JP4895160B2 - Optical laminate - Google Patents
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Description
本発明は、光学積層体、特に、反射防止積層体に関する。 The present invention relates to an optical laminate, and particularly to an antireflection laminate.
液晶ディスプレイ(LCD)又は陰極管表示装置(CRT)等の画像表示装置における画像表示面は、蛍光燈等の外部光源から照射された光線による反射を少なくし、その視認性を高めることが要求される。これに対して、透明な物体の表面を屈折率の低い透明皮膜で被覆することにより反射率を低下させた光学積層体(例えば、反射防止積層体)を備えてなることにより、画像表示装置の表示面の反射を低減させ、視認性を向上させている。反射防止積層体の一例としては、光透過型基材の表面に、防眩層と、屈折率層とが積層されて形成されてなるものが挙げられる。 An image display surface in an image display device such as a liquid crystal display (LCD) or a cathode ray tube display device (CRT) is required to reduce reflection by light emitted from an external light source such as a fluorescent lamp and to improve its visibility. The On the other hand, by providing an optical laminate (for example, an antireflection laminate) in which the reflectance is lowered by coating the surface of a transparent object with a transparent film having a low refractive index, The reflection on the display surface is reduced and the visibility is improved. As an example of the antireflection laminate, there may be mentioned one formed by laminating an antiglare layer and a refractive index layer on the surface of a light transmission type substrate.
従来、光学積層体にあっては、各層の添加剤(導電性粒子、防眩剤)の物性およびその添加量等について好適なものを選択することにより、所望の光学特性を見出してきた。例えば、特開2003−75605号公報(特許文献1)では、防眩層に使用される透明樹脂の屈折率、粒子径、粒子の配合等について適切な値を選択し、防眩性積層体の光学特性を向上させることが提案されている。 Conventionally, in an optical layered body, desired optical characteristics have been found by selecting suitable ones for the physical properties of the additives (conductive particles, anti-glare agent) of each layer, the addition amount thereof, and the like. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-75605 (Patent Document 1), an appropriate value is selected for the refractive index, particle diameter, particle blending, etc. of the transparent resin used in the antiglare layer, and It has been proposed to improve the optical properties.
しかしながら、本発明者らが確認したところ、光学積層体の各層の相関関係に着目し、各層間を調整することにより、光学積層体自体の光学特性を向上させて高精細仕様の光学積層体が開発されたとの報告はなされていない。
本発明者等は、本発明時において、光透過性基材と防眩層の界面に着目し、この防眩層用組成物中に添加された浸透性溶剤と樹脂が光透過性基材を浸透し浸透層を形成することにより、優れた光学特性を付与することができるとの知見を得た。よって、本発明はかかる知見の下になされたものである。 At the time of the present invention, the inventors focused on the interface between the light transmissive substrate and the antiglare layer, and the permeable solvent and the resin added to the composition for the antiglare layer serve as the light transmissive substrate. It was found that excellent optical properties can be imparted by permeation and forming a permeation layer. Therefore, the present invention has been made under such knowledge.
従って、本発明による光学積層体は、
光透過性基材と、該光透過性基材の上に防眩層を備えてなるものであって、
前記防眩層が、前記光透過性基材の上に防眩層用組成物を付与して形成されてなるものであり、
前記防眩層用組成物中に含まれる浸透性溶剤と樹脂とが前記光透過性基材に浸透し、前記樹脂と前記光透過性基材とが渾然一体となって浸透層が形成されてなるものである。
Therefore, the optical laminate according to the present invention is
A light-transmitting substrate and an antiglare layer on the light-transmitting substrate,
The antiglare layer is formed by applying the antiglare layer composition on the light transmissive substrate,
The permeable solvent and the resin contained in the antiglare layer composition penetrate into the light-transmitting substrate, and the resin and the light-transmitting substrate are integrally integrated to form an osmotic layer. It will be.
また、本発明の好ましい別の態様による光学積層体は、光透過性基材と、該光透過性基材の上に帯電防止層と、防眩層とをこれらの順で備えてなるものであって、
前記防眩層が、前記帯電防止層の上に防眩層用組成物を付与して形成されてなるものであり、前記防眩層用組成物中に含まれる浸透性溶剤と樹脂とが前記光透過性基材に浸透し、前記樹脂と前記光透過性基材とが渾然一体となって浸透層が形成されてなるものである。
An optical laminate according to another preferred embodiment of the present invention comprises a light-transmitting substrate, and an antistatic layer and an antiglare layer on the light-transmitting substrate in this order. There,
The antiglare layer is formed by applying the antiglare layer composition on the antistatic layer, and the permeable solvent and the resin contained in the antiglare layer composition are It penetrates into the light transmissive base material, and the resin and the light transmissive base material are naturally integrated to form a permeation layer.
本発明の好ましい別の態様による光学積層体は、光透過性基材と、該光透過性基材の上にハードコート層と、防眩層とをこれらの順で備えてなる光学積層体であって、
前記防眩層が、前記ハードコート層の上に防眩層用組成物を付与して形成されてなるものであり、前記防眩層用組成物中に含まれる浸透性溶剤と樹脂とが前記光透過性基材に浸透し、前記樹脂と前記光透過性基材とが渾然一体となって浸透層が形成されてなるものである。
An optical laminate according to another preferred embodiment of the present invention is an optical laminate comprising a light transmissive substrate, a hard coat layer on the light transmissive substrate, and an antiglare layer in this order. There,
The antiglare layer is formed by applying the antiglare layer composition on the hard coat layer, and the permeable solvent and the resin contained in the antiglare layer composition are It penetrates into the light transmissive base material, and the resin and the light transmissive base material are naturally integrated to form a permeation layer.
本発明による光学積層体によれば、浸透層が形成されるため、ディスプレイ表示画面への蛍光灯などの写り込みと、面ギラとを防止する等の光学特性を発揮することができる。また、防眩層の最表面に形成される凹凸形状において樹脂成分が防眩剤に大量に付着することなく、所望の凹凸形状が形成されるので好ましい。本発明において、「面ギラ」とは、ディスプレイ内部からの透過光がディスプレイ表面から観察者の目に達する際、凹凸形状が起因となって生じるキラキラとした視認性を視認性を阻害するギラツキ光をいう。 According to the optical layered body of the present invention, since the permeation layer is formed, it is possible to exhibit optical characteristics such as prevention of reflection of a fluorescent lamp or the like on the display display screen and surface glare. Moreover, in the uneven | corrugated shape formed in the outermost surface of an anti-glare layer, since a desired uneven | corrugated shape is formed, without a resin component adhering to a glare-proof agent in large quantities, it is preferable. In the present invention, the “surface glare” is a glare light that impairs the visibility that is caused by the uneven shape when transmitted light from the inside of the display reaches the viewer's eyes from the display surface. Say.
