JP4670095B2 - Reactor - Google Patents
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Description
本発明は、トルエンその他の有機溶剤等の揮発性汚染物質(VOC)や、空気中に浮遊する各種異物(汚染物質、悪臭、煙、その他)を除去する技術に関する。より詳細には、VOCを包含した気体からVOCを除去する技術に関する。 The present invention relates to a technique for removing volatile pollutants (VOC) such as toluene and other organic solvents and various foreign substances (pollutants, bad odor, smoke, etc.) floating in the air. More specifically, the present invention relates to a technique for removing VOC from a gas containing VOC.
例えば、印刷工場等では、大量の有機溶剤を使用している。揮発した有機溶剤が、有機溶剤の使用施設からの排気に含有されて拡散してしまうと、当該有機溶剤使用施設の周辺環境に悪い影響を与えてしまう恐れがある。 For example, a large amount of organic solvent is used in a printing factory or the like. If the volatilized organic solvent is contained in the exhaust from the facility where the organic solvent is used and diffuses, the surrounding environment of the facility where the organic solvent is used may be adversely affected.
空気中に浮遊する各種異物(汚染物質、悪臭、煙、その他)、例えばVOCを除去するために、ガスタービンで燃焼処理することが考えられる。しかし、有機溶剤の使用施設からの排気に含まれるVOCは微量であり、ガスタービンの燃料とするには、少な過ぎる。 In order to remove various foreign matters (contaminants, bad odor, smoke, etc.) floating in the air, for example, VOC, it is conceivable to perform combustion treatment with a gas turbine. However, the VOC contained in the exhaust from the facility where the organic solvent is used is very small and is too small to be used as fuel for the gas turbine.
有機溶剤使用施設からの排気中に含有されるVOCを除去するために、排気系に活性炭槽を介装して、排気中のVOCを活性炭に吸着する技術が存在する(例えば、非特許文献1)。
しかし、係る技術では、活性炭槽を再生するため、吸着工程、再生工程を繰り返す必要があり、活性炭槽を介装したラインを2系統設けなければならない。
そのため、例えば、中小規模の印刷工場の様に有機溶剤使用量が少なく、VOC発生量が比較的少ない施設では、少なくとも2本の活性炭槽を使用するVOCの処理システムは施設全体の規模に比較して大規模となってしまい、コスト的にも合わない
In order to remove VOC contained in the exhaust from the organic solvent use facility, there is a technique in which an activated carbon tank is interposed in the exhaust system to adsorb the VOC in the exhaust to the activated carbon (for example, Non-Patent Document 1). ).
However, in such a technique, in order to regenerate the activated carbon tank, it is necessary to repeat the adsorption process and the regeneration process, and it is necessary to provide two lines interposing the activated carbon tank.
For this reason, for example, in a facility that uses a small amount of organic solvent and produces a relatively small amount of VOC, such as a small-scale printing factory, a VOC treatment system that uses at least two activated carbon tanks is compared to the scale of the entire facility. Will be too large and not cost effective
その他の従来技術としては、電気式熱風発生器と白金ハニカム触媒を組み合わせて、VOCを化学反応により無害化する技術が存在する(例えば、非特許文献2参照)。
しかし、係る技術では、VOCを除去する間には電気を常時供給して、反応開始温度まで加熱しなければならないため、多大な電気を消費し、そのためVOC処理コストが高くなってしまい、上述した問題を解消することが出来ない。
However, in such a technique, since electricity must be constantly supplied and heated to the reaction start temperature while removing the VOC, a large amount of electricity is consumed, resulting in an increase in VOC processing cost. The problem cannot be solved.
本発明は上述した従来技術の問題点に鑑みて提案されたものであり、VOCの処理コストを低減することが出来て、VOC濃度が非常に低くてもVOCを確実に捕集することが出来る様な反応装置の提供を目的としている。 The present invention has been proposed in view of the above-described problems of the prior art, can reduce the processing cost of VOC, and can reliably collect VOC even when the VOC concentration is very low. The purpose is to provide various reactors.
本発明の反応装置は、処理するべき未反応ガス(プロセスガス)を清浄化するための触媒(1)を有し、該触媒(1)は長手方向へ延在する複数の経路(1a)を形成して構成されていると共に、長手方向に延在する回転軸(R)周りを回転可能に構成されており、該触媒(1)はケーシング(3)に収容されており、該ケーシング(3)には未反応ガスが流過する給気系ライン(4)と触媒で反応した後の気体が排出される排出ライン(5)とが接続されており、ケーシング(3)内の触媒(1)上方の空間はセパレータ(7)により給気系ライン(4)が接続された給気側(32I)と排出ライン(5)が接続された排出側(32E)とに仕切られており(触媒の半径方向へ延在するように、且つ、触媒に対して回転可能なようにセパレータ7が取り付けられている)、前記セパレータ(7)は可撓性を具備する板状部材(例えば、比較的薄く形成された金属箔71,72)を複数貼り合せて構成され、個々の板状部材(71,72)は触媒(1)と接触するように配置され、触媒(1)と接触する側には複数のスリット(71s、72s)が形成されており、板状部材(71、72)の長手方向(回転可能な触媒の半径方向)中央のスリット(71sc)を除き、隣接する板状部材のスリット(71s、72s)の位置が相互にずれており、前記触媒(1)のセパレータ(7、7B)とは離隔した側(反対側)に設けられた部材(2b)には触媒(1)に形成された前記複数の経路(1a)が連通している。
The reaction apparatus of the present invention has a catalyst (1) for cleaning unreacted gas (process gas) to be treated, and the catalyst (1) has a plurality of paths (1a) extending in the longitudinal direction. The catalyst (1) is accommodated in a casing (3), and is configured to be rotatable around a rotation axis (R) extending in the longitudinal direction. ) Is connected to an air supply system line (4) through which unreacted gas flows and a discharge line (5) from which gas after reacting with the catalyst is discharged, and the catalyst (1) in the casing (3) is connected. ) The upper space is partitioned by a separator (7) into an air supply side (32I) to which an air supply system line (4) is connected and an exhaust side (32E) to which an exhaust line (5) is connected (catalyst) Of the separator so as to extend radially with respect to the catalyst and to be rotatable with respect to the catalyst. 7 is attached), the separator (7) is formed by laminating a plurality of flexible plate-like members (for example,
ここで、「ケーシング(3)内の触媒(1)上方の空間」すなわち「セパレータ(7)により給気系ライン(4)が接続された給気側(32I)と排出ライン(5)が接続された排出側(32E)とに仕切られて」いる空間は、ケーシング(3)の蓋体(上蓋32)内側の空間を意味している。そして、該蓋体(上蓋32)には、給気系ライン(4)及び排出ライン(5)が接続されている。
また、上述した部材(前記触媒のセパレータとは離隔した側に設けられた部材2b)は、エンドキャップのような構成をも包含する趣旨である。
Here, “the space above the catalyst (1) in the casing (3)”, that is, the “supply side (32I) to which the supply system line (4) is connected by the separator (7) and the discharge line (5) are connected. The space partitioned by the discharge side (32E) thus made means the space inside the lid (upper lid 32) of the casing (3). An air supply system line (4) and a discharge line (5) are connected to the lid (upper lid 32).
Further, the above-described member (the
本発明の実施に際して、前記(触媒1のセパレータ7、7Bとは離隔した側に設けられた)部材(22b)のセパレータ(7、7B)とは反対側の端部が二重底に構成され、該二重底の間(22v)の圧力が負圧となっているのが好ましい(図10参照)。
或いは、本発明において、前記触媒を嵌装する部材(触媒ロータ2、202)を、外側部材(23O)と内側を構成する(内側部材23I)とから成る2重構造に構成することが好ましい(図11参照)。そして、外側部材(23O)と内側部材(23I)とは閉鎖端部(上縁部23U)により一体的に構成することが可能である。
In carrying out the present invention, the end of the member (22b) (provided on the side separated from the
Or in this invention, it is preferable to comprise the member (catalyst rotor 2,202) which fits the said catalyst in the double structure which consists of an outer member (23O) and an inner side (inner member 23I) ( FIG. 11). The outer member (23O) and the inner member (23I) can be integrally configured by a closed end portion (
本発明では、触媒(触媒ロータ2)が回転する構造であって、回転する触媒ロータ(2)と接触しながら、給気側(32I)と排気側(32E)とに仕切るセパレータ(7)を備えている。
未処理ガスは、給気側(32I)に供給され、触媒(1)内に侵入して排気側(32O)から排出される。未処理ガスは、触媒(1)内を通過している間に、発熱反応により清浄化される。
In the present invention, the catalyst (catalyst rotor 2) rotates, and the separator (7) that partitions the supply side (32I) and the exhaust side (32E) while contacting the rotating catalyst rotor (2) is separated. I have.
The untreated gas is supplied to the supply side (32I), enters the catalyst (1), and is discharged from the exhaust side (32O). The untreated gas is cleaned by an exothermic reaction while passing through the catalyst (1).
ここで、排気側(32E)で反応後の清浄化されたガスがケーシング(3)外に排出されても、燃焼熱(反応熱)は残存する。触媒ロータ(2)が回転して給気側(32I)へ到達して、未処理ガスが流入すると、各経路(1a)内に残存した燃焼熱(反応熱)が未処理ガスへ投入される。すると、触媒(1)に流入したプロセスガスが反応を起こすのに十分な温度まで昇温する。
すなわち、本発明の構成によれば、触媒ロータ(2)を回転可能とし、触媒(1)の上方をセパレータ(7、7B)で給気側(32I)と排気側(32E)とに仕切ることによって、熱交換器と同等の作用を奏する。
その結果、高価な熱交換器の省略が可能となる。
Here, even if the purified gas after reaction on the exhaust side (32E) is discharged out of the casing (3), the combustion heat (reaction heat) remains. When the catalyst rotor (2) rotates to reach the supply side (32I) and the untreated gas flows, the combustion heat (reaction heat) remaining in each path (1a) is input to the untreated gas. . Then, the temperature of the process gas that has flowed into the catalyst (1) is raised to a temperature sufficient to cause a reaction.
