[go: up one dir, main page]

JP4500065B2 - アルミナ部材と銅電極との接合方法およびアルミナ部材と銅電極との接合体 - Google Patents

アルミナ部材と銅電極との接合方法およびアルミナ部材と銅電極との接合体 Download PDF

Info

Publication number
JP4500065B2
JP4500065B2 JP2004042941A JP2004042941A JP4500065B2 JP 4500065 B2 JP4500065 B2 JP 4500065B2 JP 2004042941 A JP2004042941 A JP 2004042941A JP 2004042941 A JP2004042941 A JP 2004042941A JP 4500065 B2 JP4500065 B2 JP 4500065B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
alumina member
electrode
joined
copper electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2004042941A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005230858A (ja
Inventor
裕司 小川
隆司 小野
敏夫 大橋
廣道 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Insulators Ltd
Dowa Holdings Co Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
Dowa Holdings Co Ltd
Dowa Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Insulators Ltd, Dowa Holdings Co Ltd, Dowa Mining Co Ltd filed Critical NGK Insulators Ltd
Priority to JP2004042941A priority Critical patent/JP4500065B2/ja
Publication of JP2005230858A publication Critical patent/JP2005230858A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4500065B2 publication Critical patent/JP4500065B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Lasers (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)

Description

本発明は、高純度アルミナ部材と銅電極との接合方法、および高純度アルミナ部材と銅電極との接合体に関するものである。
いわゆるDBC法(Direct Bonding
Copper)法は、銅をセラミックスへと接合する方法として公知であり、例えば特許文献1、特許文献2に記載されている。この方法では、例えばアルミナ基板上にタフピッチ銅を直接に載せ、不活性雰囲気中で、タフピッチ銅とアルミナ基板を接触させた状態で、1065℃(銅の共晶温度)〜1083℃(銅の溶解温度)で加熱する。これによって、アルミナと銅との接合界面に酸化銅相とアルミン酸銅相の共晶液相が生成する。この共晶液相によってアルミナ部材の表面を濡らした後、酸化銅相およびアルミン酸銅相を冷却し、固化させることにより、アルミナ部材と銅部材とを接合する。
特開昭59‐3076号公報
特開昭59‐3077号公報
しかし、この方法には以下の限界がある。まず、タフピッチ銅に対して、銅の共晶温度以上で加熱処理を行う必要がある。このため、アルミナ基板やタフピッチ銅が平板状でないと、全面にわたり接触させることが難しいので、実際上は平板状のものしか適用されていない。このため、例えば円筒状のセラミックス(アルミナ)部材に、板状あるいは丸棒状の銅部材を接合する際、形状的に接合時に両者の接触を良好にすることが難しく、また、接合面積も大きくとれない場合があり、十分な接合強度を得ることが困難であった。
これに加えて、アルミナ部材の純度が例えば96重量%程度であれば、アルミナ部材と銅部材との間に共晶液相が生成しやすく、これによって高い接合力が得られやすい。しかし、本発明者が検討したところでは、純度99.5重量%以上の高純度アルミナ部材の場合には、上記の方法では、高い接合力をもって高純度アルミナ部材と銅部材とを接合することは困難な場合があることが分かった。これは、アルミナ部材が高純度であることから、接合界面における共晶液相の生成が抑制されるためと考えられた。
このため、本発明者は、銀系活性ろう材によって、高純度アルミナ部材と銅部材とを接合することも検討した。しかし、このようなろう材はフッ素系腐食性ガス等の腐食性物質に弱く、雰囲気の汚染を発生しやすい。特に銅部材を銅電極として使用する場合には、こうした雰囲気の汚染は問題になる。
本発明の課題は、高純度アルミナ部材と銅部材とを接合する新たな方法を提供することである。
また、本発明の課題は、高純度アルミナ部材と銅部材とを接合することによって、フッ素系腐食性ガスのような腐食性物質による腐食に強い接合体を得ることである。
本発明は、
純度99.5重量%以上のアルミナ部材と、酸素含有量が100ppm以下であり、銅の純度が99.9重量%以上である銅電極との接合方法であって、
アルミナ部材と前記銅電極との間に、下記の組成を有するペースト状のろう材を介在させ、不活性雰囲気中または真空下で1000℃以上,1083℃以下で加熱処理することによって、アルミナ部材と銅電極とを接合する接合工程
を有することを特徴とする、アルミナ部材と銅電極との接合方法に係るものである。
CuO: 95.0〜99.5重量%
Ti: 0.5〜5.0重量%
また、本発明は、純度99.5重量%以上の管状アルミナ部材と、酸素含有量が100ppm以下であり、銅の純度が99.9重量%以上である銅電極との接合体であって、