1.光学積層体
本発明による光学積層体について、図1を用いて説明する。図1は光学積層体1の概略図である。光学積層体1(反射防止積層体)は、光透過性基材2の上面に防眩層7と低屈折率層9が形成されてなる。防眩層用組成物が光透過性基材2の上に塗付されると、防眩層用組成物に含まれる浸透性溶剤と樹脂とが、光透過性基材2の最表面から浸透し、防眩層用組成物中に含まれる樹脂と、光透過性基材とが渾然一体となった浸透層3が形成されてなる。この浸透層3が形成されることにより、本発明による光学積層体は優れた光学特性を発揮することができる。浸透層3はわかり易くするために、図1では、防眩層7と光透過性基材2と間に存在するように描かれているが、本発明にあっては、これら三層は実質的に界面が存在しないように形成されてなるものであり、そのような積層体が好ましい。
1. Optical Laminate The optical laminate according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic view of an optical laminate 1. The optical laminate 1 (antireflection laminate) is formed by forming an
本発明による好ましい光学積層体について、図2を用いて説明する。図2は光学積層体10(反射防止積層体)の概略図を示すものである。この光学積層体10は、図1に示した光学積層体1における光透過性基材2と防眩層7との間に、帯電防止層5またはハードコート層5を積層したものである。防眩層用組成物が帯電防止層5またはハードコート層5の上に塗付されると、防眩層用組成物に含まれる浸透性溶剤と樹脂とが、帯電防止層5またはハードコート層5を通過し、光透過性基材2の最表面から浸透し、防眩層用組成物中に含まれる樹脂と、光透過性基材とが渾然一体となった浸透層3が形成される。浸透層3はわかり易くするために、図2では、帯電防止層5またはハードコート層5と光透過性基材2と間に存在するように描かれているが、本発明にあっては、これら三層は実質的に界面が存在しないように形成されてなるものであり、そのような積層体が好ましい。
A preferred optical laminate according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 shows a schematic view of the optical laminate 10 (antireflection laminate). This
また、本発明のより好ましい態様によれば、図2に表される光学積層体10において、帯電防止層5またはハードコート層5が、光透過性基材2の上に帯電防止層用組成物またはハードコート層用組成物を付与して形成されてなるものであり、ここで、防眩層7が、帯電防止層5またはハードコート層5の上に防眩層用組成物を付与して形成されてなるものであり、帯電防止層用組成物またはハードコート層用組成物中に含まれる浸透性溶剤と樹脂と、防眩層用組成物中に含まれる浸透性溶剤と樹脂とが光透過性基材2に浸透し、帯電防止層用組成物またはハードコート層用組成物中に含まれる樹脂と、防眩層用組成物中に含まれる樹脂と、光透過性基材とが渾然一体となった浸透層3が形成されてなる光学積層体が提案される。
Further, according to a more preferred embodiment of the present invention, in the
本発明における光学積層体にあっては、その最終製品である光学積層体中の浸透層3に、浸透性溶剤は残存しないものが好ましい。
In the optical layered body in the present invention, it is preferable that the permeable solvent does not remain in the
1)浸透層
浸透層の存在は、光透過性基材と防眩層(さらに、帯電防止層、ハードコート層)等の各層との界面を実質的になくして、干渉縞を防止し優れた光学特性を付与することができる。また、防眩層の樹脂成分を調整することができ、その結果、防眩層の最表面の凹凸形状を所望の形状に形成することが可能となる。
1) Penetration layer Presence of the penetration layer substantially eliminates the interface between each layer such as a light-transmitting base material and an antiglare layer (an antistatic layer, a hard coat layer), and prevents interference fringes. Optical properties can be imparted. In addition, the resin component of the antiglare layer can be adjusted, and as a result, the uneven shape on the outermost surface of the antiglare layer can be formed into a desired shape.
本発明にあっては、浸透層の厚さは、0.1μm以上1.5μm以下であり、好ましくは下限が0.3μm以下であり、下限が0.9μm以上であり、より好ましくは下限が0.5μm以下であり、下限が0.7μm以上である。浸透層の厚さは、後記する浸透性溶剤の添加量により適宜調整されてよい。 In the present invention, the thickness of the permeation layer is 0.1 μm or more and 1.5 μm or less, preferably the lower limit is 0.3 μm or less, the lower limit is 0.9 μm or more, more preferably the lower limit is It is 0.5 μm or less, and the lower limit is 0.7 μm or more. The thickness of the osmotic layer may be appropriately adjusted depending on the amount of the permeable solvent to be described later.
2)防眩層
防眩層は浸透性溶剤と樹脂と防眩剤とにより形成されてよい。防眩層の膜厚は0.1〜100μm、好ましくは0.8〜20μmの範囲にあることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、防眩層としての機能を十分に発揮することができる。
2) Antiglare layer The antiglare layer may be formed of a permeable solvent, a resin, and an antiglare agent. The film thickness of the antiglare layer is in the range of 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 20 μm. When the film thickness is within this range, the function as an antiglare layer can be sufficiently exhibited.
1)浸透性溶剤
本発明にあっては、浸透性溶剤は、浸透性、膨潤性、浸透溶解性等のいずれの作用を含む溶剤を意味する。
浸透性溶剤の具体例としては、アセトン、ケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ニトロメタン、1,4−ジオキサン、ジオキソラン、N−メチルピロリドン、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、ジクロロメタン、トリクロロメタン、トリクロロエチレン、エチレンクロライド、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、クロロホルムが挙げられ、好ましくは、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、およびクロロホルムの群から選択される一種または二種以上の混合物が挙げられる。
1) Osmotic solvent In the present invention, the osmotic solvent means a solvent having any action such as permeability, swellability, and osmotic solubility.
Specific examples of the osmotic solvent include acetone, ketone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, nitromethane, 1,4-dioxane, dioxolane, N-methylpyrrolidone, ethyl acetate, methyl acetate, butyl acetate, dichloromethane, trichloromethane, trichloroethylene, Examples thereof include ethylene chloride, trichloroethane, tetrachloroethane, N, N-dimethylformamide, and chloroform, and preferably one or more selected from the group consisting of methyl ethyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, ethyl acetate, methyl acetate, dichloromethane, and chloroform Of the mixture.
2)樹脂
樹脂の具体例としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物(有機反応性ケイ素化合物を含む)を使用することができる。樹脂としては、熱可塑性の樹脂も使用できるが、熱硬化性樹脂を使用することがより好ましく、もっとも好ましいもは、電離放射線硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性組成物である。
2) As specific examples of the resin resin, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ionizing radiation curable resin, or an ionizing radiation curable compound (including an organic reactive silicon compound) can be used. As the resin, a thermoplastic resin can also be used, but it is more preferable to use a thermosetting resin, most preferably an ionizing radiation curable composition containing an ionizing radiation curable resin or an ionizing radiation curable compound. It is.
電離放射線硬化性組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び/又はモノマーを適宜に混合したものである。ここで、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。 The ionizing radiation curable composition is a mixture of a polymerizable unsaturated bond or a prepolymer, an oligomer, and / or a monomer having an epoxy group in a molecule. Here, the ionizing radiation refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules, and usually an ultraviolet ray or an electron beam is used.
電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。 Examples of prepolymers and oligomers in ionizing radiation curable compositions include unsaturated polyesters such as unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol condensates, and methacrylates such as polyester methacrylate, polyether methacrylate, polyol methacrylate, and melamine methacrylate. Acrylates such as polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polyol acrylate, and melamine acrylate, and cationic polymerization type epoxy compounds.
電離放射線硬化性組成物中のモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−(N,N−ジベンジルアミノ)メチル、アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、及び/又は分子中に2個以上のチオール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等を挙げることができる。 Examples of the monomer in the ionizing radiation curable composition include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene, methyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, methoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, and butyl acrylate. Acrylic esters such as methoxybutyl acrylate and phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, methoxyethyl methacrylate, ethoxymethyl methacrylate, phenyl methacrylate, lauryl methacrylate, etc. , 2- (N, N-diethylamino) ethyl acrylate, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl acrylate, 2- (N, N-dibenzylamino) methyl acrylate, acrylic acid- 2- (N, N-diethyla B) Unsaturated substituted amino alcohol esters such as propyl, unsaturated carboxylic acid amides such as acrylamide and methacrylamide, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol di Compounds such as acrylate, triethylene glycol diacrylate, polyfunctional compounds such as dipropylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, and / or two or more thiol groups in the molecule Polythiol compounds having, for example, trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithiopropylate, pentaerythritol tet And lathioglycolate.
通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、以上の化合物を必要に応じて、1種若しくは2種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマー又はオリゴマーを5重量%以上、前記モノマー及び/又はポリチオール化合物を95重量%以下とするのが好ましい。 Usually, as the monomer in the ionizing radiation curable composition, the above compounds are used alone or in combination of two or more as required, but in order to give ordinary application suitability to the ionizing radiation curable composition. Further, the prepolymer or oligomer is preferably 5% by weight or more, and the monomer and / or polythiol compound is preferably 95% by weight or less.