That is, according to the configuration of the present invention, the catalyst rotor (2) can be rotated, and the upper side of the catalyst (1) is divided into the supply side (32I) and the exhaust side (32E) by the separators (7, 7B). Thus, the same effect as that of the heat exchanger is achieved.
As a result, an expensive heat exchanger can be omitted.
また、本発明において、比較的薄い板状部材(71、72)を複数貼り合わせて構成したセパレータ(7)が給気側(32I)と排気側(32E)とを仕切る用に構成すれば(請求項2)、未処理ガスが排気側に漏れ出してしまうことが防止される。
すなわち、比較的薄い板状部材(71、72)を複数貼り合わせて構成したセパレータ(7)は回転する触媒(1)と常時接触している。常時接触しているので、給気側(32I)と排気側(32E)とを十分にシール出来る。
Further, in the present invention, if a separator (7) configured by laminating a plurality of relatively thin plate-like members (71, 72) is configured to partition the air supply side (32I) and the exhaust side (32E) ( (2) The untreated gas is prevented from leaking to the exhaust side.
That is, the separator (7) formed by laminating a plurality of relatively thin plate-like members (71, 72) is always in contact with the rotating catalyst (1). Since the contact is always made, the air supply side (32I) and the exhaust side (32E) can be sufficiently sealed.
ここで、回転している触媒(1)と接触している上述のセパレータ(7)は、比較的薄い板状部材(71、72)を複数貼り合わせて構成されているので、弾性変形を起こして曲がりながら(撓みつつ)、接触することが出来、セパレータ(7)が触媒(1)を摩耗してしまうことが防止される。また、触媒(1)の回転の抵抗にならない。 Here, since the separator (7) in contact with the rotating catalyst (1) is formed by bonding a plurality of relatively thin plate-like members (71, 72), it causes elastic deformation. Thus, the separator (7) can be prevented from wearing the catalyst (1) while being bent (bending). Moreover, it does not become a resistance of rotation of the catalyst (1).
個々の板状部材(71、72)の触媒側にはスリット(71s、72s)が形成されており、スリット(71s、72s)間の可撓性(弾性変形で曲がること)を保証して、回転する触媒(1)の破損を防止出来る。
ここで、隣接する板状部材(71、72)のスリット(71s、72s)同士の位置がずれているので、複数の板状部材(71、72)の全体では、スリット(71s、72s)はラビリンスシールを構成することとなる。そのラビリンスシールによって未反応ガスが排気側(32E)に漏れてしまうことを防止している。
Slits (71s, 72s) are formed on the catalyst side of the individual plate members (71, 72), ensuring flexibility (bending due to elastic deformation) between the slits (71s, 72s), Breakage of the rotating catalyst (1) can be prevented.
Here, since the positions of the slits (71 s, 72 s) of the adjacent plate members (71, 72) are shifted, the slits (71 s, 72 s) in the whole of the plurality of plate members (71, 72) are A labyrinth seal will be constructed. The labyrinth seal prevents unreacted gas from leaking to the exhaust side (32E).
本発明におけるセパレータ(7B)を、気体を噴出して構成したカーテン(例えばエアカーテン(のノズル7Bt))で構成しても(請求項3)、給気側(32I)と排気側(32E)とを十分にシール出来ると共に、触媒(1)の回転の抵抗となったり、触媒(1)を摩耗してしまう恐れが無い。 Even if the separator (7B) in the present invention is configured by a curtain (for example, an air curtain (nozzle 7Bt) thereof) configured by jetting gas (Claim 3), the supply side (32I) and the exhaust side (32E) Can be sufficiently sealed, and there is no fear that the rotation resistance of the catalyst (1) or the catalyst (1) will be worn.
本発明において、前記触媒(1)のセパレータ(7、7B)とは離隔した側(反対側)に設けられた部材(2b)に触媒(1)に形成された前記複数の経路(1a)を連通すれば(請求項4)、触媒(1)内における給気側(32I)に連通する経路(1a)に侵入して発熱反応を起こしたガスが、当該部材(2b)に流入した後、排気側(32E)へ連通する経路(1a)へ流れるため、給気側(32I)から排気側(32E)へ確実にガスが流過する。 In the present invention, the plurality of paths (1a) formed in the catalyst (1) are formed on a member (2b) provided on the side (opposite side) separated from the separator (7, 7B) of the catalyst (1). When communicating (Claim 4), after the gas that has entered the path (1a) communicating with the supply side (32I) in the catalyst (1) and caused an exothermic reaction flows into the member (2b), Since the gas flows to the path (1a) communicating with the exhaust side (32E), the gas surely flows from the supply side (32I) to the exhaust side (32E).
ここで、触媒(1)のセパレータ(7、7B)とは離隔した側に設けられた部材(22b)のセパレータ(7、7B)とは反対側の端部を二重底に構成し、該二重底の間(22v)の圧力を負圧とせしめれば(図10参照)、二重底の間の空間(22v)で断熱(真空断熱)されるので、触媒(1)側の反応熱が中空部材(22b)から周囲に放熱されてしまうことが防止される。
また、二重底の間の空間(22v)で断熱(真空断熱)されるので、触媒(1)側の反応熱が、当該二重底部分(22b)を経由して電動モータ(12)側に伝達されてしまうことが防止される。従って、当該二重底部分(22b)に当接された回転伝達部材(駆動軸10等)及び回転動力源(電動モータ12)を加熱する事が防止される。
触媒を嵌装する部材(触媒ロータ2、202)を、外側部材(23O)と内側を構成する(内側部材23I)とから成る2重構造に構成しても(図11参照)、動揺の作用効果が得られる。
Here, the end opposite to the separator (7, 7B) of the member (22b) provided on the side separated from the separator (7, 7B) of the catalyst (1) is configured as a double bottom, If the pressure between the double bottoms (22v) is made negative (see FIG. 10), the space (22v) between the double bottoms will insulate (vacuum insulation), so the reaction on the catalyst (1) side It is prevented that heat is radiated from the hollow member (22b) to the surroundings.
Moreover, since heat insulation (vacuum insulation) is performed in the space (22v) between the double bottoms, the reaction heat on the catalyst (1) side passes through the double bottom part (22b) to the electric motor (12) side. Is prevented from being transmitted to. Accordingly, it is possible to prevent the rotation transmission member (such as the drive shaft 10) and the rotation power source (the electric motor 12) that are in contact with the double bottom portion (22b) from being heated.
Even if the member (
本発明では、基本的には、スタートアップ時以外は、予熱ヒータ(80)はOFFとしている。
スタートアップ時は予熱ヒータ(80)により反応が生じる程度まで昇温する必要があるが、その後は、触媒(1)における発熱反応熱が触媒(1)の複数の経路(1a)の各々に残存するため、予熱ヒータ(80)により加熱しなくても、経路(1a)に残存する反応熱により、未処理ガスは反応を生じる程度まで昇温出来る。
従来技術のように、予熱ヒータ(80)を常時ON状態にしておく必要は無い。
したがって、本発明は、スタートアップ時以外では、エネルギ消費量が非常に少ない。
In the present invention, basically, the preheating heater (80) is turned off except during startup.
At the time of start-up, it is necessary to raise the temperature to such an extent that a reaction is caused by the preheating heater (80), but thereafter, the exothermic reaction heat in the catalyst (1) remains in each of the plurality of paths (1a) of the catalyst (1). Therefore, even if it is not heated by the preheating heater (80), the temperature of the untreated gas can be raised to the extent that the reaction occurs due to the reaction heat remaining in the path (1a).
Unlike the prior art, it is not necessary to keep the preheater heater (80) always on.
Therefore, the present invention consumes very little energy except during startup.
以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
先ず、図24及び図25を参照して、本発明の反応装置の作動原理を説明する。図23は処理するべき未反応ガスが、触媒1によって清浄化される工程を、模式的に示したブロック図である。
First, the operating principle of the reaction apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 23 is a block diagram schematically showing a process in which the unreacted gas to be treated is cleaned by the
図24において、処理するべき未反応ガスは1例として、混合気の状態では、1000kcal/kgの熱量を保有している。係る未反応ガスは、大気中では混合率が薄く反応することはなく、凝縮させようとしても薄くて回収不可能である。 In FIG. 24, as an example, the unreacted gas to be processed has a calorific value of 1000 kcal / kg in the state of air-fuel mixture. Such unreacted gas has a low mixing rate in the atmosphere and does not react, and even if it is condensed, it is too thin to be recovered.
そこで、未反応ガスを、例えばブロワK1等で予備加熱装置K2に送り込む。
処理開始の初期においては、当該被処理ガスの反応が進んでいないために反応熱の発生が少なく、予備加熱装置K2を設け、その予備加熱装置(例えば電熱ヒータ)K2で、当該ガスを反応可能な凡そ350℃まで予備加熱する。
350℃に予備加熱された当該ガスは、熱交換装置K3を通過するが、その熱交換装置K3では、未だ、処理開始初期であるために反応熱が十分発生していないので熱交換が出来なく、そのまま反応装置(触媒)1に送り込まれる。
Therefore, the unreacted gas is fed into the preheating device K2 by, for example, the blower K1.
