JP4862501B2 - 誘電体セラミック、その製造方法及び積層セラミックコンデンサ - Google Patents
誘電体セラミック、その製造方法及び積層セラミックコンデンサ Download PDFInfo
- Publication number
- JP4862501B2 JP4862501B2 JP2006157221A JP2006157221A JP4862501B2 JP 4862501 B2 JP4862501 B2 JP 4862501B2 JP 2006157221 A JP2006157221 A JP 2006157221A JP 2006157221 A JP2006157221 A JP 2006157221A JP 4862501 B2 JP4862501 B2 JP 4862501B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dielectric ceramic
- ceramic
- mol
- main component
- dielectric
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 129
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 title claims description 56
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 81
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 61
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 50
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 42
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 42
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 41
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 38
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 35
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 26
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 19
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 14
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002697 manganese compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 49
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 49
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 24
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 23
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 14
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 13
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 13
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 6
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 6
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910019092 Mg-O Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910019395 Mg—O Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910018663 Mn O Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910003176 Mn-O Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910007999 Si-Mg-O Inorganic materials 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FQNGWRSKYZLJDK-UHFFFAOYSA-N [Ca].[Ba] Chemical compound [Ca].[Ba] FQNGWRSKYZLJDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000006063 cullet Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019064 Mg-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019406 Mg—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- -1 nickel Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Description