電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマー量を減らすか、官能基の数が1又は2のアクリレートモノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が3つ以上のアクリレートモノマーを使う等、電離放射線硬化性組成物の設計が可能である。ここで、官能基が1のものとして、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が2のものとして、エチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基が3以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。 When flexibility is required when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, it is preferable to reduce the amount of monomer or use an acrylate monomer having 1 or 2 functional groups. When wear resistance, heat resistance, and solvent resistance are required when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, ionizing radiation curing such as using an acrylate monomer with three or more functional groups It is possible to design a sex composition. Here, 2-hydroxy acrylate, 2-hexyl acrylate, and phenoxyethyl acrylate are exemplified as those having one functional group. Examples of those having 2 functional groups include ethylene glycol diacrylate and 1,6-hexanediol diacrylate. Examples of the functional group having 3 or more include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate.
電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整するため、電離放射線硬化性組成物に、電離放射線照射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。 In order to adjust physical properties such as flexibility and surface hardness when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, a resin that is not cured by ionizing radiation irradiation can be added to the ionizing radiation curable composition. . Specific examples of the resin include the following. Thermoplastic resins such as polyurethane resin, cellulose resin, polyvinyl butyral resin, polyester resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, and polyvinyl acetate. Among these, addition of a polyurethane resin, a cellulose resin, a polyvinyl butyral resin, or the like is preferable from the viewpoint of improving flexibility.
電離放射線硬化性組成物の塗布後の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物100重量部に対し、0.1〜10重量部である。 When hardening after application | coating of an ionizing radiation curable composition is performed by ultraviolet irradiation, a photoinitiator and a photoinitiator are added. As the photopolymerization initiator, in the case of a resin system having a radical polymerizable unsaturated group, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether and the like are used alone or in combination. In the case of a resin system having a cationic polymerizable functional group, an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, an aromatic iodonium salt, a metatheron compound, a benzoin sulfonic acid ester or the like is used alone or as a mixture as a photopolymerization initiator. . The addition amount of a photoinitiator is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of ionizing radiation-curable compositions.
電離放射線硬化性組成物には、次のような有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。
有機ケイ素化合物の1は、一般式RmSi(OR’)nで表せるもので、RおよびR’は炭素数1〜10のアルキル基を表し、Rの添え字mとOR’の添え字nとは、各々が、m+n=4の関係を満たす整数である。
In the ionizing radiation curable composition, the following organic reactive silicon compound may be used in combination.
1 of the organosilicon compound can be represented by the general formula R m Si (OR ′) n , R and R ′ represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a subscript m of R and a subscript n of OR ′ Each is an integer satisfying the relationship m + n = 4.
具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, tetrapenta Ethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltri Butoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, methyl Silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane and the like.
電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物は、シランカップリング剤である。具体的には、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。 The organosilicon compound that can be used in combination with the ionizing radiation curable composition is a silane coupling agent. Specifically, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ- Aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane / hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methyl Methoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl ] Ammonium chloride, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane and the like.
防眩剤
防眩剤は無機系、有機系のいずれであってもよく、その形状はいずれのものであってよく、例えば微粒子が挙げられる。微粒子の中でも樹脂ビーズが好ましくは挙げられる。微粒子はその屈折率が1.40〜1.60の値を有するものが好ましい。電離放射線硬化型樹脂、特にアクリレートまたはメタクリレート系樹脂の屈折率は、通常1.45〜1.55の値を示すことから、微粒子の屈折率を電離放射線硬化型樹脂の屈折率に近似するものを採用することにより、光学積層体の透明性を維持しつつ、防眩性を付与することが可能となるからである。
Anti- glare agent The anti-glare agent may be either inorganic or organic, and may have any shape, for example, fine particles. Among the fine particles, resin beads are preferable. The fine particles preferably have a refractive index of 1.40 to 1.60. Since the refractive index of an ionizing radiation curable resin, particularly an acrylate or methacrylate resin, usually shows a value of 1.45 to 1.55, the refractive index of fine particles approximates the refractive index of an ionizing radiation curable resin. This is because it is possible to impart antiglare properties while maintaining the transparency of the optical layered body.
電離放射線硬化型樹脂の屈折率に近い屈折率を持つ樹脂ビーズの具体例(かっこ内は屈折率を表す)としては、ポリメチルメタクリレートビーズ(1.49)、ポリカーボネートビーズ(1.58)、ポリスチレンビーズ(1.60)、ポリアクリルスチレンピーズ(1.57)、ポリ塩化ビニルビーズ(1.54)等が挙げられる。これらの樹脂ビーズの粒径は、1〜8μmのものが好適に用いられる。樹脂ビーズの添加量は、電離放射線硬化型樹脂100重量部に対して2〜20重量部、好ましくは16重量部程度である。 Specific examples of resin beads having a refractive index close to the refractive index of the ionizing radiation curable resin (the parentheses indicate the refractive index) include polymethyl methacrylate beads (1.49), polycarbonate beads (1.58), polystyrene. Examples thereof include beads (1.60), polyacryl styrene peas (1.57), and polyvinyl chloride beads (1.54). The particle diameter of these resin beads is preferably 1-8 μm. The addition amount of the resin beads is 2 to 20 parts by weight, preferably about 16 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable resin.
防眩層用組成物を調整する際に沈降防止剤を添加することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、樹脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、粒径が0.5μm以下、好ましくは0.1〜0.25μm程度のシリカビーズが挙げられる。沈降防止剤としてのシリカビーズの添加量は、電離放射線硬化型樹脂100重量部に対して0.1重量部未満程度が好ましい。この添加量により、樹脂ビーズの沈降を有効に防止することができ、かつ、塗膜の透明性を十分維持することができるからである。 It is preferable to add an antisettling agent when adjusting the composition for the antiglare layer. This is because by adding an anti-settling agent, precipitation of the resin beads can be suppressed and the resin beads can be uniformly dispersed in the solvent. Specific examples of the anti-settling agent include silica beads having a particle size of 0.5 μm or less, preferably about 0.1 to 0.25 μm. The amount of silica beads added as an anti-settling agent is preferably less than about 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of ionizing radiation curable resin. This is because the amount of addition can effectively prevent sedimentation of the resin beads and sufficiently maintain the transparency of the coating film.
3)光透過性基材
光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、セルローストリアセテート、ポリエステル、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはセルローストリアセテートが挙げられる。
本発明にあっては、これらの熱可塑性樹脂を薄膜の柔軟性に富んだフィルム体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板状体のものも使用することも可能である。
光透過性基材の厚さは、20μm以上300μm以下、好ましくは上限が200μm以下であり、下限が30μm以上である。
3) Light transmissive base material The light transmissive base material preferably has smoothness and heat resistance and is excellent in mechanical strength. Specific examples of materials forming the light-transmitting substrate include cellulose triacetate, polyester, cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, polyester, polyamide, polyimide, polyethersulfone, polysulfone, polypropylene, polymethylpentene, polychlorinated Examples thereof include thermoplastic resins such as vinyl, polyvinyl acetal, polyether ketone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, and polyurethane, and preferably cellulose triacetate.
In the present invention, it is preferable to use these thermoplastic resins as a film body rich in thin film flexibility. Can also be used.
The thickness of the light transmissive substrate is 20 μm or more and 300 μm or less, preferably the upper limit is 200 μm or less, and the lower limit is 30 μm or more.
4)その他の層
本発明による光学積層体は、光透過性基材と防眩層とにより基本的には構成されてなるが、光学特性を向上させる目的で下記の層を積層させることが好ましい。
4) Other layers The optical layered body according to the present invention is basically composed of a light-transmitting substrate and an antiglare layer, but the following layers are preferably laminated for the purpose of improving optical properties. .
