JP4678717B2 - 半導体装置及び半導体装置の設計方法 - Google Patents
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Description
バリエーションの基本はチップアレンジメントであり、半導体デバイスの実装形態として、図1では第1乃至第5実装形態を用意して選択可能としている。第1実装形態はビルドアップ基板で形成されたパッケージ基板2の底面側には多数のボール電極がボールグリッドアレイとして配置され、基板の表面層に半導体デバイスを搭載しワイヤーボンディングにて半導体デバイスとボール電極との導通を採る形態とされる(Wire Bonding + BGA)。第2実装形態はパッケージ基板に複数の半導体デバイスをスタックし、ボール電極との接続にワイヤーボンディングを利用する形態とされる(Stack BGA)。第3実装形態は半導体デバイスとしてフリップチップを用いる形態である(Flip Chip)。第4実装形態はQFPパッケージを用いる実装形態である(QFP SIP)。第5実装形態はSIP化された半導体装置を2段積みする実装形態である(PKG on PKG SIP)。
別の観点によるバリエーションは半導体装置のピンアレンジメントである。図4には半導体装置1のボールグリッドアレイの一例が示される。半導体装置1の底面側には外部接続電極として同心状に複数列で周回されたボールグリッドアレイが形成され、ボールグリッドアレイの外周縁寄りの外部接続電極10(六角形で表示)には使用頻度の高い半導体デバイスとの接続が割り当てられ、ボールグリッドアレイの内周縁寄りの外部接続電極11(十字形で表示)にはそれよりも使用頻度の低い半導体デバイスとの接続が割り当てられる。四角形で表示された中央部分の電極12はテスト端子、電源端子、及び回路の接地端子とされる。半導体装置1が実装される実装基板上の配線は、ボールグリッドアレイの外周縁寄りの外部接続電極10に接続される方が短くて済むから、配線引き回しによる負荷が小さい。使用頻度の高いデバイスが接続される配線の負荷を小さくすることによって高い処理性能を引き出すという点で最適化を図ることができる。ボールグリッドアレイの外周縁寄りの外部接続電極10には使用頻度の高い半導体デバイスとの接続に割り当て、ボールグリッドアレイの内周縁寄りの外部接続電極11にはそれよりも使用頻度の低い半導体デバイスとの接続に割り当てる第6バリエーションを用意することにより、使用頻度の高いデバイスが接続される配線の負荷を小さくすることによって高い処理性能を引き出すという点で最適化を図ることが容易になる。
図10にはFPGA3とMPU4に対する機能切り分けに関すコンセプトが示される。前記FPGA3には演算処理機能(EXECUTION)が実現され、前記MPU4には前記FPGA3の演算処理機能に対する制御機能(CONTROL)を割り当てる。これにより、ユーザは前記FPGA3に画像処理、音声処理、通信処理、暗号化復号処理などを設定でき、その場合にFPGA3に対する機能設定にユーザが保有する設計資産を適用することができ、ユーザの現状設計資産の活用が図られる。MPU4はFPGA3に設定された演算処理機能に対する初期設定などの制御機能を果たせばよく、MPU4の負荷が特定処理で極端に大きくなるというような事態の発生が抑制される。このように、ユーザが保有する設計資産の活用とMPU4の負荷のばらつきという点で最適化が図られる。前記FPGA3に演算処理機能を実現するとき、前記MPU4には前記FPGA3の演算処理機能に対する制御機能を割り当てる第9バリエーションを用意することにより、ユーザが保有する設計資産の活用とMPU4の負荷のばらつきという点で最適化を図ることが容易になる。
図13にはアプリケーションモデルとして半導体装置1に入出力デバイスを接続する場合の構成が例示される。外部入出力デバイス(EXDEV)を接続する外部入出力インタフェース(EXIO)26は前記FPGA3で実現するのがよい。外部入出力インタフェース仕様の変更、接続される外部入出力デバイスの変更に対して柔軟に対処することができる。外部入出力インタフェース機能を前記FPGA3に割り当てる第11バリエーションを用意することにより、外部入出力インタフェース仕様の変更、接続される外部入出力回路の変更に対して柔軟に対処することが可能になる。
図14には半導体装置1の量産テストに関する考慮が示される。前記FPGA3のテストは前記MPU4が行い、前記SDRAM7のテストは前記FPGA3に実現したビルトインセルフテスト回路(BIST)を用いて前記MPU4が行う。FPGA3でSDRAM7のBISTを構成することになるので、FPGA3はSDRAM7の内部回路にも接続可能されている。上記より、テストの最適化に資することができる。FPGA3のテストは前記MPU4が行い、前記SDRAM7のテストは前記FPGA3に実現したビルトインセルフテスト回路を用いて前記MPU4が行う第12バリエーションを用意することにより、半導体装置1の量産テストの仕組みを提供することが容易になる。図15にはFPGA3をテストするとき設定されるテストパスとテストパス中のロジックエレメントの様子が模式的に示される。27はロジックエレメント、28はテストパスである。