本実施例では、R、Mg、Siそれぞれのモル比を変化させてモル比の影響について調べた。
本実施例では、ABO3として、(Ba0.97Ca0.01Sr0.02)1.005(Ti0.98Zr0.02)O3を用い、添加成分として希土類元素酸化物(以下、「ROx」と称す。)、MgO、SiO2及びMnO2を用いて、試験例1〜18の試料を作製した。また、比較のために比較例1〜4の試料を作製した。尚、ROx中のxは、電気的中性を保つための正の数である。
まず、出発原料としてBaCO3、CaCO3、SrCO3、TiO2及びZrO2の各粉末を準備し、これら出発原料を上記主成分の組成となるように秤量した後、これらの出発原料をボールミルによって混合し、1050℃で2時間熱処理を行い、平均粒径が0.15μmの上記主成分粉末を合成した後、これを粉砕した。
添加成分として、希土類元素の酸化物ROx(一種以上)とSiO2を、表1に示す組成となるように秤量した後、ボールミルによって混合し、1100℃で2時間熱処理し、平均粒径0.25μmのROx−SiO2系反応物を得て、粉砕した。更に、ROx−SiO2系反応物とMgOを表1に示す組成となるように秤量した後、ボールミルによって混合し、1150℃で2時間熱処理し、平均粒径0.3μmのR−Mg−Si−O系反応物を得て、粉砕した。
(Ba0.97Ca0.01Sr0.02)1.005(Ti0.98Zr0.02)O3とR−Mg−Si−O系反応物とをボールミルによって混合してセラミック原料粉末を得た。MnO2の含有比は、主成分100モル部に対して1.5モル部であった。
表1に示す組成のセラミック原料粉末それぞれに、ポリビニルブチラール系バインダ及びエタノール等の有機溶媒を加え、ボールミルにより湿式混合してセラミックスラリーを調製した。これらのセラミックスラリーをドクターブレード法により、焼成後の誘電体セラミック層厚が2μmになるようにシート状に成形し、矩形のセラミックグリーンシートを得た。次いで、これらのセラミックグリーンシート上に、ニッケル(Ni)を導電成分として含む導電性ペーストをスクリーン印刷し、内部電極を構成するための導電性ペースト層を形成した。
試験例1〜18及び比較例1〜4の積層セラミックコンデンサそれぞれについて誘電率ε、温度特性、高温負荷特性及び圧電共振をそれぞれ測定し、その結果を表2に示した。また、積層セラミックコンデンサの中央部を含む任意の破断面について、セラミック構造の分析を行った。
本実施例における試験例1〜18では、RとSiからなる複合酸化物を調製し、更にMgO(Mg化合物)と反応させることによってR−Mg−Si−O酸化物を安定して調製することができ、しかも焼成段階で図1に斜線で示す三角形の範囲内に含まれるR:Mg:Siのモル比にすることで、R、Mg、Siそれぞれ単体の酸化物、及びこれらの3元素のうち二種のみからなる複合酸化物の生成を抑制することができ、信頼性の低下を抑制することができた。また、予め、R、Si、Mgからなる複合酸化物を調製してから主成分(Ba0.97Ca0.01Sr0.02)1.005(Ti0.98Zr0.02)O3と反応させるため、RやMgの主成分相粒子及び二次相粒子への拡散を制御し易くなり、圧電共振を抑制することができた。
本実施例では、誘電体セラミックの製造方法による影響について調べた。
本実施例では、ABO3として、(Ba0.985Ca0.01Sr0.005)1.007(Ti0.985Zr0.01Hf0.005)O3を用い、添加成分としてROx、MgO、SiO2及びMnO2を用いて、試験例19、20の試料を作製した。以下で説明するように、試験例20は、試験例19のセラミック原料粉末を調製する際に、MnO2を添加するタイミングを異にする以外は試験例19と同一要領で作製した。
出発原料としてBaCO3、SrCO3、CaCO3、TiO2、ZrO2及びHfO2の各粉末を準備し、これら出発原料を上記主成分となるように秤量した後、これらの出発原料をボールミルによって混合し、1150℃で2時間熱処理を行い、平均粒径が0.25μmの上記主成分粉末を合成した後、これを粉砕した。
添加成分として、DyO3/212モル、SiO28モルを秤量した後、ボールミルによって混合し、1100℃で熱処理し、平均粒径0.25μmのDy−Si−O系の反応物を得て、粉砕した。更に、Dy−Si−O系反応物とMgO6モルを秤量した後、ボールミルによって混合し、1150℃で2時間熱処理し、平均粒径0.3μmのDy−Mg−Si−O系の反応物を得た。
主成分(Ba0.985Ca0.01Sr0.005)1.007(Ti0.985Zr0.01Hf0.005)O3100モルに対してDyが12モルになるDy−Mg−Si−O系反応物と、MnO22モルをボールミルによって混合してセラミック原料粉末を得た。このセラミック原料粉末を試験例19として用いた。
試験例19、20のセラミック原料粉末を用いて実施例1と同一要領で積層セラミックコンデンサを作製し、それぞれの積層セラミックコンデンサについて実施例1と同一の評価を行い、その結果を表3に示した。