Since the reaction of the gas to be treated is not progressing at the initial stage of the process, reaction heat is hardly generated and a preheating device K2 is provided, and the gas can be reacted by the preheating device (for example, an electric heater) K2. Preheat to approximately 350 ° C.
The gas preheated to 350 ° C. passes through the heat exchange device K3. However, heat exchange cannot be performed in the heat exchange device K3 because the reaction heat is not sufficiently generated since the process is still in the initial stage. Then, it is fed into the reactor (catalyst) 1 as it is.
触媒に送り込まれた当該ガスは、反応装置1内の反応(触媒中の白金と接触して、酸化反応(発熱反応)を起こす)により、200℃昇温されて、550℃まで達する。 The gas sent to the catalyst is heated to 200 ° C. and reaches 550 ° C. by a reaction in the reactor 1 (contacting platinum in the catalyst to cause an oxidation reaction (exothermic reaction)).
すなわち、反応装置1内の反応により、昇温した分200℃だけ排気温度は上昇している。
In other words, due to the reaction in the
反応装置1から排出される処理済ガスは、大気温度Taよりも550℃上昇しており、前記熱交換装置K3では、その処理済ガスの保有するエネルギから、350℃分の熱量が投入される。
The treated gas discharged from the
ここで、図24からも判断出来るとおり、熱交換器K3の必要熱交換率μは、
μ=((Ta+350)−Ta)/((Ta+550)−Ta)=350/550=0.64となり、
64%あればよいこととなる。
熱交換器の効率が良くなると、反応装置1の入口温度が400℃になる場合があり得る。反応装置の入口温度が低ければ(ある種の溶剤だと、そのような事態も生じ得る)、熱交換器の効率を向上すれば、反応装置入口温度が(例えば400℃まで)昇温されるので、係るケースにも対応出来る。
Here, as can be judged from FIG. 24, the necessary heat exchange rate μ of the heat exchanger K3 is
μ = ((Ta + 350) −Ta) / ((Ta + 550) −Ta) = 350/550 = 0.64
64% is sufficient.
If the efficiency of the heat exchanger is improved, the inlet temperature of the
前記予備加熱装置K2は、スタートアップ用のヒータであり、運転開始時に、熱交換器K3では昇温しないので、予備加熱装置K2で加熱して、触媒(反応装置1)により反応可能にすることが目的である。
従って、反応が一定の水準に達した後は予備加熱装置K2は稼動させない。
The preheating device K2 is a start-up heater, and at the start of operation, the temperature does not rise in the heat exchanger K3. Therefore, the preheating device K2 can be heated by the preheating device K2 and can be reacted by the catalyst (reaction device 1). Is the purpose.
Therefore, after the reaction reaches a certain level, the preheating device K2 is not operated.
然るに、図24に示した原理図では、熱交換器K3を使用しており、係る熱交換機は価格が高く、装置全体としても嵩張ったものとなってしまう。
そこで、本発明の実施形態では、図25に示す様な、熱交換器と反応装置とを一緒にした装置を提案している。
However, in the principle diagram shown in FIG. 24, the heat exchanger K3 is used, and such a heat exchanger is expensive and bulky as a whole apparatus.
Therefore, in the embodiment of the present invention, an apparatus in which a heat exchanger and a reaction apparatus are combined as shown in FIG. 25 is proposed.
図25において、上端部をセパレータ7で仕切られた触媒(触媒ロータ)1を回転させる。そのように構成することにより、触媒1を熱交換器として作用させる事が出来る。
すなわち、排気側Eで反応後の清浄化されたガスが排出されても、燃焼熱(反応熱)は残存する。そして、触媒1が回転(矢印R)して入力側Iへ到達して、図示しない未処理ガスが流入すると、各経路(触媒の回転軸方向に形成された多数の管1a)内に残存した燃焼熱(反応熱)が未処理ガスへ投入され、図24で説明した熱交換器K3と同等の作用を奏する。
つまり、触媒1に流入した未処理ガスが反応を起こすのに十分な温度まで昇温することが出来る。
In FIG. 25, the catalyst (catalyst rotor) 1 whose upper end is partitioned by the
That is, even if the purified gas after reaction is exhausted on the exhaust side E, combustion heat (reaction heat) remains. Then, when the
That is, the temperature can be raised to a temperature sufficient for the untreated gas flowing into the
次に、図1〜図6を参照して第1実施形態を説明する。 Next, a first embodiment will be described with reference to FIGS.
図1において、円柱状で、円柱の軸中心線(回転中心)Rに平行な多数の経路1aを有し、白金Ptを担持させた触媒1は円筒状の触媒ロータ2に嵌装されている。
In FIG. 1, a
前記触媒ロータ2は、筒状体2aと、筒状体2aの下端に底部が部分球状の中空部材2bが、例えば溶接等で一体に接続されて構成されている。筒状体2aの上端部及び前記中空部材2bとの接続位置よりもやや上方には最大径部2c、2cが形成され、後述するラジアル軸受Brの内周に嵌合されている。
触媒ロータ2の筒状体2aの下端近傍には、段部2dが形成されており、その段部2dに前記触媒1の下端が当接するように係止されている。
The
A step portion 2d is formed in the vicinity of the lower end of the
前記触媒ロータ2は、ケーシング3に収容されている。そのケーシング3は、触媒ロータ2を収容する外筒31と、その外筒31の上端にシール部材34を介して気密に接合される上蓋32と、外筒31の下端にシール部材34を介して気密に接合される下蓋33とによって構成されている。
The
前記外筒31の上下端部には、触媒を自在に回転収容させるラジアル軸受Brが嵌装されている。
At the upper and lower end portions of the
前記上蓋32の上面には、給気系ライン4を接続する給気口32iと、排気系ライン5を接続する排気口32oとが形成されている。上蓋32の側部周囲には、予備の連通孔32eが形成されている。
ここで、ケーシング3の上蓋32(蓋体)には、給気系ライン(4)及び排出ライン(5)が接続されている。そして、上蓋32内側の空間は、「ケーシング(3)内の触媒(1)上方の空間」を構成しており、係る空間は、後述するセパレータ7により、給気側32Iと排出側32Eとに仕切られている。そして、上蓋32(蓋体)の(セパレータ7で仕切られた)給気側32Iには給気系ライン4が接続され、排出側32Eには排出ライン5が接続されている。
On the upper surface of the
Here, an air supply system line (4) and a discharge line (5) are connected to the upper lid 32 (lid body) of the
触媒へプロセスガス(未処理ガス)を供給する前記供給系ライン4には、スタータ用の予備ヒータ80を設けている。
プロセスガス(未処理ガスVOC)処理当初触媒は常温であり、反応に必要な温度まで到達していない。そのため、反応熱が発生するまでは、スタータ用のヒータで加熱する必要がある。
ここで、触媒ロータ2の底部の中空部材2bにヒータを配置すると、触媒ロータ2は回転するため、ヒータへの給電が困難となり、スリップリング等を使用しなければならない。スリップリング等を使用する代わりに、上述したように、供給系ライン4に、スタータ用の予備ヒータ80を設けるようにすれば、当該ヒータへの給電が容易になる。
The
The catalyst initially treated with the process gas (untreated gas VOC) is at room temperature and does not reach the temperature required for the reaction. Therefore, it is necessary to heat with a starter heater until reaction heat is generated.
Here, when a heater is disposed in the
また、上蓋32の内壁面には、上面中央を通り、前記吸気口32i側と排気口32o側とに内部を2分するように、隔壁6が、例えば溶接によって固着されている。
In addition, a
前記隔壁6は、詳細を図2に示すように、下端近傍には、セパレータ7を取付ける為のボルト孔6aが図示の例では5箇所に穿孔されている。更に、隔壁6の下端には厚み方向の中央に均一の深さの溝6bが形成されており、セパレータ7を構成する以下に説明する板状部材の内の1枚を挿入出来るように構成されている。
As shown in detail in FIG. 2, the
セパレータ7は、図3に詳細を示す第1の板状部材71が1枚と、図4に詳細を示す第2の板状部材72が2枚の合計3枚の何れも比較的薄く、変形し易い板状部材(例えば、極めて薄いステンレス鋼板)で構成されている。
なお、材料は、触媒における反応温度である500℃〜600℃の耐熱性と、可撓性と、入手容易性とを兼ね揃えていれば良く、実施形態では、特に入手が容易であることからステンレスの薄板鋼板を選んでいる。
Each of the
The material only needs to have both heat resistance of 500 ° C. to 600 ° C., which is the reaction temperature in the catalyst, flexibility, and availability, and in the embodiment, it is particularly easily available. Stainless steel sheet is selected.