帯電防止層
帯電防止層は、光透過性基材と防眩層との間に好ましくは積層される。帯電防止層用組成物は、帯電防止剤(導電剤)と、樹脂とを含んでなるものである。
Antistatic Layer The antistatic layer is preferably laminated between the light transmissive substrate and the antiglare layer. The antistatic layer composition comprises an antistatic agent (conductive agent) and a resin.
浸透性溶剤
本発明の好ましい態様によれば、帯電防止層用組成物浸透性溶剤を含んでなるものが好ましい。浸透性溶剤は、防眩層用組成物の項で説明したのと同様であって良い。帯電防止層用組成物と防眩層用組成物とにより浸透層を形成する場合、帯電防止層用組成物に含まれる浸透性溶剤と防眩層用組成物に含まれる浸透性溶剤との添加量を適宜調整することが好ましい。
Penetration Solvent According to a preferred embodiment of the present invention, those comprising a composition penetration solvent for an antistatic layer are preferred. The penetrating solvent may be the same as that described in the section of the antiglare layer composition. Addition of penetrating solvent contained in antistatic layer composition and penetrating solvent contained in antiglare layer composition when forming penetrating layer with antistatic layer composition and antiglare layer composition It is preferable to adjust the amount appropriately.
帯電防止剤(導電剤)
帯電防止剤の具体例としては、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第3級アミノ基、第4級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは電離放射線により重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
Antistatic agent (conductive agent)
Specific examples of the antistatic agent include quaternary ammonium salts, pyridinium salts, various cationic compounds having cationic groups such as primary to tertiary amino groups, sulfonate groups, sulfate ester bases, and phosphate ester bases. , Anionic compounds having an anionic group such as phosphonate group, amphoteric compounds such as amino acid series and amino sulfate ester series, nonionic compounds such as amino alcohol series, glycerin series and polyethylene glycol series, and alkoxides of tin and titanium And metal chelate compounds such as acetylacetonate salts thereof, and compounds obtained by increasing the molecular weight of the compounds listed above. Further, like a coupling agent having a tertiary amino group, a quaternary ammonium group, or a metal chelate portion and having a monomer or oligomer polymerizable by ionizing radiation or a functional group polymerizable by ionizing radiation. Polymerizable compounds such as organometallic compounds can also be used as antistatic agents.
また、帯電防止剤の具体例として導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ZnO(屈折率1.90、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。)、CeO2(1.95)、Sb2O2(1.71)、SnO2(1.997)、ITOと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫(1.95)、In2O3(2.00)、Al2O3(1.63)、アンチモンドープ酸化錫(略称;ATO、2.0)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(略称;AZO、2.0)等を挙げることができる。微粒子とは、1ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が0.1nm〜0.1μmのものである。 Moreover, electroconductive ultrafine particles are mentioned as a specific example of an antistatic agent. Specific examples of the conductive fine particles include those made of a metal oxide. Examples of such metal oxides include ZnO (refractive index 1.90, the numerical value in parentheses below represents the refractive index), CeO 2 (1.95), Sb 2 O 2 (1.71), SnO. 2 (1.997), indium tin oxide (1.95) often referred to as ITO, In 2 O 3 (2.00), Al 2 O 3 (1.63), antimony-doped tin oxide (abbreviation) ATO, 2.0), aluminum-doped zinc oxide (abbreviation: AZO, 2.0), and the like. The fine particles refer to those having a so-called submicron size of 1 micron or less, and preferably those having an average particle size of 0.1 nm to 0.1 μm.
3)樹脂
樹脂は、防眩層用組成物の項で説明したのと同様であって良い。
3) The resin resin may be the same as described in the section of the antiglare layer composition.
ハードコート層
ハードコート層は、光透過性基材と防眩層との間に好ましくは積層される。ハードコート層用組成物は、樹脂を含んでなるものである。本発明にあっては、ハードコート層用組成物は、導電剤をさらに含んでなるものが好ましい。本発明において、「ハードコート層」とは、JIS5600−5−4:1999で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚(硬化時)は0.1〜100μm、好ましくは0.8〜20μmの範囲にあることが好ましい。
Hard coat layer The hard coat layer is preferably laminated between the light-transmitting substrate and the antiglare layer. The composition for hard coat layers comprises a resin. In the present invention, the hard coat layer composition preferably further comprises a conductive agent. In the present invention, the “hard coat layer” refers to a layer having a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test specified in JIS 5600-5-4: 1999. The thickness of the hard coat layer (during curing) is in the range of 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 20 μm.
浸透性溶剤
本発明の好ましい態様によれば、ハードコート層用組成物は浸透性溶剤を含んでなるものであって良い。浸透性溶剤は、防眩層用組成物の項で説明したのと同様であって良い。ハードコート層用組成物と防眩層用組成物とにより浸透層を形成する場合、ハードコート層用組成物に含まれる浸透性溶剤と防眩層用組成物に含まれる浸透性溶剤との添加量を適宜調整することが好ましい。
Penetration Solvent According to a preferred embodiment of the present invention, the hard coat layer composition may comprise a penetration solvent. The penetrating solvent may be the same as that described in the section of the antiglare layer composition. Addition of penetrating solvent contained in hard coat layer composition and penetrating solvent contained in antiglare layer composition when forming penetrating layer with hard coat layer composition and antiglare layer composition It is preferable to adjust the amount appropriately.
樹脂
樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
The resin resin is preferably transparent, and specific examples thereof include an ionizing radiation curable resin that is a resin curable by ultraviolet rays or an electron beam, a mixture of an ionizing radiation curable resin and a solvent-drying resin, or a heat There are three types of curable resins, preferably ionizing radiation curable resins.
電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の(メタ)アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Specific examples of the ionizing radiation curable resin include those having an acrylate functional group, for example, a polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiroacetal resin, polybutadiene having a relatively low molecular weight. Resins, polythiol polyene resins, oligomers or prepolymers such as (meth) allylates of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols, and reactive diluents, and specific examples thereof include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meta ) Monofunctional monomers such as acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone and polyfunctional monomers such as polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) Acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, etc. .
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホソフィン等が挙げられる。 When using an ionizing radiation curable resin as an ultraviolet curable resin, it is preferable to use a photopolymerization initiator. Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, tetramethylchuram monosulfide, and thioxanthones. Further, it is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like.
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、透明基材の材料がTAC等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。 The solvent-drying resin used by mixing with the ionizing radiation curable resin mainly includes a thermoplastic resin. As the thermoplastic resin, those generally exemplified are used. By adding the solvent-drying resin, coating film defects on the coated surface can be effectively prevented. According to a preferred embodiment of the present invention, when the material of the transparent substrate is a cellulose resin such as TAC, as a preferred specific example of the thermoplastic resin, a cellulose resin such as nitrocellulose, acetylcellulose, cellulose acetate propionate, Examples thereof include ethyl hydroxyethyl cellulose.
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。 Specific examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melanin resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, silicon resin. And polysiloxane resin. When a thermosetting resin is used, a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier and the like can be further added as necessary.
任意成分
重合開始剤
ハードコート層を形成する際に、光重合開始剤を用いることができ、その具体例としては、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが挙げられる。この化合物は市場入手可能であり、例えば商品名イルガキュア184(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が挙げられる。
Optional ingredients
When forming a polymerization initiator hard coat layer, a photopolymerization initiator can be used, and specific examples thereof include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone. This compound is commercially available, for example, trade name Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals).