試験例19において、最初にDy2O36モル、SiO28モル及びMgO6モルを秤量した後、ボールミルによって混合し、1500℃で溶融し、この溶融物を水中に投入してガラスカレットとし、このガラスカレットを粉砕して12DyO3/2−8SiO2−6MgO系ガラス粉末を調製した。次いで、主成分(Ba0.985Ca0.01Sr0.005)1.007(Ti0.985Zr0.01Hf0.005)O3100モルに対して12DyO3/2−8SiO2−6MgO系ガラス粉末1モル及びMnO22モルを秤量した後、ボールミルによって混合し、セラミック原料粉末を得た。後は、このセラミック原料粉末を用いて、試験例19、20と同一要領で積層セラミックコンデンサを作製し、それぞれの積層セラミックコンデンサについて実施例1と同一の評価を行い、その結果を表3に示した。
試験例19において、主成分100モルに対して、Dy2O36モル、SiO28モル、MgO6モル及びMnO22モルを秤量した後、ボールミルによって混合し、セラミック原料粉末を得た。後は、このセラミック粉末を用いて、実施例1と同一要領で積層セラミックコンデンサを作製し、それぞれの積層セラミックコンデンサについて実施例1と同一の評価を行い、その結果を表3に示した。
試験例19において、主成分100モルに対して、Dy2O36モル、MgO6モル及びMnO22モルを秤量した後、ボールミルによって混合し、乾燥して、Dy2O3、MgO、MnO2で被覆された主成分粉末を得た。この被覆された主成分100モルに対して、SiO28モルをボールミルによって混合し、セラミック原料粉末を得た。後は、このセラミック粉末を用いて、実施例1と同一要領で積層セラミックコンデンサを作製し、それぞれの積層セラミックコンデンサについて実施例1と同一の評価を行い、その結果を表3に示した。
試験例19において、主成分100モルに対して、MgO6モル及びMnO22モルを秤量した後、ボールミルによって混合し、乾燥して、MgO、MnO2で被覆された主成分粉末を得た。この被覆された主成分100モルに対して、Dy2O36モル、SiO28モルをボールミルによって混合し、セラミック原料粉末を得た。後は、このセラミック粉末を用いて、実施例1と同一要領で積層セラミックコンデンサを作製し、それぞれの積層セラミックコンデンサについて実施例1と同一の評価を行い、その結果を表3に示した。
試験例19において、最初にDy2O36モル、SiO28モルを秤量した後、ボールミルによって混合し、1100℃で2時間熱処理し、平均粒径0.25μmのDy−Si−O系の反応物を得て、粉砕した。次いで、主成分100モルに対してDy−Si−O系反応物、MgO8モル及びMnO22モルを秤量した後、ボールミルによって混合してセラミック原料粉末を得た。後は、このセラミック粉末を用いて、実施例1と同一要領で積層セラミックコンデンサを作製し、それぞれの積層セラミックコンデンサについて実施例1と同一の評価を行い、その結果を表3に示した。
試験例19において、最初にDy2O36モル、MgO6モルを秤量した後、ボールミルによって混合し、1100℃で2時間熱処理し、平均粒径0.25μmのDy−Mg−O系の反応物を得て、粉砕した。このDy−Mg−O系反応物に対してMnO22モルを秤量した後、ボールミルによって混合し、1150℃で2時間熱処理し、平均粒径0.30μmのDy−Mg−Mn−O系反応物を得て、粉砕した。次いで、主成分粉末とDy−Mg−Mn−O系反応物とSiO28モルをボールミルによって混合してセラミック原料粉末を得た。後は、このセラミック粉末を用いて、実施例1と同一要領で積層セラミックコンデンサを作製し、それぞれの積層セラミックコンデンサについて実施例1と同一の評価を行い、その結果を表3に示した。
試験例19において、最初にSiO28モル、MgO6モルを秤量した後、ボールミルによって混合し、1050℃で2時間熱処理し、平均粒径0.20μmのSi−Mg−O系の反応物を得て、粉砕した。次いで、主成分粉末、Si−Mg−O系反応物、Dy2O36モル及びMnO22モルをボールミルによって混合してセラミック原料粉末を得た。後は、このセラミック粉末を用いて、実施例1と同一要領で積層セラミックコンデンサを作製し、それぞれの積層セラミックコンデンサについて実施例1と同一の評価を行い、その結果を表3に示した。
試験例19において、最初にDy2O36モル、SiO28モル、MgO6モルを秤量した後、ボールミルによって混合し、1150℃で2時間熱処理し、平均粒径0.20μmのDy−Mg−Si−O系の反応物を得て、粉砕した。次いで、主成分粉末とDy−Mg−Si−O系反応物とMnO22モルをボールミルによって混合してセラミック原料粉末を得た。後は、このセラミック粉末を用いて、実施例1と同一要領で積層セラミックコンデンサを作製し、それぞれの積層セラミックコンデンサについて実施例1と同一の評価を行い、その結果を表3に示した。
本実施例の試験例19では、RとSiからなる複合酸化物を調製し、その後Mgを反応させてR−Mg−Si−O系反応物を得ることよって、焼成後においてもR、Si、Mgそれぞれ単体の酸化物及びこれら3元素のうち二種のみからなる複合酸化物の生成を抑制することができ、信頼性の低下を抑制することができた。また、予めR、Si、Mgからなる複合酸化物を調製してから主成分と反応させたため、RやMgの主成分粒子及び二次相粒子への拡散を制御し易くなり、圧電共振を抑制することができた。本実施例の試験例20では、Mnを予め反応物調製段階で添加し、反応させても問題ないことが判った。
本実施例では、誘電体セラミック全体の組成の影響について調べた。
本実施例では、ABO3として、(Ba0.995Ca0.005)m(Ti0.995Zr0.005)O3を用い、添加成分としてROx、MgO、SiO2及びMnO2を用いて、試験例21〜47の試料を作製した。