図3を参照して、前記第1の板状部材71は、中央スリット71scを含めて、同一のピッチpを有する複数のスリット71sが略全長に亙って形成されており、スリット71sの上方には前記隔壁6に形成されたボルト孔6aと同一のピッチを有する取付孔71aが5箇所に穿孔されている。
Referring to FIG. 3, the first plate-
図4を参照して、前記第2の板状部材72は、中央スリット71scを除いて、同一のピッチpを有する複数のスリット72sが略全長にわたって形成されており、スリット72sの上方には前記隔壁6に形成されたボルト孔6aと同一のピッチを有する取付孔72aが5箇所に穿孔されている。
Referring to FIG. 4, the
尚、第1の板状部材71と第2の板状部材72では、取付孔71a、72aのピッチ及びスリット71s、72sのピッチは共に等しく、且つ、第1の板状部材71の取付孔71aと第2の板状部材72の取付孔72aとを前記隔壁6の取付孔6aに取り付けた場合に、第1及び第2の板状部材71、72のスリット71s、72sは互いに1/2ピッチずつ、ずれるように形成されている。
In the first plate-
図5は、第2の板状部材72を前記隔壁6に取り付ける際に、薄く変形しやすい板状部材72を隔壁6に確実に押さえるためのリテーナ73を示したものである。
リテーナ73の幅方向の中央には、前記隔壁6のボルト孔と同一のピッチの取付孔73aが穿孔されている。
FIG. 5 shows a
At the center in the width direction of the
セパレータ7を形成した場合、すなわち、第1の板状部材71及び第2の板状部材72を隔壁6にリテーナ73を用いて取り付けた場合は、板状部材71、72のスリット71s、72sのある板端部は前記触媒1の上面に略接触した状態で取り付けられる。
そして、2枚の第2の板状部材72と1枚の第1の板状の部材71は、互にスリットが半ピッチずつ、ずれていることによりラビリンス構造を有することとなる。
そのようなラビリンス構造により、未処理ガスが給気側(図1において、符号32Iで示す領域)から排出側(図1において、符号32Eで示す領域)へ漏出することを防止するように構成されている。
When the
The two
Such a labyrinth structure is configured to prevent the untreated gas from leaking from the supply side (the region indicated by reference numeral 32I in FIG. 1) to the discharge side (the region indicated by
板状部材71、72のスリット71s、72sのある端部は前記触媒1の上面に略接触した状態で取り付けられるため、仮に接触した場合は、接触抵抗によってセパレータ7(板状部材71、72)は図6で示すように、矢印Yの回転方向とは反対側へ引き摺られるように変形する。すなわち、触媒ロータ2の回転により、セパレータ7(板状部材71、72)は真中を境に、撓む方向が逆になる。
そのため、3枚の板の何れも真中にスリット71sc、72scを入れて、真中(回転軸R)を境に逆方向へ撓むことを許容している。
更に、触媒ロータ2のロータ長手方向に対する熱膨張は、セパレータ7(板状部材71、72)の可撓性により吸収することが出来る。
Since the end portions of the plate-
Therefore, the slits 71sc and 72sc are inserted in the middle of any of the three plates, and the board is allowed to bend in the reverse direction with the middle (rotation axis R) as a boundary.
Furthermore, the thermal expansion of the
再び、図1を参照して、前記ケーシング3の下蓋33の底部33aの中心部には、円柱状の突出部33cが形成され、その突出部33cの内部には円柱状の中空部33dが形成されている。
その中空部33dを挟む上下面には前記触媒ロータ2を回転駆動させる駆動軸10を挿通させる挿通孔33eが形成されている。
Referring to FIG. 1 again, a
An
前記駆動軸10は、大径部10aと中径部10bと小径部10cとで形成され、小径部10cの端部が接続部材11を介して電動モータ12の回転軸12aに接続される。
The
前記中径部10bは、ベアリングハウジング13に収容された2層のスラストベアリング14によって回転自在に支持されている。また、中径部10bの小径部側境界部には雄螺子が形成され、位置決め用ナットN2の雌ねじと螺合するように構成されている。
The
前記大径部10aの端部には、板状部材8が大径部10aと同心で取り付けてあり、大径部10aの略中間には円弧状に細くなったベアリング部10dが形成されている。尚、そのベアリング部10dは、前記下蓋33の中空部33dと同じ高さ方向位置に形成されており、中空部33dの空間を大きく取れるように構成されている。
A plate-like member 8 is mounted concentrically with the large-
前記ケーシング3の下蓋33の底部33aの突出部33cの内部に形成された円柱状の中空部33dと前記駆動軸10の大径部10aに形成されたベアリング部10dとを設けることにより、触媒ロータ内2で発生した反応熱を、スラストベアリング14側に伝え難くしている。すなわち、スラストベアリング14には触媒1の反応熱が伝達され難く、スラストベアリング14内の潤滑用グリースは高温から保護される。
By providing a cylindrical
前記板状部材8は前記触媒ロータ2の部分球状体の中空部材2bの下端頂点で点接触をするように触媒ロータ2を支持している。その板状部材8の外縁近傍には、駆動軸10と平行な駆動ピン9が複数(図示では2本)立設されており、その駆動ピン9の端部は、前記ロータ2の中空部材2bの下端外縁近傍に例えば溶接等によって固着されている。
従って、前記電動モータ12の駆動力は、駆動軸10を介して、板状部材8に立設された複数の駆動ピン9によって触媒ロータ2に伝達される。
The plate-like member 8 supports the
Therefore, the driving force of the
前記ベアリングハウジング13の触媒ロータ2側の一端には図示では明確に示さないがスラストベアリング14の抜け止めの縁が形成され、他端のベアリング収納穴の開放側には、図示では明確に示さないが雌ねじが形成されている。
その雌ねじにリングナット16の雄螺子を螺合させ、そのリングナット16の端部と前記抜け止めの縁とによって、複層のスラストベアリング14の、ベアリングハウジング13外への脱落を防止している。
Although not clearly shown in the drawing, one end of the bearing
The male screw of the
スラストベアリング14の前記駆動軸10への係合は、先ず、駆動軸10の大径部10aと中径部10bとの境界(段部)と、前記中径部10bの小径部10c側端部に形成した雄螺子部に螺合する係止用ナットN2とによって行われる。
First, the
前記電動モータ12は水平支持部材17及び垂直支持部材18を介してケーシング3の下蓋33の底部材33aに接続されている。
The
上述したような構成を具備する第1実施形態は、触媒ロータ2が回転可能に構成されており、且つ、回転する触媒1の上面と接触しながら、給気側32Iと排気側32Eとに仕切るセパレータ7が設けてあることにより、未処理ガスは給気側32Iに供給される。給気側32Iに供給され触媒1内に進入した処理ガスは、反応しつつ反応熱を発生させながら、排気側32Eから排出される。すなわち、触媒1内を通過中に発熱反応によって当該ガスは浄化される。
In the first embodiment having the above-described configuration, the
ここで、排気側32Eで反応後の清浄化されたガスが排出されても、燃焼熱(反応熱)は残存する。触媒ロータ1が回転して給気側32Iへ到達して、未処理ガスが流入すると、各経路1a内に残存した燃焼熱(反応熱)が未処理ガスへ投入される。触媒1に流入したプロセスガスが反応を起こすのに十分な温度まで昇温する
ため、熱交換器と同等の作用を奏する。その結果、高価な熱交換器の省略が可能となる。
Here, even if the purified gas after the reaction is exhausted on the
また、本実施形態では、比較的薄い板状部材71,72を複数貼り合わせて構成したセパレータ7が給気側32Iと排気側32Eとを仕切っているため、未処理ガスが排気側32Eに漏れ出してしまうことが防止出来る。
すなわち、比較的薄い板状部材71,72を複数貼り合わせて構成したセパレータ7は回転する触媒1と常時接触している。常時接触しているので、給気側32Iと排気側32Eとを十分にシール出来る。
In the present embodiment, since the
That is, the
回転している触媒1と接触しているセパレータ7は、比較的薄い板状部材71,72を複数貼り合わせて構成されているので、弾性変形を起こして曲がりながら(撓みつつ)、接触可能である。したがって、セパレータ7による触媒1の摩耗を防止出来る。また、セパレータ7の存在は、触媒ロータ2の回転の大きな抵抗とはならない。
The
個々の板状部材71、72の触媒1側にはスリット71s、72sが形成されているため、スリット71s、72s間の可撓性(弾性変形で曲がること)を保証して、回転する触媒1の破損を防止出来る。
個々で隣接する板状部材71、72のスリット71s、72s同士の位置がずらしてあるので、複数の板状部材71、72の全体では、スリット71s、72sはラビリンスシールを構成することとなる。係るラビリンスシールは、未反応ガスが給気側32Iから排気側32Eに漏れてしまうことを防止している。
Since the
Since the positions of the
本発明において、前記触媒1のセパレータ7と接触するのとは反対側に中空部材2b触媒ロータ2に一体的に取り付け、該中空部材2bに前記複数の経路1aを連通しているため、触媒1内における給気側32Iに連通する経路1aに侵入して発熱反応を起こしたガスが、当該中空部材2bに流入した後、排気側32Eへ連通する経路1aへ流れるため、給気側32Iから排気側32Eへ確実にガスが流過する。
In the present invention, the
第1実施形態では、基本的には、スタートアップ時以外は、予熱用ヒータ80はOFFとしている。
スタートアップ時は予熱用ヒータ80により反応が生じる程度まで昇温する必要があるが、その後は、触媒1における発熱反応熱が触媒1の複数の経路1aの各々に残存するため、予熱用ヒータ80により過熱しなくても、経路1aに残存する反応熱により、未処理ガスは反応を生じる程度まで昇温できる。
すなわち、従来技術のように、ヒータを常時ON状態にしておく必要は無い。
したがって、本実施形態は、スタートアップ時以外では、エネルギ消費量が非常に少ない。
In the first embodiment, the preheating
At the time of start-up, it is necessary to raise the temperature to such an extent that a reaction is caused by the preheating
That is, unlike the prior art, it is not necessary to keep the heater always on.
Therefore, this embodiment has very little energy consumption except at the time of startup.
次に、図7を参照して第2実施形態を説明する。 Next, a second embodiment will be described with reference to FIG.
