σai/(Σai+Σbj))が、0.2〜0.8であるのが好ましく、0.3〜0.6であるのがより好ましく、0.35〜0.55であるのがさらに好ましい。前記比(Σai/(Σai+Σbj))が、0.2未満であると、空気界面での液晶化合物の制御が十分でなく、光学フィルムのムラを低減させる本発明の効果が弱い場合があり、0.8を超えると、液晶性組成物を表面(例えばポリマーフィルム等の透明支持体の表面)に塗布したときの塗布性が十分でなくハジキ故障が発生する場合がある。Σai/(Σai+Σbj))が前記範囲であると、かかる問題がなく、初期乾燥時のムラをより軽減できるので好ましい。
(連結基群)
単結合、−O−、−CO−、−NR4a−(R4aは水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す)、−S−、−SO2−、−P(=O)(OR5a)−(R5aはアルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す)、アルキレン基およびアリーレン基;
Qaはカルボキシル基(−COOH)もしくはその塩、スルホ基(−SO3H)もしくはその塩、またはホスホノキシ{−OP(=O)(OH)2}もしくはその塩を表す。)
配向させた液晶性分子は、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により行なうことが好ましい。この重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応が好ましい。
前記光重合開始剤としては、例えば、米国特許2367661号、同2367670号の各明細書に記載されているα−カルボニル化合物、米国特許2448828号明細書に記載されているアシロインエーテル、米国特許2722512号明細書に記載されているα−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、米国特許3046127号、同2951758号の各明細書に記載されている多核キノン化合物、米国特許3549367号明細書に記載されているトリアリールイミダゾールダイマーとp−アミノフェニルケトンとの組み合わせ、特開昭60−105667号公報、米国特許4239850号明細書に記載されているアクリジン化合物及びフェナジン化合物、米国特許4212970号明細書に記載されているオキサジアゾール化合物などが挙げられる。
前記液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。その照射エネルギーは、20〜50J/cm2の範囲にあることが好ましく、20〜5,000mJ/cm2の範囲にあることがより好ましく、100〜800mJ/cm2の範囲にあることが更に好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
、フッ素系ポリマー等の添加剤を含有する塗布液を調製し、該塗布液を配向膜表面に塗布・乾燥することで形成される。
フッ素化合物としては、従来公知の化合物が挙げられるが、具体的には、例えば特開2001−330725号公報の段落番号[0028]〜[0056]に記載のフッ素系化合物等が挙げられる。
本発明のように、非常に均一性の高い光学補償フィルムを作製する場合には、表面張力が25mN/m以下であることが好ましく、22mN/m以下であることがより好ましい。
前記塗布液の塗布は、公知の方法により行なうことができ、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法などが挙げられる。
前記光学異方性層の厚さは、0.1〜20μmであることが好ましく、0.5〜15μmであることがより好ましく、1〜10μmであることが更に好ましい。なお、前記光学異方性層には、この上に保護層を設けてもよい。
次に、本発明の好ましい光学補償フィルムを連続的に製造する方法について説明する。
本発明の光学補償フィルムの製造方法は、例えば、下記(1)〜(6)の工程を連続して行う。
セルロースエステルアセテート溶液組成物を加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製しておく一方、別のタンク等にてセルロースアセテート(リンター)、レターデーション上昇剤等を加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製する。
前記セルロースアセテート溶液に前記レターデーション上昇剤溶液を混合し、充分に攪拌してドープを調製する。このドープを、バンド流延機を用いて流延し、支持体を作製する。
前記支持体は、配向膜を塗布方式で設ける場合には、該支持体表面に密着性を付与し、配向膜用塗布液が均一に塗布されるように表面処理を施すことが好ましい。表面処理方法としては、下塗り層を設ける方法、コロナ放電処理、グロー放電処理、紫外線照射処理などがあるが、セルロースアセテートフィルムの表面処理としては、アルカリ鹸化処理が極めて有効である。アルカリ鹸化処理は、(a)支持体を予め室温以上に加熱する工程、(b)支持体にアルカリを塗布する工程、(c)支持体の温度を室温以上に維持する工程、(d)支持体からアルカリ液を洗い落とす工程からなる。
前記支持体密着性付与処理工程で得られた支持体上に、前記ラジカル重合性基と反応可能な重合開始剤を含む配向膜塗布液を塗布し、乾燥して配向膜を作製する。前記配向膜には、支持体の所定軸方向にラビング処理を行う。