出発原料としてBaCO3、CaCO3、TiO2及びZrO2の各粉末を準備し、これら出発原料を上記主成分のmが表4に示す値になるように秤量した後、これらの出発原料をボールミルによって混合し、1150℃で2時間熱処理を行い、平均粒径が0.25μmの上記主成分粉末を合成した後、これを粉砕した。
添加成分として、表4に示す組成になるようにRO3/2、SiO2を秤量した後、ボールミルによって混合し、1100℃で2時間熱処理し、平均粒径0.20μmのR−Si−O系の反応物を得て、粉砕した。更に、R−Si−O系反応物とMgOとを表4に示す組成になるように秤量した後、ボールミルによって混合し、1150℃で2時間熱処理し、平均粒径0.25μmのR−Mg−Si−O系の反応物を得た。
主成分(Ba0.995Ca0.005)m(Ti0.995Zr0.005)O3とR−Mg−Si−O系反応物とMnO2を表4に示す組成になるように秤量した後、ボールミルによって混合してセラミック原料粉末を得た。
試験例21〜47のセラミック原料粉末を用いて実施例1と同一要領で積層セラミックコンデンサを作製し、それぞれの積層セラミックコンデンサについて実施例1と同一の評価を行い、その結果を表4に示した。
本実施例の試験例21〜37では、いずれも圧電共振がないことに加え、高温負荷試験の不良率が1/200以下であり、温度特性の絶対値が22%以下であった。また、試験例25〜30の結果から、希土類元素を複数、任意に組み合わせて添加しても特性に影響を与えることがなかった。
本実施例では、添加物Mの影響について調べた。
本実施例では、ABO3として、(Ba0.99Sr0.01)1.011(Ti0.99Zr0.01)O3を用い、添加成分としてDy3/2、MgO、SiO2及びMnO2を用いて、試験例48〜63の試料を作製した。
出発原料としてBaCO3、SrCO3、TiO2及びZrO2の各粉末を準備し、これら出発原料を上記主成分の組成になるように秤量した後、これらの出発原料をボールミルによって混合し、1150℃で2時間熱処理を行い、平均粒径が0.25μmの上記主成分粉末を合成した後、これを粉砕した。
添加成分として、主成分100モルに対してDyO3/216モル、SiO27モルを秤量した後、ボールミルによって混合し、1100℃で2時間熱処理し、平均粒径0.25μmのDy−Si−O系の反応物を得て、粉砕した。更に、Dy−Si−O系反応物とMgO5.5モルとを秤量した後、ボールミルによって混合し、1150℃で2時間熱処理し、平均粒径0.3μmのDy−Mg−Si−O系の反応物を得た。
主成分(Ba0.99Sr0.01)1.011(Ti0.99Zr0.01)O3、Dy−Mg−Si−O系反応物、MnO21.5モル及びMの酸化物を表5に示す組成になるように秤量した後、ボールミルによって混合してセラミック原料粉末を得た。
試験例48〜63のセラミック原料粉末を用いて実施例1と同一要領で積層セラミックコンデンサを作製し、それぞれの積層セラミックコンデンサについて実施例1と同一の評価を行い、その結果を表5に示した。尚、高温負荷試験は、1000時間経過に加え、2000時間経過時点でも故障を判定した。
本実施例の試験例48〜60では、Mを0.5モル〜5.0モルの範囲で添加することによって、信頼性を更に高めることができた。高温負荷試験で2000時間経過後であっても不良率が1/200以下であった。
本実施例では、主成分のBサイトにおけるTiの含有率の影響について調べた。
本実施例では、ABO3として、(Ba0.99Ca0.01)(Ti,Zr,Hf)O3を用い、添加成分としてDyO3/2、MgO、SiO2及びMnO2を用いて、試験例64〜66の試料を作製した。
出発原料としてBaCO3、CaCO3、TiO2及びZrO2の各粉末を準備し、これら出発原料を表6に示す組成になるように秤量した後、これらの出発原料をボールミルによって混合し、1150℃で2時間熱処理を行い、平均粒径が0.25μmの上記主成分粉末を合成した後、これを粉砕した。
添加成分として、DyO3/212モル、SiO25モルを秤量した後、ボールミルによって混合し、1100℃で2時間熱処理し、平均粒径0.25μmのDy−Si−O系の反応物を得て、粉砕した。更に、Dy−Si−O系反応物とMgO5モルとを秤量した後、ボールミルによって混合し、1150℃で2時間熱処理し、平均粒径0.3μmのDy−Mg−Si−O系の反応物を得た。
主成分、Dy−Mg−Si−O系反応物、MnO21.0モルの組成になるように秤量した後、ボールミルによって混合してセラミック原料粉末を得た。
試験例64〜66のセラミック原料粉末を用いて実施例1と同一要領で積層セラミックコンデンサを作製し、それぞれの積層セラミックコンデンサについて実施例1と同一の評価を行い、その結果を表6に示した。
本実施例の試験例64、65では0.98≦Ti/(Zr+Ti+Hf)≦1.0にすることで、この範囲にない試験例66との比較からも判るように、誘電率の低下を伴わずに温度特性をより向上させることができる。
2 誘電体セラミック層
3A、3B 内部電極
4A、4B 外部電極
Claims (6)
- ABO3(但し、Aサイトは、Ba、Ca、Srの少なくともBaを含み、Bサイトは、Ti、Zr、Hfの少なくともTiを含むペロブスカイト型結晶を表す。)を主成分とし、
副成分として希土類元素R(但し、Rは、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luの少なくとも一種を表す。)、Mg、Si及びMnを含む
誘電体セラミックにおいて、
少なくともR、Mg、Si及びMnからなる結晶性複合酸化物を主成分とする二次相粒子が存在し、