図1〜図6の第1実施形態では、セパレータ7は複数の薄くて可撓製の高いステンレス鋼板製の板状部材71、72を使用した実施形態である。
それに対して図7の第2実施形態は、気体を噴出して構成されるカーテン(例えばエアカーテン)を用いた実施形態である。第1実施形態と異なる構成について以下に説明する。
In the first embodiment of FIGS. 1 to 6, the
On the other hand, 2nd Embodiment of FIG. 7 is embodiment using the curtain (for example, air curtain) comprised by ejecting gas. A configuration different from the first embodiment will be described below.
ケーシング3Bの上蓋32Bの円筒周囲には、給気口32Biと、その給気口32Biの反対側に、排気口32Boが形成されている。上蓋32Bの上面中心には上蓋32Bの内外を連通する管用テーパねじ孔32Btが形成されている。
さらに、上蓋32Bの内壁には、前記管用テーパねじ孔32Btを包含し、上蓋32Bを給気側32Iと排気側32Eとに2分するように、内壁面全体にわたってカーテン状のノズル7Bが形成されている。
尚、ノズルノズル7Bのテーパ状の先端7Btと触媒1との間には、僅かな隙間が形成されている。そのノズル7Bには図示しない圧縮空気の供給源から圧縮空気が供給され、ノズル先端7Btからは、圧縮空気が触媒1の上面に向って噴射される。
上述の構成以外は、図1〜図6の第1実施形態と実質的に同様である。
Around the cylinder of the upper lid 32B of the casing 3B, an air supply port 32Bi and an exhaust port 32Bo are formed on the opposite side of the air supply port 32Bi. At the center of the upper surface of the upper lid 32B, a pipe taper screw hole 32Bt that communicates the inside and outside of the upper lid 32B is formed.
Further, the inner wall of the upper lid 32B includes the pipe taper screw hole 32Bt, and a curtain-like nozzle 7B is formed over the entire inner wall surface so as to divide the upper lid 32B into an air supply side 32I and an
A slight gap is formed between the tapered tip 7Bt of the nozzle nozzle 7B and the
Except for the configuration described above, the second embodiment is substantially the same as the first embodiment shown in FIGS.
係る構成の第2実施形態によれば、前記セパレータとして、ノズル7Bから気体(例えば圧縮空気)を噴出して構成されるカーテン(エアカーテン)を用いているため、給気側32Iと排気側32Eとを十分にシール出来ると共に、触媒1の回転の抵抗となったり、触媒1を摩耗してしまう恐れが無い。
すなわち、圧縮空気を吹き付ける機構を採用しているので、その圧力により、未反応ガスが触媒をバイパスして、入口側から出口側へ漏れ出すことを防止できる。
According to the second embodiment having such a configuration, since the curtain (air curtain) configured by ejecting gas (for example, compressed air) from the nozzle 7B is used as the separator, the supply side 32I and the
That is, since a mechanism for blowing compressed air is employed, the pressure can prevent unreacted gas from bypassing the catalyst and leaking from the inlet side to the outlet side.
次に、図8を参照して第3実施形態の一実施形態を説明する。 Next, an embodiment of the third embodiment will be described with reference to FIG.
図1の第1実施形態において、ロータを回転する軸(回転軸)Rが過熱すると、例えば、スラストベアリング14に封入された潤滑用のグリースが溶けてしまい、駆動軸10や軸受(ベアリングケース)13が焼き付く恐れがある。
その様な事態を防止するため、「回転する触媒の回転軸(モータの出力軸と接続された軸)」の冷却のために、未反応ガスを吹き付ける機構を設けた実施形態が図8の第3実施形態の一実施形態である。
In the first embodiment of FIG. 1, when the shaft (rotating shaft) R that rotates the rotor is overheated, for example, the grease for lubrication enclosed in the
In order to prevent such a situation, an embodiment provided with a mechanism for blowing unreacted gas for cooling the “rotating shaft of the rotating catalyst (shaft connected to the output shaft of the motor)” is shown in FIG. It is one embodiment of 3 embodiment.
図8の第3実施形態の一実施形態は、図1〜図6の実施形態に対して、ケーシング3の下蓋33底部の円柱状の突出部33cの内部に形成された中空部33dに、中空部33dの内外を連通する、例えば管用テーパねじTpを形成し、その管用テーパねじTpとケーシング上蓋32の側部周囲に形成した予備の連通孔32eとを専用の口金付きチューブTによって連通させている(すなわち、上蓋32の給気口側32Iと下蓋33の中空部33dとはチューブTによって連通している)。
One embodiment of the third embodiment of FIG. 8 is different from the embodiment of FIGS. 1 to 6 in the
そのように、専用のチューブTで給気口側32Iと中空部33dとを連通させることにより、未反応で比較的低温の処理対象ガスが、ケーシング3の下蓋33底部の円柱状の突出部33cの内部に形成された中空部33dに誘引され、中空部33d内を貫通する駆動軸10は冷却される。駆動軸10が途中で冷却されるため、スラストベアリング14には触媒1の反応熱が伝達されなく、スラストベアリング14内の潤滑用グリースの溶融防止、或いは過度の高温による電動モータ12の故障の防止が図られる。
As described above, by connecting the air supply port side 32I and the
上記構成の違い以外は、図8の第3実施形態の一実施形態は、図1〜図6の第1実施形態に対して実質的に同様である。 Except for the difference in the above configuration, an embodiment of the third embodiment of FIG. 8 is substantially the same as the first embodiment of FIGS.
次に、図9を参照して、第3実施形態の他の実施形態を説明する。 Next, another embodiment of the third embodiment will be described with reference to FIG.
図9の第3実施形態の他の実施形態は、図8の第3実施形態の一実施形態に対して、別置きの、例えばエアコンプレッサC、或いはブロワを用い、そのエアコンプレッサCから専用チューブTを中空部33dの内外を連通する管用テーパねじTpに接続した実施形態である。
それ以外の構成及び作用効果については図8の第3実施形態の一実施形態と同様である。
Another embodiment of the third embodiment of FIG. 9 is different from the embodiment of the third embodiment of FIG. 8 in that, for example, an air compressor C or a blower is used separately from the air compressor C to a dedicated tube. This is an embodiment in which T is connected to a pipe taper screw Tp communicating between the inside and the outside of the
Other configurations and operational effects are the same as those of the third embodiment shown in FIG.
次に、図10を参照して、第4実施形態を説明する。
図10の第4実施形態は、図1〜図6の第1実施形態に対して、触媒ロータ2の下端の中空部材2bを2重底にし(第4実施形態の中空部材の符合は22b)、その2重底の空間部22vを真空とした実施形態である。
それ以外の構成については図1〜図6の第1実施形態と同様である。
Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIG.
In the fourth embodiment of FIG. 10, the
Other configurations are the same as those of the first embodiment shown in FIGS.
触媒ロータ2の下端の中空部材22bを2重底にし、その空間部22vを真空構造とすることで、断熱を図り、スラストベアリング14への触媒1の反応熱の影響を阻止することが出来る。
すなわち、ベアリング14内の潤滑用グリースの溶融防止、或いは過度の高温によるモータ故障の防止が図られる。
The hollow member 22b at the lower end of the
That is, the lubricating grease in the
次に、図11を参照して、本発明の第5実施形態について説明する。図10の第4実施形態は、触媒ロータ2の下端部材2bのみを2重底にしているのに対して、図11の第5実施形態は、触媒ロータ全体を2重構造にしている。
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the fourth embodiment of FIG. 10, only the
図11では、第5実施形態に係る触媒ロータ202を示している。図11から明らかな様に、触媒ロータ202は、2重構造の外側を構成する外側部材23Oと、内側を構成する内側部材23Iとから成る。
外側部材23Oは、筒状体2a−1及びその下端(底部)の部材2b−1とが、例えば溶接等で一体に接続されて構成されている。一方、内側部材23Iは、筒状体2a−2及びその下端(底部)の部材2b−2とが、例えば溶接等で一体に接続されて構成されている。
FIG. 11 shows a
The outer member 23O is configured such that the
外側部材23Oと内側部材23Iとは、上縁部23Uを閉鎖端部として構成することにより、一体的に構成されている。
ここで、断熱性を向上するため、外側部材23Oと内側部材23Iとの間の空間23vは、負圧となっていることが好ましい。
The outer member 23O and the inner member 23I are integrally configured by configuring the
Here, in order to improve heat insulation, it is preferable that the space 23v between the outer member 23O and the inner member 23I has a negative pressure.
図11の第5実施形態では触媒ロータ202を2重構造としたので、触媒1(図11では図示せず)内で生じた反応熱であって、伝熱により触媒ロータ202外に放出されてしまう熱量を少なくすることが出来る。その結果、触媒1内で生じた反応熱の無駄(反応熱が伝熱により周囲に放散すること)が少なくなり、反応熱は連続して触媒1内へ供給される未反応ガスの予熱源(予熱のエネルギー源)として活用される。
In the fifth embodiment of FIG. 11, since the
図11の第5実施形態におけるその他の構成及び作用効果については、上述した各実施形態と同様である。
また、この第5実施形態に係る構成は、その他の実施形態にも適用可能である。
Other configurations and operational effects in the fifth embodiment in FIG. 11 are the same as those in the above-described embodiments.
The configuration according to the fifth embodiment can also be applied to other embodiments.
図12は、本発明の第6実施形態を示す。
図1〜図11の各実施形態では、触媒1或いは触媒ロータ2の高さ方向位置は、装置全体を載置する土台が決定した後は変更することが出来ないが、図12の第6実施形態では、触媒1或いは触媒ロータ2(図12では、触媒ロータ2のみを示す)の高さ方向位置が調節可能に構成されている。
FIG. 12 shows a sixth embodiment of the present invention.