帯電防止剤および/または防眩剤
ハードコート層は、帯電防止剤および/または防眩剤を含んでなるものが好ましい。帯電防止剤は帯電防止層用組成物の項で、また、防眩剤は防眩層用組成物の項で説明したのと同様であってよい。
The antistatic agent and / or antiglare agent hard coat layer preferably contains an antistatic agent and / or antiglare agent. The antistatic agent may be the same as described in the section of the antistatic layer composition, and the antiglare agent may be the same as described in the section of the antiglare layer composition.
低屈折率層
本発明にあっては、低屈折率層を積層させてなるものが好ましく、具体的には、防眩性層の上に形成されることが好ましい。低屈折率層は、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有する樹脂、低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂から構成され、屈折率が1.46以下の、やはり30nm〜1μm程度の薄膜、または、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムの化学蒸着法もしくは物理蒸着法による薄膜で構成することができる。フッ素樹脂以外の樹脂については、帯電防止層を構成するのに用いる樹脂と同様である。
Low Refractive Index Layer In the present invention, a layer formed by laminating a low refractive index layer is preferable, and specifically, it is preferably formed on an antiglare layer. The low refractive index layer is composed of a resin containing silica or magnesium fluoride, a fluorine resin as a low refractive index resin, silica or a fluorine resin containing magnesium fluoride, and a refractive index of 1.46 or less. The film can also be composed of a thin film of about 30 nm to 1 μm, or a thin film of silica or magnesium fluoride by chemical vapor deposition or physical vapor deposition. The resin other than the fluororesin is the same as the resin used for constituting the antistatic layer.
低屈折率層は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが30〜90%、ヘキサフルオロプロピレンが5〜50%(以降も含め、百分率は、いずれも質量基準)を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が60〜70%であるフッ素含有共重合体100部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物80〜150部とからなる樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用いて、膜厚200nm以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率1.60未満(好ましくは1.46以下)の低屈折率層を形成する。 More preferably, the low refractive index layer can be composed of a silicone-containing vinylidene fluoride copolymer. Specifically, this silicone-containing vinylidene fluoride copolymer is a monomer containing 30 to 90% vinylidene fluoride and 5 to 50% hexafluoropropylene (including percentages below, all in terms of mass). It is obtained by copolymerization using the composition as a raw material, and comprises 100 parts of a fluorine-containing copolymer having a fluorine content of 60 to 70% and 80 to 150 parts of a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group. A low refractive index having a refractive index of less than 1.60 (preferably 1.46 or less) which is a thin film having a film thickness of 200 nm or less and is provided with scratch resistance by using this resin composition. Form a layer.
低屈折率層を構成する上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、モノマー組成物における各成分の割合が、フッ化ビニリデンが30〜90%、好ましくは40〜80%、特に好ましくは40〜70%であり、又ヘキサフルオロプロピレンが5〜50%、好ましくは10〜50%、特に好ましくは15〜45%である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを0〜40%、好ましくは0〜35%、特に好ましくは10〜30%含有するものであってもよい。 In the silicone-containing vinylidene fluoride copolymer constituting the low refractive index layer, the proportion of each component in the monomer composition is such that the vinylidene fluoride is 30 to 90%, preferably 40 to 80%, particularly preferably 40 to 40%. 70% and hexafluoropropylene is 5 to 50%, preferably 10 to 50%, particularly preferably 15 to 45%. This monomer composition may further contain 0 to 40%, preferably 0 to 35%, particularly preferably 10 to 30% of tetrafluoroethylene.
上記のモノマー組成物は、上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体の使用目的および効果が損なわれない範囲において、他の共重合体成分が、例えば、20%以下、好ましくは10%以下の範囲で含有されたものであってもよく、このような、ほかの共重合成分の具体例として、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、1,2−ジクロロ−1,2−ジフルオロエチレン、2−ブロモ−3,3,3−トリフルオロエチレン、3−ブロモ−3,3−ジフルオロプロピレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン、1,1,2−トリクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを例示することができる。 In the above monomer composition, other copolymer components are, for example, in the range of 20% or less, preferably in the range of 10% or less, within the range in which the intended purpose and effect of the silicone-containing vinylidene fluoride copolymer are not impaired. Specific examples of such other copolymerization components are fluoroethylene, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, 1,2-dichloro-1,2-difluoroethylene, 2-bromo-3,3,3-trifluoroethylene, 3-bromo-3,3-difluoropropylene, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,1,2-trichloro-3,3,3-tri Examples thereof include polymerizable monomers having fluorine atoms such as fluoropropylene and α-trifluoromethacrylic acid.
以上のようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が60〜70%であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は62〜70%、特に好ましくは64〜68%である。フッ素含有割合が、このような特定の範囲であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有し、かつ、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、薄膜の形成された表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。 The fluorine-containing copolymer obtained from the monomer composition as described above needs to have a fluorine content of 60 to 70%, preferably a fluorine content of 62 to 70%, particularly preferably 64 to 68. %. When the fluorine content is in such a specific range, the fluorine-containing polymer has good solubility in a solvent, and contains such a fluorine-containing polymer as a component. Since it has excellent adhesion to various substrates, it forms a thin film with high transparency and low refractive index and sufficiently excellent mechanical strength, so the scratch resistance of the surface on which the thin film is formed The mechanical properties such as the above can be made sufficiently high, which is extremely suitable.
このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で5,000〜200,000、特に10,000〜100,000であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が1.45以下、特に1.42以下、更に1.40以下であるものが好ましい。屈折率が1.45を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなる場合がある。 The fluorine-containing copolymer preferably has a molecular weight of 5,000 to 200,000, particularly 10,000 to 100,000 in terms of polystyrene-equivalent number average molecular weight. By using a fluorine-containing copolymer having such a molecular weight, the viscosity of the resulting fluorine-based resin composition becomes a suitable size, and therefore surely has a suitable coating property. It can be. The fluorine-containing copolymer preferably has a refractive index of 1.45 or less, particularly 1.42 or less, more preferably 1.40 or less. When a fluorine-containing copolymer having a refractive index exceeding 1.45 is used, a thin film formed from the obtained fluorine-based paint may have a small antireflection effect.
このほか、低屈折率層は、SiO2からなる薄膜で構成することもでき、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマCVD法等により、またはSiO2ゾルを含むゾル液からSiO2ゲル膜を形成する方法によって形成されたものであってもよい。なお、低屈折率層は、SiO2以外にも、MgF2の薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、SiO2薄膜を使用することが好ましい。上記の手法のうち、プラズマCVD法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行なうことが好ましく、また、被蒸着体をできるだけ低温度に維持して行なうことが好ましい。 In addition, the low refractive index layer also can be formed of a thin film made of SiO 2, an evaporation method, a sputtering method, or a plasma CVD method or the like, or to form a SiO 2 gel film from the sol solution containing SiO 2 sol It may be formed by a method. The low refractive index layer, in addition to SiO 2 also, the or a thin film MgF 2, but may be configured in other materials, in terms of high adhesion to the lower layer, it is preferable to use a SiO 2 thin film. Among the above methods, when the plasma CVD method is used, it is preferable to use organosiloxane as a raw material gas under the condition that there is no other inorganic vapor deposition source, and to maintain the deposition target as low as possible. It is preferable.
高屈折率層/中屈折率層
本発明の好ましい態様によれば、他の屈折率層(高屈折率層と中屈折率層)が反射防止性をさらに向上させるために設けられてよく、好ましくは防眩層と低屈折率層との間に設けられてなるものがよい。これらの屈折率層の屈折率は1.46〜2.00の範囲内で設定されてよい。また、本発明にあっては、中屈折率層は、その屈折率が1.46〜1.80の範囲内のものを意味し、高屈折率層は、その屈折率が1.65〜2.00の範囲内のものを意味する。
High Refractive Index Layer / Medium Refractive Index Layer According to a preferred embodiment of the present invention, other refractive index layers (high refractive index layer and medium refractive index layer) may be provided to further improve the antireflection property, preferably Is preferably provided between the antiglare layer and the low refractive index layer. The refractive index of these refractive index layers may be set within the range of 1.46 to 2.00. In the present invention, the middle refractive index layer means a layer having a refractive index in the range of 1.46 to 1.80, and the high refractive index layer has a refractive index of 1.65 to 2. Means within the range of .00.