銅電極がアルミナ部材の内周面または外周面に接合されており、アルミナ部材と銅電極とが、下記の組成を有するろう材によって接合されていることを特徴とする。
CuO:95.0〜99.5重量%
Ti:0.5〜5.0重量%
本発明者は、高純度アルミナ部材と銅電極との間に、前記組成のろう材を介在させ、不活性雰囲気中または真空下で加熱処理することで接合できることを見いだした。このろう材は、酸化銅および/または銅を主成分とするものである。これによって、高純度アルミナと銅との実用的な接合方法が提供された。また、本発明方法では、接合部が曲面である高純度アルミナ部材と銅電極とを確実に接合することができるようになった。これによって、高純度アルミナ部材や銅電極の形状による制約がなくなり、例えば管状の高純度アルミナ部材を接合することが可能となった。
更に、この方法によって得られた接合体は、接合界面における耐腐食性に劣る物質量が少なく、フッ素系腐食性ガスのような腐食性物質による腐食に強いものである。
以下、図面を参照しつつ、本発明を詳細に説明する。
例えば図1(a)に示すように、高純度アルミナ部材1の接合面1aと銅部材4との間にろう材6を介在させ,積層する。次いで、不活性ガス雰囲気中または真空下で加熱処理することによって、図1(b)に示すように、高純度アルミナ部材1と銅部材4とを接合することに成功した。6Aは接合層であり、8Aは接合体である。
このろう材の組成は、以下のとおりである。
CuO:95.0〜99.5重量%
Ti:0.5〜5.0重量%
ろう材において、CuOの含有量が95.0重量%未満であると、接合体の耐蝕性が低下する。この観点からは、CuOの含有量を95.0重量%以上とする。
ろう材は、実質的にCuを含有していないので、ろう材におけるCuOの含有量は95.0〜99.5重量%である。
ろう材におけるチタン成分の含有量は0.5重量%以上である。ただし、チタン成分の含有量が5.0重量%を超えると、接合体の接合部分の耐蝕性が低下するので、チタン成分の含有量は5.0重量%以下とする。
なお、ろう材には、酸化銅、銅、チタン以外の成分が含有されていてもよい。しかし、このような成分の比率は、耐蝕性の観点からは、5.0重量%以下が好ましく、0.5重量%以下が更に好ましく、実質的に含有されていないことが特に好ましい。このような他の成分としては、Al、Niを例示できる。
ろう材はペースト状物である。ペースト状にすることで、曲面に確実にろう材を塗布等の方法で配置することができ、形状追従性に優れる。このペースト状物内には、酸化銅、チタンの他に、ろう材として公知の各種の分散剤、バインダー、粘度調整剤等の添加剤を添加することができる。
このようなペースト作成方法として以下を例示できる。
ペーストを作成するには原料粉末にアクリル系バインダーを主成分とするビヒクル(ペースト作成のときの分散剤、バインダー、希釈剤などを混合した溶液)を添加し、乳鉢、三本ロール等により混練しペーストとする。
加熱処理時の温度は,接合強度を向上させるという観点からは、1000℃以上であ、1030℃以上であることが更に好ましく、1050℃以上であることが最も好ましい。また、加熱温度は銅の融点以下であることが好ましく、従って1083℃以下である
本発明では、銅部材の酸素含有量が100ppm以下であり、銅の純度が99.9重量%以上であり、例えばいわゆる無酸素銅である。
本発明の接合体では、銅電極は、高純度アルミナ部材に対して接合されていることから、電極からの電力供給が安定している。更に、腐食性物質に対する耐久性が高く、腐食性物質に対して暴露される環境下で長期間使用しても、絶縁破壊が起こりにくい。
好適な実施形態においては、本発明の接合体は、腐食性物質に対して暴露されるべきものである。こうした腐食性物質としては、塩素系腐食性ガス、フッ素系腐食性ガスのようなハロゲン系腐食性ガスの他、酸、アルカリを例示できる。また、フッ素系腐食性ガスとしては、KrF、ArF、F等のガスおよびそのプラズマを例示できる。
本発明の接合方法においては、接合工程において、高純度アルミナ部材と銅部材との接触を良好にするため、加圧することも可能であるが、加圧は必ずしも必要ない。この結果、高純度アルミナ部材や銅部材が、加圧が困難または不可能な形状であっても、両者を強固に接合することが可能になった。この点でも、本発明は産業上きわめて有用なものである。
従って、高純度アルミナ部材や銅部材の形状は特に限定されず、平板状の他、波板状、湾曲板状であってよい。また、管状(チューブ状)やその他の湾曲面を有する形状であってよい。
特に好適な実施形態においては、高純度アルミナ部材と銅部材との一方が管状であり、他方が、管状部材の外周面および/または内周面に接合されている。図2、図3、図4は、この実施形態に係るものである。
図2(a)、(b)の接合体8Bにおいては、管状の高純度アルミナ部材1Aの内周面1bに対して、断面円弧状の細長い銅部材4Aが接合されている。7は高純度アルミナ部材1Aの内部空間であり、1aは外周面である。高純度アルミナ部材1Aと銅部材4Aとの接合方法は前述した。
図3(a)、(b)の接合体8Cにおいては、管状の高純度アルミナ部材1Aの内周面1bに対して、細長い円柱形状の銅部材4Bの外周面4aが接合されている。高純度アルミナ部材1Aと銅部材4Bとの接合方法は前述した。
図4(a)、(b)の接合体8Dにおいては、管状の高純度アルミナ部材1Aの外周面1aに対して、細長い断面円弧状の銅部材4Cの内周面4aが接合されている。
本発明の接合体を銅電極と高純度アルミナ部材との接合体に適用できる。このような接合体は、以下の点が優れている。即ち、銅電極を接合している高純度アルミナ部材は、絶縁耐久性が高く、長時間使用しても絶縁破壊が起こりにくい。また、銅電極とアルミナ部材とが接合されていることから、電極からの電力供給が安定している。更に、このような接合体は、腐食性物質に対する耐久性が高く、腐食性物質に対して暴露される環境下で長期間使用しても、絶縁破壊が起こりにくい。
本発明の銅電極は、エキシマレーザー装置用の電極装置、特にコロナ放電電極として好適に利用できる。以下、この実施形態について説明する。
図5(a)は、従来の電極20を概略的に示す断面図であり、図5(b)は、この電極装置の要部を示す断面図である。
エキシマレーザー発振器においては、希ガスとハロゲン化物との混合ガスを陽極と陰極との間に供給し、パルス電圧を加える。この際、電極装置から遠紫外線光子を発生させる。このとき、筒状の高純度アルミナ部材14を使用した電極装置を用いる。図5においては、筒状の高純度アルミナ部材14を押さえ部材10によって定位置に固定する。そして、高純度アルミナ部材14の外周面14bに外側電極12を設置し、外側電極12を押さえ部材11によって所定位置に固定する。これと共に、高純度アルミナ部材14の内部空間に、図5(b)に示すように円柱形状の内側電極13を固定する。ここで、内側電極13の位置決めは、所定個数のスペーサー15によって行う。これによって、内側電極13の外周面13aと高純度アルミナ部材14の内周面14aとの間隔を一定に保持する。外側電極12および内側電極13は銅電極である。