図16及び図17にはFPGAに対する機能定義手法の基本形態が例示される。図16はFLASH7が保持する定義データをFPGA3の記憶回路にロードして多数のロジックエレメントによる論理機能を決定する。図17はFPGA3の定義データをMPU4のオンチップフラッシュメモリ29からFPGA3の記憶回路にロードしてFPGA3の機能を決定する。何れの場合も半導体装置1の実装基板上には定義データを保持する不揮発性メモリなどを必要としない。FLASH7から前記FPGA3に前記定義データを内部転送可能にする第3バリエーションと、MPU4のCPUが定義データをオンチップフラッシュメモリ29からFPGA3の前記記憶回路にロード可能にする第5バリエーションとを用意することにより、不揮発性メモリを内蔵するMPUの活用、揮発性記憶回路を有するFPGAの活用という点においてFPGAの機能設定の最適化を図り易くなる。
FPGA3を搭載した半導体装置の設計において、上述の物理的構成及び機能的システム構成に着目するとき、前記第1バリエーション乃至第12バリエーションを開発支援システムに用意し、設計条件に見合うバリエーションを選択させる。図19にはそのための開発支援システムが例示される。開発支援システムは、ICライブラリ(ICL)、PCBライブラリ(PCBL)、アプリケーション設計データ(ADD)、前記第1バリエーション乃至第12バリエーションの内容を規定するバリエーションデータ(BDD)を有する。解析部(AEG)は、物理的構成の望ましい解、機能的なシステム構成の望ましい解を生成する。物理的構成に関しては、設計条件(COND)を満足する範囲でコスト、機能、取り扱い容易性などを考慮して、チップアレンジメントやピンアレンジメントに関するバリエーションの中から適するバリエーションを選び、それに即して望ましい物理的構成を特定する設計データ(DSGN)生成する。機能的なシステム構成に関しては、設計条件を満足する範囲でコスト、機能、取り扱い容易性などを考慮して、機能切り分け、アプリケーションモデル、テスト手法、機能定義に関するバリエーションの中から適するバリエーションを選び、それに即して望ましい機能的システム構成を特定する設計データ(DSGN)生成する。解析部(AEG)で生成される望ましい解は優先順位をつけて複数生成されてよい。
2 パッケージ基板
3、3A〜3D FPGA
4 MPU
5 PROM
6 FLASH
7 SDRAM
10 外縁側ボール電極
11 内縁側ボール電極
13、15 使用頻度の多いボール電極
14、16 使用頻度の少ないボール電極
20 外部接続用の第1の外部端子
21 スタック用の第2の外部接続端子
25 バス
26 FPGAに形成された外部入出力インタフェース
27 ロジックエレメント
28 テストパス
29 マイクロコンピュータのオンチップフラッシュメモリ
30 電子機器
31 通信ポート
Claims (20)
- パッケージ基板に複数の半導体デバイスを備えた半導体装置であって、
少なくとも一つの半導体デバイスとして、書き換え可能な記憶回路が保持する定義データに従って多数のロジックエレメントによる論理機能が可変とされるプログラマブルデバイスを備え、
その他の半導体デバイスの一つとしてシンクロナスDRAMを備え、前記プログラマブルデバイスに隣接してシンクロナスDRAMが平置き又はスタック配置され、前記シンクロナスDRAMのアクセス主体になる論理機能が前記プログラマブルデバイスに割り当てられる半導体装置。 - その他の半導体デバイスの別の一つとして電気的に書き換え可能な不揮発性メモリを備え、前記不揮発性メモリからプログラマブルデバイスに前記定義データが内部可転送能にされる請求項1記載の半導体装置。
- 前記プログラマブルデバイスを複数個備え、一部のプログラマブルデバイスの記憶回路は電気的に書き換え可能な不揮発性であり、残りのプログラマブルデバイスの記憶回路は電気的に書き換え可能な揮発性である請求項2記載の半導体装置。
- その他の半導体デバイスの別の一つとしてプロセッシングデバイスを備え、
前記プロセッシングデバイスは中央処理装置と電気的に書き込み可能な不揮発性メモリを備え、
前記中央処理装置は前記定義データを前記不揮発性メモリから前記記憶回路に内部転送する請求項1記載の半導体装置。 - 前記パッケージ基板は外部接続電極として同心状に複数列で周回されたボールグリッドアレイを有し、前記ボールグリッドアレイの外周縁寄りの外部接続電極には使用頻度の高い半導体デバイスとの接続が割り当てられ、前記ボールグリッドアレイの内周縁寄りの外部接続電極にはそれよりも使用頻度の低い半導体デバイスとの接続が割り当てられる請求項1記載の半導体装置。