これら屈折率層は、電離放射線硬化型樹脂と、粒子径100nm以下であり、所定の屈折率を有する超微粒子とにより形成されてよい。このような微粒子の具体例(かっこ内は屈折率を示す)としては、酸化亜鉛(1.90)、チタニア(2.3〜2.7)、セリア(1.95)、スズドープ酸化インジウム(1.95)、アンチモンドープ酸化スズ(1.80)、イットリア(1.87)、ジルコニア(2.0)が挙げられる。 These refractive index layers may be formed of an ionizing radiation curable resin and ultrafine particles having a particle diameter of 100 nm or less and having a predetermined refractive index. Specific examples of such fine particles (in parentheses indicate refractive index) include zinc oxide (1.90), titania (2.3 to 2.7), ceria (1.95), tin-doped indium oxide (1 .95), antimony-doped tin oxide (1.80), yttria (1.87), and zirconia (2.0).
超微粒子の屈折率は電離放射線硬化型樹脂よりも高いものが好ましい。屈折率層の屈折率は超微粒子の含有率によって一般に定まることから、超微粒子の添加量が多い程、屈折率層の屈折率は高くなる。よって、電離放射線硬化型樹脂と、超微粒子との添加比率を調整することにより、屈折率を1.46〜1.80の範囲内のものとした、高屈折率層または中屈折率層を形成することが可能である。 The refractive index of the ultrafine particles is preferably higher than that of the ionizing radiation curable resin. Since the refractive index of the refractive index layer is generally determined by the content of ultrafine particles, the refractive index of the refractive index layer increases as the amount of ultrafine particles added increases. Therefore, by adjusting the addition ratio of the ionizing radiation curable resin and the ultrafine particles, a high refractive index layer or medium refractive index layer having a refractive index in the range of 1.46 to 1.80 is formed. Is possible.
超微粒子が導電性を有するものであれば、このような超微粒子を用いて形成された他の屈折率層(高屈折率層または中屈折率層)は帯電防止性を兼ね備えたものとなる。 If the ultrafine particles have conductivity, the other refractive index layer (high refractive index layer or medium refractive index layer) formed using such ultrafine particles also has antistatic properties.
高屈折率層または中屈折率層は、化学蒸着法(CVD)、物理蒸着法(PVD)などの蒸着法により形成した酸化チタン又は酸化ジルコニウムのような屈折率の高い無機酸化物の蒸着膜とし、あるいは、酸化チタンのような屈折率の高い無機酸化物微粒子を分散させた塗膜とすることができる。 The high refractive index layer or medium refractive index layer is a vapor deposition film of an inorganic oxide having a high refractive index such as titanium oxide or zirconium oxide formed by a vapor deposition method such as chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition (PVD). Alternatively, a coating film in which inorganic oxide fine particles having a high refractive index such as titanium oxide are dispersed can be obtained.
防汚層
本発明の好ましい態様によれば、低屈折率層の最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けてもよく、好ましくは低屈折率層が形成された光透過性基材の一方の面と反対の面側に防汚層が設けられてなるものが好ましい。防汚層は、反射防止積層体に対して防汚性と耐擦傷性のさらなる改善を図ることが可能となる。
防汚層用剤の具体例としては、分子中にフッ素原子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物への相溶性が低く、低屈折率層中に添加することが困難とされるフッ素系化合物および/またはケイ素系化合物、分子中にフッ素原子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物および微粒子に対して相溶性を有するフッ素系化合物および/またはケイ系化合物が挙げられる。
Antifouling layer According to a preferred embodiment of the present invention, an antifouling layer may be provided for the purpose of preventing the outermost surface of the low refractive index layer from being stained, and preferably the light-transmitting substrate having the low refractive index layer formed thereon It is preferable that an antifouling layer is provided on the side opposite to one side. The antifouling layer can further improve the antifouling property and scratch resistance with respect to the antireflection laminate.
Specific examples of the antifouling layer agent include fluorine compounds that have low compatibility with ionizing radiation curable resin compositions having fluorine atoms in the molecule and are difficult to add to the low refractive index layer, and Examples thereof include silicon compounds, ionizing radiation curable resin compositions having fluorine atoms in the molecule, and fluorine compounds and / or siliceous compounds having compatibility with fine particles.
2.光学積層体の製造方法
各層用組成物の調整
防眩層、低屈折率層等を形成する各層用組成物は、一般的な調製法に従って、先に説明した成分を混合し分散処理することにより調整されてよい。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等で適切に分散処理することが可能となる。
2. Method for producing optical laminate
Adjustment of composition for each layer The composition for each layer forming the antiglare layer, the low refractive index layer, and the like may be adjusted by mixing and dispersing the components described above according to a general preparation method. For mixing and dispersing, it is possible to appropriately disperse with a paint shaker or a bead mill.
塗工
光透過性基材表面、帯電防止層の表面への各液体組成物の塗布法の具体例としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法、マイクログラビアコート法、ロールコート法、エクストルージョン法、スピンコート法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。
Specific examples of the coating method of each liquid composition on the surface of the coated light transmissive substrate and the surface of the antistatic layer include dip coating, air knife coating, curtain coating, roll coating, and wire bar coating. , Gravure coating method, extrusion coating method, micro gravure coating method, roll coating method, extrusion method, spin coating method, spray method, slide coating method, bar coating method, meniscus coater method, flexographic printing method, screen printing method, Various methods such as a peade coater method can be used.
硬化
各層を構成する樹脂を硬化する方法は周知の方法を使用することができる。例えば、電子線硬化型樹脂の場合、コックロフワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000KeV、好ましくは100〜300KeVのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
A well-known method can be used as a method of curing the resin constituting each cured layer. For example, in the case of an electron beam curable resin, 50 to 1000 KeV emitted from various electron beam accelerators such as a Cockrowalton type, a bandegraph type, a resonant transformation type, an insulating core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. Preferably, an electron beam having an energy of 100 to 300 KeV is used, and in the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from light such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, a metal halide lamp, etc. are used. it can.
3.光学積層体の用途
本発明による光学積層体は、好ましくは反射防止積層体として利用される。また、本発明による光学積層体は、偏光板、透過型表示装置の表示最表面用積層体として利用される。特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用される。とりわけ、CRT、液晶パネルなどのディスプレイの表面に用いられる。
3. Use of optical laminate The optical laminate according to the present invention is preferably used as an antireflection laminate. Moreover, the optical laminated body by this invention is utilized as a laminated body for display outermost surfaces of a polarizing plate and a transmissive display apparatus. In particular, it is used for display displays of televisions, computers, word processors and the like. In particular, it is used on the surface of displays such as CRTs and liquid crystal panels.
偏光板
偏光板は、偏光膜を両面から挟む2枚の保護積層体により主として構成される。本発明の反射防止積層体は、偏光膜を両面から挟む2枚の保護積層体のうち少なくとも1枚に用いることが好ましい。本発明の光学積層体が保護積層体を兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の光学積層体を最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐擦傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。偏光膜は、公知の偏光膜、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。
A polarizing plate is mainly composed of two protective laminates sandwiching a polarizing film from both sides. The antireflection laminate of the present invention is preferably used for at least one of the two protective laminates sandwiching the polarizing film from both sides. The manufacturing cost of a polarizing plate can be reduced because the optical laminated body of this invention serves as a protective laminated body. Moreover, by using the optical layered body of the present invention for the outermost layer, reflection of external light and the like can be prevented, and a polarizing plate having excellent scratch resistance, antifouling property and the like can be obtained. As the polarizing film, a known polarizing film or a polarizing film cut out from a long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction may be used.