以上のように、高純度アルミナ部材14、外側電極12、内側電極13をそれぞれ定位置に固定する。これによって、各部材の相対的位置関係が固定され、電極からの放電状態が安定するはずである。
しかし、実際には、外側電極12、内側電極13をそれぞれ定位置に治具によって固定する必要がある。また、内側電極と高純度アルミナ部材との界面が密着しておらず、外側電極と高純度アルミナ部材との密着性も低い。このために、均一なコロナ放電を行わせることが難しく、不均一な放電が生じやすい。このため、高純度アルミナ部材に部分的な損耗が生じ易く、寿命が短い。
図6(a)は、本発明の接合体8Eを有する電極装置21を概略的に示す断7図であり、図6(b)は接合体8Eの要部断面図である。
図6においては、筒状の高純度アルミナ部材14を抑え部材10によって定位置に固定する。そして、高純度アルミナ部材14の外周面14bに外側電極12を接合する。これと共に、高純度アルミナ部材14の内部空間に、図6(b)に示すように円柱形状の内側電極13を接合する。外側電極12および内側電極13は銅電極である。
このような電極装置によれば、外側電極12、内側電極13を治具によって固定する必要がない。また、内側電極と高純度アルミナ部材との界面、外側電極と高純度アルミナ部材との界面における密着性が高い。更に、内側電極13の外周面13a、高純度アルミナ部材14の内周面14a、および外側電極12の位置関係が一定に保持される。このために、均一なコロナ放電を行わせることができ、不均一な放電が生じにくい。このため、高純度アルミナ部材に部分的な損耗が生じ易にくく、寿命が延びる。
高純度アルミナの種類は限定されない。しかし、透光性アルミナが特に好ましい。透光性アルミナとは、可視光(600(nm))領域で全光線透過率が80%以上のアルミナである。透光性アルミナは、特に好ましくは、純度99.9%の高純度アルミナに、焼結中の粒径のコントロールのための添加剤を加えて原料とし、この原料を用いて機械的プレスやコールドアイソスタティックプレス、押出技術等によって成形体を作製し、この成形体を脱脂し、脱脂体を水素雰囲気中で、1700〜1900℃で焼成したものである。焼成体は均一な六方晶の粒子からなる。
(実施例1)
前述の手順に従い、図2(a)、(b)に示す接合体8Bを製造した。純度99.9%の透光性アルミナセラミックチューブ1A(外径14mm、内径10mm、全長800mm)を準備した。また、無酸素銅からなる銅部材4Aを準備した。この銅部材4Aの酸素含有量は10ppm以下であり、銅の純度は99.96重量%である。銅部材4Aの外径は9.8mmであり、厚さは0.3mmであり、長さは800mmである。銅部材4Aをチューブ1Aの内部に挿入した。
ろう材のペーストを銅部材4Aの外周面4aに塗布して塗膜を形成し、塗膜をチューブ1Aの内周面1aに接触させた。ろう材の組成は、CuO:99.5重量%、Ti:0.5重量%であった。次いで、チューブを真空炉内に収容し、10Torr以下の圧力下で、最高温度1075℃、最高温度での保持時間5〜10分間の条件で接合し、接合体8Bを得た。得られた接合体8Bは、熱膨張差による接合界面のクラックはなく、密着性もよく、接合状態が良好であった。
(実施例2)
実施例1と同様の手順に従い、図3(a)、(b)に示す接合体8Cを製造した。高純度アルミナ部材1Aは、実施例1と同様である。また、無酸素銅からなる円柱状の銅部材4Bを準備した。この銅部材4Bの酸素含有量は10ppm以下であり、銅の純度は99.96重量%である。銅部材4Bの外径は9.5mmであり、長さは820mmである。ろう材のペーストを銅部材4Aの外周面4aに塗布して塗膜を形成し、塗膜をチューブ1Aの内周面1aに接触させた。ろう材の組成は、CuO:99.5重量%、Ti:0.5重量%であった。次いで、チューブ1Aを真空炉内に収容し、10Torr以下の圧力下で、最高温度1075℃、最高温度での保持時間5〜10分間の条件で接合し、接合体8Bを得た。得られた接合体は、熱膨張差による接合界面のクラックはなく、密着性もよく、接合状態が良好であった。
(実施例3)
実施例1と同様の手順に従い、図4(a)、(b)に示す接合体8Dを製造した。ただし、高純度アルミナ部材1Aは、実施例1と同様である。また、無酸素銅からなる断面円弧状の銅部材4Cを準備した。この銅部材4Cの酸素含有量は10ppm以下であり、銅の純度は99.96重量%である。銅部材4Cの内径は14mmであり、厚さは0.5mmであり、長さは800mmである。
チューブ1Aの外周面1aにろう材ペーストを塗布して塗膜を形成した。ろう材の組成は、CuO:99.5重量%、Ti:0.5重量%であった。塗膜上に銅部材4Cの内周面4aを接触させた。次いで、チューブ1Aを真空炉内に収容し、10Torr以下の圧力下で、最高温度1075℃、最高温度での保持時間5〜10分間の条件で接合し、接合体8Dを得た。得られた接合体は、熱膨張差による接合界面のクラックはなく、密着性もよく、接合状態が良好であった。
実施例1〜3の各接合体を使用し、エキシマレーザー発振器用の電極(図6参照)を製造した。この結果、腐食性ガス環境下において長期間にわたって損耗が少なく、良好な放電状態を維持できるものであった。
(比較例1)
実施例1において前記ろう材を使用しなかった。他は実施例1と同じ条件で接合を試みたが、接合しなかった。
(比較例2)
実施例2において前記ろう材を使用しなかった。他は実施例2と同じ条件で接合を試みたが、接合しなかった。
(比較例3)
実施例3において前記ろう材を使用しなかった。他は実施例3と同じ条件で接合を試みたが、接合しなかった。
以上述べたように、本発明によれば、高純度アルミナ部材と銅部材とを接合する新たな方法を提供できる。また、高純度アルミナ部材と銅部材とを、高い圧力を加える必要性なしに接合することができ、これによって高純度アルミナ部材や銅部材の形状による制約を少なくできる。更に、高純度アルミナ部材と銅部材とを接合することによって、フッ素系腐食性ガスのような腐食性物質による腐食に強い接合体を得ることができる。
(a)は、高純度アルミナ部材1、ろう材6および銅部材4を示す正面図であり、(b)は接合体8Aを示す正面図である。 (a)は、管状の高純度アルミナ部材1Aと断面円弧状の銅部材4Aとの接合体8Bを示す横断面図であり、(b)は、接合体8BのIIb−IIb線断面図である。 (a)は、管状の高純度アルミナ部材1Aと円柱状の銅部材4Bとの接合体8Cを示す横断面図であり、(b)は、接合体8CのIIIb−IIIb線断面図である。 (a)は、管状の高純度アルミナ部材1Aと円柱状の銅部材4Cとの接合体8Dを示す横断面図であり、(b)は、接合体8Dの縦断面図である。 (a)は、従来の電極装置20を概略的に示す断面図であり、(b)は、(a)の電極装置の要部断面図である。 (a)は、本発明に係る接合体を利用した電極装置21を概略的に示す断面図であり、(b)は、(a)の電極装置21の要部断面図である。
符号の説明
1、1A、14 高純度アルミナ部材 1a、1b、14a、14b 高純度アルミナ部材の接合面 4、4A、4B、4C、12、13 銅部材 4a、13a 銅部材の接合面 6 ろう材 6A
接合層
8、8A、8B、8C、8D、8E 接合体 21 電極装置