In each embodiment of FIGS. 1 to 11, the height direction position of the
図12において、触媒ロータ2の部材2bに固定された駆動ピン9は、板状部材8に形成された貫通孔8bに挿入されている。換言すれば、これにより、駆動ピン9は板状部材8に対して、触媒ロータ2の中心線C方向には相対移動可能であるが、いた状部材8が中心線C方向に回転した場合には、一緒に回転する様に取り付けられている。
In FIG. 12, the
湾曲して形成された部材2b下端の頂点と板状部材8との間には、両者の間隔を調節するための調節機構が構成されている。係る調節機構は、ボルト204と、駆動軸10の大径部10aの触媒ロータ2側(図12では上方)端部に穿孔された盲孔206とによって構成されており、盲孔206には、ボルト204に螺合する雌ねじ部(明確には図示せず)が形成されている。
触媒或いは触媒ロータ2の高さ方向位置すなわち中心線C方向の位置を調節するに際しては、ボルト204を回転すれば良い。ボルト204を時計方向に締めこめば、触媒ロータ2は下方に移動し、反時計方向に回転すれば、触媒ロータ2は上方へ移動するのである。
Between the apex of the lower end of the
When adjusting the position in the height direction of the catalyst or the
図12の第6実施形態における上述以外の構成及び作用効果は、図1〜図11の各実施形態と同様である。
そして、図12の第6実施形態の構造は、図1〜図11の各実施形態に適用可能である。
Configurations and operational effects other than those described above in the sixth embodiment of FIG. 12 are the same as those of the embodiments of FIGS.
And the structure of 6th Embodiment of FIG. 12 is applicable to each embodiment of FIGS.
次に、図13〜図19を参照して第7実施形態を説明する。 Next, a seventh embodiment will be described with reference to FIGS.
先ず、図13及び図14を参照して、第7実施形態の「通常稼動時の制御」、即ち、排気温度の変化によって駆動用電動モータ12の回転速度を制御する実施形態について説明する。
First, with reference to FIG. 13 and FIG. 14, “control during normal operation” of the seventh embodiment, that is, an embodiment in which the rotational speed of the drive
図13及び図14の第7実施形態の「通常稼動時の制御」を行うに当り、ベースとしての構成は図13に示すように、第1実施形態の装置(図13において符号J1)に対して、制御手段であるコントロールユニット100と、排気系ライン5に温度センサStを介装し、電動モータ12に回転計Srを取り付けた実施形態である。
尚、図13において符号200は、例えば処理するべきガスを排出する印刷工場を示し、符号Liは入力信号ライン、Loは出力信号ラインを示す。
以下に制御方法説明する。
In performing “control during normal operation” of the seventh embodiment of FIGS. 13 and 14, the configuration as a base is the same as that of the apparatus of the first embodiment (reference numeral J1 in FIG. 13) as shown in FIG. In this embodiment, the
In FIG. 13,
The control method will be described below.
ステップS1において、許容最低温度Ta、及び許容最高温度Tbを設定し、ステップS2で温度計Stによってケーシング3の出口の温度Tを計測する。
In step S1, the allowable minimum temperature Ta and the allowable maximum temperature Tb are set, and in step S2, the temperature T at the outlet of the
次のステップS3では、コントロールユニット100は、前記測定した温度Tが許容最低温度T2未満(T<Ta)であるか、温度Tが許容最低温度Ta以上で許容最高温度Tb以下(Ta≦T≦Tb)であるか、或いは温度Tが許容最高温度Tbを超えている(Tb<T)か、を判断する。
In the next step S3, the
測定した温度Tが許容最低温度Ta未満(T<Ta)である場合は、ステップS4に進み、電動モータ12の回転速度を減じた後ステップS7に進む。
温度Tが許容最低温度Ta以上で許容最高温度Tb以下(Ta≦T≦Tb)である場合は、ステップS5に進み、電動モータ12の現在の回転速度を維持して、ステップS7に進む。
温度Tが許容最高温度Tbを超えている(Tb<T)場合は、ステップS6に進み、電動モータ12の回転速度を増した後ステップS7に進む。
If the measured temperature T is less than the allowable minimum temperature Ta (T <Ta), the process proceeds to step S4, and after the rotational speed of the
When the temperature T is equal to or higher than the allowable minimum temperature Ta and equal to or lower than the allowable maximum temperature Tb (Ta ≦ T ≦ Tb), the process proceeds to step S5, the current rotational speed of the
If the temperature T exceeds the allowable maximum temperature Tb (Tb <T), the process proceeds to step S6, and after the rotational speed of the
ステップS7では、コントロールユニット100は、制御を終了するのか否かを判断しており、制御を終了させたいのであれば(ステップS7のYES)、そのまま制御を終える。
一方、制御を継続したいのであれば(ステップS7のNO)、ステップS1に戻り、再びステップS1以降を繰り返す。
In step S7, the
On the other hand, if it is desired to continue the control (NO in step S7), the process returns to step S1, and steps S1 and after are repeated again.
尚、制御フロー(図14)では記述していないが、当該装置の稼動中は常に回転計Srによって触媒ロータ2の回転速度が監視できるように構成されている。
Although not described in the control flow (FIG. 14), the rotation speed of the
排気系ライン5に温度センサSrを介装した理由は、排気温度Tが反応機の熱効率と直結したパラメータであり、計測が容易なためである。
The reason why the temperature sensor Sr is provided in the
給気側(反応装置の入口側)の濃度を計測して、入口側濃度が高ければ、回転数を落とす様に構成することも可能であるからである。但し、濃度の計測は機構が複雑化し、価格も高価である。したがって、本実施形態のように、比較的安価な温度センサSrで簡単に計測できる出口側温度で制御するのが好ましい。 This is because the concentration on the supply side (inlet side of the reaction apparatus) is measured, and if the concentration on the inlet side is high, the rotation speed can be reduced. However, the mechanism for measuring the concentration is complicated and expensive. Therefore, it is preferable to control at the outlet side temperature that can be easily measured by the relatively inexpensive temperature sensor Sr as in this embodiment.
次に、図15及び図16を参照して、第7実施形態の「触媒再生の有無を判断する制御」について説明する。 Next, with reference to FIG. 15 and FIG. 16, “control for determining presence / absence of catalyst regeneration” of the seventh embodiment will be described.
処理装置の構成は、図15に示すように、前述の「通常稼動時の制御」を行う場合の装置(図13)に対して、警告用ブザー300を追加したことが異なるのみである。
As shown in FIG. 15, the configuration of the processing apparatus is different from the apparatus (FIG. 13) in the case of performing the “control during normal operation” described above in that a
図16を参照して、「触媒再生の有無の判断」の制御方法を説明する。 With reference to FIG. 16, the control method of “judgment of presence / absence of catalyst regeneration” will be described.
ステップS11において、コントロールユニット100は、先ず、初期、すなわち、新品の触媒又は再生直後の触媒によるVOC処理を開始した初期、における排気温度と、触媒ロータ2の回転数とを記録し、次に、排気温度を温度センサStによって計測する(ステップS12)。
In step S11, the
次のステップS13では、コントロールユニット100は、同一排気温度の初期より、所定割合以上、例えば、20%以上触媒ロータ2の回転数が遅いか否かを判断しており、遅くはなければ(ステップS13のNO)、ステップS12からステップS13のループを繰返し、所定割合以上回転数が遅い場合は(ステップS13のYES)、ステップS14に進む。
In the next step S13, the
ステップS14では、コントロールユニット100は、「触媒の再生が必要である」と判断して、ブザー300によって警告を与え(ステップS15)、ステップS16に進む。
In step S14, the
ステップS16では、再生が実行されたか否かを判断し、実行されたなら、(ステップS16のYES)、ステップS1に戻り、再びステップS11以降を繰り返す。
一方、再生が実行されていなければ(ステップS16のNO)、ステップS15、ステップ16のループを繰り返す。
In step S16, it is determined whether or not the reproduction has been executed. If it has been executed (YES in step S16), the process returns to step S1, and steps S11 and after are repeated again.
On the other hand, if the reproduction is not executed (NO in step S16), the loop of step S15 and step 16 is repeated.
次に、図17及び図18を参照して、第7実施形態の「触媒の劣化を判断する制御」について説明する。 Next, with reference to FIGS. 17 and 18, “control for judging deterioration of catalyst” in the seventh embodiment will be described.
処理装置の構成は、図17に示すように、前述の「触媒再生の有無の判断」で使用した装置(図15)に対して、タイマ120をコントロールユニット100に接続したことが異なる。以下に図18を参照して「触媒の劣化を判断する制御」の制御方法を説明する。
As shown in FIG. 17, the configuration of the processing apparatus is different from the apparatus (FIG. 15) used in the above-described “judgment of catalyst regeneration” in that a
先ず、ステップS21において、温度センサStを用いて排気温度を測定した後、ステップS22において、コントロールユニット100は、排気温度が所定温度以下であるか否かを判断する。
First, in step S21, after measuring the exhaust temperature using the temperature sensor St, in step S22, the
排気温度が所定温度を超えていれば(ステップS22のNO)、ステップS21、S22のループを繰返し、排気温度が所定温度以下であればステップS23において(ステップS22のYES)、触媒ロータ2の回転数を所定回転数だけ減少させる。
If the exhaust gas temperature exceeds the predetermined temperature (NO in step S22), the loop of steps S21 and S22 is repeated. If the exhaust gas temperature is equal to or lower than the predetermined temperature, in step S23 (YES in step S22), the rotation of the
次のステップS24では、コントロールユニット100は、所定時間が経過するまで監視しており(ステップS24のループ)、所定時間が経過したなら(ステップS24のYES)、再度排気温度を測定する(ステップS25)。
In the next step S24, the
ステップS26においてコントロールユニット100は、減速前に比較して排気温度が一定値以上昇温したか否かを判断する。
排気温度が一定値以上昇温していなければ(ステップS26のNO)、劣化と判断する(ステップS27)。
一方一定値以上昇温していれば(ステップS26のYES)、ステップS1まで戻り再びステップS21以降を繰り返す。
In step S <b> 26, the
If the exhaust temperature has not risen above a certain value (NO in step S26), it is determined that the exhaust has deteriorated (step S27).