本発明においては、配向膜が形成されてから、光学異方性層が形成されるまでの間に、前記配向膜に対して紫外線照射を行い、前記配向膜の内部を硬化させる前処理工程が含まれることが好ましい。
本工程のように、光学異方性層が形成される前に、配向膜に対して紫外線を照射し、該配向膜の内部を硬化させることにより、配向膜の界面だけでなく、内部もある程度硬化しているので、配向膜自身の膨張率が低下し、製品として積層化された光学補償フィルムを多湿下に置いた場合でも、配向膜の膨潤を防ぐことができる。
前記配向膜に対して照射する紫外線の照射量は、60mJ/cm2〜600mJ/cm2が好ましく、80mJ/cm2〜300mJ/cm2がより好ましく、100mJ/cm2〜200mJ/cm2が更に好ましい。本工程において配向膜に対して照射する紫外線の照射量が60mJ/cm2以下だと、配向膜の硬化が不完全となり、多湿下に置いた場合に、配向膜の膨潤が進行する虞がある。また、前記照射量が600mJ/cm2以上だと、配向膜の硬化が必要以上に進行し、後述する光学異方性層形成工程において、配向膜上の光学異方性層の形成が不完全となり、光学異方性層の配向性不良となるおそれがある。
ここで、前記内部とは、支持体と、配向膜と、光学異方性層とを積層し、その積層方向を「厚さ方向」とした場合、前記配向膜の支持体側の界面から、厚さ方向に0〜0.7μmの深さの領域であって、支持体側の界面も含む領域である。
また、該前処理工程によって内部が硬化されたことは、オスミウム染色法を用いて配向膜の断面を透過型電子顕微鏡写真で確認したときに、ラジカル重合性基の反応率の分布が内部において顕在化していることが確認できることにより、同定することができる。
前記配向膜層が形成された支持体は、ラビング処理装置によりラビング処理が施され、前記ラビング装置に隣接して用いられた表面除塵機により除塵される。
ディスコティック液晶性化合物、光重合開始剤等を溶解した溶液に、更に前記フルオロ脂肪族基含有共重合体を加え、光学異方性層形成用の塗布液を調製する。
この塗布液を、前記配向膜上に、連続的に塗布し、加熱して、ディスコティック液晶性化合物を配向させ、照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、室温まで放冷し、光学異方性層付き光学補償フィルムを作製する。
本発明の偏光板は、本発明の前記光学補償フィルムと、偏光子とを少なくも含む。
このように、本発明の前記光学補償フィルムは、偏光子と貼り合せて偏光板を作製することで、その機能を著しく発揮する。
前記偏光子(以下、「偏光膜」と称することもある。)としては、例えば、Optiva社製のものに代表される塗布型偏光膜、バインダーと、ヨウ素又は二色性色素とからなる偏光膜などが好ましい。
前記偏光子におけるヨウ素及び二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。前記ヨウ素及び二色性色素は、バインダー分子に沿って配向するか、二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。
ここで、汎用の偏光子は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素をバインダー中に浸透させることで作製されるのが一般的である。
前記汎用の偏光子は、ポリマー表面から4μm程度(両側合わせて8μm程度)にヨウ素もしくは二色性色素が分布している。このため、十分な偏光性能を得るためには、前記バインダーの厚みは、10μm以上であることが好ましい。一方、厚みの上限については、特に制限はないが、偏光板を液晶表示装置に使用した場合に発生する光漏れ現象の観点からは、薄い程好ましい。このため、30μm以下であることが好ましく、25μm以下がより好ましく、20μm以下が特に好ましい。20μm以下であると、光漏れ現象は、17インチの液晶表示装置で観察されなくなる。浸透度は、ヨウ素もしくは二色性色素の、溶液濃度、浴槽温度、浸漬時間により制御することができる。
また、前記ポリマーには、架橋剤により架橋構造を導入してもよい。該架橋構造は、反応活性の高い化合物である架橋剤を用い、バインダー間に、架橋剤に由来する結合基を導入し、バインダー間を架橋することにより形成することができる。
前記架橋は一般に、ポリマー、又はポリマーと架橋剤との混合物を含む塗布液を、透明支持体上に塗布したのち、加熱を行なうことにより行なわれる。架橋させる処理は、最終商品の段階で耐久性が確保できればよいため、最終の偏光板を得るまでのいずれの段階で行なってもよい。
これらの中でも、前記ポリマーとしては、例えば、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーが好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
前記変性ポリビニルアルコールは、ポリビニルアルコールに対し、共重合変性、連鎖移動変性あるいはブロック重合変性により変性基を導入して得られる。前記共重合変性では、変性基として、COONa、Si(OH)3、N(CH3)3・Cl、C9H19COO、SO3Na、C12H25を導入することができる。前記連鎖移動変性では、変性基として、COONa、SH、SC12H25を導入することができる。
前記変性ポリビニルアルコールの重合度は、100〜3,000が好ましい。前記変性ポリビニルアルコールにとしては、例えば、特開平8−338913号、同9−152509号、及び同9−316127号の各公報などに記載されている。