Claims (10)

  1. 純度99.5重量%以上のアルミナ部材と、酸素含有量が100ppm以下であり、銅の純度が99.9重量%以上である銅電極との接合方法であって、
    前記アルミナ部材と前記銅電極との間に、下記の組成を有するペースト状のろう材を介在させ、不活性雰囲気中または真空下で1000℃以上,1083℃以下で加熱処理することによって、前記アルミナ部材と前記銅電極とを接合する接合工程
    を有することを特徴とする、アルミナ部材と銅電極との接合方法。
    CuO: 95.0〜99.5重量%
    Ti: 0.5〜5.0重量%
  2. 前記アルミナ部材が管状であり、前記銅電極を前記アルミナ部材の内周面または外周面に接合することを特徴とする、請求項1記載の方法。
  3. 前記銅電極がコロナ放電電極であることを特徴とする、請求項記載の方法。
  4. 前記銅電極が円柱状であり、かつ前記アルミナ部材の前記内周面に接合されていることを特徴とする、請求項記載の方法。
  5. 前記アルミナ部材が透光性アルミナ部材であることを特徴とする、請求項1〜のいずれか一つの請求項に記載の方法。
  6. 純度99.5重量%以上の管状アルミナ部材と、酸素含有量が100ppm以下であり、銅の純度が99.9重量%以上である銅電極との接合体であって、