- 前記パッケージ基板は外部接続電極として同心状に複数列で周回されたボールグリッドアレイを有し、使用頻度の高い半導体デバイスとの接続に割り当てられる信号用の外部接続端子の数は、使用頻度の低い半導体デバイスとの接続に割り当てられる信号用の外部接続端子の数よりも多くされる請求項1記載の半導体装置。
- 実装基板に搭載するための複数の第1の外部端子と、前記プログラマブルデバイスに別の半導体デバイスをスタック状態で搭載するのに用いられる複数の第2の外部端子とを有し、前記複数の第2の外部端子は矩形の3辺に位置する配置を有する請求項1記載の半導体装置。
- 中央処理装置を有するプロセッシングデバイスと備え、
前記プログラマブルデバイスには演算処理機能が実現され、
前記プロセッシングデバイスは前記プログラマブルデバイスの演算処理機能を制御する請求項1記載の半導体装置。 - メモリを備え、
前記メモリは前記プログラマブルデバイス内で実現されるバスにバス接続される請求項1記載の半導体装置。 - 前記プログラマブルデバイスは外部入出力インタフェースを構成する請求項9記載の半導体装置。
- パッケージ基板に複数の半導体デバイスを搭載した半導体装置の設計方法であって、
少なくとも一つの半導体デバイスとして、書き換え可能な記憶回路が保持する定義データに従って多数のロジックエレメントによる論理機能が可変とされるプログラマブルデバイスを用い、
前記プログラマブルデバイスに割り当てられる機能に応じて、バリエーションを選択的に使い分け、
その他の半導体デバイスの一つとしてシンクロナスDRAMを用い、前記シンクロナスDRAMのアクセス主体となる論理機能を前記プログラマブルデバイスに割り当てるとき、選択可能な前記バリエーションとして、前記プログラマブルデバイスに隣接して前記シンクロナスDRAMを平置き配置する第1バリエーションと、前記プログラマブルデバイスと前記シンクロナスDRAMをスタック配置する第2バリエーションと、その他の半導体デバイスの別の一つとして電気的に書き換え可能な不揮発性メモリを用い、前記不揮発性メモリから前記プログラマブルデバイスに前記定義データを内部転送可能にする第3バリエーションと、が用意されている半導体装置の設計方法。 - 前記プログラマブルデバイスを複数個用い、一部のプログラマブルデバイスの記憶回路は電気的に書き換え可能な不揮発性とし、残りのプログラマブルデバイスの記憶回路は電気的に書き換え可能な揮発性とする第4バリエーションが用意されていうる請求項11記載の半導体装置の設計方法。
- その他の半導体デバイスの別の一つとしてプロセッシングデバイスを用い、前記プロセッシングデバイスは中央処理装置と電気的に書き込み可能な不揮発性メモリを備えるとき、前記中央処理装置は前記定義データを前記不揮発性メモリから前記記憶回路に内部転送可能にする第5バリエーションが用意されている請求項11記載の半導体装置の設計方法。
- パッケージ基板は外部接続電極として同心状に複数列で周回されたボールグリッドアレイを有し、ボールグリッドアレイの外周縁寄りの外部接続電極には使用頻度の高い半導体デバイスとの接続に割り当て、ボールグリッドアレイの内周縁寄りの外部接続電極にはそれよりも使用頻度の低い半導体デバイスとの接続に割り当てる第6バリエーションが用意されている請求項11記載の半導体装置の設計方法。
- パッケージ基板は外部接続電極として同心状に複数列で周回されたボールグリッドアレイを有し、使用頻度の高い半導体デバイスとの接続に割り当てられる信号用の外部接続端子の数を、使用頻度の低い半導体デバイスとの接続に割り当てられる信号用の外部接続端子の数よりも多くする第7バリエーションが用意されている請求項11記載の半導体装置の設計方法。
- 前記プログラマブルデバイスは、前記パッケージ基板に搭載するための複数の第1の外部端子と、プログラマブルデバイスに別の半導体デバイスをスタック状態で搭載するのに用いられる複数の第2の外部端子とを有し、複数の第2の外部端子を矩形の3辺に配置する第8バリエーションが用意されている請求項11記載の半導体装置の設計方法。
- 前記プログラマブルデバイスに演算処理機能を実現するとき、前記プロセッシングデバイスには前記プログラマブルデバイスの演算処理機能に対する制御機能を割り当てる第9バリエーションが用意されている請求項11記載の半導体装置の設計方法。
- 前記プログラマブルデバイス内でバスを実現し、このバスにその他の半導体でバスを接続可能にする第10バリエーションが用意されている請求項11記載の半導体装置の設計方法。
- 外部入出力インタフェース機能を前記プログラマブルデバイスに割り当てる第11バリエーションが用意されている請求項11記載の半導体装置の設計方法。
- 前記プログラマブルデバイスのテストは前記プロセッシングデバイスが行い、前記メモリデバイスのテストは前記プログラマブルデバイスに実現したビルトインセルフテスト回路を用いて前記プロセッシングデバイスが行う第12バリエーションが用意されている請求項11記載の半導体装置の設計方法。
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