前記ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールとしては、これらの中でも、鹸化度が85〜95%の未変性ポリビニルアルコール、及びアルキルチオ変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。なお、前記ポリビニルアルコール、及び変性ポリビニルアルコールは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記バインダーは、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいてもよい。ただし、その残存する架橋剤の量は、バインダー中に1.0質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以下であることがより好ましい。前記バインダー中に1.0質量%を超える量で架橋剤が含まれていると、耐久性に問題が生じる場合がある。即ち、架橋剤の残留量が多い偏光膜を液晶表示装置に組み込み、長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合に、偏光度の低下が生じることがある。
前記架橋剤としては、例えば、米国再発行特許23297号明細書に記載されている。また、例えば、硼酸、硼砂等のホウ素化合物も、架橋剤として用いることができる。
前記二色性色素としては、例えば、C.I.ダイレクト・イエロー12、C.I.ダイレクト・オレンジ39、C.I.ダイレクト・オレンジ72、C.I.ダイレクト・レッド39、C.I.ダイレクト・レッド79、C.I.ダイレクト・レッド81、C.I.ダイレクト・レッド83、C.I.ダイレクト・レッド89、C.I.ダイレクト・バイオレット48、C.I.ダイレクト・ブルー67、C.I.ダイレクト・ブルー90、C.I.ダイレクト・グリーン59、C.I.アシッド・レッド37などが挙げられる。
また、前記二色性色素としては、例えば、特開平1−161202号、同1−172906号、同1−172907号、同1−183602号、同1−248105号、同1−265205号、同7−261024号の各公報などに記載されている。
前記二色性色素は、遊離酸、アルカリ金属塩、アンモニウム塩、又はアミン塩として用いられる。また、2種類以上の二色性色素を配合することにより、各種の色相を有する偏光膜を製造することができる。
前記二色性色素としては、これらの中でも、偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物(色素)を用いた偏光膜、黒色を呈するように各種の二色性分子を配合した偏光膜又は偏光板が、単板透過率及び偏光率共に優れており好ましい。
前記偏光度は、波長550nmの光において、90〜100%の範囲にあることが好ましく、95〜100%の範囲にあることがより好ましく、99〜100%の範囲にあることが特に好ましい。
前記接着剤の層の厚みは、乾燥後に0.01〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05〜5μmの範囲にあることがより好ましい。
前記偏光膜は、歩留まりの観点から、バインダーを偏光膜の長手方向(MD方向)に対し、10〜80°傾斜して延伸するか(延伸法)、もしくはラビングした(ラビング法)後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。傾斜角度は、液晶ディスプレイ(LCD)を構成する液晶セルの両側に貼り合わされる2枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦方向又は横方向のなす角度とにあわせるように延伸することが好ましい。
前記傾斜角度は、通常45゜であるが、近年は、透過型LCD、反射型LCD、及び半透過型LCDにおいて必ずしも45°でない装置が開発されており、延伸方向はLCDの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
延伸工程は、斜め延伸を含めて数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。また、斜め延伸前に、横あるいは縦に、幅方向の収縮を防止する程度の延伸を行ってもよい。
延伸は、二軸延伸におけるテンター延伸を左右異なる工程で行うことによって行なうことができる。前記二軸延伸は、通常のフィルム製膜において行われている延伸方法と同様である。前記二軸延伸では、左右異なる速度によって延伸されるため、延伸前のバインダーフィルムの厚みが左右で異なるようにする必要がある。流延製膜では、ダイにテーパーを付けることにより、バインダー溶液の流量に左右の差をつけることができる。
前記延伸法では、以上のようにして偏光膜のMD方向に対して10〜80°斜め延伸されたバインダーフィルムが製造される。
該ラビングは、ラビングロール自身の真円度、円筒度、振れ(偏芯)がいずれも30μm以下であるラビングロールを用いて行なうことが好ましい。前記ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、0.1〜90゜が好ましい。ただし、特開平8−160430号公報に記載されているように、360゜以上巻き付けることでも、安定なラビング処理を得ることもできる。