On the other hand, if the temperature has risen above a certain value (YES in step S26), the process returns to step S1 and repeats step S21 and subsequent steps.
次のステップS28では、ブザー300によって警告を与えて、制御を終了する。
In the next step S28, a warning is given by the
次に、図19及び図20を参照して、第7実施形態の、当該装置で処理された処理ガスの「全処理量ΣQのカウント方法」について説明する。 Next, with reference to FIG. 19 and FIG. 20, the “counting method of the total processing amount ΣQ” of the processing gas processed by the apparatus of the seventh embodiment will be described.
処理装置の構成は、図19に示すように、前述の「触媒の劣化を判断する制御」を行う場合の装置(図17)に対して、給気系ライン4に流量計Sqを介装し、コントロールユニット100に接続したブザーを表示手段130に変更したことが異なるのみである。
As shown in FIG. 19, the configuration of the processing apparatus is such that a flow meter Sq is provided in the air
図20を参照して、「全処理量ΣQのカウント方法」を説明する。 With reference to FIG. 20, the “counting method of the total processing amount ΣQ” will be described.
ステップS31において、タイマ120で計測を開始し、所定時間ΔTが経過したか否かをコントロールユニット100が判断する(ステップS32)。
In step S31, the measurement is started by the
所定時間ΔTが経過した場合(ステップS32のYES)に、温度センサStで排気温度を、流量計Sqで流量計側の結果を夫々読込む(ステップS33)。 When the predetermined time ΔT has elapsed (YES in step S32), the temperature sensor St reads the exhaust temperature, and the flow meter Sq reads the result on the flow meter side (step S33).
次のステップS34では、コントロールユニット100は、所定時間ΔTの処理量Qnを演算し、同様の所定時間毎の処理量を順次積算することによって全処理量ΣQを求める(ステップS35)。
In the next step S34, the
次のステップS36では、コントロールユニット100は、処理作業が終了したか否かを判断して、処理作業が終了していれば(ステップS36のYES)、全処理量ΣQを表示手段130に表示して制御を終了する。一方、処理が終わっていなければ(ステップS36のNO)、ステップS31に戻り、再びステップS31以降を繰り返す。
In the next step S36, the
次に、図21及び図22を参照して、本発明の第8実施形態について説明する。
この第8実施形態では、VOC等の処理するべきガス(未処理ガス)が触媒1内で反応して発生する熱量が、許容最大値(上限)を超えた場合や、許容最小値(下限)を下回った場合に、非常事態回避手段を作動させる制御を行う様に構成されている。
Next, an eighth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
In the eighth embodiment, the amount of heat generated by the reaction of the gas to be processed (untreated gas) such as VOC in the
図21において、排気系ライン5には排気温度Tdを検出する温度センサStdが介装されており、吸気系ライン4には吸気温度Tiを検出する温度センサStiが介装されている。
吸気系ライン4には、さらに、ヒータ80、送風機82が介装されており、合流点PGにて、清浄空気供給ライン4−2が合流している。合流点PGよりもさらに上流側(印刷工場200側)の領域4−1には、流量調整弁Vca及び領域4−1における流量QAを計測する流量計SQAが介装されている。
一方、清浄空気供給ライン4−2は図示しない清浄空気供給源に連通しており、流量調整弁Vcb及びライン4−2における流量QBを計測する流量計SQBが介装されている。
In FIG. 21, the
Further, a
On the other hand, the clean air supply line 4-2 communicates with a clean air supply source (not shown), and a flow rate adjusting valve Vcb and a flow meter SQB for measuring the flow rate QB in the line 4-2 are interposed.
温度センサStd、Sti、流量計SQA、SQBの検出信号は、それぞれ信号伝達ラインSL1〜SL4を介して、コントロールユニット110へ送られる。また、コントロールユニット110からの弁開度制御信号(流量を調節する制御信号信号)は、信号伝達ラインSL5、SL6を介して流量調整弁Vca、Vcbに送出される。
The detection signals of the temperature sensors Std and Sti and the flow meters SQA and SQB are sent to the
図22を主に参照して、第8実施形態の制御を説明する。
先ず、流量計SQA、SQBにより領域(或いはライン)4−1、4−2における流量QA、QBを計測し、温度センサStd、Stiにより排気温度Td、吸気温度Tiを検出する(ステップS41)。なお、図21、図22で示す反応装置の運転当初においては、ライン4−2を流れる清浄空気流量QBはゼロである。
The control of the eighth embodiment will be described mainly with reference to FIG.
First, the flow rates QA and QB in the areas (or lines) 4-1 and 4-2 are measured by the flow meters SQA and SQB, and the exhaust temperature Td and the intake air temperature Ti are detected by the temperature sensors Std and Sti (step S41). Note that, at the beginning of the operation of the reaction apparatus shown in FIGS. 21 and 22, the clean air flow rate QB flowing through the line 4-2 is zero.
次に、コントロールユニット110における図示しない演算ブロックで、検出された流量QA、QBと、温度Td、Tiを用いて、触媒1における発熱量Qを演算する(ステップS42)。そして、演算された発熱量Qが適正な範囲にあるか否かを判定する(ステップS43)。
ここで、発熱量の適正な範囲(或いは、許容範囲)は、反応装置が設置された印刷工場200の規模、触媒1の大きさ、その他の種々の条件で、ケース・バイ・ケースで定まるが、事前に決定することが可能な数値である。
Next, the calorific value Q in the
Here, the appropriate range (or allowable range) of the calorific value is determined on a case-by-case basis depending on the scale of the
発熱量Qが適正であれば(ステップS43がYes)、反応装置の処理量は適性であり、ライン4−2から清浄空気を供給する必要は無いので、弁Vcbを閉鎖して、弁Vcaの開度のみを調整して、反応装置の処理量を決定する(ステップS44)。具体的には、排気温度(出口温度)Tdの方が吸気温度(入口温度)Tiよりも高温である状態が維持される程度に弁Vcaの開度を調節する。
弁Vcaの開度のみを調整し、弁Vcbを閉鎖したならば(ステップS44が完了したならば)、ステップS45へ進む。
If the calorific value Q is appropriate (Yes in step S43), the reactor throughput is appropriate and there is no need to supply clean air from the line 4-2, so the valve Vcb is closed and the valve Vca is closed. Only the opening degree is adjusted to determine the throughput of the reactor (step S44). Specifically, the opening degree of the valve Vca is adjusted so that the exhaust temperature (exit temperature) Td is maintained higher than the intake temperature (inlet temperature) Ti.
If only the opening degree of the valve Vca is adjusted and the valve Vcb is closed (if step S44 is completed), the process proceeds to step S45.
発熱量Qが適正な範囲(許容範囲)に対して低温過ぎる場合には(ステップS43で「Qが過小」)、VOC処理量が不十分で、触媒1内では十分に反応熱が発生していない状態であるので、補助ヒータ80を作動する(ステップS46)。この場合、反応が不十分であるため、正常化空気を供給する必要は無く、弁Vcbは閉鎖する。
補助ヒータ80を作動した後、排気温度(出口温度)Tdと吸気温度(入口温度)Tiとを計測し(ステップS47)、排気温度Tdが吸気温度Tiよりも高温にならなければ(ステップS48がNo)、補助ヒータ80を作動し続ける(ステップS48がNoのループ)。
If the heat generation amount Q is too low with respect to the appropriate range (allowable range) (“Q is too low” in step S43), the VOC processing amount is insufficient and the reaction heat is sufficiently generated in the
After operating the
排気温度Tdが吸気温度Tiよりも高温になれば(ステップS48がYes)、補助ヒータ80を停止して(ステップS49)、ステップS45へ進む。
このステップS46〜ステップS49の制御により、触媒1内の発熱量が許容範囲よりも低いという異常事態に、対処することが出来る。
If the exhaust temperature Td is higher than the intake air temperature Ti (Yes in step S48), the
By the control in steps S46 to S49, it is possible to cope with an abnormal situation in which the amount of heat generated in the
発熱量Qが許容範囲に対して高温過ぎる場合には(ステップS43で「Qが過大」)、VOC処理量が多過ぎて、触媒1内の反応熱が過大であるため、弁Vcbの開度を増加し、ライン4−2経由で清浄空気を反応路1内へ供給して、処理するべきガスのVOC濃度を低減すると共に、弁Vcaの開度を減少して、VOCが触媒1内へ供給される量を減少する(ステップS50)。
そして、排気温度Td及び吸気温度Tiを計測する(ステップS51)。
If the heat generation amount Q is too high with respect to the permissible range (“Q is excessive” in step S43), the VOC processing amount is excessive and the reaction heat in the
Then, the exhaust temperature Td and the intake air temperature Ti are measured (step S51).