    前記銅電極が前記アルミナ部材の内周面または外周面に接合されており、前記アルミナ部材と前記銅電極とが、下記の組成を有するろう材によって接合されていることを特徴とする、接合体。
    CuO:95.0〜99.5重量%
    Ti:0.5〜5.0重量%
  7. フッ素系腐食系ガスに対して暴露される環境下で使用されることを特徴とする、請求項記載の接合体。
  8. 前記銅電極がコロナ放電電極であることを特徴とする、請求項記載の接合体。
  9. 前記銅部材が円柱状であり、かつ前記アルミナ部材の前記内周面に接合されていることを特徴とする、請求項6記載の接合体。
  10. 前記アルミナ部材が透光性アルミナ部材であることを特徴とする、請求項6〜9のいずれか一つの請求項に記載の接合体。
JP2004042941A 2004-02-19 2004-02-19 アルミナ部材と銅電極との接合方法およびアルミナ部材と銅電極との接合体 Expired - Lifetime JP4500065B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004042941A JP4500065B2 (ja) 2004-02-19 2004-02-19 アルミナ部材と銅電極との接合方法およびアルミナ部材と銅電極との接合体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004042941A JP4500065B2 (ja) 2004-02-19 2004-02-19 アルミナ部材と銅電極との接合方法およびアルミナ部材と銅電極との接合体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005230858A JP2005230858A (ja) 2005-09-02
JP4500065B2 true JP4500065B2 (ja) 2010-07-14