本発明の内容を下記の実施例により詳細に説明するが、本発明の内容は実施例の内容に限定して解釈されるものではない。なお、数値は特に定義しない限り質量(kg)を表す。 The contents of the present invention will be described in detail by the following examples, but the contents of the present invention should not be construed as being limited to the contents of the examples. The numerical value represents mass (kg) unless otherwise defined.
光透過性基材
セルローストリアセテートフィルム(商品名:T80UZ 富士写真フイルム製)を用意した。
A light transmissive substrate cellulose triacetate film (trade name: T80UZ, manufactured by Fuji Photo Film) was prepared.
防眩層用組成物の調整
防眩層用組成物を下記の表1の組成に従い混合して調製した。
Preparation of Antiglare Layer Composition An antiglare layer composition was prepared by mixing according to the composition shown in Table 1 below.
表1
ポリスチレンビーズ 16.0
(綜研化学社製:SX−350H)
ペンタエリスリトールアクリレート 94.0
(日本化薬社製)
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 5.0
(日本化薬社製)
アクリルポリマー 10.0
(インクテック社製)
イルガキュア184 6.6
(重合開始剤:チバガイキー社製)
イルガキュア907 1.1
(重合開始剤:チバガイキー社製)
シリコン10−28 0.59
(大日精化社製(固形分 10%))
金およびニッケルメッキ有機ビーズ 0.15
(ブライト20GNR−4.6EH)
溶剤1:トルエン 116
溶剤2:シクロヘキサノン 67
固形分 37.5%
Table 1
Polystyrene beads 16.0
(Made by Soken Chemical Co., Ltd .: SX-350H)
Pentaerythritol acrylate 94.0
(Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Dipentaerythritol pentaacrylate 5.0
(Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Acrylic polymer 10.0
(Made by Inktec)
Irgacure 184 6.6
(Polymerization initiator: manufactured by Ciba-Gaiky)
Irgacure 907 1.1
(Polymerization initiator: manufactured by Ciba-Gaiky)
Silicon 10-28 0.59
(Daiichi Seika Co., Ltd. (
Gold and nickel plated organic beads 0.15
(Bright 20GNR-4.6EH)
Solvent 1: Toluene 116
Solvent 2: Cyclohexanone 67
37.5% solids
帯電防止層用組成物の調整
帯電防止層用組成物1〜3を下記の表2の組成に従い混合して調製した。
Preparation of Composition for Antistatic Layer Compositions 1 to 3 for antistatic layer were prepared by mixing according to the composition shown in Table 2 below.
表2
組成物1 組成物2 組成物3
ATO粒子 0.725 0.725 0.725
(ATO:アンチモンドープ酸化錫)
ウレタンアクリレート 0.375 0.375 0.375
エチルセロソルブ 1.375 1.375 1.375
(日本ペルノックス社製
ペルトロンC−4456S−7)
KS−HDDA 1.53 0.65 0.65
(日本化薬社製)
イルガキュア184 0.084 0.084 0.084
(チバガイキー社製)
溶剤1:メチルエチルケトン 6.1 6.1 5.9
溶剤2:シクロヘキサノン 2.4 2.4 2.6
固形分(%) 21.5 15.7 15.7
Table 2
Composition 1
ATO particles 0.725 0.725 0.725
(ATO: antimony-doped tin oxide)
Urethane acrylate 0.375 0.375 0.375
Ethyl cellosolve 1.375 1.375 1.375
(Pertron C-4456S-7 manufactured by Nippon Pernox)
KS-HDDA 1.53 0.65 0.65
(Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Irgacure 184 0.084 0.084 0.084
(Cibagayki)
Solvent 1: Methyl ethyl ketone 6.1 6.1 5.9
Solvent 2: Cyclohexanone 2.4 2.4 2.4
Solid content (%) 21.5 15.7 15.7
実施例1
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、帯電防止層用組成物1をミヤバーを用いて塗布し、温度50℃の熱オーブン中で1分間保持し後、紫外線を積算光量が35mj−35mjになるように照射して塗膜を硬化させて、塗工量1.0g/cm2(乾燥時)の帯電防止層を形成させた。次に、形成した帯電防止層の上に、防眩層用組成物をミヤバーを用いて塗布し、温度50℃の熱オーブン中で1分間保持し後、紫外線を積算光量が12mj−35mjになるように照射して塗膜を硬化させて、塗工量7.0g/cm2(乾燥時)の防眩層を形成させて、光学積層体(帯電防止防眩積層体)を調製した。
Example 1
The antistatic layer composition 1 is applied to one side of a cellulose triacetate film (thickness: 80 μm) using a Miya bar, and held in a heat oven at a temperature of 50 ° C. for 1 minute, and then the ultraviolet light has an integrated light quantity of 35 mj-35 mj. Thus, the coating film was cured by irradiation to form an antistatic layer having a coating amount of 1.0 g / cm 2 (during drying). Next, the anti-glare layer composition is applied onto the formed antistatic layer using a Miya bar, and after being held in a thermal oven at a temperature of 50 ° C. for 1 minute, the cumulative amount of ultraviolet light becomes 12 mj-35 mj. The coating was cured by irradiation as described above to form an antiglare layer having a coating amount of 7.0 g / cm 2 (during drying) to prepare an optical laminate (antistatic antiglare laminate).
比較例1
帯電防止層用組成物1を帯電防止層用組成物2に変えた以外は、実施例1と同様にして光学積層体を調製した。
Comparative Example 1
An optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the antistatic layer composition 1 was changed to the
比較例2
帯電防止層用組成物1を帯電防止層用組成物3に変えた以外は、実施例1と同様にして光学積層体を調製した。
Comparative Example 2
An optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the antistatic layer composition 1 was changed to the
比較例3
帯電防止層用組成物1を形成しなかった以外は、実施例1と同様にして光学積層体を調製した。
Comparative Example 3
An optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the antistatic layer composition 1 was not formed.
評価試験
上記例で得られた光学積層体について下記の評価試験を行い評価した結果を下記の表3に表した。
Evaluation Test The optical laminate obtained in the above example was subjected to the following evaluation test and evaluated, and the results are shown in Table 3 below.
評価1:全光線透過率
全光線透過率(%)は、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所製、製品番号;HR−100)を用いて測定した。
Evaluation 1: Total light transmittance Total light transmittance (%) was measured using a haze meter (manufactured by Murakami Color Research Laboratory, product number: HR-100).
評価2:ヘイズ値
ヘイズ値(%)は、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所製、製品番号;HR−100)を用いて測定した。
Evaluation 2: Haze value The haze value (%) was measured using a haze meter (manufactured by Murakami Color Research Laboratory, product number: HR-100).
評価3:60度光沢度
光沢度測定器(村上色彩技術研究所製、製品番号;GM−26D)を用いて測定した。
Evaluation 3: 60 degree glossiness It measured using the glossiness measuring device (Murakami Color Research Laboratory make, product number; GM-26D).
評価4:写りこみ評価
光学積層体をクロスニコル偏光板を貼り合わせ蛍光灯を写りこませて、目視で観察し、
下記の基準で判断した。
評価基準
評価◎:蛍光灯の写り込みは殆ど見られなかった。
評価○:蛍光灯の写り込みが若干見られたが、光学特性に問題ない。
評価△:蛍光灯の写り込みが見られ、光学積層体製品として問題はない。
Evaluation 4: Reflection evaluation The optical layered body is bonded with a crossed Nicol polarizing plate, and a fluorescent lamp is reflected, and visually observed.
Judgment was made based on the following criteria.
Evaluation standard evaluation A: Almost no reflection of fluorescent light was observed.
Evaluation (circle): Although some reflection of a fluorescent lamp was seen, there is no problem in an optical characteristic.