触媒1内の反応熱が大きいと、排気温度Tdと吸気温度Tiとの温度差が大きくなる。そして、触媒1内の反応熱が適正な範囲にあれば、排気温度Tdと吸気温度Tiとの温度差も許容値(発熱量Qの許容範囲と同様に、ケース・バイ・ケースで定まる)以下となる。
ステップS52では、排気温度Tdと吸気温度Tiとの温度差が許容値以下であるか否かを判定し、許容値以上である場合(ステップS52がNo)には、依然として発熱量Qが過大であると判断して、ステップS50に戻る。
If the reaction heat in the
In step S52, it is determined whether or not the temperature difference between the exhaust temperature Td and the intake air temperature Ti is less than or equal to an allowable value. If the difference is greater than or equal to the allowable value (No in step S52), the heat generation amount Q is still excessively large. It is determined that there is, and the process returns to step S50.
一方、排気温度Tdと吸気温度Tiとの温度差が許容値以下になれば(ステップS52がYes)、発熱量は過大ではなくなったと判断して、ステップS45に進む。
このステップS50〜ステップS52の制御により、触媒1内の反応熱が過大になるという異常事態に対処することが出来る。
On the other hand, if the temperature difference between the exhaust temperature Td and the intake air temperature Ti is equal to or less than the allowable value (Yes in step S52), it is determined that the heat generation amount is not excessive, and the process proceeds to step S45.
By controlling the steps S50 to S52, it is possible to cope with an abnormal situation in which the reaction heat in the
ステップS45では、反応装置の運転を終了して制御を終了するか否かを判定し、運転を継続するのであれば(ステップS45がNo)ステップS41に戻り、上述した制御を繰り返す。 In step S45, it is determined whether or not the operation of the reaction apparatus is finished and the control is finished. If the operation is continued (No in step S45), the process returns to step S41 and the above-described control is repeated.
図21、図22を参照して説明した第8実施形態における制御は、上述した各実施形態と組み合わせて、実行することが可能である。 The control in the eighth embodiment described with reference to FIGS. 21 and 22 can be executed in combination with the above-described embodiments.
次に、図23を参照して、本発明の第9実施形態について説明する。
前記の第1〜第8実施形態では、VOC等の処理するべきガス(未処理ガス)を触媒1によって反応を支援する反応装置J1によって発生熱量の有効利用をはかっているが、この反応装置J1から排出される清浄化された排出ガスは例えば200〜250℃の熱量を有したままで大気に排出される。
Next, a ninth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
In the first to eighth embodiments, the generated heat quantity is effectively utilized by the reaction device J1 that supports the reaction of the gas to be treated (untreated gas) such as VOC by the
また、反応装置J1から排出された排出ガスに、未反応(未燃)ガスが存在する可能性が有る。 Further, there is a possibility that unreacted (unburned) gas exists in the exhaust gas discharged from the reactor J1.
第9実施形態では、反応装置J1から排出された排出ガスを固定式反応装置によって再度の反応(燃焼)を行わしめ、以って、VOCをより一層除去出来るように構成されている。 In the ninth embodiment, the exhaust gas discharged from the reaction device J1 is reacted again (burned) by the stationary reaction device, so that the VOC can be further removed.
図23において、工場200と反応装置J1とは給気系ライン4によって連結され、その給気系ライン4には加熱量を制御できるヒータ80が介装され、ヒータ80と触媒1の上部に通じる給気系ライン4に温度センサ4cが介装されている。
In FIG. 23, the
また、反応装置J1と固定式反応装置Rsとは排出ライン5によって連結され、その排出ライン5には加熱量を制御できるヒータ90が介装され、ヒータ90と触媒1の上部に通じる排出ライン5に温度センサ5cが介装され、ヒータ90と固定式反応装置Rsの入口側に通じる排出ライン5に温度センサ5dが介装されている。
Further, the reactor J1 and the fixed reactor Rs are connected by a
固定式反応装置Rsは、第1実施形態〜第8実施形態に係る反応装置J1の触媒1とは材質、機能は同様で、例えば白金触媒が使用され、触媒の形状、大きさ及び積層配置された固定式反応装置Rs内を通過するガスの性状に応じて設定されている。固定式反応装置Rsの出口側に排出管R5が連結され、排気管R5の固定式反応装置Rs近傍に温度センサ5eが介装されている。
The stationary reactor Rs is similar in material and function to the
ヒータ90は、反応装置J1から排出された未反応成分を含むVOC排出ガスが固定式反応装置Rsで反応を始動し、あるいは反応を継続できるだけの熱量を供給できる機能、容量を有して構成されている。
上記以外の構成は、第1実施形態と実質的に同じである。
The
The configuration other than the above is substantially the same as that of the first embodiment.
上記構成の第9実施形態の作用を図23及び第1実施形態の図1を参照して、第1実施形態と異なる部分を主体に説明する。
工場200から排出されたVOCガスが給気系ライン4によって反応装置J1へ供給され、触媒1の上部の隔壁6とセパレ−タ7で区分された給気側32Iに導かれる。
VOCガスは、吸気側32Iに存在する触媒1の領域の上部から経路1aを下降し、下降する間に触媒作用によりVOCの発熱反応が開始される。
With reference to FIG. 23 and FIG. 1 of the first embodiment, the operation of the ninth embodiment having the above configuration will be described mainly with respect to portions different from the first embodiment.
The VOC gas discharged from the
The VOC gas descends the path 1a from the upper part of the area of the
(触媒1が回転して)排気側32Eに到達した触媒1の領域では、経路1a内に侵入して発熱反応を行ったVOCが上昇しながら発熱反応を継続して高温になる。その結果、VOCが浄化されて、排気側32Eにおける触媒1の上部空間に到達する。そして、排出ライン5を流れる。
In the region of the
排気側32Eから排出ライン5に排出された(清浄化された)ガス(反応ガス)は、固定式反応装置Rsに向かう。
固定式反応装置Rsでは、排出ライン5に清浄化されて排出された反応ガスに残存する未反応のVOCを、排出時に反応ガスが保持する例えば200℃の熱量を利用して再度の反応を行う。
固定式反応装置Rsでは、反応ガスに残存するVOCを確実に反応せしめて清浄化することが出来る。そして、係る反応では、反応ガスが保有する熱量を利用して行わせることが可能なので、固定式反応装置Rsで消費されるエネルギは比較的少量である。
The gas (reacted gas) discharged (purified) from the
In the stationary reactor Rs, the unreacted VOC remaining in the reaction gas cleaned and discharged in the
In the stationary reactor Rs, the VOC remaining in the reaction gas can be reliably reacted and cleaned. And since such reaction can be performed using the amount of heat held by the reaction gas, the energy consumed in the stationary reactor Rs is relatively small.
ここで、固定式反応装置Rsの排出ラインRSには温度センサ5eが介装されており、固定式反応装置Rsにおける反応状況は、温度センサ5eによって計測される反応後のガスの温度(ラインRSを流れる反応ガス温度)によって把握される。図23には図示させていないが、コントロールユニットを設けて、ヒータ90からの供給熱量の制御を行う様に構成することも可能である。
Here, a temperature sensor 5e is interposed in the discharge line RS of the stationary reactor Rs, and the reaction state in the stationary reactor Rs is the temperature of the gas after the reaction (line RS) measured by the temperature sensor 5e. The reaction gas temperature flowing through the Although not shown in FIG. 23, a control unit may be provided to control the amount of heat supplied from the
係る制御をより具体的に説明すると、ヒータ90からの供給熱量は、反応装置J1へのヒータ80の熱量供給と同じ要領で、固定式反応装置Rsによる反応状況に応じて図示しないコントロールユニットにより、温度センサ5dの検出温度Td2及び温度センサ5eの検出温度Td3をパラメータとして、検討して制御される。
More specifically, the amount of heat supplied from the
図示の実施形態はあくまでも例示であり、本発明の技術的範囲を限定する趣旨の記述ではない旨を付記する。
例えば触媒は回転可能なものであれば、セラミックにPtを担持させなくても良い。
また、上述した各実施形態を同時に複数組み合わせて実施することも可能である。
It should be noted that the illustrated embodiment is merely an example, and is not a description to limit the technical scope of the present invention.
For example, if the catalyst is rotatable, Pt need not be supported on the ceramic.
It is also possible to implement a combination of a plurality of the above-described embodiments simultaneously.
本発明は、煙の出るところ、喫煙所その他の空気清浄化にも適用可能である。
本発明の反応装置の排熱(触媒から排出された処理済みの清浄な気体が保有する熱量/排熱:200℃)を生ゴミの乾燥に適用することは可能である。
The present invention can also be applied to a place where smoke is produced, a smoking area or other air purification.
It is possible to apply the exhaust heat of the reactor of the present invention (the amount of heat / exhaust heat possessed by the treated clean gas exhausted from the catalyst / 200 ° C.) to dry garbage.
1・・・触媒
1a・・・経路
2、202・・・触媒ロータ
2a、2a−1、2a−2・・・筒状体
2b、2b−1、2b−2・・・中空部材
3・・・ケーシング
4・・・給気系ライン
5・・・排気系ライン
6・・・隔壁
7・・・セパレータ
8・・・板状部材
9・・・駆動ピン
10・・・駆動軸
11・・・接続部材
12・・・電動モータ
14・・・スラストベアリング
31・・・外筒
32・・・上蓋
33・・・下蓋
80、90・・ヒータ
100・・・コントロールユニット
Rs・・・固定式反応装置
Sq・・・流量計
Sr・・・温度センサ
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