Family

ID=35014335

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004042941A Expired - Lifetime JP4500065B2 (ja) 2004-02-19 2004-02-19 アルミナ部材と銅電極との接合方法およびアルミナ部材と銅電極との接合体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4500065B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10008303B2 (en) * 2014-10-03 2018-06-26 Ngk Insulators, Ltd. Joined body and method for manufacturing the same
CN107570830B (zh) * 2017-10-17 2022-03-01 哈尔滨工业大学 一种CuO纳米结构增强的泡沫铜中间层辅助钎焊的方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4129243A (en) * 1975-07-30 1978-12-12 General Electric Company Double side cooled, pressure mounted semiconductor package and process for the manufacture thereof
JP2945466B2 (ja) * 1990-11-19 1999-09-06 住友大阪セメント株式会社 セラミックス管と金属との気密接合構造
JPH04349184A (ja) * 1991-05-22 1992-12-03 Nippon Cement Co Ltd セラミックスのメタライズ方法及びセラミックスと金属との接合方法
JPH05195004A (ja) * 1991-10-22 1993-08-03 Tokin Corp メタライズ用金属粉末組成物及びメタライズ基板
JPH09301783A (ja) * 1996-05-14 1997-11-25 Maruwa Ceramic:Kk 金属とセラミックスの直接接合方法
JP4168114B2 (ja) * 2001-09-28 2008-10-22 Dowaホールディングス株式会社 金属−セラミックス接合体

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005230858A (ja) 2005-09-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1135912C (zh) 陶瓷电路基板
US6548787B2 (en) Ceramic heater
JP5474188B2 (ja) 回路基板およびこれを用いた電子装置
KR100709544B1 (ko) 접합체 및 접합 방법
KR20010099730A (ko) 가열장치
KR20100050388A (ko) 통전체를 내장하는 세라믹스 부재와 그 제조방법
JP2002293655A (ja) 金属端子とセラミック部材との接合構造、金属部材とセラミック部材との接合構造および金属端子とセラミック部材との接合材
JP2004203706A (ja) 異種材料接合体及びその製造方法
JP4104253B2 (ja) 基板一体型構造体
JP4500065B2 (ja) アルミナ部材と銅電極との接合方法およびアルミナ部材と銅電極との接合体
JPH09283656A (ja) セラミックス回路基板
JP5142198B2 (ja) 窒化珪素基板、それを用いた窒化珪素回路基板及びその用途
WO2021200866A1 (ja) 回路基板、接合体、及びこれらの製造方法
JPH09249462A (ja) 接合体、その製造方法およびセラミックス部材用ろう材
JP2004107135A (ja) 高純度アルミナと銅との接合方法、高純度アルミナと銅との接合体および高純度アルミナと銅電極との接合体
JP4454527B2 (ja) 発光管及び高圧放電灯
JP3887645B2 (ja) セラミックス回路基板の製造方法
JP2012076937A (ja) セラミックス−金属接合体の製造方法、及びセラミックス−金属接合体
JP2006283077A (ja) 複合体
JP7534171B2 (ja) セラミックス封着部品およびその製造方法
JP2008254010A (ja) ろう付け方法
JP2003082402A (ja) 硬質焼結合金の焼結用セッター
JP2007189112A (ja) 窒化珪素基板およびそれを用いた回路基板、モジュール。
JP2001019567A (ja) 回路基板複合体
JP4468338B2 (ja) セラミックス回路基板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060825

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081126

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081201

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090828

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091026

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100406

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100416

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4500065

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140423

Year of fee payment: 4

EXPY Cancellation because of completion of term