上記結晶性複合酸化物におけるR、Mg、Siの含有モル比をx:y:zで表すとき、x、y、zは、A(42,8,50)、B(8,42,50)、C(8,8,84)の3点を頂点とする三角形に囲まれた範囲(但し、BC線上の成分、AC線上の成分は含み、AB線上の成分は含まない)にある
ことを特徴とする誘電体セラミック。 - 上記主成分ABO3100モル部に対する上記副成分の含有量は、Rが4〜20モル部、Mgが2〜15モル部、Siが2〜15モル部、Mnが0.5〜5.0モル部であることを特徴とする請求項1に記載の誘電体セラミック。
- 上記主成分ABO3100モル部に対し、M(Cr、V、Fe、Co、Ni、Cu、Nb、Mo及びWのうち少なくとも一種を含む)を、0.5〜5.0モル部含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の誘電体セラミック。
- 上記主成分のBサイトにおいて、Tiの一部をZr及びHfによって置換したとき、モル比で0.98≦Ti/(Zr+Ti+Hf)≦1.00の関係が成立することを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の誘電体セラミック。
- ABO3(但し、Aサイトは、Ba、Ca、Srの少なくともBaを含み、Bサイトは、Ti、Zr、Hfの少なくともTiを含むペロブスカイト型結晶を表す。)を調製する工程と、
少なくとも希土類元素化合物と珪素化合物とを反応させ、その一部に結晶性を有する反応物Aを調製する工程と、
上記結晶性を有する反応物Aとマグネシウム化合物とを反応させ、その一部に結晶性を有する反応物Bを調製する工程と、
上記ABO3、上記結晶性を有する反応物B、及びマンガン化合物を混合してセラミック原料粉末を調製する工程と、
上記セラミック原料粉末を焼成する工程と、
を備えたことを特徴とする誘電体セラミックの製造方法。 - 積層された複数の誘電体セラミック層と、静電容量を取得できるように上記誘電体セラミック層間の特定の界面に沿って形成される複数の内部電極と、上記内部電極の特定のものに電気的に接続される外部電極と、を備えた積層セラミックコンデンサであって、上記誘電体セラミック層は、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の誘電体セラミックによって形成されてなることを特徴とする積層セラミックコンデンサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006157221A JP4862501B2 (ja) | 2005-08-05 | 2006-06-06 | 誘電体セラミック、その製造方法及び積層セラミックコンデンサ |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005228945 | 2005-08-05 | ||
| JP2005228945 | 2005-08-05 | ||
| JP2006157221A JP4862501B2 (ja) | 2005-08-05 | 2006-06-06 | 誘電体セラミック、その製造方法及び積層セラミックコンデンサ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007063114A JP2007063114A (ja) | 2007-03-15 |
| JP4862501B2 true JP4862501B2 (ja) | 2012-01-25 |
Family
ID=37925713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006157221A Expired - Fee Related JP4862501B2 (ja) | 2005-08-05 | 2006-06-06 | 誘電体セラミック、その製造方法及び積層セラミックコンデンサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4862501B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5061961B2 (ja) * | 2008-03-04 | 2012-10-31 | Tdk株式会社 | 誘電体磁器組成物 |
| JP5217742B2 (ja) * | 2008-07-31 | 2013-06-19 | Tdk株式会社 | 誘電体磁器組成物および電子部品 |
| JP5152017B2 (ja) | 2009-01-30 | 2013-02-27 | 株式会社村田製作所 | 誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ |
| JP5316353B2 (ja) * | 2009-10-09 | 2013-10-16 | 株式会社村田製作所 | 誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ |
| JP5224074B2 (ja) * | 2010-08-04 | 2013-07-03 | 株式会社村田製作所 | 誘電体セラミック、及び積層セラミックコンデンサ |
| CN103563024B (zh) * | 2011-08-02 | 2016-08-24 | 株式会社村田制作所 | 层叠陶瓷电容器 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001006966A (ja) * | 1999-06-17 | 2001-01-12 | Murata Mfg Co Ltd | セラミックコンデンサおよびその製造方法 |