Evaluation (triangle | delta): The reflection of a fluorescent lamp is seen and there is no problem as an optical laminated body product.
評価5:面ギラ評価
バックライト上にカラーフィルターを置き、光学積層体の裏面にガラスを貼りカラーフィルター上に置き目視で観察し、下記の基準で判断した。
Evaluation 5: Surface glare evaluation A color filter was placed on the backlight, glass was pasted on the back surface of the optical layered body, the surface was observed on the color filter, and judged by the following criteria.
評価基準
評価◎:ギラツキは殆ど見られなかった。
評価○:ギラツキが若干見られたが、光学特性に問題ない。
評価△:蛍光灯の写り込みが若干見られ、光学積層体製品として問題はない。
Evaluation Criteria Evaluation A: Almost no glare was observed.
Evaluation (circle): Although some glare was seen, there is no problem in an optical characteristic.
Evaluation (triangle | delta): The reflection of a fluorescent lamp is seen a little and there is no problem as an optical laminated body product.
評価6:表面粗さ測定
表面粗さ測定器SE−3400(小坂研究所)を用いて、JIS B0601−1994の測定基準に従って、光学積層体の最表面(5μm2の平面領域)について、表面粗さ(Sm)と算術平均粗さ(Ra)を測定した。
Evaluation 6: Surface roughness measurement Using a surface roughness measuring instrument SE-3400 (Kosaka Laboratories), according to the measurement standard of JIS B0601-1994, the surface roughness of the optical laminate (planar area of 5 μm 2 ) was measured. The thickness (Sm) and arithmetic average roughness (Ra) were measured.
表3
評価 実施例1 比較例1 比較例2 比較例3
評価1 89.6 89.6 89.6 90.8
評価2 37 37 37 34
評価3 40 28 33 50
評価4 ◎ ○ ○ △
評価5 ◎ △ △ ○
評価6(Sm) 71 101 91 56
(Ra) 0.23 0.31 0.28 0.18
Table 3
Evaluation Example 1 Comparative Example 1 Comparative Example 2 Comparative Example 3
Evaluation 1 89.6 89.6 89.6 90.8
Evaluation 4 ◎ ○ ○ △
Evaluation 5 ◎ △ △ ○
Evaluation 6 (Sm) 71 101 91 56
(Ra) 0.23 0.31 0.28 0.18
Claims (5)
前記光透過性基材がセルローストリアセテートであり、
前記帯電防止層が、前記光透過性基材の上に、導電性微粒子と、浸透性溶剤と、電離放射線硬化性樹脂とを含む帯電防止層用組成物を付与して形成されてなるものであり、前記防眩層が、前記帯電防止層の上に、樹脂ビーズと、浸透性溶剤と、電離放射線硬化性樹脂とを含む防眩層用組成物を付与して形成されてなるものであり、
前記帯電防止層用組成物中に含まれる浸透性溶剤および電離放射線硬化性樹脂と、前記防眩層用組成物中に含まれる浸透性溶剤および電離放射線硬化性樹脂とが前記光透過性基材に浸透し、前記帯電防止層用組成物中に含まれる電離放射線硬化性樹脂と、前記防眩層用組成物中に含まれる電離放射線硬化性樹脂と、前記光透過性基材とが渾然一体となって浸透層が形成されてなり、
前記浸透層の厚さが、0.1μm以上1.5μm以下である、光学積層体。 An optical laminate comprising a light transmissive substrate, an antistatic layer on the light transmissive substrate, and an antiglare layer in this order,
The light transmissive substrate is cellulose triacetate,
The antistatic layer is formed by applying a composition for an antistatic layer containing conductive fine particles, a permeable solvent, and an ionizing radiation curable resin on the light transmissive substrate. The antiglare layer is formed by applying a composition for an antiglare layer containing resin beads, a permeable solvent, and an ionizing radiation curable resin on the antistatic layer. ,
The light-transmitting substrate comprises the penetrating solvent and ionizing radiation curable resin contained in the antistatic layer composition, and the penetrating solvent and ionizing radiation curable resin contained in the antiglare layer composition. The ionizing radiation curable resin contained in the antistatic layer composition, the ionizing radiation curable resin contained in the antiglare layer composition, and the light-transmitting substrate. Ri name is a made by the permeation layer is formed,
An optical laminate having a thickness of the permeation layer of 0.1 μm or more and 1.5 μm or less .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005263880A JP4895160B2 (en) | 2004-09-30 | 2005-09-12 | Optical laminate |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004287574 | 2004-09-30 | ||
| JP2004287574 | 2004-09-30 | ||
| JP2005263880A JP4895160B2 (en) | 2004-09-30 | 2005-09-12 | Optical laminate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006126802A JP2006126802A (en) | 2006-05-18 |
| JP4895160B2 true JP4895160B2 (en) | 2012-03-14 |
Family
ID=36721556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005263880A Expired - Lifetime JP4895160B2 (en) | 2004-09-30 | 2005-09-12 | Optical laminate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4895160B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI760307B (en) * | 2015-07-30 | 2022-04-11 | 日商日東電工股份有限公司 | Anti-glare film |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2007142142A1 (en) * | 2006-06-02 | 2009-10-22 | 大日本印刷株式会社 | Optical laminate, polarizing plate, and image display device |
| JP5056021B2 (en) * | 2007-01-16 | 2012-10-24 | 大日本印刷株式会社 | Optical laminate |
| JP5262032B2 (en) * | 2007-09-12 | 2013-08-14 | 大日本印刷株式会社 | Optical laminate manufacturing method, optical laminate, polarizing plate, and image display device |
| JP5633149B2 (en) | 2009-03-09 | 2014-12-03 | 凸版印刷株式会社 | Antireflection film and manufacturing method thereof, polarizing plate, transmissive liquid crystal display |
| JP2012234164A (en) | 2011-04-22 | 2012-11-29 | Nitto Denko Corp | Optical laminate |
| JP6128576B2 (en) | 2011-04-22 | 2017-05-17 | 日東電工株式会社 | Optical laminate |
| JP6128629B2 (en) * | 2011-04-22 | 2017-05-17 | 日東電工株式会社 | Optical laminate |
| US9573842B2 (en) * | 2011-05-27 | 2017-02-21 | Corning Incorporated | Transparent glass substrate having antiglare surface |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4211088B2 (en) * | 1998-06-16 | 2009-01-21 | 凸版印刷株式会社 | Antiglare hard coat film or sheet |
| JP2001183528A (en) * | 1999-10-14 | 2001-07-06 | Konica Corp | Optical film and method of producing the same |
| JP2002169001A (en) * | 2000-09-22 | 2002-06-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Glare-proof film and liquid crystal display |
| JP3847130B2 (en) * | 2001-10-11 | 2006-11-15 | 富士写真フイルム株式会社 | Light scattering film, method for producing light scattering film, polarizing plate and liquid crystal display device |
| JP2003131007A (en) * | 2001-10-29 | 2003-05-08 | Toppan Printing Co Ltd | Optical film and manufacturing method thereof |
| JP3822102B2 (en) * | 2001-12-27 | 2006-09-13 | 富士写真フイルム株式会社 | Light diffusing film, manufacturing method thereof, polarizing plate and liquid crystal display device |
| JP2003307601A (en) * | 2002-04-18 | 2003-10-31 | Nitto Denko Corp | Antireflection film, optical element and image display device |
| JP2004263082A (en) * | 2003-03-03 | 2004-09-24 | Nippon Paper Industries Co Ltd | Coated film and antireflection film using the same |
| JP2005313620A (en) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Dainippon Printing Co Ltd | Thin film laminate |
-
2005
- 2005-09-12 JP JP2005263880A patent/JP4895160B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI760307B (en) * | 2015-07-30 | 2022-04-11 | 日商日東電工股份有限公司 | Anti-glare film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2006126802A (en) | 2006-05-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080514 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101126 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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