長尺フィルムをラビング処理する場合は、フィルムを搬送装置により一定張力の状態で1〜100m/分の速度で搬送することが好ましい。この際、前記ラビングロールは、任意のラビング角度設定のため、フィルム進行方向に対して水平方向に回転自在とされることが好ましく、具体的には0〜60゜の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。該ラビング角度は、液晶表示装置に使用する場合は、40〜50゜が好ましく、45゜が特に好ましい。
前記偏光膜の、光学異方性層とは反対側の表面には、ポリマーフィルムを配置し、光学異方性層/偏光膜/ポリマーフイルムの配置とすることが好ましい。
偏光板の透明保護膜の代わりに光学補償フィルムを使用する場合、光学補償フィルムと偏光板の透明保護膜との接着が問題となる。本発明では、光学補償フィルムの偏光膜側の面を表面処理することにより、光学補償フィルムと偏光膜との接着を改善することができる。
表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、オゾン処理、酸処理又はアルカリ処理を実施する。
コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、オゾン処理、酸処理、アルカリ処理等の処理方法は、例えば、公開技報公技番号2001−1745の30〜31頁に記載の内容が挙げられる。本発明は、アルカリ処理することが好ましく、前記したフィルムの鹸化処理で記載と同様の内容のものが挙げられる。
本発明の液晶表示装置は、本発明の偏光板を有する。各液晶モードにおける好ましい形態について、以下で説明する。
TN(Twisted Nematic)モードの液晶セルは、カラー薄膜トランジスタアレイ(TFT)液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
前記TNモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
また、前記セル中央部の棒状液晶性分子に対しては、長軸が寝ている水平配向であるホモジニアス配向の棒状液晶性分子、又は(透明)支持体で補償することもでき、前記セルの基板近傍の棒状液晶性分子に対しては、ハイブリッド配向のディスコティック化合物で補償することもできる。
前記ホモジニアス配向の液晶性分子は、液晶性分子の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が5°未満の状態で配向している。
前記ハイブリッド配向の液晶性分子は、液晶性分子の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が15°よりも大きいことが好ましく、15〜85゜であることがより好ましい。
Rth={(nx+ny)/2−nz}×d・・・・・・・・・式(A)
Re=(nx−ny)×d・・・・・・・・・・・・・・・・・式(B)
ただし、前記式(A)、(B)中、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を表し、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を表し、nzはフィルムの厚み方向の屈折率を表す。dは、フィルムの厚さを表す。
前記ホメオトロピック配向(水平配向)しているディスコティック化合物層及びホモジニアス配向(水平配向)している棒状液晶性分子層に関しては、特開平12−304931号及び同12−304932号の各公報に記載されている。前記ハイブリッド配向している円盤状液晶性分子層に関しては、特開平8−50206号公報に記載されている。
OCB(Optically Compensatory Bend)モードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に、対称的に配向させるベンド配向モードの液晶セルである。前記ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、例えば、米国特許4583825号、同5410422号の各明細書に記載されている。
前記ベンド配向モードの液晶セルは、棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB液晶モードと呼ばれる。
前記OCBモードの液晶セルも、TNモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
具体的には、(透明)支持体上のディスコティック化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性分子がホモジニアス配向している光学異方性層は、Rthが150〜500nm、Reが20〜70nmであることが好ましい。
VA(Vertically Aligned)モードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。前記VAモードの液晶セルには、例えば、(1)特開平2−176625号公報に記載されている、棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル、(2)SID97、Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845に記載されている、視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化したMVAモードの液晶セル、(3)日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)に記載されている、棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル、及び(4)LCDインターナショナル98で発表されたSURVAIVALモードの液晶セルなどが挙げられる。
前記ホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性分子がホモジニアス配向している光学異方性層は、Rthが150〜500nm、Reが20〜70nmであることが好ましい。
その他、ECB(Electrically Controlled Bend)モード、及びSTN(Super Twisted Nematic)モードの液晶表示装置に対しても、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。
(光学補償フィルム(KH−1)の作製)
<支持体(PK−1)の作製>
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
・ 酢化度60.9%のセルロースアセテート(リンター)・・・・・・・80.0質量部
・ 酢化度60.8%のセルロースアセテート(リンター)・・・・・・・20.0質量部
・ トリフェニルホスフェート(可塑剤)・・・・・・・・・・・・・・・・7.8質量部
・ ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤)・・・・・・・・・・・・3.9質量部
・ メチレンクロライド(第1溶媒)・・・・・・・・・・・・・・・・300.0質量部
・ メタノール(第2溶媒)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・54.0質量部
・ 1−ブタノール(第3溶媒)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・11.0質量部
次いで、セルロースアセテート溶液464質量部に、レターデーション上昇剤溶液36質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。なお、レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート100質量部に対して、5.0質量部であった。
この後、135℃の乾燥風で20分間乾燥し、残留溶剤量が0.3質量%の、支持体(PK−1)を作製した。
得られた支持体(PK−1)の幅は1,340mmであり、厚さは92μmであった。エリプソメーター(M−150、日本分光(株)製)を用い、波長590nmにおける面内レターデーション値(Re)を測定したところ、43nmであった。また、波長590nmにおける厚み方向のレターデーション値(Rth)を測定したところ、175nmであった。
このようにして作製された支持体(PK−1)を、2.0Nの水酸化カリウム溶液(25℃)に2分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。この支持体(PK−1)の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、63mN/mであった。
下記の組成の配向膜層形成用組成物を、液比重が0.968になるように調製し、支持体(PK−1)におけるアルカリ処理面上に、#18のワイヤーバーコータで31.5mL/m2塗布した。
その後、60℃の温風で60秒、更に90℃の温風で150秒乾燥し、配向膜層を作製した。
・下記に示すラジカル重合性基を有する高分子化合物・・・・・・・10質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・371質量部
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・119質量部
・グルタルアルデヒド(架橋剤)・・・・・・・・・・・・・・・・0.5質量部
・下記に示すカルボン酸化合物(添加剤)・・・・・・・・・・0.175質量部
・重合開始剤(一般式IIに示す)・・0.00534質量部(全固形分の0.05質量%)
下記の組成の光学異方性層形成用組成物を、液比重が0.912になるよう調製し、ラビング処理を施した配向膜上に、#3.2のワイヤーバーコータで5.4mL/m2塗布した。そして、130℃の温風で90秒、更に90℃の雰囲気下で160W/cm高圧水銀灯を用いて、4秒間UV照射し、円盤状化合物を重合させた。その後、室温まで放冷して光学異方性層を形成し、光学補償フィルム(KH−1)を作製した。
・下記一般式(VI)に示すディスコティック液晶性化合物・・・・・41.01質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
(V#360、大阪有機化学(株)製)・・・・・・・・・・・・・・4.06質量部
・セルロースアセテートブチレート
(CAB551−0.2、イーストマンケミカル社製)・・・・・・・0.34質量部
・セルロースアセテートブチレート
(CAB531−1、イーストマンケミカル社製)・・・・・・・・・0.11質量部
・下記一般式(VII)に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー1・・・・0.56質量部
・下記一般式(VIII)に示すフルオロ脂肪族基含有ポリマー2・・・0.06質量部
・光重合開始剤(イルガキュアー907、チバガイギー社製)・・・・・1.35質量部
・増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)・・・・・・・・0.45質量部
・メチルエチルケトン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
97.00質量部
<偏光子の作製>
平均重合度4,000、鹸化度99.8mol%のポリビニルアルコール(PVA)を水に溶解し、4.0%の水溶液を得た。この溶液をテーパーのついたダイを用いてバンド流延して乾燥し、延伸前の幅が110mmで、厚みは左端が120μm、右端が135μmになるようにしてフィルムを作製した。
このフィルムをバンドから剥ぎ取り、ドライ状態で45°方向に斜め延伸して、そのままヨウ素0.5g/L、ヨウ化カリウム50g/Lの水溶液中に30℃で1分間浸漬し、次いでホウ酸100g/L、ヨウ化カリウム60g/Lの水溶液中に70℃で5分間浸漬し、更に水洗槽にて20℃で10秒間水洗した後、80℃で5分間乾燥して偏光子(HF−01)を得た。得られた偏光子(HF−01)は、幅660mm、厚みは左右とも20μmであった。
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、光学補償フィルム(KH−1)を支持体(PK−1)面で偏光子(HF−01)の一方の面に貼り付けた。
また、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(TD−80U:富士フイルム(株)製)に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子(HF−1)の他方の面に貼り付けた。
なお、偏光子(HF−01)の長手方向と、支持体(PK−1)の長手方向と、更には、市販のトリアセチルセルロースフィルムの長手方向とが全て平行になるように配置した。このようにして、偏光板(HB−1)を作製した。
TN型液晶セルを使用した液晶表示装置(AQUOS LC20C1S、シャープ(株)製)に設けられている一対の偏光板を剥がし、この偏光板の代わりに偏光板(HB−1)を、光学補償フィルム(KH−1)が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。このとき、観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とが直交するように配置した。
−耐久性クラックの評価−
参考例1で作製した偏光板(HB−1)をガラスに貼り付けたものを試料とし、温度60℃、相対湿度90%の条件下でそれぞれ24時間放置した後、室温に戻して前記試料を目視及び実体顕微鏡で試料の亀裂(耐久性クラック)を観察した。耐久性クラックの度合いは以下の基準で判定した。
○:目視では観察できない微小な亀裂が発生しているが、製品としては問題にならない。×:目視でも観察できる亀裂が発生して、製品として使用不可能。
参考例1で作製した光学補償フィルム(KH−1)を偏光顕微鏡で観察し配向状態を観察した。配向性の評価は以下の基準で判定した。
○:僅かに極微小なシュリレーンが発生しているが、製品としては問題にならない。
△:微小なシュリレーンが発生しているが、製品としては問題とならない。
×:シュリレーンが発生して、製品として使用不可能。
参考例1で作製した偏光板(HB−1)を用いた液晶表示装置を全面中間調に調整し、正面及び法線から60°傾けた方向からムラを目視で下記評価基準に基づき評価した。その評価結果を表3に示す。本実施例の液晶表示装置では、どの方向から見てもムラは観察されなかった。
○:目立ちにくい僅かなムラが発生しているが、モニター用途の製品としては問題にならない。
△:目立ちにくい僅かなムラが発生しており、モニター用途では問題にならないが、TV用途又はそれに類する高輝度パネルで問題あり。
×:目立つムラが発生して、製品として使用不可能。
表3に示すように、参考例1の配向膜層形成用組成物における重合開始剤の含有量(全固形分に対する質量%)を変えた以外は参考例1と同様にして、光学補償フィルム、及び偏光板を作製し、耐久性クラック、配向性、及びムラを評価した。その評価結果を表3に示す。
表3に示すように、配向膜へ紫外線照射(照射量:60mJ/cm2)を行った以外は参考例1〜10と同様にして、光学補償フィルム、及び偏光板を作製し、耐久性クラック、配向性、及びムラを評価した。その評価結果を表3に示す。
表3に示すように、配向膜へ紫外線照射(照射量:120mJ/cm2)を行った以外は参考例1〜10と同様にして、光学補償フィルム、及び偏光板を作製し、耐久性クラック、配向性、及びムラを評価した。その評価結果を表3に示す。
表3に示すように、配向膜へ紫外線照射(照射量:300mJ/cm2)を行った以外は参考例1、3、6と同様にして、光学補償フィルム、及び偏光板を作製し、耐久性クラック、配向性、及びムラを評価した。その評価結果を表3に示す。
表3に示すように、配向膜へ紫外線照射(照射量:600mJ/cm2)を行った以外は参考例1、3、6と同様にして、光学補償フィルム、及び偏光板を作製し、耐久性クラック、配向性、及びムラを評価した。その評価結果を表3に示す。
参考例1において、重合開始剤を、「Irgacure2959」から、下記一般式(VII)に示す「WSトリアジン」に代えた以外は、参考例1と同様にして、光学補償フィルム及び偏光板を作製し、耐久性クラック、配向性、及びムラを評価した。その評価結果を表3に示す。
参考例1において、配向膜形成用組成物に重合開始剤を含有しない以外は、参考例1と同様にして、光学補償フィルム及び偏光板を作製し、耐久性クラック、配向性、及びムラを評価した。その評価結果を表3に示す。
これに対し、比較例1の光学補償フィルム、及び偏光板では、重合開始剤が含まれていない、配向膜への紫外線照射処理がなされないため、耐久性が不良であった。
表4に示すように、実施例21の配向膜層形成用組成物の各成分の配合量を変えた以外は、参考例1と同様にして、配向膜層を調製した。この配向膜層の調製以外は参考例1と同様にして、光学補償フィルム、及び偏光板を作製し、耐久性クラック、配向性、及びムラを評価した。その評価結果を表4に示す。
なお、配向膜層の膜厚は、被検体である配向膜層に、四酸化オスミニニウム蒸気を晒し、その後、走査型電子顕微鏡(SEM)(JSM 6700F、日本電子株式会社製)にてその配向膜層を観察し、標準スケールと対比させて測定した。
特に、参考例40〜46の液晶表示装置は、ムラが全く発生せず、特に優れるものであった。なお、参考例47、48、50、51、52の液晶表示装置においては、ムラが発生したが、何れも目立ちにくいものであり、モニター用途の製品としては問題にならないものであった。
固形分濃度が3.0質量%を超える配向膜形成用組成物を用いて調製された配向膜層を含む参考例38の光学補償フィルムは、僅かに極微小なシュリレーンが発生したが、製品として問題となるものではなかった。参考例38〜52の偏光板は、何れも耐久性に優れ、クラックが全く発生しなかった。 固形分濃度が0.7質量%未満の配向膜形成用組成物を用いて調製された配向膜層を含む参考例51の光学補償フィルムは、微小なシュリレーンが発生したが、製品としては問題とならないものであった。
参考例51の液晶表示装置には、僅かなムラが発生したがモニター用途では問題とならないものであった。なお、このムラは、TV用途等の高輝度パネルにおいては問題となる場合がある。
Claims (9)
- 支持体上に、ラジカル重合性基を有する高分子化合物と前記ラジカル重合性基と反応可能な重合開始剤とを含む配向膜層と、液晶化合物の少なくとも1種とフルオロ脂肪族基を有するポリマーの少なくとも1種とを含む光学異方性層とが少なくともこの順に積層され、前記重合開始剤が、前記配向膜層に含まれる高分子化合物の全固形分に対して、0.05〜5.0質量%含まれており、60〜300mJ/cm 2 の紫外線を照射して前記ラジカル重合性基を有する高分子化合物が架橋された前記配向膜層であることを特徴とする光学補償フィルム。
- 前記ラジカル重合性基を有する高分子化合物がポリビニルアルコール及び/又は変性ポリビニルアルコールを主成分として含む高分子化合物であって、前記配向膜層が固形分濃度0.5〜3.0質量%の配向膜形成用組成物を塗布、乾燥してなる硬化膜である請求項1に記載の光学補償フィルム。
- 前記重合開始剤の水への溶解度が、25℃において0.01〜5.0質量%である請求項1から2のいずれかに記載の光学補償フィルム。
- 前記重合開始剤の最大吸収波長が、200nm〜350nmである請求項1から3のいずれかに記載の光学補償フィルム。
- 前記配向膜層の厚みは、0.07〜0.40μmであることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の光学補償フィルム。
- 前記配向膜層が前記光学異方性層を積層する前に前記ラジカル重合性基を有する高分子化合物を架橋させる前処理工程を経て形成されたものであることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の光学補償フィルム。
- 前記フルオロ脂肪族基を有するポリマーが、フルオロ脂肪族基含有モノマーにより誘導される繰り返し単位と下記一般式(1)で表される繰り返し単位とを含む共重合体である請求項1から6のいずれかに記載の光学補償フィルム。
ここでフルオロ脂肪族基含有モノマーにより誘導される繰り返し単位は、直鎖状の炭素数6〜10のフルオロ脂肪族基を側鎖に有し、該脂肪族基中の60%以上の水素原子がフッ素原子に置換されており、該脂肪族基はエステル結合、アミド結合、イミド結合およびチオエーテル結合のいずれかを介してポリマー主鎖と結合する。
一般式(1)中、R 1 、R 2 及びR 3 は、それぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表す。Lは単結合、−CO−、−O−、−NR 4 −(R 4 は水素原子またはアルキル基を表す)、アルキレン基またはアリーレン基を表し、これらの2つ以上を組み合わせて形成された2価の連結基であってもよい。Qはカルボキシル基(−COOH)とその塩、または水酸基を表す。 - 請求項1から7のいずれかに記載の光学補償フィルムと、偏光子とを貼合わせてなることを特徴とする偏光板。
- 請求項8に記載の偏光板と液晶セルとを備えたことを特徴とする液晶表示装置。
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