| JP3918372B2 (ja) * | 1999-07-26 | 2007-05-23 | 株式会社村田製作所 | 誘電体セラミック組成物、および積層セラミックコンデンサ |
| JP4457630B2 (ja) * | 2002-10-17 | 2010-04-28 | 株式会社村田製作所 | 誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ |
-
2006
- 2006-06-06 JP JP2006157221A patent/JP4862501B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2007063114A (ja) | 2007-03-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4626892B2 (ja) | 誘電体セラミック、及び積層セラミックコンデンサ | |
| JP4110978B2 (ja) | 誘電体セラミックおよびその製造方法ならびに積層セラミックコンデンサ | |
| KR101494851B1 (ko) | 적층 세라믹 콘덴서 및 적층 세라믹 콘덴서의 제조방법 | |
| JP4591448B2 (ja) | 誘電体セラミック及びその製造方法、並びに積層セラミックコンデンサ | |
| JP4831142B2 (ja) | 誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ | |
| JP5120255B2 (ja) | 誘電体セラミック及びその製造方法、並びに積層セラミックコンデンサ | |
| JP4720193B2 (ja) | 誘電体セラミックおよびその製造方法、ならびに積層セラミックコンデンサ | |
| JP2004262717A (ja) | 誘電体セラミックおよびその製造方法ならびに積層セラミックコンデンサ | |
| JP2011184279A (ja) | 誘電体セラミック、及び積層セラミックコンデンサ | |
| JP5423682B2 (ja) | 誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ | |
| JP2004292173A (ja) | 非還元性誘電体セラミックおよびその製造方法ならびに積層セラミックコンデンサ | |
| JP2004214539A (ja) | 誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ | |
| JP2011079717A (ja) | 誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ | |
| JP5240199B2 (ja) | 誘電体セラミック及び積層セラミックコンデンサ | |
| JPWO2017094882A1 (ja) | 誘電体磁器組成物、積層セラミックコンデンサ、及び積層セラミックコンデンサの製造方法 | |
| JP5070841B2 (ja) | 誘電体セラミック組成物、その製造方法及び積層セラミックコンデンサ | |
| JP5800408B2 (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
| JP4862501B2 (ja) | 誘電体セラミック、その製造方法及び積層セラミックコンデンサ | |
| JP4697582B2 (ja) | 誘電体セラミック及び誘電体セラミックの製造方法、並びに積層セラミックコンデンサ | |
| JP2006036606A (ja) | 誘電体セラミック、誘電体セラミックの製造方法、及び積層セラミックコンデンサ | |
| JPH0925162A (ja) | 非還元性誘電体磁器組成物及びそれを用いた積層セラミックコンデンサ | |
| JP7262640B2 (ja) | セラミックコンデンサ | |
| JP4506233B2 (ja) | 誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ | |
| JP4752327B2 (ja) | 誘電体セラミック組成物および積層セラミックコンデンサ | |
| JP2008081351A (ja) | 誘電体セラミックス、および積層セラミックコンデンサ、ならびにその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090413 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110708 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110719 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110914 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111011 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111024 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141118 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4862501 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |